JP7110323B2 - 架台、極端紫外光生成システム、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
A.極端紫外光生成用のターゲット物質をチャンバ内に液滴として出力するターゲット生成装置を着脱自在に保持する保持部を有する架台本体;
B.保持部に設けられ、チャンバに対するターゲット生成装置の相対位置を調整するターゲット位置調整部;及び
C.架台本体を少なくとも水平方向に移動する移動機構。
F.上記架台;及び
G.前記架台に保持された前記ターゲット生成装置が装着されるチャンバ。
上記極端紫外光生成システムから出力されるレーザ光によりワークピースに露光するステップ。
1.比較例
1.1 EUV光生成装置
1.1.1 構成
1.1.2 動作
1.2 ターゲット生成装置
1.2.1 構成
1.2.2 動作
1.3 チャンバの移動機構
1.4 ターゲット生成装置の交換方法
1.5 課題
2.第1の実施形態
2.1 構成
2.1.1 全体構成
2.1.2 ステージ
2.2 動作
2.3 効果
3.第2の実施形態
3.1 構成
3.2 動作
3.3 効果
4.第3の実施形態
4.1 構成
4.2 効果
1.1 EUV光生成装置
1.1.1 構成
EUV光生成装置1は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ生成プラズマ(LPP)方式を採用している。図1において、EUV光生成装置1は、チャンバ10と、ドライバレーザ11と、ターゲット生成装置12と、制御部13と、を含んでいる。
図1を参照して、EUV光生成装置1の動作を説明する。ドライバレーザ11から出力されたパルスレーザ光11aは、ウインドウ17を透過してチャンバ10内に入射する。パルスレーザ光11aは、レーザ光集光ミラー24で反射されて貫通孔23を通過し、プラズマ生成領域21に集光される。
1.2.1 構成
図2において、ターゲット生成装置12は、タンク30と、ノズル31と、蓋32と、配管33aと、ヒータ35と、温度センサ36と、ピエゾ素子37と、を含む。タンク30は、例えば、モリブデンにより形成された筒状の部材であって、内部にターゲット物質を収容している。ノズル31は、例えば、モリブデンにより形成され、タンク30の一端に接続されている。ノズル31の先端部には、ターゲット物質を液滴DLとして出力するためのノズル孔31aが形成されている。
制御部13は、温度センサ36から出力される温度の検出信号に基づいて、タンク30内のターゲット物質を所定温度に保つようにヒータ35の温度を制御する。また、制御部13は、圧力調整器を制御することにより、タンク30内を不活性ガスによって所定圧力まで加圧することにより、溶融された錫からなるターゲット物質をノズル孔31aから出力させる。このときのタンク30内の圧力は、例えば約40MPaである。
前述のようにEUV光生成装置1を斜めに設置した場合には、EUV光生成装置1のメンテナンスのために、チャンバ10又はチャンバ10の一部を取り外し、メンテナンス領域へ移動することが容易でなくなる。このため、チャンバ10を露光装置2に対して位置決めされた位置からメンテナンス領域へ移動させるための移動機構が設けられる。
メンテナンス領域で行われるメンテナンスの一つに、ターゲット生成装置12の交換がある。ターゲット生成装置12は、タンク30内に収容されたターゲット物質が全てノズル31から出力されるか、或いは残量が所定量以下となった場合に、交換する必要がある。
EUV光生成装置1の稼働時間を可能な限り延長することが望まれている。EUV光生成装置1の稼働時間は、ターゲット生成装置12のタンク30の容量に依存するので、稼働時間を延長するためには、タンク30を大容量化する必要がある。例えば現在は、タンク30の容量は約800ccであるが、稼働時間を延長するために、タンク30の容量を約3200ccとすることが考えられている。
次に、本開示の第1の実施形態に係るEUV光生成システムについて説明する。以下では、比較例の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
2.1.1 全体構成
図5及び図6は、第1の実施形態に係るEUV光生成システム100の構成を概略的に示す。図5において、EUV光生成システム100は、EUV光生成装置1と、架台110と、を含む。EUV光生成装置1は、比較例のEUV光生成装置1と同様の構成である。
図7は、ステージ18の構成を示す断面図である。ステージ18は、X軸ステージ181aと、X軸リニアガイド181bと、X軸サドル181cと、Z軸ステージ182aと、Z軸リニアガイド182bと、Z軸サドル182cと、ベース部材183と、を含む。ステージ18は、2次元ステージである。
図5及び図6を参照して、EUV光生成システム100におけるターゲット生成装置12の取り付け及び取り外し方法について説明する。まず、図5に示すように、架台本体111をチャンバ10から離間させた状態で、架台本体111にターゲット生成装置12を取り付ける。具体的には、タンク30をベローズ142及び取付フランジ133内に挿通させる。
第1の実施形態では、架台本体111にターゲット生成装置12を保持したままターゲット生成装置12をチャンバ10に接続して、ターゲット生成装置12を動作させる。このため、ターゲット生成装置12が大型化した場合であっても、ターゲット生成装置12のチャンバ10への取り付け及び取り外しを容易に行うことができる。これにより、メンテナンス性が向上する。
次に、本開示の第2の実施形態に係るEUV光生成システムについて説明する。以下では、比較例の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
第2の実施形態に係るEUV光生成システム100aは、EUV光生成装置1と、架台110aと、を含む。EUV光生成装置1は、比較例のEUV光生成装置1と同様の構成である。
図8~図11を参照して、EUV光生成システム100aにおけるターゲット生成装置12の取り付け及び取り外し方法について説明する。まず、図10に示すように、第1の部材131と台座部120aとの固定を解除し、保持部130aを回転軸134を中心として回転させ、保持部130aを垂直位置決めブラケット135に当接させる。この状態で、ターゲット生成装置12を、クレーン等を用いて上方から垂直方向に降下させることにより、保持部130aに装着する。
第1の実施形態では、保持部130aを回動可能としているので、架台本体111aは、ステージ18とターゲット生成装置12とを保持したまま、ターゲット生成装置12の姿勢を変化させ、中心軸Lが垂直方向となる状態とすることができる。このため、ターゲット生成装置12を斜めに引き出す場合に必要となる専用の交換治具を用いることなく、一般的なクレーン等によりターゲット生成装置12交換することができる。
次に、本開示の第3の実施形態に係るEUV光生成システムについて説明する。以下では、比較例の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図12及び図13は、第3の実施形態に係るEUV光生成システムに含まれる架台110bの構成を示す。架台110bは、ステージ18のチャンバ10に対する接続位置を調整するアライメント調整機構を含むこと以外は、第2の実施形態の架台110aと同様の構成である。
第3の実施形態では、保持部130bにアライメント調整機構を設けているので、ステージ18のチャンバ10に対する接続位置を調整することができる。例えば、第1~第3のアライメント調整機構によりステージ18の位置調整を行うことによって、液滴DLの射出軸である中心軸Lと、チャンバ10の装着部16の中心軸との同軸度や、取付フランジ133と装着部16との間隔を調整することができる。これにより、ターゲット生成装置12の交換時における液滴DLの射出軸の位置精度を高めることができる。
次に、露光装置2の構成について説明する。図16において、露光装置2は、照明光学系200と投影光学系210とを含む。照明光学系200は、EUV光生成システム100から入射した極端紫外光によって、レチクルステージRTのレチクルパターンを照明する。投影光学系210は、レチクルを透過した極端紫外光を、縮小投影してワークピーステーブルWT上に配置された図示しないワークピースに結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。
Claims (15)
- 架台であって、以下を備える:
A.極端紫外光生成用のターゲット物質をチャンバ内に液滴として出力するターゲット生成装置を着脱自在に保持する保持部を有し、チャンバと離間した架台本体;
B.前記保持部に設けられ、前記チャンバに対する前記ターゲット生成装置の相対位置を調整するターゲット位置調整部;及び
C.前記架台本体を水平方向に移動して前記保持部に保持された前記ターゲット生成装置を前記チャンバから離す移動機構。 - 請求項1に記載の架台であって、
前記ターゲット位置調整部は、液滴の射出軸に直交する2方向に前記ターゲット生成装置を移動させるステージである。 - 請求項1に記載の架台であって、
前記移動機構は、前記架台本体に設けられたスライダと、前記スライダが摺動自在に係合するリニアレールとを含む。 - 請求項1に記載の架台であって、さらに以下を備える:
D.前記ターゲット生成装置の姿勢を変化させる姿勢可変機構。 - 請求項4に記載の架台であって、
前記姿勢可変機構は、前記保持部を回転させる回転軸により構成される。 - 請求項5に記載の架台であって、
前記姿勢可変機構は、前記ターゲット生成装置を、液滴の射出軸が垂直方向となる姿勢に位置決めする位置決め部材を含む。 - 請求項6に記載の架台であって、
前記位置決め部材は、前記架台本体に設けられ、前記保持部が当接するブラケットである。 - 請求項1に記載の架台であって、さらに以下を備える:
E.前記ターゲット位置調整部の前記チャンバに対する接続位置を調整するアライメント調整機構。 - 請求項8に記載の架台であって、
前記保持部は、第1の部材と、前記第1の部材とは分離され、前記ターゲット位置調整部及び前記ターゲット生成装置を保持する第2の部材とを含み、
前記アライメント調整機構は、前記第1の部材と前記第2の部材とを接続する固定ボルトと、前記第1の部材と前記第2の部材との間に配置される調整シムとを含む。 - 請求項9に記載の架台であって、
前記固定ボルトは、前記第1の部材と前記第2の部材とを垂直方向に接続する第1の固定ボルトと、前記第1の部材と前記第2の部材とを水平方向に接続する第2の固定ボルトとを含み、
前記調整シムは、前記第1の固定ボルトにより接続される前記第1の部材と前記第2の部材との部分に介装される第1の調整シムと、前記第2の固定ボルトにより接続される前記第1の部材と前記第2の部材との部分に介装される第2の調整シムとを含む。 - 請求項8に記載の架台であって、
前記アライメント調整機構は、前記保持部と前記ターゲット位置調整部との間に接続され、前記ターゲット位置調整部を押圧する押しボルトを含む。 - 請求項11に記載の架台であって、
前記押しボルトは、前記ターゲット位置調整部を、液滴の射出軸と直交する方向に押圧する。 - 請求項12に記載の架台であって、
前記押しボルトは、前記ターゲット位置調整部を前記射出軸と直交する第1の方向に押圧する第1の押しボルトと、前記ターゲット位置調整部を前記射出軸及び前記第1の方向と直交する第2の方向に押圧する第2の押しボルトとを含む。 - 極端紫外光生成システムであって、以下を備える:
F.請求項1に記載の架台;及び
G.前記架台に保持された前記ターゲット生成装置が装着されるチャンバ。 - デバイスの製造方法であって、以下のステップを含む:
請求項14に記載の極端紫外光生成システムから出力される極端紫外光によりワークピースに露光するステップ。
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