JP7102712B2 - Optical waveguide film with light attenuation and optical components - Google Patents

Optical waveguide film with light attenuation and optical components Download PDF

Info

Publication number
JP7102712B2
JP7102712B2 JP2017226521A JP2017226521A JP7102712B2 JP 7102712 B2 JP7102712 B2 JP 7102712B2 JP 2017226521 A JP2017226521 A JP 2017226521A JP 2017226521 A JP2017226521 A JP 2017226521A JP 7102712 B2 JP7102712 B2 JP 7102712B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical waveguide
waveguide film
attenuation
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017226521A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019095683A (en
Inventor
幹也 兼田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2017226521A priority Critical patent/JP7102712B2/en
Publication of JP2019095683A publication Critical patent/JP2019095683A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7102712B2 publication Critical patent/JP7102712B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、光減衰部付き光導波路フィルムおよび光学部品に関する。 The present invention relates to an optical waveguide film with a light attenuation section and an optical component.

これまで減衰器付き光導波路について様々な検討がなされてきた。この種の技術として、例えば、特許文献１に記載の技術が知られている。特許文献１には、シリカ製の導波路コアの近傍のクラッド部に光吸収性金属層を形成することにより、導波路コアを伝播する光信号を減衰する技術が記載されている（段落００１７、図４）。 So far, various studies have been conducted on optical waveguides with attenuators. As this kind of technique, for example, the technique described in Patent Document 1 is known. Patent Document 1 describes a technique for attenuating an optical signal propagating in a waveguide core by forming a light-absorbing metal layer in a clad portion near the waveguide core made of silica (paragraph 0017, paragraph 0017, FIG. 4).

特表２０１５－５０９６１４号公報Special Table 2015-509614

本発明者が検討した結果、特許文献１に記載の減衰器付き光導波路においては、減衰量の増大と減衰量のバラツキの低減の両立の点で改善の余地があることが判明した。 As a result of the examination by the present inventor, it has been found that there is room for improvement in the optical waveguide with an attenuator described in Patent Document 1 in terms of both increasing the amount of attenuation and reducing the variation in the amount of attenuation.

本発明者は更に検討したところ、光導波路フィルム中のコア部中に屈折率が異なる光減衰部を形成することにより、コア部を通過する光信号の減衰量が増大することを見出した。しかしながら、屈折率が異なる光減衰部を用いた場合、複数のコア部間において減衰量のバラツキが増大することが判明した。
さらに検討を進めた結果、屈折率が互いに異なる光減衰部とコア部との間の境界部の数を適切に制御することにより、減衰量を増大させつつも、コア部間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。
このような知見に基づいてさらに検討した結果、斜め成分の光が少ない第１光源を用いたときの減衰量をＸとし、斜め成分の光が多い第２光源を用いたときの減衰量をＹとし、こられの減衰量比であるＸ／Ｙを指標として採用することにより、入射光の光路に存在する境界部の数に対して安定的に相関関係を示す値が得られることが分かった。そして、Ｘ／Ｙの下限値を所定値以上とすることにより、減衰量を増大させることができ、Ｘ／Ｙの上限値を所定値以下とすることにより、コア部間における減衰量のバラツキを低減できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of further studies, the present inventor has found that the amount of attenuation of the optical signal passing through the core portion is increased by forming the optical attenuation portion having a different refractive index in the core portion in the optical waveguide film. However, it has been found that when light attenuation portions having different refractive indexes are used, the variation in the amount of attenuation increases among the plurality of core portions.
As a result of further studies, by appropriately controlling the number of boundaries between the light attenuating part and the core part having different refractive indexes, the amount of attenuation is increased and the amount of attenuation varies between the core parts. Was found to be able to reduce.
As a result of further examination based on such findings, the amount of attenuation when the first light source having a small amount of oblique component light is used is X, and the amount of attenuation when using a second light source having a large amount of oblique component light is Y. It was found that by adopting X / Y, which is the attenuation ratio of these, as an index, a value showing a stable correlation with the number of boundary portions existing in the optical path of the incident light can be obtained. .. Then, the attenuation amount can be increased by setting the lower limit value of X / Y to a predetermined value or more, and the variation of the attenuation amount between the core portions can be increased by setting the upper limit value of X / Y to a predetermined value or less. We have found that it can be reduced, and have completed the present invention.

本発明によれば、
下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備え、前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
下記の測定条件に従って求められる、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下であり、かつ、減衰量Ｘが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルムが提供される。
（測定条件）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠して、第１光源を用いて、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を算出する。
続いて、前記第１光信号の減衰量の算出と同様にして、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの光を前記光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
なお、前記第１光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が６°の光源とし、前記第２光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が１３°の光源とする。
かかる光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得し、強度分布の積算値が１に対応する出射角度とする。
According to the present invention
With the lower clad layer,
A plurality of patterned core portions provided on the lower clad layer, and
It is provided with an upper clad layer provided on the core portion.
The core portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which includes light attenuation portions having different refractive indexes , and the core portion includes a plurality of slit-shaped light attenuation portions .
The X / Y representing the attenuation ratio based on two light sources having different oblique components of light, which is obtained according to the following measurement conditions, is 0.55 or more and 0.70 or less, and the attenuation X is 1.2 dB. An optical waveguide film with a light attenuation portion, which is 9.0 dB or less, is provided.
(Measurement condition)
The first light source is used in accordance with the 4.6.1 insertion loss measurement method of "Test method for polymer optical waveguide (JPCA-PE02-05-01S-2008)" specified by the Japan Electronic Circuit Industry Association. The first optical signal was input from one end of the core portion via the graded index type optical fiber A having a diameter of 50 μm, and the first optical signal was output from the other end of the core portion. The light at that time is received by a graded index type optical fiber B having a diameter of 50 μm, the intensity of the light is measured, and the attenuation amount (X) of the first optical signal is calculated from the logarithm of the output light power / input light power.
Subsequently, in the same manner as the calculation of the attenuation amount of the first optical signal, a second light source having more oblique components than the first light source is used, and the second light source is used from one end of the core portion via the optical fiber A. The optical fiber B receives the light when the two optical signals are input and the second optical signal is output from the other end of the core portion, and the intensity of the light is measured to determine the output optical power / input optical power. The amount of attenuation (Y) of the second optical signal is calculated from the logarithm.
Then, the attenuation ratio based on two light sources having different oblique components of light is calculated from X / Y.
The first light source is a light source having a radiation angle of 6 ° radiated from the optical fiber A, and the second light source is a light source having a radiation angle of 13 ° radiated from the optical fiber A.
For the radiation angle of such a light source, the intensity distribution of the emission angle from the fiber end face was integrated from the center toward the emission angle spreading direction (NA) using an FFP (Far Field Pattern) measuring device. The value (Encircled Angler Lux) is acquired, and the emission angle is set so that the integrated value of the intensity distribution corresponds to 1.

また本発明によれば、光コネクタが装着した上記光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品が提供される。 Further, according to the present invention, there is provided an optical component including the above-mentioned optical waveguide film with a light attenuation portion attached to an optical connector.

本発明によれば、減衰量の増大と減衰量のバラツキの低減を実現できる光減衰部付き光導波路フィルムおよびそれを用いた光学部品が提供される。 According to the present invention, there is provided an optical waveguide film with an optical attenuation section capable of increasing the attenuation amount and reducing the variation in the attenuation amount, and an optical component using the same.

光減衰部付き光導波路フィルムを模式的に表す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the optical waveguide film with a light attenuation part. 図１のＡ－Ａ箇所で垂直に切断した断面の模式図である。It is a schematic view of the cross section cut vertically at the point AA of FIG. 光減衰部付き光導波路フィルムの減衰量を測定する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of measuring the attenuation amount of the optical waveguide film with an optical attenuation part. 光減衰部の変形例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the modification of the light attenuation part. 光減衰部付き光導波路フィルムの変形例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the modification of the optical waveguide film with a light attenuation part. フォトマスクを模式的に示す上面図である。It is a top view which shows typically the photomask.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、図は概略図であり、実際の寸法比率とは一致していない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all drawings, similar components are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. Moreover, the figure is a schematic view and does not match the actual dimensional ratio.

本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルムの概要を説明する。
図１は、光減衰部付き光導波路フィルムを模式的に表す断面図であり、図２は、図１のＡ－Ａ箇所で垂直に切断した断面の模式図である。図３は、光減衰部付き光導波路フィルムの減衰量を測定する方法を説明するための図である。 The outline of the optical waveguide film with a light attenuation portion of this embodiment will be described.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an optical waveguide film with a light attenuation portion, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken vertically at points AA in FIG. FIG. 3 is a diagram for explaining a method of measuring the amount of attenuation of the optical waveguide film with a light attenuation portion.

本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルム（以下、単に「光導波路フィルム」と呼称する。）は、下部クラッド層１３０と、下部クラッド層１３０上に設けられたパターン状の複数のコア部１１２と、コア部１１２上に設けられた上部クラッド層１２０と、を備えるものである。この光導波路フィルム１００は、コア部１１２中に屈折率が異なる光減衰部２００を備えるものである。この光導波路フィルム１００における、光の斜め成分が異なる２つの光源を用いた測定方法で測定した減衰量比を表すＸ／Ｙは０．５５以上０．７０以下とすることができる。 The optical waveguide film with a light attenuation portion (hereinafter, simply referred to as “optical waveguide film”) of the present embodiment has a lower clad layer 130 and a plurality of patterned core portions 112 provided on the lower clad layer 130. And an upper clad layer 120 provided on the core portion 112. The optical waveguide film 100 includes a light attenuation portion 200 having a different refractive index in the core portion 112. In this optical waveguide film 100, X / Y representing the attenuation ratio measured by a measuring method using two light sources having different oblique components of light can be 0.55 or more and 0.70 or less.

本発明者の知見によれば、光導波路フィルム１００のコア部１１２中に屈折率が異なる光減衰部２００を形成することにより、コア部１１２を通過する光信号の減衰量が増大することができる。 According to the findings of the present invention, the amount of attenuation of the optical signal passing through the core portion 112 can be increased by forming the optical attenuation portion 200 having a different refractive index in the core portion 112 of the optical waveguide film 100. ..

コア部１１２は、図３に示すように、屈折率ｎ１を有する領域１と、屈折率ｎ１とは異なる屈折率ｎ２を有する領域２（光減衰部２００）とを備えることができる。つまり、コア部１１２は、屈折率が変化する部分（境界部）を含むことができる（領域１と領域２の境界部が「屈折率が変化する部分」に該当する）。なお、以下の説明において、領域１と領域２の境界部を、単に「境界部」とも記載する。 As shown in FIG. 3, the core portion 112 can include a region 1 having a refractive index n 1 and a region 2 (light attenuation portion 200) having a refractive index n 2 different from the refractive index n 1 . That is, the core portion 112 can include a portion (boundary portion) in which the refractive index changes (the boundary portion between the region 1 and the region 2 corresponds to a “portion in which the refractive index changes”). In the following description, the boundary portion between the region 1 and the region 2 is also simply referred to as a “boundary portion”.

コア部１１２が、屈折率が変化する部分（光減衰部２００）を含むことにより、コア部１１２に入射された光は減衰される。具体的には、コア部１１２の一端１０３に入射された光の一部は、境界部で、反射したり、散乱したりする。つまり、入射光の一部は、直進せずに入射方向とは異なる方向に進む。これにより、コア部１１２の他端１０５から出力される光の強度は減衰することとなる。 Since the core portion 112 includes a portion whose refractive index changes (light attenuation portion 200), the light incident on the core portion 112 is attenuated. Specifically, a part of the light incident on one end 103 of the core portion 112 is reflected or scattered at the boundary portion. That is, a part of the incident light travels in a direction different from the incident direction without traveling straight. As a result, the intensity of the light output from the other end 105 of the core portion 112 is attenuated.

「境界部での反射」については、光学の理論に基づき、より定量的に説明することができる。
例えば、光線が屈折率ｎ１の物質から屈折率ｎ２の物質に垂直入射する場合、その表面反射率Ｒｒｅｆは、理論上、以下の式で与えられる。
Ｒｒｅｆ＝｛（ｎ１－ｎ２）／（ｎ１＋ｎ２）｝２
この式によれば、入射光のうち、Ｒｒｅｆに対応する割合は、直進せず、入射とは反対方向に反射される。つまり、伝送される光の強度は、Ｒｒｅｆに対応する割合だけ減衰することとなる。 "Reflection at the boundary" can be explained more quantitatively based on the theory of optics.
For example, when a light ray is vertically incident from a substance having a refractive index n 1 to a substance having a refractive index n 2 , its surface reflectance R ref is theoretically given by the following equation.
R ref = {(n 1 -n 2 ) / (n 1 + n 2 )} 2
According to this equation, the proportion of the incident light corresponding to R ref does not go straight and is reflected in the direction opposite to the incident light. That is, the intensity of the transmitted light is attenuated by a ratio corresponding to R ref .

このような光学理論に基づき光路における「境界部」の数を多くすることにより、コア部１１２中の通過する光の減衰量を増大させる試みを実施した。しかしながら、光の減衰量は増加するものの、一方で複数のコア部１１２間における減衰量のバラツキが増大することが判明した。 Based on such an optical theory, an attempt was made to increase the amount of attenuation of light passing through the core portion 112 by increasing the number of "boundary portions" in the optical path. However, it has been found that although the amount of light attenuation increases, the amount of attenuation varies among the plurality of core portions 112.

このような事情を踏まえて本発明者が鋭意検討した結果、光路に存在する境界部の数を適切に制御することにより、減衰量を増大させつつも、コア部１１２間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。 As a result of diligent studies by the present inventor based on such circumstances, the amount of attenuation is increased by appropriately controlling the number of boundary portions existing in the optical path, and the amount of attenuation varies among the core portions 112. It was found that it could be reduced.

このような知見に基づいてさらに検討した結果、光の斜め成分が異なる２つの光源の減衰量を比較した減衰量比は、スリット構造やテーパー構造を有する光減衰部２００（領域２）とコア部１１２（領域１）との間の境界部の数に対して安定的に相関関係を示すことが分かった。そして、斜め成分の光が少ない第１光源を用いたときの減衰量をＸとし、斜め成分の光が多い第２光源を用いたときの減衰量をＹとし、こられの減衰量比であるＸ／Ｙを指標にしたとき、Ｘ／Ｙの下限値を指標とすることにより、指標Ｘ／Ｙの下限値を所定値以上とすることにより、コア部１１２中の入射光の減衰量を増大させつつも、指標Ｘ／Ｙの上限値を所定値以下とすることにより、コア部１１２間における減衰量のバラツキを低減できることが見出された。 As a result of further examination based on such findings, the attenuation ratio comparing the attenuation amounts of two light sources having different oblique components of light is the light attenuation portion 200 (region 2) having a slit structure or a tapered structure and the core portion. It was found that there was a stable correlation with the number of boundaries between 112 (region 1). Then, let X be the amount of attenuation when the first light source having a small amount of oblique component light is used, and let Y be the amount of attenuation when a second light source having a large amount of oblique component light is used. When X / Y is used as an index, the amount of attenuation of incident light in the core portion 112 is increased by setting the lower limit value of the index X / Y to a predetermined value or more by using the lower limit value of X / Y as an index. It was found that the variation in the amount of attenuation between the core portions 112 can be reduced by setting the upper limit value of the index X / Y to a predetermined value or less.

光の斜め成分が異なる２つの光源を用いた測定方法は、次の通りである。
まず、第１光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から第１光信号（信号光３００）を入力し、コア部１１２の他端１０５から第１光信号を出力したときの第１光信号の減衰量（Ｘ）を測定する。続いて、当該第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から第２光信号（信号光３１０）を入力し、コア部１１２の他端１０５から第２光信号を出力したときの第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。 The measurement method using two light sources having different oblique components of light is as follows.
First, the first optical signal when the first optical signal (signal light 300) is input from one end 103 of the core portion 112 and the first optical signal is output from the other end 105 of the core portion 112 using the first light source. The amount of attenuation (X) of is measured. Subsequently, a second optical signal (signal light 310) is input from one end 103 of the core portion 112 using a second light source having more oblique components than the first light source, and the other end 105 to the second of the core portion 112. The amount of attenuation (Y) of the second optical signal when the optical signal is output is calculated. Then, the attenuation ratio based on two light sources having different oblique components of light is calculated from X / Y.

具体的な減衰量の測定は、図３に示すように、光源を備える光出力部３２０から信号光３００、３１０（入力光）を出力し、光減衰部２００を有するコア部１１２を通過した後の信号光３００、３１０（出力光）の信号強度を光検出部３３０で検出する。そして、出力光パワー／入力光パワーの対数から「減衰量（ｄＢ）」を算出する。 As shown in FIG. 3, the specific attenuation amount is measured after the signal lights 300 and 310 (input light) are output from the light output unit 320 provided with the light source and passed through the core unit 112 having the light attenuation unit 200. The signal intensity of the signal lights 300 and 310 (output light) of the above is detected by the light detection unit 330. Then, the "attenuation amount (dB)" is calculated from the logarithm of the output light power / input light power.

上記の測定方法において、光源として光の斜め成分が異なる２種の光源、すなわち、斜め成分が相対的に少ない第１光源、斜め成分が相対的に多い第２光源を用いる。例えば、所定の放射角を有する第２光源と、第１光源の放射角よりも大きい放射角を有する第２光源を使用できる。それぞれの放射角は適当に選択され得るが、例えば、第２光源の放射角は１３°以下であり、第１光源の放射角は６°以下とする。これらの放射角の比が２程度とすることにより、減衰量比を安定的に取得可能である。 In the above measurement method, two types of light sources having different diagonal components of light, that is, a first light source having a relatively small diagonal component and a second light source having a relatively large diagonal component are used as light sources. For example, a second light source having a predetermined radiation angle and a second light source having a radiation angle larger than the radiation angle of the first light source can be used. Each radiation angle can be appropriately selected. For example, the radiation angle of the second light source is 13 ° or less, and the radiation angle of the first light source is 6 ° or less. By setting the ratio of these radiation angles to about 2, the attenuation ratio can be stably obtained.

光源の放射角は、例えば、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得する。強度分布の積算値が１に対応する出射角度を、光源の放射角とした。 For the emission angle of the light source, for example, using an FFP (Far Field Pattern) measuring device, the intensity distribution of the emission angle from the fiber end face is integrated from the center toward the emission angle spreading direction (NA). The value (Encircled Angler Lux) is acquired. The emission angle corresponding to the integrated value of the intensity distribution being 1 was defined as the emission angle of the light source.

また、コア部１１２間の減衰量のバラツキの指標として、減衰量（Ｘ）の標準偏差を活用できる。減衰量（Ｘ）の標準偏差は、例えば、光減衰部２００を有する６本のコア部１１２のそれぞれに、第１光源を用いて減衰量（Ｘ）を測定し、その６本の減衰量（Ｘ）の標準偏差とする。 Further, the standard deviation of the attenuation amount (X) can be utilized as an index of the variation of the attenuation amount between the core portions 112. For the standard deviation of the attenuation amount (X), for example, the attenuation amount (X) is measured for each of the six core portions 112 having the light attenuation portion 200 using the first light source, and the six attenuation amounts (X) are measured. Let it be the standard deviation of X).

本実施形態において、減衰量比Ｘ／Ｙの下限値は、例えば、０．５５以上であり、好ましくは０．５６以上であり、より好ましくは０．５７以上である。これにより、光導波路フィルム１００の減衰量を増大できる。一方、減衰量比Ｘ／Ｙの上限値は、例えば、０．７０以下であり、好ましくは０．６９以下であり、より好ましくは０．６８以下である。これにより、複数のコア部１１２間の減衰量のバラツキを抑制できる。 In the present embodiment, the lower limit of the attenuation ratio X / Y is, for example, 0.55 or more, preferably 0.56 or more, and more preferably 0.57 or more. As a result, the amount of attenuation of the optical waveguide film 100 can be increased. On the other hand, the upper limit of the attenuation ratio X / Y is, for example, 0.70 or less, preferably 0.69 or less, and more preferably 0.68 or less. As a result, it is possible to suppress variations in the amount of attenuation between the plurality of core portions 112.

本実施形態では、たとえば光導波路フィルム１００の構成材料、光導波路フィルム１００の作り方等を適切に選択することにより、上記減衰量比Ｘ／Ｙを制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、スリット形状などの光減衰部２００の形状、個数、光路長等を調整すること等が、上記減衰量比Ｘ／Ｙを所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。 In the present embodiment, the attenuation ratio X / Y can be controlled by appropriately selecting, for example, the constituent material of the optical waveguide film 100, the method of making the optical waveguide film 100, and the like. Among these, for example, adjusting the shape, number, optical path length, etc. of the light attenuation portion 200 such as the slit shape can be mentioned as an element for setting the attenuation ratio X / Y in a desired numerical range.

また本実施形態において、上記の第１光源を用いて、コア部１１２の一端１０３から光信号（信号光３００）を入力し、コア部１１２の他端１０５から光信号（信号光３００）を出力したときの光信号の減衰量（Ｘ）は、例えば、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下であり、好ましくは１．３ｄＢ以上であり、さらに好ましくは１．５ｄＢ以上である。これにより、減衰機能が十分に発揮する光導波路フィルム１００を実現できる。 Further, in the present embodiment, using the above-mentioned first light source, an optical signal (signal light 300) is input from one end 103 of the core portion 112, and an optical signal (signal light 300) is output from the other end 105 of the core portion 112. The attenuation (X) of the optical signal at this time is, for example, 1.2 dB or more and 9.0 dB or less, preferably 1.3 dB or more, and more preferably 1.5 dB or more. As a result, it is possible to realize the optical waveguide film 100 in which the damping function is sufficiently exhibited.

本実施形態によれば、比較的大きな減衰量が得られつつも、その減衰量のバラツキを低減できる光減衰部付き光導波路フィルムを実現することができる。 According to the present embodiment, it is possible to realize an optical waveguide film with an optical attenuation portion that can reduce the variation in the attenuation while obtaining a relatively large amount of attenuation.

次に、本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルム（光導波路フィルム１００）を詳細に説明する。 Next, the optical waveguide film with a light attenuation portion (optical waveguide film 100) of the present embodiment will be described in detail.

光導波路フィルム１００は、たとえば樹脂製の光導波路フィルムである。光導波路フィルム１００は、複数の樹脂層が積層した構造を有する。たとえば、光導波路フィルム１００は板状、すなわちシート状をしており、光導波路フィルム１００においてクラッド層（下部クラッド層１３０）、コア層（コア層１１０）、クラッド層（上部クラッド層１２０）が厚さ方向にこの順に積層されている。板状の光導波路フィルム１００は、互いに平行な二つの主面（表面１４、裏面１２）を有する。
本明細書では、光導波路フィルム１００の主面以外の周囲の面を「側面」と呼ぶ。光導波路フィルム１００の側面は、たとえば主面に略垂直である。 The optical waveguide film 100 is, for example, a resin optical waveguide film. The optical waveguide film 100 has a structure in which a plurality of resin layers are laminated. For example, the optical waveguide film 100 has a plate shape, that is, a sheet shape, and in the optical waveguide film 100, the clad layer (lower clad layer 130), the core layer (core layer 110), and the clad layer (upper clad layer 120) are thick. They are stacked in this order in the longitudinal direction. The plate-shaped optical waveguide film 100 has two main surfaces (front surface 14, back surface 12) parallel to each other.
In the present specification, peripheral surfaces other than the main surface of the optical waveguide film 100 are referred to as "side surfaces". The side surface of the optical waveguide film 100 is, for example, substantially perpendicular to the main surface.

本実施形態の光導波路フィルム１００は、図１に示すように、下部クラッド層１３０と、下部クラッド層１３０上に設けられたコア層１１０、コア層１１０上に設けられた上部クラッド層とを備えるものである。コア層１１０は、短手方向に対して、複数のコア部１１２と、その両側面に設けられたクラッド部１１４を有するものである。 As shown in FIG. 1, the optical waveguide film 100 of the present embodiment includes a lower clad layer 130, a core layer 110 provided on the lower clad layer 130, and an upper clad layer provided on the core layer 110. It is a thing. The core layer 110 has a plurality of core portions 112 and clad portions 114 provided on both side surfaces thereof in the lateral direction.

コア部１１２中の領域１の屈折率ｎ１は、通常、下部クラッド層１３０、上部クラッド層１２０およびクラッド部１１４（側面クラッド部）の屈折率よりも大きいことが好ましい。これにより、コア部１１２と、下部クラッド層１３０、上部クラッド層１２０およびクラッド部１１４との界面で光が全反射し、光が適切に伝送される。 The refractive index n 1 of the region 1 in the core portion 112 is usually preferably larger than the refractive index of the lower clad layer 130, the upper clad layer 120, and the clad portion 114 (side clad portion). As a result, light is totally reflected at the interface between the core portion 112 and the lower clad layer 130, the upper clad layer 120, and the clad portion 114, and the light is appropriately transmitted.

光導波路フィルム１００の平面形状は特に限定されず、用途等に応じて設計され得る。
光導波路フィルム１００は、図２に示すように、光導波路フィルム１００の主面の垂直方向から見たとき、コア層１１０中に複数のコア部１１２がパターン状に形成されており、当該コア部１１２の延在方向、すなわち長手方向に対して長尺状である。長尺状の矩形形状を有する光導波路フィルム１００の、一端１０３および他端１０５のそれぞれに、光が入出力可能な入出射部として入出射側面（導波路端面１０１）が形成される。 The planar shape of the optical waveguide film 100 is not particularly limited, and it can be designed according to the application and the like.
As shown in FIG. 2, in the optical waveguide film 100, when viewed from the vertical direction of the main surface of the optical waveguide film 100, a plurality of core portions 112 are formed in a pattern in the core layer 110, and the core portion It is elongated with respect to the extending direction of 112, that is, the longitudinal direction. An entrance / exit side surface (waveguide end surface 101) is formed at each of one end 103 and the other end 105 of the optical waveguide film 100 having a long rectangular shape as an input / output portion through which light can be input and output.

光導波路フィルム１００は、図２に示すように、隣接する２つのコア部１１２の間に、１または２以上の複数のダミーコア部１１６を備え得る。このダミーコア部１１６は、図１に示すように、コア部１１２と同じコア層１１０の層内に形成される。ダミーコア部１１６は、コア部１１２と同一材料で構成され、領域１を有し得る。 As shown in FIG. 2, the optical waveguide film 100 may include one or more dummy core portions 116 between two adjacent core portions 112. As shown in FIG. 1, the dummy core portion 116 is formed in the same core layer 110 as the core portion 112. The dummy core portion 116 is made of the same material as the core portion 112 and may have a region 1.

光導波路フィルム１００は、図２、３に示すように、コア部１１２（屈折率ｎ１を有する領域１）中に光減衰部２００（屈折率ｎ２を有する領域２）を有するものである。光減衰部２００は、コア部１１２中に形成され、ダミーコア部１１６中には形成されない。
複数のコア部１１２を有する場合、それぞれの全てに光減衰部２００が形成されることが好ましい。それぞれの光減衰部２００は、互いに同一または異なってもよい。 As shown in FIGS. 2 and 3, the optical waveguide film 100 has a light attenuation portion 200 (a region 2 having a refractive index n 2 ) in a core portion 112 (a region 1 having a refractive index n 1 ). The light attenuation portion 200 is formed in the core portion 112 and is not formed in the dummy core portion 116.
When a plurality of core portions 112 are provided, it is preferable that the light attenuation portions 200 are formed in all of them. The light attenuators 200 may be the same or different from each other.

光減衰部２００は、図２に示すように、光導波路フィルム１００の主面に対して垂直方向（積層方向）から見たとき、コア部１１２が互いに交差しない非交差領域に形成される。これにより、コア部１１２間における減衰量のバラツキを低減できる。 As shown in FIG. 2, the light attenuation portion 200 is formed in a non-intersecting region where the core portions 112 do not intersect with each other when viewed from a direction (lamination direction) perpendicular to the main surface of the optical waveguide film 100. As a result, the variation in the amount of attenuation between the core portions 112 can be reduced.

光減衰部２００は、図３に示すようなスリット構造を備え得る。スリット構造を有する光減衰部２００が形成されたコア部１１２は、スリット状の光減衰部２００ａ～２００ｅを複数個含むものである。スリット状の光減衰部２００の個数を適切に制御することにより、光の減衰量を増加させつつも、そのバラツキを低減できる。 The light attenuation unit 200 may have a slit structure as shown in FIG. The core portion 112 in which the light attenuation portion 200 having a slit structure is formed includes a plurality of slit-shaped light attenuation portions 200a to 200e. By appropriately controlling the number of slit-shaped light attenuation portions 200, it is possible to reduce the variation while increasing the amount of light attenuation.

スリット状の光減衰部２００は、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）を有するものであり、これら積値（ｉ×Ｄ×Ｎ）で表される所定の光路長を有するものである。
この光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の下限値は、例えば、１．３０ｍｍ以上であり、好ましくは１．５ｍｍ以上であり、より好ましくは２．０ｍｍ以上である。これにより、光導波路フィルム１００の減衰量を増加できる。一方、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上限値は、１６．４０ｍｍ以下であり、好ましくは１６．０ｍｍ以下であり、より好ましくは１５．５ｍｍ以下である。これにより、コア部１１２間の減衰量のバラツキを抑制できる。 The slit-shaped light attenuation unit 200 has a slit width (D), a number (i), and a refractive index (N), and has a predetermined optical path length represented by a product value (i × D × N) of these. Have.
The lower limit of the optical path length (i × D × N) is, for example, 1.30 mm or more, preferably 1.5 mm or more, and more preferably 2.0 mm or more. As a result, the amount of attenuation of the optical waveguide film 100 can be increased. On the other hand, the upper limit of the optical path length (i × D × N) is 16.40 mm or less, preferably 16.0 mm or less, and more preferably 15.5 mm or less. As a result, it is possible to suppress variations in the amount of attenuation between the core portions 112.

スリット状の光減衰部２００における光路長について図３を用いて説明する。
スリット幅（Ｄ）は、光減衰部２００ａ～２００ｅのぞれぞれの、長手方向の厚みである。スリット幅（Ｄ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、１μｍ～２０μｍ、好ましくは５μｍ～１５μｍとする（以下、「～」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す）。
スリット幅（Ｄ）は、複数の光減衰部（光減衰部２００ａ～２００ｅ）の各々において同一でも異なってもよいが、減衰量のバラツキ低減の観点から、同一が好ましい。 The optical path length of the slit-shaped light attenuation portion 200 will be described with reference to FIG.
The slit width (D) is the thickness of each of the light attenuation portions 200a to 200e in the longitudinal direction. The slit width (D) is selected so as to satisfy the above numerical range of the optical path length (i × D × N), and is, for example, 1 μm to 20 μm, preferably 5 μm to 15 μm (hereinafter, “～” is Unless otherwise specified, it means that the upper limit value and the lower limit value are included).
The slit width (D) may be the same or different in each of the plurality of light attenuation portions (light attenuation portions 200a to 200e), but the same is preferable from the viewpoint of reducing variation in the amount of attenuation.

個数（ｉ）は、光減衰部２００の個数（領域１で長手方向が分断された領域２の個数）、であり、スリット数である。図３には、光減衰部２００ａ～２００ｅの５個のスリットが示されているが、これは説明のために模式的に示すものであり、これに限定されるものではない。
個数（ｉ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、２０個～２０００個、好ましくは５０個～１５００個、より好ましくは１００個～１０００個である。 The number (i) is the number of light attenuation portions 200 (the number of regions 2 whose longitudinal direction is divided in region 1), and is the number of slits. Although FIG. 3 shows five slits of the light attenuation portions 200a to 200e, these are schematically shown for the sake of explanation, and the present invention is not limited thereto.
The number (i) is selected so as to satisfy the above numerical range of the optical path length (i × D × N), and is, for example, 20 to 2000, preferably 50 to 1500, and more preferably 100 to 100. There are 1000 pieces.

屈折率（Ｎ）は、領域２中の屈折率ｎ２を意味する。ここで、「屈折率」とは、光導波路フィルム１００で入力される光の波長８５０ｎｍにおける屈折率のことを意味する。
屈折率（Ｎ）は、光路長（ｉ×Ｄ×Ｎ）の上記数値範囲を満たすように選択されるが、例えば、１．３～１．７、好ましくは１．４～１．６である。 The refractive index (N) means the refractive index n 2 in the region 2. Here, the "refractive index" means the refractive index of the light input by the optical waveguide film 100 at a wavelength of 850 nm.
The refractive index (N) is selected so as to satisfy the above numerical range of the optical path length (i × D × N), and is, for example, 1.3 to 1.7, preferably 1.4 to 1.6. ..

本実施形態において、コア部１１２の屈折率ｎ１と光減衰部２００の屈折率ｎ２との差の絶対値は、典型的には０．０１～１、好ましくは０．０１～０．５である。これら数値範囲とすることで、十分な光減衰が期待できる。なお、屈折率ｎ１と屈折率ｎ２の大小関係は、通常、ｎ１＞ｎ２である。 In the present embodiment, the absolute value of the difference between the refractive index n 1 of the core portion 112 and the refractive index n 2 of the light attenuation portion 200 is typically 0.01 to 1, preferably 0.01 to 0.5. Is. Sufficient light attenuation can be expected by setting these numerical values. The magnitude relationship between the refractive index n 1 and the refractive index n 2 is usually n 1 > n 2 .

言い方を変えると、屈折率ｎ１と屈折率ｎ２が「異なる」とは、光導波路フィルム１００で入力される光の波長において、領域１の屈折率と領域２の屈折率が異なることを意味する。本実施形態の光導波路フィルム１００は、典型的には、波長４００～１７００ｎｍの光において、上記の屈折率の値を満たすように設計することができる。 In other words, the fact that the refractive index n 1 and the refractive index n 2 are "different" means that the refractive index of the region 1 and the refractive index of the region 2 are different at the wavelength of the light input by the optical waveguide film 100. do. The optical waveguide film 100 of the present embodiment can typically be designed to satisfy the above refractive index values in light having a wavelength of 400 to 1700 nm.

光減衰部２００は、図１に示すクラッド部１１４（側面クラッド部）と同一部材で構成されてもよく、そのクラッド部１１４と同一の屈折率を有してもよい。すなわち、光減衰部２００は、クラッド部１１４と同じ工程で形成することができる。これにより、光導波路フィルム１００の製造安定性を高められる。 The light attenuation portion 200 may be formed of the same member as the clad portion 114 (side clad portion) shown in FIG. 1, or may have the same refractive index as the clad portion 114. That is, the light attenuation portion 200 can be formed in the same process as the clad portion 114. As a result, the manufacturing stability of the optical waveguide film 100 can be improved.

スリット状の光減衰部２００は、図３に示すように、コア部１１２の長手方向に対して直交する方向に形成されていて、図１のＡ－Ａ箇所の断面視における断面形状が直方体形状である。スリット状の光減衰部２００は、コア部１１２を通過する光軸ＯＡに対して、図３に示すように直交する直方形状を有することが好ましい。このスリット状の光減衰部２００の断面形状は、これに限定されず、台形形状でも、平行四辺形形状でもよい。 As shown in FIG. 3, the slit-shaped light attenuation portion 200 is formed in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the core portion 112, and the cross-sectional shape in the cross-sectional view of the AA portion in FIG. 1 is a rectangular cuboid shape. Is. The slit-shaped light attenuating portion 200 preferably has a rectangular shape orthogonal to the optical axis OA passing through the core portion 112 as shown in FIG. The cross-sectional shape of the slit-shaped light attenuation portion 200 is not limited to this, and may be a trapezoidal shape or a parallelogram shape.

コア部１１２は、図１に示すように、コア部１１２の長手方向に対して直交する方向（短手方向、積層方向）における断面視において、テーパー形状を有し得る。テーパー形状のコア部１１２の上端幅をＷａとし、コア部１１２の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂは、例えば、１超え１．１以下とすることができる。 As shown in FIG. 1, the core portion 112 may have a tapered shape in a cross-sectional view in a direction (short direction, stacking direction) orthogonal to the longitudinal direction of the core portion 112. When the upper end width of the tapered core portion 112 is Wa and the lower end width of the core portion 112 is Wb, Wa / Wb can be, for example, more than 1 and 1.1 or less.

スリット状の光減衰部２００の間に形成されるコア部１１２の領域１の幅（スリット間隔Ｗ）は、例えば、スリット幅（Ｄ）に対して２倍～１０倍、好ましくは３倍～８倍、より好ましくは４倍～６倍とできる。また、コア部１１２中のスリット間隔Ｗは、互いに異なってもよいが、全て同一が好ましい。 The width (slit interval W) of the region 1 of the core portion 112 formed between the slit-shaped light attenuation portions 200 is, for example, 2 to 10 times, preferably 3 times to 8 times the slit width (D). It can be doubled, more preferably 4 to 6 times. Further, the slit spacing W in the core portion 112 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same.

本実施形態において、光減衰部２００は、図３のようなスリット構造の他に、図４（ａ）のようなテーパー構造２０２、図４（ｂ）のようなテーパー構造２０６を有していてもよい。テーパー構造２０２は、光が入射される一端１０３から見て、光軸ＯＡに対して傾斜した傾斜領域と、それに連続して形成された非傾斜領域２０４を有し得る。一方、テーパー構造２０６は、光軸ＯＡに向かって一部が突出した構造を有し得る。 In the present embodiment, the light attenuation unit 200 has a tapered structure 202 as shown in FIG. 4 (a) and a tapered structure 206 as shown in FIG. 4 (b) in addition to the slit structure as shown in FIG. May be good. The tapered structure 202 may have an inclined region inclined with respect to the optical axis OA and a non-inclined region 204 formed continuously thereof when viewed from one end 103 on which light is incident. On the other hand, the tapered structure 206 may have a structure in which a part of the tapered structure 206 protrudes toward the optical axis OA.

光導波路フィルム１００は、長尺状の樹脂フィルムであり、それ自体単独で自立した自立フィルムとなり得る。光導波路フィルム１００は、靱性を有しており、曲げた状態でも曲げていない状態でも使用することができる。 The optical waveguide film 100 is a long resin film, and can be an independent self-supporting film by itself. The optical waveguide film 100 has toughness and can be used in a bent state or an unbent state.

光導波路フィルム１００変形例としては、光導波路フィルム１００の主面に垂直な方向から見て、他の部分の横幅よりも幅広な幅広部が他端１０５に形成され得る。この幅広部の主面の少なくとも１つに、入出射部として溝部が形成される。この溝部は、コア部１１２を通過する光信号の光路変換を行うミラーとして機能する。 As a modification of the optical waveguide film 100, a wide portion wider than the width of the other portion when viewed from the direction perpendicular to the main surface of the optical waveguide film 100 can be formed at the other end 105. A groove is formed as an inlet / outlet portion on at least one of the main surfaces of the wide portion. This groove portion functions as a mirror that converts the optical path of the optical signal passing through the core portion 112.

他の変形例の光導波路フィルム１００は、１つの一端１０３から他端１０５に向かって複数に分岐した分岐構造（二叉形状、三つ叉形状等）を有していてもよい。 The optical waveguide film 100 of another modification may have a branched structure (two-pronged shape, three-pronged shape, etc.) branched from one one end 103 toward the other end 105.

光導波路フィルム１００の変形例としては、単層のコア層を有してもよいが、クラッド層を介在させて複数のコア層が積層した構造を有してもよい。 As a modification of the optical waveguide film 100, a single core layer may be provided, but a structure in which a plurality of core layers are laminated with a clad layer interposed therebetween may be provided.

本実施形態のコア層１１０中のコア部１１２は、公知のコア層形成用樹脂組成物で構成されていてもよい。また、上部クラッド層１２０、下部クラッド層１３０は、それぞれ、同種または異種の、公知のクラッド層形成用樹脂組成物で構成されていてもよい。 The core portion 112 in the core layer 110 of the present embodiment may be composed of a known core layer forming resin composition. Further, the upper clad layer 120 and the lower clad layer 130 may be made of the same or different kinds of known resin compositions for forming a clad layer, respectively.

本実施形態の光導波路フィルム１００の変形例は、その表面に基材層が形成され得る。具体的には、図５に示すように、光導波路フィルム１００は、下部クラッド層１３０の下面側に設けられた下部基材層１５０と、上部クラッド層１２０の上面側に設けられた上部基材層１４０と、をさらに備えることができる。 In the modified example of the optical waveguide film 100 of the present embodiment, a base material layer can be formed on the surface thereof. Specifically, as shown in FIG. 5, the optical waveguide film 100 includes a lower base material layer 150 provided on the lower surface side of the lower clad layer 130 and an upper base material provided on the upper surface side of the upper clad layer 120. Layer 140 and the like can be further provided.

基材層（上部基材層１４０、下部基材層１５０）の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、またはポリエーテルサルフォン等が挙げられる。基材層としては、これらの構成材料からなるフィルムを用いることができる。 Examples of the constituent materials of the base material layer (upper base material layer 140, lower base material layer 150) include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyimide, polyamide, and poly. Examples thereof include etherimide, polypropylene, and polyethersulfon. As the base material layer, a film made of these constituent materials can be used.

上部基材層１４０および下部基材層１５０は、同種の材料で構成されていてもよい。例えば、上部基材層１４０および下部基材層１５０は、ポリイミドを含むポリイミド層で構成されていてもよい。 The upper base material layer 140 and the lower base material layer 150 may be made of the same kind of material. For example, the upper base material layer 140 and the lower base material layer 150 may be composed of a polyimide layer containing polyimide.

上部基材層１４０および下部基材層１５０の膜厚の下限値は、それぞれ、例えば、５μｍ以上でもよく、好ましくは１０μｍ以上である。一方で、上部基材層１４０および下部基材層１５０の膜厚の上限値は、それぞれ、例えば、５０μｍ以下でもよく、好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは２５μｍ以下である。
本実施形態において、下部基材層１５０の膜厚は、上部基材層１４０の膜厚と同じであってもよい。 The lower limit of the film thickness of the upper base material layer 140 and the lower base material layer 150 may be, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more, respectively. On the other hand, the upper limit of the film thickness of the upper base material layer 140 and the lower base material layer 150 may be, for example, 50 μm or less, preferably 30 μm or less, and more preferably 25 μm or less.
In the present embodiment, the film thickness of the lower base material layer 150 may be the same as the film thickness of the upper base material layer 140.

上部基材層１４０および下部基材層１５０の弾性率の下限値は、それぞれ、例えば、１ＧＰａ以上でもよく、好ましくは２ＧＰａ以上であり、より好ましくは３ＧＰａ以上である。一方で、上部基材層１４０および下部基材層１５０の弾性率の上限値は、それぞれ、例えば、１２ＧＰａ以下でもよく、好ましくは１１ＧＰａ以下であり、より好ましくは１０ＧＰａ以下である。
下部基材層１５０の弾性率は、上部基材層１４０の弾性率と相違してもよい。なお、本実施形態において、上記弾性率は、引張り弾性率とする。 The lower limit of the elastic modulus of the upper base material layer 140 and the lower base material layer 150 may be, for example, 1 GPa or more, preferably 2 GPa or more, and more preferably 3 GPa or more. On the other hand, the upper limit of the elastic modulus of the upper base material layer 140 and the lower base material layer 150 may be, for example, 12 GPa or less, preferably 11 GPa or less, and more preferably 10 GPa or less.
The elastic modulus of the lower base material layer 150 may be different from the elastic modulus of the upper base material layer 140. In the present embodiment, the elastic modulus is the tensile elastic modulus.

上部クラッド層１２０および下部クラッド層１３０の膜厚の下限値は、それぞれ、例えば、１μｍ以上でもよく、好ましくは２μｍ以上であり、より好ましくは３μｍ以上である。一方で、上部クラッド層１２０および下部クラッド層１３０の膜厚の上限値は、それぞれ、例えば、５０μｍ以下でもよく、好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下である。なお、上部クラッド層１２０の膜厚としては、例えば、コア部１１２上における上部クラッド層１２０の膜厚としてもよい。 The lower limit of the film thickness of the upper clad layer 120 and the lower clad layer 130 may be, for example, 1 μm or more, preferably 2 μm or more, and more preferably 3 μm or more, respectively. On the other hand, the upper limit of the film thickness of the upper clad layer 120 and the lower clad layer 130 may be, for example, 50 μm or less, preferably 30 μm or less, and more preferably 15 μm or less, respectively. The film thickness of the upper clad layer 120 may be, for example, the film thickness of the upper clad layer 120 on the core portion 112.

光導波路フィルム１００の全体の膜厚の下限値は、例えば、５０μｍ以上でもよく、好ましくは６０μｍ以上であり、より好ましくは７０μｍ以上である。一方、光導波路フィルム１００の全体の膜厚の上限値は、例えば、３００μｍ以下でもよく、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１５０μｍ以下である。 The lower limit of the overall film thickness of the optical waveguide film 100 may be, for example, 50 μm or more, preferably 60 μm or more, and more preferably 70 μm or more. On the other hand, the upper limit of the overall film thickness of the optical waveguide film 100 may be, for example, 300 μm or less, preferably 200 μm or less, and more preferably 150 μm or less.

本実施形態の光学部品は、光コネクタ、少なくとも片方の端部または全ての端部に装着された光導波路フィルム１００（光減衰部付き光導波路フィルム）を有するものである。このような光学部品を用いることにより、安定した光学特性を実現できる。 The optical component of the present embodiment has an optical connector and an optical waveguide film 100 (optical waveguide film with a light attenuation portion) attached to at least one end or all ends. By using such an optical component, stable optical characteristics can be realized.

光コネクタは、例えば、ＭＴコネクタ、ＭＰＯコネクタ、ＭＰＸコネクタ、ＰＭＴコネクタ、ＰＴコネクタ、またはこれらに互換性を有するコネクタ等を用いることができる。光コネクタには、ガイド穴が形成されてもよい。光コネクタが他のコネクタ等と接続される際に、ガイド穴にガイドピンが挿入されることで接続対象との正確な位置あわせがされる。 As the optical connector, for example, an MT connector, an MPO connector, an MPX connector, a PMT connector, a PT connector, or a connector compatible with these can be used. Guide holes may be formed in the optical connector. When the optical connector is connected to another connector or the like, the guide pin is inserted into the guide hole to ensure accurate alignment with the connection target.

光コネクタは、光導波路フィルム１００に対して公知の手法で固定される。例えば、光コネクタの開口部に光導波路フィルム１００の一端１０３を挿入した状態でこれらを固定する。具体的には、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤および嫌気性接着剤など各種接着剤により化学的手段で接合してもよいし、光コネクタの開口部の内壁で押圧することにより物理的手段で接合してもよい。 The optical connector is fixed to the optical waveguide film 100 by a known method. For example, the optical waveguide film 100 is fixed in a state where one end 103 is inserted into the opening of the optical connector. Specifically, it may be bonded by chemical means with various adhesives such as a photocurable adhesive, a heat-curable adhesive, and an anaerobic adhesive, or it may be physically pressed by the inner wall of the opening of the optical connector. It may be joined by a specific means.

次に光減衰部付き光導波路フィルム（光導波路フィルム１００）の製造方法について説明する。
光減衰部付き光導波路フィルムは、公知の光導波路フィルムの製造で知られている材料やプロセスを適宜適用または応用する等により製造することができる。 Next, a method of manufacturing an optical waveguide film with a light attenuation portion (optical waveguide film 100) will be described.
The optical waveguide film with a light attenuation portion can be produced by appropriately applying or applying a material or process known for producing a known optical waveguide film.

公知の光導波路フィルムの製造方法としては、リアクティブイオンエッチング法、複製法、直接露光法、フォトリソグラフィ法、フォトアドレス法などが知られており、本実施形態の光減衰部付き光導波路フィルム（光導波路フィルム１００）を製造するにあたっては、これらのいずれかの方法を適用または応用してもよいし、また、これら以外の方法を用いてもよい。しかし、これらの方法の中でも、特にフォトアドレス法を適用また応用することが好ましい。
より具体的には、本実施形態の光導波路フィルム１００は、例えば以下の方法で製造することができる。 Known methods for producing an optical waveguide film include a reactive ion etching method, a duplication method, a direct exposure method, a photolithography method, a photoaddress method, and the like. In producing the optical waveguide film 100), any one of these methods may be applied or applied, or any other method may be used. However, among these methods, it is particularly preferable to apply or apply the photoaddress method.
More specifically, the optical waveguide film 100 of the present embodiment can be manufactured by, for example, the following method.

まず、下部クラッド層１３０の上面に接するように、コア層１１０を形成する。
また、コア層１１０は、コア層１１０を形成するためのワニスを下部クラッド層１３０の上面に塗布し、そのワニスを硬化（固化）することで形成することができる。
コア層１１０や下部クラッド層１３０を構成する材料は、典型的には、ポリマー（例えばポリノルボルネン系のポリマー）、モノマー、当該モノマーの反応（例えば、重合反応または架橋反応）を開始させる触媒前駆体、当該触媒前駆体の活性化温度（モノマーに反応を生じさせる温度）を低下させる助触媒、などを適宜含むものである。 First, the core layer 110 is formed so as to be in contact with the upper surface of the lower clad layer 130.
Further, the core layer 110 can be formed by applying a varnish for forming the core layer 110 to the upper surface of the lower clad layer 130 and hardening (solidifying) the varnish.
The material constituting the core layer 110 and the lower clad layer 130 is typically a polymer (for example, a polynorbornene-based polymer), a monomer, or a catalyst precursor that initiates a reaction (for example, a polymerization reaction or a cross-linking reaction) of the monomer. , A co-catalyst that lowers the activation temperature (temperature at which a reaction occurs in the monomer) of the catalyst precursor, and the like are appropriately included.

続いて、露光工程を行う。すなわち、フォトマスクを用い、コア層１１０の特定の部分に選択的に光照射を行う。フォトマスク４００の一例として、図６（模式上面図）に示すものを用いることができる。図６のフォトマスク４００は、コア部パターン４１０、光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０、ダミーコア部パターン４４０を備える。コア部パターン４１０は、光導波路フィルム１００のコア層１１０中におけるコア部１１２に対応し、光減衰部パターン４２０は、光減衰部２００に対応し、側面クラッド部パターン４３０は、クラッド部１１４に対応し、ダミーコア部パターン４４０は、ダミーコア部１１６に対応する。フォトマスク４００において、コア部パターン４１０およびダミーコア部１１６は照射光を透過しないマスク領域であり、光減衰部パターン４２０および側面クラッド部パターン４３０は照射光を透過する開口領域（開口部）で構成され得る。光減衰部パターン４２０の形状は、光減衰部２００の形状に応じて適宜設計される。
なお、ここでの「光照射」とは、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、レーザ光等に限らず、電子線などであってもよい。
コア層１１０に含まれる助触媒は、光照射により、反応（結合）または分解して、カチオン（プロトンまたは他の陽イオン）と、弱配位アニオン（ＷＣＡ）と、を遊離（発生）する。これらのカチオンまたは弱配位アニオンは、触媒前駆体の分子構造に変化（分解）を生じさせ、触媒前駆体の活性化温度を低下させる。 Subsequently, an exposure step is performed. That is, a photomask is used to selectively irradiate a specific portion of the core layer 110 with light. As an example of the photomask 400, the one shown in FIG. 6 (schematic top view) can be used. The photomask 400 of FIG. 6 includes a core portion pattern 410, a light attenuation portion pattern 420, a side clad portion pattern 430, and a dummy core portion pattern 440. The core pattern 410 corresponds to the core 112 in the core layer 110 of the optical waveguide film 100, the light attenuation pattern 420 corresponds to the light attenuation 200, and the side clad pattern 430 corresponds to the clad 114. However, the dummy core portion pattern 440 corresponds to the dummy core portion 116. In the photomask 400, the core portion pattern 410 and the dummy core portion 116 are mask regions that do not transmit the irradiation light, and the light attenuation portion pattern 420 and the side clad portion pattern 430 are composed of an opening region (opening) that transmits the irradiation light. obtain. The shape of the light attenuation portion pattern 420 is appropriately designed according to the shape of the light attenuation portion 200.
The "light irradiation" here is not limited to visible light, ultraviolet light, infrared light, X-rays, laser light, etc., and may be an electron beam or the like.
The cocatalyst contained in the core layer 110 reacts (bonds) or decomposes with light irradiation to release (generate) cations (protons or other cations) and weakly coordinated anions (WCA). These cations or weakly coordinated anions cause changes (decomposition) in the molecular structure of the catalyst precursor, lowering the activation temperature of the catalyst precursor.

特に、本実施形態の光導波路フィルム１００の製造においては、フォトマスク４００に、領域１および領域２に対応するパターン（コア部パターン４１０、光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０およびダミーコア部パターン４４０等）を設けておく。こうすることで、比較的簡単に、最終的に領域１および領域２を含むコア部１１２を備えた光導波路フィルム１００を得ることができる。なお、クラッド部１１４は、領域２のみに対応するマスクパターンを介して形成され、ダミーコア部１１６は、領域１のみに対応するマスクパターンを介して形成される。 In particular, in the production of the optical waveguide film 100 of the present embodiment, the photomask 400 has a pattern corresponding to the region 1 and the region 2 (core portion pattern 410, light attenuation portion pattern 420, side clad portion pattern 430, and dummy core portion pattern). 440 etc.) is provided. By doing so, it is relatively easy to finally obtain the optical waveguide film 100 having the core portion 112 including the region 1 and the region 2. The clad portion 114 is formed via a mask pattern corresponding only to the region 2, and the dummy core portion 116 is formed via a mask pattern corresponding to only the region 1.

次に、コア層１１０を加熱する。コア層１１０の加熱によって触媒前駆体が活性化してモノマーの反応（例えば、重合反応または架橋反応）を開始させる。モノマーの反応が進行すると、光が照射された領域内のモノマー濃度が徐々に低下するとともに、モノマーとポリマーとの反応物の濃度が徐々に上昇する。この結果、光が照射された領域内の屈折率は小さくなる（当該反応物の寄与が大きくなるため）。一方、光が照射されなかった領域では、当該領域から光が照射された領域にモノマーが拡散することにより、モノマー濃度が徐々に低下する。この結果、光が照射されなかった領域の屈折率は大きくなる（ポリマーの寄与が大きくなるため）。 Next, the core layer 110 is heated. Heating of the core layer 110 activates the catalyst precursor to initiate a monomer reaction (eg, a polymerization reaction or a cross-linking reaction). As the reaction of the monomers progresses, the concentration of the monomer in the light-irradiated region gradually decreases, and the concentration of the reactant of the monomer and the polymer gradually increases. As a result, the refractive index in the area irradiated with light becomes small (because the contribution of the reactant increases). On the other hand, in the region not irradiated with light, the monomer diffuses from the region to the region irradiated with light, so that the monomer concentration gradually decreases. As a result, the refractive index of the region not irradiated with light increases (because the contribution of the polymer increases).

このようにして、光が照射された領域が、クラッド部１１４（側面クラッド部）およびコア部１１２中の領域２（光減衰部２００）となる。一方、光が照射されなかった領域は、コア部１１２中の領域１となる。
このような製造方法（フォトアドレス法の適用また応用）によれば、本実施形態の光導波路フィルム１００は、製造が比較的簡便であるというメリットが期待できる。つまり、コア部１１２中に屈折率が異なる部分を設ける別途のプロセスを設けずとも、コア部１１２の形成と同時に、そのコア部１１２の中に屈折率が異なる部分を設けることができるから、製造が簡便と言える。 In this way, the region irradiated with light becomes the clad portion 114 (side clad portion) and the region 2 (light attenuation portion 200) in the core portion 112. On the other hand, the region not irradiated with light becomes the region 1 in the core portion 112.
According to such a manufacturing method (application or application of the photoaddress method), the optical waveguide film 100 of the present embodiment can be expected to have an advantage that it is relatively simple to manufacture. That is, even if a separate process for providing a portion having a different refractive index in the core portion 112 is not provided, a portion having a different refractive index can be provided in the core portion 112 at the same time as the formation of the core portion 112. Can be said to be simple.

上記の加熱、そして放冷の後、コア層１１０（光照射および加熱によりコア部１１２およびクラッド部１１４が形成されている）の上に上部クラッド層１２０を形成する。上部クラッド層１２０を構成する材料としては、下部クラッド層１３０と同様のものが挙げられる。
以上のようにして光導波路フィルム１００を製造することができる。 After the above heating and allowing to cool, the upper clad layer 120 is formed on the core layer 110 (the core portion 112 and the clad portion 114 are formed by light irradiation and heating). Examples of the material constituting the upper clad layer 120 include the same materials as those of the lower clad layer 130.
The optical waveguide film 100 can be manufactured as described above.

上記の製造方法に適用可能な材料、プロセス等については、特開２０１３－２１０５９７号公報の０１９３段落以降の記載なども参考とされたい。 For the materials, processes, etc. applicable to the above manufacturing method, refer to the description after paragraph 0193 of JP2013-210567A.

なお、上記の方法（フォトアドレス法）で光導波路フィルム１００を製造する場合、領域１と領域２の間で、屈折率は不連続には変化せず、連続的に変化すると考えられる。
この理由はいくつか考えられる。例えば、前述のように、屈折率変化は、光が照射されなかった領域から光が照射された領域へのモノマーの「拡散」が関係しているところ、拡散には「勾配」があるため、コア層１１０中でのモノマー量は連続的に変化することが理由として考えられる。また、光の回折現象により、フォトマスク１００で遮光されている部分にも若干の光が照射されることも、屈折率が連続的に変化する理由の１つと考えられる。 When the optical waveguide film 100 is manufactured by the above method (photoaddress method), it is considered that the refractive index does not change discontinuously but changes continuously between the regions 1 and 2.
There are several possible reasons for this. For example, as described above, the change in refractive index is related to the "diffusion" of the monomer from the region not irradiated with light to the region irradiated with light, but the diffusion has a "gradient". It is considered that the reason is that the amount of monomer in the core layer 110 changes continuously. Further, it is considered that one of the reasons why the refractive index changes continuously is that a small amount of light is irradiated to the portion shaded by the photomask 100 due to the diffraction phenomenon of light.

領域１と領域２の間で、屈折率が連続的に変化する場合、屈折率ｎ１およびｎ２は、領域１と領域２それぞれにおいて、他の領域から十分離れており、屈折率が略一定となっている部分の屈折率と定義することができる。また、領域１と領域２の境界部は、屈折率が（ｎ１＋ｎ２）／２となる部分と定義することができる。 When the refractive index changes continuously between the regions 1 and 2, the refractive indexes n 1 and n 2 are sufficiently separated from the other regions in each of the regions 1 and 2, and the refractive indexes are substantially constant. It can be defined as the refractive index of the portion marked with. Further, the boundary portion between the region 1 and the region 2 can be defined as a portion where the refractive index is (n 1 + n 2 ) / 2.

一方、フォトアドレス法以外の製造方法、例えば、リアクティブイオンエッチング法、複製法、直接露光法、フォトリソグラフィ法などで、本実施形態の光導波路フィルム１００を製造した場合には、通常、領域１と領域２の間で、屈折率は不連続に変化するものと考えられる。 On the other hand, when the optical waveguide film 100 of the present embodiment is manufactured by a manufacturing method other than the photoaddress method, for example, a reactive ion etching method, a duplication method, a direct exposure method, a photolithography method, etc., the region 1 is usually used. It is considered that the refractive index changes discontinuously between the region 2 and the region 2.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
以下、参考形態の例を付記する。
１． 下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備える、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
光の斜め成分が異なる２つの光源に基づいて下記の条件で測定した減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
（測定条件）
第１光源を用いて、前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を測定する。
続いて、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
２． １．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部が互いに交差しない非交差領域に形成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
３． １．または２．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルム。
４． ３．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
同一のスリット幅を有するスリット状の前記光減衰部において、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）としたとき、前記光減衰部における光路長を表すｉ×Ｄ×Ｎが、１．３０ｍｍ以上１６．４０ｍｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
５． １．から４．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して直交する方向における断面視において、前記コア部はテーパー形状を有しており、前記コア部の上端幅をＷａとし、前記コア部の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂが１超え１．１以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
６． １．から５．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部の側面に形成された側面クラッド部と同一部材で構成されるか、前記側面クラッド部と同一の屈折率を有する、光減衰部付き光導波路フィルム。
７． １．から６．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記第１光源を用いて、前記コア部の一端から前記第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの前記光信号の前記減衰量を表すＸが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
８． １．から７．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して長尺状である、光減衰部付き光導波路フィルム。
９． １．から８．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。
１０． ９．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光減衰部付き光導波路フィルム。
１１． ９．または１０．に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光減衰部付き光導波路フィルム。
１２． １．から１１．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
１３． １．から１２．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
１４． 光コネクタが装着した１．から１３．のいずれか１つに記載の光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品。
Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the drawings, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted.
Hereinafter, an example of the reference form will be added.
1. 1. With the lower clad layer,
A plurality of patterned core portions provided on the lower clad layer, and
It is provided with an upper clad layer provided on the core portion.
An optical waveguide film with a light attenuation portion, the core portion having a light attenuation portion having a different refractive index.
An optical waveguide film with an optical attenuation portion, wherein the X / Y representing the attenuation ratio measured under the following conditions based on two light sources having different oblique components of light is 0.55 or more and 0.70 or less.
(Measurement condition)
The amount of attenuation (X) of the first optical signal when the first optical signal is input from one end of the core portion and the first optical signal is output from the other end of the core portion using the first light source. Measure.
Subsequently, using a second light source having more oblique components than the first light source, a second optical signal was input from one end of the core portion, and the second optical signal was output from the other end of the core portion. The amount of attenuation (Y) of the second optical signal at that time is calculated.
Then, the attenuation ratio based on two light sources having different oblique components of light is calculated from X / Y.
2. 1. 1. The optical waveguide film with a light attenuator according to the above.
The light attenuation portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is formed in a non-intersecting region where the core portions do not intersect with each other.
3. 3. 1. 1. Or 2. The optical waveguide film with a light attenuator according to the above.
The core portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which includes a plurality of slit-shaped light attenuation portions.
4. 3. 3. The optical waveguide film with a light attenuator according to the above.
In the slit-shaped light attenuation portion having the same slit width, when the slit width (D), the number (i), and the refractive index (N) are taken, i × D × N representing the optical path length in the light attenuation portion is , 1.30 mm or more and 16.40 mm or less, an optical waveguide film with a light attenuation portion.
5. 1. 1. From 4. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
When the core portion has a tapered shape and the upper end width of the core portion is Wa and the lower end width of the core portion is Wb in a cross-sectional view in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the core portion. , Wa / Wb is more than 1 and 1.1 or less, an optical waveguide film with a light attenuation part.
6. 1. 1. From 5. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
The light attenuation portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is composed of the same member as the side clad portion formed on the side surface of the core portion or has the same refractive index as the side clad portion.
7. 1. 1. From 6. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
X representing the amount of attenuation of the optical signal when the first optical signal is input from one end of the core portion and the first optical signal is output from the other end of the core portion using the first light source. However, an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is 1.2 dB or more and 9.0 dB or less.
8. 1. 1. From 7. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
An optical waveguide film with a light attenuating portion that is elongated with respect to the longitudinal direction of the core portion.
9. 1. 1. From 8. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
The lower base material layer provided on the lower surface side of the lower clad layer and
It further includes an upper base material layer provided on the upper surface side of the upper clad layer.
The lower base material layer and the upper base material layer are an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is composed of a polyimide layer.
10. 9. The optical waveguide film with a light attenuator according to the above.
An optical waveguide film with a light attenuation portion, wherein the film thickness of the lower base material layer is the same as the film thickness of the upper base material layer.
11. 9. Or 10. The optical waveguide film with a light attenuator according to the above.
An optical waveguide film with a light attenuation portion, wherein the elastic modulus of the lower base material layer is different from the elastic modulus of the upper base material layer.
12. 1. 1. From 11. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
The optical waveguide film having a light attenuation portion has a film thickness of 50 μm or more and 300 μm or less.
13. 1. 1. From 12. The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.
An optical waveguide film with a light attenuation portion, wherein the film thickness of the upper clad layer and / or the lower clad layer is 1 μm or more and 50 μm or less.
14. The optical connector is attached 1. To 13. An optical component comprising the optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of the above.

以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the description of these Examples.

＜光減衰部付き光導波路フィルムの作成＞
（１）離脱性基を有するポリオレフィン系樹脂の合成
水分及び酸素濃度がいずれも１ｐｐｍ以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ）７．２ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン１２．９ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。 <Creation of optical waveguide film with light attenuation>
(1) Synthesis of polyolefin-based resin having a leaving group The water and oxygen concentrations are both controlled to 1 ppm or less, and 7.2 g (40.1 mmol) of hexylnorbornene (HxNB) is placed in a glove box filled with dry nitrogen. , 12.9 g (40.1 mmol) of diphenylmethylnorbornenemethoxysilane was weighed in a 500 mL vial, 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate were added, and the upper part was sealed with a silicone sealer.

次に、１００ｍＬバイアルビン中にＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。このＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入して室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。 Next, 1.56 g (3.2 mmol) of Ni catalyst and 10 mL of dehydrated toluene were weighed in a 100 mL vial, and a stirrer tip was put in and sealed, and the catalyst was sufficiently stirred to completely dissolve it. When 1 mL of this Ni catalyst solution was accurately weighed with a syringe, quantitatively injected into a vial in which the above two types of norbornene were dissolved, and stirred at room temperature for 1 hour, a remarkable increase in viscosity was confirmed. At this point, the stopper was removed, 60 g of tetrahydrofuran (THF) was added, and the mixture was stirred to obtain a reaction solution.

１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次に、この水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌してＮｉの還元処理を行った。 To a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide solution (concentration 30%), and 30 g of ion-exchanged water were added and stirred to prepare a peracetic acid aqueous solution on the spot. Next, the entire amount of this aqueous solution was added to the above reaction solution and stirred for 12 hours to reduce Ni.

次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後に水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー＃１を得た。 Next, the treated reaction solution was transferred to a separating funnel, the lower aqueous layer was removed, 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added, and the mixture was vigorously stirred. The aqueous layer was removed after allowing to stand and completely separating the two layers. After repeating this washing process a total of 3 times, the polymer formed by dropping the oil layer in a large excess of acetone was reprecipitated, separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 ° C. Polymer # 1 was obtained by heating and drying for 12 hours.

ポリマー＃１の分子量分布は、ＧＰＣ測定した結果、Ｍｗ＝１０万、Ｍｎ＝４万であった。また、ポリマー＃１中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲ測定による同定の結果、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。 The molecular weight distribution of polymer # 1 was Mw = 100,000 and Mn = 40,000 as a result of GPC measurement. The molar ratio of each structural unit in polymer # 1 was 50 mol% for hexylnorbornene structural unit and 50 mol% for diphenylmethylnorbornene methoxysilane structural unit as a result of identification by NMR measurement.

（２）コア層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー＃１の１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製）０．０１ｇ、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成製 ＣＨＯＸ、ＣＡＳ＃４８３３０３－２５－９、分子量１８６、沸点１２５℃／１．３３ｋＰａ）２ｇ、重合開始剤（光酸発生剤）「ＲｈｏｄｏｒｓｉｌＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４」（Ｒｈｏｄｉａ社製、ＣＡＳ＃ １７８２３３－７２－２）（０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。 (2) Production of Composition for Forming Core Layer 10 g of the purified polymer # 1 is weighed in a 100 mL glass container, and 40 g of mecitylene, 0.01 g of the antioxidant Irganox 1076 (manufactured by BASF), and a cyclohexyloxetane monomer (manufactured by BASF) are weighed therein. CHOX, CAS # 483303-25-9 manufactured by Toa Synthetic, molecular weight 186, boiling point 125 ° C / 1.33 kPa) 2 g, polymerization initiator (photoacid generator) "Rhodolsil Photoinitiator 2074" (manufactured by Rhodia, CAS # 178233-72- 2) (0.0125 g, in 0.1 mL of ethyl acetate) was added and uniformly dissolved, and then filtered through a 0.2 μm PTFE filter to obtain a clean core layer forming composition.

（３）クラッド層の作製
環状オレフィン系樹脂を含むノルボルネン系樹脂組成物（プロメラス社製Ａｖａｔｒｅｌ２５９０の２０重量％２－ヘプタノン溶液、１０ｇ）に、２－ウンデシルメチルイミダゾール（四国化成工業株式会社製、品番Ｃ１１Ｚ）（０．０６ｇ）を添加して混合し、クラッド層形成用塗布液を得た。このクラッド層形成用塗布液を、２枚のポリイミドフィルムの上にドクターブレードでそれぞれ均一に塗布した後、４５℃の乾燥機において１５分間乾燥させた。溶剤を完全に除去した後、乾燥機中１６０℃で２時間加熱して塗膜を硬化させ、光導波路形成用フィルム（クラッド層および基材層）を２枚形成した。 (3) Preparation of clad layer 2-undecylmethylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to a norbornene-based resin composition containing a cyclic olefin resin (20 wt% 2-heptanone solution of Avatorel 2590 manufactured by Promeras, 10 g). Part No. C11Z) (0.06 g) was added and mixed to obtain a coating solution for forming a clad layer. This coating liquid for forming a clad layer was uniformly applied onto two polyimide films with a doctor blade, and then dried in a dryer at 45 ° C. for 15 minutes. After completely removing the solvent, the coating film was cured by heating in a dryer at 160 ° C. for 2 hours to form two films (clad layer and base material layer) for forming an optical waveguide.

（４）コア層の作製
離型処理ＰＥＴフィルム上にコア層形成用組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、図６に示すようなフォトマスク４００を圧着した。本実施例で使用したフォトマスク４００では、図６に示す通りコア部パターン４１０の本数が３本ではなく６本とした。具体的には、本実施例のフォトマスク４００には、光減衰部パターン４２０を有する直線状の減衰コアパターン（コア部パターン４１０）がＰｔ１：２５０μｍピッチで６本形成されており、減衰コアパターン（コア部パターン４１０）以外は減衰部を有さない直線コアパターン（ダミーコア部パターン４４０）がＰｔ２：６２．５μｍで側面クラッド部パターン４３０を介して３本形成されている（光減衰部パターン４２０、側面クラッド部パターン４３０が開口部であり、その他は照射光を透過しないマスク領域である）。光減衰部パターン４２０はスリット構造を有しており、各スリットの、スリット幅Ｄ、スリット間隔Ｗは同一の厚みであり、スリット形状はすべて同一とした。各実施例・各比較例のスリット数を下記表１に示す。
そして、フォトマスク４００上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。 (4) Preparation of Core Layer The composition for forming the core layer was uniformly applied on the release-treated PET film with a doctor blade, and then put into a dryer at 40 ° C. for 5 minutes. After completely removing the solvent to form a film, a photomask 400 as shown in FIG. 6 was pressure-bonded onto the obtained film. In the photomask 400 used in this embodiment, as shown in FIG. 6, the number of core pattern 410s is 6 instead of 3. Specifically, in the photo mask 400 of this embodiment, six linear attenuation core patterns (core portion pattern 410) having a light attenuation portion pattern 420 are formed at a pitch of Pt1: 250 μm, and the attenuation core pattern is formed. Three linear core patterns (dummy core pattern 440) having no attenuation other than (core pattern 410) are formed at Pt2: 62.5 μm via the side clad pattern 430 (light attenuation pattern 420). , The side clad portion pattern 430 is an opening, and the others are mask regions that do not transmit irradiation light). The light attenuation pattern 420 has a slit structure, and the slit width D and the slit interval W of each slit have the same thickness, and the slit shapes are all the same. The number of slits in each example and each comparative example is shown in Table 1 below.
Then, ultraviolet rays were irradiated from above the photomask 400 by a parallel exposure machine. The integrated amount of ultraviolet rays was 1300 mJ / cm 2 .

次いで、フォトマスク４００を取り去り、１５０℃のオーブンに３０分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には断面が矩形状をなす鮮明な導波路パターン（複数のコア部）が現れているのが確認された。得られたコア層の厚さは４０μｍであった。 Then, the photomask 400 was removed and placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. When taken out of the oven, it was confirmed that a clear waveguide pattern (multiple cores) having a rectangular cross section appeared on the coating film. The thickness of the obtained core layer was 40 μm.

（５）光導波路フィルムの作製
ステンレス製の板上にて、基材層、クラッド層、コア層、クラッド層、基材層の順にラミネータで積層し、積層体を得た。得られた積層体を１６０℃、２時間の条件で熱処理し、光導波路シートを得た。得られた積層体の厚さは１００μｍであった。 (5) Preparation of Optical Waveguide Film A laminated body was obtained by laminating a base material layer, a clad layer, a core layer, a clad layer, and a base material layer in this order with a laminator on a stainless steel plate. The obtained laminate was heat-treated at 160 ° C. for 2 hours to obtain an optical waveguide sheet. The thickness of the obtained laminate was 100 μm.

（６）光導波路試験片の作製
ダイシングテープＵＨＰ－１１０ＡＴ（デンカ社製）に光導波路シートを貼りつけ、ダイサーを用いて光導波路シートをカットした。その後ダイシングテープから光導波路フィルムを剥離するために積算光量は５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射を実施し、光導波路フィルムをダイシングテープから剥離し、長さ４０ｍｍの光導波路試験片（光導波路フィルム）を得た。得られた光導波路フィルムは、端から順番に、Ｎｏ．１～Ｎｏ．６の光減衰部を有するコア部を６本、隣接コア部の間に側面クラッド部を介して形成されたダミーコア部を３本、備えるものである。 (6) Preparation of Optical Waveguide Test Piece An optical waveguide sheet was attached to a dicing tape UHP-110AT (manufactured by Denka Co., Ltd.), and the optical waveguide sheet was cut using a dicer. After that, in order to peel the optical waveguide film from the dicing tape, ultraviolet irradiation with an integrated light amount of 500 mJ / cm 2 was carried out, the optical waveguide film was peeled off from the dicing tape, and an optical waveguide test piece (optical waveguide film) having a length of 40 mm was used. Obtained. The obtained optical waveguide films were obtained in order from the end to No. 1 to No. It is provided with 6 core portions having 6 light attenuation portions and 3 dummy core portions formed between adjacent core portions via side clad portions.

Figure 0007102712000001
Figure 0007102712000001

得られた光減衰部付き光導波路フィルムについて次のような評価項目に基づいて評価を実施した。評価結果を表１に示す。 The obtained optical waveguide film with a light attenuation part was evaluated based on the following evaluation items. The evaluation results are shown in Table 1.

（光減衰部における光路長）
測長顕微鏡を用いて、光減衰部のスリット幅（Ｄ）を測定し、個数（ｉ）をカウントした。
コア層の露光部および未露光部の光導波路フィルムの屈折率を、波長８５０ｎｍの光を照射し、プリズムカプラで測定した。得られた露光部の屈折率を光減衰部の屈折率（Ｎ）とした。スリット幅（Ｄ）は、０．０１ｍｍ、個数（ｉ）は表１に示すスリット数と同じであり、屈折率（Ｎ）は１．５２４であった。そして、光減衰部における光路長（ｍｍ）を、式：個数（ｉ）×スリット幅（Ｄ）×屈折率（Ｎ）から算出した。 (Optical path length in the light attenuation part)
The slit width (D) of the light attenuation portion was measured using a length measuring microscope, and the number (i) was counted.
The refractive index of the optical waveguide film in the exposed portion and the unexposed portion of the core layer was measured by irradiating light having a wavelength of 850 nm with a prism coupler. The refractive index of the obtained exposed portion was defined as the refractive index (N) of the light attenuation portion. The slit width (D) was 0.01 mm, the number (i) was the same as the number of slits shown in Table 1, and the refractive index (N) was 1.524. Then, the optical path length (mm) in the light attenuation portion was calculated from the formula: number (i) × slit width (D) × refractive index (N).

（減衰量）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠し、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由し、各実施例および各比較例で得られた光導波路フィルムにおけるコア部に導入し、５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、光導波路フィルムにおけるコア部の挿入損失を算出した。
測定に使用した２つの光源は、以下のものを使用した。
・第１の光源：光ファイバＡより放射された放射角度が６°（最大５．７１）以下の光源、
・第２の光源：光ファイバＡより放射された放射角度が１３°（最大１２．１７）以下の光源
第１の光源および第２の光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を使用して測定した。
減衰量は、（中央部における）Ｎｏ．３の減衰部を有するコア部における挿入損失Ａ３とし、Ｎｏ．３のコア部の両側に３本ずつ形成された合計６本の減衰部を有さないダミーコア部における平均挿入損失Ｂとしたとき、これらの差分「平均挿入損失Ｂ－挿入損失Ａ３」（ｄＢ）とした。
そして、第１の光源を用いて測定された減衰量を「減衰量Ｘ」とし、第２の光源を用いて測定された減衰量を「減衰量Ｙ」とした。 (Attenuation amount)
Based on the 4.6.1 insertion loss measurement method of "Test method for polymer optical waveguide (JPCA-PE02-05-01S-2008)" specified by the Japan Electronic Circuit Industry Association, light of 850 nm is 50 μm. It is introduced into the core portion of the optical waveguide film obtained in each Example and each comparative example via the graded index type optical fiber A having a diameter, and is received by the graded index type optical fiber B having a diameter of 50 μm to receive light. The strength was measured and the insertion loss of the core portion in the optical waveguide film was calculated.
The following two light sources were used for the measurement.
-First light source: A light source whose radiation angle emitted from the optical fiber A is 6 ° (maximum 5.71) or less.
-Second light source: A light source whose radiation angle emitted from the optical fiber A is 13 ° (maximum 12.17) or less The radiation angles of the first light source and the second light source are FFP (Far Field Pattern). ) Measured using a measuring device.
The amount of attenuation is No. (in the central part). The insertion loss A3 in the core portion having the damping portion of No. 3 was set as No. Assuming that the average insertion loss B in the dummy core portion which does not have a total of 6 damping portions formed on both sides of the core portion of 3 is taken, these differences "average insertion loss B-insertion loss A3" (dB). And said.
Then, the amount of attenuation measured using the first light source was defined as "attenuation amount X", and the amount of attenuation measured using the second light source was defined as "attenuation amount Y".

（減衰性）
得られた「減衰量Ｘ」について、以下の基準に従い、減衰性を評価した。評価結果を表１に示す。
○：減衰量Ｘが１．２０ｄＢ以上
×：減衰量Ｘが１．２０ｄＢ未満 (Attenuating)
The damping property of the obtained "attenuation amount X" was evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 1.
◯: Attenuation amount X is 1.20 dB or more ×: Attenuation amount X is less than 1.20 dB

（減衰量のバラツキ）
Ｎｏ．１～６の光減衰部を有するコア部（６本）のそれぞれに、１本ずつ第１光源を用いて光を照射し、上記の減衰量の測定方法と同様にして「減衰量Ｘ」を測定した。得られた６本のコア部における減衰量Ｘにおいて標準偏差σを算出した。
得られた「減衰量Ｘの標準偏差σ」について、以下の基準に従い、減衰量のバラツキを評価した。評価結果を表１に示す。
○：標準偏差σが０．３５以下
×：標準偏差σが０．３５超え (Variation of attenuation)
No. Each of the core parts (6 pieces) having 1 to 6 light attenuation parts is irradiated with light using the first light source one by one, and the "attenuation amount X" is set in the same manner as the above-mentioned measurement method of the attenuation amount. It was measured. The standard deviation σ was calculated for the attenuation X in the obtained six core portions.
With respect to the obtained "standard deviation σ of the amount of attenuation X", the variation in the amount of attenuation was evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 1.
◯: Standard deviation σ is 0.35 or less ×: Standard deviation σ is more than 0.35

１ 領域
２ 領域
１２ 裏面
１４ 表面
１００ 光導波路フィルム
１０１ 導波路端面
１０３ 一端
１０５ 他端
１１０ コア層
１１２ コア部
１１４ クラッド部
１１６ ダミーコア部
１２０ 上部クラッド層
１３０ 下部クラッド層
１４０ 上部基材層
１５０ 下部基材層
２００、２００ａ～ｅ 光減衰部
２０２ テーパー構造
２０４ 非傾斜領域
２０６ テーパー構造
３００ 信号光
３１０ 信号光
３２０ 光出力部
３３０ 光検出部
４００ フォトマスク
４１０ コア部パターン
４２０ 光減衰部パターン
４３０ 側面クラッド部パターン
４４０ ダミーコア部パターン 1 Region 2 Region 12 Back surface 14 Surface 100 Optical waveguide film 101 Waveguide end surface 103 One end 105 Other end 110 Core layer 112 Core part 114 Clad part 116 Dummy core part 120 Upper clad layer 130 Lower clad layer 140 Upper base material layer 150 Lower base material Layers 200, 200a to e Light attenuation part 202 Tapered structure 204 Non-tilted area 206 Tapered structure 300 Signal light 310 Signal light 320 Light output part 330 Light detection part 400 Photomask 410 Core part pattern 420 Light attenuation part pattern 430 Side clad part pattern 440 Dummy core pattern

Claims (12)

下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状の複数のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層と、を備えており、
前記コア部中に屈折率が異なる光減衰部を備え、前記コア部は、スリット状の前記光減衰部を複数個含む、光減衰部付き光導波路フィルムであって、
下記の測定条件に従って求められる、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく減衰量比を表すＸ／Ｙが、０．５５以上０．７０以下であり、かつ、減衰量Ｘが、１．２ｄＢ以上９．０ｄＢ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。
（測定条件）
社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」の４．６．１挿入損失の測定方法に準拠して、第１光源を用いて、８５０ｎｍの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第１光信号を入力し、前記コア部の他端から前記第１光信号を出力したときの光を５０μｍ径のグレーデッドインデックス型光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第１光信号の減衰量（Ｘ）を算出する。
続いて、前記第１光信号の減衰量の算出と同様にして、前記第１光源よりも斜め成分が多い第２光源を用いて、前記光ファイバＡを経由して前記コア部の一端から第２光信号を入力し、前記コア部の前記他端から前記第２光信号を出力したときの光を前記光ファイバＢで受光して光の強度を測定し、出力光パワー／入力光パワーの対数から前記第２光信号の減衰量（Ｙ）を算出する。
その後、光の斜め成分が異なる２つの光源に基づく上記減衰量比をＸ／Ｙから算出する。
なお、前記第１光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が６°の光源とし、前記第２光源は、前記光ファイバＡより放射された放射角度が１３°の光源とする。
かかる光源の放射角度は、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ：ファーフィールドパターン）測定装置を用い、ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向（Ｎ．Ａ．）に向かって積分した値（Ｅｎｃｉｒｃｌｅｄ Ａｎｇｕｌａｒ Ｆｌｕｘ）を取得し、強度分布の積算値が１に対応する出射角度とする。 With the lower clad layer,
A plurality of patterned core portions provided on the lower clad layer, and
It is provided with an upper clad layer provided on the core portion.
The core portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which includes light attenuation portions having different refractive indexes , and the core portion includes a plurality of slit-shaped light attenuation portions .
The X / Y representing the attenuation ratio based on two light sources having different oblique components of light, which is obtained according to the following measurement conditions, is 0.55 or more and 0.70 or less, and the attenuation X is 1.2 dB. An optical waveguide film with a light attenuation portion, which is 9.0 dB or less.
(Measurement condition)
The first light source is used in accordance with the 4.6.1 insertion loss measurement method of "Test method for polymer optical waveguide (JPCA-PE02-05-01S-2008)" specified by the Japan Electronic Circuit Industry Association. The first optical signal was input from one end of the core portion via the graded index type optical fiber A having a diameter of 50 μm, and the first optical signal was output from the other end of the core portion. The light at that time is received by a graded index type optical fiber B having a diameter of 50 μm, the intensity of the light is measured, and the attenuation amount (X) of the first optical signal is calculated from the logarithm of the output light power / input light power.
Subsequently, in the same manner as the calculation of the attenuation amount of the first optical signal, a second light source having more oblique components than the first light source is used, and the second light source is used from one end of the core portion via the optical fiber A. The optical fiber B receives the light when the two optical signals are input and the second optical signal is output from the other end of the core portion, and the intensity of the light is measured to determine the output optical power / input optical power. The amount of attenuation (Y) of the second optical signal is calculated from the logarithm.
Then, the attenuation ratio based on two light sources having different oblique components of light is calculated from X / Y.
The first light source is a light source having a radiation angle of 6 ° radiated from the optical fiber A, and the second light source is a light source having a radiation angle of 13 ° radiated from the optical fiber A.
For the radiation angle of such a light source, the intensity distribution of the emission angle from the fiber end face was integrated from the center toward the emission angle spreading direction (NA) using an FFP (Far Field Pattern) measuring device. The value (Encircled Angler Lux) is acquired, and the emission angle is set so that the integrated value of the intensity distribution corresponds to 1. 請求項１に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部が互いに交差しない非交差領域に形成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to claim 1.
The light attenuation portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is formed in a non-intersecting region where the core portions do not intersect with each other. 請求項１または２に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
同一のスリット幅を有するスリット状の前記光減衰部において、スリット幅（Ｄ）、個数（ｉ）、屈折率（Ｎ）としたとき、前記光減衰部における光路長を表すｉ×Ｄ×Ｎが、１．３０ｍｍ以上１６．４０ｍｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to claim 1 or 2 .
In the slit-shaped light attenuation portion having the same slit width, when the slit width (D), the number (i), and the refractive index (N) are taken, i × D × N representing the optical path length in the light attenuation portion is , 1.30 mm or more and 16.40 mm or less, an optical waveguide film with a light attenuation portion. 請求項１から３のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して直交する方向における断面視において、前記コア部はテーパー形状を有しており、前記コア部の上端幅をＷａとし、前記コア部の下端幅をＷｂとしたとき、Ｗａ／Ｗｂが１超え１．１以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 3 .
When the core portion has a tapered shape and the upper end width of the core portion is Wa and the lower end width of the core portion is Wb in a cross-sectional view in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the core portion. , Wa / Wb is more than 1 and 1.1 or less, an optical waveguide film with a light attenuation part. 請求項１から４のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記光減衰部は、前記コア部の側面に形成された側面クラッド部と同一部材で構成されるか、前記側面クラッド部と同一の屈折率を有する、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 4 .
The light attenuation portion is an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is composed of the same member as the side clad portion formed on the side surface of the core portion or has the same refractive index as the side clad portion. 請求項１から５のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記コア部の長手方向に対して長尺状である、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 5 .
An optical waveguide film with a light attenuating portion that is elongated with respect to the longitudinal direction of the core portion. 請求項１から６のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部クラッド層の下面側に設けられた下部基材層と、
前記上部クラッド層の上面側に設けられた上部基材層と、をさらに備えており、
前記下部基材層および前記上部基材層は、ポリイミド層で構成されている、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 6 .
The lower base material layer provided on the lower surface side of the lower clad layer and
It further includes an upper base material layer provided on the upper surface side of the upper clad layer.
The lower base material layer and the upper base material layer are an optical waveguide film with a light attenuation portion, which is composed of a polyimide layer. 請求項７に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の膜厚は、前記上部基材層の膜厚と同じである、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to claim 7 .
An optical waveguide film with a light attenuation portion, wherein the film thickness of the lower base material layer is the same as the film thickness of the upper base material layer. 請求項７または８に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記下部基材層の弾性率は、前記上部基材層の弾性率と相違する、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to claim 7 or 8 .
An optical waveguide film with a light attenuation portion, wherein the elastic modulus of the lower base material layer is different from the elastic modulus of the upper base material layer. 請求項１から９のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
当該光導波路フィルムの膜厚は、５０μｍ以上３００μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 9 .
The optical waveguide film having a light attenuation portion has a film thickness of 50 μm or more and 300 μm or less. 請求項１から１０のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムであって、
前記上部クラッド層および／又は前記下部クラッド層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、光減衰部付き光導波路フィルム。 The optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 10 .
An optical waveguide film with a light attenuation portion, wherein the film thickness of the upper clad layer and / or the lower clad layer is 1 μm or more and 50 μm or less. 光コネクタが装着した請求項１から１１のいずれか１項に記載の光減衰部付き光導波路フィルムを備える、光学部品。 An optical component comprising the optical waveguide film with a light attenuation portion according to any one of claims 1 to 11 , which is attached to an optical connector.
JP2017226521A 2017-11-27 2017-11-27 Optical waveguide film with light attenuation and optical components Active JP7102712B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017226521A JP7102712B2 (en) 2017-11-27 2017-11-27 Optical waveguide film with light attenuation and optical components

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017226521A JP7102712B2 (en) 2017-11-27 2017-11-27 Optical waveguide film with light attenuation and optical components

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019095683A JP2019095683A (en) 2019-06-20
JP7102712B2 true JP7102712B2 (en) 2022-07-20

Family

ID=66972973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017226521A Active JP7102712B2 (en) 2017-11-27 2017-11-27 Optical waveguide film with light attenuation and optical components

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7102712B2 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006160A (en) 2000-06-23 2002-01-09 Fujitsu Ltd Optical waveguide
JP2005189525A (en) 2003-12-25 2005-07-14 Nippon Electric Glass Co Ltd Optically attenuating optical waveguide material and its manufacturing method
JP2006091785A (en) 2004-09-27 2006-04-06 Matsushita Electric Works Ltd Optical waveguide plate
US20080286580A1 (en) 2004-09-14 2008-11-20 Maria Petrucci-Samija Polymeric Optical Waveguide
JP2016102883A (en) 2014-11-28 2016-06-02 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, manufacturing method of optical waveguide module, and electronic apparatus

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5577141A (en) * 1995-03-10 1996-11-19 Lucent Technologies Inc. Two-dimensional segmentation mode tapering for integrated optic waveguides
KR19990012249A (en) * 1997-07-28 1999-02-25 윤종용 Planar Waveguide Devices with Segmented Waveguides

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006160A (en) 2000-06-23 2002-01-09 Fujitsu Ltd Optical waveguide
JP2005189525A (en) 2003-12-25 2005-07-14 Nippon Electric Glass Co Ltd Optically attenuating optical waveguide material and its manufacturing method
US20080286580A1 (en) 2004-09-14 2008-11-20 Maria Petrucci-Samija Polymeric Optical Waveguide
JP2006091785A (en) 2004-09-27 2006-04-06 Matsushita Electric Works Ltd Optical waveguide plate
JP2016102883A (en) 2014-11-28 2016-06-02 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, manufacturing method of optical waveguide module, and electronic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019095683A (en) 2019-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6102133B2 (en) Optical waveguide, optical wiring component, optical waveguide module, and electronic device
US3809732A (en) Photo-locking technique for producing integrated optical circuits
JP5360313B2 (en) Optical waveguide, optical wiring, opto-electric hybrid board and electronic device
JP4748229B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin composition for forming optical waveguide, film for forming optical waveguide, optical waveguide, optical wiring, opto-electric hybrid board and electronic device
KR100872244B1 (en) Process for producing filmy optical waveguide
JP5199060B2 (en) Crossed waveguide
WO2012026135A1 (en) Optical waveguide and electronic device
JP6379471B2 (en) Connector housing and optical waveguide assembly
JP2016102883A (en) Optical waveguide, manufacturing method of optical waveguide module, and electronic apparatus
JP2024083560A (en) Optical Waveguide
JP7102712B2 (en) Optical waveguide film with light attenuation and optical components
JP2010060669A (en) Optical waveguide
JP4446618B2 (en) Method for forming optical waveguide
JP2013217916A (en) Analysis chip, analyzer, manufacturing method of analysis chip and using method of analysis chip
JP6183531B1 (en) Optical waveguide resin film manufacturing method and optical component manufacturing method
JPH03154007A (en) Organic optical waveguide
JP6183530B1 (en) Optical waveguide film and optical component
JP5321077B2 (en) Optical waveguide and optical waveguide module
WO2012026133A1 (en) Optical waveguide and electronic device
JP5104768B2 (en) Optical waveguide film, optical waveguide module using optical waveguide film, and method of manufacturing optical waveguide film
JP5146827B2 (en) Multistage optical waveguide
JP6183529B1 (en) Optical waveguide film and optical component
JP2017083874A (en) Optical waveguide, optical wiring component, and electronic apparatus
JP6330427B2 (en) Optical sheet, optical waveguide, electronic equipment
Gorczyca et al. Photodefined polymeric photonic materials and processes

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201021

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211101

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220315

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220415

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220607

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220620

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7102712

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151