JP7094177B2 - 電力用半導体素子の寿命推定装置 - Google Patents
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Description
以下に、実施の形態1を図1から図7に基づいて説明する。図1は、実施の形態1に係るサイリスタ励磁装置を示す構成図であり、図2は、実施の形態1における電力用半導体素子の寿命推定装置示すブロック図である。サイリスタ励磁装置50は、発電機91の界磁巻線92に励磁電流を供給するもので、複数のサイリスタ、すなわち電力用半導体素子を有するサイリスタ部51と、それぞれのサイリスタを制御するAVR(Automatic Voltage Regulator)52とを備えている。発電機91がタービン(図示なし)により駆動され、界磁巻線92にサイリスタ部51から励磁電流が供給されると、発電機91の出力電圧は、励磁変圧器93によって降圧されてサイリスタ部51に印加される。また発電機91の出力電圧および発電機91からの電流は、変成器94および変流器95をそれぞれ介してAVR52にフィードバックとして入力される。AVR52は、内部にゲート制御信号生成部521を備えており、フィードバック電流IRに応じてサイリスタ部51のサイリスタを制御するゲート制御信号gを出力する。
なお、図4においては式(2)を簡略化して記載している。
また、実施の形態1では1区間中のすべての温度値から算出した単純平均を区間平均値をとしているが、それぞれの温度値が重みづけされた加重平均であってもよい。また、区間中の最大値および最小値を除いて区間平均値を算出してもよい
式(4)においてi=k-1の場合、式(5)で示すように第1区間の区間平均値との差となる。
なお、上述したように、サイリスタ511~513の温度測定はそれぞれについて独立して行われるので、温度値テーブルもそれぞれのサイリスタについて独立して作成される。このため、温度値テーブル記憶部122は3つの温度値テーブルを記憶することとなる。
まず、温度値データDのサンプリングを行う(ステップST001)サンプリングにより取得した温度値データDの情報(データID、温度値)は、温度値テーブルに順次書きこんでいく。
なお、閾値である許容温度上昇値ΔTmはサイリスタ励磁装置50の設計にて予め設定される。
ここで、式(6)におけるa、bは以下の式(7)のとおりである。
a、bを算出することで図7に示す推定直線L1を求めることができる。
なお、ΔTa=Δ(k、i)と一般化した場合のa、bは以下の式(8)のとおりである。
なお、式(6)により得られる管理温度到達区間keは、以下の式(9)により管理温度到達時間teに変換可能である。
ここで式(9)におけるTsは温度値データサンプリング部121のサンプリング周期である。hは、上述したとおり1つの区間を構成する温度値データDの個数である。
図7に示すように、点(k+1、avr(k+1)_1)は推定直線L1上に位置する。このため、avr(k+1)=avr(k+1)_1の場合は区間ID(k+1)における推定直線は推定直線L1と一致し、管理温度到達区間ke1は管理温度到達区間keと等しくなる。このため、管理温度到達時間の推定値に変化はなく処置変更は行われない。
図7に示すように、点(k+1、avr(k+1)_2)は推定直線L1よりも上側に位置する。このため、avr(k+1)=avr(k+1)_2の場合は区間ID(k+1)における推定直線L2は推定直線L1よりも傾きが大きくなり、管理温度到達区間ke2は管理温度到達区間keよりも小さくなる。これは対象のサイリスタの推定寿命が短くなったことを示すので、例えば定期メンテナンスの実施時期および対象のサイリスタの交換時期を早めるなどの処置変更が実施される。
図7に示すように、点(k+1、avr(k+1)_3)は推定直線L1よりも下側に位置する。このため、avr(k+1)=avr(k+1)_3の場合は区間ID(k+1)における推定直線L3は推定直線L1よりも傾きが小さくなり、管理温度到達区間ke3は管理温度到達区間keよりも大きくなる。これは対象のサイリスタの推定寿命が長くなったことを示すので、例えば定期メンテナンスの実施時期および対象のサイリスタの交換時期を遅くするなどの処置変更が実施される。
従って、例示されていない無数の変形例が、本願に開示される技術の範囲内において想定される。例えば、少なくとも1つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合が含まれるものとする。
Claims (4)
- 運転中の電力用半導体素子の温度を継続的に計測する温度計測手段と、
前記温度計測手段によって計測された前記電力用半導体素子の温度の時系列データから、それぞれ予め定められた長さを持つ複数の区間のそれぞれの区間平均値と、前記区間平均値の変化量を逐次算出する平均処理演算部と、
前記区間平均値および前記区間平均値の変化量を用いて、前記電力用半導体素子の温度が予め定められた管理温度に到達する時刻である管理温度到達時間を推定する管理温度到達時間推定部とを備え、
前記管理温度到達時間推定部は、前記区間平均値の変化量を逐次算出する際の現在の区間における前記区間平均値の変化量を算出するとき、前記現在の区間を基準の区間とし、前記基準の区間よりも前の区間の1つを比較対象の区間として、前記基準の区間の区間平均値と前記比較対象の区間の区間平均値との差が予め定められた値以上である場合に、前記差を前記現在の区間における区間平均値の変化量とし、
前記差が前記予め定められた値よりも小さい場合、前記比較対象の区間をさらに前の区間とすることにより比較対象の区間の更新を行って、前記差の取得と、前記差と前記予め定められた値との比較を再度行うものであって、
前記管理温度到達時間推定部は、前記差が前記予め定められた値以上になるまで、前記比較対象の区間の更新を繰り返すことを特徴とする電力用半導体素子の寿命推定装置。 - 前記温度計測手段によって測定された前記電力用半導体素子の温度値に応じて、前記電力用半導体素子を制御するゲート制御信号をオフにするマスク処理を施す処置実行部をさらに備えた請求項1に記載の電力用半導体素子の寿命推定装置。
- 前記処置実行部は、前記温度計測手段による前回の測定値と今回の測定値との差が予め定められた閾値以上であった場合に、前記マスク処理を施す請求項2に記載の電力用半導体素子の寿命推定装置。
- 互いに異なる2つの区間の前記区間平均値の差を、前記2つの区間のIDの組み合わせに対応させて記憶する記憶部をさらに備え、
前記管理温度到達時間推定部は、前記基準の区間のIDと前記比較対象の区間のIDの組み合わせに対応する前記区間平均値の差を前記記憶部から読み出すことにより、前記基準の区間の区間平均値と前記比較対象の区間の区間平均値との差を取得する請求項1から3のいずれか1項に記載の電力用半導体素子の寿命推定装置。
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