JP7093625B2 - スクリーン版 - Google Patents

Description

本発明は、遮蔽膜とスクリーン紗との密着性が向上したスクリーン版に関する。

従来から、プリント回路、ＩＣ回路、各種ディスプレイ装置などの電子部品基板や、太陽電池などの電極の製造には、スクリーン印刷が使用されている。電子部品基板や電極は、近年ますます小型化されており、これらを印刷して製造するスクリーン印刷には、精細な印刷パターンを寸法精度良く印刷することが求められている。

一般に、スクリーン印刷に用いられる版は、版枠と、所定の張力が加えられた状態で版枠に張られたスクリーン紗とを有し、スクリーン紗の片面又は両面に、遮蔽膜を形成するとともに、所定の印刷パターンに対応する位置に開口を形成してスクリーン印刷に用いられる。開口と遮蔽膜の形成は、スクリーン紗の片面又は両面に、感光性樹脂溶液（エマルジョン）を塗布して乾燥又は感光性樹脂フィルムを接着して樹脂膜を形成し、この樹脂膜の一部の領域を所定の印刷パターンに対応する形状のマスクで覆い、一部の領域がマスクで覆われた樹脂膜に対して可視光線および／又は紫外線を照射し、樹脂膜の可溶領域を水、薬品等によって除去して遮蔽膜と開口を形成することにより行われる。樹脂膜の可溶領域は、可視光線や紫外線が照射されることで生じる樹脂膜（感光性樹脂）の反応によって異なり、樹脂膜の反応が光架橋反応である場合には、可視光線や紫外線の照射を受けていない樹脂膜の領域（マスクで覆われた領域）が可溶領域となり、樹脂膜の反応が光分解反応である場合には、可視光線や紫外線の照射を受けている樹脂膜の領域（マスクで覆われていない領域）が可溶領域となる。

ここで、遮蔽膜とスクリーン紗との密着性が弱い場合、繰り返し印刷が行われることによって遮蔽膜がスクリーン紗から剥離することがある。このため、遮蔽膜とスクリーン紗との密着性が弱いスクリーン版は、精密な印刷パターンを繰り返し印刷することが不可能となることがある。

このような問題を解決するために、特許文献１では、ステンレス製のスクリーン紗にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜を成膜することで、感光性樹脂からなる遮蔽膜とスクリーン紗との密着性を高める技術が提案されている。

特開２０１１－２１８６７３号公報

しかしながら、ＤＬＣ膜は１５０～２５０度といった高温雰囲気下で成膜されるので、スクリーン紗が繊維で構成される場合、ＤＬＣ膜の成膜の段階でスクリーン紗を構成する繊維が熱収縮したり、スクリーン紗の強度が低下したりするなどの問題がある。特に、スクリーン紗を構成する繊維として合成繊維を用いた場合、繊維の熱収縮やスクリーン紗の強度低下が顕著となるため、特許文献１に開示される技術は、合成繊維から構成されるスクリーン紗に適用しにくいという問題がある。

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と遮蔽膜との密着性が向上したスクリーン版を提供することを目的とする。

本発明の要旨は以下のとおりである。
［１］ 版枠と、
前記版枠に張られる、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と、
前記スクリーン紗に形成される、所定の印刷パターンに対応する形状の開口を設けるための遮蔽膜と、を有し、
前記スクリーン紗の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が１５％以上、７０％以下であり、
前記遮蔽膜の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が１０％以上、５０％以下であることを特徴とするスクリーン版。
［２］ 前記合成繊維が少なくとも液晶ポリマーを含むことを特徴とする［１］に記載のスクリーン版。
［３］ 前記合成繊維がモノフィラメントであることを特徴とする［１］または［２］に記載のスクリーン版。
［４］前記遮蔽膜は、感光性樹脂を用いて形成された膜であることを特徴とする［１］から［３］のいずれか一つに記載のスクリーン版。
［５］前記スクリーン紗の表面は、前記遮蔽膜の表面よりも、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの前記比率が高いこと特徴とする［１］から［４］のいずれか一つに記載のスクリーン版。

本発明によれば、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と遮蔽膜との密着性が向上したスクリーン版を提供することができる。

スクリーン紗を示す概略図である。 スクリーン紗の部分断面図である。 スクリーン版を製造する際の各処理の手順を示すフローチャートである。 スクリーン版を製造する際の処理（スクリーン紗張設処理）を説明する図である。 スクリーン版を製造する際の処理（樹脂膜形成処理）を説明する図である。 スクリーン版を製造する際の処理（マスク貼り付け処理）を説明する図である。 スクリーン版を製造する際の処理（紫外線照射処理）を説明する図である。 スクリーン版を製造する際の処理（現像処理）を説明する図である。 スクリーン版を示す概略図である。

以下、本発明の実施形態について説明する。なお、図１，図２及び図４～図９において、Ｚ軸およびＹ軸は互いに直交する軸であり、Ｚ軸およびＹ軸のそれぞれと直交する軸をＸ軸とする。本実施形態において、Ｚ軸方向をスクリーン紗１の厚さ方向とする。

本実施形態のスクリーン版１００は、図９に示すように、版枠２と、版枠２に張られたスクリーン紗１と、スクリーン紗１に形成される遮蔽膜２０を有する。まず、スクリーン紗１について具体的に説明する。

スクリーン紗１は、スクリーン印刷に用いられるスクリーン版１００を構成する部材の一つであり、インクを保持し、保持したインクを被印刷物に転移するための織物である。スクリーン紗１は、図１に示すように、合成繊維により構成される複数の経糸１ａと複数の緯糸１ｂからなる。

経糸１ａ及び緯糸１ｂを構成する合成繊維としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、液晶ポリエステル等のポリエステル、ナイロン、ポリフェニルサルフォン（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）から形成される合成繊維や、これらを２種類以上組み合わせた合成繊維を用いることができ、これらの中でもナイロンやポリエステルから形成される合成繊維を用いることが好ましい。また、液晶ポリエステルなどの液晶ポリマーから形成される合成繊維は、伸縮性を有し、寸法安定性に優れる。このため、経糸１ａ及び緯糸１ｂとして液晶ポリマーを含む合成繊維を用いた場合、繰り返しスクリーン印刷を行ったとしても、経糸１ａ及び緯糸１ｂが変形しにくい。従って、液晶ポリマーを含む合成繊維は、繰り返し行われる精密な印刷パターンの形成に適しているため、特に好ましい。経糸１ａや緯糸１ｂが、２種類以上の素材から構成される場合、断面の芯部分の素材と鞘部分の素材が異なる芯鞘型繊維や、溶融した２種以上の素材を混合して得られるブレンド型の繊維や、芯部分や鞘部分の素材として、２種以上の素材を溶融・混合して得られる素材が用いられる芯鞘型繊維や、繊維の長手方向に延びる複数の島部分と島部分を取り囲む海部分の素材が異なる海島型繊維等であってもよい。さらに、鞘部分や芯部分において、島部分と海部分が形成される芯鞘型複合繊維であってもよい。なお、印刷パターンとは、被印刷物に転移される印刷塗膜により形成される模様（図形や文字、線などを含む）であり、液晶ポリマーとは、溶融状態あるいは溶液状態で液晶性を示すポリマーである。

スクリーン紗１を構成する経糸１ａと緯糸１ｂは、モノフィラメントでもマルチフィラメントでも良い。経糸１ａにマルチフィラメント、緯糸１ｂにモノフィラメントまたはその逆の組み合わせであっても良い。印刷精度（例えば、印刷物の鮮明性や解像性）や印刷塗膜の耐久性を向上させる観点からは、経糸１ａ、緯糸１ｂともにモノフィラメントであることが好ましい。モノフィラメントは、単一の素材から構成されていても良く、特性の異なる２種以上の素材から構成されていても良い。また、スクリーン紗１の表面の極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーγs^pの比率（以下、「極性比率」ともいう）を１５％以上７０％以下の範囲外とするものでなければ、経糸１ａや緯糸１ｂの表面を有機物質や無機物質でコーティングし、改質していても良い。

複数の経糸１ａと複数の緯糸１ｂは、図１に示すように、Ｚ軸方向において交互に浮き沈みして織られており、平織の織組成を構成している。スクリーン紗１において、織組織は、特に限定されず、綾織、朱子織などを用いることができる。しかしながら、スクリーン紗１のＺ軸方向における厚さを薄くかつ目拠れを起こしにくくする観点から、スクリーン紗１の織組織は、平織であることが好ましい。

複数の経糸１ａは、Ｘ―Ｙ平面において、所定の間隔ｗ１をあけて平行に並べられている。複数の緯糸１ｂは、Ｘ―Ｙ平面において、経糸１ａに対して垂直に並べられるとともに、所定の間隔ｗ２をあけて平行に並べられている。隣り合う２つの経糸１ａと隣り合う２つの緯糸１ｂに囲まれる空間には、開口部１ｃが形成されている。スクリーン紗１において、間隔ｗ１と間隔ｗ２は、同一である。しかしながら、間隔ｗ１と間隔ｗ２は、異なっていてもよい。

図２は、図１に示すスクリーン紗１のＡ－Ａ断面図である。図２に示すように、経糸１ａは、直径ｄ１を有し、緯糸１ｂは、直径ｄ２を有する。スクリーン紗１において、経糸１ａの直径ｄ１は、緯糸１ｂの直径ｄ２と同一である。なお、経糸１ａの直径ｄ１と緯糸１ｂの直径ｄ２は、異なっていても良い。また、スクリーン紗１では、経糸１ａ及び緯糸１ｂの断面形状（長手方向と直行する断面の形状）が正円であるが、経糸１ａ及び緯糸１ｂの断面形状は、楕円であってもよい。

経糸１ａの直径ｄ１及び緯糸１ｂの直径ｄ２は、印刷塗膜の厚みなどを考慮して適宜選択することができるが、高密度に配列するパターン線の印刷を容易にするためには、４５μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以下であることがさらに好ましく、３５μｍ以下、またさらに３３μｍ以下であることが特に好ましい。経糸１ａの直径ｄ１及び緯糸１ｂの直径ｄ２を３５μｍ以下、特に３３μｍ以下にすると、１５０μｍ幅、特に６０μｍ幅で配列する印刷パターンを確実に印刷しやすくなる。

スクリーン紗１は、経糸１ａと緯糸１ｂがＺ軸方向において重なる交差部と、経糸１ａと緯糸１ｂがＺ軸方向において重ならない非交差部とを有する。スクリーン紗１の厚さｔは、経糸１ａと緯糸１ｂが重なる交差部における厚さであり、経糸１ａの直径ｄ１と緯糸１ｂの直径ｄ２の合計である。

スクリーン紗１の織密度は、スクリーン紗１の１インチ当たりにおける糸（経糸１ａ，緯糸１ｂ）の本数（以下、「メッシュ数」ともいう）によって定義される。本実施形態のスクリーン紗１において、経糸１ａのメッシュ数と緯糸１ｂのメッシュ数は、同一でも異なっていても良い。スクリーン紗１における経糸１ａと緯糸１ｂの強度のばらつきを抑制する観点より、経糸１ａのメッシュ数と緯糸１ｂのメッシュ数は、同じであることが好ましい。

スクリーン紗１を構成する経糸１ａや緯糸１ｂの直径が同じであれば、メッシュ数を高くするとスクリーン紗１の強度は高くなるが、後述する開口率は低くなり、インクが開口部１ｃを通過しにくくなる。インクが開口部１ｃを通過しにくくなると、被印刷物に転移されるインクの量が減少しやすくなり、インクが被印刷物上で均一に広がりにくくなる。従って、均一な膜厚の印刷塗膜が得られにくくなる。一方、メッシュ数を低くすると、開口率は高くなるが、スクリーン紗１の強度は低くなりやすい。このため、スクリーン紗１のメッシュ数には、好ましい範囲がある。メッシュ数の好ましい範囲は、糸（経糸１ａ，緯糸１ｂ）の材料，強度，直径などに依存するため、一義的に定めることはできないが、スクリーン紗１を版枠に張る工程やスクリーン紗１を用いて印刷する工程における糸切れを抑制できる十分な強度とする観点から、経糸１ａと緯糸１ｂのメッシュ数それぞれは、２００メッシュ以上、特に２５０メッシュ以上、さらに３００メッシュ以上とすることが好ましい。また、印刷塗膜の膜厚を均一にしやすくする観点から、経糸１ａと緯糸１ｂのメッシュ数それぞれは、３５０メッシュ以下、特に３３０メッシュ以下とすることが好ましい。

なお、開口率（％）とは、Ｘ－Ｙ平面におけるスクリーン紗１の所定面積当たりの開口部１ｃの面積の割合であり、下記（１）式を用いて算出することができる。下記（１）式において、ｗ１は、隣り合う２つの経糸１ａの間隔を示し、ｗ２は、隣り合う２つの緯糸１ｂの間隔を示し、ｄ１は、経糸１ａの直径を示し、ｄ２は、緯糸１ｂの直径を示す。
開口率（％）＝（ｗ１×ｗ２）／｛（ｗ１＋ｄ１）×（ｗ２＋ｄ２）｝×１００ ----（１）

スクリーン紗１の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーγs^pの比率（以下、「極性比率」ともいう）が１５％以上、７０％以下である。極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγs（以下、「γs」ともいう。）は、下記（２）式で定義され、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーγｓ^p（以下、「γｓ^p」ともいう。）の比率（極性比率）は下記（３）式で求めることができる。尚、γｓ^dは非極性成分に由来する表面自由エネルギー（以下、「γｓ^d」ともいう）である。
γs ＝γｓ^d ＋γｓ^p ---------------- （２）
極性比率（％）＝γｓ^p／γｓ × １００ ------ （３）

スクリーン紗１の表面のγｓ^pとγｓ^dは、下記（４）式を用いて算出することができる。具体的には、スクリーン紗１の表面において、２種類の測定用液体の接触角（θ）をそれぞれ測定する。そして、測定された２つの接触角（θ）を下記（４）式に当てはめ、接触角（θ）を当てはめた２つの下記（４）式を連立方程式として解くことにより、スクリーン紗１表面のγs^pとγs^dを算出することができる。

なお、測定用液体は、下記（４）式中のγL（測定用液体の表面張力）、γL^d（測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー）及びγL^p（測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー）が既知である液体を用いることができ、例えば、水やジヨードメタンを用いることができる。また、スクリーン紗１表面の接触角（θ）は、スクリーン紗１表面の測定用液体１μＬを、接触角計（協和界面科学（株)製、固液界面解析装置DropMaster）を用いて測定することにより求めることができる。

（1＋cosθ）・γL／4＝（γs^d・γL^d）/（γs^d＋γL^d）＋（γs^p・γL^p）/（γs^p+γL^p）---------------- （４）
θ：試料表面の測定用液体の接触角
γL：測定用液体の表面張力
γL^d：測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γL^p：測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー
γs^d：試料表面の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γs^p：試料表面の極性成分に由来する表面自由エネルギー

スクリーン紗１表面の表面自由エネルギーγsは、上記（４）式で算出されたγs^dとγs^pを上記（２）式に当てはめることにより算出することができる。また、スクリーン紗１表面の極性比率は、上記（４）式で得られたγs^pと上記（２）式で得られたγsを上記（３）式に当てはめることにより算出することができる。なお、本明細書において、スクリーン紗１の表面とは、交差部や非交差部における経糸１ａや緯糸１ｂの表面を指す。

スクリーン紗１表面の表面自由エネルギーγsが同程度であっても、極性比率が高まると、表面の極性比率が所定の範囲内にある遮蔽膜２０とスクリーン紗１との密着性が向上しやすくなる。この理由は現在のところ必ずしも明確ではないが、スクリーン紗１の極性比率が高まることにより、表面の極性比率が所定の範囲内にある遮蔽膜２０との接触効率が高まるため、遮蔽膜２０とスクリーン紗１との密着性が向上すると考えられる。

スクリーン紗１表面の極性比率は、経糸１ａ及び緯糸１ｂを構成する合成繊維に含有され得る後述の極性基を有する化合物の含有量によって調節することができる。遮蔽膜２０との密着性を向上するためには、スクリーン紗１表面の極性比率は、１５％以上、７０％以下であることが必要である。スクリーン紗１表面の極性比率は、より好ましくは２０％以上、７０％以下であり、さらに好ましくは２５％以上、７０％以下である。一方、表面の極性比率が１５％未満であるスクリーン紗１は、遮蔽膜２０との密着性を向上することができない。遮蔽膜２０との密着性をさらに向上できる観点から、スクリーン紗１表面の極性比率の下限値は、２０％であることがより好ましく、２５％であることがさらに好ましい。また、表面の極性比率が７０％を超えているスクリーン紗１は、表面の極性比率が１５％以上、７０％以下である本実施形態のスクリーン紗１と比較して、遮蔽膜２０との密着性がさらに向上しない。そのため、スクリーン紗１の強度の低下なども考慮すると、スクリーン紗１表面の極性比率は、７０％以下であることが好ましい。

経糸１ａ及び緯糸１ｂを構成する合成繊維には、極性基を有する化合物（不図示）を含有することができる。経糸１ａ及び緯糸１ｂを構成する合成繊維に含有され得る極性基を有する化合物の状態・形状は、特に限定されず、当業者が適宜設定することができるが、極性基を有する化合物を合成繊維（経糸１ａや緯糸１ｂ）の原料に含有させる際には、固体であることが好ましい。極性基を有する化合物を合成繊維（経糸１ａや緯糸１ｂ）の原料に含有させる際に、極性基を有する化合物が液体であると、発泡などが起こることがある。なお、極性基を有する化合物は、合成繊維中に存在してもよく、合成繊維の表面に存在してもよい。

極性基を有する化合物の含有量は、特に限定されず、当業者が適宜設定することができるが、合成繊維全体（１００質量％）に対し、０．０１質量％以上５０質量％以下の範囲であることが好ましい。極性基を有する化合物の含有量を０．０１質量％以上とすることで、上記範囲外にある場合と比較して、スクリーン紗１表面の極性比率を高めやすくなる。また、極性基を有する化合物の含有量が５０質量％を超える量になると、上記範囲内にある場合と比較して、経糸１ａや緯糸１ｂの強度が低下しやすくなる。

本明細書において、極性基とは、極性を持った官能基のことをいう。極性基を有する化合物としては、特に限定されないが、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アミノ基、（メタ）アクロイル基、エポキシ基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸基、酸無水物変性基およびシアノ基からなる群から選択される１種または２種以上の極性基を有する化合物やポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）や第４級アンモニウム塩含有ポリマーを挙げることができる。経糸１ａや緯糸１ｂには、例えば、これらの化合物のうち１種または２種以上の化合物が含有されるようにしてもよい。

イソシアネート基を有する化合物としては、２－イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、１，１－ビス（アクリロイルメチル）エチルイソシアネート、メタクリル酸２－（０－［１’－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート、メチレンビス－４－シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソフォロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンイソシアネートのビューレット体などのポリイソシアネート、および上記イソシアネートのブロック体、芳香族ジイソシアネート類、例えば、トルエン2,4-ジイソシアネート、トルエン2,6-ジイソシアネート、市販のトルエン2,4-および2,6-ジイソシアネートの混合物(TDI)、n-フェニレンジイソシアネート、3,3'-ジフェニル-4,4'-ビフェニレンジイソシアネート、4,4'-ビフェニレンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3'-ジクロロ-4,4'-ビフェニレンジイソシアネート、クメン2,4-ジイソシアネート、1,5-ナフタリンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、4-メトキシ-1,3-フェニレンジイソシアネート、4-クロロ-1,3-フェニレンジイソシアネート、4-エトキシ-1,3-フェニレンジイソシアネート、2,4-ジメチレン-1,3-フェニレンジイソシアネート、5,6-ジメチル-1,3-フェニレンジイソシアネート、2,4-ジイソシアナートジフェニルエーテル、脂肪族ジイソシアネート類、例えば、エチレンジイソシアネート、エチリデンジイソシアネート、プロピレン1,2-ジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、1,4-テトラメチレンジイソシアネート、1,10-デカメチレンジイソシアネート、ならびに脂環式ジイソシアネート類、例えば、イソフォロンジイソシアネート(IPDI)、シクロヘキシレン1,2-ジイソシアネート、シクロヘキシレン1,4-ジイソシアネートおよびビス(4,4'-イソシアナートシクロヘキシル)メタンなどを挙げることができる。ポリイソシアネートは、イソシアネート基の反応性が互いに異なることが好ましく、上述したポリイソシアネートのうち、例えば、トルエン2,4-ジイソシアネート、トルエン2,6-ジイソシアネート、4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、シス-およびトランス-イソフォロンジイソシアネートであることが好ましい。

ヒドロキシル基を有する化合物としては、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）およびプロピレングリコール（ＰＧ）、トリエタノールアミン、マンニトール、ソルビトール、グリセロール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジグリセリン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等を挙げることができる。

アミノ基を有する化合物としては、アミノプロビルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、２，４－又は２，６－トリレンジアミン、キシリレンジアミン及び４，４′－ジフェニルメタンジアミン等の芳香族ジアミン、エチレンジアミン、１，２－プロピレンジアミン、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジアミン、１，３－ペンタンジアミン、２－メチル－１，５－ペンタンジアミン、２－ブチル－２－エチル－１，５－ペンタンジアミン、１，６－ヘキサンジアミン、２，２，４－又は２，４，４－トリメチルヘキサンジアミン、１，８－オクタンジアミン、１，９－ノナンジアミン及び１，１０－デカンジアミン等の脂肪族ジアミン、１－アミノ－３－アミノメチル－３，５，５－トリメチルシクロヘキサン（ＩＰＤＡ）、４，４′－ジシクロヘキシルメタンジアミン（水添ＭＤＡ）、イソプロピリデンシクロヘキシル－４，４′－ジアミン、１，４－ジアミノシクロヘキサン及び１，３－ビスアミノメチルシクロヘキサン等の脂環族ジアミン等、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸プロピルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸フェニルアミノエチル、Ｎ－ビニルジエチルアミン、Ｎ－アセチルビニルアミン、（メタ）アクリルアミン、Ｎ－メチルアクリルアミン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチルアクリルアミド、ｐ－アミノスチレン、アルキル（炭素数１～１２）アミン（モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン及びジブチルアミン等）及びポリ（ｎ＝２～６）アルキレン（炭素数２～６）ポリ（ｎ＝３～７）アミン（ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、ジヘキシレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン及びヘキサエチレンヘプタミン等）等、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、トルイジン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の３級アミノ基を有さない第一アミン類、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピペリジン、ピペラジン、ジフェニルアミン、フェニルメチルアミン、フェニルエチルアミン等の３級アミノ基を有さない第二アミン類、トリス（２－アミノエチル）アミン、トリス（３－アミノプロピル）アミン等の１級アミノ基と３級アミノ基とを有するアミン類、２－アミノピリジン、３－アミノピリジン、４－アミノピリジン、２、３－ジアミノピリジン、２，６－ジアミノピリジン、３，４－ジアミノピリジン、３，５－ジアミノピリジン、ピリジン－２，３，６－トリアミン、２－（メチルアミノ）ピリジン、４－（メチルアミノ）ピリジン、２－メトキシ－６－メチルアミノピリジン等の１級アミノ基、又は２級アミノ基を有するアミノピリジン類、２－アミノ－３－ピコリン、２－アミノ－４－ピコリン、３－アミノ－４－ピコリン、５－アミノ－２－ピコリン、６－アミノ－２－ピコリン、６－アミノ－３－ピコリン等のアミノピコリン類、フェニルグアニジン、アセチルグアニジン、ヒドラジド等のヒドラジド類等、トリメチルアミン、トリエチルアミン、べンジルジメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－エチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｍ－トルイジン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－トルイジン、２，６，１０－トリメチル－２，６，１０－トリアザウンデカン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルピペラジン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１－アザビシクロ［２．２．２］オクタン－３－オン、１、８－ジアザビシクロ（５，４，０）－ウンデセン－７、ヘキサメチレンテトラミン等の３級アミン類、１－メチルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、１－ビニルイミダゾール、１－アリルイミダゾール、２－メチル－１－ビニルイミダゾール、Ｎ－アセチルイミダゾール等のイミダゾール類、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の芳香族３級アミン類、２－ジメチルアミノピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、２－（Ｎ－メチル－２－ピリジルアミノ）エタノール等の３級アミノ基を有するアミノピリジン類等、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリアミノプロパン、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジアミン、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジアミン、２－ヒドロキシエチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン２－ヒドロキシエチルエチレンジアミン、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）プロピレンジアミン、（２－ヒドロキシエチルプロピレン）ジアミン、（ジ－２－ヒドロキシエチルエチレン）ジアミン、（ジ－２－ヒドロキシエチルプロピレン）ジアミン、（２－ヒドロキシプロピルエチレン）ジアミン、（ジ－２－ヒドロキシプロピルエチレン）ジアミン、ピペラジン等の脂肪族ポリアミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン－４，４’－ジアミン等の脂環式ポリアミン、フェニレンジアミン、キシリレンジアミン、２，４－トリレンジアミン、２，６－トリレンジアミン、ジエチルトルエンジアミン，３，３’－ジクロロ－４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ビス－（ｓｅｃ－ブチル）ジフェニルメタン等の芳香族ジアミン、スルファニル酸、システイン酸等が挙げられる。

（メタ）アクロイル基を有する化合物としては、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルアクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルメタアクリレート、トリプロピレングリコールメチルアクリレート、トリプロピレングリコールメチルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、トリメチロールプロパンモノホルマルアクリレート、グリセロールモノホルマルアクリレート等が挙げられる。

エポキシ基を有する化合物としては、グリシジルビニルエーテル、グリシジルカルボン酸ビニルエステル、グリシジルアリルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテルなどのモノグリシジルエーテル類、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどのジグリシジルエーテル類、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどのトリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルなどのテトラグリシジルエーテル類、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ジヒドロキシアルカンポリグリシジルエーテル、ポリヒドロキシアルカンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテルなどを挙げることができる。

チオール基を有する化合物としては、（メタ）アクリル酸エステル［ヒドロキシエチルアクリレートのエチレンスフィド１モル付加物、トリエチレングリコールジメルカプタンとアクリル酸とのエステル化物及びアクリル酸へのエチレンスルフィド２モル付加物等］等、１，１，３，３－テトラデカンチオール、１，１，３，３－テトラメチルブタン－１－チオール、１，１０－デカンジチオール、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，４－ブタンジチオール、１，６－ヘキサンジチオール、１，９－ノナンジチオール、１－オクタンチオール、１－デカンチオール、１－ドデカンチオール、１－ブタンチオール、１－ブタンチオール銅（ＩＩ）塩、１－プロパンチオール、１－ヘキサデカンチオール、１－ヘキサンチオール、１－ヘプタンチオール、１－ペンタンチオール、２－ジエチルアミノエタンチオール塩酸塩、２－ブタンチオール、２－プロパンチオール、２－プロペン－１－チオール、２－メチル－１－プロパンチオール、２－メチル－２－プロパンチオール、２－メチル－２－プロペン－１－チオール、ｎ－ノナンチオール、ｔ－テトラデカンチオール、ｔ－ドデカンチオール、ｔ－ノナンチオール、ｔ－ヘキサデカンチオール、エタンチオール、グルタチオン、還元型グルタチオン、システアミン塩酸塩、システアミン硫酸塩、システイン（Ｌ－システイン、Ｄ－システインとこれらの混合物）、システイン誘導体（例えば、Ｎ－アセチル－Ｌ－システイン）、システイン酸、システイン酸エチルエステル塩酸塩、ジチオエリトリトール、チオアセチル酸、チオグリコール酸、チオグリコール酸塩（例えば、チオグリコール酸ナトリウム）、チオリンゴ酸、フェノチオール、メチルメルカプタン、メルカプトアセチル酸、メルカプトエタノールなどの脂肪族化合物、１，２－ベンゼンジチオール、１，３－ベンゼンジチオール、１，４－ベンゼン－ジメタンチオール、２，５－ジクロロベンゼンチオール、２－アミノチオフェノール、２－ナフタレンチオール、２－ブロモチオフェノール、２－メトキシベンゼンチオール、３，４－ジクロロベンゼンチオール、３－フェニル－１－プロパンチオール、３－メトキシベンゼンチオール、４－メトキシ－α－トルエンチオール、４－メトキシベンゼンチオール、ｏ－メルカプト安息香酸、ｐ－クロロフェニルメタンチオール、ｐ－シクロヘキシルメタンチオール、ｐ－メトキシベンジル－Ｓ－（４，６－ジメチルピリジン－２－ニル）チオールカーバネート、シクロヘキシルメタンチオール、シクロヘキシルメルカプタン、トリフェニルメタンチオール、トルエン－α－チオールなどの脂環式化合物または芳香族化合物、および１－メチル－１，２，３，４－テトラゾール－５－チオール、２，５－ジメルカプト－１，３，４－チアジアゾール、２－アミノ－５－メルカプト－１，３，４－チジアゾール、２－アミノ－５－メルカプトピラゾロ［３，４－ｄ］ピリミジン、２－フランメタンチオール、２－メチル－１，３，４－チアゾール－５－チオール、２－メルカプトチアゾリン、２－メルカプトピリジン、２－メルカプトピリミジン、２－メルカプトベンゾキシアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール－５－チオール、３－メルカプトベンズイミダゾール、６－メルカプトブリンモノ水和物、テトラチアフルバレンなどの複素環式化合物などを挙げることができる。

カルボキシル基を有する化合物としては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、シトラコン酸、ウンデシレン酸、クロトン酸、イタコン酸、ギ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グリコール酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、乳酸、グリセリン酸、タルトロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アジピン酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、１，３－アセトンジカルボン酸、１，３－アダマンタン二酢酸、１，３－アダマンタンジカルボン酸、フェニルマロン酸、テトラブロモテレフタル酸、アゼライン酸、ベンジルマロン酸、ビフェニル－４，４’－ジカルボン酸、テトラフルオロイソフタル酸、２，２’－ビピリジン－４，４’－ジカルボン酸、２－ブロモテレフタル酸、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸、５－ｔｅｒｔ－ブチルイソフタル酸、ブチルマロン酸、クロロコハク酸、４，４’－スルホニル二安息香酸、テトラフルオロテレフタル酸、３－チオフェンマロン酸、１，１－シクロヘキサン二酢酸、ｔｒａｎｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸、１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、１，２，３－トリアゾール－４，５－ジカルボン酸、ビス（カルボキシメチル）トリチオカルボネート、１，３，５－シクロヘキサントリカルボン酸、１，４，８，１１－テトラアザシクロテトラデカン－１，４，８，１１－テトラ酢酸、ｃｉｓ，ｃｉｓ－１，３，５－トリメチルシクロヘキサン－１，３，５－トリカルボン酸、シクロヘキシルコハク酸、ｔｒａｎｓ－１，２－シクロペンタンジカルボン酸、ジブロモマレイン酸、メサコン酸、ｍｅｓｏ－２，３－ジブロモコハク酸、４，５－ジクロロフタル酸、ジエチルマロン酸、２－メトキシイソフタル酸、２－メトキシイソフタル酸、６－メチルピリジン－２，３－ジカルボン酸、３，４－ジヒドロキシヒドロケイ皮酸、２，５－ジヒドロキシテレフタル酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、４，４’－オキシビス（安息香酸）、ジフェン酸、ドコサン二酸、ペルフルオログルタル酸、エチルマロン酸、３－フルオロフタル酸、３－フルオロフタル酸、５－ノルボルネンカルボン酸、ｔｒａｎｓ－グルタコン酸、ヘキサデカン二酸、５－（オクタデシルオキシ）イソフタル酸、３－フェニルグルタル酸、２，２’－イミノ二安息香酸、ウンデカン二酸、１，４－フェニレンジプロピオン酸などを挙げることができる。

スルホン酸基を有する化合物としては、パラフィン（例えば炭素数８～２２）スルホン酸、アルキル（例えば炭素数８～１２）ベンゼンスルホン酸、アルキル（例えば炭素数８～１２）ベンゼンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレゾールスルホン酸のホルマリン縮合物、α－オレフィン（例えば炭素数８～１６）スルホン酸、ジアルキル（例えば炭素数８～１２）スルホコハク酸、リグニンスルホン酸、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（例えば炭素数８～１２）フェニルエーテルスルホン酸、ポリオキシエチレンアルキル（例えば炭素数８～１８）エーテルスルホコハク酸ハーフエステル、ナフタレンスルホン酸、（モノまたはジ）アルキル（例えば炭素数１～６）ナフタレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、（モノまたはジ）アルキル（例えば炭素数１～６）ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレオソート油スルホン酸のホルマリン縮合物、アルキル（例えば炭素数８～１２）ジフェニルエーテルジスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸とメタアクリル酸の共重合物、フェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、キシレノールスルホン酸、スルファニル酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、スチロールスルホン酸、アクリル酸－３－スルホン酸プロピルエステル、システイン酸等を挙げることができる。

酸無水物変性基を有する化合物としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ－ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ－ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ－ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル等を挙げることができる。

シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、α－クロロアクリロニトリル、α－フルオロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等を挙げることができる。

第４級アンモニウム塩含有ポリマーとしては、大成ファインケミカル株式会社製、アクリット（登録商標）８WXシリーズ、１WXシリーズなど挙げることができる。

スクリーン紗１表面の極性比率は、合成繊維（経糸１ａ及び緯糸１ｂ）に極性基を有する化合物を含有させる以外に、スクリーン紗１に対して、α線や、β線や、γ線や、電子線を所定の条件で照射する方法（放射線照射法）や、紫外線を所定の条件で照射する方法（紫外線（ＵＶ）法）や、コロナを所定の条件で照射する方法（コロナ放電法）や、グロー放電により発生するプラズマを所定の条件で照射する方法（プラズマ法）により、上述した所定の範囲内（１５％以上７０％以下）にすることができる。なお、これらの方法は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いることもできる。

スクリーン紗１の製造方法は、特に限定されない。例えば、表面の極性比率が１５％以上７０％以下の範囲内にある合成繊維を、経糸１ａ及び緯糸１ｂとして所定の織組成に製織する方法や、表面の極性比率が１５％以上７０％以下の範囲外にある合成繊維を、経糸１ａ及び緯糸１ｂとして所定の織組成に製織し、得られた織物に対し、極性基を有する化合物を付与（例えば、付着）したり、α線や、β線や、γ線や、電子線や、紫外線や、コロナや、プラズマを所定の条件で照射したりして、スクリーン紗１表面の極性比率を１５％以上７０％以下とする方法などにより製造することができる。

次に、スクリーン紗１を用いて、スクリーン版１００を製造する方法について、図３～図８を用いて説明する。図３は、スクリーン版１００を製造する際の各処理の手順を示すフローチャートであり、図４～図８は、スクリーン版１００を製造する際の各処理を説明する図である。

ステップＳ１００の処理では、図４に示すように、所定の張力が加えられた状態でスクリーン紗１を版枠２に張る。版枠２は、矩形状のフレームであり、例えば、金属、鋳物、樹脂、木材により構成することができる。

版枠２にスクリーン紗１を張るには、紗張機を使用することができる。具体的には、スクリーン紗１の４辺方向における部位を、それぞれ紗張機のクランプにて挟持し、このクランプを機械式や空気の圧力を利用して引っ張り、所定の張力、所定のバイアス角度に調節し、所定の張力が加わった状態でスクリーン紗１を版枠２に固定する。その後、版枠２の外周に沿ってスクリーン紗１を切断する。スクリーン紗１に加える所定の張力としては、例えば、２１Ｎ／ｃｍ～３６Ｎ／ｃｍの範囲とすることができる。なお、バイアス角度とは、経糸１ａ又は緯糸１ｂと版枠２とがなす角度のうち、鋭角側の角度をいう。

スクリーン紗１を版枠２に固定する手段としては、接着剤を用いることができる。接着剤としては、ゴム系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系の接着剤を挙げることができるが、本実施形態では特に制限は無く、スクリーン紗１の材料と版枠２の材料、使用するインク１２に含有される溶剤などを考慮して選定すればよい。なお、インク１２としては、着色や発色を目的とした塗料に限られず、電極や誘電体などの電子部品の形成を目的とした電子部品の原料を用いることができ、例えば、液状やペースト状とすることができる。

スクリーン紗１に加えられる所定の張力は、遮蔽膜２０により形成される開口２０ａに充填されてスクリーン紗１の一部の領域により保持されたインク１２を、被印刷物に転移する際に、被印刷物に接触しているスクリーン紗１が被印刷物から離れる、いわゆる版離れに重要な因子である。所定の張力が小さいと、版離れが適切に行われず、インク１２の転移が不均一となり印刷塗膜の膜厚がばらつく等、印刷精度が低下しやすい。版離れが適切に行われる所定の張力としては、スクリーン紗１の単位幅当たり２１Ｎ／ｃｍ以上が必要とされるため、スクリーン紗１を版枠２に張る工程や印刷の各工程において、糸切れやスクリーン紗１の破断が生じないよう、スクリーン紗１の破断強度としては、４０Ｎ／ｃｍ以上であることが好ましい。なお、破断強度は、ＪＩＳ Ｌ１０９６に準じて測定することができる。

ステップＳ１０１の処理では、図５に示すように、版枠２に張られたスクリーン紗１の表面に樹脂膜１０を形成する。樹脂膜１０は、後述するステップＳ１０２～Ｓ１０４の工程を経て、遮蔽膜２０を構成する。樹脂膜１０の上面１０ｄは、スクリーン紗１の上面１ｄよりもＺ軸方向上方に設けることができ、樹脂膜１０の下面１０ｅは、スクリーン紗１の下面１ｅよりもＺ軸方向下方に設けることができる。なお、スクリーン紗１の下面１ｅに設けられる樹脂膜１０とスクリーン紗１の上面１ｄに設けられる樹脂膜１０は、スクリーン紗１の開口部１ｃを通じて繋がっていてもよい。スクリーン紗１の上面１ｄは、スクリーン紗１の表面のうち、遮蔽膜２０により形成される開口２０ａに充填されてスクリーン紗１の一部の領域により保持されたインク１２を被印刷物に転移するときに用いられるヘラ（例えば、スキージー）が接触する面であり、スクリーン紗１の下面１ｄは、スクリーン紗１の表面のうち、遮蔽膜２０により形成される開口２０ａに充填されてスクリーン紗１の一部の領域により保持されたインク１２を被印刷物に転移するときに被印刷物が接触する面である。

樹脂膜１０としては、例えば、光の照射によって硬化する感光性樹脂（フォトレジスト）を用いることができる。感光性樹脂としては、ジアゾ系、ラジカル系、スチルバソ系などを使用することができ、使用できる感光性樹脂は、硬化機構によって限定されない。また、感光性樹脂は、樹脂膜１０を形成することができればよく、樹脂膜１０の形成前の形態についても限定されない。例えば、液体や固体（フィルム）の形態で用いることができる。液体の感光性樹脂を用いる場合、例えば、溶媒を含む液体の感光性樹脂をスクリーン紗１の上面１ｄ及び下面１ｅに塗布し、これを乾燥して溶媒を蒸発・除去する方法により、樹脂膜１０を形成することができる。樹脂膜１０のＺ軸方向における厚さは、塗布及び乾燥を繰り返すことにより調整することができる。

樹脂膜１０の厚さは、薄膜の印刷塗膜を形成しやすくする観点では、薄い方が好ましいが、遮蔽膜２０を安定して形成できることや、遮蔽膜２０の耐久性を維持できることや、遮蔽膜２０により形成される開口２０ａに充填されたインク１２の広がりを制御するシール性を維持できることなどを考慮して決定することができる。厚さが薄い樹脂膜１０は、強度が低いため、開口２０ａを形成するときに水やエアーの吹き付けによって樹脂膜１０を除去する場合、マスク１１によって覆われていない樹脂膜１０の領域も除去される可能性が有る。また、印刷した所定の印刷パターンの滲みを抑えるためには、遮蔽膜２０の厚さは、厚い方が好ましい。このような観点から、樹脂膜１０の厚さは、１μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、２μｍ以上７μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上５μｍ以下がさらに好ましい。なお、遮蔽膜２０の厚さは、樹脂膜１０と同様に、前述した厚さとすることができる。ここで、樹脂膜１０（遮蔽膜２０）の厚さとは、スクリーン紗１の厚さｔに加算される分の厚さであり、樹脂膜１０（遮蔽膜２０）を含むスクリーン紗１の厚さからスクリーン紗１のみの厚さｔを減じた値（本実施形態では、上面１ｄと下面１ｅに形成された樹脂膜１０（遮蔽膜２０）の厚さの合計）をいう。また、スクリーン紗１の上面１ｄに形成される樹脂膜１０（遮蔽膜２０）の厚さは、例えば０～２μｍとすることができる。

なお、スクリーン紗１において、樹脂膜１０の上面１０ｄは、スクリーン紗１の上面１ｄよりもＺ軸方向上方に設けられ、樹脂膜１０の下面１０ｅは、スクリーン紗１の下面１ｅよりもＺ軸方向下方に設けられているが、樹脂膜１０の上面１０ｄについては、スクリーン紗１の上面１ｄよりも上方に設けられていなくてもよい。遮蔽膜２０との密着性の向上、遮蔽膜２０の耐久性の向上の観点からは、樹脂膜１０は、図５に示すように、上面１０ｄが上面１ｄよりも上方に設けられ、下面１０ｅが下面１ｅよりも下方に設けられていることが好ましい。

上述した感光性樹脂としては、ジアゾ樹脂を架橋剤とするタイプや、スチリルピリジニウム（ＳＢＱ）を付加したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いるタイプや、アクリロイル基やアクリルアミド基の重合架橋反応を利用するタイプの感光性樹脂を用いることができる。これらの感光性樹脂は、単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。

ステップＳ１０２の処理では、図６に示すように、所定の印刷パターンに対応する形状のマスク１１を、樹脂膜１０の上面１０ｄに貼り付ける。マスク１１としては、フィルムやガラスを用いることができる。

ステップＳ１０３の処理では、図７に示すように、スクリーン紗１の上方から、マスク１１が貼り付けられた樹脂膜１０に対して紫外線を照射して照射部分を硬化させる。なお、紫外線は、可視光であってもよい。

ステップＳ１０４の処理では、紫外線が照射された樹脂膜１０を現像し、図８に示すように、マスク１１とマスク１１で覆われた樹脂膜１０の領域とを除去する。マスク１１で覆われた樹脂膜１０の領域が除去されることで、所定の印刷パターンに対応する形状の開口２０ａが形成される。また、残存する樹脂膜１０により遮蔽膜２０が構成される。遮蔽膜２０は、スクリーン印刷を行う際、被印刷物における印刷パターンを形成する領域以外の領域を覆う。

これらのステップＳ１００～Ｓ１０４の処理により、図８や図９に示すように、スクリーン版１００を製造することができる。スクリーン印刷は、開口２０ａにインク１２を充填し、スクリーン紗１の一部の領域により保持されたインク１２を被印刷物に転移することにより行うことができる。図８及び図９では、遮蔽膜２０に形成される５つの開口２０ａのうち１つの開口２０ａにおいて、インク１２が充填された状態を示している。

なお、上述したステップＳ１０２～ステップＳ１０４の処理では、マスク１１で覆われた樹脂膜１０の領域を除去して開口２０ａを形成しているが、樹脂膜１０の種類や現像液の種類を変更することにより、マスク１１で覆われた樹脂膜１０の領域を残し、マスク１１で覆われていない樹脂膜１０の領域を除去して開口２０ａを形成することもできる。

また、上述したステップＳ１０２の処理では、樹脂膜１０の上面１０ｄにマスク１１を貼り付けているが樹脂膜１０の下面１０ｅにマスク１１を貼り付けてもよい。樹脂膜１０の下面１０ｅにマスク１１が貼り付けられる場合、ステップＳ１０３の処理では、スクリーン紗１の下方から、マスク１１が貼り付けられた樹脂膜１０に対して紫外線を照射することができる。

ここで、スクリーン紗１に形成される遮蔽膜２０の表面は、極性比率が１０％以上、５０％以下である。遮蔽膜２０の表面の極性比率が１０％以上、５０％以下であると、スクリーン紗１と遮蔽膜２０との密着性が向上する。一方、遮蔽膜２０の表面の極性比率が１０％未満である場合や５０％を超える場合、スクリーン紗１との密着性を向上することができない。また、遮蔽膜２０の表面の極性比率が６０％超であると、遮蔽膜２０の物性等が変化し易くなり、例えば、インク１２に遮蔽膜２０に含有される成分が溶出しやすくなる。

遮蔽膜２０の表面の極性比率は、遮蔽膜２０を構成する材料の種類を調整したり、遮蔽膜２０を構成する材料の含有割合を調整したりすることなどにより、上記範囲内（１０％以上５０％以下）にすることができる。また、例えば、遮蔽膜２０に対して、α線や、β線や、γ線や、電子線や、紫外線や、コロナや、プラズマを所定の条件で照射することにより上記範囲内とすることができる。

以上説明したように、本実施形態のスクリーン版１００では、表面の極性比率が所定の範囲（１５％以上、７０％以下）内にあるスクリーン紗１に、表面の極性比率が所定の範囲（１０％以上、５０％以下）内にある遮蔽膜２０が形成されているため、スクリーン紗１と遮蔽膜２０との密着性が向上している。スクリーン紗１と遮蔽膜２０との密着性をさらに向上する観点からは、スクリーン紗１表面の極性比率が遮蔽膜２０表面の極性比率よりも大きいこと、つまり、遮蔽膜２０表面の極性比率に対するスクリーン紗１表面の極性比率の割合（スクリーン紗１表面の極性比率／遮蔽膜２０表面の極性比率）が１を超えていることが好ましい。遮蔽膜２０表面の極性比率に対するスクリーン紗１表面の極性比率の割合の上限は、特に限定されないが、例えば、６以下とすることができる。

次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

（実施例１）
合成繊維モノフィラメントとして、ポリアリレート（液晶ポリエステル）からなる芯部分と、熱可塑性ポリマーを海部分の成分とし、ポリアリレート（液晶ポリエステル）を島部分の成分として構成された鞘部分と、からなる、直径２３μｍの芯鞘型複合繊維（株式会社クラレ製・製品名Ｖｅｃｒｙ）を用意した。この合成繊維を経糸１ａ及び緯糸１ｂとして、経糸１ａ、緯糸１ｂとも３３０メッシュの密度で平織りに製織し、スクリーン紗１を得た。

作製したスクリーン紗１を、放電端子の出力を３ｋＷに設定したコロナ放電処理装置に、１２ｍ／分の速度で送り、連続的にコロナ放電処理を施した。その後スクリーン紗１の４辺方向における部位を紗張機のクランプにて挟持し、３２０ｍｍ×３２０ｍｍのアルミ製の版枠２に張った。ここで、スクリーン紗１の中央部での張力は、テンションゲージSTG-75B（サン技研社製）を用いた測定で１．０ｍｍ（２８Ｎ／ｃｍ）であった。縦糸１ａと緯糸１ｂのバイアス角度は、ともに２２．５度であった。

版枠２に張られたスクリーン紗１に、ジアゾ系感光性樹脂（王子タック株式会社製、製品名：ＡＸ－８１）をバケットを用いて塗布し、塗布された感光性樹脂を乾燥させた。感光性樹脂の塗布及び乾燥を繰り返し、約１０μｍの厚さの樹脂膜１０を形成した。その後、樹脂膜１０の上面１０ｄにマスク１１を貼り付けて露光及び現像することによって開口２０ａを形成し、０．３ｍｍ×０．３ｍｍ（Ｘ－Ｙ平面内の寸法）の遮蔽膜２０を２００個形成した。得られたスクリーン版１００を実施例１のスクリーン版とした。

（実施例２）
実施例１で用いたスクリーン紗１に、ジアゾ系感光性樹脂の替わりにＳＢＱ系感光性樹脂（株式会社ムラカミ製、製品名：ＯｎｅＰｏｔ）を用いて遮蔽膜２０を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例２のスクリーン版１００を得た。

（実施例３）
合成繊維モノフィラメントとして、ナイロンからなる、直径３０μｍの繊維を用意した。この合成繊維を経糸１ａ及び緯糸１ｂとして、経糸１ａ、緯糸１ｂとも３０５メッシュの密度で平織りに製織し、スクリーン紗１を得た。得られたスクリーン紗１を、実施例１と同様にコロナ放電処理した。このスクリーン紗１を、実施例１で用いたスクリーン紗１に替えて版枠２に張ったこと以外は、実施例１と同様の方法で実施例３のスクリーン版１００を得た。

（実施例４）
実施例１で用いた合成繊維モノフィラメントを経糸１ａ及び緯糸１ｂとして用い、経糸１ａ、緯糸１ｂとも３８０メッシュの密度で平織りに製織し、スクリーン紗１を得た。得られたスクリーン紗１を、出力１Ｗで１分間プラズマ処理した。このスクリーン紗１を、実施例１で用いたスクリーン紗１に替えて版枠２に張ったこと以外は、実施例１と同様の方法で実施例４のスクリーン版１００を得た。

（比較例１）
実施例１で用いたスクリーン紗１にコロナ放電処理しない以外は、実施例１と同様の方法で、比較例１のスクリーン版１００を得た。

（比較例２）
実施例３で用いたスクリーン紗１にコロナ放電処理しない以外は、実施例３と同様の方法で、比較例２のスクリーン版１００を得た。

（比較例３）
実施例４で用いたスクリーン紗１に対して行ったプラズマ処理に替えて、出力０．２Ｗで１分間プラズマ処理した以外は、実施例４と同様の方法で、比較例３のスクリーン版１００を得た。

（比較例４）
実施例１で用いたスクリーン紗１に、ジアゾ系感光性樹脂の替わりにラジカル重合系感光性樹脂（株式会社栗田化学研究所製、製品名：ＷＲ２５０）を用いて遮蔽膜２０を形成した以外は、実施例１と同様の方法で比較例４のスクリーン版１００を得た。

（極性比率）
実施例および比較例の各スクリーン版１００について、スクリーン紗１表面と遮蔽膜２０表面それぞれに、水及びジヨードメタンをそれぞれ１μＬ滴下し、測定用液体（水及びジヨードメタン）のそれぞれの接触角を、接触角計（協和界面科学社製、自動極小接触角計 MCA-3）を用いて測定した。測定した接触角を、下記（５）式にそれぞれ当てはめて、スクリーン紗１表面と遮蔽膜２０表面それぞれについて、極性成分に由来する表面自由エネルギーγｓ^p及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγｓ^dを算出した。
（1＋cosθ）・γL／4＝（γs^d・γL^d）/（γs^d＋γL^d）＋（γs^p・γL^p）/（γs^p+γL^p）--------------- （５）
θ：試料表面の測定用液体の接触角
γL：測定用液体の表面張力
γL^d：測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γL^p：測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー
γs^d：試料表面の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γs^p：試料表面の極性成分に由来する表面自由エネルギー
算出したγs^dとγs^p、および上記（２）式と（３）式により、スクリーン紗１表面と遮蔽膜２０表面それぞれについて、極性比率を算出した。

（遮蔽膜剥離試験）
実施例及び比較例のスクリーン版１００について、遮蔽膜２０の表面にメンディングテープ（住友３M社製 810－3－24）を貼り、２００個の遮蔽膜２０とテープとを一定荷重で密着させた。その後、スクリーン版１００を固定し、テープをスクリーン紗１に対して垂直方向（Ｚ軸方向）に引っ張り、テープを遮蔽膜２０から剥がした。テープに付着した遮蔽膜２０の（剥離した遮蔽膜２０）の数を数え、スクリーン紗１と遮蔽膜２０との密着性を判断した。遮蔽膜２０とテープとを一定荷重で密着させる方法としては、ウシオライティング製露光機（ＦＬ－２Ｓ）を使用し、荷重４０ｍｍＨｇで、１分間真空密着する方法を用いた。

実施例と比較例のスクリーン版１００における、スクリーン紗１表面及び遮蔽膜２０表面の極性比率と、遮蔽膜剥離試験の結果を表１に示す。

表１に示すように、スクリーン紗１表面の極性比率が１５％以上、７０％以下の範囲内にあるとともに、遮蔽膜２０表面の極性比率が１０％以上、５０％以下の範囲内にある実施例１～４のスクリーン版１００は、遮蔽膜２０が一切剥離しなかった。一方、遮蔽膜２０表面の極性比率が１０％以上、５０％以下の範囲内にあるものの、スクリーン紗１表面の極性比率が１５％以上、７０％以下の範囲外にある比較例１～３のスクリーン版１００は、６６個以上も遮蔽膜２０が剥離していた。また、スクリーン紗１表面の極性比率が１５％以上、７０％以下の範囲内にあるものの、遮蔽膜２０表面の極性比率が１０％以上、５０％以下の範囲外にある比較例４のスクリーン版１００は、７８個も遮蔽膜２０が剥離していた。これらの結果から、本実施形態のスクリーン版１００は、スクリーン紗１と遮蔽膜２０との密着性が向上していることが理解できた。

Claims (3)

1. 版枠と、
   前記版枠に張られる、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と、
   前記スクリーン紗に形成される、所定の印刷パターンに対応する形状の開口を設けるための遮蔽膜と、を有し、
   前記スクリーン紗の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が１５％以上、７０％以下であり、
   前記遮蔽膜の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が１０％以上、５０％以下であり、
   前記スクリーン紗の表面は、前記遮蔽膜の表面よりも、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの前記比率が高く、
   前記遮蔽膜は、感光性樹脂のみを用いて形成された膜であることを特徴とするスクリーン版。
2. 前記合成繊維が少なくとも液晶ポリマーを含むことを特徴とする請求項１に記載のスクリーン版。
3. 前記合成繊維がモノフィラメントであることを特徴とする請求項１または２に記載のスクリーン版。

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