JP7089381B2 - 基板検査装置、基板処理装置および基板検査方法 - Google Patents
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Description
(9)第6の発明に係る基板検査方法は、少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得するステップと、実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成するステップと、生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行うステップとを含み、補正画像データを生成するステップは、実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得するステップと、補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得するステップと、第1および第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す実画像データの各画素と基板の各部分を表す補正画像データの各画素との位置関係を特定するステップと、実画像データの各画素の値および特定された関係に基づいて、補正画像データの各画素の値を設定するステップとを含み、位置関係を特定するステップは、第1の外周位置情報および第2の外周位置情報を用いた回帰分析により位置関係を特定することを含む。
(10)第7の発明に係る基板検査方法は、少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得するステップと、実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成するステップと、生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行うステップとを含み、補正画像データを生成するステップは、実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得するステップと、補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得するステップと、第1および第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す実画像データの各画素と基板の各部分を表す補正画像データの各画素との位置関係を特定するステップと、実画像データの各画素の値および特定された関係に基づいて、補正画像データの各画素の値を設定するステップとを含み、実画像データを取得するステップは、基板保持部により基板を保持することと、撮像部に含まれる第1の方向に延びるラインセンサにより基板を撮像することと、基板保持部により保持される基板が撮像部に対して相対的に第2の方向に移動するように基板保持部および撮像部の少なくとも一方を移動部により移動させることとを含み、実画像および補正画像の各々において、第1の方向は第3の方向に対応し、第2の方向は第4の方向に対応し、第1の外周位置情報は、第3の方向における各外周点の位置を第1の位置として表し、第4の方向における各外周点の位置を第2の位置として表し、第2の外周位置情報は、第3の方向における各外周点の位置を第3の位置として表し、第4の方向における各外周点の位置を第4の位置として表し、第2の外周位置情報により表される複数の外周点の第4の位置は、第1の外周位置情報により表される複数の外周点の第2の位置とそれぞれ同じに設定される。
図1は本発明の実施の形態に係る基板検査装置の外観斜視図であり、図2は図1の基板検査装置の内部の構成を示す模式的側面図である。図1に示すように、基板検査装置200は、筐体210、投光部220、反射部230、撮像部240、基板保持装置250、移動部260、ノッチ検出部270、制御装置400および表示部410を含む。
上記のように、図1の撮像部240は1または複数の集光レンズを含む。この場合、撮像部240により取得される実画像データには、レンズの収差よる歪(以下、収差歪と呼ぶ。)が生じる。図3は、収差歪について説明するための模式図である。図3(a)には、収差歪を含まない画像の例が示される。図3(b)には、収差歪を含む画像の例が示される。図3(a)の画像IM1および図3(b)の画像IM2は、同じ対象物Sの画像である。対象物Sは、複数の縦線L1および複数の横線L2を含む。実際の各縦線L1および各横線L2はそれぞれ直線である。
本実施の形態では、後述の補正画像データ生成処理によって実画像データから補正画像データが生成される。補正画像データは、基板Wの本来的な表面画像(以下、補正画像と呼ぶ。)を表す。本来的な表面画像とは、収差歪を含まない表面画像を意味する。
Xam(n)=X'(n)・|Ymin| (Y<0) ・・・(2)
式(1)および(2)において、X'(n)は、任意の仮想外周点のX'座標であり、Xam(n)は、当該任意の仮想外周点に対応する補正外周点のX座標である。
・・・(3)
補正用関係式(3)において、Xam(p)は、補正画像の任意の画素のX座標であり、Xpは、当該任意の画素に対応する実画像RIの画素のX座標である。本例において、補正画像を構成する画素の数および配置は、実画像RIを構成する画素の数および配置とそれぞれ等しい。また、補正画像には実画像RIと同様に変換座標系が設定される。
本実施の形態では、外観上の欠陥がないサンプル基板の表面画像を表す画像データ(以下、サンプル画像データと呼ぶ。)を用いて、検査対象の基板W(以下、検査基板Wと呼ぶ。)の欠陥の有無が判定される。例えば、予め高い精度で検査が行われ、その検査で欠陥がないと判定された基板がサンプル基板として用いられる。サンプル画像データは、基板検査装置200において取得されてもよく、他の装置において取得されてもよい。また、サンプル画像データとして、予め生成された設計データが用いられてもよい。
図12は、図1および図2の基板検査装置200を備える基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。図12に示すように、基板処理装置100は、露光装置500に隣接して設けられ、基板検査装置200を備えるとともに、制御装置110、搬送装置120、塗布処理部130、現像処理部140および熱処理部150を備える。
本実施の形態に係る基板検査装置200においては、実画像RIに表される複数の実外周点の座標が複数の実外周座標として取得され、補正画像AIに表されるべき複数の補正外周点の座標が複数の補正外周座標として取得される。取得された複数の実外周座標および複数の補正外周座標に基づいて、実画像データの各画素と補正画像データの各画素との位置関係が特定される。その位置関係に基づいて、補正画像データの各画素の値が設定される。これにより、収差歪が除去された補正画像データを生成することができる。このようにして生成された補正画像データを用いることにより、基板の検査を適切に行うことができる。また、検査対象の基板Wを撮像することによって得られる実画像データに基づいて補正画像データを生成することができるので、補正を行うための特別な基板等を別途用意する必要がなく、かつ補正用のパラメータ等を予め設定する必要もない。したがって、補正画像データの生成に要する時間およびコストが削減される。
上記実施の形態では、実外周点および補正外周点の数が8つに設定されるが、実外周点および補正外周点の数は、任意に変更可能である。実外周点および補正外周点の数を増やすことにより、実画像データの各画素と補正画像データの各画素との位置関係をより精度良く特定することができる。
[7]参考形態
(1)第1の参考形態に係る基板検査装置は、少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得する画像データ取得部と、実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成する補正画像データ生成部と、補正画像データ生成部により生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行う検査部とを備え、補正画像データ生成部は、実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得する第1の位置情報取得部と、補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得する第2の位置情報取得部と、第1の位置情報取得部により取得された第1の外周位置情報および第2の位置情報取得部により取得された第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す実画像データの各画素と基板の各部分を表す補正画像データの各画素との位置関係を特定する位置関係特定部と、実画像データの各画素の値および位置関係特定部により特定された関係に基づいて、補正画像データの各画素の値を設定する画素値設定部とを含む。
この基板検査装置においては、基板を撮像することにより基板の実画像を表す実画像データが取得される。実画像データには、基板の撮像に用いられるレンズの収差による歪(以下、収差歪と呼ぶ。)が含まれる場合がある。そこで、実画像データに基づいて、基板の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データが生成される。
この場合、実画像に表される複数の外周点の位置が第1の外周位置情報として取得され、補正画像に表されるべき複数の外周点の本来的な位置が第2の外周位置情報として取得される。実画像データに収差歪が含まれると、第1および第2の外周位置情報との間に差異が生じる。そこで、第1および第2の外周位置情報に基づいて実画像データの各画素と補正画像データの各画素との位置関係が特定され、その位置関係に基づいて、補正画像データの各画素の値が設定される。これにより、収差歪が除去された補正画像データを容易に生成することができる。このようにして生成された補正画像データを用いることにより、基板の検査を適切に行うことができる。また、検査対象の基板を撮像することによって得られる実画像データに基づいて補正画像データを生成することができるので、補正を行うための特別な基板等を別途用意する必要がなく、かつ補正用のパラメータ等を予め設定する必要もない。したがって、補正画像データの生成に要する時間およびコストが削減される。
(2)位置関係特定部は、第1の外周位置情報および第2の外周位置情報を用いた回帰分析により位置関係を特定してもよい。この場合、実画像データの各画素と補正画像データの各画素との位置関係を容易に特定することができる。
(3)第1の外周位置情報は、実画像における複数の外周点の位置をそれぞれ表す複数の第1の外周座標を含み、第2の外周位置情報は、補正画像における複数の外周点の位置をそれぞれ表す複数の第2の外周座標を含み、位置関係特定部は、複数の第1の外周座標および複数の第2の外周座標を用いた回帰分析により実画像データの各画素の座標と補正画像データの各画素の座標との関係を表す関係式を位置関係として特定してもよい。この場合、特定された関係式を用いて、補正画像データの画素に対応する実画像データの画素を容易に特定することができ、実画像データの画素の値に基づいて補正画像データの画素の値を設定することができる。
(4)第2の位置情報取得部は、仮想座標系において単位円上に設定された複数の外周点にそれぞれ対応する複数の仮想外周点の座標を複数の第3の外周座標として取得し、複数の第1の外周座標および複数の第3の外周座標に基づいて複数の第2の外周座標を取得してもよい。
この場合、単位円上に設定された仮想外周点の座標を用いることにより、複雑な計算または画像分析等を行うことなく、複数の第2の外周座標を取得することができる。
(5)画像データ取得部は、基板を保持する基板保持部と、第1の方向に延びるラインセンサにより基板を撮像する撮像部と、基板保持部により保持される基板が撮像部に対して相対的に第2の方向に移動するように基板保持部および撮像部の少なくとも一方を移動させる移動部とを含み、実画像および補正画像の各々において、第1の方向は第3の方向に対応し、第2の方向は第4の方向に対応し、第1の外周位置情報は、第3の方向における各外周点の位置を第1の位置として表し、第4の方向における各外周点の位置を第2の位置として表し、第2の外周位置情報は、第3の方向における各外周点の位置を第3の位置として表し、第4の方向における各外周点の位置を第4の位置として表し、第2の外周位置情報により表される複数の外周点の第4の位置は、第1の外周位置情報により表される複数の外周点の第2の位置とそれぞれ同じに設定されてもよい。
この場合、移動部により基板が第2の方向に移動されつつ撮像部により基板が連続的に撮像されることにより、実画像データが取得される。撮像部は第1の方向に延びるラインセンサによって基板を撮像するので、実画像においては、第1の方向に対応する第3の方向においてのみ収差歪が発生し、第2の方向に対応する第4の方向においては収差歪が発生しない。そこで、補正画像における各外周点の第4の位置が、第2の位置と同じに設定される。これにより、実画像における各外周点の第1の位置と、補正画像における各外周点の第3の位置とに基づいて、第3の方向における収差歪を適切に除去することができる。
(6)第2の位置情報取得部は、第1の外周位置情報により表される少なくとも1つの外周点の第2の位置に基づいて、基板の外周部の本来的な形状を特定し、特定された形状に基づいて補正画像における複数の外周点の第3の位置を特定してもよい。
この場合、実画像において第4の方向には収差歪が発生しないので、各外周点の第2の位置に基づいて基板の外周部の本来的な形状を適切に特定することができ、かつ特定された形状に基づいて各外周点の第3の位置を適切に特定することができる。
(7)第2の参考形態に係る基板処理装置は、基板上に処理膜を形成する膜形成部と、膜形成部による処理膜の形成後の基板の検査を行う上記の基板検査装置とを備える。
この基板処理装置においては、上記の基板検査装置により基板の検査が行われる。そのため、収差歪を含まない補正画像データを容易に生成することができ、その補正画像データに基づいて、基板の検査を適切に行うことができる。また、検査対象の基板を撮像することによって得られる実画像データに基づいて補正画像データを生成することができるので、補正を行うための特別な基板等を用意する必要がなく、かつ補正用のパラメータ等を予め設定する必要もない。したがって、補正画像データの生成に要する時間およびコストが削減される。
(8)第3の参考形態に係る基板検査方法は、少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得するステップと、実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成するステップと、生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行うステップとを含み、補正画像データを生成するステップは、実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得するステップと、補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得するステップと、第1および第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す実画像データの各画素と基板の各部分を表す補正画像データの各画素との位置関係を特定するステップと、実画像データの各画素の値および特定された関係に基づいて、補正画像データの各画素の値を設定するステップとを含む。
この基板検査方法によれば、基板を撮像することにより基板の実画像を表す実画像データが取得される。実画像に表される複数の外周点の位置が第1の外周位置情報として取得され、補正画像に表されるべき複数の外周点の本来的な位置が第2の外周位置情報として取得される。実画像データに収差歪が含まれると、第1および第2の外周位置情報との間に差異が生じる。そこで、第1および第2の外周位置情報に基づいて実画像データの各画素と補正画像データの各画素との位置関係が特定され、その位置関係に基づいて、補正画像データの各画素の値が設定される。これにより、収差歪が除去された補正画像データを容易に生成することができる。このようにして生成された補正画像データを用いることにより、基板の検査を適切に行うことができる。また、検査対象の基板を撮像することによって得られる実画像データに基づいて補正画像データを生成することができるので、補正を行うための特別な基板等を別途用意する必要がなく、かつ補正用のパラメータ等を予め設定する必要もない。したがって、補正画像データの生成に要する時間およびコストが削減される。
Claims (10)
- 少なくとも一部が円形のエッジを有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得する画像データ取得部と、
前記実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成する補正画像データ生成部と、
前記補正画像データ生成部により生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行う検査部とを備え、
前記補正画像データ生成部は、
前記実画像において表された基板のエッジ上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得する第1の位置情報取得部と、
前記補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得する第2の位置情報取得部と、
前記第1の位置情報取得部により取得された第1の外周位置情報および前記第2の位置情報取得部により取得された第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す前記実画像データの各画素と基板の各部分を表す前記補正画像データの各画素との位置関係を特定する位置関係特定部と、
前記実画像データの各画素の値および前記位置関係特定部により特定された位置関係に基づいて、前記補正画像データの各画素の値を設定する画素値設定部とを含む、基板検査装置。 - 少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得する画像データ取得部と、
前記実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成する補正画像データ生成部と、
前記補正画像データ生成部により生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行う検査部とを備え、
前記補正画像データ生成部は、
前記実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得する第1の位置情報取得部と、
前記補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得する第2の位置情報取得部と、
前記第1の位置情報取得部により取得された第1の外周位置情報および前記第2の位置情報取得部により取得された第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す前記実画像データの各画素と基板の各部分を表す前記補正画像データの各画素との位置関係を特定する位置関係特定部と、
前記実画像データの各画素の値および前記位置関係特定部により特定された位置関係に基づいて、前記補正画像データの各画素の値を設定する画素値設定部とを含み、
前記位置関係特定部は、前記第1の外周位置情報および前記第2の外周位置情報を用いた回帰分析により前記位置関係を特定する、基板検査装置。 - 前記第1の外周位置情報は、前記実画像における前記複数の外周点の位置をそれぞれ表す複数の第1の外周座標を含み、
前記第2の外周位置情報は、前記補正画像における前記複数の外周点の位置をそれぞれ表す複数の第2の外周座標を含み、
前記位置関係特定部は、前記複数の第1の外周座標および前記複数の第2の外周座標を用いた回帰分析により前記実画像データの各画素の座標と前記補正画像データの各画素の座標との関係を表す関係式を前記位置関係として特定する、請求項2記載の基板検査装置。 - 前記第2の位置情報取得部は、仮想座標系において単位円上に設定された前記複数の外周点にそれぞれ対応する複数の仮想外周点の座標を複数の第3の外周座標として取得し、前記複数の第1の外周座標および前記複数の第3の外周座標に基づいて前記複数の第2の外周座標を取得する、請求項3記載の基板検査装置。
- 少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得する画像データ取得部と、
前記実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成する補正画像データ生成部と、
前記補正画像データ生成部により生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行う検査部とを備え、
前記補正画像データ生成部は、
前記実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得する第1の位置情報取得部と、
前記補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得する第2の位置情報取得部と、
前記第1の位置情報取得部により取得された第1の外周位置情報および前記第2の位置情報取得部により取得された第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す前記実画像データの各画素と基板の各部分を表す前記補正画像データの各画素との位置関係を特定する位置関係特定部と、
前記実画像データの各画素の値および前記位置関係特定部により特定された位置関係に基づいて、前記補正画像データの各画素の値を設定する画素値設定部とを含み、
前記画像データ取得部は、
基板を保持する基板保持部と、
第1の方向に延びるラインセンサにより基板を撮像する撮像部と、
前記基板保持部により保持される基板が前記撮像部に対して相対的に第2の方向に移動するように前記基板保持部および前記撮像部の少なくとも一方を移動させる移動部とを含み、
前記実画像および前記補正画像の各々において、前記第1の方向は第3の方向に対応し、前記第2の方向は第4の方向に対応し、
前記第1の外周位置情報は、前記第3の方向における各外周点の位置を第1の位置として表し、前記第4の方向における各外周点の位置を第2の位置として表し、
前記第2の外周位置情報は、前記第3の方向における各外周点の位置を第3の位置として表し、前記第4の方向における各外周点の位置を第4の位置として表し、
前記第2の外周位置情報により表される前記複数の外周点の前記第4の位置は、前記第1の外周位置情報により表される前記複数の外周点の前記第2の位置とそれぞれ同じに設定される、基板検査装置。 - 前記第2の位置情報取得部は、前記第1の外周位置情報により表される少なくとも1つの外周点の第2の位置に基づいて、基板の外周部の本来的な形状を特定し、特定された形状に基づいて前記補正画像における前記複数の外周点の第3の位置を特定する、請求項4記載の基板検査装置。
- 基板上に処理膜を形成する膜形成部と、
前記膜形成部による処理膜の形成後の基板の検査を行う請求項1~5のいずれか一項に記載の基板検査装置とを備えた、基板処理装置。 - 少なくとも一部が円形のエッジを有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得するステップと、
前記実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成するステップと、
前記生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行うステップとを含み、
前記補正画像データを生成するステップは、
前記実画像において表された基板のエッジ上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得するステップと、
前記補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得するステップと、
前記第1および前記第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す前記実画像データの各画素と基板の各部分を表す前記補正画像データの各画素との位置関係を特定するステップと、
前記実画像データの各画素の値および前記特定された関係に基づいて、前記補正画像データの各画素の値を設定するステップとを含む、基板検査方法。 - 少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得するステップと、
前記実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成するステップと、
前記生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行うステップとを含み、
前記補正画像データを生成するステップは、
前記実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得するステップと、
前記補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得するステップと、
前記第1および前記第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す前記実画像データの各画素と基板の各部分を表す前記補正画像データの各画素との位置関係を特定するステップと、
前記実画像データの各画素の値および前記特定された関係に基づいて、前記補正画像データの各画素の値を設定するステップとを含み、
前記位置関係を特定するステップは、前記第1の外周位置情報および前記第2の外周位置情報を用いた回帰分析により前記位置関係を特定することを含む、基板検査方法。 - 少なくとも一部が円形の外周部を有する基板を撮像することにより基板の一面の実画像を表す実画像データを取得するステップと、
前記実画像データに基づいて基板の一面の本来的な画像を補正画像として表す補正画像データを生成するステップと、
前記生成された補正画像データに基づいて基板の検査を行うステップとを含み、
前記補正画像データを生成するステップは、
前記実画像において表された基板の外周部上の複数の外周点の位置を第1の外周位置情報として取得するステップと、
前記補正画像において表されるべき複数の外周点の本来的な位置を第2の外周位置情報として取得するステップと、
前記第1および前記第2の外周位置情報に基づいて、基板の各部分を表す前記実画像データの各画素と基板の各部分を表す前記補正画像データの各画素との位置関係を特定するステップと、
前記実画像データの各画素の値および前記特定された関係に基づいて、前記補正画像データの各画素の値を設定するステップとを含み、
前記実画像データを取得するステップは、
基板保持部により基板を保持することと、
撮像部に含まれる第1の方向に延びるラインセンサにより基板を撮像することと、
前記基板保持部により保持される基板が前記撮像部に対して相対的に第2の方向に移動するように前記基板保持部および前記撮像部の少なくとも一方を移動部により移動させることとを含み、
前記実画像および前記補正画像の各々において、前記第1の方向は第3の方向に対応し、前記第2の方向は第4の方向に対応し、
前記第1の外周位置情報は、前記第3の方向における各外周点の位置を第1の位置として表し、前記第4の方向における各外周点の位置を第2の位置として表し、
前記第2の外周位置情報は、前記第3の方向における各外周点の位置を第3の位置として表し、前記第4の方向における各外周点の位置を第4の位置として表し、
前記第2の外周位置情報により表される前記複数の外周点の前記第4の位置は、前記第1の外周位置情報により表される前記複数の外周点の前記第2の位置とそれぞれ同じに設定される、基板検査方法。
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