JP7075650B2 - Polishing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、研磨装置に関するものである。 The present invention relates to a polishing device.
従来から、例えば実用新案登録第３１７２７１０号に開示されるような研磨装置（以下、従来例）が提案されている。 Conventionally, for example, a polishing device (hereinafter referred to as a conventional example) as disclosed in Utility Model Registration No. 3172710 has been proposed.
この従来例は、回転することでワークを研磨する研磨ヘッドが設けられたヘッド部と、このヘッド部を先端に保持し、リンク機構により先端部が３次元空間内を自在に移動可能に形成されたヘッド保持部と、ワークを載置する上面に複数の穴が設けられたテーブル部と、このテーブル部の下面側から空気を吸い込む吸引装置を有する空気吸引部とを有するものである。 In this conventional example, a head portion provided with a polishing head that polishes a work by rotating and a head portion are held at the tip, and the tip portion is formed so as to be freely movable in a three-dimensional space by a link mechanism. It has a head holding portion, a table portion provided with a plurality of holes on the upper surface on which a work is placed, and an air suction portion having a suction device for sucking air from the lower surface side of the table portion.
この構成から、薄いワークでも吸引して簡易に固定することができ、また、上面からの研磨であるのでワークの姿勢が問われず、さらに、ワークの固定や交換をチャックによる固定に比較して効率よく行うことができるとされる。 With this configuration, even a thin work can be sucked and easily fixed, and since it is polished from the top surface, the posture of the work does not matter, and the work can be fixed or replaced more efficiently than fixing with a chuck. It is said that it can be done well.
本発明は、前述した研磨装置について更なる開発を進め、その結果、非常に実用的な研磨装置を開発した。 The present invention has further developed the above-mentioned polishing apparatus, and as a result, has developed a very practical polishing apparatus.
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。 The gist of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
ワークＷを固定するワーク固定台部50に該ワークＷを研磨する研磨本体部１が備えられ、この研磨本体部１には前記ワークＷに駆動回転しながら接触して該ワークＷを研磨する回転研磨部２が設けられ、この回転研磨部２にはワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐの飛散を防止するカバー部３が設けられ、このカバー部３には研磨粉塵導出用の導出開口部３ａが設けられ、この導出開口部３ａには吸引部４の吸引先端開口部４ａが連設され、前記カバー部３内の研磨粉塵Ｐを回収するように構成された研磨装置であって、前記研磨本体部１には前記回転研磨部２が複数設けられ、前記研磨本体部１を手動により回転可動若しくはスライド可動させて前記ワークＷに接触させる前記回転研磨部２を選択可能に設けられ、この研磨本体部１の前記可動により前記回転研磨部２を選択切り替えした場合、切り替えした前記カバー部３の導出開口部３ａと前記吸引部４の吸引先端開口部４ａが連設されるように構成されていることを特徴とする研磨装置に係るものである。
The
また、請求項１記載の研磨装置において、前記研磨本体部１を回転可動若しくはスライド可動させ、前記回転研磨部２を前記ワークＷに接触する位置に移動させて前記回転研磨部２を選択した場合、前記カバー部３の導出開口部３ａが前記吸引先端開口部４ａの対向する位置に移動して前記導出開口部３ａと前記吸引先端開口部４ａとが連設するように構成されていることを特徴とする研磨装置に係るものである。
Further, in the polishing apparatus according to claim 1, the polishing main body 1 is rotatably or slidably movable, and the
また、請求項１，２いずれか１項に記載の研磨装置において、前記ワーク固定台部50に固定した前記ワークＷに対して前記研磨本体部１を接近移動及び退避移動させる移動手段53を具備し、前記移動手段53により前記ワークＷに対して前記研磨本体部１を接近移動させて前記回転研磨部２で該ワークＷを研磨する際、前記ワーク固定台部50に近接若しくは当接した状態で前記回転研磨部２の周囲を被覆するように前記カバー部３は構成されていることを特徴とする研磨装置に係るものである。
Further, in the polishing apparatus according to any one of
また、請求項１～３いずれか１項に記載の研磨装置において、前記研磨本体部１は、この研磨本体部１の鉛直軸の両端部に前記回転研磨部２が設けられるとともに、更に、この研磨本体部１の前記鉛直軸に対して交差する方向に配される水平軸部５の軸線を中心に回転可動自在に設けられており、前記研磨本体部１が回転可動することで前記ワークＷに接触させる前記回転研磨部２を選択可能に設けられていることを特徴とする研磨装置に係るものである。
Further, in the polishing apparatus according to any one of claims 1 to 3, the polishing main body 1 is provided with the
また、請求項１～４いずれか１項に記載の研磨装置において、前記導出開口部３ａ及び前記吸引先端開口部４ａの少なくとも一方には開口縁部を囲繞する環状の可撓部材６が設けられ、前記導出開口部３ａと前記吸引先端開口部４ａが近接した際、一方の開口縁部に設けられた前記可撓部材６が他方の開口縁部に接触して両開口縁部同士間の間隙が閉塞されるように構成されていることを特徴とする研磨装置に係るものである。
Further, in the polishing apparatus according to any one of claims 1 to 4, an annular
また、請求項１～５いずれか１項に記載の研磨装置において、前記カバー部３は、前記回転研磨部２の周囲を被覆して前記ワーク固定台部50に近接若しくは当接する形状の先端開口部を有し、このカバー部３の先端開口部は前記回転研磨部２の基端方向に移動自在に設けられていることを特徴とする研磨装置に係るものである。
Further, in the polishing apparatus according to any one of claims 1 to 5, the
また、請求項１～６いずれか１項に記載の研磨装置において、一の前記回転研磨部２を前記ワークＷに接触する位置に移動させ他の前記回転研磨部２をその他の位置に移動させた際、この他の前記回転研磨部２が移動配設することで該回転研磨部２を覆う覆い部７を具備することを特徴とする研磨装置に係るものである。
Further, in the polishing apparatus according to any one of claims 1 to 6, the
本発明は上述のように構成したから、ワークを良好に研磨することができ、また、ワーク研磨時に生じる研磨粉塵の飛散を防止して良好な作業完了を提供することができ、しかも、この研磨粉塵の飛散防止構造が効率の良い簡易構造の為、コスト安にして量産性に秀れるなど、非常に実用的な研磨装置となる。 Since the present invention is configured as described above, the work can be satisfactorily polished, and the scattering of polishing dust generated during the polishing of the work can be prevented to provide a good work completion, and moreover, this polishing can be performed. Since the dust scattering prevention structure is an efficient and simple structure, it is a very practical polishing device, such as low cost and excellent mass productivity.
好適と考える本発明の実施形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。 An embodiment of the present invention (how to carry out the invention) which is considered to be suitable will be briefly described by showing the operation of the present invention based on the drawings.
ワークＷをワーク固定台部50に固定し、この固定されたワークＷに研磨本体部１に設けられた回転研磨部２を回転させながら接触させて研磨する。
The work W is fixed to the work
本発明は、研磨本体部１に回転研磨部２が複数設けられており、研磨本体部１を可動することでワークＷに接触させる回転研磨部２を選択使用することができる。
In the present invention, a plurality of
従って、例えば、各回転研磨部２を研磨条件の異なる構造とすれば、ワークＷに接触させる回転研磨部２を選択切り替えすることで種々の研磨が迅速且つ良好に行えることになる。
Therefore, for example, if each
ところで、本発明は、この各回転研磨部２にはワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐの飛散を防止するカバー部３が設けられ、このカバー部３には研磨粉塵導出用の導出開口部３ａが設けられ、この導出開口部３ａに吸引部４の吸引先端開口部４ａを連設し、カバー部３内の研磨粉塵Ｐを回収するように構成されている。
By the way, in the present invention, each of the
従って、ワーク研磨時において、カバー部３により研磨粉塵Ｐの飛散は防止され、更に、このカバー部３内の研磨粉塵Ｐは吸引部４で吸引されて回収されることになる為、良好な作業環境が得られることになる。
Therefore, at the time of polishing the work, the
また、本発明は、研磨本体部１の可動により回転研磨部２を選択切り替えした際に、カバー部３の導出開口部３ａと吸引部４の吸引先端開口部４ａが切り替え連設されるように構成されている。
Further, in the present invention, when the
つまり、複数設けられる回転研磨部２の数に応じて吸引部４を複数設けた構造ではなく、一つの吸引部４で複数の回転研磨部２に対応することができて極めて効率の良い簡易構造である為、コスト安にして量産性に秀れることになる。
That is, it is not a structure in which a plurality of
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。 Specific examples of the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施例は、ワークＷを固定するワーク固定台部50にこのワークＷを研磨する研磨本体部１が備えられ、ワーク固定台部50に固定したワークＷに対して研磨本体部１を接近移動及び退避移動させる移動手段53を具備し、この研磨本体部１にはワークＷに回転しながら接触して該ワークＷを研磨する回転研磨部２が設けられ、この回転研磨部２には、移動手段53によりワークＷに対して研磨本体部１を接近移動させて回転研磨部２で該ワークＷを研磨する際、ワーク固定台部50に近接若しくは当接した状態で回転研磨部２の周囲を被覆することで、ワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐの飛散を防止するカバー部３が設けられ、この導出開口部３ａに吸引部４の吸引先端開口部４ａを連設し、カバー部３内の研磨粉塵Ｐを回収するように構成された研磨装置である。
In this embodiment, the
以下、本実施例係る構成各部について詳細な説明をする。 Hereinafter, each component of the present embodiment will be described in detail.
ワーク固定台部50は、図１に図示したようにボックス形状の装置本体51の上面部に多数の通気孔52ａを有するワーク載置部52が設けられ、また、この装置本体51の内部にワーク載置部52付近の空気を通気孔52ａを介して吸引する吸引装置（図示省略）が設けられたものである。
As shown in FIG. 1, the work
従って、吸引装置を作動させてワーク載置部52付近の空気を通気孔52ａを介して吸引すると、ワーク載置部52に載置されたワークＷは吸引固定される。
Therefore, when the suction device is operated to suck the air near the
尚、ワーク固定台部50におけるワーク固定手段としては前述した吸引構造に限らず、チャック等の治具を使用した構造でも良いなど、本実施例の特性を発揮する構造であれば前述した構造に限られないのは勿論である。符号51ａは本実施例で具備する各種装置の作動を制御する制御部の操作部である。
The work fixing means in the
また、ワーク固定台部50には、研磨本体部１を保持して移動させる移動手段53が設けられている。
Further, the work fixing
この移動手段53は、図１に図示したようにワーク固定台部50の後方部に設けられる基部53ａに水平回動自在に枢着される第一アーム部53ｂと、この第一アーム部53ｂの先端部に水平回動自在にして上下回動自在に枢着される第二アーム部53ｃとから成るリンク機構を備えたアーム構造体であり、第二アーム部53ｃの先端部には、該第二アーム部53ｃの先端部を移動させる際に握持する把手部54が設けられている。
As shown in FIG. 1, the moving
従って、作業者は把手部54を持ち、手動にて研磨本体部１を移動手段53を介してワーク固定台部50の上を上下左右前後方向（３次元方向）にフレキシブルに移動させることができ、ワーク固定台部50に固定したワークＷに対して第二アーム部53ｃの先端部（研磨本体部１）を接近移動及び退避移動させることができる。尚、移動手段53は手動式でなく自動式（電動式）でも良いなど、本実施例の特性を発揮する構造であれば前述した構造に限られないのは勿論である。
Therefore, the operator can hold the
また、第二アーム部53ｃの先端部には、後述する研磨本体部１を保持する保持部55が設けられている。
Further, a holding
この保持部55は、図５，６に図示したように移動手段53（第二アーム部53ｃ）の先端部に上下方向に首振り可動自在に設けられた連結部材55ａに、研磨本体部１と交差連設される水平軸部５を設けて構成されている。
As shown in FIGS. It is configured by providing the
従って、この水平軸部５の軸線を中心に研磨本体部１は上下方向に回転可動させることができる。
Therefore, the polishing main body portion 1 can be rotated and moved in the vertical direction around the axis of the
また、本実施例は、研磨本体部１の回転可動をロックする回転ロック部10が設けられている。
Further, in this embodiment, a
この回転ロック部10は、図５，６，８，９に図示したように研磨本体部１に設けられた係止杆10ａと、この係止杆10ａが貫挿係止する連結部材55ａに設けられた係止孔10ｂとで構成され、後述する可動規制部８で研磨本体部１が１８０度の範囲で回動規制される際、係止杆10ａが係止孔10ｂに貫挿係止して研磨本体部１の回転可動はロックされるように構成されている。
As shown in FIGS. 5, 6, 8 and 9, the
また、係止杆10ａは図示省略の付勢部材の付勢に抗して引動し得るように構成されており、係止孔10ｂに貫挿係止した状態で係止杆10ａを引動すると、係止孔10ｂに対する貫挿係止が解除され、この引動した指を離すと復帰動して係止孔10ｂに貫挿係止する。この係止孔10ｂは、可動規制部８で回動規制された際に、係止杆10ａの対向する位置（本実施例では２箇所）に設けられている。
Further, the locking rod 10a is configured to be able to be pulled against the urging of an urging member (not shown), and when the locking rod 10a is pulled in a state of being inserted and locked in the
尚、更に係止孔10ｂを研磨本体部１を９０度回転可動させた状態（図８の状態）で係止杆10ａが貫挿係止する位置に設けても良い。
Further, the locking
また、本実施例では、水平軸部５における研磨本体部１に対する連設位置は、研磨本体部１の重心付近となるように設けられている。即ち、水平軸部５との連設位置から、後述する両端部の回転研磨部２，カバー部３及び導出開口部３ａは略等距離に設けられている。
Further, in this embodiment, the continuous position of the
従って、重心が両端部のうちいずれか一方の端部側に大きくずれていると、前述した回動ロック部10を解除した際、自重により勝手に回動してしまう場合があり危険であるが、前述した構成からこの問題は確実に解消されることになる。
Therefore, if the center of gravity is largely deviated to the end side of either end, it is dangerous because the
また、保持部55と研磨本体部１との間には、該研磨本体部１の可動を規制する可動規制部８が設けられている。
Further, a movable restricting portion 8 for restricting the movement of the polishing main body 1 is provided between the holding
この可動規制部８は、研磨本体部１が可動（回転可動）する範囲においてこの研磨本体部１に設けられた係止部８ａが突き当て係止する係合部８ｂを連結部材55ａに設けて構成されている。
The movable restricting portion 8 is provided with an engaging
また、この可動規制部８は、研磨本体部１の可動を１８０度の範囲で規制するように構成されており、よって、後述する研磨本体部１の両端部の回転研磨部２は１８０度の範囲で回転可動（上下反転）することになる（図５，８，９参照）。
Further, the movable restricting portion 8 is configured to restrict the movement of the polishing main body portion 1 within a range of 180 degrees, so that the
また、本実施例では、ワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐを回収する吸引部４が設けられている。
Further, in this embodiment, a
この吸引部４は、前述したワーク固定台部50の装置本体51内に設けられる吸引装置から延設される吸引管部４ｂと、この吸引管部４ｂの先端部に設けられる吸引先端開口部４ａとで構成されている。
The
この吸引先端開口部４ａは保持部55（連結部材55ａ）に設けられ、吸引管部４ｂの先端部に設けられた方形開口部であり、後述するカバー部３の導出開口部３ａが対向合致する位置で連設されるように構成されている。
The suction tip opening 4a is a square opening provided in the holding portion 55 (connecting
また、図３に図示したように吸引先端開口部４ａには開口縁部を囲繞する環状の可撓部材６（モヘア）が設けられている。尚、この可撓部材６はゴム製（ゴムパッキン）でも良い。
Further, as shown in FIG. 3, the suction tip opening 4a is provided with an annular flexible member 6 (mohair) surrounding the opening edge. The
この可撓部材６は、導出開口部３ａと吸引先端開口部４ａが近接した際、この吸引先端開口部４ａの開口縁部に設けられた可撓部材６が導出開口部３ａの開口縁部に接触して両開口縁部同士間の間隙が閉塞されるように構成されている。
In this
尚、この可撓部材６を設ける位置は導出開口部３ａの開口縁部のみに設けても良いし、導出開口部３ａ及び吸引先端開口部４ａ双方の開口縁部に設けても良い。また、この両開口縁部同士間の間隙を閉塞するとは完全密閉だけを指すものではない。また、本実施例のように可撓部材６を設けなくても良く、導出開口部３ａと吸引先端開口部４ａの両開口縁部同士間の隙間を可及的に減らした構造に設計する事でも良い。
The position where the
研磨本体部１は、ワーク固定台部50に固定されたワークＷに回転しながら接触して該ワークＷを研磨する回転研磨部２が複数設けられている。
The polishing main body 1 is provided with a plurality of
具体的には、研磨本体部１は、図１，２に図示したように両端部に回転駆動軸部９を備えた両軸タイプのモーターであり、この各回転駆動軸部９の先端部に円形板材の表面に研磨ブラシ（バリ取りブラシ）が多数植設された研磨部材２ａを設けることで回転研磨部２として構成されている。尚、この各回転研磨部２を構成する研磨部材２ａは回転駆動軸部９に対して着脱自在に設けられており、また、研磨部材２ａとして互いに研磨条件の異なる構造の研磨部材２ａが採用されている。
Specifically, the polishing main body 1 is a dual-axis type motor provided with
また、研磨本体部１は、前述した移動手段53の保持部55に設けられ、この研磨本体部１の鉛直軸と交差連設される水平軸部５の軸線を中心に回転可動自在（上下反転自在）に設けられており、この研磨本体部１が回転可動することで該研磨本体部１の両端部に設けられた回転研磨部２が交互に上下位置に配されることになる。
Further, the polishing main body 1 is provided in the holding
つまり、研磨本体部１の回転可動（上下反転）に伴いワークＷに接触させる回転研磨部２を選択使用可能となる。
That is, the
尚、本実施例では、回転研磨部を研磨本体部の中央部を中心とした放射方向に２つ設けられた構造であるが、放射方向に３つ以上設けても良く、また、研磨本体部の可動は回転可動に限らずスライド可動でも良く、この可動方向も上下方向に限らず水平方向でも良い。 In this embodiment, the structure is such that two rotary polishing portions are provided in the radial direction centered on the central portion of the polishing main body portion, but three or more rotary polishing portions may be provided in the radial direction, and the polishing main body portion may be provided. The movement of is not limited to rotation movement, but may be slide movement, and this movement direction is not limited to the vertical direction but may be horizontal.
また、回転研磨部２夫々には、ワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐの飛散を防止するカバー部３が設けられている。
Further, each of the
この各カバー部３は、図１～５，７～９に図示したように研磨本体部１の端部に取付けられる基体３’と、この基体３’に設けられる筒状体３”とで構成されている。
As shown in FIGS. 1 to 5, 7 to 9, each of the
また、この各カバー部３は、移動手段53によりワークＷに対して研磨本体部１を接近移動させて回転研磨部２で該ワークＷを研磨する際、ワーク固定台部50に近接した状態で回転研磨部２の周囲を被覆するように構成されている。
Further, each of the
筒状体３”は、適宜な透明樹脂製の部材で形成したものであり、基体３’に対してスライド自在に設けられている。
The
従って、カバー部３の先端開口部は回転研磨部２の先端基端方向（本実施例は上下方向）に移動自在となり、例えば研磨部材２ａが摩耗して短くなった場合などに応じてカバー部３（先端開口部）を回転研磨部２の基端方向に移動させることができる（図４参照）。
Therefore, the tip opening of the
また、各カバー部３には、研磨粉塵導出用の導出開口部３ａが設けられている。
Further, each
この導出開口部３ａは、基体３’に突設された方形開口部であり、回転研磨部２をワークＷに接触して研磨する状態に位置させた際、前述した吸引部４の吸引先端開口部４ａと対向合致する位置に設けられている。
The lead-out opening 3a is a square opening projecting from the substrate 3', and when the
つまり、研磨本体部１を回転可動させて回転研磨部２をワークＷに接触し得る位置に移動させて研磨回転部２を選択切り替えすると、吸引先端開口部４ａに導出開口部３ａが対向する位置に移動して切り替え連設するように構成されている。
That is, when the polishing main body 1 is rotatably moved to move the
また、本実施例では、一の回転研磨部２をワークＷに接触し得る位置に移動させて他の回転研磨部２をその他の位置に移動させた際、この他の回転研磨部２が移動配設されることで該回転研磨部２を覆う覆い部７を具備する。
Further, in this embodiment, when one
この覆い部７は、保持部55の上端部に設けられたケース状体であり、カバー部３の先端開口部を覆うことで回転研磨部２を覆うように構成されている。
The
従って、回転研磨部２を切り替える一連の動きの中でこの回転研磨部２が覆い部７で自動的に覆われ、この覆い部７により、回転研磨部２に対する接触を防止することができる。
Therefore, in a series of movements for switching the
本実施例は上述のように構成したから、ワークＷをワーク固定台部50に吸引固定し、この固定されたワークＷに研磨本体部１に設けられた回転研磨部２を回転させながら接触させて研磨する。
Since this embodiment is configured as described above, the work W is suction-fixed to the
本実施例は、研磨本体部１に回転研磨部２が複数設けられており、研磨本体部１を可動することでワークＷに接触させる回転研磨部２を選択使用することができる。
In this embodiment, a plurality of
従って、例えば、各回転研磨部２を研磨条件の異なる構造とすれば、ワークＷに接触させる回転研磨部２を選択切り替えすることで種々の研磨が迅速且つ良好に行えることになる。
Therefore, for example, if each
ところで、本実施例は、この各回転研磨部２にはワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐの飛散を防止するカバー部３が設けられ、このカバー部３には研磨粉塵導出用の導出開口部３ａが設けられ、この導出開口部３ａに吸引部４の吸引先端開口部４ａを連設し、カバー部３内の研磨粉塵Ｐを回収するように構成されている。
By the way, in this embodiment, each of the
従って、ワーク研磨時において、カバー部３により研磨粉塵Ｐの飛散は防止され、更に、このカバー部３内の研磨粉塵Ｐは吸引部４で吸引されて回収されることになる為、良好な作業環境が得られることになる。
Therefore, at the time of polishing the work, the
また、本実施例は、研磨本体部１の可動により回転研磨部２を選択切り替えした際に、カバー部３の導出開口部３ａと吸引部４の吸引先端開口部４ａが切り替え連設されるように構成されている。
Further, in this embodiment, when the
つまり、複数設けられる回転研磨部２の数に応じて吸引部４を複数設けた構造ではなく、一つの吸引部４で複数の回転研磨部２に対応することができて極めて効率の良い簡易構造である為、コスト安にして量産性に秀れることになる。
That is, it is not a structure in which a plurality of
また、本実施例は、研磨本体部１を回転可動若しくはスライド可動させて回転研磨部２をワークＷに接触し得る位置に移動させて研磨回転部２を選択切り替えすると、吸引先端開口部４ａに導出開口部３ａが対向する位置に移動して切り替え連設するように構成されているから、研磨本体部１を回転可動させる操作だけで研磨粉塵Ｐを吸引して回収する状態が得られることになる。
Further, in this embodiment, when the polishing main body 1 is rotatably or slidably moved to move the
また、本実施例は、ワーク固定台部50に固定したワークＷに対して研磨本体部１を接近移動及び退避移動させる移動手段53を具備し、回転研磨部２には、移動手段53によりワークＷに対して研磨本体部１を接近移動させて回転研磨部２で該ワークＷを研磨する際、ワーク固定台部50に近接若しくは当接した状態で回転研磨部２の周囲を被覆するようにカバー部３は構成されているから、作業者の思い通りの位置に研磨本体部１を移動させてワークＷを研磨することができ、しかも、この研磨の際、ワーク研磨時に生じる研磨粉塵Ｐを確実に回収することができる。
Further, in this embodiment, the moving means 53 for moving the polishing main body 1 to the work W fixed to the
また、本実施例は、研磨本体部１は、該研磨本体部１と交差連設される水平軸部５の軸線を中心に回転可動自在に設けられるとともに、この研磨本体部１の両端部に回転研磨部２が設けられており、研磨本体部１が回転可動することでワークＷに接触させる回転研磨部２を選択使用可能に設けられているから、研磨本体部１を反転させるだけでワークＷに対する良好な研磨が行えることになる。
Further, in this embodiment, the polishing main body 1 is provided so as to be rotatable around the axis of the
また、本実施例は、導出開口部３ａ及び吸引先端開口部４ａの少なくとも一方には開口縁部を囲繞する環状の可撓部材６が設けられ、導出開口部３ａと吸引先端開口部４ａが近接した際、一方の開口縁部に設けられた可撓部材６が他方の開口縁部に接触して両開口縁部同士間の間隙が閉塞されるように構成されているから、研磨粉塵Ｐを回収する際の漏れを可及的に防止することができる。
Further, in this embodiment, at least one of the lead-out opening 3a and the suction tip opening 4a is provided with an annular
また、本実施例は、カバー部３は、回転研磨部２の周囲を被覆してワーク固定台部50に近接若しくは当接させる先端開口部を有する形状であり、カバー部３は後退移動自在に設けられているから、回転研磨部２の状態に合わせてカバー部３の位置を任意に変更することができる。
Further, in this embodiment, the
また、本実施例は、一の回転研磨部２をワークＷに接触し得る位置に移動させて他の回転研磨部２をその他の位置に移動させた際、この他の回転研磨部２が移動配設されることで該回転研磨部２を覆う覆い部７を具備するから、研磨使用しない回転研磨部２に接触することを防止することができ安全となる。
Further, in this embodiment, when one
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。 The present invention is not limited to this embodiment, and the specific configuration of each constituent requirement can be appropriately designed.
Ｐ 研磨粉塵
Ｗ ワーク
１ 研磨本体部
２ 回転研磨部
３ カバー部
３ａ 導出開口部
４ 吸引部
４ａ 吸引先端開口部
５ 水平軸部
６ 可撓部材
７ 覆い部
50 ワーク固定台部
53 移動手段
P Polishing dust W work 1
3a lead-out opening
4 Suction part 4a
50 Work fixing base
53 means of transportation
Claims (7)
Priority Applications (1)
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2017
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