JP7068182B2 - 電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

Description

本発明は、電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。

樹脂フィルムやガラス板上に導電性物質を用いて形成された導電層を備える透明導電部材は、ディスプレイや照明パネル等に用いられる有機エレクトロルミネッセンス（ＯＥＬ：Organic Electro Luminescence）素子、太陽電池、電子ペーパー等の薄型の電子デバイスの透明電極として広く用いられている。

例えば、特許文献１には、ガラス板の少なくとも片面に光散乱機能を有する樹脂層を積層したフレキシブル基板が開示されている。

特開２０１６－３９１３５号公報

しかしながら、特許文献１に記載の樹脂層においては、具体的に開示された樹脂では、屈折率が低く、光散乱能も低い。また、樹脂層の表面の空隙や、アウトガスの発生等により、樹脂層の劣化や隣接層への悪影響が発生する。そのため、特許文献１に記載のフレキシブル基板を用いた電子デバイスは、長期保存性が低下するという問題がある。また、電子デバイスの高効率化、大面積化には高屈折率樹脂が必要だが、素材の性質上、高屈折率樹脂を用いた樹脂層を備える電子デバイスは、長期保存性に問題がある。また、従来のフレキシブル基板等を電子デバイスの外側に配置した場合、基板が擦れて損傷し易く、スクラッチ耐性が低いという問題がある。

本発明は、光学特性に優れると共に、長期保存性及びスクラッチ耐性に優れた電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを課題とする。

本発明の上記課題は、以下の手段により解決される。

１．樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有した電子デバイスにおいて、前記機能層に、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有し、前記Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）、（４）、（７）のいずれかの構造を有し、前記Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基であり、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ） _２ －Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（８）～（１２）のいずれかの構造である電子デバイス。
ただし、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、前記Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。

２．樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有した電子デバイスにおいて、前記機能層に、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有し、前記Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）～（７）のいずれかの構造を有し、前記Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基であり、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（８）～（１２）のいずれかの構造である電子デバイス。
ただし、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、前記Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。

３．樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有した電子デバイスにおいて、前記機能層に、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有し、前記Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）～（７）のいずれかの構造を有し、前記Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基であり、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（９）～（１２）のいずれかの構造である電子デバイス。
ただし、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、前記Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。

４．前記１から前記３のいずれか一項に記載の電子デバイスが有機エレクトロルミネッセンス素子である有機エレクトロルミネッセンス素子。

５．光学散乱層が、前記機能層に粒子及びバインダを含有する光学散乱層である前記４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

６．前記光学散乱層は、前記粒子としてアスペクト比が２以下の球状粒子を８０個数％以上含む前記５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

７．前記光学散乱層の厚さが、前記粒子の平均粒子径よりも厚く、前記光学散乱層において、厚さ方向の中心より前記樹脂基材側の領域の前記粒子の粒子存在体積比率が、厚さ方向の中心より、前記光学散乱層上に形成された透明導電膜側の領域の前記粒子の粒子存在体積比率よりも大きい前記５又は前記６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

８．前記光学散乱層における前記粒子の体積比率が、１体積％以上４０体積％以下である前記５から前記７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

９．前記粒子と前記バインダとの屈折率差が０．２０以上１．００以下である前記５から前記８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

１０．前記球状粒子の平均粒子径が、２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下である前記６、又は前記６を引用する前記７から前記９のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

１１．前記光学散乱層の厚さが２５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である前記５から前記１０のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

本発明によれば、光学特性に優れると共に、長期保存性及びスクラッチ耐性に優れた電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。

透明導電部材の概略断面図である。 有機ＥＬ素子の概略断面図である。 有機薄膜太陽電池の概略図である。 拡散フィルムを使用していない発光ダイオード及び、本願規定の樹脂成分を含有する拡散フィルムを使用した発光ダイオードの概略上面図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

《電子デバイス》
電子デバイスは、樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有するものである。以下、電子デバイスの一例として、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）について説明する。

有機ＥＬ素子は、樹脂基材と、機能層と、透明導電膜とを備える透明導電部材を少なくとも有する。
まず、透明導電部材について説明した後、有機ＥＬ素子について説明する。

〈透明導電部材〉
図１に示すように、透明導電部材１０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１上に形成された光学散乱層１２と、光学散乱層１２上に形成された透明導電膜１５とを備える。
以下、各構成について説明する。

＜樹脂基材＞
樹脂基材１１は、高い光透過性を有していれば、特に制限はない。例えば樹脂基板、樹脂フィルム等が好適に挙げられるが、生産性の観点や軽量性と柔軟性といった性能の観点から透明樹脂フィルムを用いることが好ましい。

樹脂基材１１として使用できる樹脂としては特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂、ポリスチレン樹脂、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳＦ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂等が挙げられる。これらの樹脂を単独で使用してもよいし、複数を併用してもよい。
また、樹脂基材１１は、未延伸フィルムでもよいし、延伸フィルムでもよい。

樹脂基材１１は透明性が高いと、透明導電部材１０を電子デバイスの透明電極として使用することができるため好ましい。ここでの透明性が高いとは、ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１：１９９７（プラスチック－透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が５０％以上であることをいい、８０％以上であるとより好ましい。

樹脂基材１１は、樹脂基材１１上に形成される光学散乱層１２との密着性を高めるため、表面活性化処理が施されていてもよい。また、耐衝撃性を高めるため、ハードコート層が設けられていてもよい。表面活性化処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等が挙げられる。ハードコート層の材料としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等が挙げられ、なかでも紫外線硬化型樹脂を好ましく使用できる。光学散乱層１２は単層でもよいが、多層構造であると密着性がより向上する。

＜機能層＞
本発明において機能層とは、他の層には無い機能である、高屈折率、光散乱性やスクラッチ耐性の機能を有する層であり、例えば高屈折率層、光学散乱層、ハードコート層等の機能を有する層を指す。

＜光学散乱層＞
光学散乱層１２は、光取り出し効率を向上させる機能層であり、粒子１３と、バインダ１４とを含む。
バインダ１４は、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有する。
ここで、Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）～（７）のいずれかの構造を有する。

また、Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基である。
具体的には、例えば、Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、－Ｒ－Ｓ－Ｒ’－、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（８）～（１２）のいずれかの構造である。
ただし、Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。

本実施形態においては、バインダ１４が樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有することで、樹脂自体での高屈折率化、スクラッチ耐性、及び素子内部に成膜したときに有機層への影響改善を図るものである。
ここで、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分におけるＹに含まれるＳの原子数の割合が、Ｙに含まれるＣの原子数に対し２％以上３０％以下であることが好ましい。
Ｙに含まれるＳの原子数の割合が、Ｙに含まれるＣの原子数に対して２％以上であれば、屈折率がより向上する。より好ましくは５％以上である。また、Ｙに含まれるＳの原子数の割合が、Ｙに含まれるＣの原子数に対して３０％以下であれば、黄変の度合いが軽減される。より好ましくは２５％以下である。

また、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分におけるＹに含まれる芳香環のＣの原子数の割合が、Ｙに含まれる芳香環のその他の元素の原子数に対して５０％以上８０％以下であることが好ましい。
Ｙに含まれる芳香環のＣの原子数の割合が、Ｙに含まれる芳香環のその他の元素の原子数に対して５０％以上であれば、屈折率がより向上する。より好ましくは５５％以上である。また、Ｙに含まれる芳香環のＣの原子数の割合が、Ｙに含まれる芳香環のその他の元素の原子量に対して８０％以下であれば、素材の安定性がより向上する。より好ましくは７０％以下である。
なお、樹脂自体での所望する屈折率の高さが不足する分は、高屈ナノ粒子を添加することで補うことができる。

Ｘ－Ｙ－Ｘ’の組み合わせ例として、表１に記載のものが挙げられる。また表１に記載の無い組み合わせでも前述の条件を満たすものであれば、本発明に好適に用いることができる。なお、表中のＸ，Ｘ’の数字及びＹ構成の両端の数字（（１）等）は、本明細書中に記載の式（１）～（１２）の化合物に対応する。

透明導電部材１０において、光学散乱層１２に含まれる粒子１３には、アスペクト比が２以下の球状粒子が８０個数％以上含まれることが好ましい。そして、光学散乱層１２の厚さは、粒子１３の平均粒子径よりも厚いことが好ましい。なお、ここでの平均粒子径とは、粒子１３全ての平均粒子径を意味する。このように、粒子１３としてアスペクト比２以下の球状粒子を８０個数％以上含み、光学散乱層１２の厚さが粒子１３の平均粒子径よりも厚いことにより、光学散乱層１２において粒子１３を光学散乱層１２の樹脂基材１１側の領域に偏在させやすくなる。粒子１３を樹脂基材１１側の領域に偏在させる方法としては、例えば、通常塗布する液濃度より希釈し、希釈分だけ厚く塗布する手段を用いることができる。そうすることにより、塗布直後から塗膜の乾燥が終了するまでの時間を調節することができ、粒子１３が樹脂基材１１側に沈み込みやすくなる。そのため、樹脂基材１１側の粒子１３の粒子存在体積率を調整することができる。あるいは、粒子濃度を変えた塗布液を積層させたり、粒子含有塗布液を塗布し、その上に更に粒子を含有しない樹脂のみの塗布液を塗設したりすることで偏在させてもよい。

なお、粒子１３の偏在とは、光学散乱層１２において、光学散乱層１２の樹脂部分のみの厚さ方向の中心から両側にわけたとき、透明導電膜１５側と樹脂基材１１側で、粒子１３の体積比率が異なっている状態のこととする。透明導電部材１０は、ここでは、光学散乱層１２において、厚さ方向の中心より樹脂基材１１側の領域の粒子１３の粒子存在体積比率が、厚さ方向の中心より透明導電膜１５側の領域の粒子１３の粒子存在体積比率よりも大きいことが好ましい。

ここで、粒子存在体積率とは、光学散乱層１２に含まれる粒子１３全体の体積に対する光学散乱層１２の特定側に存在する粒子１３の体積である。すなわち、例えば、厚さ方向の中心より樹脂基材１１側の領域の粒子１３の粒子存在体積比率とは、光学散乱層１２に含まれる粒子１３全体の体積に対する、厚さ方向の中心より樹脂基材１１側の領域の粒子１３の体積を意味する。

樹脂基材１１側の粒子存在体積比率の算出法は、光学散乱層１２の断面を作り、厚さ方向の中心より樹脂基材１１側の領域と透明導電膜１５側の領域との各々の領域において、そこから任意の５カ所を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で撮影し、光学散乱層１２の厚さと粒子１３の断面積から樹脂成分と粒子１３の面積を算出する。本発明においては、算出した粒子１３の樹脂基材１１側にある粒子１３の割合を粒子存在体積比率と表現する。
光学散乱層１２の樹脂基材１１側の粒子存在体積比率は、５０％を超えることが好ましい。更に、光学散乱層１２の樹脂基材１１側の粒子存在体積比率は、６０％以上であることが好ましく、６５％以上であることがより好ましい。

このように、球状の粒子１３を樹脂基材１１側の領域に偏在させることにより、図１に示すように、光学散乱層１２において粒子１３が、バインダ１４の透明導電膜１５側の表面よりも上（透明導電膜１５側）に突出しないように、光学散乱層１２を構成しやすい。従って、粒子１３の突出による光学散乱層１２の表面の凹凸の発生を抑制し、光学散乱層１２の表面の平坦性を高めることができる。光学散乱層１２の表面の平坦性を高めることにより、有機層の成膜性が向上する。光学散乱層１２は、表面粗さは算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１）が小さいほどよく、好ましい表面粗さとしては、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり、より好ましくは算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下である。なお、算術平均粗さＲａは、例えば原子間力顕微鏡（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて測定する。
また、光学散乱層１２の樹脂基材１１側の粒子存在体積比率が高くなるほど、光散乱量が増加し、光取り出し効率が向上しやすくなる。

また、光学散乱層１２において、上述の粒子１３と樹脂との体積比率（以降ＰＢ比という）は、１体積％以上４０体積％以下であることが好ましい。体積比率（ＰＢ比）は、光学散乱層１２の全体体積中における、バインダの体積と粒子の体積の合計と、粒子の体積との比率［粒子の体積／（粒子の体積＋バインダの体積）］×１００である。ＰＢ比を１体積％以上とすることにより、光学散乱層１２における光散乱効率や光取り出し効率が向上しやすい。より好ましくは５体積％以上、更に好ましくは１０体積％以上、特に好ましくは１５体積％以上である。またＰＢ比が４０体積％以下だと、樹脂基材１１側の粒子存在体積比率を大きくしやすくなり、粒子１３の過剰による光学散乱層１２の表面からの粒子１３の突出を抑制しやすくなるため、光学散乱層１２の表面の平坦性が向上しやすくなる。そのため、好ましくは４０体積％以下、より好ましくは３０体積％以下である。

次に、バインダと粒子の屈折率について説明する。以下、バインダ、粒子の屈折率は、６３３ｎｍの波長での測定値である。
バインダ１４は、光の波長６３３ｎｍにおける屈折率ｎｂが１．５０以上２．００未満であることが好ましい。バインダ１４の屈折率ｎｂとは、単独の素材で形成されている場合は、単独の素材の屈折率であり、混合系の場合は、各々の素材固有の屈折率に混合比率を乗じた合算値により算出される計算屈折率である。

また、光学散乱層１２中の粒子１３の役割として、導波光の散乱機能が挙げられる。導波光の散乱機能の向上には、粒子１３による散乱性を向上させる必要がある。散乱性を向上させるためには、粒子１３とバインダ１４との屈折率差を大きくする、層厚を厚くする、及び、粒子密度を大きくする等の方法が考えられる。この中で最も他の性能への悪影響が小さい方法が、粒子１３とバインダ１４との屈折率差を大きくすることである。

バインダ１４の屈折率ｎｂと、含有される粒子１３の屈折率ｎｐとの屈折率差｜ｎｂ－ｎｐ｜は、０．２０以上１．００以下であることが好ましい。より好ましくは０．３０以上である。バインダ１４と粒子１３との屈折率差｜ｎｂ－ｎｐ｜が０．２０以上であれば、バインダ１４と粒子１３との界面で散乱効果が発生する。屈折率差｜ｎｂ－ｎｐ｜が大きいほど、界面での屈折が大きくなり、散乱効果が向上する。また、屈折率差｜ｎｂ－ｎｐ｜が１．００以下であれば、乱反射が起きにくくなり、効率の低下が小さくなる。

屈折率差｜ｎｂ－ｎｐ｜を発生させるためには、粒子１３の屈折率ｎｐをバインダ１４の屈折率ｎｂよりも小さくするか、又は、粒子１３の屈折率ｎｐをバインダ１４の屈折率ｎｂよりも大きくする。なお、粒子１３の屈折率ｎｐとは、単独の素材で形成されている場合は、単独の素材の屈折率であり、混合系の場合は、各々の素材固有の屈折率に混合比率を乗じた合算値により算出される計算屈折率である。

粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも小さい場合には、粒子１３として、屈折率ｎｐが１．５０未満の低屈折率粒子を用いることが好ましい。そして、バインダ１４として、屈折率ｎｂが１．６０以上の高屈折率バインダを用いることが好ましい。また、粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも大きい場合には、粒子１３として、屈折率ｎｐが１．７０以上３．００以下の高屈折率粒子を用いることが好ましい。そして、バインダ１４として、屈折率ｎｂが粒子１３の屈折率ｎｐより０．２０以上小さい屈折率のバインダを用いることが好ましい。

光学散乱層１２は、上記のように、バインダ１４と粒子１３との屈折率の差により光を拡散させる作用を有する。このため、粒子１３は、他の層への悪影響が少なく、光を散乱する特性が高いことが求められる。
光学散乱層１２の層厚は、散乱を生じるための光路長を確保するためにある程度厚い必要があるが、一方で吸収によるエネルギーロスを生じない程度に薄い必要がある。このため、光学散乱層１２の厚さは、２５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは３００ｎｍ以上であり、また、より好ましくは８００ｎｍ以下である。

なお、光学散乱層１２の単層でのヘイズ値は、２０％以上が好ましく、より好ましくは２５％以上、更に好ましくは３０％以上である。ヘイズ値が２０％以上であれば、光散乱性（光取り出し効率）を向上させることができる。

次に、粒子及びバインダについて、前記した事項以外の事項について説明する。
［粒子］
上述のように、光学散乱層１２には粒子１３として、アスペクト比が２以下の球状粒子が８０個数％以上含まれることが好ましい。このアスペクト比が２以下の球状粒子は、平均粒子径が２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは２３０ｎｍ以上、更に好ましくは２５０ｎｍ以上である。また、より好ましくは４５０ｎｍ以下、更に好ましくは４００ｎｍ未満である。

ここでいうアスペクト比とは、粒子１３の長軸長と短軸長の比［長軸長／単軸長］のことである。例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）でランダムに粒子１３を撮影して画像を得て、その画像から粒子１３の長軸長と短軸長を求めて計算することができる。例えば、粒子を倍率１０万倍で撮影し、その画像から粒子１００個分のアスペクト比を確認し、比率を求める。

光学散乱層１２においては、例えば、粒子１３の平均粒子径やアスペクト比を調整することにより、散乱性を向上させることができる。具体的には、可視光域のＭｉｅ散乱を生じさせる領域以上の粒子を用いることが好ましい。一方、粒子１３を樹脂基材１１側に偏在させ、光学散乱層１２の表面を平坦化するためには、平均粒子径を光学散乱層１２の厚さよりも小さくする必要がある。
粒子１３の平均粒子径は、電子顕微鏡写真の画像処理により測定することができる。例えば、粒子１３を倍率１０万倍で撮影し、その画像から粒子１３の長辺の長さを測定する。そして、粒子１００個分の平均をとったものを粒子１３の平均粒子径とする。

粒子１３としては、特に制限はなく、上述の低屈折率粒子及び高屈折率粒子のいずれにおいても、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、低屈折率粒子、高屈折率粒子として、有機微粒子や、無機微粒子を用いることができる。

粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも小さい構成の光学散乱層１２においては、低屈折率粒子として、例えば、アクリル樹脂（１．４９）、ＰＴＦＥ（１．３５）、ＰＦＡ（１．３５）、ＳｉＯ_２（１．４６）、フッ化マグネシウム（１．３８）、フッ化リチウム（１．３９２）、フッ化カルシウム（１．３９９）、シリコーンゴム（１．４０）、フッ化ビニリデン（１．４２）、シリコーン樹脂（１．４３）、ポリプロピレン（１．４８）、ウレタン（１．４９）が挙げられる。なお、括弧内は各材料からなる粒子の代表的な屈折率を示している。

粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも大きい構成の光学散乱層１２においては、高屈折率粒子として、国際公開第２００９／０１４７０７号や米国特許第６６０８４３９号明細書等に記載の量子ドットも好適に用いることができる。中でも高屈折率を有する無機微粒子であることが好ましい。

また、高屈折率を有する有機微粒子としては、例えば、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル－スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、スチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン－メラミンホルムアルデヒドビーズ等が挙げられる。

高屈折率を有する無機微粒子としては、例えば、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、スズ、アンチモン等の中から選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる無機酸化物粒子が挙げられる。無機酸化物粒子としては、具体的には、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＢａＴｉＯ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）、ＳｉＯ_２、ＺｒＳｉＯ_４、ゼオライト等が挙げられ、中でも、ＴｉＯ_２、ＢａＴｉＯ_３、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２が好ましく、ＴｉＯ_２が最も好ましい。また、ＴｉＯ_２の中でも、アナターゼ型よりルチル型の方が、触媒活性が低いため光学散乱層１２や隣接した層の耐候性が高くなり、更に屈折率が高いことから好ましい。

粒子１３は、光学散乱層１２に含有させるために、後述の分散液とした場合の分散性や安定性向上の観点から、表面処理を施して用いるか、或いは、表面処理を施さずに用いるかを選択することができる。

表面処理を行う場合、表面処理の具体的な材料としては、酸化ケイ素や酸化ジルコニウム等の異種無機酸化物、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、オルガノシロキサン、ステアリン酸等の有機酸等が挙げられる。これらの表面処理材は、１種を単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。中でも、分散液の安定性の観点から、表面処理材としては、異種無機酸化物及び金属水酸化物のうちの一種以上が好ましく、金属水酸化物がより好ましい。なお、表面処理を行った場合は、表面処理部分も粒子体積に含める。

無機酸化物粒子が、表面処理材で表面被覆処理されている場合、その被覆量（一般的に、この被覆量は、粒子の質量に対する当該粒子の表面に用いた表面処理材の質量割合で示される。）は、０．０１質量％以上９９質量％以下であることが好ましい。当該範囲内とすることで、表面処理による分散性や安定性の向上効果を十分に得ることができる。

［バインダ］
バインダ１４は、樹脂成分として、前記説明したＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有するが、樹脂成分は、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分のみからなるものであってもよく、後述する他の樹脂成分を含有してもよい。
他の樹脂成分としては、公知のバインダを特に制限なく使用できる。また、他の樹脂成分は、複数種類を混合して使用することもできる。

ここで、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分と、他の樹脂成分とを混合したバインダ１４の場合、前述したように、バインダ１４の屈折率ｎｂと、粒子１３の屈折率ｎｐとの屈折率差｜ｎｂ－ｎｐ｜は、０．２０以上１．００以下であることが好ましい。そして、粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも小さい構成とする場合、他の樹脂成分としては、高屈折率バインダを用いることが好ましい。

光学散乱層１２において、粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも小さい構成に適用する高屈折率バインダとしては、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分と、他の樹脂成分とを混合したバインダ１４の屈折率ｎｂが１．６０以上となるようなバインダを用いることが好ましい。
高屈折率バインダとしては、例えば、リオデュラス（登録商標）ＴＹＺシリーズ、リオデュラスＴＹＴシリーズ（東洋インキ社製）、ＺｒＯ_２微粒子入り樹脂塗料（Ｐｉｘｅｌｌｉｇｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）、ＵＲシリーズ（日産化学社製）、オルガチックス（登録商標）シリーズ（マツモトファインケミカル社製）、ＰＩＵＶＯシリーズ（ケーエスエム社製）、アクリル系樹脂シリーズ、エポキシ系樹脂シリーズ（ＮＴＴアドバンステクノロジ社製）、ヒタロイド（登録商標）シリーズ（日立化成社製）等を用いることができる。

また、粒子１３の屈折率ｎｐがバインダ１４の屈折率ｎｂよりも大きい構成の光学散乱層１２においては、他の樹脂成分としては、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分と、他の樹脂成分とを混合したバインダ１４の屈折率ｎｂが粒子１３の屈折率ｎｐより０．２０以上小さくなるような屈折率のバインダとし、且つ出来るだけ高屈折率のバインダを用いることが好ましい。高屈折率バインダとしては、前述の高屈折率バインダを用いることができる。
これは、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分と、他の樹脂成分とを混合したバインダ１４が低屈折のバインダとなった場合、光学散乱層１２側から来た光が侵入角度によってはバインダ内に進むことができず、反射されてしまうためである。

また、光学散乱層１２の他の樹脂成分のバインダとしては、特定の雰囲気下で紫外線照射によって、無機材料又は金属の酸化物、窒化物又は酸化窒化物を形成し得る化合物が特に好適に使用される。このような化合物としては、特開平８－１１２８７９号公報に記載されている比較的低温で改質処理され得る化合物が好ましい。
具体的には、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を有するポリシロキサン（ポリシルセスキオキサンを含む）、Ｓｉ－Ｎ－Ｓｉ結合を有するポリシラザン、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合とＳｉ－Ｎ－Ｓｉ結合の両方を含むポリシロキサザン等を挙げることができる。これらは、２種以上を混合して使用することができる。

（ポリシロキサン）
光学散乱層１２で用いられるポリシロキサンとしては、一般構造単位としてのＲ_３ＳｉＯ_１／２、Ｒ_２ＳｉＯ、ＲＳｉＯ_３／２及びＳｉＯ_２を含むことができる。ここで、Ｒは、水素原子、１以上２０以下の炭素原子を含むアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル等、アリール基、例えば、フェニル等、及び不飽和アルキル基、例えば、ビニル等からなる群より独立して選択される。特定のポリシロキサン基の例としては、ＰｈＳｉＯ_３／２、ＭｅＳｉＯ_３／２、ＨＳｉＯ_３／２、ＭｅＰｈＳｉＯ、Ｐｈ_２ＳｉＯ、ＰｈＶｉＳｉＯ、ＶｉＳｉＯ_３／２、ＭｅＨＳｉＯ、ＭｅＶｉＳｉＯ、Ｍｅ_２ＳｉＯ、Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２等が挙げられる。また、ポリシロキサンの混合物やコポリマーも使用可能である。なお、Ｖｉはビニル基を表す。

（ポリシルセスキオキサン）
光学散乱層１２においては、上述のポリシロキサンの中でもポリシルセスキオキサンを用いることが好ましい。ポリシルセスキオキサンは、シルセスキオキサンを構造単位に含む化合物である。「シルセスキオキサン」とは、ＲＳｉＯ_３／２で表される化合物であり、通常、ＲＳｉＸ_３（Ｒは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラアルキル基（アラルキル基ともいう）等であり、Ｘは、ハロゲン、アルコキシ基等である）。
ポリシルセスキオキサンの分子配列の形状としては、代表的には無定形構造、ラダー状構造、籠型構造、その部分開裂構造体（籠型構造からケイ素原子が一原子欠けた構造や籠型構造のケイ素－酸素結合が一部切断された構造）等が知られている。

これらのポリシルセスキオキサンの中でも、いわゆる水素シルセスキオキサンポリマーを用いることが好ましい。水素シルセスキオキサンポリマーとしては、ＨＳｉ（ＯＨ）_ｘ（ＯＲ）_ｙＯ_ｚ／２で表されるヒドリドシロキサンポリマーが挙げられる。各々のＲは、有機基又は置換された有機基であり、酸素原子によってケイ素に結合した場合、加水分解性置換基を形成する。ｘ＝０～２、ｙ＝０～２、ｚ＝１～３、ｘ＋ｙ＋ｚ＝３である。Ｒとしては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、アリール基（例えば、フェニル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、ビニル基等）が挙げられる。これらの樹脂は、完全に縮合される（ＨＳｉＯ_３／２）_ｎ、あるいは、部分的にのみ加水分解される（すなわち、一部のＳｉ－ＯＲを含む）か、部分的に縮合される（すなわち、一部のＳｉ－ＯＨを含む）か、あるいは両方とすることができる。

（ポリシラザン）
光学散乱層１２で用いられるポリシラザンとは、ケイ素－窒素結合を持つポリマーで、Ｓｉ－Ｎ、Ｓｉ－Ｈ、Ｎ－Ｈ等からなるＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４及び両方の中間固溶体ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ（ｘ＝０．１～１．９、ｙ＝０．１～１．３）等の無機前駆体ポリマーである。

光学散乱層１２に好ましく用いられるポリシラザンとしては、下記式（２０）で表されるポリシラザンを用いることができる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。

得られる光学散乱層１２の膜としての緻密性の観点からは、式（２０）のＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザン（ＰＨＰＳ）が特に好ましい。パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と６員環及び８員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されており、その分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で約６００以上２０００以下程度（ゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算）であり、液体又は固体の物質である。

ポリシラザンは、有機溶媒に溶解した溶液の状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。ポリシラザン溶液の市販品としては、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のＮＮ１２０－２０、ＮＡＸ１２０－２０、ＮＬ１２０－２０等が挙げられる。

更に、樹脂成分のバインダとして有機チタン化合物を添加してもよい。特に－ＯＣｎＨ_２＋１、－ＯＣＨ＝ＣＨ_２、－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２を有する化合物が好ましい。これらを添加することで、他に悪影響を及ぼすことなくバインダ１４の屈折率を高めることができる。添加量としては、バインダに対し、１質量％以上、５０質量％以下、より好ましくは５質量％以上、３０質量％以下である。

他の樹脂成分のバインダとして、電離放射線硬化型樹脂組成物を用いることができるが、電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、すなわち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
例えば、電子線硬化の場合には、コッククロフト・ワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される１０ｋｅＶ以上１０００ｋｅＶ以下、好ましくは３０ｋｅＶ以上３００ｋｅＶ以下のエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

（エキシマランプを有する真空紫外線照射装置）
紫外線照射装置としては、例えば、１００ｎｍ以上２３０ｎｍ以下の範囲内で真空紫外線を発する希ガスエキシマランプが挙げられる。
キセノン（Ｘｅ）、クリプトン（Ｋｒ）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ）等の希ガスの原子は、化学的に結合して分子を作らないため、不活性ガスと呼ばれる。しかし、放電などによりエネルギーを得た希ガスの原子（励起原子）は、他の原子と結合して分子を作ることができる。
例えば、希ガスがＸｅ（キセノン）の場合には、下記反応式で示されるように、励起されたエキシマ分子であるＸｅ_２ ^＊が基底状態に遷移するときに、１７２ｎｍのエキシマ光を発光する。

ｅ＋Ｘｅ→Ｘｅ^＊
Ｘｅ^＊＋２Ｘｅ→Ｘｅ_２ ^＊＋Ｘｅ
Ｘｅ_２ ^＊→Ｘｅ＋Ｘｅ＋ｈν（１７２ｎｍ）

エキシマランプの特徴としては、放射が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されないので効率が高いことが挙げられる。また、余分な光が放射されないので、対象物の温度を比較的低く保つことができる。更には、始動・再始動に時間を要さないので、瞬時の点灯点滅が可能である。

エキシマ光を効率よく照射する光源としては、誘電体バリア放電ランプが挙げられる。
誘電体バリア放電ランプの構成としては、電極間に誘電体を介して放電を起こすものであり、一般的には、誘電体からなる放電容器とその外部とに少なくとも一方の電極が配置されていればよい。誘電体バリア放電ランプとして、例えば、石英ガラスで構成された太い管と細い管とからなる二重円筒状の放電容器中にキセノン等の希ガスが封入され、該放電容器の外部に網状の第１の電極を設け、内管の内側に他の電極を設けたものがある。誘電体バリア放電ランプは、電極間に高周波電圧等を加えることによって放電容器内部に誘電体バリア放電を発生させ、該放電により生成されたキセノン等のエキシマ分子が解離する際にエキシマ光を発生させる。

エキシマランプは、光の発生効率が高いため、低い電力の投入で点灯させることが可能である。また、温度上昇の要因となる波長の長い光は発せず、紫外線領域の単一波長でエネルギーを照射するため、照射光自体による照射対象物の温度上昇を抑えられる特徴を持っている。

＜透明導電膜＞
透明導電膜１５は、光学散乱層１２の面上に設けられている。透明導電膜１５は、透明導電部材１０において電気を導通させるための導電性材料を含む層である。透明導電膜１５としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃｒ等の金属薄膜や、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＣｄＯ、ＣｄＩｎ_２Ｏ_４、Ｃｄ_２ＳｎＯ_４、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ、ＩＴＯ、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）、ＩＧＯ（インジウム・ガリウム酸化物）、ＩＷＺＯ（インジウム・タングステン・亜鉛酸化物）、ＡＺＯ（Ａｌドープ酸化亜鉛）、ＧＺＯ（Ｇａドープ酸化亜鉛）、ＡＴＯ（アンチモン・スズ酸化物）、ＦＴＯ（Ｆドープ酸化スズ）、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＴｉＯ_ｘ、ＶＯ_ｘ、ＣｕＩ、ＩｎＮ、ＧａＮ、ＣｕＡｌＯ_２、ＣｕＧａＯ_２、ＳｒＣｕ_２Ｏ_２、ＬａＢ_６、ＲｕＯ_２等の金属酸化物や導電性無機化合物層が挙げられる。これら化合物は結晶性でも非結晶性でもよい。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３－ＺｎＯ）等の非晶質で透明導電部材１０を作製可能な材料を用いてもよい。また、導電性ポリマーを使用してもよく、例えばポリアセチレン、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（ｐ－フェニレンスルフィド）等が挙げられる。透明導電膜１５には、これらの導電性材料が１種のみ含まれてもよく、２種以上含まれてもよい。
透明導電膜１５の形成方法としては、特に制限はなく、従来公知の方法が利用できる。この透明導電膜１５の形成方法としては、例えば、ドライプロセスによるＣＶＤ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等が利用できる。

透明導電膜１５は、体積抵抗率が１×１０^１Ω・ｃｍより低い導電性の金属酸化物を用いて形成されていることが好ましい。体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ７１９４－１９９４の導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験方法に準拠して測定されたシート抵抗と、膜厚を測定して求めることができる。膜厚は接触式表面形状測定器（例えばＤＥＣＴＡＫ）や光干渉表面形状測定器（例えばＷＹＫＯ）を用いて測定することができる。
透明導電膜１５は、透明導電部材１０の光学散乱層１２を構成する観点から、シート抵抗が１００００Ω／ｓｑ．以下であることが好ましく、２０００Ω／ｓｑ．以下であることがより好ましい。

透明導電膜１５の厚さは、金属薄膜を用いる場合には、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下の範囲内とすることが好ましい。また、金属酸化物や導電性無機化合物を用いる場合には、１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内にすることができる。導電性を高める観点からは、厚さが１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。表面の平滑性を高める観点からは、厚さが５０ｎｍ以上であることが好ましい。

透明導電膜１５において、厚さを大きくした場合にも、高い透明性を確保できる材料としては、上述の材料のなかでも金属酸化物を選択することが好ましい。また、透明導電膜１５を１５０ｎｍ程度設けると、上述の金属及びＩＴＯでは透明性を確保することが困難である。このため、透明導電膜１５には、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＡＴＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、ＦＴＯを用いることが好ましい。

特に、透明導電膜１５に使用できる金属酸化物としては、ＩＺＯ、ＩＧＯ、ＩＷＺＯが好ましい。なかでも、ＩＺＯとしては、質量比Ｉｎ_２Ｏ_３：ＺｎＯ＝８０～９５：５～２０で表される組成が好ましい。ＩＧＯとしては、質量比Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｇａ_２Ｏ_３＝７０～９５：５～３０で表される組成が好ましい。ＩＷＺＯとしては、質量比Ｉｎ_２Ｏ_３：ＷＯ_３：ＺｎＯ＝９５～９９．８：０．１～２．５：０．１～２．５で表される組成が好ましい。

透明導電膜１５は、算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１）が５ｎｍ以下であることが好ましい。更に、算術平均粗さＲａが３ｎｍ以下であることが好ましい。なお、算術平均粗さＲａは、例えば原子間力顕微鏡（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて測定する。

〈透明導電部材の製造方法〉
次に、上述の構成の透明導電部材１０の製造方法を説明する。
透明導電部材１０の作製においては、まず樹脂基材１１を準備する。樹脂基材１１には、必要に応じて予めガスバリア層が形成されたガスバリア性フィルムを樹脂基材１１として準備してもよい。

［光学散乱層の形成工程］
次に、準備した樹脂基材１１上に、光学散乱層１２を形成する。光学散乱層１２の形成は、溶媒にバインダ１４と、粒子１３とを分散することで光学散乱層形成用分散液を作製し、この分散液を樹脂基材１１上に塗布することで形成する。

分散液に用いる分散溶媒には特に制限はないが、バインダ１４の析出と粒子１３の凝集が起こらない溶媒を選択することが好ましい。分散性の観点からは、バインダ１４と粒子１３とを混合した液を、超音波処理やビーズミル処理といった方法で分散させた後、フィルター等でろ過する方法が好ましい。

光学散乱層形成用分散液の塗布法としては、任意の適切な方法を選択することができ、例えば、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法に加えて、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等の各種塗布法を用いることができる。
光学散乱層１２を所定のパターンに形成する場合には、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法を用いることが好ましい。

また、光学散乱層１２は、光学散乱層形成用分散液を塗工した後、形成した塗膜を温風乾燥や赤外線乾燥等の公知の加熱乾燥法、又は、自然乾燥により乾燥させる。加熱乾燥を行う場合の温度は、使用する樹脂基材１１に応じて適宜選択することができる。加熱乾燥は、２００℃以下の温度で行うことが好ましい。また、使用するバインダ１４の材料によっては、紫外線等の光エネルギーによる硬化や、樹脂基材１１へのダメージの少ない熱硬化等の処理を行ってもよい。

また、光学散乱層形成用分散液に用いる分散溶媒として、水等のヒドロキシ基を有する極性溶媒や、沸点が２００℃以下の低沸点溶媒を選択する場合は、乾燥方法として光源のフィラメント温度が１６００℃以上３０００℃以下の範囲内にある赤外線ヒータを用いることが好ましい。ヒドロキシ基が赤外線ヒータから発せられる特定の波長に吸収を持つため、溶媒の乾燥が可能となる。一方、樹脂基材１１としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）に対しては、赤外線ヒータから発せられる特定の波長の吸収が少ないため、樹脂基材１１に対する熱ダメージが少ない。

赤外線ヒータとしては、例えば、波長制御ＩＲ（InfraRed）が挙げられる。波長制御ＩＲとは、ハロゲンヒーターに長波長域をカットするフィルターを組み合わせ、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の割合が５％以下の赤外線を放射するＩＲユニットである。このような光を真空下又はイナート雰囲気下で照射することにより、短時間で所望の膜中含水量を達成することができる。

ヒドロキシ基を有する極性溶媒としては、水（蒸留水、脱イオン水等の純水が好ましい）の他、メタノールやエタノール等のアルコール系溶媒、グリコール類、グリコールエーテル類、及び、水とアルコールの混合溶媒等が挙げられる。グリコールエーテル類系有機溶媒としては、具体的には、例えば、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等が挙げられる。また、アルコール系有機溶媒としては、具体的には、例えば、上述のメタノール、エタノールの他、１－プロパノール、２－プロパノール、ｎ－ブタノール、２－ブタノール、ジアセトンアルコール、ブトキシエタノール等が挙げられる。

［透明導電膜の形成工程］
次に、光学散乱層１２の形成領域の全面に透明導電膜１５を形成する。透明導電膜１５は、上述の金属酸化物のスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法やイオンプレーティング法等によって形成することができる。

例えば、透明導電膜１５は、成膜装置内の温度を２００℃以下にする以外は、従来の金属酸化物層を成膜する場合と同様にして、各種のスパッタリング法やイオンプレーティング法等によって成膜することができる。成膜装置内の温度を２００℃以下とすることにより、金属酸化物層に結晶相が発生せず、透明導電膜１５を作製することができる。

特に、成膜時の基板温度を９０℃以下、特に７０℃以下とすることが好ましい。成膜時の基板温度を９０℃以下、好ましくは７０℃以下とすることにより、結晶相を発生させずに透明導電膜を作製できると共に、樹脂基材１１の変形を防ぐことができる。成膜時の基板温度を７０℃以下とするためには、成膜装置内の温度を例えば７０℃以下に設定する。又は、基板側に冷却機構をつけ、基板温度を７０℃以下にする。

透明導電膜１５を形成するスパッタリング法としては、例えば、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、ＡＣスパッタリング、ＤＣマグネトロンスパッタリング、ＲＦマグネトロンスパッタリング、ＥＣＲプラズマスパッタリング、イオンビームスパッタリング等を用いることができる。

例えば、透明導電膜１５は、例えば、スパッタリングの際のターゲット基板間距離を５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とし、スパッタリングガス圧を０．５Ｐａ以上１．５Ｐａ以下として、直流マグネトロンスパッタリング法により成膜することができる。

ターゲット基板間距離については、ターゲット基板間距離が５０ｍｍよりも短くなると、堆積するスパッタ粒子の運動エネルギーが大きくなるため、樹脂基材１１の受けるダメージが大きくなってしまう。また、膜厚も不均一となり膜厚分布が悪くなる。ターゲット基板間距離が２００ｍｍより長いと、膜厚分布はよくなるが、堆積するスパッタ粒子の運動エネルギーが低くなりすぎ、拡散による緻密化が起きにくく、透明導電膜１５の密度が低くなるため好ましくない。

スパッタリングガス圧については、スパッタリングガス圧が０．５Ｐａより低いと堆積するスパッタ粒子の運動エネルギーが大きくなるため、樹脂基材１１の受けるダメージが大きくなってしまう。スパッタリングガス圧が１．５Ｐａより高いと、成膜速度が遅くなるだけでなく、堆積するスパッタ粒子の運動エネルギーが低くなりすぎて、拡散による緻密化が起きず、透明導電膜１５の密度が低くなるため好ましくない。

《有機エレクトロルミネッセンス素子》
次に、上述の透明導電部材を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）の実施形態について説明する。本実施形態の有機ＥＬ素子は、上述の透明導電部材の透明導電膜１５を第１電極（透明電極）とし、この第１電極上に、発光ユニットと第２電極（対向電極）とが設けられた構成である。このため、以下の有機ＥＬ素子の説明では、上述の透明導電部材と同じ構成については、詳細な説明を省略する。

［有機ＥＬ素子の構成］
本発明の有機ＥＬ素子の構成、材料は、特開２０１３－８９６０８記載のものを用いることができる。

［保護部材］
また、有機ＥＬ素子を機械的に保護するために、保護膜又は保護板等の保護部材を設けてもよい。保護部材は、有機ＥＬ素子及び封止部材を、透明導電部材１０とで挟む位置に配置される。特に封止部材が封止膜である場合には、有機ＥＬ素子に対する機械的な保護が十分ではないため、このような保護部材を設けることが好ましい。

以上のような保護部材は、ガラス板、ポリマー板、これよりも薄型のポリマーフィルム、金属板、これよりも薄型の金属フィルム、又はポリマー材料膜や金属材料膜が適用される。このうち、特に、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。

〈有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法〉
次に、図２に示す有機ＥＬ素子２０の製造方法の一例を説明する。
まず、上述の製造方法により透明導電部材１０を作製する。
次に、透明導電部材１０上に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の順に成膜し、発光ユニット２１を形成する。これらの各層の成膜方法としては、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法又はスピンコート法が特に好ましい。更に、層ごとに異なる成膜法を適用してもよい。これらの各層の成膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度５０℃以上４５０℃以下、真空度１×１０^－６Ｐａ以上１×１０^－２Ｐａ以下、蒸着速度０．０１ｎｍ／秒以上５０ｎｍ／秒以下、基板温度－５０℃以上３００℃以下、層厚０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲内で、各条件を適宜選択することが好ましい。

発光ユニット２１を形成した後、この上部に第２電極２２を、蒸着法やスパッタ法等の適宜の成膜法によって形成する。この際、第２電極２２は、発光ユニット２１によって透明導電部材１０の光学散乱層１２に対して絶縁状態を保ちつつ、発光ユニット２１の上方から樹脂基材１１の周縁に端子部分を引き出した形状にパターン形成する。これにより、有機ＥＬ素子２０が得られる。また、その後には、有機ＥＬ素子２０における取り出し電極及び第２電極２２の端子部分を露出させた状態で、少なくとも発光ユニット２１を覆う封止部材を設ける。

以上により、所望の有機ＥＬ素子２０が得られる。このような有機ＥＬ素子２０の作製においては、１回の真空引きで一貫して発光ユニット２１から第２電極２２まで作製するのが好ましいが、途中で真空雰囲気から樹脂基材１１を取り出して異なる成膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。

＜その他の電子デバイス＞
電子デバイスとしては、有機ＥＬ素子の他、有機薄膜太陽電池（ＯＰＶ：Organic Photovoltaics）、発光ダイオード（ＬＥＤ：Light Emitting Diode）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）等、光学特性が必要なものが挙げられる。

次に、有機ＥＬ素子以外の電子デバイスの一例について説明する。
図３は、本発明で規定する機能層を有する有機薄膜太陽電池（ＯＰＶ）の構造を示す模式図である。
図３に示すように、有機薄膜太陽電池３０は、機能層（透明部材）３１と、透明基材（樹脂基材）３２と、透明電極（アノード（ＩＴＯ））３３と、正孔輸送層３４と、有機発電層３５と、電子輸送層３６と、電極（カソード（Ｃａ／Ａｌ））３７と、がこの順に設けられている。図３に示す有機薄膜太陽電池３０は、本発明で規定する機能層３１が透明基材３２の下部に設けられているため、電力変換効率とスクラッチ耐性が向上する。

図４は、拡散フィルムを使用していない発光ダイオード（ＬＥＤ）及び、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を拡散フィルムとして使用した発光ダイオードの概略上面図である。なお、拡散フィルムを使用したものは発光ダイオードの上面に拡散フィルムが設けられている。
図４において、（Ａ）は拡散フィルムなしのもの、（Ｂ）は一般の拡散シートを本願規定の樹脂成分を含有する機能層としたもので、透過率９０％の拡散フィルムとして用いたもの、（Ｃ）はナノバックリングシート（２枚クロス配置）を本願規定の樹脂成分を含有する機能層としたもので、透過率８０％の拡散フィルムとして用いたもの、（Ｄ）は一般の拡散板を本願規定の樹脂成分を含有する機能層としたもので、透過率６５％の拡散フィルムとして用いたものである。
なお、図４は、便宜上、発光ダイオードの上面視の状態を簡略化して図示したものであり、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は、拡散フィルムを設けたものとして、便宜上、同一の図面としている。

図４の（Ｂ）、（Ｃ）では、相対直下照度が１００であり、（Ｄ）では、相対直下照度が６８であった。なお、相対直下照度とは、各光源を垂直方向から見た相対的な照度のことであり、照度を測定して最大値のものを１００として比較したものである。
図４の（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示す発光ダイオードは、本願規定の機能層が拡散フィルムとして発光ダイオードの上面に設けられているため、光取り出し効率とスクラッチ耐性が向上する。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ素子は、本発明で規定する機能層を有する透明導電部材を有するものとしたが、透明導電部材以外の部材に適用してもよい。

以上説明したとおり、本実施形態の電子デバイスによれば、光学特性に優れるため、例えば電力変換効率や発光効率が向上したものとなる。また、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を有する部材を電子デバイスの内部に配置した場合、長期保存性が向上する。また、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を有する部材を電子デバイスの外側に配置した場合、スクラッチ耐性が向上する。なお、ここでの長期保存性とは、電子デバイスを高温（例えば８５℃）で長時間駆動した際にダークスポットが発生しない性能をいう。また、スクラッチ耐性とは、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を有する面を擦った際に、電子デバイスが損傷しにくい性能をいう。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、表中のＸ，Ｘ’の数字及びＹ構成の両端の数字（（１）等）は、本明細書中に記載の式（１）～（１２）の化合物に対応する。また、表中、ＰＭＭＡは、ポリメタクリル酸メチルであり、Ｐ／Ｂは、バインダの体積と粒子の体積の合計と、粒子の体積との比率［粒子の体積／（粒子の体積＋バインダの体積）］×１００である。また、表中、粒子径は、粒子全ての平均粒子径であり、基材側存在率は、基材側の粒子存在体積率である。
実施例に用いる化合物の構造を以下に示す。

［実施例１］
実施例１では、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を塗設した有機薄膜太陽電池（ＯＰＶ）素子について特性を評価した。
表２に記載の組成になるように、Ｎｏ．１０１以外は、Ｘ、Ｘ′、Ｙを選択し、開始剤Ａを添加した樹脂構成とした。なお、Ｎｏ．１０１は、機能層を塗設していない、後述のプラスチックフィルムを用いた有機薄膜太陽電池としたものである。

［Ｎｏ．１０２の作製］
表２に記載の樹脂構成の成分を９８質量％、開始剤Ａを２質量％含有する塗布液をインクジェット塗布法にて、別途用意した片側に粘着剤が塗設されている厚さ３８μｍのプラスチックフィルム（藤森工業（株）社製、マスタックＴＦＢ ＺＢＯ－０４２１）の粘着剤と反対側に塗布した。その後、簡易乾燥（７０℃、２分）し、更に、後述する波長制御ＩＲで基材温度８０℃未満の出力条件で５分間乾燥処理を実行した。

波長制御ＩＲとしては、赤外線照射装置（アルティメットヒーター／カーボン，明々工業株式会社製）に、波長３．５μｍ以上の赤外線を吸収する石英ガラス板２枚を取り付け、ガラス板間に冷却空気を流した波長制御赤外線ヒータを用いた。

次に、下記改質処理条件にて硬化反応を促進し、機能層（樹脂層）の層厚が０．２５μｍの機能フィルムを得た。
（改質処理装置）
装置：株式会社エム・ディ・コム製エキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ ＭＥＩＲＨ－Ｍ－１－２００－２２２－Ｈ－ＫＭ－Ｇ
波長：２２２ｎｍ
ランプ封入ガス：ＫｒＣｌ

（改質処理条件）
エキシマ光強度：８Ｊ／ｃｍ^２（２２２ｎｍ）
ステージ加熱温度：６０℃
照射装置内の酸素濃度：大気

作製した機能フィルムを有機薄膜太陽電池の受光面に貼り付け、評価用素子とした。

［Ｎｏ．１０３の作製］
上述の試料１０２の作製において、表２に記載の樹脂構成の条件に変更した以外は、Ｎｏ．１０２と同様の方法でＮｏ．１０３の有機薄膜太陽電池を作製した。

［Ｎｏ．１０４の作製］
上述の試料１０３の作製において、塗布液の樹脂成分に対し有機チタン化合物（Ｔｉ－Ａ）を２０質量％添加した以外は、Ｎｏ．１０３と同様の方法でＮｏ．１０４の有機薄膜太陽電池を作製した。

作製した有機薄膜太陽電池について以下の評価を行った。なお、実施例１では、機能フィルムは有機薄膜太陽電池の外側に配置されているため、スクラッチ耐性について評価し、内部に配置された場合に影響を受ける長期保存性（８５℃保存性）については評価しなかった。

［電力変換効率］
光を当てることにより生み出される電力を電力変換効率とし、電力変換効率は、Ｎｏ．１０１の電力変換効率を１．００とする相対値で求め、１．０５倍以上のものを合格とした。
評価は新栄電子計測器（株）社製、太陽光発電アレイテスタ ＳＩＶ－６００を用いて行った。

［スクラッチ耐性］
株式会社 安田精機製作所製、Ｎｏ．６５０－Ｆ トライボテスター（往復摩擦摩耗試験機）を用いて擦過性を評価した。ＳＵＳ製ボール状摩擦子において、摩擦速度１００ｍｍ／秒、荷重１００ｇｆとして、１０往復したときの傷の度合いで評価を行った。明らかに傷が目立つものを×、傷が見えない、又は見えにくいものを○とした。

用いた樹脂の構成及び評価結果を表２に示す。なお、表中、成分を含有しないものは「－」で示す。

表２に示すように、参考例（出願当初の本発明）であるＮｏ．１０３、１０４は、全ての評価結果に優れていた。
一方、Ｎｏ．１０１は、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を有しないため、電力変換効率及びスクラッチ耐性に劣った。また、Ｎｏ．１０２は、Ｙ構成にＳを含まないため、電力変換効率に劣った。

［実施例２］
実施例２では、本願規定の樹脂成分を含有する機能フィルムを貼り付けたＬＥＤ照明について特性を評価した。
表３に記載の組成になるように、Ｎｏ．２０１、Ｎｏ．２０２以外は、Ｘ、Ｘ′、Ｙを選択し、開始剤Ａを添加した樹脂構成とした。なお、Ｎｏ．２０１は、機能フィルムを設けていないＬＥＤ照明としたものである。

［Ｎｏ．２０２の作製］
屈折率２．３０、平均粒子径２９０ｎｍ、アスペクト比２以下の粒子８５個数％のＴｉＯ_２粒子（堺化学工業（株）製 Ｒ－４２）と樹脂溶液（東京化成工業（株）社製 メタクリル酸メチル））との固形分比率を５体積％（粒子）／９５体積％（樹脂）とした液を調製した。この液を、別途用意した、片側に粘着剤が塗設されている厚さ３８μｍのプラスチックフィルム（藤森工業（株）社製、マスタックＴＦＢ ＺＢＯ－０４２１）の粘着剤と反対側に塗布し、機能フィルムを作製した。

具体的には、上記ＴｉＯ_２粒子と溶媒及び添加剤を、ＴｉＯ_２粒子に対し１０％の質量比で混合し、常温（２５℃）で冷却しながら、超音波分散機（エスエムテー社製 ＵＨ－５０）に、マイクロチップステップ（エスエムテー社製 ＭＳ－３ ［３ｍｍφ］）の標準条件で１０分間分散を加え、ＴｉＯ_２の分散液を作製した。
次に、ＴｉＯ_２分散液を１００ｒｐｍで撹拌しながら、樹脂溶液を少量ずつ混合添加し、添加完了後、５００ｒｐｍまで撹拌速度を上げ、１０分間混合した後、疎水性ＰＶＤＦ０．４５μｍフィルター（ワットマン社製）にて濾過し、目的の機能フィルム用塗布液を得た。

上記塗布液をインクジェット塗布法にて、別途用意した片側に粘着剤が塗設されている厚さ３８μｍのプラスチックフィルムの粘着剤と反対側に塗布した後、簡易乾燥（７０℃、２分）し、更に、後述する波長制御ＩＲで基材温度８０℃未満の出力条件で５分間乾燥処理を実行した。

波長制御ＩＲとしては、赤外線照射装置（アルティメットヒーター／カーボン，明々工業株式会社製）に、波長３．５μｍ以上の赤外線を吸収する石英ガラス板２枚を取り付け、ガラス板間に冷却空気を流した波長制御赤外線ヒータを用いた。

次に、下記改質処理条件にて硬化反応を促進し、機能層（光学散乱層）の層厚が０．２５μｍの機能フィルムを得た。

（改質処理装置）
装置：株式会社エム・ディ・コム製エキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ ＭＥＩＲＨ－Ｍ－１－２００－２２２－Ｈ－ＫＭ－Ｇ
波長：２２２ｎｍ
ランプ封入ガス：ＫｒＣｌ

（改質処理条件）
エキシマ光強度：８Ｊ／ｃｍ^２（２２２ｎｍ）
ステージ加熱温度：６０℃
照射装置内の酸素濃度：大気

作製した機能フィルムをＯｐｔｏＳｕｐｐｌｙ社製、表面実装用白色ＬＥＤ素子（ＯＳＷＴ１６０８Ｃ１Ａ－Ｗ２５）の表面に貼り付け、評価用素子とした。

［Ｎｏ．２０３の作製］
上述の試料２０２の作製において、表３に記載の樹脂構成の成分を９８質量％、開始剤Ａを２質量％含有した塗布液に変更した以外は、Ｎｏ．２０２と同様の方法でＮｏ．２０３のＬＥＤ照明を作製した。

［Ｎｏ．２０４の作製］
上述の試料２０３の作製において、表３に記載の樹脂構成の条件に変更した以外は、Ｎｏ．２０３と同様の方法でＮｏ．２０４のＬＥＤ照明を作製した。

［Ｎｏ．２０５の作製］
上述の試料２０４の作製において、樹脂成分に対し有機チタン化合物（Ｔｉ－Ａ）を２０質量％添加した樹脂構成とした以外は、Ｎｏ．２０４と同様の方法でＮｏ．２０５のＬＥＤ照明を作製した。

作製したＬＥＤ照明について以下の評価を行った。なお、実施例２では、機能フィルムはＬＥＤ照明の外側に配置されているため、スクラッチ耐性について評価し、内部に配置された場合に影響を受ける長期保存性（８５℃保存性）については評価しなかった。

［発光効率］
（全光束）
作製した各試料に対し、積分球を用いて一定電流における光束を測定した。具体的には、５ｍＡの電流密度で全光束を測定した。各試料の発光効率は、Ｎｏ．２０１の発光効率を１.００とする相対値で求め、１．２０倍以上を合格とした。

［スクラッチ耐性］
実施例１と同様の方法で評価した。

用いた機能フィルムの構成及び評価結果を表３に示す。なお、表中、成分を含有しないものは「－」で示す。

表３に示すように、参考例（出願当初の本発明）であるＮｏ．２０３～２０５は、全ての評価結果に優れていた。
一方、Ｎｏ．２０１は、機能フィルムを有さないため、発光効率に劣った。また、Ｎｏ．２０２は、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分を含有しないため、発光効率及びスクラッチ耐性に劣った。

［実施例３］
実施例３では、本願規定の樹脂成分を含有する機能層をオプティカルフィルム（ＯＣＦ：Ｏｕｔ Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｆｉｌｍ）として用いた有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）素子について特性を評価した。

《有機ＥＬ素子の作製》
〈フィルムの作製〉
［基材］
（基材準備）
樹脂基材として、厚さ１００μｍ、幅３５０ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製のルミラー（登録商標）Ｕ４８）を準備した。

（プライマー層の作製）
樹脂基材の易接着面に、ＪＳＲ株式会社製 ＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材 ＯＰＳＴＡＲ（登録商標） Ｚ７５０１を、塗布、乾燥後の層厚が４μｍになるようにワイヤーバーで塗布した後、乾燥条件：８０℃、３分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプを使用し、硬化条件：１．０Ｊ／ｃｍ^２で硬化を行い、プライマー層（下地層）を形成した。

（ガスバリア層の形成）
プライマー層を形成したＰＥＴフィルムを１２０ｍｍ×１００ｍｍの大きさで切り出し、プライマー層上に、ケイ素含有ポリマー改質層を、以下のようにして形成した。

無触媒のパーヒドロポリシラザンの２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカ（登録商標）ＮＮ１２０－２０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）と、アミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－１，６－ジアミノヘキサン）を固形分の５質量％含有するパーヒドロポリシラザン２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカＮＡＸ１２０－２０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）とを、４：１の割合で混合し、更に厚さの調整のためにジブチルエーテルで適宜希釈して、塗布液を調製した。

プライマー層上に調整した塗布液をダイコーターで乾燥後の厚さが１００ｎｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥した。真空紫外線照射装置に波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプを用いて、この真空紫外線照射装置により、乾燥後の塗膜に、２．５ｍＪ／ｃｍ^２の真空紫外線を照射する改質処理を施して、ケイ素含有ポリマー改質層を形成した。真空紫外線の照射時、酸素濃度が０．１体積％の雰囲気となるように、窒素による置換を行った。また、ＰＥＴフィルムを設置するステージの温度を８０℃とし、ステージの搬送速度を０．５ｍ／ｍｉｎとした。

続いて、厚さ３００ｎｍのケイ素化合物層をプラズマＣＶＤ法により形成し、ガスバリア層付き支持基板を得た。
ケイ素化合物層の成膜条件は、以下のとおりである。

原料ガス（ヘキサメチルジシロキサン：ＨＭＤＳＯ）の供給量：５０ｓｃｃｍ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｃｕｂｉｃ Ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ ｐｅｒ Ｍｉｎｕｔｅ）
酸素ガス（Ｏ_２）の供給量：５００ｓｃｃｍ
真空チャンバー内の真空度：３Ｐａ
プラズマ発生用電源からの印加電力：１．２ｋＷ
プラズマ発生用電源の周波数：８０ｋＨｚ
フィルムの搬送速度：０．５ｍ／ｍｉｎ

更に、ケイ素含有ポリマー改質層を上記と同様にして、３００ｎｍの膜厚で塗布、紫外線硬化した。

（第１電極の形成）
市販のスパッタ装置に、Ｉｎ_２Ｏ_３：ＺｎＯ（９０質量％：１０質量％）のターゲットを取り付け、以下の条件にて、厚さ２５０ｎｍのＩＺＯからなる陽極を形成した。

全圧：０．４ＭＰａ
アルゴン流量：９９ｓｃｃｍ
酸素流量：１ｓｃｃｍ
出力：５Ｗ／ｃｍ^２

（発光層ユニットの形成）
市販の真空蒸着装置の基材ホルダーに固定し、発光ユニットを形成する下記の化合物をそれぞれタングステン製の抵抗加熱ボートに入れ、これら基材ホルダーと各加熱ボートとを真空蒸着装置の真空槽内に取り付けた。次に、真空蒸着装置の真空槽を真空度１×１０^－４Ｐａまで減圧した後、透明導電部材を移動させながら化合物ＨＴ－１を、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で蒸着し、２０ｎｍの正孔輸送層（ＨＴＬ）を設けた。
次に、化合物Ａ－３（青色発光ドーパント）、化合物Ａ－１（緑色発光ドーパント）、化合物Ａ－２（赤色発光ドーパント）及び化合物Ｈ－１（ホスト化合物）を、以下の条件で発光層の厚さが７０ｎｍになるよう共蒸着し発光層を形成した。
化合物Ａ－３が膜厚に対し線形に５～３５質量％になるように場所により蒸着速度を変化させた。化合物Ａ－１と化合物Ａ－２は膜厚に依存することなく各々０．２質量％の濃度になるように、蒸着速度０．０００２ｎｍ／秒とした。化合物Ｈ－１は６４．６～９４．６質量％になるように場所により蒸着速度を変化させた。
その後、化合物ＥＴ－１を膜厚３０ｎｍに蒸着して電子輸送層を形成し、更にフッ化カリウム（ＫＦ）を厚さ２ｎｍで形成した。更に、アルミニウム１１０ｎｍを蒸着して対向電極を形成した。

（封止材の形成）
［接着剤組成物の調製］
ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）として「オパノール（登録商標）Ｂ５０（ＢＡＳＦ製、Ｍｗ：３４万）」１００質量部、ポリブテン樹脂（Ｂ）として「日石ポリブテン グレードＨＶ－１９００（新日本石油社製、Ｍｗ：１９００）」３０質量部、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）として「ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）７６５（ＢＡＳＦ・ジャパン製、３級のヒンダードアミン基を有する）」０．５質量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）として「ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０（ＢＡＳＦ・ジャパン製、ヒンダードフェノール基のβ位が二つともターシャリーブチル基を有する）」０．５質量部、及び環状オレフィン系重合体（Ｅ）として「Ｅａｓｔｏｔａｃ（登録商標） Ｈ－１００Ｌ Ｒｅｓｉｎ（イーストマンケミカル．Ｃｏ．製）」５０質量部を、トルエンに溶解し、固形分濃度約２５質量％の接着剤組成物を調製した。

（封止基板の作製）
上記で作製したガスバリア層付き支持基板を用意し、これをそのまま、後述するフィルムを貼付する前の基板とした。次に、調製した上記接着剤組成物の溶液を乾燥後に形成される接着層の厚さが２０μｍとなるように封止基板の陰極側（ガスバリア層側）となる表面に塗工し、１２０℃で２分間乾燥させて接着層を形成した。次に、形成した接着層面に対して、剥離シートとして、厚さ３８μｍの剥離処理をしたポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理面を貼付して、封止基板を作製した。

上述の方法で作製した封止基板を、窒素雰囲気下２４時間以上放置した。
放置後、剥離シートを除去し、８０℃に加熱した真空ラミネーターで有機発光素子の陰極を覆う形でラミネートした。更に、１２０℃で３０分加熱し封止し、「Ｎｏ．３０１」を作製した。

［Ｎｏ．３０２の作製］
Ｎｏ．２０２と同様の方法で、機能層（光学散乱層）の層厚が０．２５μｍのオプティカルフィルム（ＯＣＦ）を得た。
その後、試料３０１と同様に素子作製を行った。作製したオプティカルフィルムを前述の有機ＥＬ素子の発光面に貼り付け、評価用素子とした。

［Ｎｏ．３０３の作製］
上述の試料３０２の作製において、表４に記載の樹脂構成の成分を９８質量％、開始剤Ａを２質量％含有した塗布液に変更した以外は、Ｎｏ．３０２と同様の方法でＮｏ．３０３の有機ＥＬ素子を作製した。

［Ｎｏ．３０４の作製］
上述の試料３０３の作製において、表４の樹脂構成の条件に変更した以外は、Ｎｏ．３０３と同様の方法でＮｏ．３０４の有機ＥＬ素子を作製した。

［Ｎｏ．３０５の作製］
上述の試料３０４の作製において、樹脂成分に対し有機チタン化合物（Ｔｉ－Ａ）を２０質量％添加した樹脂構成とした以外は、Ｎｏ．３０４と同様の方法でＮｏ．３０５の有機ＥＬ素子を作製した。

作製した有機ＥＬ素子について以下の評価を行った。なお、実施例３では、ＯＣＦは有機ＥＬ素子の外側に配置されているため、スクラッチ耐性について評価し、内部に配置された場合に影響を受ける長期保存性（８５℃保存性）については評価しなかった。

［発光効率］
（全光束）
作製した各試料に対し、積分球を用いて一定電流における光束を測定した。具体的には、２０Ａ／ｍ^２の定電流密度で全光束を測定した。各試料の発光効率は、Ｎｏ．３０１の発光効率を１.００とする相対値で求め、１．２０倍以上を合格とした。

［スクラッチ耐性］
実施例１と同様の方法で評価した。

用いたＯＣＦの構成及び評価結果を表４に示す。なお、表中、成分を含有しないものは「－」で示す。

表４に示すように、参考例（出願当初の本発明）であるＮｏ．３０３～３０５は、全ての評価結果に優れていた。
一方、Ｎｏ．３０１は、ＯＣＦを有さないため、発光効率に劣った。また、Ｎｏ．３０２は、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分を含有しないため、発光効率及びスクラッチ耐性に劣った。

［実施例４］
実施例４では、本願規定の樹脂成分を含有する機能層を内部光取出し構造（ＩＥＳ：Internal light extraction structure）として用いた有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）素子について特性を評価した。

［Ｎｏ．４０１の作製］
Ｎｏ．４０１の基材はＮｏ．３０１と同構成であるため、Ｎｏ．３０１と同様に作製した。

［Ｎｏ．４０２の作製］
基材のガスバリア層まではＮｏ．４０１と同様に作製した。

屈折率２．３０、平均粒子径２９０ｎｍ、アスペクト比２以下の粒子６５個数％のＴｉＯ_２粒子（テイカ（株）製 ＪＲ－８０５）と樹脂溶液（東京化成工業（株）社製 メタクリル酸メチル））との固形分比率を１０体積％（粒子）／９０体積％（樹脂）とした液を調製し、前記基材の上（ガスバリア層上）に光学散乱層（ＩＥＳ）を形成した。

具体的には、上記ＴｉＯ_２粒子と溶媒及び添加剤を、ＴｉＯ_２粒子に対し１０％の質量比で混合し、常温（２５℃）で冷却しながら、超音波分散機（エスエムテー社製 ＵＨ－５０）に、マイクロチップステップ（エスエムテー社製 ＭＳ－３ ［３ｍｍφ］）の標準条件で１０分間分散を加え、ＴｉＯ_２の分散液を作製した。
次に、ＴｉＯ_２分散液を１００ｒｐｍで撹拌しながら、樹脂溶液を少量ずつ混合添加し、添加完了後、５００ｒｐｍまで撹拌速度を上げ、１０分間混合した後、疎水性ＰＶＤＦ０．４５μｍフィルター（ワットマン社製）にて濾過し、目的の光学散乱層用塗布液を得た。

上記塗布液をインクジェット塗布法にて、プラスチックフィルム基板上のガスバリア層側（ガスバリア層上）に塗布した後、簡易乾燥（７０℃、２分）し、更に、後述する波長制御ＩＲで基材温度８０℃未満の出力条件で５分間乾燥処理を実行した。

波長制御ＩＲとしては、赤外線照射装置（アルティメットヒーター／カーボン，明々工業株式会社製）に、波長３．５μｍ以上の赤外線を吸収する石英ガラス板２枚を取り付け、ガラス板間に冷却空気を流した波長制御赤外線ヒータを用いた。

次に、下記改質処理条件にて硬化反応を促進し、層厚０．５０μｍの光学散乱層を得た。
（改質処理装置）
装置：株式会社エム・ディ・コム製エキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ ＭＥＩＲＨ－Ｍ－１－２００－２２２－Ｈ－ＫＭ－Ｇ
波長：２２２ｎｍ
ランプ封入ガス：ＫｒＣｌ

（改質処理条件）
エキシマ光強度：８Ｊ／ｃｍ^２（２２２ｎｍ）
ステージ加熱温度：６０℃
照射装置内の酸素濃度：大気

その後、Ｎｏ．３０１と同様に、発光層ユニットを成膜した。

［Ｎｏ．４０３の作製］
上述の試料４０２の作製において、表５の条件に変更した以外は、Ｎｏ．４０２と同様の方法でＮｏ．４０３の有機ＥＬ素子を作製した。

［Ｎｏ．４０４～４１５、４１７～４２９、４３４の作製］
上述の試料４０３の作製において、表５に記載の樹脂構成の成分を９８質量％、開始剤Ａを２質量％含有した塗布液に変更した以外は、Ｎｏ．４０３と同様の方法でＮｏ．４０４～４１５、４１７～４２９、４３４の有機ＥＬ素子を作製した。
なお、表中の粒子について、Ｂ－３４は、屈折率１．６４、平均粒子径０．３０μｍ、アスペクト比２以下の割合８５個数％のＢａＳＯ_４粒子（堺化学工業（株）製）、ＳＧ－ＴＯ１００は、屈折率２．４０、平均粒子径１００ｎｍ、アスペクト比２以下の割合９０個数％のＴｉＯ_２粒子（Ｓｕｋｇｙｕｎｇ ＡＴ Ｃｏ．，Ｌｔｄ.製）、ＭＰ－６０３５は、屈折率１．４８、平均粒子径４５０ｎｍ、アスペクト比２以下の割合１００個数％のアクリル粒子（綜研化学（株）製）、ＢＴ－ＨＰ９ＤＸは、屈折率２．４２、平均粒子径３００ｎｍ、アスペクト比２以下の割合８５個数％のＢａＴｉＯ_３（（株）ノリタケカンパニーリミテド製）である。

［Ｎｏ．４１６、４３０～４３３の作製］
上述の試料４１５の作製において、樹脂成分に対し有機チタン化合物（Ｔｉ－Ａ）を２０質量％添加し、表５の条件に変更した以外は、Ｎｏ．４１５と同様の方法でＮｏ．４１６及び４３０～４３３の有機ＥＬ素子を作製した。

作製した有機ＥＬ素子について以下の評価を行った。なお、実施例４では、光学散乱層は有機ＥＬ素子の内部に配置されているため、長期保存性（８５℃保存性）について評価し、外側に配置された場合に影響を受けるスクラッチ耐性については評価しなかった。

［発光効率］
（全光束）
実施例３と同様の方法で全光束を測定した。各試料の発光効率は、試料４０１の発光効率を１.００とする相対値で求め、１．２０倍以上を合格とした。

［長期保存性］
８５℃（ｄｒｙ）の恒温槽に各試料を投入し、２４時間ごとに上記発光効率評価と同様の定電流密度における保存前と保存後との電圧上昇率を評価した。評価開始時より電圧上昇が１．０Ｖを超えた素子、又は、０．５ｍｍ以上のダークスポットが発生した素子を不可とし、不可となる期間（日数）を５段階のランクとし、保存性と定義した。

ランク５：保存後、５００時間超で１．０Ｖ超の電圧上昇がないもの、又は、０．５ｍｍ以上のダークスポットの発生がないもの
ランク４：保存後、３００時間超５００時間以内に電圧上昇が１．０Ｖを超えたもの、又は、０．５ｍｍ以上のダークスポットが発生したもの
ランク３：保存後、１００時間超３００時間以内に電圧上昇が１．０Ｖを超えたもの、又は、０．５ｍｍ以上のダークスポットが発生したもの
ランク２：保存後、２４時間超１００時間以内に電圧上昇が１．０Ｖを超えたもの、又は、０．５ｍｍ以上のダークスポットが発生したもの
ランク１：保存後、２４時間以内に電圧上昇が１．０Ｖを超えたもの、又は、０．５ｍｍ以上のダークスポットが発生したもの
なお、ランク３以上のものを合格とした。

用いたＩＥＳの構成及び評価結果を表５に示す。なお、表中、成分を含有しないものは「－」で示す。

表５に示すように、本発明の規定を満たす、又は参考例（出願当初の本発明）であるＮｏ．４０４～４２３、４２５～４３４は、全ての評価結果に優れていた。
一方、Ｎｏ．４０１は、ＩＥＳを有さないため、発光効率に劣った。また、Ｎｏ．４０２、Ｎｏ．４０３は、Ｘ－Ｙ－Ｘ’の構造の樹脂成分を含有しないため、発光効率及び長期保存性に劣った。更に、Ｎｏ．４２４は、Ｙ構成にＳを含まないため、発光効率及び長期保存性に劣った。

１０ 透明導電部材
１１ 樹脂基材
１２ 光学散乱層
１３ 粒子
１４ バインダ
１５ 透明導電膜
２０ 有機ＥＬ素子
２１ 発光層ユニット
２２ 第２電極
３０ 有機薄膜太陽電池
３１ 機能層
３２ 透明基材
３３ 透明電極
３４ 正孔輸送層
３５ 有機発電層
３６ 電子輸送層
３７ 電極

Claims (11)

1. 樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有した電子デバイスにおいて、
   前記機能層に、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有し、
   前記Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）、（４）、（７）のいずれかの構造を有し、
   前記Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基であり、
   前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ） _２ －Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（８）～（１２）のいずれかの構造である電子デバイス。
   ただし、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、前記Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。
   

   

   
2. 樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有した電子デバイスにおいて、
   前記機能層に、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有し、
   前記Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）～（７）のいずれかの構造を有し、
   前記Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基であり、
   前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（８）～（１２）のいずれかの構造である電子デバイス。
   ただし、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、前記Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。
   

   
3. 樹脂基材上に少なくとも１つの機能層を有した電子デバイスにおいて、
   前記機能層に、樹脂成分としてＸ－Ｙ－Ｘ’の構造の成分を含有し、
   前記Ｘ及びＸ’は各々独立に、少なくとも下記式（１）～（７）のいずれかの構造を有し、
   前記Ｙは少なくとも１つのＳ原子と１つの芳香環とを有する二価基であり、
   前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ’－、及び、－Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－Ｒ’－のうちのいずれかの構造であり、前記Ｒ及びＲ’は各々独立に、下記式（９）～（１２）のいずれかの構造である電子デバイス。
   ただし、前記Ｙが、－Ｒ－Ｒ’－である場合、前記Ｒ及びＲ’の少なくとも１つは下記式（１２）である。
   

   
4. 請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電子デバイスが有機エレクトロルミネッセンス素子である有機エレクトロルミネッセンス素子。
5. 光学散乱層が、前記機能層に粒子及びバインダを含有する光学散乱層である請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6. 前記光学散乱層は、前記粒子としてアスペクト比が２以下の球状粒子を８０個数％以上含む請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
7. 前記光学散乱層の厚さが、前記粒子の平均粒子径よりも厚く、前記光学散乱層において、厚さ方向の中心より前記樹脂基材側の領域の前記粒子の粒子存在体積比率が、厚さ方向の中心より、前記光学散乱層上に形成された透明導電膜側の領域の前記粒子の粒子存在体積比率よりも大きい請求項５又は請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
8. 前記光学散乱層における前記粒子の体積比率が、１体積％以上４０体積％以下である請求項５から請求項７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
9. 前記粒子と前記バインダとの屈折率差が０．２０以上１．００以下である請求項５から請求項８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
10. 前記球状粒子の平均粒子径が、２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下である請求項６、又は請求項６を引用する請求項７から請求項９のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
11. 前記光学散乱層の厚さが２５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である請求項５から請求項１０のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

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