JP7065087B2 - Aluminum laminate and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、アルミニウム積層体およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an aluminum laminate and a method for producing the same.

アルミニウムの表面には一般的に自然酸化皮膜が形成されている。しかし、自然酸化膜は、湿気や水分により腐食しやすい。そのため、湿気や水分等を含みアルミニウムを腐食させる腐食環境下で使用されるアルミニウム板の表面には、該表面を腐食から保護するために、一般的に陽極酸化皮膜が形成されている。陽極酸化皮膜による耐食性作用は、陽極酸化皮膜の厚みが厚いほど、高くなる。 A natural oxide film is generally formed on the surface of aluminum. However, the natural oxide film is easily corroded by moisture and moisture. Therefore, an anodic oxide film is generally formed on the surface of an aluminum plate used in a corrosive environment containing moisture, moisture, etc. and corroding aluminum in order to protect the surface from corrosion. The corrosion resistance of the anodic oxide film increases as the thickness of the anodic oxide film increases.

一方で、アルミニウム板は、照明の反射板や意匠性建築材料用パネルとして用いられている。このような用途では、高い光沢度とおよび高い全反射率を有するアルミニウム板が求められている。 On the other hand, aluminum plates are used as reflectors for lighting and panels for designable building materials. For such applications, an aluminum plate having high glossiness and high total reflectance is required.

しかし、従来、アルミニウム板の光沢度と全反射率は、陽極酸化皮膜を厚くするほど低下すると考えられていた。 However, conventionally, it has been considered that the glossiness and total reflectance of the aluminum plate decrease as the anodic oxide film becomes thicker.

特開２００８－１７４７６４号公報（特許文献１）には、厚さが１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるバリア型陽極酸化皮膜を備えたアルミニウム材が開示されている。上記特許文献１には、厚さが５００ｎｍを超えると、陽極酸化皮膜による可視光線の吸収の影響が大きくなり正反射性が劣るため、バリア型陽極酸化皮膜の厚みは５００ｎｍ以下とする必要がある、と記載されている。 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-174764 (Patent Document 1) discloses an aluminum material having a barrier-type anodic oxide film having a thickness of 100 nm or more and 500 nm or less. According to Patent Document 1, when the thickness exceeds 500 nm, the influence of absorption of visible light by the anodic oxide film becomes large and the specular reflectivity is inferior. Therefore, the thickness of the barrier type anodic oxide film needs to be 500 nm or less. , Is described.

特開２００８－１７４７６４号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-174764

特許文献１に記載されている厚みが５００ｎｍ以下であるバリア型陽極酸化皮膜では、例えば台所周り、屋外の湿気または水分を多く含む腐食環境下で使用されるアルミニウム板の腐食を十分に防止することができない。 The barrier-type anodic oxide film having a thickness of 500 nm or less described in Patent Document 1 sufficiently prevents corrosion of an aluminum plate used in a corrosive environment containing a large amount of moisture or moisture, for example, around the kitchen or outdoors. Can't.

また、近年建築材料用パネル用アルミニウム板には、デザインの多様化に伴い、高い写像性が要求されている。しかし、上記特許文献１では写像性は考慮されていない。 Further, in recent years, aluminum plates for panels for building materials are required to have high imageability due to diversification of designs. However, the above-mentioned Patent Document 1 does not consider the mapping property.

そこで、本発明の目的は、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するとともに、高い耐食性を有するアルミニウム積層体を提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to provide an aluminum laminate having high glossiness, high total reflectance and high image quality, as well as high corrosion resistance.

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、陽極酸化皮膜の厚みを極端に厚くして高い耐食性および表面硬度を有しながらも、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するアルミニウム積層体が得られることを見出した。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have made the thickness of the anodic oxide film extremely thick to have high corrosion resistance and surface hardness, while having high glossiness and high total reflectance. And it was found that an aluminum laminate having high imageability can be obtained.

すなわち、本実施の形態のアルミニウム積層体は、以下の特徴を有する。本実施の形態に従ったアルミニウム積層体は、第１面を有するアルミニウム基材と、第１面に接して形成されており、かつ、第１面と交差する方向において第１面から離れた位置にある第２面を有する陽極酸化皮膜とを備える。アルミニウム基材の第１面を含む表層は、純度９９．９質量％以上であるアルミニウムと、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄とを含む。陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下である。陽極酸化皮膜の第２面の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満である。陽極酸化皮膜の交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である。 That is, the aluminum laminate of the present embodiment has the following features. The aluminum laminate according to the present embodiment is formed in contact with the aluminum base material having the first surface and in contact with the first surface, and is located away from the first surface in the direction intersecting the first surface. It is provided with an anodic oxide film having a second surface in the above. The surface layer including the first surface of the aluminum base material contains aluminum having a purity of 99.9% by mass or more and iron having a purity of 0.001% by mass or more and 0.052% by mass or less. The surface roughness Ra of the second surface of the anodic oxide film is 20 nm or less. The average distance between irregularities RSm on the second surface of the anodic oxide film is less than 30 μm. The thickness of the anodic oxide film in the intersecting direction is 9 μm or more and 26 μm or less.

従来、陽極酸化皮膜の厚みが厚くなるにつれて、これを備えるアルミニウム積層体の正反射率が低下することが知られている。このときの正反射率は膜厚の増加とともに単調に低下するのではなく、低下傾向と上昇傾向を繰り返しながら、徐々に低下していくという傾向を示す。上記特許文献１の図１には、陽極酸化皮膜の厚みを０ｎｍから５５０ｎｍ程度まで徐々に厚くしていくと、アルミニウム積層体の正反射率は周期的に減少と増加を繰り返しながら、徐々に低下していく傾向が示されている。上記特許文献１では、当該傾向に基づき、陽極酸化皮膜の厚みは、１５０ｎｍ±３０ｎｍ、或いは、３００ｎｍ±２０ｎｍが好ましいと結論付けている。上記傾向は、アルミニウム基材の第１面での反射光と、陽極酸化皮膜の第２面での反射光とが干渉することにより、生じていると考えられる。 Conventionally, it has been known that as the thickness of the anodic oxide film increases, the specular reflectance of the aluminum laminate provided with the anodic oxide film decreases. At this time, the specular reflectance does not decrease monotonically with the increase in film thickness, but shows a tendency to gradually decrease while repeating a decreasing tendency and an increasing tendency. In FIG. 1 of Patent Document 1, when the thickness of the anodic oxide film is gradually increased from 0 nm to about 550 nm, the specular reflectance of the aluminum laminate gradually decreases while repeating decreasing and increasing periodically. The tendency to do is shown. Based on this tendency, Patent Document 1 concludes that the thickness of the anodic oxide film is preferably 150 nm ± 30 nm or 300 nm ± 20 nm. It is considered that the above tendency is caused by the interference between the reflected light on the first surface of the aluminum base material and the reflected light on the second surface of the anodic oxide film.

これに対し、本発明者らは、厚みが９μｍ以上２６μｍ以下の陽極酸化皮膜を備える本実施の形態に係るアルミニウム積層体は、厚みが１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下程度の陽極酸化皮膜を備えるアルミニウム積層体と比べて、高い可視光全反射率を有していることを確認した（詳細は後述する実施例参照）。また、アルミニウム積層体は、厚みが６００ｎｍ以上９μｍ未満の陽極酸化皮膜を備えるアルミニウム積層体と比べて、同等以上の高い光沢度、可視光全反射率および写像性を有しながらも、高い耐食性を有していることを確認した（詳細は後述する実施例参照）。つまり、本発明者らは、９μｍ以上２６μｍ以下という比較的広範な陽極酸化皮膜の厚みの数値範囲内において、高い光沢度、高い可視光全反射率、および高い写像性が実現され得ることを確認した。 On the other hand, the present inventors have found that the aluminum laminate according to the present embodiment having an anodic oxide film having a thickness of 9 μm or more and 26 μm or less is an aluminum laminate having an anodic oxide film having a thickness of 150 nm or more and 300 nm or less. In comparison, it was confirmed that it had a high total visible light reflectance (see Examples described later for details). Further, the aluminum laminate has high glossiness, total visible light reflectance and image quality equal to or higher than those of an aluminum laminate having an anodic oxide film having a thickness of 600 nm or more and less than 9 μm, and has high corrosion resistance. It was confirmed that it had (see Examples described later for details). That is, the present inventors have confirmed that high glossiness, high total visible light reflectance, and high image quality can be realized within a relatively wide numerical range of anodized film thickness of 9 μm or more and 26 μm or less. bottom.

本発明者らは、今回見出された上記傾向は、上述した干渉により正反射率が増減を繰り返しながら徐々に減少をしていく傾向とは異なるため、干渉作用とは異なる作用により実現されていると考えている。 The present inventors have realized the above-mentioned tendency found this time by an action different from the interference action because the above-mentioned tendency is different from the tendency that the specular reflectance gradually decreases while repeatedly increasing and decreasing due to the above-mentioned interference. I think there is.

上記アルミニウム積層体において、陽極酸化皮膜は硫酸陽極酸化皮膜である。
上記アルミニウム積層体において、アルミニウム基材および陽極酸化皮膜の交差する方向の厚みの合計値が６０μｍ以上１０００μｍ以下である。In the aluminum laminate, the anodic oxide film is a sulfuric acid anodic oxide film.
In the aluminum laminate, the total thickness of the aluminum base material and the anodic oxide film in the intersecting direction is 60 μm or more and 1000 μm or less.

上記アルミニウム積層体を製造する方法は、第１面の表面粗さＲａが１５ｎｍ以下であるアルミニウム基材を準備する工程と、アルミニウム基材の第１面上に、硫酸を含む電解液を用いて、交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である陽極酸化皮膜を形成する工程とを備える。 The method for producing the aluminum laminate is a step of preparing an aluminum base material having a surface roughness Ra of 15 nm or less on the first surface, and an electrolytic solution containing sulfuric acid on the first surface of the aluminum base material. A step of forming an anodic oxide film having a thickness of 9 μm or more and 26 μm or less in the intersecting direction is provided.

本発明によれば、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するとともに、高い耐食性を有するアルミニウム積層体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an aluminum laminate having high glossiness, high total reflectance and high image quality, and also having high corrosion resistance.

本実施の形態に係る反射部材を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the reflection member which concerns on this embodiment. 本実施の形態に係る反射部材の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the reflective member which concerns on this embodiment. 本実施の形態に係る反射部材の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the modification of the reflection member which concerns on this embodiment. 本実施の形態に係る反射部材の製造方法の変形例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the modification of the manufacturing method of the reflective member which concerns on this embodiment.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
［アルミニウム積層体の構成］
図１に示されるように、本実施の形態に係るアルミニウム積層体１０は、アルミニウム基材１と、陽極酸化皮膜２とを備える。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the same or corresponding parts will be given the same reference number and the explanation will not be repeated.
[Structure of aluminum laminate]
As shown in FIG. 1, the aluminum laminate 10 according to the present embodiment includes an aluminum base material 1 and an anodic oxide film 2.

アルミニウム基材１は、第１面１Ａ、および第１面１Ａと反対側に位置する第３面１Ｂを有している。アルミニウム基材１を構成する材料は、アルミニウム（Ａｌ）を含む。アルミニウム基材１は、例えばアルミニウム箔である。 The aluminum base material 1 has a first surface 1A and a third surface 1B located on the opposite side of the first surface 1A. The material constituting the aluminum base material 1 contains aluminum (Al). The aluminum base material 1 is, for example, an aluminum foil.

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、アルミニウム純度が９９．９質量％以上である。 The surface layer containing the first surface 1A of the aluminum base material 1 has an aluminum purity of 99.9% by mass or more.

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄（Ｆｅ）を含む。鉄の含有量が０．００１質量％未満であると、アルミニウム基材１の強度が低下する。一方で、鉄はアルミニウムへの固溶度が小さいため、アルミニウムの鋳造時にＦｅＡｌ３等の金属間化合物が晶出しやすくなる。これらの晶出物は、アルミニウム素地よりも可視光領域の反射率が低く、アルミニウム基材としての光沢度および可視光反射率を低下させる原因になる。また、ＦｅＡｌ３等の金属間化合物が存在すると、陽極酸化皮膜が不均一となり、陽極酸化皮膜の透明性が著しく悪くなり反射率が低下するだけでなく、陽極酸化皮膜の硬度も低下する。このため、鉄の含有量は０．０５２質量％以下にする必要がある。The surface layer containing the first surface 1A of the aluminum base material 1 contains iron (Fe) of 0.001% by mass or more and 0.052% by mass or less. When the iron content is less than 0.001% by mass, the strength of the aluminum base material 1 decreases. On the other hand, since iron has a low solid solubility in aluminum, intermetallic compounds such as FeAl 3 are likely to crystallize during casting of aluminum. These crystallized products have lower reflectance in the visible light region than the aluminum substrate, which causes a decrease in glossiness and visible light reflectance as an aluminum base material. Further, when an intermetallic compound such as FeAl 3 is present, the anodic oxide film becomes non-uniform, the transparency of the anodic oxide film is remarkably deteriorated, the reflectance is lowered, and the hardness of the anodic oxide film is also lowered. Therefore, the iron content needs to be 0.052% by mass or less.

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、例えば０．００１％質量％以上０．０９質量％以下のシリコン（Ｓｉ）を含んでいてもよい。シリコンはアルミニウムへの固溶度が大きく晶出物を形成し難いため、晶出物を生成させない程度の含有量であれば可視光領域の反射率を低下させることがない。また、シリコンが０．００１％質量％以上固溶されたアルミニウム基材１の機械的強度は、シリコンが固溶されていないアルミニウム基材１の機械的強度と比べて、固溶強化によって向上されている。そのため、例えばシリコンが０．００１％質量％以上固溶されたアルミニウム基材１は、シリコンが固溶されていないアルミニウム基材１と同等の機械的強度を維持しながらもより厚みの薄い箔の圧延も容易にすることができる。一方で、アルミニウム基材１が０．０９質量％よりも多いシリコンを含む場合、陽極酸化皮膜２の厚みを厚くすると陽極酸化皮膜２の透明性が低下し反射率が低下する。さらに、陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの硬度も低下する。そのため、シリコンの含有量は０．０９質量％以下にする必要がある。 The surface layer containing the first surface 1A of the aluminum base material 1 may contain, for example, 0.001% by mass or more and 0.09% by mass or less of silicon (Si). Since silicon has a high solid solubility in aluminum and is difficult to form crystallization, the reflectance in the visible light region will not be lowered if the content is such that the crystallization does not occur. Further, the mechanical strength of the aluminum base material 1 in which silicon is dissolved in an amount of 0.001% by mass or more is improved by the solid solution strengthening as compared with the mechanical strength of the aluminum base material 1 in which silicon is not dissolved in a solid solution. ing. Therefore, for example, the aluminum base material 1 in which silicon is dissolved in an amount of 0.001% by mass or more is a thinner foil while maintaining the same mechanical strength as the aluminum base material 1 in which silicon is not dissolved. Rolling can also be facilitated. On the other hand, when the aluminum base material 1 contains more than 0.09% by mass of silicon, if the thickness of the anodic oxide film 2 is increased, the transparency of the anodic oxide film 2 is lowered and the reflectance is lowered. Further, the hardness of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 also decreases. Therefore, the silicon content needs to be 0.09% by mass or less.

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層におけるＡｌ、Ｆｅ、およびＳｉ以外の残部は、不純物からなる。該不純物は、例えば不可避不純物であるが、不可避不純物の他に、光沢度、可視光の全反射率、写像性、および耐食性に大きく影響しない微量の不純物を含んでいてもよい。上記不純物は、例えば銅（Ｃｕ）、マンガン（Ｍｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ホウ素（Ｂ）、ガリウム（Ｇａ）、およびビスマス（Ｂｉ）等からなる群から選択される少なくとも１つの元素を含む。各不純物元素は、個々の含有量が０．０１質量％以下である。 The balance other than Al, Fe, and Si in the surface layer containing the first surface 1A of the aluminum base material 1 is composed of impurities. The impurities are, for example, unavoidable impurities, but in addition to the unavoidable impurities, they may contain trace impurities that do not significantly affect the glossiness, total reflectance of visible light, image quality, and corrosion resistance. The impurities include, for example, copper (Cu), manganese (Mn), magnesium (Mg), zinc (Zn), titanium (Ti), vanadium (V), nickel (Ni), chromium (Cr), zirconium (Zr), and the like. It contains at least one element selected from the group consisting of boron (B), gallium (Ga), bismuth (Bi) and the like. The individual content of each impurity element is 0.01% by mass or less.

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む上記表層は、第１面１Ａと交差する方向（深さ方向）において第１面１Ａから５μｍまでの領域である。好ましくは、第１面１Ａの表面粗さＲａは、１５ｎｍ以下である。より好ましくは、第１面１Ａの表面粗さＲａは、１０ｎｍ以下である。アルミニウム基材１の第１面１Ａをこのように小さな表面粗さＲａとする方法としては、物理的な研磨、電解研磨、化学研磨等の研磨加工、あるいは、表面が鏡面状態である圧延ロールを用いた冷間圧延、等がある。発明者によれば、電解研磨および化学研磨は湿式法であり、第１面１Ａの研磨前の表面粗さＲａが２９ｎｍ以上と粗い場合には、該第１面を表面粗さＲａが１５ｎｍ以下となるまで研磨しても、その平均凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ以上となる。この場合、当該第１面上に形成される陽極酸化皮膜の第２面の平均凹凸間距離ＲＳｍも３０μｍ以上となり、該第２面は高い写像性を有していない。好ましくは、物理的な研磨または冷間圧延により、第１面１Ａの表面粗さＲａが１５ｎｍ以下とされる。このような方法によれば、研磨前の第１面１Ａの表面粗さＲａが２９ｎｍ以上である場合にも、当該方法により表面粗さＲａとともに平均凹凸間距離ＲＳｍも小さく抑えられた研磨面を得ることができる。例えば、物理的な研磨または冷間圧延によりアルミニウム基材１の第１面１Ａの表面粗さＲａが１０ｎｍ以下とされた場合、第１面１Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍは２０μｍ以下とされ得る。そのため、当該第１面１Ａ上に形成された陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ未満とされ得るため、第２面２Ａは高い写像性を有することができる。 The surface layer including the first surface 1A of the aluminum base material 1 is a region from the first surface 1A to 5 μm in the direction (depth direction) intersecting with the first surface 1A. Preferably, the surface roughness Ra of the first surface 1A is 15 nm or less. More preferably, the surface roughness Ra of the first surface 1A is 10 nm or less. As a method of making the first surface 1A of the aluminum base material 1 having such a small surface roughness Ra, a polishing process such as physical polishing, electrolytic polishing, chemical polishing, or a rolling roll having a mirrored surface is used. Cold rolling used, etc. According to the inventor, electrolytic polishing and chemical polishing are wet methods, and when the surface roughness Ra of the first surface 1A before polishing is as rough as 29 nm or more, the surface roughness Ra of the first surface is 15 nm or less. Even if it is polished to the extent that it becomes, the average distance between unevenness RSm is 30 μm or more. In this case, the average distance between irregularities RSm on the second surface of the anodic oxide film formed on the first surface is also 30 μm or more, and the second surface does not have high image quality. Preferably, the surface roughness Ra of the first surface 1A is set to 15 nm or less by physical polishing or cold rolling. According to such a method, even when the surface roughness Ra of the first surface 1A before polishing is 29 nm or more, the polished surface in which the surface roughness Ra and the average uneven distance RSm are suppressed to be small by the method is obtained. Obtainable. For example, when the surface roughness Ra of the first surface 1A of the aluminum base material 1 is 10 nm or less by physical polishing or cold rolling, the average uneven distance RSm of the first surface 1A can be 20 μm or less. Therefore, the average distance between irregularities RSm of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 formed on the first surface 1A can be less than 30 μm, so that the second surface 2A can have high image quality.

上記表層以外のアルミニウム基材１の他の部分の組成は特に制限されるものではなく、アルミニウム基材１は例えばクラッド材として構成されていてもよい。 The composition of the other portion of the aluminum base material 1 other than the surface layer is not particularly limited, and the aluminum base material 1 may be configured as, for example, a clad material.

陽極酸化皮膜２は、第１面１Ａに接して形成されている。陽極酸化皮膜２は、第１面１Ａに接している面と、第１面１Ａと交差する方向において第１面１Ａから離れた位置にある第２面２Ａとを有している。陽極酸化皮膜２は、アルミニウム基材１の第１面１Ａに対する陽極酸化処理により形成されている。陽極酸化処理は、公知の陽極酸化処理方法であればよく、例えば硫酸、ホウ酸、シュウ酸、およびリン酸の少なくともいずれかを含む電解液を用いた陽極酸化処理である。好ましくは、陽極酸化皮膜２は、硫酸を含む電解液を用いた陽極酸化処理により形成されている。すなわち、好ましくは、陽極酸化皮膜２は硫酸陽極酸化皮膜である。好ましくは、陽極酸化皮膜２は透明である。 The anodic oxide film 2 is formed in contact with the first surface 1A. The anodic oxide film 2 has a surface in contact with the first surface 1A and a second surface 2A located at a position away from the first surface 1A in a direction intersecting with the first surface 1A. The anodic oxide film 2 is formed by anodizing the first surface 1A of the aluminum base material 1. The anodizing treatment may be any known anodizing treatment method, and is an anodizing treatment using, for example, an electrolytic solution containing at least one of sulfuric acid, boric acid, oxalic acid, and phosphoric acid. Preferably, the anodic oxide film 2 is formed by an anodic oxidation treatment using an electrolytic solution containing sulfuric acid. That is, preferably, the anodic oxide film 2 is a sulfuric acid anodic oxide film. Preferably, the anodic oxide film 2 is transparent.

陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みは、９μｍ以上２６μｍ以下である。陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みは、陽極酸化皮膜２において第１面１Ａと接している面と第２面２Ａとの間の距離である。陽極酸化皮膜の上記交差する方向の厚みが９μｍよりも小さい場合には、陽極酸化皮膜の第２面に入射した光のアルミニウム基材の第１面での反射光と、該入射光の第２面での反射光とが干渉する。この場合、陽極酸化皮膜の第２面上に干渉色もしくは白色の濁りが生じ、アルミニウム積層体は高い光沢度、高い可視光全反射率、もしくは高い写像性を実現できない。また、陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが９μｍよりも小さい場合には、屋外で使用されるアルミニウム積層体１０に要求される耐食性を満足し得ず、また第２面２Ａの表面硬度も低下する。 The thickness of the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is 9 μm or more and 26 μm or less. The thickness of the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is the distance between the surface of the anodic oxide film 2 in contact with the first surface 1A and the second surface 2A. When the thickness of the anodic oxide film in the intersecting direction is smaller than 9 μm, the reflected light of the light incident on the second surface of the anodic oxide film on the first surface of the aluminum substrate and the second surface of the incident light. It interferes with the reflected light on the surface. In this case, interference color or white turbidity occurs on the second surface of the anodic oxide film, and the aluminum laminate cannot realize high glossiness, high total visible light reflectance, or high image quality. Further, when the thickness of the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is smaller than 9 μm, the corrosion resistance required for the aluminum laminate 10 used outdoors cannot be satisfied, and the surface hardness of the second surface 2A is not satisfied. Also declines.

一方、陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが２６μｍよりも大きい場合には、陽極酸化処理中に陽極酸化皮膜の溶解も進むため、陽極酸化皮膜２の膜質が低下し、第２面２Ａの表面硬度が低下する。 On the other hand, when the thickness of the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is larger than 26 μm, the anodic oxide film is also dissolved during the anodic oxidation treatment, so that the film quality of the anodic oxide film 2 deteriorates and the second surface 2A The surface hardness of the surface is reduced.

そのため、陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であることにより、その第２面２Ａは高い光沢度、高い可視光全反射率、および高い写像性を有しながらも高い表面硬度を有している。 Therefore, when the thickness of the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is 9 μm or more and 26 μm or less, the second surface 2A thereof has high glossiness, high total visible light reflectance, and high image quality. Has surface hardness.

好ましくは、陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みは、１２μｍ以上２０μｍ以下である。このような陽極酸化皮膜２を備えるアルミニウム積層体１０は、生産性が向上されているとともに、第２面２Ａにおいて高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有し、かつ高い耐食性を有している。 Preferably, the thickness of the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is 12 μm or more and 20 μm or less. The aluminum laminate 10 provided with such an anodic oxide film 2 has improved productivity, high glossiness, high total reflectance and high image quality on the second surface 2A, and also has high corrosion resistance. are doing.

陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａは、２０ｎｍ以下である。アルミニウム積層体１０に入射した光の一部は陽極酸化皮膜２の第２面２Ａで反射し、残部は第２面２Ａで屈折しアルミニウム基材１の第１面１Ａに到達する。陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍを超える場合には、第２面２Ａで反射した光または第２面２Ａで屈折した光が拡散することにより、第２面２Ａの光沢度および全反射率が低下する。陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であれば、第２面２Ａで反射した光または第２面２Ａで屈折した光の拡散を抑制でき、第２面２Ａは高い光沢度および高い全反射率を有している。なお、陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａはＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年版）およびＩＳＯ４２８７（１９９７年版）で定義されている算術平均粗さＲａを、面に対して適用できるように三次元に拡張して算出された値である。 The surface roughness Ra of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 is 20 nm or less. A part of the light incident on the aluminum laminate 10 is reflected by the second surface 2A of the anodic oxide film 2, and the rest is refracted by the second surface 2A to reach the first surface 1A of the aluminum base material 1. When the surface roughness Ra of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 exceeds 20 nm, the light reflected by the second surface 2A or the light refracted by the second surface 2A is diffused, so that the surface roughness Ra of the second surface 2A is diffused. Glossiness and total reflectance are reduced. When the surface roughness Ra of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 is 20 nm or less, the diffusion of the light reflected by the second surface 2A or the light refracted by the second surface 2A can be suppressed, and the second surface 2A is high. It has glossiness and high total reflectance. The surface roughness Ra of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 is a tertiary surface roughness Ra defined by JIS B0601 (2001 version) and ISO4287 (1997 version) so that the arithmetic average roughness Ra can be applied to the surface. It is a value calculated by expanding it based on the original.

陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍは、３０μｍ未満である。第２面２Ａ内において互いに直交する任意の２方向での平均凹凸間距離ＲＳｍが、３０μｍ未満である。例えばアルミニウム基材１が圧延工程を経て製造されている場合、アルミニウム基材１の圧延方向（ＲＤ方向）とこれと直交する方向（ＴＤ方向）での第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが、３０μｍ未満である。陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上である場合には、第２面２Ａの写像性が低下する。陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満であれば、該第２面２Ａは高い写像性を有している。なお、平均凹凸間距離はＪＩＳ規格ＪＩＳ Ｂ０６０１ （２００１年版）によって規定されている。 The average distance between irregularities RSm on the second surface 2A of the anodic oxide film 2 is less than 30 μm. The average distance between unevenness RSm in any two directions orthogonal to each other in the second surface 2A is less than 30 μm. For example, when the aluminum base material 1 is manufactured through a rolling process, the average unevenness distance RSm of the second surface 2A in the rolling direction (RD direction) of the aluminum base material 1 and the direction orthogonal to the rolling direction (TD direction) is , Less than 30 μm. When the average distance between unevenness RSm of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 is 30 μm or more, the mapability of the second surface 2A is deteriorated. When the average distance between unevenness RSm of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 is less than 30 μm, the second surface 2A has high imageability. The average distance between unevenness is specified by JIS standard JIS B0601 (2001 version).

陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａおよび平均凹凸間距離ＲＳｍを上記数値範囲とするために、アルミニウム基材１の第１面１Ａの表面粗さＲａが小さくされているのが好ましい。好ましくは、上述のように、アルミニウム基材１の第１面１Ａの表面粗さＲａが１５ｎｍ以下である。 In order to keep the surface roughness Ra of the second surface 2A of the anodic oxide film 2 and the average distance between unevenness RSm within the above numerical ranges, the surface roughness Ra of the first surface 1A of the aluminum base material 1 is reduced. preferable. Preferably, as described above, the surface roughness Ra of the first surface 1A of the aluminum base material 1 is 15 nm or less.

好ましくは、アルミニウム基材１および陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みの合計値は、６０μｍ以上１０００μｍ以下である。該合計値が６０μｍ未満であると、アルミニウム基材の厚みよりも陽極酸化皮膜の厚みが厚くなる。そのため、アルミニウム積層体は、脆くなり、割れ等の異常を生じやすい。一方、上記合計値が１０００μｍを超えると、アルミニウム積層体の重量が増大するため好ましくない。より好ましくは、アルミニウム基材１および陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みの合計値は、１００μｍ以上８００μｍ以下である。アルミニウム基材１および陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みの合計値が上記数値範囲内であるアルミニウム積層体１０を得るには、一般的な製造方法に従った鋳造および圧延により得られたアルミニウム基材１に対して、陽極酸化処理を施せばよい。 Preferably, the total thickness of the aluminum base material 1 and the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is 60 μm or more and 1000 μm or less. When the total value is less than 60 μm, the thickness of the anodic oxide film becomes thicker than the thickness of the aluminum base material. Therefore, the aluminum laminate becomes brittle and tends to cause abnormalities such as cracking. On the other hand, if the total value exceeds 1000 μm, the weight of the aluminum laminate increases, which is not preferable. More preferably, the total thickness of the aluminum base material 1 and the anodic oxide film 2 in the intersecting direction is 100 μm or more and 800 μm or less. In order to obtain the aluminum laminate 10 in which the total thickness of the aluminum base material 1 and the anodized film 2 in the intersecting directions is within the above numerical range, it was obtained by casting and rolling according to a general manufacturing method. The aluminum base material 1 may be anodized.

＜アルミニウム積層体の製造方法＞
次に、本実施の形態に係るアルミニウム積層体の製造方法の一例について説明する。図２に示されるように、本実施の形態に係るアルミニウム積層体の製造方法は、鋳塊を準備する工程（Ｓ１０）、鋳塊に均質化処理を行う工程（Ｓ２０）、鋳塊を熱間圧延する工程（Ｓ３０）、熱間圧延により得られた熱延材を冷間圧延する工程（Ｓ４０）、冷間圧延により得られた冷延材を最終仕上げとして冷間圧延（以下、最終仕上げ冷間圧延という）してアルミニウム基材を形成する工程（Ｓ５０）、および陽極酸化皮膜を形成する工程（Ｓ６０）を備える。<Manufacturing method of aluminum laminate>
Next, an example of the method for manufacturing the aluminum laminate according to the present embodiment will be described. As shown in FIG. 2, the method for manufacturing an aluminum laminate according to the present embodiment includes a step of preparing an ingot (S10), a step of homogenizing the ingot (S20), and hot rolling of the ingot. The step of rolling (S30), the step of cold rolling the hot rolled material obtained by hot rolling (S40), and the cold rolling of the cold rolled material obtained by cold rolling as the final finish (hereinafter referred to as final finish cold). It is provided with a step (S50) of forming an aluminum base material by rolling (referred to as interrolling) and a step (S60) of forming an anodized film.

まず、鋳塊を準備する（工程（Ｓ１０））。具体的には、所定の組成のアルミニウムの溶湯を調製し、アルミニウムの溶湯を凝固させることにより鋳塊を鋳造（例えば半連続鋳造）する。溶湯中のＦｅ、Ｍｎ、Ｓｉなどの金属元素の含有量は、アルミニウム基材１の上記表層におけるアルミニウム純度が９９．９質量％以上となるように制御されている。溶湯中のＦｅの含有量は、アルミニウム基材１の上記表層におけるＦｅの含有量が０．００１質量％以上０．０５２質量％以下となるように制御されている。好ましくは、溶湯中のＳｉの含有量は、アルミニウム基材１の上記表層におけるＳｉの含有量が０．００１％質量％以上０．０９質量％以下となるように制御されている。 First, an ingot is prepared (step (S10)). Specifically, a molten aluminum having a predetermined composition is prepared, and the ingot is cast (for example, semi-continuous casting) by solidifying the molten aluminum. The content of metal elements such as Fe, Mn, and Si in the molten metal is controlled so that the aluminum purity in the surface layer of the aluminum base material 1 is 99.9% by mass or more. The content of Fe in the molten metal is controlled so that the content of Fe in the surface layer of the aluminum base material 1 is 0.001% by mass or more and 0.052% by mass or less. Preferably, the Si content in the molten metal is controlled so that the Si content in the surface layer of the aluminum base material 1 is 0.001% by mass or more and 0.09% by mass or less.

次に、得られた鋳塊に均質化熱処理を行う（工程（Ｓ２０））。均質化熱処理は、一般的な操業条件の範囲内であればよいが、例えば加熱温度を４００℃以上６３０℃以下、加熱時間を１時間以上２０時間以下とする条件で行われる。 Next, the obtained ingot is subjected to a homogenization heat treatment (step (S20)). The homogenization heat treatment may be carried out within the range of general operating conditions, but is carried out under conditions such that the heating temperature is 400 ° C. or higher and 630 ° C. or lower, and the heating time is 1 hour or longer and 20 hours or lower.

次に、鋳塊を熱間圧延する（工程（Ｓ３０））。本工程により、所定の厚みＷ１を有する熱延材が得られる。熱間圧延は、１回または複数回行われてもよい。なお、連続鋳造によって薄板のアルミニウム鋳塊を製造する場合には、当該薄板状の鋳塊は本工程を介さずに冷間圧延されてもよい。 Next, the ingot is hot-rolled (step (S30)). By this step, a hot-rolled material having a predetermined thickness W1 can be obtained. Hot rolling may be performed once or multiple times. When a thin aluminum ingot is produced by continuous casting, the thin plate ingot may be cold-rolled without going through this step.

次に、熱間圧延により得られた熱延材を冷間圧延する（工程（Ｓ４０））。本工程により、所定の厚みＷ２を有する冷延材（最終仕上げ冷間圧延工程（Ｓ５０）における被圧延材）が得られる。本工程において、冷間圧延はたとえば中間焼鈍工程を挟んで複数回行われる。たとえば、まず熱延材に対し第１冷間圧延工程（Ｓ４０Ａ）を実施して熱延材の厚みＷ１よりも薄く冷延材の厚みＷ２よりも厚い圧延材を形成する。次に、得られた圧延材に対し中間焼鈍工程（Ｓ４０Ｂ）を施す。中間焼鈍は、一般的な操業条件の範囲内であればよいが、例えば焼鈍温度を５０℃以上５００℃以下、焼鈍時間を１秒以上２０時間以下とする条件で行われる。次に、焼鈍後の圧延材に対し第２冷間圧延工程（Ｓ４０Ｃ）を実施して厚みＷ２の冷延材を形成する。 Next, the hot-rolled material obtained by hot rolling is cold-rolled (step (S40)). By this step, a cold-rolled material having a predetermined thickness W2 (material to be rolled in the final finish cold rolling step (S50)) is obtained. In this step, cold rolling is performed a plurality of times, for example, with an intermediate annealing step interposed therebetween. For example, first, the first cold rolling step (S40A) is performed on the hot-rolled material to form a rolled material thinner than the hot-rolled material thickness W1 and thicker than the cold-rolled material thickness W2. Next, the obtained rolled material is subjected to an intermediate annealing step (S40B). The intermediate annealing may be performed within the range of general operating conditions, but for example, the annealing temperature is 50 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and the annealing time is 1 second or longer and 20 hours or lower. Next, a second cold rolling step (S40C) is performed on the rolled material after annealing to form a cold-rolled material having a thickness of W2.

次に、冷延材を最終仕上げ冷間圧延する（工程（Ｓ５０））。本工程では、圧延ロールを用いて被圧延材を最終仕上げ冷間圧延する。圧延ロールは被圧延材と接触して圧延するロール面を有している。被圧延材を挟んで配置される一対の圧延ロールのうち、少なくとも一方の圧延ロールのロール面の表面粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さが５０ｎｍより大きい圧延ロールを用いて被圧延材を圧延すると、得られるアルミニウム基材は第１面の表面粗さＲaは２０ｎｍ以上となる。本工程で使用する圧延ロールの表面粗さＲａは、できるだけ小さいことが好ましく、より好ましくは４０ｎｍ以下である。このようにして、アルミニウム基材１が準備される。 Next, the cold-rolled material is finally finished and cold-rolled (step (S50)). In this step, the material to be rolled is finally finished and cold-rolled using a rolling roll. The rolled roll has a roll surface that comes into contact with the material to be rolled and is rolled. Of the pair of rolling rolls arranged so as to sandwich the material to be rolled, it is preferable that the surface roughness Ra of the roll surface of at least one of the rolling rolls is 50 nm or less. When the material to be rolled is rolled using a rolling roll having a surface roughness of more than 50 nm, the obtained aluminum base material has a surface roughness Ra of 20 nm or more on the first surface. The surface roughness Ra of the rolling roll used in this step is preferably as small as possible, more preferably 40 nm or less. In this way, the aluminum base material 1 is prepared.

次に、得られたアルミニウム基材１の第１面１Ａ上に陽極酸化皮膜２が形成される（工程（Ｓ６０））。本工程（Ｓ６０）は一般的に公知となっている陽極酸化処理方法により実施され得る。陽極酸化処理は、例えば硫酸浴、ホウ酸浴、シュウ酸浴、およびリン酸浴からなる群から選択される少なくとも１つを電解液とし、これにアルミニウム基材１を浸漬させて陽極とし、該電解液中に浸漬させた他の電極を陰極とし、これらの間を通電することにより行われる。陽極酸化処理方法の各条件は、陽極酸化皮膜２の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下、第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下、第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満となるように、適宜選択される。好ましくは、硫酸浴が電解液に用いられる。このようにして、図１に示される本実施の形態に係るアルミニウム積層体１０を得ることができる。 Next, the anodic oxide film 2 is formed on the first surface 1A of the obtained aluminum base material 1 (step (S60)). This step (S60) can be carried out by a generally known anodizing method. In the anodizing treatment, at least one selected from the group consisting of, for example, a sulfuric acid bath, a boric acid bath, a oxalic acid bath, and a phosphoric acid bath is used as an electrolytic solution, and an aluminum base material 1 is immersed therein to form an anodizing solution. This is performed by using another electrode immersed in the electrolytic solution as a cathode and energizing between them. The conditions of the anodizing treatment method are such that the thickness of the anodic oxide film 2 is 9 μm or more and 26 μm or less, the surface roughness Ra of the second surface 2A is 20 nm or less, and the average uneven distance RSm of the second surface 2A is less than 30 μm. Is selected as appropriate. Preferably, a sulfuric acid bath is used as the electrolytic solution. In this way, the aluminum laminate 10 according to the present embodiment shown in FIG. 1 can be obtained.

＜変形例＞
アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、Ｓｉを含んでいなくてもよい。上述のように、Ｓｉはアルミニウム基材１の機械的強度の向上に寄与するが、厚み等他のパラメータによって要求される機械的強度を確保し得る場合には、アルミニウム基材１はＳｉを含有していなくてもよい。この場合、アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層におけるＡｌおよびＦｅ以外の残部を構成する上記不純物の含有量の合計は、０．１０質量％以下であればよい。<Modification example>
The surface layer containing the first surface 1A of the aluminum base material 1 does not have to contain Si. As described above, Si contributes to the improvement of the mechanical strength of the aluminum base material 1, but the aluminum base material 1 contains Si when the mechanical strength required by other parameters such as thickness can be secured. You don't have to. In this case, the total content of the impurities constituting the balance other than Al and Fe in the surface layer including the first surface 1A of the aluminum base material 1 may be 0.10% by mass or less.

図３に示されるように、アルミニウム積層体１１は、アルミニウム基材１の上記第３面１Ｂに接するように設けられている第２陽極酸化皮膜３をさらに備えていてもよい。第２陽極酸化皮膜３は、上記交差する方向において、第３面１Ｂから離れた位置にある第４面３Ｂを有している。つまり、アルミニウム積層体１１は、アルミニウム基材１と、アルミニウム基材１を挟むように設けられた陽極酸化皮膜２および第２陽極酸化皮膜３を備えている。 As shown in FIG. 3, the aluminum laminate 11 may further include a second anodic oxide film 3 provided in contact with the third surface 1B of the aluminum base material 1. The second anodic oxide film 3 has a fourth surface 3B located at a position away from the third surface 1B in the intersecting direction. That is, the aluminum laminate 11 includes an aluminum base material 1, an anodic oxide film 2 and a second anodic oxide film 3 provided so as to sandwich the aluminum base material 1.

アルミニウム積層体１１において、アルミニウム基材１の第３面１Ｂを含む表層は、第１面１Ａを含む表層と同様に、アルミニウム純度が９９．９質量％以上であり、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄を含む。このようなアルミニウム基材１は、上述したアルミニウム積層体１０の製造方法の上記工程（Ｓ１０）～（Ｓ５０）と同様の方法により準備され得る。 In the aluminum laminate 11, the surface layer containing the third surface 1B of the aluminum base material 1 has an aluminum purity of 99.9% by mass or more and 0.001% by mass or more 0, similarly to the surface layer containing the first surface 1A. Contains less than 0.052% by mass of iron. Such an aluminum base material 1 can be prepared by the same method as in the above steps (S10) to (S50) of the above-mentioned method for manufacturing the aluminum laminate 10.

アルミニウム積層体１１において、第２陽極酸化皮膜３は、上記陽極酸化皮膜２と同様に、上記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であり、第４面３Ｂの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、第４面３Ｂの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満である。このような第２陽極酸化皮膜３は、上述したアルミニウム積層体１０の製造方法の上記工程（Ｓ６０）と同様の方法により形成され得る。このようなアルミニウム積層体１１では、陽極酸化皮膜２の第２面２Ａおよび第２陽極酸化皮膜３の第４面３Ｂが、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有する。 In the aluminum laminate 11, the second anodic oxide film 3 has a thickness of 9 μm or more and 26 μm or less in the intersecting direction, and the surface roughness Ra of the fourth surface 3B is 20 nm or less, similarly to the anodic oxide film 2. Yes, the average distance between unevenness RSm of the fourth surface 3B is less than 30 μm. Such a second anodic oxide film 3 can be formed by the same method as in the above step (S60) of the above-mentioned method for manufacturing the aluminum laminate 10. In such an aluminum laminate 11, the second surface 2A of the anodic oxide film 2 and the fourth surface 3B of the second anodic oxide film 3 have high glossiness, high total reflectance, and high image quality.

上記アルミニウム積層体１１において、アルミニウム基材１の第３面１Ｂを含む表層の組成は、第１面１Ａを含む表層の組成と異なっていてもよいが、好ましくは同じである。アルミニウム基材１は、例えばクラッド材の様に、第１面１Ａを含む表層および第３面１Ｂを含む表層の各組成と、これらに挟まれている中間層の組成とが異なっていてもよい。 In the aluminum laminate 11, the composition of the surface layer including the third surface 1B of the aluminum base material 1 may be different from the composition of the surface layer including the first surface 1A, but is preferably the same. The aluminum base material 1 may have different compositions of the surface layer including the first surface 1A and the surface layer including the third surface 1B, and the composition of the intermediate layer sandwiched between them, for example, like a clad material. ..

図４に示されるように、上記アルミニウム積層体の製造方法において、上記工程（Ｓ５０）の後であって上記工程（Ｓ６０）の前に、最終仕上げ冷間圧延により得られたアルミニウム基材を研磨加工する工程（Ｓ７０）が実施されてもよい。本工程（Ｓ７０）では、上記アルミニウム基材において第１面１Ａとなるべき表面が研磨加工され、第１面１Ａを有するアルミニウム基材１が形成される。上記アルミニウム積層体１１の製造方法においては、第１面１Ａとなるべき表面および第３面１Ｂとなるべき表面が研磨加工され、第１面１Ａおよび第３面１Ｂを有するアルミニウム基材１が形成される。研磨加工方法は、物理的な研磨、電解研磨、および化学研磨等のうちから選択され得るが、これに限られるものではない。好ましくは、本工程（Ｓ７０）では、物理的な研磨が実施される。 As shown in FIG. 4, in the method for manufacturing an aluminum laminate, the aluminum base material obtained by the final finish cold rolling is polished after the step (S50) and before the step (S60). The processing step (S70) may be carried out. In this step (S70), the surface of the aluminum base material to be the first surface 1A is polished to form the aluminum base material 1 having the first surface 1A. In the method for manufacturing the aluminum laminate 11, the surface to be the first surface 1A and the surface to be the third surface 1B are polished to form an aluminum base material 1 having the first surface 1A and the third surface 1B. Will be done. The polishing method can be selected from, but is not limited to, physical polishing, electrolytic polishing, chemical polishing and the like. Preferably, in this step (S70), physical polishing is carried out.

上記アルミニウム積層体の製造方法において、上記工程（Ｓ５０）の後であって上記工程（Ｓ６０）の前に、最終仕上げ冷間圧延により得られたアルミニウム基材を所定の形に成形する工程が実施されてもよい。もしくは上記工程（Ｓ６０）の後に、工程（Ｓ６０）により得られた上記アルミニウム積層体１０，１１を成型する工程が実施されてもよい。また、上記工程（Ｓ６０）の後に、アルミニウム積層体１０の少なくとも１つの面上に、例えばアルミニウム基材１の第３面１Ｂ上に、皮膜を形成する工程が実施されてもよい。該皮膜を構成する材料は、樹脂、金属、およびセラミックス等からなる群から選択される少なくとも１つである。上記皮膜は例えば接着層であり、上記皮膜を形成する工程の後に、該皮膜を介してアルミニウム積層体１０，１１を他の部材または壁等に接着させる工程が実施されてもよい。 In the method for manufacturing an aluminum laminate, a step of forming an aluminum base material obtained by final finish cold rolling into a predetermined shape is carried out after the step (S50) and before the step (S60). May be done. Alternatively, after the step (S60), a step of molding the aluminum laminates 10 and 11 obtained by the step (S60) may be carried out. Further, after the above step (S60), a step of forming a film on at least one surface of the aluminum laminate 10, for example, on the third surface 1B of the aluminum base material 1 may be performed. The material constituting the film is at least one selected from the group consisting of resins, metals, ceramics and the like. The film is, for example, an adhesive layer, and after the step of forming the film, a step of adhering the aluminum laminates 10 and 11 to another member, a wall, or the like may be performed via the film.

以下に説明するように本実施の形態の実施例と比較例の反射部材の試料を作製し、それらの光沢度、全反射率、写像性および耐食性を評価した。 As described below, samples of the reflective members of Examples and Comparative Examples of this embodiment were prepared, and their glossiness, total reflectance, imageability and corrosion resistance were evaluated.

まず、表１および表２に示されるアルミニウム純度およびＦｅの含有量が異なるアルミニウムを用いて、以下に示す製造工程に従って、実施例および比較例のアルミニウム基材を作製した。 First, using aluminum having different aluminum purity and Fe content shown in Tables 1 and 2, aluminum substrates of Examples and Comparative Examples were prepared according to the production steps shown below.

Figure 0007065087000001
Figure 0007065087000001

Figure 0007065087000002
Figure 0007065087000002

ＤＣ鋳造によって得られたアルミニウムの鋳塊を加熱炉にて均質化熱処理を行った。その後、厚みが約６．５ｍｍになるまで熱間圧延を行った。得られた熱間圧延材に対し、厚みが所定の値になるまで、複数回の冷間圧延を行った。複数回の冷間圧延は中間焼鈍を挟んで実施し、表１および表２に示す厚みのアルミニウム基材を作製した。 The aluminum ingot obtained by DC casting was homogenized and heat-treated in a heating furnace. Then, hot rolling was performed until the thickness became about 6.5 mm. The obtained hot-rolled material was cold-rolled a plurality of times until the thickness reached a predetermined value. Multiple cold rollings were carried out with intermediate annealing in between to prepare aluminum substrates with the thicknesses shown in Tables 1 and 2.

この際、実施例１～１０，１３および比較例１～１１については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが４０ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。実施例１１，１２および比較例１２，１３については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが５０ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。比較例１４～２１については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが１００ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。比較例２２～２５については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが１５０ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。 At this time, in Examples 1 to 10 and 13 and Comparative Examples 1 to 11, rolling was performed using a rolling roll having a surface roughness Ra of 40 nm in the final finish cold rolling. For Examples 11 and 12 and Comparative Examples 12 and 13, rolling was performed using a rolling roll having a surface roughness Ra of 50 nm in the final finish cold rolling. For Comparative Examples 14 to 21, rolling was performed using a rolling roll having a surface roughness Ra of 100 nm in the final finish cold rolling. For Comparative Examples 22 to 25, rolling was performed using a rolling roll having a surface roughness Ra of 150 nm in the final finish cold rolling.

さらに、実施例９，１０および比較例１０、１１、１８～２１については、最終仕上げ冷間圧延により得られたアルミニウム基材の第１面となるべき面（圧延ロールに圧延された面）に対し、電解研磨を行った。電解研磨は、６０体積％のりん酸と２０体積％硫酸とを含み浴温度７０℃の水溶液中に、上記アルミニウム基材を電流密度２０００Ａ／ｍ2の条件で２０分浸漬させることにより行った。Further, in Examples 9, 10 and Comparative Examples 10, 11, 18 to 21, the surface to be the first surface (the surface rolled into a rolling roll) of the aluminum base material obtained by the final finish cold rolling On the other hand, electrolytic polishing was performed. Electropolishing was carried out by immersing the aluminum substrate in an aqueous solution containing 60% by volume of phosphoric acid and 20% by volume of sulfuric acid at a bath temperature of 70 ° C. for 20 minutes under the condition of a current density of 2000 A / m 2 .

なお、各試料に対し、均質化熱処理は、加熱温度を４００℃以上６３０℃以下、加熱時間を１時間以上２０時間以下とする条件で行った。各試料に対し、中間焼鈍は、例えば焼鈍温度を５０℃以上５００℃以下、焼鈍時間を１秒以上２０時間以下とする条件で行った。 The homogenization heat treatment was performed on each sample under the conditions that the heating temperature was 400 ° C. or higher and 630 ° C. or lower, and the heating time was 1 hour or longer and 20 hours or lower. For each sample, intermediate annealing was performed under the conditions that the annealing temperature was, for example, 50 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and the annealing time was 1 second or longer and 20 hours or lower.

得られたアルミニウム基材について、第１面の表面粗さＲａおよび平均凹凸間距離ＲＳｍを測定した。測定結果を表３および表４に示す。なお、各アルミニウム基材の第１面の表面粗さＲａおよび平均凹凸間距離ＲＳｍの測定方法は、後述するアルミニウム積層体の第２面の表面粗さＲａおよび平均凹凸間距離ＲＳｍの測定方法と同一とした。 With respect to the obtained aluminum base material, the surface roughness Ra of the first surface and the average distance between unevenness RSm were measured. The measurement results are shown in Tables 3 and 4. The method for measuring the surface roughness Ra and the average distance between irregularities RSm on the first surface of each aluminum base material is the same as the method for measuring the surface roughness Ra and the average distance between irregularities RSm on the second surface of the aluminum laminate, which will be described later. It was made the same.

Figure 0007065087000003
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Figure 0007065087000004
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表３に示すとおり、表面粗さＲａが５０ｎｍ以下の圧延ロールを使用して冷間圧延された各実施例のアルミニウム基材の第１面の表面粗さＲａは１５ｎｍ以下、平均凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ未満であった。各比較例のアルミニウム基材の第１面の表面粗さＲａは表４に示すとおりであった。表４に示すとおり、表面粗さＲａが１００ｎｍの圧延ロールを使用して冷間圧延され、その後電解研磨が施された比較例１８～２１の第１面の表面粗さＲａはいずれも１５ｎｍ以下であったが、各第１面の平均凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ以上であり、特に圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）では６０μｍ超えであった。 As shown in Table 3, the surface roughness Ra of the first surface of the aluminum base material of each example cold-rolled using a rolling roll having a surface roughness Ra of 50 nm or less is 15 nm or less, and the average uneven distance RSm. Was less than 30 μm. The surface roughness Ra of the first surface of the aluminum base material of each comparative example is as shown in Table 4. As shown in Table 4, the surface roughness Ra of the first surface of Comparative Examples 18 to 21 which was cold-rolled using a rolling roll having a surface roughness Ra of 100 nm and then subjected to electrolytic polishing was 15 nm or less. However, the average distance between unevenness RSm on each first surface was 30 μm or more, and particularly in the direction perpendicular to the rolling direction (TD), it was more than 60 μm.

上記のようにして得られたアルミニウム基材に対し、陽極酸化処理を行った。電解液は、１５体積％の硫酸を含み浴温度２１℃の水溶液とした。各試料を当該電解液に浸漬させて陽極とし、これと陰極との間に電流密度１３０ｍＡ／ｍ2の電流を所定時間流し、陽極酸化処理を行った。各試料の陽極酸化処理時間は、所定の厚みの陽極酸化被覆層が得られる時間とした。つまり、各試料に対する陽極酸化処理条件は、陽極酸化処理時間以外は同等とした。The aluminum substrate obtained as described above was anodized. The electrolytic solution was an aqueous solution containing 15% by volume of sulfuric acid and having a bath temperature of 21 ° C. Each sample was immersed in the electrolytic solution to form an anode, and a current having a current density of 130 mA / m 2 was passed between the sample and the cathode for a predetermined time to perform anodizing treatment. The anodizing treatment time of each sample was set to the time for obtaining an anodizing coating layer having a predetermined thickness. That is, the anodizing treatment conditions for each sample were the same except for the anodizing treatment time.

さらに、全試料に対し、同等の条件で封孔処理を行った。封孔処理は、陽極酸化皮膜が形成されている各試料を、濃度５ｇ／Ｌの酢酸ニッケルと濃度５ｇ／Ｌの硼酸とを含み浴温度９０℃の水溶液中に２０分浸漬させ、次いで温度９８℃の純水中に２０分浸漬させることにより行った。 Furthermore, all the samples were sealed under the same conditions. In the sealing treatment, each sample on which the anodized film is formed is immersed in an aqueous solution containing nickel acetate having a concentration of 5 g / L and boric acid having a concentration of 5 g / L for 20 minutes at a bath temperature of 90 ° C., and then immersed at a temperature of 98. This was done by immersing in pure water at ° C for 20 minutes.

このようにして作成された各試料を、以下の評価方法により評価した。
＜評価方法＞
得られた陽極酸化皮膜の厚みはフィッシャー・インストルメンツ製渦電流式膜厚計ＩＳＯＳＣＯＰＥ ＦＭＰ１０を用い、ＦＴＡ３．３Ｈプローブで測定した。また、得られたアルミニウム積層体の厚みは、株式会社ミツトヨ製デジタル式マイクロメータＭＤＣ－ＭＸ ＩＰ６５により測定した。Each sample thus prepared was evaluated by the following evaluation method.
<Evaluation method>
The thickness of the obtained anodic oxide film was measured with an FTA3.3H probe using an eddy current type film thickness meter ISOSCOPE FMP10 manufactured by Fisher Instruments. The thickness of the obtained aluminum laminate was measured by a digital micrometer MDC-MX IP65 manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.

原子間力顕微鏡による表面凹凸の観察は、株式会社日立ハイテクサイエンス製の走査型プローブ顕微鏡ＡＦＭ５０００ＩＩを用いて、ダイナミックフォースモード方式（非接触）による表面形状を８０μｍ×８０μｍの矩形の視野で行った。得られた観察結果に対して、最小二乗近似によって曲面を求めてフィッティングを行う３次曲面自動傾き補正で試料の傾きを補正し、表面粗さＲａを測定した。表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年版）およびＩＳＯ４２８７（１９９７年版）で定義されている算術平均粗さＲａを、観察された表面全体に対して適用できるように三次元に拡張して算出された値である。 The surface unevenness was observed by an atomic force microscope using a scanning probe microscope AFM5000II manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., and the surface shape by the dynamic force mode method (non-contact) was performed in a rectangular field of view of 80 μm × 80 μm. With respect to the obtained observation result, the inclination of the sample was corrected by the cubic curved surface automatic inclination correction in which the curved surface was obtained by the least squares approximation and fitting was performed, and the surface roughness Ra was measured. The surface roughness Ra is calculated by extending the arithmetic mean roughness Ra defined in JIS B0601 (2001 edition) and ISO4287 (1997 edition) in three dimensions so that it can be applied to the entire observed surface. Value.

平均凹凸間距離ＲＳｍは株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄを用い、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年版）およびＩＳＯ４２８７（１９９７年版）で定義されている算術平均凹凸間距離ＲＳｍを測定した。測定種別は粗さ測定で、形状除去は最小二乗直線法で、評価長さは４ｍｍで、カットオフ種別は２ＲＣ位相非補助で、カットオフ波長λcは、本測定で得られるＲａが０．１μｍ未満の場合は０．２５ｍｍとし、０．１μｍ以上の場合は０．８ｍｍとして測定した。測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、それぞれの方向の値を評価した。 As the average uneven distance RSm, SURFCOM 1400D manufactured by Tokyo Precision Co., Ltd. was used, and the arithmetic average uneven distance RSm defined in JIS B0601 (2001 version) and ISO4287 (1997 version) was measured. The measurement type is roughness measurement, the shape removal is the minimum squared linear method, the evaluation length is 4 mm, the cutoff type is 2RC phase non-assisted, and the cutoff wavelength λc is Ra of 0.1 μm obtained in this measurement. When it was less than 0.1 μm, it was measured as 0.25 mm, and when it was 0.1 μm or more, it was measured as 0.8 mm. The measurement was performed in two directions, the rolling direction (RD) and the direction perpendicular to the rolling direction (TD), and the values in each direction were evaluated.

光沢度の測定は、日本電色工業株式会社製Ｇｌｏｓｓ ｍｅｔｅｒ ＶＧ７０００を用い、光入射角６０°で光沢度を測定した。光沢度の測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、それぞれの方向の値を評価した。光沢度が高いほど金属光沢感が得られている。 The glossiness was measured by using a Glossmeter VG7000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. at a light incident angle of 60 °. The glossiness was measured in two directions, the rolling direction (RD) and the direction perpendicular to the rolling direction (TD), and the values in each direction were evaluated. The higher the glossiness, the more metallic luster is obtained.

全反射率の測定は、日本分光株式会社製紫外可視分光光度計Ｖ５７０を用い、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製積分球用標準白板スペクトラロンをリファレンスとして積分球での全反射率を波長域２５０ｎｍ～２０００ｎｍの範囲で測定した。得られた全反射率測定値から、波長域４００ｎｍ～８００ｎｍの可視光の平均値を求めた。全反射率の測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、これらの平均値として全反射率を評価した。 The total reflectance is measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer V570 manufactured by Nippon Spectral Co., Ltd., and the total reflectance of the integrating sphere is measured in the wavelength range of 250 nm to 2000 nm with reference to the standard white plate spectralon for integrating spheres manufactured by Labsphere. It was measured. From the obtained total reflectance measurement value, the average value of visible light in the wavelength range of 400 nm to 800 nm was obtained. The total reflectance was measured in two directions, the rolling direction (RD) and the direction perpendicular to the rolling direction (TD), and the total reflectance was evaluated as the average value of these directions.

写像性の評価にはＲＨＯＰＯＩＮＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ製オールインワン光沢計ＩＱ３を用い、ＡＳＴＭ Ｄ５７６７に準じたＤＯＩ値を写像性として評価した。測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、それぞれの方向の値を評価した。 An all-in-one gloss meter IQ3 manufactured by RHOPOINT INSTRUMENTS was used for the evaluation of the mapability, and the DOI value according to ASTM D5767 was evaluated as the mapability. The measurement was performed in two directions, the rolling direction (RD) and the direction perpendicular to the rolling direction (TD), and the values in each direction were evaluated.

表面硬度はビッカース硬度により評価した。得られた各実施例及び比較例の陽極酸化皮膜の第２面に対して交差する方向（深さ方向）のビッカース硬度を測定した。ビッカース硬度は、表面の傷付き難さを指標として、島津製作所製ビッカース硬度計ＨＭＶ－１を用い、ダイヤモンド圧子による圧下で、圧力が４９０ｍＮで５秒間押し込んだ後のビッカース硬度測定試験を行った。 The surface hardness was evaluated by the Vickers hardness. The Vickers hardness in the direction (depth direction) intersecting the second surface of the anodic oxide film of each of the obtained Examples and Comparative Examples was measured. The Vickers hardness was measured by using a Vickers hardness tester HMV-1 manufactured by Shimadzu Corporation with the surface scratch resistance as an index, and a Vickers hardness measurement test was carried out after pressing the Vickers hardness at a pressure of 490 mN for 5 seconds under pressure with a diamond indenter.

耐食性はキャス試験を行い、以下の内容で評価した。キャス試験はＪＩＳ Ｈ８６８１－２（１９９９年版）に記載の試験条件で実施し、試験時間はＪＩＳ Ｈ８６０１（１９９９年版）の６．２．２節に記載の用途例を参考に、屋外使用を想定した３２時間とした。評価はＪＩＳ Ｈ８６８１－２（１９９９年版）に記載の基準を用い、ＪＩＳ Ｈ８６０１（１９９９年版）６．３節に記載のとおり、レイティングナンバー９以上を合格（表７，８中Ａ）、レイティングナンバー９未満を不合格（表７，８中Ｆ）とした。 Corrosion resistance was evaluated by a Cass test with the following contents. The Cass test was carried out under the test conditions described in JIS H8681-2 (1999 version), and the test time was assumed to be used outdoors with reference to the application example described in Section 6.2.2 of JIS H8601 (1999 version). It was set to 32 hours. For the evaluation, the criteria described in JIS H8681-2 (1999 edition) are used, and as described in Section 6.3 of JIS H8601 (1999 edition), the rating number 9 or higher is passed (A in Tables 7 and 8), and the rating number 9 Less than was rejected (F in Tables 7 and 8).

＜評価結果＞
上記評価方法による評価結果は表５～表８に示される。<Evaluation result>
The evaluation results by the above evaluation method are shown in Tables 5 to 8.

Figure 0007065087000005
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Figure 0007065087000006
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Figure 0007065087000007
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Figure 0007065087000008
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実施例１～１３は、アルミニウム純度が９９．９質量％以上であり、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄を含むアルミニウム基材と、厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であり、第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満である。さらに、実施例１～１３は、アルミニウム基材および陽極酸化皮膜の厚みの合計値が６０μｍ以上１０００μｍ以下である。このような実施例１～１３は、光沢度がＲＤ方向およびＴＤ方向において６３％以上、可視光全反射率が８３％以上、ＤＯＩ値がＲＤ方向およびＴＤ方向において８０以上であり、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有していた。さらに、実施例１～１３は、ビッカース硬度３００ＨＶ以上、キャス試験に合格しており、高い耐食性を有していた。また、実施例１～１３においては、陽極酸化被膜の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下の範囲内での増加に伴って、光沢度、可視光全反射率、および写像性が低下するという傾向は確認されなかった。 In Examples 1 to 13, the aluminum base material containing iron having an aluminum purity of 99.9% by mass or more and 0.001% by mass or more and 0.052% by mass or less and a thickness of 9 μm or more and 26 μm or less are the first. The surface roughness Ra of the two surfaces is 20 nm or less, and the average unevenness distance RSm between the RD direction and the TD direction of the second surface is less than 30 μm. Further, in Examples 1 to 13, the total thickness of the aluminum base material and the anodic oxide film is 60 μm or more and 1000 μm or less. In such Examples 1 to 13, the glossiness is 63% or more in the RD direction and the TD direction, the total visible light reflectance is 83% or more, the DOI value is 80 or more in the RD direction and the TD direction, and the high glossiness is high. It had high total reflectance and high image quality. Further, Examples 1 to 13 had a Vickers hardness of 300 HV or more, passed the Cass test, and had high corrosion resistance. Further, in Examples 1 to 13, it was confirmed that as the thickness of the anodic oxide film increases in the range of 9 μm or more and 26 μm or less, the glossiness, the total visible light reflectance, and the image quality tend to decrease. There wasn't.

これに対し、比較例１～１１は、実施例１～１０と最終仕上げ冷間圧延の条件が同一であるが、少なくともアルミニウムの化学組成、アルミニウム基材の厚み、電解研磨の有無および陽極酸化皮膜の厚みのいずれかが異なるものである。 On the other hand, Comparative Examples 1 to 11 have the same final finish cold rolling conditions as those of Examples 1 to 10, but at least the chemical composition of aluminum, the thickness of the aluminum base material, the presence or absence of electrolytic polishing, and the anodic oxide film. Any of the thicknesses of is different.

アルミニウム基材のアルミニウム純度が９９．９質量％以上であるが、アルミニウム基材のＦｅの含有量が０．０５２質量％より多い比較例１は、光沢度が６３％未満であり、高い光沢度を有していなかった。これは、比較例１のアルミニウム基材の第１面にはＦｅを含む金属間化合物が多く晶出し、それによりアルミニウム基材の光沢度が低下したためと考えられる。 Comparative Example 1 in which the aluminum purity of the aluminum base material is 99.9% by mass or more but the Fe content of the aluminum base material is more than 0.052% by mass has a glossiness of less than 63% and a high glossiness. Did not have. It is considered that this is because a large amount of intermetallic compounds containing Fe are crystallized on the first surface of the aluminum base material of Comparative Example 1, and as a result, the glossiness of the aluminum base material is lowered.

アルミニウム基材のアルミニウム純度が９９．９質量％より低く、かつアルミニウム基材のＦｅの含有量が０．０５２質量％より多い比較例２～４は、光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満であり、高い光沢度および高い全反射率を有していなかった。さらに、陽極酸化皮膜の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である比較例４は、ＲＤ方向およびＴＤ方向のＤＯＩ値が８０以下であり、高い写像性を有していなかった。これは、比較例２～４のアルミニウム基材の第１面にはＦｅを含む金属間化合物が多く晶出していることにより、アルミニウム基材の光沢度および全反射率が低下するとともに、陽極酸化皮膜の透明性が著しく低下するためと考えられる。さらに、陽極酸化皮膜の厚みが９μｍ未満である比較例２および３は、陽極酸化皮膜のビッカース硬度が２９０ＨＶ以下、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。これは、アルミニウム基材の上記晶出物の存在により陽極酸化皮膜の膜質が不均一となっている上、陽極酸化皮膜が十分に厚く形成されていないためと考えられる。 Comparative Examples 2 to 4 in which the aluminum purity of the aluminum base material is lower than 99.9% by mass and the Fe content of the aluminum base material is more than 0.052% by mass have a glossiness of less than 63% and total reflection of visible light. The rate was less than 83% and did not have high gloss and high total reflectance. Further, in Comparative Example 4 in which the thickness of the anodic oxide film was 9 μm or more and 26 μm or less, the DOI values in the RD direction and the TD direction were 80 or less, and the image quality was not high. This is because a large amount of intermetallic compounds containing Fe are crystallized on the first surface of the aluminum base material of Comparative Examples 2 to 4, so that the glossiness and total reflectance of the aluminum base material are lowered and anodic oxidation is performed. This is probably because the transparency of the film is significantly reduced. Further, in Comparative Examples 2 and 3 in which the thickness of the anodic oxide film was less than 9 μm, the Vickers hardness of the anodic oxide film was 290 HV or less, the Cass test was unsuccessful, and the anodic oxide film did not have high corrosion resistance. It is considered that this is because the film quality of the anodic oxide film is non-uniform due to the presence of the above-mentioned crystallization of the aluminum base material, and the anodic oxide film is not formed sufficiently thick.

実施例６～８とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが９μｍ未満である比較例５～８は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。さらに、陽極酸化皮膜の厚みが０．５μｍ以下である比較例５および６は、可視光全反射率が８３％未満であり、高い可視光全反射率を有していなかった。これは、陽極酸化皮膜の第２面に入射した光のアルミニウム基材の第１面での反射光と、該入射光の第２面での反射光との干渉によると考えられる。 Only the thickness of the anodic oxide film is different from Examples 6 to 8, and Comparative Examples 5 to 8 having a thickness of less than 9 μm have a Vickers hardness of 290 HV or less, fail the Cass test, and have high corrosion resistance. I didn't have it. Further, Comparative Examples 5 and 6 having a thickness of the anodic oxide film of 0.5 μm or less had a total visible light reflectance of less than 83% and did not have a high total visible light reflectance. It is considered that this is due to the interference between the reflected light of the light incident on the second surface of the anodic oxide film on the first surface of the aluminum base material and the reflected light on the second surface of the incident light.

実施例６～８とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが２６μｍ超えである比較例９は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下であり、表面硬度が低く、十分に高い耐食性（耐擦傷性）を有していなかった。 Comparative Example 9 in which only the thickness of the anodic oxide film is different from Examples 6 to 8 and the thickness is more than 26 μm has a Vickers hardness of 290 HV or less, a low surface hardness, and a sufficiently high corrosion resistance (resistance to corrosion). It did not have scratchability).

実施例９，１０とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが９μｍ未満である比較例１０，１１は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。 Only the thickness of the anodic oxide film is different from Examples 9 and 10, and Comparative Examples 10 and 11 having the thickness of less than 9 μm have a Vickers hardness of 290 HV or less, fail the Cass test, and have high corrosion resistance. I didn't have it.

実施例１１，１２とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが９μｍ未満である比較例１２，１３は、ＴＤ方向の光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満であり、高い光沢度および高い可視光全反射率を有していなかった。これは、陽極酸化皮膜の第２面に入射した光のアルミニウム基材の第１面での反射光と、該入射光の第２面での反射光との干渉によると考えられる。さらに、比較例１２，１３は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下で、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。 Only the thickness of the anodic oxide film is different from Examples 11 and 12, and in Comparative Examples 12 and 13 having the thickness of less than 9 μm, the glossiness in the TD direction is less than 63% and the total visible light reflectance is 83. It was less than% and did not have high gloss and high total visible light reflectance. It is considered that this is due to the interference between the reflected light of the light incident on the second surface of the anodic oxide film on the first surface of the aluminum base material and the reflected light on the second surface of the incident light. Further, Comparative Examples 12 and 13 had a Vickers hardness of 290 HV or less, failed the Cass test, and did not have high corrosion resistance.

比較例１４～１７は、陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ超え、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上であった。該比較例１４～１７は、ＲＤ方向およびＴＤ方向の光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満であり、高い光沢度および高い可視光全反射率を有していなかった。さらに、比較例１４～１７においては陽極酸化皮膜の厚みが厚くなるほどＴＤ方向のＤＯＩ値が低下する傾向が確認された。陽極酸化皮膜の厚みが７．２μｍ以上である比較例１５～１７はＴＤ方向のＤＯＩ値が８０以下であり、高い写像性を有していなかった。 In Comparative Examples 14 to 17, the surface roughness Ra of the second surface of the anodic oxide film was more than 20 nm, and the average uneven distance RSm between the RD direction and the TD direction of the second surface was 30 μm or more. Comparative Examples 14 to 17 had a glossiness in the RD direction and the TD direction of less than 63%, a total visible light reflectance of less than 83%, and did not have a high glossiness and a high total visible light reflectance. Further, in Comparative Examples 14 to 17, it was confirmed that the DOI value in the TD direction tends to decrease as the thickness of the anodic oxide film increases. In Comparative Examples 15 to 17 in which the thickness of the anodic oxide film was 7.2 μm or more, the DOI value in the TD direction was 80 or less, and the image quality was not high.

比較例１８～２１は、陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａは２０ｎｍ以下であるが、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上であり、特に第２面のＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍはＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍよりも長く、５７μｍ以上であった。該比較例１８～２１は、ＴＤ方向のＤＯＩ値が８０未満であり、高い写像性を有していなかった。さらに、比較例１８～２１においては陽極酸化皮膜の厚みが薄くなるほどビッカース硬度が低下する傾向が確認された。陽極酸化皮膜の厚みが９μｍ未満である比較例１８，１９はビッカース硬度が２９０ＨＶ以下で、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。 In Comparative Examples 18 to 21, the surface roughness Ra of the second surface of the anodized film is 20 nm or less, but the average uneven distance RSm between the RD direction and the TD direction of the second surface is 30 μm or more, and particularly the second surface. The average unevenness distance RSm in the TD direction of the surface was longer than the average unevenness distance RSm in the TD direction, and was 57 μm or more. In Comparative Examples 18 to 21, the DOI value in the TD direction was less than 80 and the image quality was not high. Further, in Comparative Examples 18 to 21, it was confirmed that the Vickers hardness tends to decrease as the thickness of the anodic oxide film decreases. Comparative Examples 18 and 19 having a thickness of the anodic oxide film of less than 9 μm had a Vickers hardness of 290 HV or less, failed the Cass test, and did not have high corrosion resistance.

比較例２２～２５は、陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａが７４ｎｍ超え、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上であった。特に、比較例２２～２５の第２面のＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍは３００μｍ以上であった。該比較例２２～２５は、ＲＤ方向およびＴＤ方向の光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満、ＴＤ方向のＤＯＩ値が８０以下であり、高い光沢度および高い可視光全反射率、および高い写像性を有していなかった。 In Comparative Examples 22 to 25, the surface roughness Ra of the second surface of the anodic oxide film exceeded 74 nm, and the average uneven distance RSm between the RD direction and the TD direction of the second surface was 30 μm or more. In particular, the average distance between irregularities RSm in the TD direction of the second surface of Comparative Examples 22 to 25 was 300 μm or more. In Comparative Examples 22 to 25, the glossiness in the RD direction and the TD direction is less than 63%, the total visible light reflectance is less than 83%, the DOI value in the TD direction is 80 or less, and the glossiness is high and the total visible light is high. It did not have reflectance and high image quality.

以上の結果より、本実施の形態によって、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するとともに、高い耐食性を有するアルミニウム積層体を提供できることが確認された。本実施の形態に係るアルミニウム積層体は、台所周りや屋外等湿気や水分を多く含む腐食環境下で使用される照明の反射板や建築材料用パネルに特に好適である。 From the above results, it was confirmed that the present embodiment can provide an aluminum laminate having high glossiness, high total reflectance and high image quality, as well as high corrosion resistance. The aluminum laminate according to the present embodiment is particularly suitable for a reflector for lighting and a panel for building materials used in a corrosive environment containing a large amount of moisture and moisture such as around a kitchen or outdoors.

今回開示された実施の形態と実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は以上の実施の形態と実施例ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正と変形を含むものであることが意図される。 It should be considered that the embodiments and examples disclosed here are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is not shown in the above embodiments and examples, but is indicated by the scope of claims and is intended to include all modifications and modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

１ アルミニウム基材、１Ａ 第１面、１Ｂ 第３面、２ 第１コート層、２Ａ 第２面、３ 第２コート層、３Ｂ 第４面、４ 基板、１０，１１ 反射部材。 1 Aluminum base material, 1A 1st surface, 1B 3rd surface, 2 1st coat layer, 2A 2nd surface, 3 2nd coat layer, 3B 4th surface, 4 substrate, 10, 11 reflective members.

Claims (4)

第１面を有するアルミニウム基材と、
前記第１面に接して形成されており、かつ、前記第１面と交差する方向において前記第１面から離れた位置にある第２面を有する陽極酸化皮膜とを備え、
前記アルミニウム基材の前記第１面を含む表層は、純度９９．９質量％以上であるアルミニウムと、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄とを含み、
前記陽極酸化皮膜の前記第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、
前記陽極酸化皮膜の前記第２面内において互いに直交する任意の２方向での平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満であり、
前記陽極酸化皮膜の前記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である、アルミニウム積層体。 An aluminum substrate with a first surface and
It comprises an anodic oxide film formed in contact with the first surface and having a second surface located away from the first surface in a direction intersecting the first surface.
The surface layer including the first surface of the aluminum base material contains aluminum having a purity of 99.9% by mass or more and iron having a purity of 0.001% by mass or more and 0.052% by mass or less.
The surface roughness Ra of the second surface of the anodic oxide film is 20 nm or less, and the surface roughness Ra is 20 nm or less.
The average distance between irregularities RSm in any two directions orthogonal to each other in the second surface of the anodic oxide film is less than 30 μm.
An aluminum laminate having an anodic oxide film having a thickness of 9 μm or more and 26 μm or less in the intersecting direction. 前記陽極酸化皮膜は、硫酸陽極酸化皮膜である、請求項１に記載のアルミニウム積層体。 The aluminum laminate according to claim 1, wherein the anodic oxide film is a sulfuric acid anodic oxide film. 前記アルミニウム基材および前記陽極酸化皮膜の前記交差する方向の厚みの合計値が６０μｍ以上１０００μｍ以下である、請求項１または２に記載のアルミニウム積層体。 The aluminum laminate according to claim 1 or 2, wherein the total thickness of the aluminum base material and the anodic oxide film in the intersecting direction is 60 μm or more and 1000 μm or less. 請求項１～３のいずれか１項に記載のアルミニウム積層体を製造する方法であって、
前記第１面の表面粗さＲａが１５ｎｍ以下である前記アルミニウム基材を準備する工程と、
前記アルミニウム基材の前記第１面上に、硫酸を含む電解液を用いて、前記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である陽極酸化皮膜を形成する工程とを備える、アルミニウム積層体の製造方法。 The method for producing an aluminum laminate according to any one of claims 1 to 3.
The step of preparing the aluminum base material having a surface roughness Ra of the first surface of 15 nm or less, and
Production of an aluminum laminate comprising a step of forming an anodic oxide film having a thickness of 9 μm or more and 26 μm or less in the intersecting direction using an electrolytic solution containing sulfuric acid on the first surface of the aluminum base material. Method.
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