JP7059574B2 - Electro-optics, electronic devices, head-mounted displays - Google Patents

Electro-optics, electronic devices, head-mounted displays Download PDF

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、電気光学装置、電子機器、ヘッドマウントディスプレイに関する。 The present invention relates to an electro-optic device, an electronic device, and a head-mounted display.

電気光学装置として、例えば、基板上に、青色光を発光する発光素子を含む複数色の発光素子が画素ごとに形成され、複数色の副画素を単位として構成される複数の画素が行列状に配置され、各発光色の副画素のトランジスターと、青色光を発光する発光素子の発光部との相対的な位置関係が、両者間の距離が各色で均等になるようにレイアウトされている表示装置が提案されている（特許文献１）。 As an electro-optical device, for example, a plurality of color light emitting elements including a light emitting element that emits blue light are formed for each pixel on a substrate, and a plurality of pixels composed of subpixels of a plurality of colors as a unit are formed in a matrix. A display device that is arranged so that the relative positional relationship between the transistor of the sub-pixel of each emission color and the light emitting part of the light emitting element that emits blue light is laid out so that the distance between the two is even. Has been proposed (Patent Document 1).

上記特許文献１の表示装置によれば、青色光が最もエネルギーが高く、青色光の一部が隣接する画素に漏れたとしても、漏れ光の影響による画素トランジスターの特性変動の色ごとのばらつきを軽減できるとしている。 According to the display device of Patent Document 1, blue light has the highest energy, and even if a part of blue light leaks to adjacent pixels, the variation in the characteristics of the pixel transistor due to the influence of the leaked light varies from color to color. It is said that it can be reduced.

特開２００９－２８２１９０号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-281190

上記特許文献１では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の副画素において、アノード電極上にウインド絶縁膜が形成され、ウインド絶縁膜の凹部に発光素子であるＲ、Ｇ、Ｂの有機ＥＬ（Electro－luminescence）素子が設けられている。各色の有機ＥＬ素子の発光部は、ウインド絶縁膜の凹部における開口（ウインド）であるとしている。 In Patent Document 1, in the red (R), green (G), and blue (B) sub-pixels, a wind insulating film is formed on the anode electrode, and R, G, which is a light emitting element, is formed in the recess of the window insulating film. The organic EL (Electro-luminescence) element of B is provided. The light emitting portion of the organic EL element of each color is said to be an opening (window) in the recess of the window insulating film.

しかしながら、上記特許文献１の副画素のレイアウトでは、青色光の一部が隣接する他の色の副画素に漏れたとき、青色光と他の色光とが混ざる混色が起こることになる。特に副画素の法線方向に対して斜め方向から見たときに、混色が視認され易い。 However, in the layout of the sub-pixels of Patent Document 1, when a part of the blue light leaks to the sub-pixels of other adjacent colors, a color mixture in which the blue light and the other color light are mixed occurs. In particular, when viewed from an oblique direction with respect to the normal direction of the sub-pixel, the color mixture is easily visually recognized.

また、有機ＥＬ素子における発光部すなわち副画素の配置は、有機ＥＬ素子を駆動するトランジスターの配置と関連している。具体的には、有機ＥＬ素子のアノード電極とトランジスターとの電気的な接続を図るコンタクトは、発光部を規定するウインド絶縁膜の凹部よりも外側に設けられている。例えば、上記特許文献１の実施例１や実施例２に示された画素形成領域（画素）における副画素の配置によれば、青（Ｂ）の副画素に対して列方向に赤（Ｒ）や緑（Ｇ）の副画素が配置されており、アノード電極のコンタクトは、列方向において青（Ｂ）の副画素と赤（Ｒ）や緑（Ｇ）の副画素の間に設けられている。したがって、１つの画素形成領域（画素）内では、青（Ｂ）の副画素と赤（Ｒ）や緑（Ｇ）の副画素との列方向の間隔は同じと考えられる。一方で、列方向に隣り合う画素においては、一方の画素の青（Ｂ）の副画素と、他方の画素の赤（Ｒ）や緑（Ｇ）の副画素との間にはアノード電極のコンタクトが設けられていない。それゆえ、一方の画素の青（Ｂ）の副画素と、他方の画素の赤（Ｒ）や緑（Ｇ）の副画素との列方向の間隔は、画素内における列方向の副画素の間隔と異なることが考えられる。すなわち、有機ＥＬ素子を駆動するトランジスターの配置に対応して、副画素間の距離が行方向または列方向、あるいは行方向及び列方向において異なるように設定されることが考えられる。そうすると、副画素の法線方向に対してどのような方向から斜めに見るかによって、混色の状態が変化することになる。このような、混色の状態を視野角に起因する色ずれと呼ぶと、視野角に起因する色ずれが発生するという課題があった。 Further, the arrangement of the light emitting portion, that is, the sub-pixels in the organic EL element is related to the arrangement of the transistor for driving the organic EL element. Specifically, the contact for electrically connecting the anode electrode of the organic EL element and the transistor is provided outside the recess of the window insulating film that defines the light emitting portion. For example, according to the arrangement of the sub-pixels in the pixel forming region (pixels) shown in the first and second embodiments of Patent Document 1, the red (R) is red (R) in the column direction with respect to the blue (B) sub-pixels. And green (G) sub-pixels are arranged, and the contacts of the anode electrodes are provided between the blue (B) sub-pixels and the red (R) and green (G) sub-pixels in the column direction. .. Therefore, it is considered that the distance between the blue (B) sub-pixel and the red (R) or green (G) sub-pixel in the column direction is the same in one pixel forming region (pixel). On the other hand, in the pixels adjacent to each other in the column direction, the contact of the anode electrode is between the blue (B) sub-pixel of one pixel and the red (R) or green (G) sub-pixel of the other pixel. Is not provided. Therefore, the distance in the column direction between the blue (B) sub-pixel of one pixel and the red (R) or green (G) sub-pixel of the other pixel is the distance between the sub-pixels in the column direction within the pixel. It is possible that it is different from. That is, it is conceivable that the distances between the sub-pixels are set differently in the row direction or the column direction, or in the row direction and the column direction, corresponding to the arrangement of the transistors that drive the organic EL element. Then, the state of color mixing changes depending on the direction in which the sub-pixels are viewed diagonally with respect to the normal direction. When such a state of color mixing is called color shift due to the viewing angle, there is a problem that color shift due to the viewing angle occurs.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。 The present invention has been made to solve at least a part of the above-mentioned problems, and can be realized as the following form or application example.

［適用例］本適用例に係る電気光学装置は、第１方向に並んだ、第１サブ画素、第１の領域、第２サブ画素、第２の領域、第３サブ画素、第３の領域、第４サブ画素、第４の領域を有し、前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素と異なる色であり、前記第３サブ画素は、前記第４サブ画素と異なる色であり、前記第１の領域は、前記第１サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第２の領域は、前記第２サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第３の領域は、前記第３サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第４の領域は、前記第４サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第１の領域、前記第２の領域、前記第３の領域、前記第４の領域の前記第１方向の長さが同じであることが好ましい。 [Application Example] The electro-optical device according to this application example has a first sub-pixel, a first region, a second sub-pixel, a second region, a third sub-pixel, and a third region arranged in a first direction. The first sub-pixel has a color different from that of the second sub-pixel, and the third sub-pixel has a color different from that of the fourth sub-pixel. The first region is a pixel contact region of the first sub-pixel, the second region is a pixel contact region of the second sub-pixel, and the third region is the third sub-pixel. The fourth region is the pixel contact region of the fourth sub-pixel, and is the first region, the second region, the third region, and the fourth region. It is preferable that the lengths in the first direction are the same.

本適用例の構成によれば、異なる色の第１サブ画素と第２サブ画素との間の第１方向の長さと、同じく異なる色の第３サブ画素と第４サブ画素との間の第１方向の長さとが同じであることから、異なる色のサブ画素間における第１方向の視角による混色の状態が異なることが緩和される。すなわち、第１方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置を提供することができる。また、第１方向におけるサブ画素間の領域を画素コンタクト領域とすることで、異なる色のサブ画素間を画素コンタクト領域によって区分して、異なる色のサブ画素に対する電気的な接続を図ることができる。言い換えれば、第１方向における異なる色のサブ画素間を区分するための専用な構成を備える必要がない。 According to the configuration of this application example, the length in the first direction between the first sub-pixel and the second sub-pixel of different colors and the first between the third sub-pixel and the fourth sub-pixel of the same different colors. Since the length in one direction is the same, it is alleviated that the state of color mixing due to the viewing angle in the first direction differs between the sub-pixels of different colors. That is, it is possible to provide an electro-optic device in which color shift due to a viewing angle in the first direction is reduced. Further, by setting the area between the sub-pixels in the first direction as the pixel contact area, it is possible to divide the sub-pixels of different colors by the pixel contact area and to make an electrical connection to the sub-pixels of different colors. .. In other words, it is not necessary to have a dedicated configuration for separating sub-pixels of different colors in the first direction.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第１方向に並んだ、第５サブ画素、第５の領域、第６サブ画素、第６の領域をさらに有し、前記第５サブ画素は、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素に対して、前記第１方向に交差する第２方向に並び、前記第６サブ画素は、前記第３サブ画素及び前記第４サブ画素に対して、前記第２方向に並び、前記第５の領域は、前記第５サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第６の領域は、前記第６サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第５の領域、前記第６の領域の前記第１方向の長さが同じであることが好ましい。
この構成によれば、追加された第５サブ画素と第６サブ画素との間の第１方向の長さもまた同じとなっている。したがって、第１方向の視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えのよいカラー表示が可能な電気光学装置を提供することができる。また、第５の領域及び第６の領域をそれぞれ画素コンタクト領域とすることで、第５サブ画素と第６サブ画素とを画素コンタクト領域によって区分して、それぞれのサブ画素に対する電気的な接続を図ることができる。 In the electro-optical device according to the above application example, the electro-optical device further includes a fifth sub-pixel, a fifth region, a sixth sub-pixel, and a sixth region arranged in the first direction, and the fifth sub-pixel has a fifth sub-pixel. The first sub-pixel and the second sub-pixel are arranged in a second direction intersecting the first direction, and the sixth sub-pixel is relative to the third sub-pixel and the fourth sub-pixel. Arranged in the second direction, the fifth region is the pixel contact region of the fifth sub-pixel, the sixth region is the pixel contact region of the sixth sub-pixel, and the fifth region. , It is preferable that the length of the sixth region in the first direction is the same.
According to this configuration, the length in the first direction between the added fifth sub-pixel and the sixth sub-pixel is also the same. Therefore, it is possible to provide an electro-optic device capable of displaying a good-looking color by reducing the color shift caused by the viewing angle in the first direction. Further, by setting the fifth region and the sixth region as pixel contact regions, the fifth sub-pixel and the sixth sub-pixel are divided by the pixel contact region, and electrical connection to each sub-pixel is made. Can be planned.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２方向における前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素と前記第５サブ画素との間の第７の領域と、前記第２方向における前記第３サブ画素及び前記第４サブ画素と前記第６サブ画素との間の第８の領域と、を有し、前記第７の領域、前記第８の領域の前記第２方向の長さが同じであることが好ましい。
この構成によれば、第１方向及び第２方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置を提供できる。 In the electro-optic device according to the application example, the first sub-pixel in the second direction, the seventh region between the second sub-pixel and the fifth sub-pixel, and the second in the second direction. It has 3 sub-pixels and an 8th region between the 4th sub-pixel and the 6th sub-pixel, and the 7th region and the 8th region have the same length in the second direction. Is preferable.
According to this configuration, it is possible to provide an electro-optic device in which color shift due to viewing angles in the first direction and the second direction is reduced.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第１方向に並ぶ、前記第１サブ画素、前記第１の領域、前記第２サブ画素、前記第２の領域に対して、前記第３サブ画素、前記第３の領域、前記第４サブ画素、前記第４の領域が、前記第１方向に沿って並列しているとしてもよい。
この構成によれば、最大で４色のサブ画素が第１方向に等間隔で配置される。したがって、第１方向の視野角に起因する色ずれが低減され、優れた色表現が可能な電気光学装置を提供することができる。 In the electro-optic device according to the above application example, the third sub-pixel is arranged with respect to the first sub-pixel, the first region, the second sub-pixel, and the second region arranged in the first direction. , The third region, the fourth sub-pixel, and the fourth region may be arranged in parallel along the first direction.
According to this configuration, sub-pixels of up to four colors are arranged at equal intervals in the first direction. Therefore, it is possible to provide an electro-optic device capable of excellent color expression by reducing color shift caused by a viewing angle in the first direction.

［適用例］本適用例に係る電気光学装置は、第１方向に並んだ、第１サブ画素、第１の領域、第２サブ画素、第２の領域、第３サブ画素、第３の領域、第４サブ画素、第４の領域と、第５の領域と、第６の領域と、第５サブ画素と、第７の領域と、第８の領域と、第６サブ画素と、を有し、前記第５の領域、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素、前記第６の領域、前記第５サブ画素は、前記第１方向に交差する第２方向に並び、前記第７の領域、前記第３サブ画素及び前記第４サブ画素、前記第８の領域、前記第６サブ画素は、前記第２方向に並び、前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素と異なる色であり、前記第３サブ画素は、前記第４サブ画素と異なる色であり、前記第５の領域は、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第６の領域は、前記第５サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第７の領域は、前記第３サブ画素及び前記第４サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第８の領域は、前記第６サブ画素の画素コンタクト領域であり、前記第５の領域、前記第６の領域、前記第７の領域、前記第８の領域の前記第２方向の長さが同じであることを特徴とする。 [Application Example] The electro-optical device according to this application example has a first sub-pixel, a first region, a second sub-pixel, a second region, a third sub-pixel, and a third region arranged in a first direction. , 4th sub-pixel, 4th region, 5th region, 6th region, 5th sub-pixel, 7th region, 8th region, and 6th sub-pixel. The fifth region, the first sub-pixel and the second sub-pixel, the sixth region, and the fifth sub-pixel are arranged in the second direction intersecting the first direction, and the seventh region. The region, the third sub-pixel and the fourth sub-pixel, the eighth region, and the sixth sub-pixel are arranged in the second direction, and the first sub-pixel has a color different from that of the second sub-pixel. The third sub-pixel has a different color from the fourth sub-pixel, and the fifth region is a pixel contact region of the first sub-pixel and the second sub-pixel, and the sixth region. Is the pixel contact region of the fifth sub-pixel, the seventh region is the pixel contact region of the third sub-pixel and the fourth sub-pixel, and the eighth region is the sixth sub. It is a pixel contact region of a pixel, and is characterized in that the lengths of the fifth region, the sixth region, the seventh region, and the eighth region in the second direction are the same.

本適用例の構成によれば、第１方向に並んだ異なる色の第１サブ画素及び第２サブ画素に対して第２方向に第５サブ画素が配置されると共に、同じく第１方向に並んだ異なる色の第３サブ画素及び第４サブ画素に対して第２方向に第６サブ画素が配置される。第１サブ画素及び第２サブ画素と第５サブ画素との間の第２方向の長さと、第３サブ画素及び第４サブ画素と第６サブ画素との間の第２方向の長さとが同じであることから、異なる色のサブ画素間における第２方向の視角による混色の状態が異なることが緩和される。すなわち、第２方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置を提供することができる。また、第２方向におけるサブ画素間の領域を画素コンタクト領域とすることで、異なる色のサブ画素と他のサブ画素とを画素コンタクト領域によって区分して、各サブ画素に対する電気的な接続を図ることができる。言い換えれば、第２方向におけるサブ画素間を区分するための専用な構成を備える必要がない。 According to the configuration of this application example, the fifth sub-pixels are arranged in the second direction with respect to the first sub-pixels and the second sub-pixels of different colors arranged in the first direction, and are also arranged in the first direction. However, the sixth sub-pixel is arranged in the second direction with respect to the third sub-pixel and the fourth sub-pixel of different colors. The length in the second direction between the first subpixel and the second subpixel and the fifth subpixel and the length in the second direction between the third subpixel and the fourth subpixel and the sixth subpixel are Since they are the same, it is alleviated that the state of color mixing due to the viewing angle in the second direction differs between the sub-pixels of different colors. That is, it is possible to provide an electro-optic device in which color shift due to a viewing angle in the second direction is reduced. Further, by setting the area between the sub-pixels in the second direction as the pixel contact area, the sub-pixels of different colors and the other sub-pixels are divided by the pixel contact area, and electrical connection to each sub-pixel is achieved. be able to. In other words, it is not necessary to have a dedicated configuration for dividing between the sub-pixels in the second direction.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第１の領域、前記第２の領域、前記第３の領域、前記第４の領域の前記第１方向の長さと、前記第１方向における前記第５サブ画素と前記第６サブ画素との間の第９の領域の前記第１方向の長さとが同じであることが好ましい。
この構成によれば、第２方向に加えて第１方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置を提供できる。 In the electro-optic device according to the above application example, the length of the first region, the second region, the third region, the fourth region in the first direction, and the first in the first direction. It is preferable that the length of the ninth region between the 5 subpixels and the 6th subpixel is the same in the first direction.
According to this configuration, it is possible to provide an electro-optic device in which color shift due to a viewing angle in the first direction in addition to the second direction is reduced.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第１サブ画素と、前記第３サブ画素とが同色であり、他のサブ画素は、前記第１サブ画素と異なる色であるとしてもよい。
この構成によれば、第１サブ画素と第３サブ画素とが隣り合って並んだ方向における色ずれの発生を防ぐことができる。つまり、サブ画素の配置に伴って視野角に起因する色ずれが生ずる確率を低減できる。 In the electro-optic device described in the above application example, the first sub-pixel and the third sub-pixel may have the same color, and the other sub-pixels may have a different color from the first sub-pixel.
According to this configuration, it is possible to prevent the occurrence of color shift in the direction in which the first sub-pixel and the third sub-pixel are arranged side by side. That is, it is possible to reduce the probability that color shift due to the viewing angle will occur with the arrangement of the sub-pixels.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２サブ画素と、前記第３サブ画素とが同色であり、他のサブ画素は、前記第２サブ画素と異なる色であるとしてもよい。
この構成によれば、第２サブ画素と第３サブ画素とが隣り合って並んだ方向における色ずれの発生を防ぐことができる。つまり、サブ画素の配置に伴って視野角に起因する色ずれが生ずる確率を低減できる。 In the electro-optic device described in the above application example, the second sub-pixel and the third sub-pixel may have the same color, and the other sub-pixels may have a different color from the second sub-pixel.
According to this configuration, it is possible to prevent the occurrence of color shift in the direction in which the second sub-pixel and the third sub-pixel are arranged side by side. That is, it is possible to reduce the probability that color shift due to the viewing angle will occur with the arrangement of the sub-pixels.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第１サブ画素、前記第２サブ画素、前記第３サブ画素、前記第４サブ画素のそれぞれの面積に対して、前記第５サブ画素の面積、前記第６サブ画素の面積が大きく、前記第５サブ画素及び前記第６サブ画素が青色であることを特徴とする。
この構成によれば、青色は、青色よりも長波長な赤色や緑色に比べて視感度が低い。したがって、青色の第５サブ画素及び第６サブ画素を他の色のサブ画素と隣り合うように配置しても視野角による色ずれが目立ち難く、且つ第５サブ画素及び第６サブ画素の面積を他のサブ画素の面積よりも大きくすることで、好ましいホワイトバランスを実現し易い。 In the electro-optic device according to the above application example, the area of the fifth sub-pixel is relative to the area of each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, the third sub-pixel, and the fourth sub-pixel. The sixth sub-pixel has a large area, and the fifth sub-pixel and the sixth sub-pixel are blue.
According to this configuration, blue has lower luminosity factor than red or green, which has a longer wavelength than blue. Therefore, even if the blue 5th sub-pixel and the 6th sub-pixel are arranged adjacent to the sub-pixels of other colors, the color shift due to the viewing angle is inconspicuous, and the areas of the 5th sub-pixel and the 6th sub-pixel are inconspicuous. By making the area larger than the area of the other sub-pixels, it is easy to realize a preferable white balance.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第１サブ画素、前記第２サブ画素、前記第３サブ画素、前記第４サブ画素は、発光素子と、前記発光素子からの光を所定の波長領域の光に変換する着色層とを含み、前記画素コンタクト領域は、非発光領域である。
この構成によれば、視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えのよいカラー表示が可能な自発光型の電気光学装置を提供することができる。 In the electro-optic device according to the above application example, the first sub-pixel, the second sub-pixel, the third sub-pixel, and the fourth sub-pixel have a light emitting element and light from the light emitting element having a predetermined wavelength. The pixel contact region is a non-light emitting region, including a colored layer that converts the region into light.
According to this configuration, it is possible to provide a self-luminous electro-optic device capable of reducing color shift due to a viewing angle and displaying a good-looking color.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記発光素子と前記着色層とが同一の基板に設けられていることを特徴とする。
この構成によれば、発光素子と着色層とを別々な基板に設ける場合に比べて、発光素子に対する着色層の相対的な配置精度を向上させることが可能であることから、視野角に起因する色ずれが生じ難い自発光型の電気光学装置を提供することができる。 The electro-optic device according to the above application example is characterized in that the light emitting element and the colored layer are provided on the same substrate.
According to this configuration, it is possible to improve the relative arrangement accuracy of the colored layer with respect to the light emitting element as compared with the case where the light emitting element and the colored layer are provided on separate substrates, which is caused by the viewing angle. It is possible to provide a self-luminous electro-optic device in which color shift is unlikely to occur.

［適用例］本適用例に係る電気光学装置は、第１方向と、前記第１方向に交差する第２方向に配列した複数の表示単位を有し、前記表示単位は、少なくとも異なる色の第１サブ画素及び第２サブ画素を含み、前記第１方向に隣り合う前記表示単位において、前記第１サブ画素と前記第２サブ画素との間の第１の領域の前記第１方向の長さが同じであって、前記第１の領域は、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素のうちいずれか一方に係る画素コンタクト領域であることが好ましい。 [Application Example] The electro-optic device according to the present application example has a plurality of display units arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction, and the display units have at least different colors. The length of the first region between the first sub-pixel and the second sub-pixel in the display unit including one sub-pixel and the second sub-pixel adjacent to the first direction in the first direction. Is the same, and the first region is preferably a pixel contact region related to either one of the first sub-pixel and the second sub-pixel.

本適用例によれば、第１方向に隣り合う表示単位において、異なる色の第１サブ画素と第２サブ画素との間の第１方向の長さが同じであることから、異なる色のサブ画素間における第１方向の視角による混色の状態が異なることが緩和される。すなわち、第１方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置を提供することができる。また、第１方向における第１サブ画素と第２サブ画素との間の第１の領域を画素コンタクト領域とすることで、第１方向に並んだ異なる色のサブ画素を画素コンタクト領域により区分して、異なる色のサブ画素に対する電気的な接続を図ることができる。言い換えれば、第１方向における異なる色のサブ画素間を区分するための専用な構成を備える必要がない。 According to this application example, since the lengths of the first sub-pixels and the second sub-pixels of different colors are the same in the display units adjacent to each other in the first direction, the subs of different colors are used. The difference in the state of color mixing depending on the viewing angle in the first direction between the pixels is alleviated. That is, it is possible to provide an electro-optic device in which color shift due to a viewing angle in the first direction is reduced. Further, by setting the first area between the first sub-pixel and the second sub-pixel in the first direction as the pixel contact area, the sub-pixels of different colors arranged in the first direction are classified by the pixel contact area. Therefore, it is possible to make an electrical connection to sub-pixels of different colors. In other words, it is not necessary to have a dedicated configuration for separating sub-pixels of different colors in the first direction.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記表示単位は、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素とは異なる色の第３サブ画素を有し、前記第１方向に前記第１サブ画素と前記第２サブ画素とが配列し、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素に対して前記第２方向に前記第３サブ画素が配列し、前記第１方向に隣り合う前記表示単位において、前記第１の領域の前記第１方向の長さと、前記第３サブ画素間の第２の領域の前記第１方向の長さとが同じであって、前記第２の領域は、前記第３サブ画素に係る画素コンタクト領域であることが好ましい。
この構成によれば、第１方向に隣り合う表示単位において、第３サブ画素もまた等間隔に配置される。したがって、例えば、第１サブ画素を赤とし、第２サブ画素を緑とし、第３サブ画素を青とすれば、第１方向の視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えのよいカラー表示が可能な電気光学装置を提供できる。 In the electro-optical device according to the above application example, the display unit has the first sub-pixel and the third sub-pixel having a color different from that of the second sub-pixel, and the first sub-pixel in the first direction. And the second sub-pixel are arranged, and the third sub-pixel is arranged in the second direction with respect to the first sub-pixel and the second sub-pixel, and in the display unit adjacent to the first direction. The length of the first region in the first direction is the same as the length of the second region between the third sub-pixels in the first direction, and the second region is the third region. It is preferably a pixel contact area related to sub-pixels.
According to this configuration, the third sub-pixels are also arranged at equal intervals in the display units adjacent to each other in the first direction. Therefore, for example, if the first sub-pixel is red, the second sub-pixel is green, and the third sub-pixel is blue, the color shift caused by the viewing angle in the first direction is reduced, and the color display looks good. Can provide an electro-optical device capable of.

上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第２方向における隣り合う前記表示単位において、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素と前記第３サブ画素との間の第３の領域の前記第２方向の長さが同じであることが好ましい。
この構成によれば、第２方向に隣り合う表示単位において、異なる色の第１サブ画素及び第２サブ画素に対して第３サブ画素もまた等間隔に配置される。したがって、第１方向及び第２方向における視野角に起因する色ずれが低減される。 In the electro-optic device according to the above application example, the first sub-pixel and the third region between the second sub-pixel and the third sub-pixel in the adjacent display unit in the second direction. It is preferable that the lengths in the second direction are the same.
According to this configuration, in the display units adjacent to each other in the second direction, the third sub-pixels are also arranged at equal intervals with respect to the first sub-pixels and the second sub-pixels of different colors. Therefore, the color shift caused by the viewing angle in the first direction and the second direction is reduced.

［適用例］本適用例に係る電気光学装置は、第１方向と、前記第１方向に交差する第２方向に配列した複数の表示単位を有し、前記表示単位は、異なる色の第１サブ画素及び第２サブ画素並びに第３サブ画素を有し、前記第１方向に前記第１サブ画素と前記第２サブ画素とが配列し、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素に対して前記第２方向に前記第３サブ画素が配列し、前記第１方向における隣り合う前記表示単位において、前記第１サブ画素と前記第２サブ画素との間の第１の領域の前記第１方向の長さと、前記第３サブ画素間の第２の領域の前記第１方向の長さとが同じであり、前記第２方向における隣り合う前記表示単位において、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素と前記第３サブ画素との間の第３の領域の前記第２方向の長さが同じであって、前記第３の領域は、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素並びに前記第３サブ画素のいずれかに係る画素コンタクト領域であることが好ましい。 [Application Example] The electro-optical device according to this application example has a plurality of display units arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction, and the display unit is a first display unit having a different color. It has a sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel, and the first sub-pixel and the second sub-pixel are arranged in the first direction with respect to the first sub-pixel and the second sub-pixel. The third sub-pixels are arranged in the second direction, and the first region of the first region between the first sub-pixel and the second sub-pixel in the adjacent display unit in the first direction. The length in the direction is the same as the length in the first direction of the second region between the third sub-pixels, and the first sub-pixel and the second in the adjacent display units in the second direction. The length of the third region between the sub-pixel and the third sub-pixel in the second direction is the same, and the third region includes the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the second sub-pixel. It is preferably a pixel contact region corresponding to any of the third sub-pixels.

本適用例によれば、第１方向に隣り合う表示単位において、異なる色の第１サブ画素、第２サブ画素、第３サブ画素が第１方向に等間隔に配置される。また、第２方向に隣り合う表示単位において、異なる色の第１サブ画素及び第２サブ画素と第３サブ画素とが第２方向に等間隔に配置される。したがって、異なる色のサブ画素間における第１方向及び第２方向の視角による混色の状態が異なることが緩和される。つまり、第１方向及び第２方向における視野角に起因する色ずれが低減される。さらに、第１サブ画素及び第２サブ画素と第３サブ画素との間の第３の領域が、これらのサブ画素のいずれかに係る画素コンタクト領域であることから、第２方向に並んだ異なる色のサブ画素を画素コンタクト領域によって区分して、異なる色のサブ画素に対する電気的な接続を図ることができる。言い換えれば、第２方向における異なる色のサブ画素間を区分するための専用な構成を備える必要がない。 According to this application example, the first sub-pixels, the second sub-pixels, and the third sub-pixels of different colors are arranged at equal intervals in the first direction in the display units adjacent to each other in the first direction. Further, in the display units adjacent to each other in the second direction, the first sub-pixels and the second sub-pixels of different colors and the third sub-pixels are arranged at equal intervals in the second direction. Therefore, it is alleviated that the state of color mixing due to the viewing angles in the first direction and the second direction is different between the sub-pixels of different colors. That is, the color shift caused by the viewing angle in the first direction and the second direction is reduced. Further, since the first sub-pixel and the third region between the second sub-pixel and the third sub-pixel are the pixel contact regions related to any of these sub-pixels, they are different from each other in the second direction. The color sub-pixels can be divided by the pixel contact area to electrically connect to the different color sub-pixels. In other words, it is not necessary to have a dedicated configuration for separating sub-pixels of different colors in the second direction.

［適用例］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えがよい表示が可能な電子機器を提供することができる。 [Application Example] The electronic device according to this application example is characterized by being provided with the electro-optic device described in the above application example.
According to this application example, it is possible to provide an electronic device capable of displaying a good-looking display by reducing color shift caused by a viewing angle.

［適用例］本適用例に係るヘッドマウントディスプレイは、両眼のうち少なくとも一方の眼に対して、表示された画像を認識させる、上記適用例に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、少なくとも第１方向の視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えがよい表示を認識可能なヘッドマウントディスプレイを提供することができる。特に、両眼に対して本願の電気光学装置を適用することで、両眼で認識された画像の色ずれによる違和感を低減できることから、長時間に亘って装着しても画像認識において疲れ難いヘッドマウントディスプレイを提供できる。 [Application Example] The head-mounted display according to this application example is characterized by being provided with the electro-optic device according to the above application example, in which at least one of both eyes recognizes the displayed image. do.
According to this application example, it is possible to provide a head-mounted display capable of recognizing a good-looking display by reducing color shift caused by at least a viewing angle in the first direction. In particular, by applying the electro-optic device of the present application to both eyes, it is possible to reduce the discomfort due to the color shift of the image recognized by both eyes, so that the head does not get tired in image recognition even if it is worn for a long time. Can provide a mounted display.

第１実施形態の電気光学装置の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the electro-optics apparatus of 1st Embodiment. 表示パネルにおける表示単位（画素）の配置を示す概略平面図。Schematic plan view showing the arrangement of display units (pixels) on the display panel. サブ画素における画素回路を示す回路図。A circuit diagram showing a pixel circuit in a sub-pixel. 青（Ｂ）、緑（Ｇ）のサブ画素の構造を示す概略断面図。Schematic cross-sectional view showing the structure of the blue (B) and green (G) sub-pixels. 緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素の構造を示す概略断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the structure of green (G) and red (R) sub-pixels. 配線層における画素の電気的な構成の配置を示す概略平面図。Schematic plan view showing the arrangement of the electrical configurations of the pixels in the wiring layer. 配線層における画素の電気的な構成の配置を示す概略平面図。Schematic plan view showing the arrangement of the electrical configurations of the pixels in the wiring layer. 配線層における画素の電気的な構成の配置を示す概略平面図。Schematic plan view showing the arrangement of the electrical configurations of the pixels in the wiring layer. 配線層における画素の電気的な構成の配置を示す概略平面図。Schematic plan view showing the arrangement of the electrical configurations of the pixels in the wiring layer. 配線層における画素の電気的な構成の配置を示す概略平面図。Schematic plan view showing the arrangement of the electrical configurations of the pixels in the wiring layer. 画素におけるサブ画素及び画素コンタクト領域の配置を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the arrangement of a sub pixel and a pixel contact area in a pixel. 青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素のそれぞれにおける共振構造の分光特性と、カラーフィルターの分光特性とを示すグラフ。The graph which shows the spectral characteristic of the resonance structure in each of the sub-pixels of blue (B), green (G), and red (R), and the spectral characteristic of a color filter. 異なる色のサブ画素がＸ方向またはＹ方向に隣り合う場合の視野角による色ずれを説明する概略図。The schematic diagram explaining the color shift by the viewing angle when the sub-pixels of different colors are adjacent in the X direction or the Y direction. 第２実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the arrangement of the sub-pixel and the pixel contact area in the electro-optics apparatus of 2nd Embodiment. 第３実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the arrangement of the sub pixel and the pixel contact area in the electro-optics apparatus of 3rd Embodiment. 第４実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。FIG. 3 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact regions in the electro-optic device of the fourth embodiment. 第５実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。FIG. 3 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact regions in the electro-optic device of the fifth embodiment. 比較例１における異なる色のサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the arrangement of the sub-pixel of a different color and a pixel contact area in the comparative example 1. FIG. 比較例２の異なる色のサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the arrangement of the sub-pixel of a different color of the comparative example 2 and a pixel contact area. 実施例及び比較例のＸ方向の輝度の視角特性を示すグラフ。The graph which shows the visual angle characteristic of the luminance in the X direction of an Example and a comparative example. 実施例及び比較例のＹ方向の輝度の視角特性を示すグラフ。The graph which shows the visual angle characteristic of the luminance in the Y direction of an Example and a comparative example. 実施例及び比較例のＸ方向の色ずれの視角特性を示すグラフ。The graph which shows the visual angle characteristic of the color shift in the X direction of an Example and a comparative example. 実施例及び比較例のＹ方向の色ずれの視角特性を示すグラフ。The graph which shows the visual angle characteristic of the color shift in the Y direction of an Example and a comparative example. 有機ＥＬ素子の発光部から着色層までの距離と色ずれとの関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the distance from a light emitting part of an organic EL element to a colored layer, and a color shift. 画素コンタクト領域の幅と色ずれとの関係を示すグラフ。A graph showing the relationship between the width of the pixel contact area and the color shift. 電子機器としてのヘッドマウントディスプレイの構成を示す概略図。The schematic which shows the structure of the head mounted display as an electronic device. 変形例の画素におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the arrangement of the sub pixel and the pixel contact area in the pixel of a modification.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。 Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described with reference to the drawings. The drawings to be used are enlarged or reduced as appropriate so that the parts to be explained can be recognized.

（第１実施形態）
＜電気光学装置＞
まず、本実施形態の電気光学装置の基本的な構成例について、図１及び図２を参照して説明する。図１は電気光学装置の構成を示す斜視図、図２は表示パネルにおける表示単位（画素）の配置を示す概略平面図である。 (First Embodiment)
<Electro-optic device>
First, a basic configuration example of the electro-optic device of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of an electro-optic device, and FIG. 2 is a schematic plan view showing the arrangement of display units (pixels) in a display panel.

本実施形態の電気光学装置１００は、カラー表示が可能な表示装置であって、表示パネル１０１と、表示パネル１０１の駆動に係るドライバーＩＣ１０３が平面実装されたフレキシブル回路基板１０２（以降、ＦＰＣ１０２と呼ぶ）と、表示パネル１０１を収納して支持体などに固定するための枠体１０５と、を備えている。 The electro-optic device 100 of the present embodiment is a display device capable of color display, and is a flexible circuit board 102 (hereinafter referred to as FPC 102) on which a display panel 101 and a driver IC 103 related to driving the display panel 101 are mounted on a plane. ), And a frame body 105 for storing the display panel 101 and fixing it to a support or the like.

ＦＰＣ１０２は、表示パネル１０１に電気的に接続されると共に、ドライバーＩＣ１０３に外部回路から画像情報などの入力信号を入力するための複数の外部接続用端子１０４を有している。 The FPC 102 is electrically connected to the display panel 101, and has a plurality of external connection terminals 104 for inputting input signals such as image information from an external circuit to the driver IC 103.

枠体１０５には、表示パネル１０１の表示を視認可能な窓枠（開口部）１０５ａが設けられている。 The frame body 105 is provided with a window frame (opening) 105a that allows the display of the display panel 101 to be visually recognized.

図２に示すように、表示パネル１０１は、横長の表示領域１０１ａを有し、表示領域１０１ａには、表示単位としての画素Ｐがマトリックス状に所定の配置ピッチで複数配置されている。また、図２では、図示を省略しているが、画素Ｐは、少なくとも青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）の表示が可能なサブ画素ＳＰを備えている。サブ画素ＳＰは、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子と、有機ＥＬ素子からの発光を所定の波長領域の光（色光）に変換する着色層とを備えている。詳しい画素Ｐ（サブ画素ＳＰ）の構成については後述するが、画素Ｐの配列における行方向をＸ方向とし、列方向をＹ方向として、以降説明する。本実施形態では、Ｘ方向が本発明の第１方向の一例であり、Ｙ方向が本発明の第１方向に交差する第２方向の一例である。 As shown in FIG. 2, the display panel 101 has a horizontally long display area 101a, and a plurality of pixels P as display units are arranged in a matrix at a predetermined arrangement pitch in the display area 101a. Further, although not shown in FIG. 2, the pixel P includes a sub-pixel SP capable of displaying at least blue (B), green (G), and red (R). The sub-pixel SP includes an organic electroluminescence (EL) element as a light emitting element and a colored layer that converts light emitted from the organic EL element into light (colored light) in a predetermined wavelength region. The detailed configuration of the pixel P (sub-pixel SP) will be described later, but will be described below with the row direction in the array of pixels P as the X direction and the column direction as the Y direction. In the present embodiment, the X direction is an example of the first direction of the present invention, and the Y direction is an example of the second direction intersecting the first direction of the present invention.

表示パネル１０１は、表示領域１０１ａの対角の長さが、例えば１インチ（ｉｎｃｈ；およそ２５．４ｍｍ）未満のマイクロディスプレイである。表示領域１０１ａにおける画素密度は、例えば３３００ｐｐｉ（pixel per inch）である。 The display panel 101 is a microdisplay in which the diagonal length of the display area 101a is, for example, less than 1 inch (inch; approximately 25.4 mm). The pixel density in the display area 101a is, for example, 3300 ppi (pixel per inch).

このような表示パネル１０１を備えた自発光型の電気光学装置１００は、例えば、後述する電子機器としてのヘッドマウントディスプレイの表示部として好適に用いられるものである。 The self-luminous electro-optic device 100 provided with such a display panel 101 is suitably used, for example, as a display unit of a head-mounted display as an electronic device described later.

＜サブ画素の電気的な構成＞
次に、電気光学装置１００におけるサブ画素ＳＰの電気的な構成について、図３を参照して説明する。図３はサブ画素における画素回路を示す回路図である。 <Electrical configuration of sub-pixels>
Next, the electrical configuration of the sub-pixel SP in the electro-optic device 100 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a circuit diagram showing a pixel circuit in a sub-pixel.

図３に示すように、サブ画素ＳＰにおける画素回路１１０は、４つのトランジスター３１，３２，３３，３４と、有機ＥＬ素子５０と、保持容量３５とを含んでいる。図２に示した表示パネル１０１の表示領域１０１ａには、画素回路１１０におけるこれらの構成要素との電気的な接続を図るための信号配線である、走査線２２、データ線２６、第１制御線２７、第２制御線２８と、第１電源配線４１及び第２電源配線４２とが設けられている。 As shown in FIG. 3, the pixel circuit 110 in the sub-pixel SP includes four transistors 31, 32, 33, 34, an organic EL element 50, and a holding capacity 35. The display area 101a of the display panel 101 shown in FIG. 2 includes a scanning line 22, a data line 26, and a first control line, which are signal wirings for electrically connecting to these components in the pixel circuit 110. 27, a second control line 28, a first power supply wiring 41, and a second power supply wiring 42 are provided.

画素回路１１０は、第１電源配線４１と第２電源配線４２との間に設けられている。走査線２２、第１制御線２７、第２制御線２８は、Ｘ方向に配列した複数の画素回路１１０に跨るようにＸ方向に延在して設けられている。データ線２６は、Ｙ方向に配列した複数の画素回路１１０に跨るようにＹ方向に延在して設けられている。データ線２６の入力側には容量素子２５が直列に接続されている。 The pixel circuit 110 is provided between the first power supply wiring 41 and the second power supply wiring 42. The scanning line 22, the first control line 27, and the second control line 28 are provided so as to extend in the X direction so as to straddle the plurality of pixel circuits 110 arranged in the X direction. The data line 26 is provided so as to extend in the Y direction so as to straddle the plurality of pixel circuits 110 arranged in the Y direction. A capacitive element 25 is connected in series to the input side of the data line 26.

画素回路１１０は、書込制御トランジスター３１と、駆動トランジスター３２と、補償トランジスター３３と、発光制御トランジスター３４とを含んでいる。本実施形態では、これらのトランジスターをＰチャネル型としたが、Ｎチャネル型のトランジスターを用いることも可能である。 The pixel circuit 110 includes a write control transistor 31, a drive transistor 32, a compensation transistor 33, and a light emission control transistor 34. In the present embodiment, these transistors are P-channel type, but N-channel type transistors can also be used.

発光素子としての有機ＥＬ素子５０は、陽極としての第１電極５１と、陰極としての第２電極５２と、これらの電極の間に挟持された発光機能層５３とを有するものである。第１電極５１は、画素回路１１０（サブ画素ＳＰ）ごとに設けられる画素電極であって、以降、画素電極５１と呼ぶ。第２電極５２は、複数の画素回路１１０（サブ画素ＳＰ）に亘って共通に設けられる共通電極であって、図２に示した表示領域１０１ａに亘って配置され、以降、共通電極５２と呼ぶ。 The organic EL element 50 as a light emitting element has a first electrode 51 as an anode, a second electrode 52 as a cathode, and a light emitting functional layer 53 sandwiched between these electrodes. The first electrode 51 is a pixel electrode provided for each pixel circuit 110 (sub-pixel SP), and is hereinafter referred to as a pixel electrode 51. The second electrode 52 is a common electrode commonly provided over a plurality of pixel circuits 110 (sub-pixel SP), is arranged over the display region 101a shown in FIG. 2, and is hereinafter referred to as a common electrode 52. ..

有機ＥＬ素子５０における発光機能層５３は、有機発光材料を含む発光層を含んでいる。本実施形態では発光機能層５３から白色発光が得られる構成となっている。 The light emitting functional layer 53 in the organic EL element 50 includes a light emitting layer containing an organic light emitting material. In the present embodiment, white light emission can be obtained from the light emitting functional layer 53.

図３に示すように、有機ＥＬ素子５０は、駆動トランジスター３２と、発光制御トランジスター３４とを介して、第１電源配線４１と第２電源配線４２との間に接続されている。第１電源配線４１には高位の電源電位Ｖｅｌが供給される。第２電源配線４２には低位の電源電位（例えば、接地電位）Ｖｃｔが供給される。 As shown in FIG. 3, the organic EL element 50 is connected between the first power supply wiring 41 and the second power supply wiring 42 via the drive transistor 32 and the light emission control transistor 34. A high power potential Vel is supplied to the first power supply wiring 41. A low power supply potential (for example, ground potential) Vct is supplied to the second power supply wiring 42.

駆動トランジスター３２の一対の電流端のうち一方（ソースまたはドレイン）に第１電源配線４１が接続されている。駆動トランジスター３２の一対の電流端のうち他方（ソースまたはドレイン）に発光制御トランジスター３４の一対の電流端のうち一方（ソースまたはドレイン）が接続されている。発光制御トランジスター３４の一対の電流端のうち他方（ソースまたはドレイン）に有機ＥＬ素子５０の画素電極５１が接続されている。有機ＥＬ素子５０の共通電極５２は第２電源配線４２に接続されている。 The first power supply wiring 41 is connected to one of the pair of current ends (source or drain) of the drive transistor 32. One of the pair of current ends (source or drain) of the light emission control transistor 34 is connected to the other (source or drain) of the pair of current ends of the drive transistor 32. The pixel electrode 51 of the organic EL element 50 is connected to the other (source or drain) of the pair of current ends of the light emission control transistor 34. The common electrode 52 of the organic EL element 50 is connected to the second power supply wiring 42.

書込制御トランジスター３１のゲートは走査線２２に接続され、一対の電流端のうちの一方（ソースまたはドレイン）はデータ線２６に接続され、他方（ソースまたはドレイン）は駆動トランジスター３２のゲートに接続されている。保持容量３５の一対の容量電極３６，３７のうち一方の容量電極３６は第１電源配線４１に接続され、他方の容量電極３７は書込制御トランジスター３１の一対の電流端のうちの他方と接続されている。 The gate of the write control transistor 31 is connected to the scan line 22, one of the pair of current ends (source or drain) is connected to the data line 26, and the other (source or drain) is connected to the gate of the drive transistor 32. Has been done. One of the pair of capacitance electrodes 36 and 37 of the holding capacitance 35 is connected to the first power supply wiring 41, and the other capacitance electrode 37 is connected to the other of the pair of current ends of the write control transistor 31. Has been done.

補償トランジスター３３のゲートは第１制御線２７に接続され、一対の電流端のうち一方（ソースまたはドレイン）はデータ線２６に接続され、他方は発光制御トランジスター３４の一対の電流端のうちの一方（ソースまたはドレイン）に接続されている。発光制御トランジスター３４のゲートには第２制御線２８が接続されている。 The gate of the compensating transistor 33 is connected to the first control line 27, one of the pair of current ends (source or drain) is connected to the data line 26, and the other is one of the pair of current ends of the emission control transistor 34. Connected to (source or drain). A second control line 28 is connected to the gate of the light emission control transistor 34.

走査線２２は、走査信号を供給する走査線駆動回路に接続されている。データ線２６は、容量素子２５の一端に接続され、容量素子２５の他端は、画像信号に基づいたデータ信号を供給するデータ線駆動回路に接続されている。したがって、データ信号は容量素子２５に供給され、データ信号に応じた電位がデータ線２６に供給される。 The scanning line 22 is connected to a scanning line driving circuit that supplies a scanning signal. The data line 26 is connected to one end of the capacitive element 25, and the other end of the capacitive element 25 is connected to a data line drive circuit that supplies a data signal based on an image signal. Therefore, the data signal is supplied to the capacitive element 25, and the potential corresponding to the data signal is supplied to the data line 26.

本実施形態では、水平走査期間内に補償期間と書込期間を有しており、走査線駆動回路は、走査線２２に走査信号を供給することで複数の走査線２２の各々を水平走査期間ごとに順次に選択する。走査線駆動回路が選択した走査線２２に対応する画素回路１１０の書込制御トランジスター３１はオン状態に遷移する。したがって、画素回路１１０の駆動トランジスター３２もオン状態に遷移する。また、走査線駆動回路は、第１制御線２７に制御信号を供給することで複数の第１制御線２７の各々を補償期間毎に順次に選択する。走査線駆動回路が選択した第１制御線２７に対応する画素回路１１０の補償トランジスター３３はオン状態に遷移する。そして、保持容量３５は、補償トランジスター３３がオフ状態とされる補償期間の終了に至るまでに駆動トランジスター３２の閾値電圧｜Ｖｔｈ｜を保持する。走査線駆動回路が第１制御線２７に制御信号を供給することで画素回路１１０の補償トランジスター３３をオフ状態に制御すると、データ線２６から駆動トランジスター３２のゲート電極に至るまでの経路はフローティング状態になる。一方で、駆動トランジスター３２のゲート電位は、保持容量３５によって（Ｖｅｌ－｜Ｖｔｈ｜）の電位に維持される。次に、データ線駆動回路は、外部回路から供給される画像信号が画素回路１１０ごとに指定する階調に応じた階調電位（データ信号）を書込期間ごとに容量素子２５に対して並列に供給する。そして、階調電位は容量素子２５を用いてレベルがシフトされ、その電位がデータ線２６と書込制御トランジスター３１とを経由して画素回路１１０の駆動トランジスター３２のゲートに供給される。保持容量３５には駆動トランジスター３２の閾値電圧｜Ｖｔｈ｜を補償しつつ階調電位に応じた電圧が保持される。他方、書込期間での走査線２２の選択が終了すると、走査線駆動回路は、第２制御線２８に制御信号を供給することで当該第２制御線２８に対応する画素回路１１０の発光制御トランジスター３４をオン状態に制御する。したがって、直前の書込期間で保持容量３５に保持された電圧に応じた駆動電流が駆動トランジスター３２から発光制御トランジスター３４を経由して有機ＥＬ素子５０に供給される。有機ＥＬ素子５０は当該駆動電流の電流量に応じた輝度で発光する。このようにして、有機ＥＬ素子５０が階調電位に応じた輝度で発光することで、画像信号が指定する任意の画像が表示される。そして、駆動トランジスター３２から有機ＥＬ素子５０に供給される駆動電流は、閾値電圧の影響が相殺されているため、駆動トランジスター３２の閾値電圧が画素回路１１０ごとにばらついても、そのばらつきが補償される。また、階調レベルに応じた駆動電流が有機ＥＬ素子５０に供給されるので、表示画面の一様性を損なうような表示ムラの発生を抑えられる結果、高品位の表示が可能になる。 In the present embodiment, the compensation period and the writing period are included in the horizontal scanning period, and the scanning line driving circuit supplies the scanning signal to the scanning line 22 to scan each of the plurality of scanning lines 22 in the horizontal scanning period. Select each one in sequence. The write control transistor 31 of the pixel circuit 110 corresponding to the scan line 22 selected by the scan line drive circuit transitions to the ON state. Therefore, the drive transistor 32 of the pixel circuit 110 also transitions to the ON state. Further, the scanning line drive circuit sequentially selects each of the plurality of first control lines 27 for each compensation period by supplying a control signal to the first control line 27. The compensation transistor 33 of the pixel circuit 110 corresponding to the first control line 27 selected by the scanning line drive circuit transitions to the ON state. Then, the holding capacity 35 holds the threshold voltage | Vth | of the drive transistor 32 until the end of the compensation period in which the compensation transistor 33 is turned off. When the scanning line drive circuit controls the compensation transistor 33 of the pixel circuit 110 to the off state by supplying a control signal to the first control line 27, the path from the data line 26 to the gate electrode of the drive transistor 32 is in a floating state. become. On the other hand, the gate potential of the drive transistor 32 is maintained at the potential of (Vel- | Vth |) by the holding capacitance 35. Next, in the data line drive circuit, the image signal supplied from the external circuit parallels the gradation potential (data signal) corresponding to the gradation specified for each pixel circuit 110 to the capacitive element 25 for each writing period. Supply to. Then, the level of the gradation potential is shifted by using the capacitive element 25, and the potential is supplied to the gate of the drive transistor 32 of the pixel circuit 110 via the data line 26 and the write control transistor 31. The holding capacity 35 holds a voltage corresponding to the gradation potential while compensating for the threshold voltage | Vth | of the drive transistor 32. On the other hand, when the selection of the scanning line 22 in the writing period is completed, the scanning line driving circuit supplies a control signal to the second control line 28 to control the light emission of the pixel circuit 110 corresponding to the second control line 28. The transistor 34 is controlled to be on. Therefore, the drive current corresponding to the voltage held in the holding capacity 35 in the immediately preceding writing period is supplied from the drive transistor 32 to the organic EL element 50 via the light emission control transistor 34. The organic EL element 50 emits light with a brightness corresponding to the amount of the drive current. In this way, the organic EL element 50 emits light with a brightness corresponding to the gradation potential, so that an arbitrary image designated by the image signal is displayed. Since the influence of the threshold voltage is canceled out in the drive current supplied from the drive transistor 32 to the organic EL element 50, even if the threshold voltage of the drive transistor 32 varies for each pixel circuit 110, the variation is compensated. To. Further, since the drive current corresponding to the gradation level is supplied to the organic EL element 50, it is possible to suppress the occurrence of display unevenness that impairs the uniformity of the display screen, and as a result, high-quality display becomes possible.

なお、画素回路１１０は、４つのトランジスター３１，３２，３３，３４を備える構成に限定されず、例えば、駆動トランジスター３２の閾値電圧の画素回路１１０ごとのばらつきが小さければ、補償トランジスター３３を無くした構成としてもよい。また、信号配線の構成はこれに限定されず、例えば、走査線２２は第１制御線２７と異なる配線としたが、走査線２２と第１制御線２７とを一本の配線としてもよい。 The pixel circuit 110 is not limited to the configuration including the four transistors 31, 32, 33, 34. For example, if the variation of the threshold voltage of the drive transistor 32 for each pixel circuit 110 is small, the compensation transistor 33 is eliminated. It may be configured. Further, the configuration of the signal wiring is not limited to this, and for example, the scanning line 22 is different from the first control line 27, but the scanning line 22 and the first control line 27 may be a single wiring.

＜画素の構造＞
次に、図４～図１０を参照して画素Ｐ（サブ画素ＳＰ）の構造について説明する。図４及び図５はサブ画素の構造を示す概略断面図である。図４は青（Ｂ）、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰの構造を示す概略断面図であり、図５は緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰの構造を示す概略断面図である。詳しくは、図４は後述する図１０に示したサブ画素の配置においてＹ方向に配置された４つのトランジスター３２，３１，３３，３４に跨ると共に、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の各サブ画素に跨るＨ－Ｈ’線に沿った概略断面図である。図５は同じく図１０に示したサブ画素の配置においてＸ方向に配置された３つのトランジスター３３に跨ると共に、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）の各サブ画素に跨るＡ－Ａ’線に沿った概略断面図である。なお、本実施形態の表示パネル１０１は、同一基板上において、サブ画素ＳＰごとに形成された、発光素子としての有機ＥＬ素子５０と、着色層７１とを有するものである。 <Pixel structure>
Next, the structure of the pixel P (sub-pixel SP) will be described with reference to FIGS. 4 to 10. 4 and 5 are schematic cross-sectional views showing the structure of sub-pixels. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the sub-pixel SP of blue (B) and green (G), and FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the sub-pixel SP of green (G) and red (R). be. Specifically, FIG. 4 straddles the four transistors 32, 31, 33, 34 arranged in the Y direction in the arrangement of the sub pixels shown in FIG. 10 described later, and each of the blue (B) and green (G) subs. It is a schematic cross-sectional view along the HH'line straddling the pixel. FIG. 5 straddles the three transistors 33 arranged in the X direction in the arrangement of the sub-pixels also shown in FIG. 10, and is along the AA'line straddling each of the green (G) and red (R) sub-pixels. It is a schematic cross-sectional view. The display panel 101 of the present embodiment has an organic EL element 50 as a light emitting element and a colored layer 71 formed for each sub-pixel SP on the same substrate.

図４及び図５に示すように、本実施形態では、画素回路１１０を構成する４つのトランジスター３１，３２，３３，３４のそれぞれは、基板としての、例えば、シリコンなどの半導体基板１０の一方の表面に不純物イオンを注入することによって形成された能動領域１０Ａを備えている。つまり、４つのトランジスター３１，３２，３３，３４は、ＭＯＳＦＥＴ（Metal－Oxide－Semiconductor－Field－Effect－Transistor）である。なお、能動領域１０Ａは、高濃度に不純物イオンが注入されてソースまたはドレインとして機能する領域と、低濃度に不純物イオンが注入されるまたは不純物イオンが注入されずにゲートとして機能する領域とを含んでいるが、図４及び図５では便宜上、１つにまとめて表示している。 As shown in FIGS. 4 and 5, in the present embodiment, each of the four transistors 31, 32, 33, 34 constituting the pixel circuit 110 is one of a semiconductor substrate 10 such as silicon as a substrate. It has an active region 10A formed by injecting impurity ions into the surface. That is, the four transistors 31, 32, 33, and 34 are MOSFETs (Metal-Oxide-Semiconductor-Field-Effect-Transistor). The active region 10A includes a region in which impurity ions are injected at a high concentration and functions as a source or drain, and a region in which impurity ions are injected at a low concentration or a region in which impurity ions are not injected and functions as a gate. However, in FIGS. 4 and 5, for convenience, they are displayed together.

半導体基板１０上において、能動領域１０Ａを覆うようにゲート絶縁膜１１が形成される。ゲート絶縁膜１１上には、能動領域１０Ａのうちゲートとして機能する領域に対向する部分にゲート電極が形成される。図４では、駆動トランジスター３２のゲート電極３２ｇ、補償トランジスター３３のゲート電極３３ｇ、発光制御トランジスター３４のゲート電極３４ｇを示した。もちろん、書込制御トランジスター３１においても同様にゲート電極が形成される。これらのゲート電極を覆って第１層間絶縁膜１２が形成される。また、第１層間絶縁膜１２とゲート絶縁膜１１とを貫通して、例えば書込制御トランジスター３１のソースまたはドレインとして機能する領域に至る貫通孔が設けられる。また、第１層間絶縁膜１２を貫通して、例えば駆動トランジスター３２のゲート電極３２ｇに至る貫通孔が設けられる。これらの貫通孔を被覆するように導電膜を成膜してパターニングすることにより、例えば、書込制御トランジスター３１のソースまたはドレインとして機能する領域に接するコンタクトホールＣＨ１及び駆動トランジスター３２のゲート電極３２ｇに接するコンタクトホールＣＨ２が形成される。また、コンタクトホールＣＨ１とコンタクトホールＣＨ２とを繋ぐ配線２１Ａが形成される。すなわち、書込制御トランジスター３１のソースまたはドレインと駆動トランジスター３２のゲートとを繋ぐ配線２１Ａが形成される。第１層間絶縁膜１２上には、配線２１Ａだけでなく、他のトランジスターとの接続を図るための配線２１Ｄなども同様に形成される。なお、図４には図示していないが、配線２１Ｄは発光制御トランジスター３４の一対の電流端の他方に接続されている。 The gate insulating film 11 is formed on the semiconductor substrate 10 so as to cover the active region 10A. A gate electrode is formed on the gate insulating film 11 in a portion of the active region 10A facing the region that functions as a gate. FIG. 4 shows a gate electrode 32 g of the drive transistor 32, a gate electrode 33 g of the compensation transistor 33, and a gate electrode 34 g of the light emission control transistor 34. Of course, the gate electrode is also formed in the write control transistor 31 as well. The first interlayer insulating film 12 is formed so as to cover these gate electrodes. Further, a through hole is provided that penetrates the first interlayer insulating film 12 and the gate insulating film 11 and reaches a region that functions as, for example, a source or a drain of the write control transistor 31. Further, a through hole is provided that penetrates the first interlayer insulating film 12 and reaches, for example, the gate electrode 32g of the drive transistor 32. By forming and patterning a conductive film so as to cover these through holes, for example, the gate electrode 32g of the contact hole CH1 and the drive transistor 32 in contact with the region functioning as the source or drain of the write control transistor 31. The contact hole CH2 in contact is formed. Further, the wiring 21A connecting the contact hole CH1 and the contact hole CH2 is formed. That is, the wiring 21A connecting the source or drain of the write control transistor 31 and the gate of the drive transistor 32 is formed. Not only the wiring 21A but also the wiring 21D for connecting to other transistors is similarly formed on the first interlayer insulating film 12. Although not shown in FIG. 4, the wiring 21D is connected to the other of the pair of current ends of the light emission control transistor 34.

これらの配線２１Ａ及び配線２１Ｄなどを覆う第２層間絶縁膜１３が形成される。また、第２層間絶縁膜１３を貫通して、例えば配線２１Ｄに至る貫通孔が形成され、当該貫通孔を被覆するように導電膜を成膜してパターニングすることにより、コンタクトホールＣＨ３を介して配線２１Ｄと接続された中継層２９Ｂが形成される。また、中継層２９Ｂと同様にして上記導電膜をパターニングすることにより、走査線２２、第１制御線２７、第２制御線２８、第１電源配線４１がそれぞれ形成される。 A second interlayer insulating film 13 is formed to cover the wiring 21A, the wiring 21D, and the like. Further, a through hole is formed through the second interlayer insulating film 13 and reaches, for example, the wiring 21D, and a conductive film is formed and patterned so as to cover the through hole, thereby passing through the contact hole CH3. A relay layer 29B connected to the wiring 21D is formed. Further, by patterning the conductive film in the same manner as the relay layer 29B, the scanning line 22, the first control line 27, the second control line 28, and the first power supply wiring 41 are formed, respectively.

走査線２２、第１制御線２７、第２制御線２８、第１電源配線４１、中継層２９Ｂなどを覆う第３層間絶縁膜１４が形成される。また、第３層間絶縁膜１４を貫通して、例えば中継層２９Ｂに至る貫通孔が形成され、当該貫通孔を被覆するように導電膜を成膜してパターニングすることにより、コンタクトホールＣＨ４を介して中継層２９Ｂと接続された中継配線４３Ｂが形成される。 A third interlayer insulating film 14 is formed to cover the scanning line 22, the first control line 27, the second control line 28, the first power supply wiring 41, the relay layer 29B, and the like. Further, a through hole is formed through the third interlayer insulating film 14 to reach, for example, the relay layer 29B, and a conductive film is formed and patterned so as to cover the through hole, thereby passing through the contact hole CH4. The relay wiring 43B connected to the relay layer 29B is formed.

中継配線４３Ｂなどを覆う第４層間絶縁膜１５が形成される。また、第４層間絶縁膜１５を貫通して、例えば中継配線４３Ｂに至る貫通孔が形成され、当該貫通孔を被覆するように光反射性を有する導電膜を成膜してパターニングすることにより、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰに対応した反射層４５Ｂ，４５Ｇが形成される。例えば、反射層４５Ｇは第４層間絶縁膜１５に設けられたコンタクトホールＣＨ５を介して中継配線４３Ｂに接続される。また、図５に示すように、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに対応した反射層４５Ｒも同様に形成される。なお、以降の説明上、同一の配線層に形成される反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒを総称して単に反射層４５と呼ぶこともある。 A fourth interlayer insulating film 15 that covers the relay wiring 43B and the like is formed. Further, a through hole is formed through the fourth interlayer insulating film 15 and reaches, for example, the relay wiring 43B, and a light-reflecting conductive film is formed and patterned so as to cover the through hole. Reflective layers 45B and 45G corresponding to the blue (B) and green (G) sub-pixel SPs are formed. For example, the reflective layer 45G is connected to the relay wiring 43B via the contact hole CH5 provided in the fourth interlayer insulating film 15. Further, as shown in FIG. 5, the reflective layer 45R corresponding to the red (R) sub-pixel SP is also formed in the same manner. In the following description, the reflective layers 45B, 45G, and 45R formed on the same wiring layer may be collectively referred to simply as the reflective layer 45.

図４に示すように、反射層４５を覆って第１絶縁層１６ａが形成される。また、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰでは、第１絶縁層１６ａ上に第２絶縁層１６ｂがパターニング形成される。そして、第２絶縁層１６ｂ上に画素電極５１Ｂがパターニング形成される。緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰでは、第１絶縁層１６ａ上に第２絶縁層１６ｂと、第４絶縁層１６ｄとがパターニング形成される。そして、第４絶縁層１６ｄ上に画素電極５１Ｇがパターニング形成される。図５に示すように、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰでは、第１絶縁層１６ａ上に第２絶縁層１６ｂと、第３絶縁層１６ｃと、第４絶縁層１６ｄとがそれぞれパターニング形成される。そして、第４絶縁層１６ｄ上に画素電極５１Ｒがパターニング形成される。つまり、第３絶縁層１６ｃは、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに対応して形成され、第４絶縁層１６ｄは、緑（Ｇ）及び赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに対応して形成される。 As shown in FIG. 4, the first insulating layer 16a is formed so as to cover the reflective layer 45. Further, in the blue (B) sub-pixel SP, the second insulating layer 16b is patterned and formed on the first insulating layer 16a. Then, the pixel electrode 51B is patterned and formed on the second insulating layer 16b. In the green (G) sub-pixel SP, the second insulating layer 16b and the fourth insulating layer 16d are patterned and formed on the first insulating layer 16a. Then, the pixel electrode 51G is patterned and formed on the fourth insulating layer 16d. As shown in FIG. 5, in the red (R) sub-pixel SP, the second insulating layer 16b, the third insulating layer 16c, and the fourth insulating layer 16d are patterned and formed on the first insulating layer 16a, respectively. .. Then, the pixel electrode 51R is patterned and formed on the fourth insulating layer 16d. That is, the third insulating layer 16c is formed corresponding to the red (R) sub-pixel SP, and the fourth insulating layer 16d is formed corresponding to the green (G) and red (R) sub-pixel SP. To.

図４に示すように、画素電極５１Ｂ，５１Ｇ間の絶縁性を確保するための第５絶縁層１７が形成される。第５絶縁層１７は、各画素電極５１Ｂ，５１Ｇの外縁部を覆い、各画素電極５１Ｂ，５１Ｇ上に開口部を有するように形成される。当該開口部は、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰにおける発光領域を規定するものである。図５に示すように、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰにおいても画素電極５１Ｒの外縁部を覆うように第５絶縁層１７がパターニング形成され、第５絶縁層１７によって発光領域を規定する開口部が形成される。 As shown in FIG. 4, a fifth insulating layer 17 for ensuring the insulating property between the pixel electrodes 51B and 51G is formed. The fifth insulating layer 17 is formed so as to cover the outer edges of the pixel electrodes 51B and 51G and have an opening on the pixel electrodes 51B and 51G. The opening defines a light emitting region in the blue (B) and green (G) sub-pixel SPs. As shown in FIG. 5, even in the red (R) sub-pixel SP, the fifth insulating layer 17 is patterned and formed so as to cover the outer edge portion of the pixel electrode 51R, and the opening portion defining the light emitting region by the fifth insulating layer 17 is formed. Is formed.

各画素電極５１Ｂ，５１Ｇ及び第５絶縁層１７を覆うように発光機能層５３が形成され、発光機能層５３を覆うように光透過性と光反射性とを兼ね備えた導電膜を成膜して共通電極５２が形成される。これにより、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰごとにトップエミッション型の有機ＥＬ素子５０が形成される。図５に示すように、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰにおいても同様にトップエミッション型の有機ＥＬ素子５０が形成される。 A light emitting functional layer 53 is formed so as to cover each of the pixel electrodes 51B and 51G and the fifth insulating layer 17, and a conductive film having both light transmittance and light reflectivity is formed so as to cover the light emitting functional layer 53. The common electrode 52 is formed. As a result, the top emission type organic EL element 50 is formed for each of the blue (B) and green (G) sub-pixel SPs. As shown in FIG. 5, the top emission type organic EL element 50 is similarly formed in the red (R) sub-pixel SP.

画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒを構成する透明導電膜としては、発光機能層５３へのホールの注入性を考慮した仕事関数を有する、例えばＩＴＯ（Indium－Tin－Oxide）膜を用いる。共通電極５２は光透過性と光反射性とを兼ね備える、例えば、ＭｇとＡｇとの合金を用いる。なお、発光機能層５３と共通電極５２との間に、発光機能層５３への電子の注入性を考慮した仕事関数を有する、例えばＬｉ、Ｍｇ、Ｃａなどの金属薄膜を設けてもよい。 As the transparent conductive film constituting the pixel electrodes 51B, 51G, 51R, for example, an ITO (Indium-Tin-Oxide) film having a work function in consideration of the injectability of holes into the light emitting functional layer 53 is used. The common electrode 52 uses, for example, an alloy of Mg and Ag, which has both light transmittance and light reflectivity. A metal thin film such as Li, Mg, or Ca, which has a work function in consideration of the injectability of electrons into the light emitting functional layer 53, may be provided between the light emitting functional layer 53 and the common electrode 52.

発光機能層５３は、前述したように白色発光が得られる発光層を含むものであるが、本実施形態では、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰごとに光共振構造を取り入れることにより、各色に対応させた特定波長領域の光を有機ＥＬ素子５０から取り出せるトップエミッション構造としている。光共振構造は、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰごとに反射層４５と共通電極５２との間の光学的な距離を異ならせることにより、各色に応じた共振波長の光が有機ＥＬ素子５０から射出される。本実施形態では、反射層４５と画素電極５１との間の絶縁層の層構成を異ならせることにより光学的な距離を異ならせた光共振構造が採用されている。具体的には、共振波長は、青色に対して緑色、赤色の方が長いことから、反射層４５Ｂと画素電極５１Ｂとの間には、第１絶縁層１６ａ、第２絶縁層１６ｂが存在し、反射層４５Ｇと画素電極５１Ｇとの間には、第１絶縁層１６ａ、第２絶縁層１６ｂ、第４絶縁層１６ｄが存在している。また、図５に示すように、反射層４５Ｒと画素電極５１Ｒとの間には、第１絶縁層１６ａ、第２絶縁層１６ｂ、第３絶縁層１６ｃ、第４絶縁層１６ｄが存在している。これにより、画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒを覆うように均一な膜厚の発光機能層５３を形成すれば、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰにおける反射層４５Ｂと共通電極５２との間の光学的な距離が最も小さくなり、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰにおける反射層４５Ｒと共通電極５２との間の光学的な距離が最も大きくなる。なお、このような光共振構造は、反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒと画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒとの間の絶縁層の層構成を異ならせることに限定されず、反射層４５と画素電極５１との間の絶縁層の膜厚を一定として、画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒの膜厚を青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰごとに異ならせることにより光学的な距離を異ならせる構成としてもよい。以降、光共振構造を有する青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに設けられた有機ＥＬ素子５０を有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒと呼ぶ。 The light emitting functional layer 53 includes a light emitting layer that can obtain white light emission as described above, but in the present embodiment, the light resonance structure is formed for each of the blue (B), green (G), and red (R) subpixel SPs. The top emission structure is such that light in a specific wavelength region corresponding to each color can be extracted from the organic EL element 50. The optical resonance structure corresponds to each color by making the optical distance between the reflection layer 45 and the common electrode 52 different for each of the blue (B), green (G), and red (R) subpixels SP. Light having a resonance wavelength is emitted from the organic EL element 50. In the present embodiment, an optical resonance structure in which the optical distance is different by making the layer structure of the insulating layer between the reflection layer 45 and the pixel electrode 51 different is adopted. Specifically, since the resonance wavelengths of green and red are longer than those of blue, the first insulating layer 16a and the second insulating layer 16b exist between the reflective layer 45B and the pixel electrode 51B. The first insulating layer 16a, the second insulating layer 16b, and the fourth insulating layer 16d are present between the reflective layer 45G and the pixel electrode 51G. Further, as shown in FIG. 5, a first insulating layer 16a, a second insulating layer 16b, a third insulating layer 16c, and a fourth insulating layer 16d exist between the reflective layer 45R and the pixel electrode 51R. .. As a result, if the light emitting functional layer 53 having a uniform thickness is formed so as to cover the pixel electrodes 51B, 51G, 51R, the optical layer 45B between the reflective layer 45B and the common electrode 52 in the blue (B) sub-pixel SP can be optically formed. The distance is the smallest, and the optical distance between the reflective layer 45R and the common electrode 52 in the red (R) sub-pixel SP is the largest. It should be noted that such an optical resonance structure is not limited to different layer configurations of the insulating layer between the reflective layers 45B, 45G, 45R and the pixel electrodes 51B, 51G, 51R, and the reflective layer 45 and the pixel electrodes 51 are not limited to different layers. Optically by keeping the thickness of the insulating layer between the two and the pixel electrodes 51B, 51G, 51R different for each of the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixel SPs. It may be configured to have different distances. Hereinafter, the organic EL elements 50 provided in the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixels SP having an optical resonance structure are referred to as organic EL elements 50B, 50G, and 50R.

次に、図４及び図５に示すように、共通電極５２を覆うように封止層６０が形成される。封止層６０は、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒに水分や酸素などが浸入しないように保護するものである。また、この後にカラーフィルター７０を封止層６０上に形成するため、封止層６０の平坦化を図ることを考慮して構成されている。具体的には、封止層６０は、第１無機封止膜６１、有機封止膜６２、第２無機封止膜６３がこの順に積層されたものである。第１無機封止膜６１及び第２無機封止膜６３は、水分や酸素などの気体を透過し難い、例えばシリコンの酸化膜や窒化膜あるいは酸窒化膜が用いられる。有機封止膜６２は、凹凸を有する表面にスピンコート法や印刷法などを用いて塗工することで平坦化を図ることが可能な例えばアクリル系の透明樹脂などが用いられる。 Next, as shown in FIGS. 4 and 5, the sealing layer 60 is formed so as to cover the common electrode 52. The sealing layer 60 protects the organic EL elements 50B, 50G, and 50R from infiltration of water, oxygen, and the like. Further, since the color filter 70 is formed on the sealing layer 60 after this, it is configured in consideration of flattening the sealing layer 60. Specifically, the sealing layer 60 is a stack of the first inorganic sealing film 61, the organic sealing film 62, and the second inorganic sealing film 63 in this order. As the first inorganic sealing film 61 and the second inorganic sealing film 63, for example, a silicon oxide film, a nitride film, or an acid nitride film is used, which is difficult for gas such as water and oxygen to permeate. For the organic sealing film 62, for example, an acrylic transparent resin that can be flattened by applying a surface having irregularities by a spin coating method, a printing method, or the like is used.

封止層６０上には、カラーフィルター７０が形成される。カラーフィルター７０は、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに対応した着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒを有するものである。このようなカラーフィルター７０の形成方法としては、色材を含む感光性樹脂を塗布して露光・現像することにより、着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒを順に形成するフォトリソグラフィ法が挙げられる。なお、着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒの形成の順番は、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）の順に限定されない。また、所望の光学特性を得るために、着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒの膜厚を色ごとに異ならせてもよい。以降、着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒを総称して着色層７１と呼ぶこともある。 A color filter 70 is formed on the sealing layer 60. The color filter 70 has colored layers 71B, 71G, and 71R corresponding to the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixel SPs. Examples of the method for forming such a color filter 70 include a photolithography method in which colored layers 71B, 71G, and 71R are formed in order by applying a photosensitive resin containing a coloring material, exposing and developing the color filter 70. The order of formation of the colored layers 71B, 71G, and 71R is not limited to the order of blue (B), green (G), and red (R). Further, in order to obtain desired optical characteristics, the film thicknesses of the colored layers 71B, 71G, 71R may be different for each color. Hereinafter, the colored layers 71B, 71G, and 71R may be collectively referred to as the colored layer 71.

このように半導体基板１０には、４つのトランジスター３１，３２，３３，３４を含む画素回路１１０を始めとして、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒ、封止層６０、カラーフィルター７０が形成される。これらの構成要素が形成された半導体基板１０に対して透明な接着層８０を介して、同じく透明な対向基板９０が接着され、表示パネル１０１ができあがる。対向基板９０は、半導体基板１０に形成された、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒやカラーフィルター７０などを保護する保護基板として機能する。 As described above, the semiconductor substrate 10 is formed with the organic EL elements 50B, 50G, 50R, the sealing layer 60, and the color filter 70, including the pixel circuit 110 including the four transistors 31, 32, 33, and 34. The transparent facing substrate 90 is adhered to the semiconductor substrate 10 on which these components are formed via the transparent adhesive layer 80, and the display panel 101 is completed. The facing substrate 90 functions as a protective substrate that protects the organic EL elements 50B, 50G, 50R, the color filter 70, and the like formed on the semiconductor substrate 10.

次に、図４及び図５を参照して、画素コンタクト領域の構造について説明する。本発明における画素コンタクト領域とは、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）の各サブ画素ＳＰにおいて、電気的な中継配線として機能する反射層４５と画素電極５１との接続を図るコンタクトホールが形成された領域、あるいはコンタクトホールを含む非発光領域を指すものである。 Next, the structure of the pixel contact region will be described with reference to FIGS. 4 and 5. The pixel contact region in the present invention is intended to connect the reflective layer 45, which functions as an electrical relay wiring, and the pixel electrode 51 in each of the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixel SPs. It refers to a region where a contact hole is formed or a non-light emitting region including the contact hole.

図４に示すように、本実施形態の緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰでは、第３層間絶縁膜１４上に形成された中継配線４３Ｂは、第４層間絶縁膜１５を貫通するコンタクトホールＣＨ５を介して反射層４５Ｇに接続されている。図５に示すように、反射層４５Ｇは、第１絶縁層１６ａ、第２絶縁層１６ｂ、第４絶縁層１６ｄを貫通するコンタクトホールＣＨ１０を介して画素電極５１Ｇに接続されている。有機ＥＬ素子５０Ｇがトップエミッション型であることから、反射層４５Ｇの下層に設けられたコンタクトホールＣＨ５は、有機ＥＬ素子５０Ｇからの発光に影響を及ぼさないので、中継配線４３ＢやコンタクトホールＣＨ５の配線層における位置の決定はある程度の自由度を有している。これに対して、反射層４５Ｇ上に設けられるコンタクトホールＣＨ１０の配線層における位置は、有機ＥＬ素子５０Ｇからの発光に影響を及ぼすことから、前述した発光領域を規定する第５絶縁層１７の開口部と重ならない位置に設けられる。つまり、コンタクトホールＣＨ１０に重なる画素電極５１Ｇの部分は、第５絶縁層１７によって覆われており、電気的に発光機能層５３と絶縁されることから、コンタクトホールＣＨ１０と重なった領域は、非発光領域となる。加えて、コンタクトホールＣＨ５とコンタクトホールＣＨ１０とは異なる位置に設けられている。すなわち、コンタクトホールＣＨ１０と平面視で重なるように形成された第５絶縁層１７の部分が緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰに係る画素コンタクト領域である。 As shown in FIG. 4, in the green (G) sub-pixel SP of the present embodiment, the relay wiring 43B formed on the third interlayer insulating film 14 has a contact hole CH5 penetrating the fourth interlayer insulating film 15. It is connected to the reflective layer 45G via. As shown in FIG. 5, the reflective layer 45G is connected to the pixel electrode 51G via a contact hole CH10 penetrating the first insulating layer 16a, the second insulating layer 16b, and the fourth insulating layer 16d. Since the organic EL element 50G is a top emission type, the contact hole CH5 provided in the lower layer of the reflective layer 45G does not affect the light emission from the organic EL element 50G, so that the relay wiring 43B and the contact hole CH5 are wired. Determining the position in the layer has some degree of freedom. On the other hand, since the position of the contact hole CH10 provided on the reflective layer 45G in the wiring layer affects the light emission from the organic EL element 50G, the opening of the fifth insulating layer 17 that defines the light emitting region described above. It is installed at a position that does not overlap with the part. That is, the portion of the pixel electrode 51G overlapping the contact hole CH10 is covered with the fifth insulating layer 17 and is electrically insulated from the light emitting functional layer 53, so that the region overlapping the contact hole CH10 is non-light emitting. It becomes an area. In addition, the contact hole CH5 and the contact hole CH10 are provided at different positions. That is, the portion of the fifth insulating layer 17 formed so as to overlap the contact hole CH 10 in a plan view is the pixel contact region related to the green (G) sub-pixel SP.

また、図５に示すように、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰにおいて、反射層４５Ｒは、第１絶縁層１６ａ、第２絶縁層１６ｂ、第３絶縁層１６ｃ、第４絶縁層１６ｄを貫通するコンタクトホールＣＨ９を介して画素電極５１Ｒに接続されている。有機ＥＬ素子５０Ｒもまたトップエミッション型であることから、反射層４５Ｒ上に設けられるコンタクトホールＣＨ９の配線層における位置は、有機ＥＬ素子５０Ｒからの発光に影響を及ぼすことから、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰと同様に、発光領域を規定する第５絶縁層１７の開口部と重ならない位置に設けられる。つまり、コンタクトホールＣＨ９に重なる画素電極５１Ｒの部分は、第５絶縁層１７によって覆われており、電気的に発光機能層５３と絶縁されることから、コンタクトホールＣＨ９と重なった領域は、非発光領域となる。すなわち、コンタクトホールＣＨ９と平面視で重なるように形成された第５絶縁層１７の部分が赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに係る画素コンタクト領域である。なお、図４及び図５には図示していないが、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰにおいて、反射層４５Ｂは、第１絶縁層１６ａ、第２絶縁層１６ｂを貫通するコンタクトホールＣＨ１１を介して画素電極５１Ｂに接続されている。コンタクトホールＣＨ１１もまた第５絶縁層１７によって覆われている。すなわち、コンタクトホールＣＨ１１と平面視で重なるように形成された第５絶縁層１７の部分が青（Ｂ）のサブ画素ＳＰに係る画素コンタクト領域である。 Further, as shown in FIG. 5, in the red (R) sub-pixel SP, the reflective layer 45R penetrates the first insulating layer 16a, the second insulating layer 16b, the third insulating layer 16c, and the fourth insulating layer 16d. It is connected to the pixel electrode 51R via the contact hole CH9. Since the organic EL element 50R is also a top emission type, the position of the contact hole CH9 provided on the reflective layer 45R in the wiring layer affects the light emission from the organic EL element 50R. Similar to the sub-pixel SP, it is provided at a position that does not overlap with the opening of the fifth insulating layer 17 that defines the light emitting region. That is, the portion of the pixel electrode 51R overlapping the contact hole CH9 is covered with the fifth insulating layer 17 and is electrically insulated from the light emitting functional layer 53, so that the region overlapping the contact hole CH9 is non-light emitting. It becomes an area. That is, the portion of the fifth insulating layer 17 formed so as to overlap the contact hole CH 9 in a plan view is the pixel contact region related to the red (R) sub-pixel SP. Although not shown in FIGS. 4 and 5, in the blue (B) sub-pixel SP, the reflective layer 45B passes through the contact hole CH11 penetrating the first insulating layer 16a and the second insulating layer 16b. It is connected to the pixel electrode 51B. The contact hole CH 11 is also covered with the fifth insulating layer 17. That is, the portion of the fifth insulating layer 17 formed so as to overlap the contact hole CH 11 in a plan view is the pixel contact region related to the blue (B) sub-pixel SP.

本実施形態では、複数層の絶縁層を貫通させてコンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１を形成する観点から、図５に示すように、第１絶縁層１６ａと第２絶縁層１６ｂとを貫通する孔を形成して、反射層４５に接続する中継部を形成する。その後、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰでは中継部を覆わないように第４絶縁層１６ｄをパターニング形成する。赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰでは、中継部を覆わないように、第３絶縁層１６ｃと第４絶縁層１６ｄとをパターニング形成する。そして、各サブ画素ＳＰの中継部に接するように透明導電膜を成膜してパターニング形成することにより、画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒを形成すると共に、中継部を含む上記コンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１を形成する。つまり、反射層４５と画素電極５１とを電気的に接続させるため、予め中継部を形成しておくことで、電気的な接続に係る距離が短くなり、各コンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１を容易に形成することができる。 In the present embodiment, as shown in FIG. 5, holes penetrating the first insulating layer 16a and the second insulating layer 16b are formed from the viewpoint of forming contact holes CH9, CH10, and CH11 by penetrating a plurality of insulating layers. To form a relay portion connected to the reflective layer 45. After that, in the green (G) sub-pixel SP, the fourth insulating layer 16d is patterned and formed so as not to cover the relay portion. In the red (R) sub-pixel SP, the third insulating layer 16c and the fourth insulating layer 16d are patterned and formed so as not to cover the relay portion. Then, by forming a transparent conductive film to form a pattern so as to be in contact with the relay portion of each sub-pixel SP, the pixel electrodes 51B, 51G, 51R are formed, and the contact holes CH9, CH10, including the relay portion, are formed. Form CH11. That is, in order to electrically connect the reflective layer 45 and the pixel electrode 51, by forming a relay portion in advance, the distance related to the electrical connection is shortened, and the contact holes CH9, CH10, and CH11 can be easily made. Can be formed into.

なお、図５では、ゲート電極３３ｇが第１制御線２７に接続される補償トランジスター３３について図示している。前述したように半導体基板１０における能動領域１０Ａにはドレイン領域３３ｄとソース領域３３ｓとが設けられている。 Note that FIG. 5 illustrates the compensation transistor 33 in which the gate electrode 33g is connected to the first control line 27. As described above, the active region 10A in the semiconductor substrate 10 is provided with a drain region 33d and a source region 33s.

本実施形態では、画素回路１１０における４つのトランジスター３１，３２，３３，３４をＭＯＳＦＥＴにて構成したが、これに限定されず、例えば、ＴＦＴ（Thin－Film－Transistor）を用いてもよい。 In the present embodiment, the four transistors 31, 32, 33, 34 in the pixel circuit 110 are composed of MOSFETs, but the present invention is not limited to this, and for example, a TFT (Thin-Film-Transistor) may be used.

＜画素の電気的な構成の配置＞
次に、図６～図１０を参照して、半導体基板１０上の各配線層における画素の電気的な構成の配置について説明する。図６～図１０は、配線層における画素の電気的な構成の配置を示す概略平面図である。具体的には、図６は４つのトランジスター３１，３２，３３，３４の配置を示し、図７は走査線２２、第１制御線２７、第２制御線２８、第１電源配線４１の配置を示し、図８はデータ線２６、中継配線の配置を示し、図９は反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒの配置を示し、図１０は画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒ、画素コンタクト領域の配置を示すものである。 <Arrangement of electrical configuration of pixels>
Next, with reference to FIGS. 6 to 10, the arrangement of the electrical configuration of the pixels in each wiring layer on the semiconductor substrate 10 will be described. 6 to 10 are schematic plan views showing the arrangement of the electrical configurations of the pixels in the wiring layer. Specifically, FIG. 6 shows the arrangement of the four transistors 31, 32, 33, 34, and FIG. 7 shows the arrangement of the scanning line 22, the first control line 27, the second control line 28, and the first power supply wiring 41. 8 shows the arrangement of the data line 26 and the relay wiring, FIG. 9 shows the arrangement of the reflective layers 45B, 45G, 45R, and FIG. 10 shows the arrangement of the pixel electrodes 51B, 51G, 51R and the pixel contact area. Is.

まず、半導体基板１０における４つのトランジスター３１，３２，３３，３４と、これらのトランジスター３１，３２，３３，３４のソースまたはドレインに係る配線の配置について、図６を参照して説明する。なお、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰに係る画素回路の符号を１１０Ｂとする。同様に、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰに係る画素回路の符号を１１０Ｇとし、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに係る画素回路の符号を１１０Ｒとする。 First, the arrangement of the four transistors 31, 32, 33, 34 in the semiconductor substrate 10 and the wiring related to the source or drain of these transistors 31, 32, 33, 34 will be described with reference to FIG. The code of the pixel circuit related to the blue (B) sub-pixel SP is 110B. Similarly, the code of the pixel circuit related to the green (G) sub-pixel SP is 110G, and the code of the pixel circuit related to the red (R) sub-pixel SP is 110R.

図６に示すように、画素Ｐにおいて、画素回路１１０に含まれる４つのトランジスター３１，３２，３３，３４は、それぞれ一対の電流端がＸ方向に沿うように配置されている。また、発光制御トランジスター３４、補償トランジスター３３、書込制御トランジスター３１、駆動トランジスター３２の順でＹ方向に並んで配置されている。このような画素回路１１０の４つのトランジスター３１，３２，３３，３４の配置を一つの単位として、画素回路１１０Ｇ、画素回路１１０Ｂ、画素回路１１０Ｒがこの順にＸ方向に並列して配置されている。 As shown in FIG. 6, in pixel P, each of the four transistors 31, 32, 33, 34 included in the pixel circuit 110 is arranged so that a pair of current ends are along the X direction. Further, the light emission control transistor 34, the compensation transistor 33, the write control transistor 31, and the drive transistor 32 are arranged side by side in the Y direction in this order. The pixel circuit 110G, the pixel circuit 110B, and the pixel circuit 110R are arranged in parallel in the X direction in this order, with the arrangement of the four transistors 31, 32, 33, 34 of the pixel circuit 110 as one unit.

４つのトランジスター３１，３２，３３，３４は、一対の電流端の間において、能動領域に対向して配置され、それぞれ島状に設けられたゲート電極３１ｇ，３２ｇ，３３ｇ，３４ｇを有している。ゲート電極３１ｇ，３２ｇ，３３ｇ，３４ｇは同一の配線層に設けられている。 The four transistors 31, 32, 33, 34 are arranged so as to face the active region between the pair of current ends, and have gate electrodes 31 g, 32 g, 33 g, and 34 g provided in an island shape, respectively. .. The gate electrodes 31 g, 32 g, 33 g, and 34 g are provided in the same wiring layer.

ここでは、各トランジスター３１，３２，３３，３４の一対の電流端（ソースまたはドレイン）のうち、一方をソース領域と呼び、他方をドレイン領域と呼ぶこととする。書込制御トランジスター３１、駆動トランジスター３２、補償トランジスター３３において、一対の電流端のうちドレイン領域はＸ方向においてゲート電極の左側に位置し、ソース領域はＸ方向においてゲート電極の右側に位置している。これに対して、発光制御トランジスター３４の一対の電流端のうちドレイン領域はＸ方向においてゲート電極の右側に位置し、ソース領域はＸ方向においてゲート電極の左側に位置している。 Here, of the pair of current ends (source or drain) of each transistor 31, 32, 33, 34, one is referred to as a source region and the other is referred to as a drain region. In the write control transistor 31, the drive transistor 32, and the compensation transistor 33, the drain region of the pair of current ends is located on the left side of the gate electrode in the X direction, and the source region is located on the right side of the gate electrode in the X direction. .. On the other hand, of the pair of current ends of the light emission control transistor 34, the drain region is located on the right side of the gate electrode in the X direction, and the source region is located on the left side of the gate electrode in the X direction.

書込制御トランジスター３１のドレイン領域３１ｄと駆動トランジスター３２のゲート電極３２ｇとは、Ｙ方向に延びる配線２１Ａによって接続されている。駆動トランジスター３２のドレイン領域３２ｄと、補償トランジスター３３のドレイン領域３３ｄと、発光制御トランジスター３４のソース領域３４ｓとは、Ｙ方向に延びる配線２１Ｂによって接続されている。書込制御トランジスター３１のソース領域３１ｓと、補償トランジスター３３のソース領域３３ｓとは、Ｙ方向に延びる配線２１Ｃによって接続されている。Ｙ方向に延びる配線２１Ｃの中間点には、後述する中継層２９Ａに接続するためのコンタクトホール２１ｓが配置されている。発光制御トランジスター３４のドレイン領域３４ｄには、Ｘ方向とＹ方向とに延びるように折れ曲がった配線２１Ｄの一方の端部が接続され、配線２１Ｄの他方の端部には、後述する中継層２９Ｂに接続するためのコンタクトホールＣＨ３が配置されている。配線２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、ゲート電極３１ｇ，３２ｇ，３３ｇ，３４ｇの上層において同一の配線層に設けられている。 The drain region 31d of the write control transistor 31 and the gate electrode 32g of the drive transistor 32 are connected by a wiring 21A extending in the Y direction. The drain region 32d of the drive transistor 32, the drain region 33d of the compensation transistor 33, and the source region 34s of the light emission control transistor 34 are connected by a wiring 21B extending in the Y direction. The source region 31s of the write control transistor 31 and the source region 33s of the compensation transistor 33 are connected by a wiring 21C extending in the Y direction. At the intermediate point of the wiring 21C extending in the Y direction, contact holes 21s for connecting to the relay layer 29A, which will be described later, are arranged. One end of the wiring 21D bent so as to extend in the X direction and the Y direction is connected to the drain region 34d of the light emission control transistor 34, and the other end of the wiring 21D is connected to the relay layer 29B described later. A contact hole CH3 for connecting is arranged. The wirings 21A, 21B, and 21C are provided in the same wiring layer in the upper layers of the gate electrodes 31g, 32g, 33g, and 34g.

図７に示すように、走査線２２は、画素回路１１０Ｇ，１１０Ｂ，１１０Ｒの書込制御トランジスター３１と重なるようにＸ方向に延在し、コンタクトホールを介して書込制御トランジスター３１のゲート電極３１ｇと接続されている。第１制御線２７は、画素回路１１０Ｇ，１１０Ｂ，１１０Ｒの補償トランジスター３３と重なるようにＸ方向に延在し、コンタクトホールを介して補償トランジスター３３のゲート電極３３ｇと接続されている。第２制御線２８は、画素回路１１０Ｇ，１１０Ｂ，１１０Ｒの発光制御トランジスター３４と重なるようにＸ方向に延在し、コンタクトホールを介して発光制御トランジスター３４のゲート電極３４ｇと接続されている。第１電源配線４１は、画素回路１１０Ｇ，１１０Ｂ，１１０Ｒの駆動トランジスター３２と重なるようにＸ方向に延在し、コンタクトホールを介して駆動トランジスター３２のソース領域と接続されている。 As shown in FIG. 7, the scanning line 22 extends in the X direction so as to overlap the write control transistor 31 of the pixel circuits 110G, 110B, 110R, and the gate electrode 31 g of the write control transistor 31 passes through the contact hole. Is connected to. The first control line 27 extends in the X direction so as to overlap the compensation transistor 33 of the pixel circuits 110G, 110B, 110R, and is connected to the gate electrode 33g of the compensation transistor 33 via a contact hole. The second control line 28 extends in the X direction so as to overlap the light emission control transistor 34 of the pixel circuits 110G, 110B, 110R, and is connected to the gate electrode 34g of the light emission control transistor 34 via a contact hole. The first power supply wiring 41 extends in the X direction so as to overlap the drive transistor 32 of the pixel circuits 110G, 110B, 110R, and is connected to the source region of the drive transistor 32 via a contact hole.

走査線２２と第１制御線２７との間において、書込制御トランジスター３１のソース領域３１ｓと、補償トランジスター３３のソース領域３３ｓとを接続させる配線２１Ｃの中間点に設けられた上記コンタクトホール２１ｓに接続する中継層２９Ａが設けられている。中継層２９Ａには後述するデータ線２６に接続するためのコンタクトホールＣＨ８が配置されている。 In the contact hole 21s provided at the intermediate point of the wiring 21C connecting the source region 31s of the write control transistor 31 and the source region 33s of the compensation transistor 33 between the scanning line 22 and the first control line 27. A relay layer 29A to be connected is provided. A contact hole CH8 for connecting to the data line 26 described later is arranged on the relay layer 29A.

発光制御トランジスター３４のドレイン領域に接続された配線２１Ｄの他方の端部に中継層２９Ｂが設けられている。中継層２９Ｂには、後述する中継配線に接続するためのコンタクトホールＣＨ４が配置されている。つまり、中継層２９Ｂを挟んで下層のコンタクトホールＣＨ３と上層のコンタクトホールＣＨ４とは、平面視で同じ位置に設けられている（図４参照）。 A relay layer 29B is provided at the other end of the wiring 21D connected to the drain region of the light emission control transistor 34. A contact hole CH4 for connecting to a relay wiring described later is arranged on the relay layer 29B. That is, the contact hole CH3 in the lower layer and the contact hole CH4 in the upper layer are provided at the same position in a plan view with the relay layer 29B interposed therebetween (see FIG. 4).

走査線２２、第１制御線２７、第２制御線２８、第１電源配線４１、中継層２９Ａ、中継層２９Ｂは、同一の配線層に設けられている。 The scanning line 22, the first control line 27, the second control line 28, the first power supply wiring 41, the relay layer 29A, and the relay layer 29B are provided in the same wiring layer.

図８に示すように、画素回路１１０Ｇ，１１０Ｂ，１１０Ｒのそれぞれに対応して、Ｙ方向に延在するデータ線２６が設けられている。データ線２６は、コンタクトホールＣＨ８及び前述した中継層２９Ａ、コンタクトホール２１ｓにより配線２１Ｃと電気的に接続されている。 As shown in FIG. 8, a data line 26 extending in the Y direction is provided corresponding to each of the pixel circuits 110G, 110B, and 110R. The data line 26 is electrically connected to the wiring 21C by the contact hole CH8, the relay layer 29A described above, and the contact hole 21s.

画素回路１１０Ｇと画素回路１１０Ｒとにおいて、Ｙ方向に延びる中継配線４３Ｂが設けられている。中継配線４３Ｂの一方の端部は、下層のコンタクトホールＣＨ４と接続されている。中継配線４３Ｂの他方の端部には、後述する反射層４５Ｇ，４５Ｒに接続されるコンタクトホールＣＨ５，ＣＨ６が配置されている。画素回路１１０ＢにおいてもＹ方向に延びる中継配線４３Ｃが設けられている。Ｙ方向において、中継配線４３Ｃは中継配線４３Ｂよりも長く、中継配線４３Ｃの一方の端部は、下層のコンタクトホールＣＨ４と接続されている。中継配線４３Ｃの他方の端部には、後述する反射層４５Ｂに接続されるコンタクトホールＣＨ７が配置されている。データ線２６、中継配線４３Ｂ，４３Ｃは同一の配線層に設けられている。 In the pixel circuit 110G and the pixel circuit 110R, a relay wiring 43B extending in the Y direction is provided. One end of the relay wiring 43B is connected to the lower contact hole CH4. At the other end of the relay wiring 43B, contact holes CH5 and CH6 connected to the reflective layers 45G and 45R, which will be described later, are arranged. The pixel circuit 110B is also provided with a relay wiring 43C extending in the Y direction. In the Y direction, the relay wiring 43C is longer than the relay wiring 43B, and one end of the relay wiring 43C is connected to the lower contact hole CH4. At the other end of the relay wiring 43C, a contact hole CH7 connected to the reflective layer 45B, which will be described later, is arranged. The data line 26 and the relay wirings 43B and 43C are provided in the same wiring layer.

図９に示すように、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰに対応した反射層４５Ｇと、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰに対応した反射層４５ＲとがＸ方向に並んで配置されている。反射層４５Ｇ及び反射層４５Ｒは、同じ大きさの長方形である。反射層４５Ｇ，４５Ｒに対して、同じく長方形の反射層４５ＢがＹ方向に並んで配置されている。反射層４５Ｂの大きさは、反射層４５Ｇの大きさのおよそ２倍である。反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒは、同一配線層に設けられていると共に、それぞれ電気的に独立して設けられている。反射層４５Ｇは下層に設けられたコンタクトホールＣＨ５に接続され、反射層４５Ｒは下層に設けられたコンタクトホールＣＨ６に接続され、反射層４５Ｂは下層に設けられたコンタクトホールＣＨ７に接続されている。 As shown in FIG. 9, the reflective layer 45G corresponding to the green (G) sub-pixel SP and the reflective layer 45R corresponding to the red (R) sub-pixel SP are arranged side by side in the X direction. The reflective layer 45G and the reflective layer 45R are rectangles of the same size. Similarly, rectangular reflective layers 45B are arranged side by side in the Y direction with respect to the reflective layers 45G and 45R. The size of the reflective layer 45B is approximately twice the size of the reflective layer 45G. The reflective layers 45B, 45G, and 45R are provided in the same wiring layer and are electrically independently provided. The reflective layer 45G is connected to the contact hole CH5 provided in the lower layer, the reflective layer 45R is connected to the contact hole CH6 provided in the lower layer, and the reflective layer 45B is connected to the contact hole CH7 provided in the lower layer.

図１０に示すように、平面視で反射層４５Ｂと重なるように画素電極５１Ｂが配置されている。画素電極５１Ｂは外形が長方形であって、反射層４５Ｂと画素電極５１Ｂとの電気的な接続を図るコンタクトホールＣＨ１１は、反射層４５ＢのＸ方向における一方の端部側に重なるように配置されると共に、画素電極５１Ｂの短辺部と重なるように配置されている。画素電極５１Ｇは、平面視で反射層４５Ｇと重なるように配置されている。画素電極５１Ｇは外形が長方形であって、反射層４５Ｇと画素電極５１Ｇとの電気的な接続を図るコンタクトホールＣＨ１０は、反射層４５ＧのＸ方向における一方の端部側に重なるように配置されると共に、画素電極５１Ｇの短辺部と重なるように配置されている。同様に、画素電極５１Ｒは、平面視で反射層４５Ｒと重なるように配置されている。画素電極５１Ｒは外形が長方形であって、反射層４５Ｒと画素電極５１Ｒとの電気的な接続を図るコンタクトホールＣＨ９は、反射層４５ＲのＸ方向における一方の端部側に重なるように配置されると共に、画素電極５１Ｒの短辺部と重なるように配置されている。これらのコンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１が設けられた領域を画素コンタクト領域と呼ぶ。 As shown in FIG. 10, the pixel electrodes 51B are arranged so as to overlap the reflective layer 45B in a plan view. The pixel electrode 51B has a rectangular outer shape, and the contact hole CH11 for electrically connecting the reflective layer 45B and the pixel electrode 51B is arranged so as to overlap one end side of the reflective layer 45B in the X direction. At the same time, they are arranged so as to overlap the short side portion of the pixel electrode 51B. The pixel electrode 51G is arranged so as to overlap the reflective layer 45G in a plan view. The pixel electrode 51G has a rectangular outer shape, and the contact hole CH10 for electrically connecting the reflection layer 45G and the pixel electrode 51G is arranged so as to overlap one end side of the reflection layer 45G in the X direction. At the same time, they are arranged so as to overlap the short side portion of the pixel electrode 51G. Similarly, the pixel electrode 51R is arranged so as to overlap the reflective layer 45R in a plan view. The external shape of the pixel electrode 51R is rectangular, and the contact hole CH9 for electrically connecting the reflective layer 45R and the pixel electrode 51R is arranged so as to overlap one end side of the reflective layer 45R in the X direction. At the same time, they are arranged so as to overlap the short side portion of the pixel electrode 51R. The area where these contact holes CH9, CH10, and CH11 are provided is called a pixel contact area.

前述したように、ＩＴＯなどの透明導電膜を用いて形成される画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒは、走査線２２や中継配線４３Ｂなどに比べて高抵抗であることから、反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒとの電気的な接続を図るコンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１は、他の配線に係るコンタクトホールに比べて平面視で大きく形成されている。 As described above, since the pixel electrodes 51B, 51G, 51R formed by using a transparent conductive film such as ITO have higher resistance than the scanning line 22 and the relay wiring 43B, the reflective layers 45B, 45G, The contact holes CH9, CH10, and CH11 for electrical connection with the 45R are formed larger in plan view than the contact holes related to other wiring.

このように、画素回路１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのうち、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒを除く、４つのトランジスター３１，３２，３３，３４とこれに接続される信号配線類は、反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒよりも下層に形成される。反射層４５Ｂ，４５Ｇ，４５Ｒより下層に設けられた構成の配置は、上層の有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒの発光に影響を及ぼさないので、配置における自由度を有している。つまり、反射層４５と画素電極５１との配置に応じて画素回路１１０を比較的に自由に配置することが可能である。 As described above, among the pixel circuits 110B, 110G, 110R, the four transistors 31, 32, 33, 34 excluding the organic EL elements 50B, 50G, 50R and the signal wirings connected to them are the reflective layer 45B. It is formed in a layer below 45G and 45R. The arrangement of the configuration provided in the layer below the reflective layers 45B, 45G, 45R does not affect the light emission of the organic EL elements 50B, 50G, 50R in the upper layer, and therefore has a degree of freedom in arrangement. That is, the pixel circuit 110 can be arranged relatively freely according to the arrangement of the reflective layer 45 and the pixel electrode 51.

各画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒ上において発光領域（開口部）を規定する第５絶縁層１７は、コンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１を覆うように設けられる（図５参照）。したがって、画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１ＲにおいてコンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１と重なる部分は、第５絶縁層１７によって絶縁されて発光機能層５３と接しない。つまり画素コンタクト領域は非発光領域となる。 The fifth insulating layer 17 that defines the light emitting region (opening) on the pixel electrodes 51B, 51G, and 51R is provided so as to cover the contact holes CH9, CH10, and CH11 (see FIG. 5). Therefore, the portion of the pixel electrodes 51B, 51G, 51R that overlaps with the contact holes CH9, CH10, and CH11 is insulated by the fifth insulating layer 17 and does not come into contact with the light emitting functional layer 53. That is, the pixel contact area becomes a non-light emitting area.

青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰにおいて、輝度を確保する観点からは、非発光領域である画素コンタクト領域はできるだけ小さいほうがよい。その一方で、画素コンタクト領域を小さくし過ぎると、反射層４５と画素電極５１との接続抵抗が小さくなり、有機ＥＬ素子５０の駆動電流の抵抗損失を招くことになる。加えて、画素コンタクト領域の配置は、画素Ｐにおける光学特性にも影響を及ぼす。以降、本実施形態におけるサブ画素ＳＰの構成と光学特性との関係について、図１１～図１３を参照して説明する。 In the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixel SPs, the pixel contact region, which is a non-light emitting region, should be as small as possible from the viewpoint of ensuring luminance. On the other hand, if the pixel contact region is made too small, the connection resistance between the reflective layer 45 and the pixel electrode 51 becomes small, which causes a resistance loss of the drive current of the organic EL element 50. In addition, the arrangement of the pixel contact area also affects the optical characteristics of the pixel P. Hereinafter, the relationship between the configuration of the sub-pixel SP and the optical characteristics in the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 to 13.

＜サブ画素及び画素コンタクト領域の配置＞
図１１は、画素におけるサブ画素及び画素コンタクト領域の配置を示す模式平面図である。なお、以降の説明において、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）の各サブ画素ＳＰを識別する都合上、画素回路１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒの符号を用い、青（Ｂ）のサブ画素には符号１１０Ｂを付与し、緑（Ｇ）のサブ画素には符号１１０Ｇを付与し、赤（Ｒ）のサブ画素には符号１１０Ｒを付与して表すこととする。また、サブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒとして図面上で表された領域は、それぞれ発光領域を示すものである。さらに、コンタクトホールＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１の符号を用いて、サブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒに係る画素コンタクト領域を表すものとする。すなわち、サブ画素１１０Ｒの画素コンタクト領域には符号ＣＨ９を付与し、サブ画素１１０Ｇの画素コンタクト領域には符号ＣＨ１０を付与し、サブ画素１１０Ｂの画素コンタクト領域には符号ＣＨ１１を付与して表すこととする。 <Arrangement of sub-pixels and pixel contact areas>
FIG. 11 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact areas in pixels. In the following description, for the convenience of identifying each sub-pixel SP of blue (B), green (G), and red (R), the reference numerals of the pixel circuits 110B, 110G, and 110R are used, and the sub of blue (B) is used. A reference numeral 110B is assigned to the pixel, a reference numeral 110G is assigned to the green (G) sub-pixel, and a reference numeral 110R is assigned to the red (R) sub-pixel. Further, the regions represented on the drawing as the sub-pixels 110B, 110G, and 110R each indicate a light emitting region. Further, the reference numerals of the contact holes CH9, CH10, and CH11 are used to represent the pixel contact region related to the sub-pixels 110B, 110G, 110R. That is, the reference numeral CH9 is assigned to the pixel contact region of the sub-pixel 110R, the reference numeral CH10 is assigned to the pixel contact region of the sub-pixel 110G, and the reference numeral CH11 is assigned to the pixel contact region of the sub-pixel 110B. do.

図１１に示すように、画素Ｐとしての画素Ｐ１は、Ｘ方向に並んだ、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９を有する。また、画素Ｐ１は、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対して、Ｙ方向に並ぶサブ画素１１０Ｂを有する。サブ画素１１０Ｂの画素コンタクト領域ＣＨ１１は、サブ画素１１０Ｂに対してＸ方向に並ぶと共に、サブ画素１１０Ｒの画素コンタクト領域ＣＨ９に対してＹ方向に並んでいる。 As shown in FIG. 11, the pixel P1 as the pixel P has a sub-pixel 110G, a pixel contact area CH10, a sub-pixel 110R, and a pixel contact area CH9 arranged in the X direction. Further, the pixel P1 has sub-pixels 110B arranged in the Y direction with respect to the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R. The pixel contact area CH11 of the sub-pixel 110B is arranged in the X direction with respect to the sub-pixel 110B and is arranged in the Y direction with respect to the pixel contact area CH9 of the sub-pixel 110R.

画素Ｐ１に対してＸ方向に隣り合う画素Ｐとしての画素Ｐ２は、画素Ｐ１と同様に、Ｘ方向に並んだ、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９を有する。また、画素Ｐ２は、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対して、Ｙ方向に並ぶサブ画素１１０Ｂを有する。サブ画素１１０Ｂの画素コンタクト領域ＣＨ１１は、サブ画素１１０Ｂに対してＸ方向に並ぶと共に、サブ画素１１０Ｒの画素コンタクト領域ＣＨ９に対してＹ方向に並んでいる。 Like the pixel P1, the pixel P2 as the pixel P adjacent to the pixel P1 in the X direction has a sub-pixel 110G, a pixel contact area CH10, a sub-pixel 110R, and a pixel contact area CH9 arranged in the X direction. Further, the pixel P2 has sub-pixels 110B arranged in the Y direction with respect to the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R. The pixel contact area CH11 of the sub-pixel 110B is arranged in the X direction with respect to the sub-pixel 110B and is arranged in the Y direction with respect to the pixel contact area CH9 of the sub-pixel 110R.

つまり、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいては、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９がこの順にＸ方向に繰り返し並んだ状態となっている。同じく、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１１がこの順にＸ方向に繰り返し並んだ状態となっている。Ｙ方向に並ぶ、サブ画素１１０Ｂと、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとの間には、画素コンタクト領域は存在していない。画素コンタクト領域は、前述したように非発光領域である。また、図４及び図５にて説明したように、各画素電極５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒ上に開口部を形成する第５絶縁層１７によって当該開口部が発光領域として規定されることから、図１１に示した各サブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒは非発光領域によって囲まれた状態となっている。 That is, in the pixels P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixel 110G, the pixel contact area CH10, the sub-pixel 110R, and the pixel contact area CH9 are repeatedly arranged in the X direction in this order. Similarly, the sub-pixel 110B and the pixel contact area CH11 are repeatedly arranged in the X direction in this order. There is no pixel contact region between the sub-pixel 110B arranged in the Y direction and the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R. The pixel contact area is a non-light emitting area as described above. Further, as described with reference to FIGS. 4 and 5, since the opening is defined as a light emitting region by the fifth insulating layer 17 forming the opening on each of the pixel electrodes 51B, 51G, 51R, FIG. 11 Each of the sub-pixels 110B, 110G, 110R shown in 1 is surrounded by a non-light emitting region.

本実施形態では、画素Ｐ１における、サブ画素１１０Ｇが本発明の第１サブ画素の一例であり、サブ画素１１０Ｒが本発明の第２サブ画素の一例である。また、Ｘ方向において画素Ｐ１に隣り合う画素Ｐ２における、サブ画素１１０Ｇが本発明の第３サブ画素の一例であり、サブ画素１１０Ｒが本発明の第４サブ画素の一例である。また、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおける、画素Ｐ１側のサブ画素１１０Ｂが本発明の第５サブ画素の一例であり、画素Ｐ２側のサブ画素１１０Ｂが本発明の第６サブ画素の一例である。よって、画素Ｐ１における画素コンタクト領域ＣＨ１０が本発明の第１の領域の一例であり、画素コンタクト領域ＣＨ９が本発明の第２の領域の一例である。画素Ｐ２における画素コンタクト領域ＣＨ１０が本発明の第３の領域の一例であり、画素コンタクト領域ＣＨ９が本発明の第４の領域の一例である。また、画素Ｐ１における画素コンタクト領域ＣＨ１１が第５の領域の一例であり、画素Ｐ２における画素コンタクト領域ＣＨ１１が第６の領域の一例である。 In the present embodiment, the sub-pixel 110G in the pixel P1 is an example of the first sub-pixel of the present invention, and the sub-pixel 110R is an example of the second sub-pixel of the present invention. Further, the sub-pixel 110G in the pixel P2 adjacent to the pixel P1 in the X direction is an example of the third sub-pixel of the present invention, and the sub-pixel 110R is an example of the fourth sub-pixel of the present invention. Further, the sub-pixel 110B on the pixel P1 side of the pixels P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction is an example of the fifth sub-pixel of the present invention, and the sub-pixel 110B on the pixel P2 side is the sixth sub-pixel of the present invention. This is an example. Therefore, the pixel contact region CH10 in the pixel P1 is an example of the first region of the present invention, and the pixel contact region CH9 is an example of the second region of the present invention. The pixel contact region CH10 in the pixel P2 is an example of the third region of the present invention, and the pixel contact region CH9 is an example of the fourth region of the present invention. Further, the pixel contact region CH11 in the pixel P1 is an example of the fifth region, and the pixel contact region CH11 in the pixel P2 is an example of the sixth region.

ここで、Ｘ方向におけるサブ画素１１０Ｇの発光領域の長さとサブ画素１１０Ｒの発光領域の長さとは同じであって幅ｄ１とし、Ｙ方向におけるサブ画素１１０Ｇの発光領域の長さとサブ画素１１０Ｒの発光領域の長さとは同じであって幅ｄ２とする。Ｘ方向におけるサブ画素１１０Ｂの発光領域の長さを幅ｄ３とし、Ｙ方向におけるサブ画素１１０Ｂの発光領域の長さを幅ｄ４とする。幅ｄ２と幅ｄ４とを同じ長さにしてもよいし、異なる長さとしてもよい。Ｘ方向における画素コンタクト領域ＣＨ９の長さと画素コンタクト領域ＣＨ１０の長さとは同じであって間隔ｄ５とし、Ｘ方向における画素コンタクト領域ＣＨ１１の長さを間隔ｄ７とする。間隔ｄ５と間隔ｄ７とはこの場合同じ長さであるが、異なる長さとすることも可能である。Ｙ方向における画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１０の長さは、Ｙ方向におけるサブ画素１１０Ｇ，１１０Ｒの発光領域の長さと同じであって幅ｄ２である。Ｙ方向における画素コンタクト領域ＣＨ１１の長さは、Ｙ方向におけるサブ画素１１０Ｂの発光領域の長さと同じであって幅ｄ４である。画素Ｐ内におけるＹ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｂとサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとの間の長さを間隔ｄ６とし、画素Ｐのサブ画素１１０Ｂに対してＹ方向に隣り合う画素Ｐのサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとの間の長さを間隔ｄ８とする。間隔ｄ６と間隔ｄ８とは同じ長さとしてもよいし、異なる長さとしてもよい。 Here, the length of the light emitting region of the sub pixel 110G in the X direction and the length of the light emitting region of the sub pixel 110R are the same and have a width d1, and the length of the light emitting region of the sub pixel 110G and the light emission of the sub pixel 110R in the Y direction. The length of the region is the same and the width is d2. The length of the light emitting region of the sub pixel 110B in the X direction is defined as the width d3, and the length of the light emitting region of the sub pixel 110B in the Y direction is defined as the width d4. The width d2 and the width d4 may have the same length or may have different lengths. The length of the pixel contact region CH9 in the X direction and the length of the pixel contact region CH10 are the same and the interval d5, and the length of the pixel contact region CH11 in the X direction is the interval d7. The interval d5 and the interval d7 have the same length in this case, but may have different lengths. The lengths of the pixel contact regions CH9 and CH10 in the Y direction are the same as the lengths of the light emitting regions of the sub-pixels 110G and 110R in the Y direction, and have a width d2. The length of the pixel contact region CH11 in the Y direction is the same as the length of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the Y direction and has a width d4. The length between the sub-pixel 110B adjacent to each other in the Y direction in the pixel P and the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R is set to the interval d6, and the sub-pixel of the pixel P adjacent to the sub-pixel 110B of the pixel P in the Y direction. The length between the 110G and the sub-pixel 110R is defined as the interval d8. The interval d6 and the interval d8 may have the same length or may have different lengths.

つまり、本実施形態では、第１方向としてのＸ方向に隣り合う画素Ｐ１及び画素Ｐ２において、Ｘ方向に並んだ、第１サブ画素としてのサブ画素１１０Ｇ、第１の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１０、第２サブ画素としてのサブ画素１１０Ｒ、第２の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ９、第３サブ画素としてのサブ画素１１０Ｇ、第３の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１０、第４サブ画素としてのサブ画素１１０Ｒ、第４の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ９を有している。サブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとは異なる色である。画素Ｐ１及び画素Ｐ２における画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１０の第１方向としてのＸ方向の長さである間隔ｄ５は同じである。
また、第１方向としてのＸ方向に並んだ、第５サブ画素としてのサブ画素１１０Ｂ、第５の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１１、第６サブ画素としてのサブ画素１１０Ｂ、第６の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１１をさらに有している。サブ画素１１０Ｂは、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対して第２方向としてのＹ方向に並んでおり、画素Ｐ１及び画素Ｐ２における画素コンタクト領域ＣＨ１１の長さである間隔ｄ７は同じである。 That is, in the present embodiment, in the pixels P1 and P2 adjacent to each other in the X direction as the first direction, the sub pixel 110G as the first sub pixel and the pixel contact area CH10 as the first area arranged in the X direction. , Sub-pixel 110R as the second sub-pixel, pixel contact area CH9 as the second area, sub-pixel 110G as the third sub-pixel, pixel contact area CH10 as the third sub-pixel, sub as the fourth sub-pixel. It has a pixel 110R and a pixel contact area CH9 as a fourth area. The sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R have different colors. The distance d5, which is the length of the pixel contact regions CH9 and CH10 in the pixels P1 and P2 in the X direction as the first direction, is the same.
Further, the sub pixel 110B as the fifth sub pixel, the pixel contact area CH11 as the fifth area, the sub pixel 110B as the sixth sub pixel, and the sub pixel 110B as the sixth area arranged in the X direction as the first direction. It further has a pixel contact area CH11. The sub-pixels 110B are arranged in the Y direction as a second direction with respect to the sub-pixels 110G and the sub-pixels 110R, and the intervals d7, which are the lengths of the pixel contact regions CH11 in the pixels P1 and the pixels P2, are the same.

本実施形態では、画素Ｐ内におけるサブ画素１１０Ｂとサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとの間の長さである上記間隔ｄ６が本発明の第７の領域及び第８の領域の一例である。また、サブ画素１１０Ｂに係る上記画素コンタクト領域ＣＨ１１が本発明の第９の領域の一例である。なお、サブ画素１１０Ｂは本発明の他の適用例における第３サブ画素としても扱われる。 In the present embodiment, the interval d6, which is the length between the sub-pixel 110B, the sub-pixel 110G, and the sub-pixel 110R in the pixel P, is an example of the seventh region and the eighth region of the present invention. Further, the pixel contact region CH11 related to the sub-pixel 110B is an example of the ninth region of the present invention. The sub-pixel 110B is also treated as a third sub-pixel in another application example of the present invention.

本実施形態では、サブ画素１１０Ｇの面積とサブ画素１１０Ｒの面積とを同じとしている。また、サブ画素１１０Ｇの面積に対してサブ画素１１０Ｂの面積をおよそ２倍にしている。これは、サブ画素１１０Ｂの有機ＥＬ素子５０Ｂの発光寿命がサブ画素１１０Ｇの有機ＥＬ素子５０Ｇ（あるいはサブ画素１１０Ｒの有機ＥＬ素子５０Ｒ）の発光寿命に比べて短いことに起因している。発光輝度は有機ＥＬ素子５０を流れる電流量と発光面積に依存し、発光寿命は有機ＥＬ素子５０を流れる電流量と通電時間に依存する。したがって、サブ画素１１０Ｂの面積をサブ画素１１０Ｇに比べて大きくして、発光輝度を確保しつつ電流量を減らすことで、有機ＥＬ素子５０Ｂの発光寿命を有機ＥＬ素子５０Ｇの発光寿命とほぼ同等とするものである。 In the present embodiment, the area of the sub-pixel 110G and the area of the sub-pixel 110R are the same. Further, the area of the sub-pixel 110B is approximately doubled with respect to the area of the sub-pixel 110G. This is because the light emitting life of the organic EL element 50B of the sub pixel 110B is shorter than the light emitting life of the organic EL element 50G of the sub pixel 110G (or the organic EL element 50R of the sub pixel 110R). The emission brightness depends on the amount of current flowing through the organic EL element 50 and the light emitting area, and the emission lifetime depends on the amount of current flowing through the organic EL element 50 and the energization time. Therefore, by making the area of the sub-pixel 110B larger than that of the sub-pixel 110G and reducing the amount of current while ensuring the emission brightness, the emission life of the organic EL element 50B is almost the same as the emission life of the organic EL element 50G. It is something to do.

本実施形態におけるサブ画素ＳＰ及び画素コンタクト領域の配置における特徴は、Ｘ方向にサブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９がこの順に繰り返して配置されており、画素コンタクト領域ＣＨ９の長さと、画素コンタクト領域ＣＨ１０の長さとが同じであることである。これによって、異なる色のサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとが、Ｘ方向に等間隔で配置された状態となる。 The feature of the arrangement of the sub-pixel SP and the pixel contact area in the present embodiment is that the sub-pixel 110G, the pixel contact area CH10, the sub-pixel 110R, and the pixel contact area CH9 are repeatedly arranged in this order in the X direction, and the pixel contact area is arranged. The length of CH9 and the length of the pixel contact area CH10 are the same. As a result, the sub-pixels 110G and the sub-pixels 110R of different colors are arranged at equal intervals in the X direction.

また、Ｙ方向における間隔ｄ６と間隔ｄ８とを同じ長さとすれば、Ｙ方向に隣り合う画素Ｐにおいて、異なる色のサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｂとが、Ｙ方向に等間隔で配置される。同様に、異なる色のサブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｂとが、Ｙ方向に等間隔で配置される。 Further, if the interval d6 and the interval d8 in the Y direction have the same length, the sub-pixels 110G and the sub-pixels 110B of different colors are arranged at equal intervals in the Y direction in the pixels P adjacent to each other in the Y direction. Similarly, the sub-pixels 110R and the sub-pixels 110B of different colors are arranged at equal intervals in the Y direction.

図１２は、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰのそれぞれにおける共振構造の分光特性と、カラーフィルターの分光特性とを示すグラフである。
前述したように、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰからそれぞれ所望の波長範囲の色光が得られるように、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒに係る共振構造と、着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒとが設けられている。 FIG. 12 is a graph showing the spectral characteristics of the resonance structure in each of the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixel SPs and the spectral characteristics of the color filter.
As described above, the resonance structure related to the organic EL elements 50B, 50G, 50R so that colored light in a desired wavelength range can be obtained from the blue (B), green (G), and red (R) sub-pixel SPs, respectively. , The colored layers 71B, 71G, 71R are provided.

図１２に示すように、青（Ｂ）の着色層７１Ｂは、例えば４００ｎｍ～４９０ｎｍの波長範囲において６０％以上の光の透過率を有する。４９０ｎｍ以上の波長領域では、光の透過率が減少し、５５０ｎｍ以上では１０％以下となる。緑（Ｇ）の着色層７１Ｇは、例えば４９０ｎｍ～５８０ｎｍの波長範囲において６０％以上の光の透過率を有する。４９０ｎｍ未満の波長領域では、光の透過率が急減し、４６０ｎｍ未満では５％未満となる。また、５８０ｎｍ以上の波長領域では、光の透過率が漸減し、６２０ｎｍ以上では５％以下となる。赤（Ｒ）の着色層７１Ｒは、例えば５９０ｎｍ～６５０ｎｍの波長範囲において６０％以上の光の透過率を有する。５９０ｎｍ未満の波長領域では、光の透過率が急減し、４１０ｎｍ以上５７０ｎｍ以下の波長領域では１０％以下となる。言い換えれば、着色層７１Ｂの分光特性と、着色層７１Ｇの分光特性とはオーバーラップした部分を有し、４９０ｎｍ付近では共に透過率が６０％程度となっている。また、着色層７１Ｇの分光特性と、着色層７１Ｒの分光特性とはオーバーラップした部分を有し、５９０ｎｍ付近では共に透過率が４５％程度となっている。 As shown in FIG. 12, the blue (B) colored layer 71B has a light transmittance of 60% or more in the wavelength range of, for example, 400 nm to 490 nm. In the wavelength region of 490 nm or more, the light transmittance decreases, and in the wavelength region of 550 nm or more, it becomes 10% or less. The green (G) colored layer 71G has a light transmittance of 60% or more in the wavelength range of, for example, 490 nm to 580 nm. In the wavelength region of less than 490 nm, the light transmittance decreases sharply, and in the wavelength region of less than 460 nm, it becomes less than 5%. Further, in the wavelength region of 580 nm or more, the light transmittance gradually decreases, and in the wavelength region of 620 nm or more, it becomes 5% or less. The red (R) colored layer 71R has a light transmittance of 60% or more in the wavelength range of, for example, 590 nm to 650 nm. In the wavelength region of less than 590 nm, the light transmittance sharply decreases, and in the wavelength region of 410 nm or more and 570 nm or less, it becomes 10% or less. In other words, the spectral characteristics of the colored layer 71B and the spectral characteristics of the colored layer 71G have overlapping portions, and the transmittance is about 60% in the vicinity of 490 nm. Further, the spectral characteristics of the colored layer 71G and the spectral characteristics of the colored layer 71R have an overlapping portion, and the transmittance is about 45% in the vicinity of 590 nm.

これに対して、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰにおける有機ＥＬ素子５０Ｂからは、分光放射輝度（単位はＷ（ワット）／（Ｓｒ（ステラジアン）・ｍ2（平方メートル）・ｎｍ（ナノメートル））においてピークを示す共振波長が例えばおよそ４６０ｎｍの光が射出される。緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰにおける有機ＥＬ素子５０Ｇからは、分光放射輝度においてピークを示す共振波長が例えばおよそ５２０ｎｍの光が射出される。赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰにおける有機ＥＬ素子５０Ｒからは、分光放射輝度においてピークを示す共振波長が例えばおよそ６１０ｎｍの光が射出される。つまり、共振構造と、カラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）とを備えることにより、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰのそれぞれから高い色純度の色光を得ることが可能な構成となっている。 On the other hand, from the organic EL element 50B in the blue (B) subpixel SP, the spectral radiance (unit: W (watt) / (Sr (steradian), m 2 (square meter), nm (nanometer))). Light having a resonance wavelength of about 460 nm showing a peak is emitted from the organic EL element 50G in the subpixel SP of green (G), for example, light having a resonance wavelength of about 520 nm showing a peak in spectral radiance is emitted. The organic EL element 50R in the red (R) subpixel SP emits light having a resonance wavelength of, for example, about 610 nm, which shows a peak in spectral radiance. That is, the resonance structure and the color filter 70 (coloring). By providing the layers 71B, 71G, 71R), it is possible to obtain colored light having high color purity from each of the blue (B), green (G), and red (R) subpixel SPs. ..

図１３は、異なる色のサブ画素がＸ方向またはＹ方向に隣り合う場合の視野角による色ずれを説明する概略図である。詳しくは、図１３において、上段にＸ方向に緑（Ｇ）、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）の順に配置されたサブ画素ＳＰを示し、中段にＹ方向に青（Ｂ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の順に配置されたサブ画素ＳＰを示し、下段にＹ方向に青（Ｂ）、赤（Ｒ）、青（Ｂ）の順に配置されたサブ画素ＳＰを示している。 FIG. 13 is a schematic diagram illustrating color shift due to a viewing angle when sub-pixels of different colors are adjacent to each other in the X direction or the Y direction. Specifically, in FIG. 13, the sub-pixel SPs arranged in the order of green (G), red (R), and green (G) in the X direction are shown in the upper row, and blue (B) and green (G) in the Y direction are shown in the middle row. ), The sub-pixel SP arranged in the order of blue (B) is shown, and the sub-pixel SP arranged in the order of blue (B), red (R), and blue (B) in the Y direction is shown in the lower row.

図１３の上段に示すように、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０Ｇから法線方向に発した光ＬＧ１は着色層７１Ｇを透過して射出される。同様に、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０Ｒから法線方向に発した光ＬＲ１は着色層７１Ｒを透過して射出される。有機ＥＬ素子５０Ｇから着色層７１Ｒに向かって斜め方向に発した光ＬＧ２は、図１２に示した着色層７１Ｒの分光特性に示すように、着色層７１Ｒを透過できない（着色層７１Ｒによって光ＬＧ２のほとんどが吸収される）。一方で、図１２に示すように、着色層７１Ｇの分光特性と、有機ＥＬ素子５０Ｒの分光特性とはオーバーラップしている部分を有しているため、有機ＥＬ素子５０Ｒから着色層７１Ｇに向かって斜め方向に発した光ＬＲ２の一部は、着色層７１Ｇを透過することになる。すなわち、図１３の上段に示すように、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰ（着色層７１Ｇ）に対してＸ方向に斜め方向から観察すると、光ＬＧ１に光ＬＲ２の一部が混ざり合った状態の混色が視認される。例えば、緑（Ｇ）の着色層７１Ｇに対して赤（Ｒ）の有機ＥＬ素子５０Ｒの発光領域のＸ方向における一方の端を近づけて配置すると、着色層７１Ｇを斜め方向から透過する光ＬＲ２の光量が増えることから、混色の状態の見え方が変化する。 As shown in the upper part of FIG. 13, the light LG1 emitted in the normal direction from the organic EL element 50G of the green (G) sub-pixel SP is emitted through the colored layer 71G. Similarly, the light LR1 emitted in the normal direction from the organic EL element 50R of the red (R) sub-pixel SP is emitted through the colored layer 71R. The light LG2 emitted obliquely from the organic EL element 50G toward the colored layer 71R cannot pass through the colored layer 71R as shown in the spectral characteristics of the colored layer 71R shown in FIG. 12 (the colored layer 71R causes the light LG2 to pass through the colored layer 71R. Most are absorbed). On the other hand, as shown in FIG. 12, since the spectral characteristics of the colored layer 71G and the spectral characteristics of the organic EL element 50R have an overlapping portion, the organic EL element 50R is directed toward the colored layer 71G. A part of the light LR2 emitted in the oblique direction passes through the colored layer 71G. That is, as shown in the upper part of FIG. 13, when observed from an oblique direction in the X direction with respect to the green (G) sub-pixel SP (colored layer 71G), a part of the optical LR2 is mixed with the optical LG1. The color mixture is visible. For example, when one end of the light emitting region of the red (R) organic EL element 50R is placed close to the green (G) colored layer 71G in the X direction, the light LR2 transmitted through the colored layer 71G from an oblique direction As the amount of light increases, the appearance of the mixed color state changes.

本実施形態では、有機ＥＬ素子５０Ｇの発光領域と有機ＥＬ素子５０Ｒの発光領域との間の画素コンタクト領域の間隔ｄ５はＸ方向において同じである。したがって、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰに対してＸ方向に左側と右側とから観察した場合の混色の状態は、変化し難い。つまり、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれは低減される。Ｘ方向の視野角に起因する色ずれの低減を考慮すると、図５に示したように、異なる色の着色層７１Ｇと着色層７１Ｒとは、そのＸ方向における境界が、第５絶縁層１７によって規定される画素コンタクト領域のＸ方向の長さである間隔ｄ５の中央に位置するように配置されることが好ましい。言い換えれば、Ｘ方向に幅ｄ１で示された有機ＥＬ素子５０Ｒの発光領域の端部から着色層７１Ｒの端部までの距離は、図面上におけるＸ方向の左側と右側とにおいて等しいことが好ましい。同様に、Ｘ方向に幅ｄ１で示された有機ＥＬ素子５０Ｇの発光領域の端部から着色層７１Ｇの端部までの距離は、図面上におけるＸ方向の左側と右側とにおいて等しいことが好ましい。 In the present embodiment, the distance d5 of the pixel contact region between the light emitting region of the organic EL element 50G and the light emitting region of the organic EL element 50R is the same in the X direction. Therefore, the state of color mixing when observed from the left side and the right side in the X direction with respect to the green (G) sub-pixel SP is unlikely to change. That is, the color shift caused by the viewing angle in the X direction is reduced. Considering the reduction of color shift due to the viewing angle in the X direction, as shown in FIG. 5, the colored layer 71G and the colored layer 71R having different colors have a boundary in the X direction due to the fifth insulating layer 17. It is preferable that the pixel contact area is arranged so as to be located at the center of the interval d5 which is the length in the X direction of the defined pixel contact area. In other words, it is preferable that the distance from the end of the light emitting region of the organic EL element 50R shown by the width d1 in the X direction to the end of the colored layer 71R is equal on the left side and the right side in the X direction on the drawing. Similarly, the distance from the end of the light emitting region of the organic EL element 50G shown by the width d1 in the X direction to the end of the colored layer 71G is preferably equal on the left side and the right side in the X direction on the drawing.

図１３の上段に示すように、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒの発光部とカラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）との間の距離ｄｆは、図４あるいは図５に示したように、封止層６０の膜厚によって決まる。封止層６０の膜厚は、およそ２μｍ～４μｍである。有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒと、カラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）と、を別々の基板に形成して対向配置する場合に比べて、封止層６０上にカラーフィルター７０を形成することから、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒの発光部に対してカラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）を高い位置精度で形成できる。また、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒの発光部とカラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）とを近づけて配置できることから、視野角に起因する色ずれの影響を抑えることができる。 As shown in the upper part of FIG. 13, the distance df between the light emitting portion of the organic EL elements 50B, 50G, 50R and the color filter 70 (colored layer 71B, 71G, 71R) is as shown in FIG. 4 or FIG. In addition, it is determined by the film thickness of the sealing layer 60. The film thickness of the sealing layer 60 is approximately 2 μm to 4 μm. Compared with the case where the organic EL elements 50B, 50G, 50R and the color filter 70 (colored layer 71B, 71G, 71R) are formed on separate substrates and arranged to face each other, the color filter 70 is placed on the sealing layer 60. Since it is formed, the color filter 70 (colored layer 71B, 71G, 71R) can be formed with high position accuracy for the light emitting portion of the organic EL elements 50B, 50G, 50R. Further, since the light emitting portion of the organic EL elements 50B, 50G, 50R and the color filter 70 (colored layers 71B, 71G, 71R) can be arranged close to each other, the influence of color shift due to the viewing angle can be suppressed.

図１３の中段に示すように、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０Ｇから法線方向に発した光ＬＧ１は着色層７１Ｇを透過して射出される。同様に、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０Ｂから法線方向に発した光ＬＢ１は着色層７１Ｂを透過して射出される。図１２に示すように、着色層７１Ｂの分光特性と、有機ＥＬ素子５０Ｇの分光特性とはオーバーラップしている部分を有しているため、有機ＥＬ素子５０Ｇから着色層７１Ｂに向かって斜め方向に発した光ＬＧ２の一部は、着色層７１Ｂを透過することになる。また、図１２に示すように、着色層７１Ｇの分光特性と、有機ＥＬ素子５０Ｂの分光特性とはオーバーラップしている部分を有しているため、有機ＥＬ素子５０Ｂから着色層７１Ｇに向かって斜め方向に発した光ＬＢ２の一部は、着色層７１Ｇを透過することになる。すなわち、図１３の中段に示すように、緑（Ｇ）のサブ画素ＳＰ（着色層７１Ｇ）に対してＹ方向に斜め方向から観察すると、光ＬＧ１に光ＬＢ２の一部が混ざり合った混色と、光ＬＢ１に光ＬＧ２の一部が混ざり合った混色とが視認される。例えば、緑（Ｇ）の着色層７１Ｇに対して青（Ｂ）の有機ＥＬ素子５０Ｂの発光領域のＹ方向の一方の端を近づけて配置すると、着色層７１Ｇを透過する光ＬＢ２の光量が増えることから、混色の状態の見え方が変化する。Ｙ方向における、有機ＥＬ素子５０Ｇの発光領域と有機ＥＬ素子５０Ｂの発光領域との間の一方の画素コンタクト領域の間隔ｄ６と、他方の画素領域の間隔ｄ８とは、Ｙ方向の視野角に起因する色ずれを低減する観点から同じ長さとすることが好ましい。Ｙ方向の視野角に起因する色ずれの低減を考慮すると、図４に示したように、異なる色の着色層７１Ｂと着色層７１Ｇとは、そのＹ方向における境界が、第５絶縁層１７によって規定されるサブ画素間の領域のＹ方向の長さである間隔ｄ６（間隔ｄ８）の中央に位置するように配置されることが好ましい。言い換えれば、Ｙ方向に幅ｄ２で示された有機ＥＬ素子５０Ｇの発光領域の端部から着色層７１Ｇの端部までの距離は、図面上におけるＹ方向の左側と右側とにおいて等しいことが好ましい。同様に、Ｙ方向に幅ｄ４で示された有機ＥＬ素子５０Ｂの発光領域の端部から着色層７１Ｂの端部までの距離は、図面上におけるＹ方向の左側と右側とにおいて等しいことが好ましい。 As shown in the middle of FIG. 13, the light LG1 emitted in the normal direction from the organic EL element 50G of the green (G) sub-pixel SP is emitted through the colored layer 71G. Similarly, the light LB1 emitted in the normal direction from the organic EL element 50B of the blue (B) sub-pixel SP is emitted through the colored layer 71B. As shown in FIG. 12, since the spectral characteristics of the colored layer 71B and the spectral characteristics of the organic EL element 50G overlap each other, the organic EL element 50G has an oblique direction toward the colored layer 71B. A part of the light LG2 emitted from the above will pass through the colored layer 71B. Further, as shown in FIG. 12, since the spectral characteristics of the colored layer 71G and the spectral characteristics of the organic EL element 50B overlap each other, the organic EL element 50B toward the colored layer 71G. A part of the light LB2 emitted in the oblique direction passes through the colored layer 71G. That is, as shown in the middle of FIG. 13, when observed from an oblique direction in the Y direction with respect to the green (G) sub-pixel SP (colored layer 71G), the light LG1 is mixed with a part of the light LB2. , A color mixture in which a part of the optical LG2 is mixed with the optical LB1 is visually recognized. For example, when one end of the light emitting region of the blue (B) organic EL element 50B in the Y direction is placed close to the green (G) colored layer 71G, the amount of light of the light LB2 transmitted through the colored layer 71G increases. Therefore, the appearance of the mixed color state changes. The distance d6 of one pixel contact region between the light emitting region of the organic EL element 50G and the light emitting region of the organic EL element 50B in the Y direction and the distance d8 of the other pixel region are caused by the viewing angle in the Y direction. It is preferable that the lengths are the same from the viewpoint of reducing the color shift. Considering the reduction of color shift due to the viewing angle in the Y direction, as shown in FIG. 4, the colored layer 71B and the colored layer 71G having different colors have a boundary in the Y direction formed by the fifth insulating layer 17. It is preferable that the region is arranged so as to be located at the center of the interval d6 (interval d8) which is the length of the region between the defined sub-pixels in the Y direction. In other words, it is preferable that the distance from the end of the light emitting region of the organic EL element 50G shown by the width d2 in the Y direction to the end of the colored layer 71G is equal on the left side and the right side in the Y direction on the drawing. Similarly, the distance from the end of the light emitting region of the organic EL element 50B shown by the width d4 in the Y direction to the end of the colored layer 71B is preferably equal on the left side and the right side in the Y direction on the drawing.

なお、図１３の上段に示した、光ＬＧ１に光ＬＲ２の一部が混ざる混色と、光ＬＧ１に光ＬＢ２の一部が混ざる混色と、を比較すると、光ＬＢ２のほうが光ＬＲ２よりも視認性が低い。したがって、光ＬＧ１に光ＬＲ２の一部が混ざるＸ方向の混色を重視して、光ＬＧ１に光ＬＢ２の一部が混ざるＹ方向の混色を軽視してもよい。言い換えれば、Ｙ方向における、有機ＥＬ素子５０Ｇの発光領域と有機ＥＬ素子５０Ｂの発光領域との間の一方の画素コンタクト領域の間隔ｄ６と、他方の画素領域の間隔ｄ８とを必ずしも同じにしなくてもよい。 Comparing the color mixing in which a part of the optical LR2 is mixed with the optical LG1 and the color mixing in which a part of the optical LB2 is mixed with the optical LG1 shown in the upper part of FIG. 13, the optical LB2 is more visible than the optical LR2. Is low. Therefore, the color mixing in the X direction in which a part of the light LR2 is mixed with the light LG1 may be emphasized, and the color mixing in the Y direction in which a part of the light LB2 is mixed with the light LG1 may be neglected. In other words, the distance d6 of one pixel contact region between the light emitting region of the organic EL element 50G and the light emitting region of the organic EL element 50B in the Y direction and the distance d8 of the other pixel region do not necessarily have to be the same. May be good.

図１３の下段に示すように、赤（Ｒ）のサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０Ｒから法線方向に発した光ＬＲ１は着色層７１Ｒを透過して射出される。同様に、青（Ｂ）のサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０Ｂから法線方向に発した光ＬＢ１は着色層７１Ｂを透過して射出される。図１２に示すように、着色層７１Ｂの分光特性と、有機ＥＬ素子５０Ｒの分光特性とは、ほとんどオーバーラップしていないため、有機ＥＬ素子５０Ｒから着色層７１Ｂに向かって斜め方向に発した光ＬＲ２の一部は、着色層７１Ｂを透過しない。また、図１２に示すように、着色層７１Ｒの分光特性と、有機ＥＬ素子５０Ｂの分光特性とは、ほとんどオーバーラップしていないため、有機ＥＬ素子５０Ｂから着色層７１Ｒに向かって斜め方向に発した光ＬＢ２の一部は、着色層７１Ｒを透過しない。すなわち、Ｙ方向に斜め方向から観察すると、光ＬＲ１に光ＬＢ２が混ざる混色や、光ＬＢ１に光ＬＲ２が混ざる混色は視認されない。つまり、Ｙ方向において、有機ＥＬ素子５０Ｂの発光領域と有機ＥＬ素子５０Ｒの発光領域との間の間隔ｄ６あるいは間隔ｄ８を小さくしても混色は生じ難い。 As shown in the lower part of FIG. 13, the light LR1 emitted in the normal direction from the organic EL element 50R of the red (R) sub-pixel SP is emitted through the colored layer 71R. Similarly, the light LB1 emitted in the normal direction from the organic EL element 50B of the blue (B) sub-pixel SP is emitted through the colored layer 71B. As shown in FIG. 12, since the spectral characteristics of the colored layer 71B and the spectral characteristics of the organic EL element 50R hardly overlap, the light emitted from the organic EL element 50R toward the colored layer 71B in an oblique direction. A part of LR2 does not pass through the colored layer 71B. Further, as shown in FIG. 12, since the spectral characteristics of the colored layer 71R and the spectral characteristics of the organic EL element 50B hardly overlap, they are emitted obliquely from the organic EL element 50B toward the colored layer 71R. A part of the light LB2 is not transmitted through the colored layer 71R. That is, when observed from an oblique direction in the Y direction, the color mixing in which the light LB2 is mixed with the light LR1 and the color mixing in which the light LR2 is mixed with the light LB1 are not visually recognized. That is, in the Y direction, even if the distance d6 or the distance d8 between the light emitting region of the organic EL element 50B and the light emitting region of the organic EL element 50R is reduced, color mixing is unlikely to occur.

上記第１実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９がこの順にＸ方向に繰り返して配置されている。画素コンタクト領域ＣＨ９及び画素コンタクト領域ＣＨ１０のＸ方向の間隔ｄ５は同じ長さである。したがって、異なる色のサブ画素１１０Ｇ，１１０Ｒの発光領域がＸ方向に等間隔で配置されることから、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置１００を提供することができる。 The effects of the first embodiment are as follows.
(1) In the pixel P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixel 110G, the pixel contact area CH10, the sub-pixel 110R, and the pixel contact area CH9 are repeatedly arranged in the X direction in this order. The distance d5 in the X direction between the pixel contact area CH9 and the pixel contact area CH10 has the same length. Therefore, since the light emitting regions of the sub-pixels 110G and 110R having different colors are arranged at equal intervals in the X direction, it is possible to provide the electro-optic device 100 in which the color shift due to the viewing angle in the X direction is reduced. ..

（２）Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、サブ画素１１０Ｂは、サブ画素１１０Ｇ，１１０Ｒに対してＹ方向に並んで配置されている。また、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１１がこの順にＸ方向に繰り返して配置されている。画素コンタクト領域ＣＨ１１のＸ方向の間隔ｄ７は、画素コンタクト領域ＣＨ９のＸ方向の間隔ｄ５と同じ長さである。すなわち、画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１によって、Ｘ方向におけるサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒの各発光領域が等間隔で配置される。言い換えれば、Ｘ方向において、サブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれを等間隔に区分するための特別な構成を用いずに、画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１によって、Ｘ方向におけるサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒの発光領域を等間隔に区分できる。 (2) In the pixel P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixel 110B is arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixels 110G and 110R. Further, the sub-pixel 110B and the pixel contact area CH11 are repeatedly arranged in the X direction in this order. The X-direction spacing d7 of the pixel contact region CH11 is the same length as the X-direction spacing d5 of the pixel contact region CH9. That is, the pixel contact regions CH9, CH10, and CH11 arrange the light emitting regions of the sub-pixels 110B, 110G, and 110R in the X direction at equal intervals. In other words, the sub-pixels 110B, 110G in the X direction are provided by the pixel contact regions CH9, CH10, CH11 without using a special configuration for dividing each of the sub-pixels 110B, 110G, 110R at equal intervals in the X direction. , 110R light emitting areas can be divided into equal intervals.

（３）サブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれは、有機ＥＬ素子５０と、有機ＥＬ素子５０に係る共振構造と、カラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）とを備えているため、サブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれから色純度に優れた色光を取り出すことができる。ゆえに、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えのよいカラー表示が可能な自発光型の電気光学装置１００を提供することができる。 (3) Since each of the sub-pixels 110B, 110G, 110R includes an organic EL element 50, a resonance structure related to the organic EL element 50, and a color filter 70 (colored layers 71B, 71G, 71R), the sub-pixels 110B, 110G, and 110R are sub-pixels. Colored light having excellent color purity can be extracted from each of the pixels 110B, 110G, and 110R. Therefore, it is possible to provide a self-luminous electro-optic device 100 capable of reducing color shift due to a viewing angle in the X direction and displaying a good-looking color.

（４）有機ＥＬ素子５０（有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒ）と、有機ＥＬ素子５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒに係る共振構造と、カラーフィルター７０（着色層７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ）とは、同一の半導体基板１０上に形成されている。有機ＥＬ素子５０とカラーフィルター７０との間には封止層６０が設けられているものの、有機ＥＬ素子５０とカラーフィルター７０とをそれぞれ別の基板に形成する場合に比べて、有機ＥＬ素子５０の発光部とカラーフィルター７０とを近づけて配置することが可能であることから、視野角に起因する色ずれが表示品質に影響し難い自発光型の電気光学装置１００を提供することができる。 (4) The organic EL element 50 (organic EL element 50B, 50G, 50R), the resonance structure related to the organic EL element 50B, 50G, 50R, and the color filter 70 (colored layer 71B, 71G, 71R) are the same. It is formed on the semiconductor substrate 10. Although a sealing layer 60 is provided between the organic EL element 50 and the color filter 70, the organic EL element 50 is compared with the case where the organic EL element 50 and the color filter 70 are formed on different substrates. Since the light emitting unit and the color filter 70 can be arranged close to each other, it is possible to provide a self-luminous electro-optical device 100 in which color shift due to a viewing angle does not easily affect the display quality.

以降、異なる色のサブ画素ＳＰの配置を変えた実施形態について説明する。なお、以降の各実施形態とも、電気光学装置１００における基本的な構成は同じであり、サブ画素ＳＰは、発光素子としての有機ＥＬ素子５０と、有機ＥＬ素子５０に係る共振構造と、カラーフィルター７０と、を備えるものである。したがって、上記第１実施形態と同じ構成には、同じ符号を付して詳細な説明は省略する。また、以降の各実施形態とも、上記第１実施形態の効果（３）、（４）を共通して奏するものである。 Hereinafter, embodiments in which the arrangement of sub-pixel SPs of different colors are changed will be described. The basic configuration of the electro-optical device 100 is the same in each of the following embodiments, and the sub-pixel SP includes an organic EL element 50 as a light emitting element, a resonance structure related to the organic EL element 50, and a color filter. 70 and. Therefore, the same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. Further, in each of the subsequent embodiments, the effects (3) and (4) of the first embodiment are exhibited in common.

（第２実施形態）
図１４は、第２実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。
図１４に示すように、第２実施形態では、第１実施形態に対して、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０ＲのＸ方向における配置を異ならせたものである。具体的には、Ｘ方向に、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０がこの順に配置されている。画素コンタクト領域ＣＨ９を挟んで同色のサブ画素１１０ＲがＸ方向に配置され、画素コンタクト領域ＣＨ１０を挟んで同色のサブ画素１１０ＧがＸ方向に配置されることになる。なお、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、Ｘ方向に、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１０、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ９がこの順に配置されていてもよい。なお、図１４に示すサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれは、発光領域を示すものである。 (Second Embodiment)
FIG. 14 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact regions in the electro-optic device of the second embodiment.
As shown in FIG. 14, in the second embodiment, the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R are arranged differently in the X direction in the pixel P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction with respect to the first embodiment. It is a thing. Specifically, the sub-pixel 110G, the pixel contact area CH10, the sub-pixel 110R, the pixel contact area CH9, the sub-pixel 110R, the pixel contact area CH9, the sub-pixel 110G, and the pixel contact area CH10 are arranged in this order in the X direction. There is. Sub-pixels 110R of the same color are arranged in the X direction with the pixel contact region CH 9 interposed therebetween, and sub-pixels 110G of the same color are arranged in the X direction with the pixel contact region CH10 interposed therebetween. In the pixel P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub pixel 110R, the pixel contact area CH9, the sub pixel 110G, the pixel contact area CH10, the sub pixel 110G, the pixel contact area CH10, and the sub pixel 110R, The pixel contact area CH9 may be arranged in this order. Each of the sub-pixels 110B, 110G, and 110R shown in FIG. 14 indicates a light emitting region.

サブ画素１１０Ｂ及び画素コンタクト領域ＣＨ１１の配置は、第１実施形態と同じであり、サブ画素１１０Ｂは、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対してＹ方向に並んで配置されている。Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１１がこの順にＸ方向に繰り返し配置されている。つまり、画素コンタクト領域ＣＨ１１を挟んで同色のサブ画素１１０ＢがＸ方向に配置されている。 The arrangement of the sub-pixel 110B and the pixel contact region CH11 is the same as that of the first embodiment, and the sub-pixel 110B is arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R. In the pixels P1 and P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixel 110B and the pixel contact area CH11 are repeatedly arranged in the X direction in this order. That is, the sub-pixels 110B of the same color are arranged in the X direction with the pixel contact region CH 11 interposed therebetween.

このサブ画素ＳＰの配置によれば、同色のサブ画素ＳＰが当該サブ画素ＳＰに係る画素コンタクト領域を挟んでＸ方向に並んで配置される。 According to the arrangement of the sub-pixel SPs, the sub-pixel SPs of the same color are arranged side by side in the X direction with the pixel contact area related to the sub-pixel SP.

Ｘ方向における、サブ画素１１０Ｇの発光領域の長さと、サブ画素１１０Ｒの発光領域の長さとは同じであり、画素コンタクト領域ＣＨ９の長さと、画素コンタクト領域ＣＨ１０の長さも同じである。また、Ｘ方向における、画素コンタクト領域ＣＨ９の長さと、画素コンタクト領域ＣＨ１１の長さも同じである。 The length of the light emitting region of the sub pixel 110G and the length of the light emitting region of the sub pixel 110R in the X direction are the same, and the length of the pixel contact region CH9 and the length of the pixel contact region CH10 are also the same. Further, the length of the pixel contact region CH9 and the length of the pixel contact region CH11 in the X direction are also the same.

上記第２実施形態によれば、上記第１実施形態の効果（２）～（４）に加えて、以下の効果が得られる。
（５）Ｘ方向に同色のサブ画素ＳＰが当該サブ画素ＳＰの画素コンタクト領域を挟んで配置される。すなわち、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、異なる色のサブ画素ＳＰが、画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１１を基準として線対称に配置されていることになる。したがって、上記第１実施形態に対して、サブ画素ＳＰのＸ方向の配置における色の対称性が実現され、Ｘ方向に異なる色のサブ画素ＳＰが隣り合って配置される確率が低下することから、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれをさらに抑制することができる。 According to the second embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects (2) to (4) of the first embodiment.
(5) Sub-pixel SPs of the same color are arranged in the X direction with the pixel contact area of the sub-pixel SP interposed therebetween. That is, in the pixels P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixels SP of different colors are arranged line-symmetrically with respect to the pixel contact regions CH9 and CH11. Therefore, with respect to the first embodiment, color symmetry is realized in the arrangement of the sub-pixel SPs in the X direction, and the probability that the sub-pixel SPs of different colors are arranged next to each other in the X direction is reduced. , Color shift due to the viewing angle in the X direction can be further suppressed.

（第３実施形態）
図１５は、第３実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。
図１５に示すように、第３実施形態は、第１実施形態に対して画素コンタクト領域の配置を異ならせたものである。具体的には、サブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとは、Ｘ方向に間隔ｄ５を置いて、この順に並んで配置されている。サブ画素１１０Ｂは、Ｘ方向に間隔ｄ７を置いて繰り返し配置されている。なお、図１５に示すサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれは、発光領域を示すものである。 (Third Embodiment)
FIG. 15 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact regions in the electro-optic device of the third embodiment.
As shown in FIG. 15, in the third embodiment, the arrangement of the pixel contact region is different from that of the first embodiment. Specifically, the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R are arranged side by side in this order with an interval d5 in the X direction. The sub-pixels 110B are repeatedly arranged with an interval d7 in the X direction. Each of the sub-pixels 110B, 110G, and 110R shown in FIG. 15 indicates a light emitting region.

サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＸ方向の長さは幅ｄ１であり、サブ画素１１０Ｂの発光領域のＸ方向の長さは、幅ｄ１よりも大きい幅ｄ３である。サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の長さは幅ｄ２であり、サブ画素１１０Ｂの発光領域のＹ方向の長さは幅ｄ４である。幅ｄ２と幅ｄ４のＹ方向の長さは同じであってもよいし、異なっていてもよい。 The length of the light emitting region of the sub pixel 110G and the sub pixel 110R in the X direction is the width d1, and the length of the light emitting region of the sub pixel 110B in the X direction is the width d3 larger than the width d1. The length of the light emitting region of the sub pixel 110G and the sub pixel 110R in the Y direction is the width d2, and the length of the light emitting region of the sub pixel 110B in the Y direction is the width d4. The lengths of the width d2 and the width d4 in the Y direction may be the same or different.

画素Ｐにおいて、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対してＹ方向にサブ画素１１０Ｂが並んで配置されている。画素Ｐ内において、Ｙ方向に並んだサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｂとの間の領域、つまり間隔ｄ６に、サブ画素１１０Ｇに係る画素コンタクト領域ＣＨ１２と、サブ画素１１０Ｒに係る画素コンタクト領域ＣＨ１３とが設けられている。また、Ｙ方向に隣り合う画素Ｐとしての画素Ｐ１と画素Ｐ３とにおいて、Ｙ方向に並んだサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｂとの間の領域、つまり間隔ｄ８に、サブ画素１１０Ｂに係る画素コンタクト領域ＣＨ１４が設けられている。この場合、間隔ｄ６と間隔ｄ８とのＹ方向の長さは同じである。 In the pixel P, the sub-pixels 110B are arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R. In the pixel P, in the area between the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R and the sub-pixel 110B arranged in the Y direction, that is, in the interval d6, the pixel contact area CH12 related to the sub-pixel 110G and the pixel contact related to the sub-pixel 110R. A region CH13 is provided. Further, in the pixel P1 and the pixel P3 as the pixels P adjacent to each other in the Y direction, in the region between the sub pixel 110G and the sub pixel 110R and the sub pixel 110B arranged in the Y direction, that is, in the interval d8, the sub pixel 110B The pixel contact area CH14 is provided. In this case, the lengths of the interval d6 and the interval d8 in the Y direction are the same.

本実施形態では、画素Ｐ１における、サブ画素１１０Ｇが本発明の第１サブ画素の一例であり、サブ画素１１０Ｒが本発明の第２サブ画素の一例である。また、Ｘ方向において画素Ｐ１に隣り合う画素Ｐ２における、サブ画素１１０Ｇが本発明の第３サブ画素の一例であり、サブ画素１１０Ｒが本発明の第４サブ画素の一例である。また、Ｙ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ３とにおいて、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対してＹ方向に並ぶサブ画素１１０Ｂが本発明の第５サブ画素の一例である。また、Ｙ方向に隣り合う画素Ｐ２と画素Ｐ４とにおいて、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対してＹ方向に並ぶサブ画素１１０Ｂが本発明の第６サブ画素の一例である。よって、画素Ｐ１において画素コンタクト領域ＣＨ１２及び画素コンタクト領域ＣＨ１３が設けられた領域（間隔ｄ６）が本発明の第５の領域の一例であり、画素Ｐ３において画素コンタクト領域ＣＨ１４が設けられた領域（間隔ｄ８）が本発明の第６の領域の一例である。画素Ｐ２における画素コンタクト領域ＣＨ１２及び画素コンタクト領域ＣＨ１３が設けられた領域（間隔ｄ６）が本発明の第７の領域の一例であり、画素Ｐ４において画素コンタクト領域ＣＨ１４が設けられた領域（間隔ｄ８）が本発明の第８の領域の一例である。また、画素Ｐ１において、Ｘ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとの間の領域が第１の領域の一例であり、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、サブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｇとの間の領域が本発明の第２の領域の一例であり、画素Ｐ２においてＸ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとの間の領域が本発明の第３の領域の一例である。画素Ｐ２においてサブ画素１１０Ｒに対してＸ方向における第３の領域と反対側のサブ画素間の領域が本発明の第４の領域の一例である。 In the present embodiment, the sub-pixel 110G in the pixel P1 is an example of the first sub-pixel of the present invention, and the sub-pixel 110R is an example of the second sub-pixel of the present invention. Further, the sub-pixel 110G in the pixel P2 adjacent to the pixel P1 in the X direction is an example of the third sub-pixel of the present invention, and the sub-pixel 110R is an example of the fourth sub-pixel of the present invention. Further, in the pixels P1 and the pixel P3 adjacent to each other in the Y direction, the sub-pixel 110B arranged in the Y direction with respect to the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R is an example of the fifth sub-pixel of the present invention. Further, in the pixels P2 and P4 adjacent to each other in the Y direction, the sub-pixel 110B arranged in the Y direction with respect to the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R is an example of the sixth sub-pixel of the present invention. Therefore, the region (interval d6) in which the pixel contact region CH12 and the pixel contact region CH13 are provided in the pixel P1 is an example of the fifth region of the present invention, and the region (interval) in which the pixel contact region CH14 is provided in the pixel P3. d8) is an example of the sixth region of the present invention. The region (interval d6) in which the pixel contact region CH12 and the pixel contact region CH13 are provided in the pixel P2 is an example of the seventh region of the present invention, and the region (interval d8) in which the pixel contact region CH14 is provided in the pixel P4. Is an example of the eighth region of the present invention. Further, in the pixel P1, the region between the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R adjacent to each other in the X direction is an example of the first region, and in the pixel P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixel 110R The region between the sub-pixel 110G is an example of the second region of the present invention, and the region between the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R adjacent to each other in the X direction in the pixel P2 is the third region of the present invention. This is just an example. The region between the sub-pixels on the side opposite to the third region in the X direction with respect to the sub-pixel 110R in the pixel P2 is an example of the fourth region of the present invention.

上記第３実施形態によれば、上記第１実施形態の効果（３）、（４）に加えて、以下の効果が得られる。
（６）Ｙ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ３とにおいて、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１２、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１４、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１２、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１４がこの順にＹ方向に配置される。同様に、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ１３、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１４、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ１３、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１４がこの順にＹ方向に配置される。画素コンタクト領域ＣＨ１２，ＣＨ１３のＹ方向の長さである間隔ｄ６と、画素コンタクト領域ＣＨ１４のＹ方向の長さである間隔ｄ８とが同じであることから、上記第１実施形態で述べたように、図１２の分光特性によれば、混色が生ずる異なる色のサブ画素１１０Ｂの発光領域とサブ画素１１０Ｇの発光領域とがＹ方向に等間隔で配置される。また、混色が生じ難いものの異なる色のサブ画素１１０Ｂの発光領域とサブ画素１１０Ｒの発光領域とがＹ方向に等間隔で配置される。すなわち、Ｙ方向の視野角に起因する色ずれが低減された電気光学装置を提供できる。 According to the third embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects (3) and (4) of the first embodiment.
(6) In the pixel P1 and the pixel P3 adjacent to each other in the Y direction, the sub pixel 110G, the pixel contact area CH12, the sub pixel 110B, the pixel contact area CH14, the sub pixel 110G, the pixel contact area CH12, the sub pixel 110B, and the pixel contact area. CH14 is arranged in the Y direction in this order. Similarly, the sub-pixel 110R, the pixel contact area CH13, the sub-pixel 110B, the pixel contact area CH14, the sub-pixel 110R, the pixel contact area CH13, the sub-pixel 110B, and the pixel contact area CH14 are arranged in this order in the Y direction. Since the interval d6, which is the length of the pixel contact areas CH12 and CH13 in the Y direction, and the interval d8, which is the length of the pixel contact areas CH14 in the Y direction, are the same, as described in the first embodiment. According to the spectral characteristics of FIG. 12, the light emitting regions of the sub-pixels 110B having different colors in which color mixing occurs and the light emitting regions of the sub-pixels 110G are arranged at equal intervals in the Y direction. Further, the light emitting regions of the sub-pixels 110B and the light emitting regions of the sub-pixels 110R, which are unlikely to cause color mixing but have different colors, are arranged at equal intervals in the Y direction. That is, it is possible to provide an electro-optic device in which color shift due to a viewing angle in the Y direction is reduced.

なお、上記第１実施形態と同様に、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれを低減する観点から、サブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとの配置に係る間隔ｄ５と、サブ画素１１０Ｂの配置に係る間隔ｄ７とを同じ長さとすることがさらに好ましい。 Similar to the first embodiment, from the viewpoint of reducing the color shift caused by the viewing angle in the X direction, the distance d5 relating to the arrangement of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R and the arrangement of the sub-pixel 110B are related. It is more preferable that the interval d7 has the same length.

（第４実施形態）
図１６は、第４実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。
図１６に示すように、第４実施形態は、上記第１実施形態に対して表示単位としての画素Ｐにおける異なる色のサブ画素ＳＰの数を３色から４色に増やしたものである。また、図１６に示すサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒ，１１０Ｙのそれぞれは、発光領域を示すものである。
具体的には、画素Ｐにおいて、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１５、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ１６がこの順にＸ方向に並んで配置されている。また、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１７、黄色（Ｙ）のサブ画素１１０Ｙ、画素コンタクト領域ＣＨ１８がこの順にＸ方向に並んで配置されている。サブ画素１１０Ｂに対してＹ方向にサブ画素１１０Ｇが並んで配置され、サブ画素１１０Ｙに対してＹ方向にサブ画素１１０Ｒが並んで配置されている。なお、青（Ｂ）、緑（Ｇ）、赤（Ｒ）以外に増やす色は、黄色（Ｙ）に限定されるものではなく、他の中間色が選択されてもよい。 (Fourth Embodiment)
FIG. 16 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact regions in the electro-optic device of the fourth embodiment.
As shown in FIG. 16, in the fourth embodiment, the number of sub-pixel SPs of different colors in the pixel P as a display unit is increased from three colors to four colors as compared with the first embodiment. Further, each of the sub-pixels 110B, 110G, 110R, and 110Y shown in FIG. 16 indicates a light emitting region.
Specifically, in the pixel P, the sub-pixel 110G, the pixel contact area CH15, the sub-pixel 110R, and the pixel contact area CH16 are arranged side by side in the X direction in this order. Further, the sub-pixel 110B, the pixel contact area CH17, the yellow (Y) sub-pixel 110Y, and the pixel contact area CH18 are arranged side by side in the X direction in this order. The sub-pixels 110G are arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixel 110B, and the sub-pixels 110R are arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixel 110Y. The colors to be increased other than blue (B), green (G), and red (R) are not limited to yellow (Y), and other intermediate colors may be selected.

サブ画素１１０Ｇ、サブ画素１１０Ｒ、サブ画素１１０Ｂ、サブ画素１１０Ｙの発光領域のＸ方向の長さである幅ｄ１は皆同じである。サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の長さは幅ｄ２であり、サブ画素１１０Ｂ及びサブ画素１１０Ｙの発光領域のＹ方向の長さは幅ｄ４である。幅ｄ２と幅ｄ４とは同じ長さであってもよいし、異なっていてもよい。 The width d1, which is the length of the light emitting region of the sub-pixel 110G, the sub-pixel 110R, the sub-pixel 110B, and the sub-pixel 110Y in the X direction, is the same. The length of the light emitting region of the sub pixel 110G and the sub pixel 110R in the Y direction is the width d2, and the length of the light emitting region of the sub pixel 110B and the sub pixel 110Y in the Y direction is the width d4. The width d2 and the width d4 may have the same length or may be different.

画素コンタクト領域ＣＨ１５，ＣＨ１６，ＣＨ１７，ＣＨ１８のＸ方向の長さである間隔ｄ５は皆同じ長さである。 The intervals d5, which are the lengths of the pixel contact regions CH15, CH16, CH17, and CH18 in the X direction, are all the same length.

画素Ｐ内のＹ方向における、サブ画素１１０Ｂとサブ画素１１０Ｇとの間の長さと、サブ画素１１０Ｙとサブ画素１１０Ｒとの間の長さとは、共に間隔ｄ６であって同じ長さである。つまり、画素Ｐ内のＹ方向における、異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域間の長さは間隔ｄ６である。同様な考え方によれば、Ｙ方向に隣り合う画素Ｐにおける、異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域間の長さは間隔ｄ８である。Ｙ方向の間隔ｄ６と間隔ｄ８とは同じ長さであっても、異なる長さであってもよい。 The length between the sub-pixel 110B and the sub-pixel 110G and the length between the sub-pixel 110Y and the sub-pixel 110R in the Y direction in the pixel P are both the same length with an interval d6. That is, the length between the light emitting regions of the sub-pixels SP of different colors in the Y direction in the pixel P is the interval d6. According to the same idea, the length between the light emitting regions of the sub-pixels SP of different colors in the pixels P adjacent to each other in the Y direction is the interval d8. The interval d6 and the interval d8 in the Y direction may have the same length or different lengths.

つまり、本実施形態では、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐとしての画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、４つの異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域が、Ｘ方向に等間隔で配置されている。また、本実施形態におけるサブ画素１１０Ｇが本発明の他の適用例における第１サブ画素の一例であり、同じく、サブ画素１１０Ｒが第２サブ画素の一例であり、サブ画素１１０Ｂが第３サブ画素の一例であり、サブ画素１１０Ｙが第４サブ画素の一例である。 That is, in the present embodiment, in the pixel P1 and the pixel P2 as the pixels P adjacent to each other in the X direction, the light emitting regions of the sub-pixel SPs of four different colors are arranged at equal intervals in the X direction. Further, the sub-pixel 110G in the present embodiment is an example of the first sub-pixel in another application example of the present invention, the sub-pixel 110R is also an example of the second sub-pixel, and the sub-pixel 110B is the third sub-pixel. As an example, the sub-pixel 110Y is an example of the fourth sub-pixel.

上記第４実施形態によれば、上記第１実施形態の効果（３）、（４）に加えて、以下の効果が得られる。
（７）Ｘ方向に隣り合う画素Ｐとしての画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、４つの異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域が、Ｘ方向に等間隔で配置されている。したがって、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれが低減されると共に、黄色（Ｙ）のサブ画素１１０Ｙを増やしたことで、より優れた色表現が可能な電気光学装置を提供することができる。 According to the fourth embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects (3) and (4) of the first embodiment.
(7) In the pixel P1 and the pixel P2 as the pixels P adjacent to each other in the X direction, the light emitting regions of the sub-pixel SPs of four different colors are arranged at equal intervals in the X direction. Therefore, it is possible to provide an electro-optic device capable of better color expression by reducing the color shift caused by the viewing angle in the X direction and increasing the number of yellow (Y) sub-pixels 110Y.

なお、上記第３実施形態と同様に、Ｙ方向の視野角に起因する色ずれを低減する観点から、同一の画素Ｐ内におけるサブ画素１１０Ｇの発光領域とサブ画素１１０Ｂの発光領域との配置に係る間隔ｄ６と、Ｙ方向に隣り合う画素Ｐにおけるサブ画素１１０Ｂの発光領域とサブ画素１１０Ｇの発光領域との配置に係る間隔ｄ８とを同じ長さとすることがさらに好ましい。 As in the third embodiment, from the viewpoint of reducing the color shift caused by the viewing angle in the Y direction, the light emitting region of the sub pixel 110G and the light emitting region of the sub pixel 110B are arranged in the same pixel P. It is more preferable that the interval d6 and the interval d8 related to the arrangement of the light emitting region of the sub pixel 110B and the light emitting region of the sub pixel 110G in the pixels P adjacent to each other in the Y direction have the same length.

（第５実施形態）
図１７は、第５実施形態の電気光学装置におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。
図１７に示すように、第５実施形態は、第４実施形態と同様に、表示単位としての画素Ｐにおける異なる色のサブ画素ＳＰの数を３色から４色に増やしたものであるが、第４実施形態に対して異なる色のサブ画素ＳＰの配置を異ならせたものである。また、図１７に示すサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒ，１１０Ｙのそれぞれは、発光領域を示すものである。
具体的には、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１５、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ１６、サブ画素１１０Ｒ、画素コンタクト領域ＣＨ１６、サブ画素１１０Ｇ、画素コンタクト領域ＣＨ１５がこの順にＸ方向に並んで配置されている。また、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１７、サブ画素１１０Ｙ、画素コンタクト領域ＣＨ１８、サブ画素１１０Ｙ、画素コンタクト領域ＣＨ１８、サブ画素１１０Ｂ、画素コンタクト領域ＣＨ１７がこの順にＸ方向に並んで配置されている。サブ画素１１０Ｂに対してＹ方向にサブ画素１１０Ｇが並んで配置され、サブ画素１１０Ｙに対してＹ方向にサブ画素１１０Ｒが並んで配置されている。 (Fifth Embodiment)
FIG. 17 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact regions in the electro-optic device of the fifth embodiment.
As shown in FIG. 17, in the fifth embodiment, similarly to the fourth embodiment, the number of sub-pixel SPs of different colors in the pixel P as a display unit is increased from three colors to four colors. The arrangement of the sub-pixel SPs of different colors is different from that of the fourth embodiment. Further, each of the sub-pixels 110B, 110G, 110R, and 110Y shown in FIG. 17 indicates a light emitting region.
Specifically, in the pixels P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub pixel 110G, the pixel contact area CH15, the sub pixel 110R, the pixel contact area CH16, the sub pixel 110R, the pixel contact area CH16, the sub pixel 110G, and the pixel. The contact regions CH15 are arranged side by side in the X direction in this order. Further, the sub-pixel 110B, the pixel contact area CH17, the sub-pixel 110Y, the pixel contact area CH18, the sub-pixel 110Y, the pixel contact area CH18, the sub-pixel 110B, and the pixel contact area CH17 are arranged side by side in the X direction in this order. The sub-pixels 110G are arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixel 110B, and the sub-pixels 110R are arranged side by side in the Y direction with respect to the sub-pixel 110Y.

本実施形態では、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、画素コンタクト領域ＣＨ１６を挟んで同色のサブ画素１１０Ｒが配置されている。同様に、画素コンタクト領域ＣＨ１８を挟んで同色のサブ画素１１０Ｙが配置されている。つまり、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐにおいて、同色のサブ画素ＳＰが当該サブ画素の画素コンタクト領域を挟んで配置された構成となる。 In the present embodiment, the sub-pixels 110R of the same color are arranged on the pixels P1 and the pixels P2 adjacent to each other in the X direction with the pixel contact region CH16 interposed therebetween. Similarly, sub-pixels 110Y of the same color are arranged across the pixel contact region CH18. That is, in the pixels P adjacent to each other in the X direction, the sub-pixels SP of the same color are arranged so as to sandwich the pixel contact area of the sub-pixels.

上記第５実施形態によれば、上記第１実施形態の効果（３）、（４）に加えて、以下の効果が得られる。
（８）Ｘ方向に同色のサブ画素ＳＰが当該サブ画素ＳＰの画素コンタクト領域を挟んで配置される。すなわち、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、異なる色のサブ画素ＳＰが、画素コンタクト領域ＣＨ１６，ＣＨ１８を基準として線対称に配置されていることになる。したがって、上記第４実施形態に対して、サブ画素ＳＰの発光領域のＸ方向の配置における色の対称性が実現され、Ｘ方向に異なる色のサブ画素ＳＰが隣り合って配置される確率が低下することから、Ｘ方向の視野角に起因する色ずれをさらに抑制することができる。 According to the fifth embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects (3) and (4) of the first embodiment.
(8) Sub-pixel SPs of the same color are arranged in the X direction with the pixel contact area of the sub-pixel SP interposed therebetween. That is, in the pixels P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixels SP of different colors are arranged line-symmetrically with respect to the pixel contact regions CH16 and CH18. Therefore, with respect to the fourth embodiment, color symmetry is realized in the arrangement of the light emitting region of the sub-pixel SP in the X direction, and the probability that the sub-pixel SPs of different colors are arranged next to each other in the X direction is reduced. Therefore, it is possible to further suppress the color shift caused by the viewing angle in the X direction.

次に、異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域の大きさと配置とに係るより具体的な実施例と比較例とを挙げて、実施例における視野角に起因する色ずれの低減効果について説明する。 Next, more specific examples and comparative examples relating to the size and arrangement of the light emitting regions of the sub-pixel SPs of different colors will be given, and the effect of reducing the color shift due to the viewing angle in the examples will be described.

（実施例１）
実施例１における異なる色のサブ画素ＳＰの配置は、図１１に示した上記第１実施形態であって、各サブ画素ＳＰに係る寸法は、以下の通りである。
サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＸ方向の幅ｄ１は、２．５μｍである。
サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の幅ｄ２は、３．４μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＸ方向の幅ｄ３は、６．２５μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＹ方向の幅ｄ４は、２．７μｍである。
画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１のＸ方向の間隔ｄ５（間隔ｄ７）は、１．２５μｍである。
Ｙ方向におけるサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域とサブ画素１１０Ｂの発光領域との間隔ｄ６及び間隔ｄ８は同じであって、０．７μｍである。 (Example 1)
The arrangement of the sub-pixel SPs of different colors in the first embodiment is the first embodiment shown in FIG. 11, and the dimensions of each sub-pixel SP are as follows.
The width d1 of the light emitting region of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R in the X direction is 2.5 μm.
The width d2 in the Y direction of the light emitting region of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R is 3.4 μm.
The width d3 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the X direction is 6.25 μm.
The width d4 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the Y direction is 2.7 μm.
The distance d5 (space d7) in the X direction of the pixel contact regions CH9, CH10, and CH11 is 1.25 μm.
The distance d6 and the distance d8 between the light emitting region of the sub pixel 110G and the sub pixel 110R and the light emitting region of the sub pixel 110B in the Y direction are the same, and are 0.7 μm.

（実施例２）
実施例２における異なる色のサブ画素ＳＰの配置は、図１５に示した上記第３実施形態であって、各サブ画素ＳＰに係る寸法は、以下の通りである。
サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＸ方向の幅ｄ１は、３．０５μｍである。
サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の幅ｄ２は、２．６５μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＸ方向の幅ｄ３は、６．８μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＹ方向の幅ｄ４は、２．３５μｍである。
Ｘ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｇの発光領域とサブ画素１１０Ｒの発光領域との間の領域のＸ方向の長さである間隔ｄ５は、０．７μｍである。同じく、Ｘ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｂの発光領域間のＸ方向の長さである間隔ｄ７は、０．７μｍである。
画素コンタクト領域ＣＨ１２，ＣＨ１３，ＣＨ１４のＹ方向の長さである間隔ｄ６（間隔ｄ８）は、１．２５μｍである。 (Example 2)
The arrangement of the sub-pixel SPs of different colors in the second embodiment is the third embodiment shown in FIG. 15, and the dimensions of each sub-pixel SP are as follows.
The width d1 of the light emitting region of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R in the X direction is 3.05 μm.
The width d2 in the Y direction of the light emitting region of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R is 2.65 μm.
The width d3 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the X direction is 6.8 μm.
The width d4 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the Y direction is 2.35 μm.
The distance d5, which is the length in the X direction of the region between the light emitting region of the sub pixel 110G adjacent to each other in the X direction and the light emitting region of the sub pixel 110R, is 0.7 μm. Similarly, the interval d7, which is the length in the X direction between the light emitting regions of the sub-pixels 110B adjacent to each other in the X direction, is 0.7 μm.
The interval d6 (interval d8), which is the length of the pixel contact regions CH12, CH13, and CH14 in the Y direction, is 1.25 μm.

（比較例１）
図１８は、比較例１における異なる色のサブ画素ＳＰと画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。なお、図１８に示すサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれは、発光領域を示すものである。図１８に示すように、比較例１では、表示単位である画素Ｐにおいて、Ｘ方向にサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒとが並んで配置され、サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒに対してＹ方向にサブ画素１１０Ｂが並んで配置された構成となっている。異なる色のサブ画素ＳＰの配置だけを見れば、上記第１実施形態と同じだが、サブ画素１１０Ｂ、サブ画素１１０Ｇ、サブ画素１１０Ｒに係る３つのコンタクトホールＣＨ１９，ＣＨ２０，ＣＨ２１は、Ｙ方向に配列するサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｂとの間の領域に配置されている。つまり、画素コンタクト領域ＣＨ１９，ＣＨ２０，ＣＨ２１のＹ方向の長さが間隔ｄ６である。
比較例１の各サブ画素ＳＰに係る寸法は以下の通りである。
サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＸ方向の幅ｄ１は、３．０５μｍである。
サブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の幅ｄ２は、２．９μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＸ方向の幅ｄ３は、６．８μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＹ方向の幅ｄ４は、２．６５μｍである。
Ｘ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｇの発光領域とサブ画素１１０Ｒの発光領域との間の領域のＸ方向の長さである間隔ｄ５は、０．７μｍである。同じく、Ｘ方向に隣り合うサブ画素１１０Ｂの発光領域間のＸ方向の長さである間隔ｄ７は、０．７μｍである。
画素コンタクト領域ＣＨ１９，ＣＨ２０，ＣＨ２１のＹ方向の長さである間隔ｄ６は、１．２５μｍである。また、コンタクトホールＣＨ１９，ＣＨ２０，ＣＨ２１が設けられていない、Ｙ方向に配列するサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒとサブ画素１１０Ｂとの間の領域のＹ方向の長さつまり間隔ｄ８は、０．７μｍである。 (Comparative Example 1)
FIG. 18 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixel SPs of different colors and pixel contact regions in Comparative Example 1. Each of the sub-pixels 110B, 110G, and 110R shown in FIG. 18 indicates a light emitting region. As shown in FIG. 18, in Comparative Example 1, in the pixel P which is a display unit, the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R are arranged side by side in the X direction, and the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R are arranged in the Y direction. The sub-pixels 110B are arranged side by side. Looking only at the arrangement of the sub-pixel SPs of different colors, it is the same as the first embodiment, but the three contact holes CH19, CH20, and CH21 related to the sub-pixel 110B, the sub-pixel 110G, and the sub-pixel 110R are arranged in the Y direction. It is arranged in the area between the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R and the sub-pixel 110B. That is, the length of the pixel contact regions CH19, CH20, and CH21 in the Y direction is the interval d6.
The dimensions of each sub-pixel SP in Comparative Example 1 are as follows.
The width d1 of the light emitting region of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R in the X direction is 3.05 μm.
The width d2 of the light emitting regions of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R in the Y direction is 2.9 μm.
The width d3 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the X direction is 6.8 μm.
The width d4 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the Y direction is 2.65 μm.
The distance d5, which is the length in the X direction of the region between the light emitting region of the sub pixel 110G adjacent to each other in the X direction and the light emitting region of the sub pixel 110R, is 0.7 μm. Similarly, the interval d7, which is the length in the X direction between the light emitting regions of the sub-pixels 110B adjacent to each other in the X direction, is 0.7 μm.
The interval d6, which is the length of the pixel contact regions CH19, CH20, and CH21 in the Y direction, is 1.25 μm. Further, the length in the Y direction, that is, the interval d8 of the sub-pixel 110G and the region between the sub-pixel 110R and the sub-pixel 110B arranged in the Y direction, in which the contact holes CH19, CH20, and CH21 are not provided, is 0.7 μm. Is.

（比較例２）
図１９は、比較例２の異なる色のサブ画素ＳＰと画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。なお、図１９に示すサブ画素１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒのそれぞれは、発光領域を示すものである。図１９に示すように、比較例２では、表示単位である画素Ｐにおいて、Ｙ方向にサブ画素１１０Ｂ、サブ画素１１０Ｇ、サブ画素１１０Ｒがこの順に並んで配置されている。Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、Ｘ方向にサブ画素１１０Ｂと、画素コンタクト領域ＣＨ２４とがこの順に並んで配置され、Ｘ方向にサブ画素１１０Ｇと、画素コンタクト領域ＣＨ２３とがこの順に並んで配置され、Ｘ方向にサブ画素１１０Ｒと、画素コンタクト領域ＣＨ２２とがこの順に並んで配置されている。このような異なる色のサブ画素ＳＰの配置は、横ストライプ方式と呼ばれている。
比較例２の各サブ画素ＳＰに係る寸法は、以下の通りである。
サブ画素１１０Ｂ及びサブ画素１１０Ｇ並びにサブ画素１１０Ｒの発光領域のＸ方向の幅ｄ１１は、６．２５μｍである。
サブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の幅ｄ１２は、１．３７μｍである。
サブ画素１１０Ｇの発光領域のＹ方向の幅ｄ１３は、幅ｄ１２と同じであって１．３７μｍである。
サブ画素１１０Ｂの発光領域のＹ方向の幅ｄ１４は、２．６６μｍである。
画素コンタクト領域ＣＨ２２，ＣＨ２３，ＣＨ２４のＸ方向の間隔ｄ１５は、１．２５μｍである。
Ｙ方向における異なる色のサブ画素ＳＰの間隔ｄ１６、間隔ｄ１７、間隔ｄ１８は、いずれも同じであって、０．７μｍである。 (Comparative Example 2)
FIG. 19 is a schematic plan view showing the arrangement of the sub-pixel SPs of different colors of Comparative Example 2 and the pixel contact area. Each of the sub-pixels 110B, 110G, and 110R shown in FIG. 19 indicates a light emitting region. As shown in FIG. 19, in Comparative Example 2, in the pixel P which is a display unit, the sub-pixel 110B, the sub-pixel 110G, and the sub-pixel 110R are arranged side by side in this order in the Y direction. In the pixels P1 and P2 adjacent to each other in the X direction, the sub-pixel 110B and the pixel contact area CH24 are arranged side by side in this order in the X direction, and the sub-pixel 110G and the pixel contact area CH23 are arranged in this order in the X direction. The sub-pixels 110R and the pixel contact area CH22 are arranged side by side in this order in the X direction. The arrangement of the sub-pixel SPs having different colors is called the horizontal stripe method.
The dimensions of each sub-pixel SP in Comparative Example 2 are as follows.
The width d11 in the X direction of the light emitting region of the sub-pixel 110B, the sub-pixel 110G, and the sub-pixel 110R is 6.25 μm.
The width d12 of the light emitting region of the sub-pixel 110R in the Y direction is 1.37 μm.
The width d13 in the Y direction of the light emitting region of the sub-pixel 110G is the same as the width d12 and is 1.37 μm.
The width d14 of the light emitting region of the sub-pixel 110B in the Y direction is 2.66 μm.
The distance d15 in the X direction of the pixel contact regions CH22, CH23, and CH24 is 1.25 μm.
The spacing d16, spacing d17, and spacing d18 of the sub-pixels SP of different colors in the Y direction are all the same, and are 0.7 μm.

上記の実施例１、実施例２、比較例１、比較例２では、表示単位としての画素Ｐの大きさを同じとすると共に、サブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒの発光面積を同じとし、サブ画素１１０Ｂの発光面積をサブ画素１１０Ｇのほぼ２倍の大きさとしている。 In the above-mentioned Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2, the size of the pixel P as a display unit is the same, and the light emitting areas of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R are the same, and the sub-pixels are the same. The light emitting area of 110B is almost twice as large as that of the sub pixel 110G.

＜実施例、比較例の光学特性の評価＞
図２０は実施例及び比較例のＸ方向の輝度の視角特性を示すグラフ、図２１は実施例及び比較例のＹ方向の輝度の視角特性を示すグラフ、図２２は実施例及び比較例のＸ方向の色ずれの視角特性を示すグラフ、図２３は実施例及び比較例のＹ方向の色ずれの視角特性を示すグラフである。 <Evaluation of optical characteristics of Examples and Comparative Examples>
FIG. 20 is a graph showing the viewing angle characteristics of the luminance in the X direction of Examples and Comparative Examples, FIG. 21 is a graph showing the viewing angle characteristics of the luminance in the Y direction of Examples and Comparative Examples, and FIG. 22 is the X of Examples and Comparative Examples. A graph showing the viewing angle characteristics of color shift in the direction, FIG. 23 is a graph showing the viewing angle characteristics of color shift in the Y direction of Examples and Comparative Examples.

光学特性の評価方法として、表示パネル１０１の表示領域１０１ａのすべての画素Ｐを白色表示させた状態における、輝度の視角特性と、色ずれの視角特性とを光学シミュレーターを用いて求めた。輝度は、正面輝度を「１」として、法線方向に対する視角を±２０度の範囲で変化させたときの値を求めている。色ずれは、白色表示したときの正面色度（ＣＩＥ １９７６ ＵＣＳ系色度図による）に対して同じく法線方向に対する視角を±２０度の範囲で変化させたときの色度のずれ量（Δｕ’ｖ’）の値を求めている。 As a method for evaluating the optical characteristics, the viewing angle characteristics of luminance and the viewing angle characteristics of color shift in a state where all the pixels P in the display area 101a of the display panel 101 are displayed in white were obtained by using an optical simulator. The brightness is obtained when the front brightness is set to "1" and the viewing angle with respect to the normal direction is changed within a range of ± 20 degrees. The color shift is the amount of color shift (Δu) when the viewing angle with respect to the normal direction is changed within the range of ± 20 degrees with respect to the front chromaticity (according to the CIE 1976 UCS chromaticity diagram) when displayed in white. The value of'v') is calculated.

実施例及び比較例の電気光学装置は、後述する電子機器としてのヘッドマウントディスプレイの表示部に用いることを前提として画素Ｐ（サブ画素ＳＰ）の構成と配置とを規定したものである。それゆえに、実施例及び比較例の評価では、±１５度の視角範囲で、輝度の変化が正面に対して２０％以内、色ずれ（Δｕ’ｖ’）が０．０２以下であることが好ましいとしている。 The electro-optical devices of Examples and Comparative Examples define the configuration and arrangement of pixels P (sub-pixel SP) on the premise that they are used for a display unit of a head-mounted display as an electronic device described later. Therefore, in the evaluation of Examples and Comparative Examples, it is preferable that the change in brightness is within 20% with respect to the front and the color shift (Δu'v') is 0.02 or less in a viewing angle range of ± 15 degrees. It is supposed to be.

図２０に示すように、Ｘ方向の輝度の視角特性では、実施例１、実施例２、比較例１、比較例２ともに、輝度の変化が２０％以内に収まっている。なお、実施例２の輝度の視角特性は、比較例１の輝度の視角特性とほぼ同じであり、図２０では比較例１の方を表記した。一方で、Ｙ方向の輝度の視角特性では、図２１に示すように、実施例１、実施例２、比較例１は、輝度の変化が２０％以内となっているものの、比較例２は輝度の変化が４０％に及んでいる。これは、比較例２では、異なる色のサブ画素ＳＰをＹ方向に順に並べて配置したことに起因していると考えられる。 As shown in FIG. 20, in the viewing angle characteristics of the luminance in the X direction, the change in luminance is within 20% in all of Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2. The luminance viewing angle characteristic of Example 2 is almost the same as the luminance viewing angle characteristic of Comparative Example 1, and Comparative Example 1 is shown in FIG. 20. On the other hand, regarding the viewing angle characteristics of the luminance in the Y direction, as shown in FIG. 21, the change in luminance in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 is within 20%, but in Comparative Example 2, the luminance is changed. The change is up to 40%. It is considered that this is due to the fact that the sub-pixels SP of different colors are arranged in order in the Y direction in Comparative Example 2.

図２２に示すように、Ｘ方向の色ずれの視角特性では、実施例１、実施例２、比較例１、比較例２ともに、±２０度の範囲で色ずれの変化が０．０２以内に収まっており、視角が＋側になっても－側になっても変化の仕方は同じである。一方で、実施例１、実施例２、比較例１では、変化量が０．０１以内となっているのに対して、比較例２の変化量が大きいことが分かる。これは、実施例１、実施例２、比較例１に対して比較例２は、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ１と画素Ｐ２とにおいて、Ｘ方向に同色のサブ画素ＳＰが並んでおり、共振構造において、低視角になるほど光共振における光学的な距離が長くなり有機ＥＬ素子５０から斜め方向に発する光の波長が長波長側にシフトすることで色ずれが生ずる影響を受け易くなっていると考えられる。 As shown in FIG. 22, in the viewing angle characteristics of the color shift in the X direction, the change in the color shift is within 0.02 in the range of ± 20 degrees in all of Example 1, Example 2, Comparative Example 1 and Comparative Example 2. It is settled, and the way of change is the same regardless of whether the viewing angle is on the + side or the-side. On the other hand, in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, it can be seen that the amount of change is within 0.01, whereas the amount of change in Comparative Example 2 is large. This is because in Comparative Example 2 with respect to Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, sub-pixels SP of the same color are lined up in the X direction in the pixel P1 and the pixel P2 adjacent to each other in the X direction, and have a resonance structure. Therefore, it is considered that the lower the viewing angle, the longer the optical distance in optical resonance, and the wavelength of the light emitted diagonally from the organic EL element 50 shifts to the longer wavelength side, which makes it more susceptible to color shift. Be done.

一方で、Ｙ方向の色ずれの視角特性では、図２３に示すように、実施例１、実施例２は、±１５度の範囲で色ずれの変化が０．０１５以内に収まっており、視角が＋側になっても－側になっても変化の仕方は同じである。これに対して、比較例１、比較例２は、±１５度の範囲で色ずれの変化が０．０２以内に収まっているものの、視角が－側の色ずれの変化量が、視角が＋側の色ずれの変化量よりも格段に大きいことが分かる。これは、実施例１及び実施例２に比べて、比較例１及び比較例２ではＹ方向における異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域の配置が等間隔でないことに起因していると考えられる。特に、比較例１では、画素コンタクト領域ＣＨ１９，ＣＨ２０，ＣＨ２１が設けられた間隔ｄ６の長さが、１．２５μｍであり、画素コンタクト領域ＣＨ１９，ＣＨ２０，ＣＨ２１が設けられていない間隔ｄ８の長さが０．７μｍであることから、Ｙ方向における間隔ｄ６の長さと間隔ｄ８の長さとが明らかに違う。 On the other hand, regarding the viewing angle characteristics of the color shift in the Y direction, as shown in FIG. 23, in Examples 1 and 2, the change in the color shift is within 0.015 within a range of ± 15 degrees, and the viewing angle is within 0.015. The way of change is the same whether it is on the + side or the-side. On the other hand, in Comparative Example 1 and Comparative Example 2, although the change in color shift was within 0.02 within the range of ± 15 degrees, the amount of change in color shift on the negative side of the viewing angle was + It can be seen that it is much larger than the amount of change in the color shift on the side. It is considered that this is because the arrangement of the light emitting regions of the sub-pixels SP of different colors in the Y direction is not evenly spaced in Comparative Example 1 and Comparative Example 2 as compared with Example 1 and Example 2. In particular, in Comparative Example 1, the length of the interval d6 in which the pixel contact regions CH19, CH20, and CH21 are provided is 1.25 μm, and the length of the interval d8 in which the pixel contact regions CH19, CH20, and CH21 are not provided. Is 0.7 μm, so that the length of the interval d6 and the length of the interval d8 in the Y direction are clearly different.

実施例１及び実施例２は、Ｘ方向及びＹ方向において、異なる色のサブ画素ＳＰの発光領域が等間隔に配置されていることから、隣り合って配置された異なる色のサブ画素ＳＰ間での混色の状態が視野角によって変化し難くなっている。つまり、視野角に起因する色ずれが低減されている。 In the first and second embodiments, since the light emitting regions of the sub-pixel SPs of different colors are arranged at equal intervals in the X direction and the Y direction, the sub-pixel SPs of different colors arranged adjacent to each other are arranged. The state of color mixing is less likely to change depending on the viewing angle. That is, the color shift caused by the viewing angle is reduced.

図２４は、有機ＥＬ素子の発光部から着色層までの距離と色ずれとの関係を示すグラフである。具体的には、実施例１における有機ＥＬ素子５０の発光部から着色層７１までの距離ｄｆ（図１３参照）、つまり封止層６０（図４及び図５参照）の膜厚はおよそ２．６μｍであった。これを、１．６μｍとしたときと、３．６μｍとしたときのＸ方向の色ずれの視角特性を光学シミュレーションにより求めたものである。図２４に示すように、有機ＥＬ素子５０の発光部と着色層７１との間の距離を縮めて行くと、共振構造の低視角における光学的な距離が長くなることに起因して斜め方向に発する光の波長が長波長側にシフトする影響を受けて色ずれの程度が大きくなると考えられる。これは、サブ画素ＳＰごとの共振構造における発光の分光特性と着色層の分光特性とに関わることから、色ずれの許容範囲に応じて、有機ＥＬ素子５０の発光部と着色層７１との間の距離を設定することが好ましいと考えられる。また、封止層６０の膜厚は信頼性品質に係るので、これも考慮する必要がある。 FIG. 24 is a graph showing the relationship between the distance from the light emitting portion of the organic EL element to the colored layer and the color shift. Specifically, the distance df (see FIG. 13) from the light emitting portion of the organic EL element 50 to the colored layer 71 in Example 1, that is, the film thickness of the sealing layer 60 (see FIGS. 4 and 5) is approximately 2. It was 6 μm. The visual angle characteristics of the color shift in the X direction when this is 1.6 μm and when it is 3.6 μm are obtained by optical simulation. As shown in FIG. 24, when the distance between the light emitting portion of the organic EL element 50 and the colored layer 71 is reduced, the optical distance at a low viewing angle of the resonance structure becomes longer, so that the distance is oblique. It is considered that the degree of color shift is increased due to the influence of the wavelength of the emitted light being shifted to the long wavelength side. Since this is related to the spectral characteristics of light emission in the resonance structure of each sub-pixel SP and the spectral characteristics of the colored layer, it is between the light emitting portion of the organic EL element 50 and the colored layer 71 according to the allowable range of color shift. It is considered preferable to set the distance of. Further, since the film thickness of the sealing layer 60 is related to the reliability quality, it is also necessary to consider this.

図２５は、画素コンタクト領域の幅と色ずれとの関係を示すグラフである。具体的には、実施例１におけるＸ方向の画素コンタクト領域の長さである間隔ｄ５は、１．２５μｍであった。これを０．７５μｍとしたときと、１．７５μｍとしたときのＸ方向の色ずれの視角特性を光学シミュレーションにより求めたものである。図２５に示すように、画素コンタクト領域の間隔ｄ５の長さを縮めて行くと、色ずれの程度はやや改善される。これは、画素コンタクト領域の間隔ｄ５の長さを縮めることで、サブ画素１１０Ｇやサブ画素１１０ＲのＸ方向の長さを長くして、実質的に発光領域の面積を大きくしたことから、色ずれの相対的な影響度が変化しているものと考えられる。すなわち、画素Ｐの面積に対するサブ画素ＳＰの発光領域の面積すなわち開口率が色ずれに関わることを示すものである。よって、サブ画素ＳＰの開口率に応じて画素コンタクト領域の大きさを設定することが好ましいと考えられる。 FIG. 25 is a graph showing the relationship between the width of the pixel contact area and the color shift. Specifically, the interval d5, which is the length of the pixel contact region in the X direction in Example 1, was 1.25 μm. The visual angle characteristics of the color shift in the X direction when this is 0.75 μm and when it is 1.75 μm are obtained by optical simulation. As shown in FIG. 25, when the length of the interval d5 of the pixel contact region is shortened, the degree of color shift is slightly improved. This is because the length of the interval d5 of the pixel contact region is shortened to lengthen the length of the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R in the X direction, and the area of the light emitting region is substantially increased. It is considered that the relative influence of is changing. That is, it shows that the area of the light emitting region of the sub-pixel SP with respect to the area of the pixel P, that is, the aperture ratio is related to the color shift. Therefore, it is considered preferable to set the size of the pixel contact region according to the aperture ratio of the sub-pixel SP.

（第６実施形態）
＜電子機器＞
次に、上記実施形態の電気光学装置が適用される電子機器の一例について、図２６を参照して説明する。図２６は電子機器としてのヘッドマウントディスプレイの構成を示す概略図である。 (Sixth Embodiment)
<Electronic equipment>
Next, an example of an electronic device to which the electro-optic device of the above embodiment is applied will be described with reference to FIG. 26. FIG. 26 is a schematic view showing the configuration of a head-mounted display as an electronic device.

図２６に示すように、本実施形態の電子機器としてのヘッドマウントディスプレイ（Head Mount Display；ＨＭＤ）１０００は、左右の眼に対応して情報を表示するための一対の光学ユニット１００１Ｌ，１００１Ｒと、一対の光学ユニット１００１Ｌ，１００１Ｒを使用者の頭部に装着するための装着部（図示省略）と、電源部及び制御部（図示省略）などを有している。ここで、一対の光学ユニット１００１Ｌ，１００１Ｒは左右対称な構成であるため、右眼用の光学ユニット１００１Ｒを例として説明する。 As shown in FIG. 26, the head mounted display (HMD) 1000 as an electronic device of the present embodiment includes a pair of optical units 1001L and 1001R for displaying information corresponding to the left and right eyes. It has a mounting unit (not shown) for mounting the pair of optical units 1001L and 1001R on the user's head, a power supply unit, a control unit (not shown), and the like. Here, since the pair of optical units 1001L and 1001R have a symmetrical configuration, the optical unit 1001R for the right eye will be described as an example.

光学ユニット１００１Ｒは、上記実施形態の電気光学装置１００が適用された表示部１００Ｒと、集光光学系１００２と、Ｌ字状に折れ曲がった導光体１００３とを備えている。導光体１００３にはハーフミラー層１００４が設けられている。光学ユニット１００１Ｒにおいて、表示部１００Ｒから射出された表示光は、集光光学系１００２によって導光体１００３に入射し、ハーフミラー層１００４で反射して右眼に導かれる。ハーフミラー層１００４に投影された表示光（映像）は虚像である。したがって、使用者は、表示部１００Ｒによる表示（虚像）とハーフミラー層１００４の先にある外界の双方を視認することができる。つまり、ＨＭＤ１０００は、透過型（シースルー型）の投射型表示装置である。 The optical unit 1001R includes a display unit 100R to which the electro-optic device 100 of the above embodiment is applied, a condensing optical system 1002, and a light guide body 1003 bent in an L shape. The light guide body 1003 is provided with a half mirror layer 1004. In the optical unit 1001R, the display light emitted from the display unit 100R is incident on the light guide body 1003 by the condensing optical system 1002, reflected by the half mirror layer 1004, and guided to the right eye. The display light (image) projected on the half mirror layer 1004 is a virtual image. Therefore, the user can visually recognize both the display (virtual image) by the display unit 100R and the outside world beyond the half mirror layer 1004. That is, the HMD 1000 is a transmission type (see-through type) projection type display device.

導光体１００３はロッドレンズを組み合わせたものであって、ロッドインテグレーターを形成している。導光体１００３の光の入射側に、集光光学系１００２と表示部１００Ｒとが配置され、集光光学系１００２により集光された表示光を、上記ロッドレンズが受光する構成となっている。また、導光体１００３のハーフミラー層１００４は、集光光学系１００２で集光され、ロッドレンズ内で全反射して伝達される光束を、右眼に向って反射する角度を有している。 The light guide body 1003 is a combination of rod lenses and forms a rod integrator. The condensing optical system 1002 and the display unit 100R are arranged on the incident side of the light of the light guide body 1003, and the rod lens receives the display light condensed by the condensing optical system 1002. .. Further, the half mirror layer 1004 of the light guide body 1003 has an angle at which the light beam collected by the light collecting optical system 1002 and totally reflected and transmitted in the rod lens is reflected toward the right eye. ..

表示部１００Ｒは、制御部から伝送された表示信号を、文字や映像などの画像情報として表示することができる。表示された画像情報は、集光光学系１００２によって実像から虚像に変換される。 The display unit 100R can display the display signal transmitted from the control unit as image information such as characters and images. The displayed image information is converted from a real image to a virtual image by the condensing optical system 1002.

なお、上述した通り、左眼用の光学ユニット１００１Ｌについても、上記実施形態の電気光学装置１００が適用された表示部１００Ｌを有し、構成及び機能は上記右眼用の光学ユニット１００１Ｒと同じである。 As described above, the optical unit 1001L for the left eye also has a display unit 100L to which the electro-optic device 100 of the above embodiment is applied, and has the same configuration and function as the optical unit 1001R for the right eye. be.

本実施形態によれば、表示部１００Ｌ，１００Ｒとして上記実施形態の電気光学装置１００が適用されているので、視野角に起因する色ずれが低減され、見栄えのよいカラー表示が可能なシースルー型のＨＭＤ１０００を提供することができる。 According to the present embodiment, since the electro-optic device 100 of the above embodiment is applied as the display units 100L and 100R, the color shift due to the viewing angle is reduced, and a see-through type capable of displaying a good-looking color is possible. HMD1000 can be provided.

特に、両眼で投影された表示光（画像）を確認する場合、使用者の左眼と右眼との間の距離は必ずしも一定ではないことから、左眼によって表示光を確認する視角範囲と、右眼によって表示光を確認する視角範囲とが、使用者によって異なることが考えられる。仮に、表示部１００Ｌと表示部１００Ｒとで視野角に起因する混色の状態が異なると、両眼で認識された表示光（画像）の色ずれによる違和感を感ずることになり、長時間に亘って装着したときに疲れやすくなる。本実施形態によれば、視野角に起因する色ずれが低減されているため、長時間に亘って装着しても画像認識において疲れ難いヘッドマウントディスプレイ１０００を提供できる。 In particular, when checking the display light (image) projected by both eyes, the distance between the user's left eye and right eye is not always constant, so the viewing angle range for checking the display light with the left eye It is conceivable that the viewing angle range in which the display light is confirmed by the right eye differs depending on the user. If the state of color mixing due to the viewing angle differs between the display unit 100L and the display unit 100R, the display light (image) recognized by both eyes will feel uncomfortable due to the color shift, and will occur for a long period of time. It is easy to get tired when wearing it. According to the present embodiment, since the color shift due to the viewing angle is reduced, it is possible to provide the head-mounted display 1000 that does not get tired in image recognition even if it is worn for a long time.

なお、上記実施形態の電気光学装置１００が適用されるＨＭＤ１０００は、両眼に対応した一対の光学ユニット１００１Ｌ，１００１Ｒを備える構成に限定されず、例えば、片方の光学ユニット１００１Ｒを備える構成であってもよい。また、シースルー型に限定されず、外光を遮光した状態で表示を視認する没入型であってもよい。また、表示部１００Ｌ，１００Ｒには、上記他の実施形態の電気光学装置を適用してもよい。 The HMD 1000 to which the electro-optic device 100 of the above embodiment is applied is not limited to a configuration including a pair of optical units 1001L and 1001R corresponding to both eyes, and is, for example, a configuration including one optical unit 1001R. It is also good. Further, the type is not limited to the see-through type, and may be an immersive type in which the display is visually recognized in a state where external light is shielded. Further, the electro-optic device of the other embodiment may be applied to the display units 100L and 100R.

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及び該電気光学装置を適用する電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately modified within the scope of the claims and within the scope not contrary to the gist or idea of the invention that can be read from the entire specification. Electronic devices to which the electro-optical device is applied are also included in the technical scope of the present invention. Various modifications other than the above-described embodiment can be considered. Hereinafter, a modified example will be described.

（変形例１）上記第１実施形態及び上記第３実施形態では、画素Ｐ内において、サブ画素１１０ＢのＹ方向の下側にサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒを配置したが、これに限定されず、サブ画素１１０ＢのＹ方向の上側にサブ画素１１０Ｇ及びサブ画素１１０Ｒを配置してもよい。また、Ｘ方向の左側にサブ画素１１０Ｒ、右側にサブ画素１１０Ｇを配置してもよい。さらに、Ｘ方向に並ぶサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｒの発光面積を同じとしたが、これに限定されず、発光面積を異ならせてもよい。すなわち、少なくとも第１方向に隣り合うサブ画素ＳＰを等間隔で配置し、異なる色のサブ画素ＳＰにおける光学特性（分光特性）と、表示パネル１０１としての光学特性（例えば、輝度やホワイトバランス）とを考慮して、サブ画素ＳＰの発光面積や配置を設定できる。 (Modification 1) In the first embodiment and the third embodiment, the sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R are arranged below the sub-pixel 110B in the Y direction in the pixel P, but the present invention is not limited thereto. , The sub-pixel 110G and the sub-pixel 110R may be arranged on the upper side of the sub-pixel 110B in the Y direction. Further, the sub pixel 110R may be arranged on the left side in the X direction, and the sub pixel 110G may be arranged on the right side. Further, although the light emitting areas of the sub-pixels 110G and the sub-pixels 110R arranged in the X direction are the same, the light emitting area is not limited to this, and the light emitting areas may be different. That is, at least the sub-pixel SPs adjacent to each other in the first direction are arranged at equal intervals, and the optical characteristics (spectral characteristics) of the sub-pixel SPs of different colors and the optical characteristics (for example, brightness and white balance) of the display panel 101 are exhibited. The emission area and arrangement of the sub-pixel SP can be set in consideration of.

また、上記各実施形態では、本発明の第１方向として、画素Ｐの配列における行方向（Ｘ方向）を例示したが、これに限定されるものではない。図２７は変形例の画素におけるサブ画素と画素コンタクト領域との配置を示す概略平面図である。例えば、図２７に示すように、本発明の第１方向は画素Ｐの配列における列方向（Ｙ方向）であり、第１方向に交差する第２方向は画素Ｐの配列における行方向（Ｘ方向）であってもよい。画素Ｐ１は、Ｙ方向に並んだ、第１サブ画素としてのサブ画素１１０Ｂ、第１の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１０、第２サブ画素としてのサブ画素１１０Ｒ、第２の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ９を有する。画素Ｐ１に対してＹ方向に隣り合う画素Ｐ２は、Ｙ方向に並んだ、第３サブ画素としてのサブ画素１１０Ｂ、第３の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１０、第４サブ画素としてのサブ画素１１０Ｒ、第４の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ９を有する。 Further, in each of the above embodiments, the row direction (X direction) in the arrangement of the pixels P is exemplified as the first direction of the present invention, but the present invention is not limited thereto. FIG. 27 is a schematic plan view showing the arrangement of sub-pixels and pixel contact areas in the pixels of the modified example. For example, as shown in FIG. 27, the first direction of the present invention is the column direction (Y direction) in the array of pixels P, and the second direction intersecting the first direction is the row direction (X direction) in the array of pixels P. ) May be. The pixels P1 are arranged in the Y direction, a sub pixel 110B as a first sub pixel, a pixel contact area CH10 as a first area, a sub pixel 110R as a second sub pixel, and a pixel contact area as a second area. It has CH9. The pixels P2 adjacent to the pixel P1 in the Y direction are the sub pixel 110B as the third sub pixel, the pixel contact area CH10 as the third area, and the sub pixel 110R as the fourth sub pixel arranged in the Y direction. , Has a pixel contact area CH9 as a fourth area.

また、画素Ｐ１は、Ｙ方向に並んだ、第５サブ画素としてのサブ画素１１０Ｇ、第５の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１１を有する。画素Ｐ１において、サブ画素１１０Ｇは、サブ画素１１０Ｂ及びサブ画素１１０Ｒに対して、Ｙ方向に交差するＸ方向に並んでいる。画素Ｐ１に対してＹ方向に隣り合う画素Ｐ２は、Ｙ方向に並んだ、第６サブ画素としてのサブ画素１１０Ｇ、第６の領域としての画素コンタクト領域ＣＨ１１を有する。画素Ｐ１と同様に、画素Ｐ２においても、サブ画素１１０Ｇは、サブ画素１１０Ｂ及びサブ画素１１０Ｒに対して、Ｙ方向に交差するＸ方向に並んでいる。 Further, the pixel P1 has a sub-pixel 110G as a fifth sub-pixel and a pixel contact region CH11 as a fifth region arranged in the Y direction. In the pixel P1, the sub-pixel 110G is arranged in the X direction intersecting the Y direction with respect to the sub-pixel 110B and the sub-pixel 110R. Pixels P2 adjacent to the pixel P1 in the Y direction have sub-pixels 110G as the sixth sub-pixel and pixel contact area CH11 as the sixth region arranged in the Y direction. Similar to the pixel P1, in the pixel P2, the sub-pixel 110G is arranged in the X direction intersecting the Y direction with respect to the sub-pixel 110B and the sub-pixel 110R.

サブ画素１１０Ｂ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＹ方向の長さが幅ｄ１であり、Ｙ方向における画素コンタクト領域ＣＨ９，ＣＨ１０の長さ、つまりＹ方向に隣り合う発光領域の間隔がｄ５である。サブ画素１１０Ｇの発光領域のＹ方向の長さは、サブ画素１１０Ｂの発光領域の幅ｄ１のほぼ倍である。サブ画素１１０Ｂ及びサブ画素１１０Ｒの発光領域のＸ方向の長さが幅ｄ２であり、サブ画素１１０Ｇの発光領域のＸ方向の長さが幅ｄ４であり、幅ｄ２と幅ｄ４とは同じである。画素Ｐ内におけるサブ画素１１０Ｂとサブ画素１１０Ｇとの間のＸ方向の長さは間隔ｄ６であり、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐのサブ画素１１０Ｇとサブ画素１１０Ｂとの間のＸ方向の長さは間隔ｄ８である。間隔ｄ６と間隔ｄ８とは同じである。すなわち、変形例のサブ画素の配置は、第１実施形態の図１１に示したサブ画素の配置を面内において９０度回転させたものであって、サブ画素１１０Ｂとサブ画素１１０Ｇとを入れ替えて、サブ画素１１０Ｇの発光領域の面積をサブ画素１１０Ｂの発光領域の面積よりも大きくしたものである。これにより、画素Ｐにおけるサブ画素ＳＰの有機ＥＬ素子５０の発光輝度のバランスと輝度寿命とを調整している。このような変形例の画素における異なる色のサブ画素ＳＰの配置としても、行方向（Ｘ方向）及び列方向（Ｙ方向）における視野角に起因する色ずれを低減できる。 The length of the light emitting region of the sub pixel 110B and the sub pixel 110R in the Y direction is the width d1, the length of the pixel contact regions CH9 and CH10 in the Y direction, that is, the distance between the light emitting regions adjacent to each other in the Y direction is d5. The length of the light emitting region of the sub pixel 110G in the Y direction is approximately twice the width d1 of the light emitting region of the sub pixel 110B. The length of the light emitting region of the sub pixel 110B and the sub pixel 110R in the X direction is the width d2, the length of the light emitting region of the sub pixel 110G in the X direction is the width d4, and the width d2 and the width d4 are the same. .. The length in the X direction between the sub pixel 110B and the sub pixel 110G in the pixel P is the interval d6, and the length in the X direction between the sub pixel 110G and the sub pixel 110B of the pixels P adjacent to each other in the X direction. Is the interval d8. The interval d6 and the interval d8 are the same. That is, the arrangement of the sub-pixels in the modified example is the arrangement of the sub-pixels shown in FIG. 11 of the first embodiment rotated by 90 degrees in the plane, and the sub-pixel 110B and the sub-pixel 110G are interchanged. The area of the light emitting region of the sub pixel 110G is larger than the area of the light emitting region of the sub pixel 110B. As a result, the balance of the emission luminance and the luminance lifetime of the organic EL element 50 of the sub-pixel SP in the pixel P are adjusted. Even if the sub-pixel SPs of different colors are arranged in the pixels of such a modification, the color shift due to the viewing angle in the row direction (X direction) and the column direction (Y direction) can be reduced.

（変形例２）上記各実施形態では、白色発光が得られる有機ＥＬ素子５０と共振構造とを組み合わせることで、異なる色のサブ画素ＳＰから所望の色光を取り出す構成としたが、共振構造は必須ではなく、例えば、共振構造がない構成や、異なる色のサブ画素ＳＰのそれぞれに対応する色光が得られる有機ＥＬ素子を設けた構成であっても、本発明を適用できる。 (Modification 2) In each of the above embodiments, the organic EL element 50 capable of obtaining white light emission and the resonance structure are combined to extract desired color light from the sub-pixel SPs of different colors, but the resonance structure is indispensable. However, for example, the present invention can be applied even in a configuration without a resonance structure or a configuration in which an organic EL element capable of obtaining colored light corresponding to each of subpixel SPs of different colors is provided.

（変形例３）本発明における異なる色のサブ画素ＳＰと、画素コンタクト領域との配置は、自発光型の電気光学装置１００に適用されることに限定されない。例えば、透過型の液晶装置など、照明光を利用する受光型の表示装置においても適用できる。 (Modification 3) The arrangement of the sub-pixel SPs of different colors and the pixel contact region in the present invention is not limited to being applied to the self-luminous electro-optic device 100. For example, it can be applied to a light receiving type display device that uses illumination light, such as a transmissive liquid crystal device.

（変形例４）上記各実施形態の電気光学装置を適用可能な電子機器は、上記第６実施形態のヘッドマウントディスプレイ１０００に限定されない。例えば、車載用のヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）や、照明型などの各種の投射型表示装置にも適用できる。 (Modification 4) The electronic device to which the electro-optic device of each of the above embodiments can be applied is not limited to the head-mounted display 1000 of the sixth embodiment. For example, it can be applied to an in-vehicle head-up display (HUD) and various projection type display devices such as an illumination type.

１０…基板としての半導体基板、５０，５０Ｂ，５０Ｇ，５０Ｒ…発光素子としての有機ＥＬ素子、７０…カラーフィルター、７１，７１Ｂ，７１Ｇ，７１Ｒ…着色層、１００…電気光学装置、１１０，１１０Ｂ，１１０Ｇ，１１０Ｒ…画素回路あるいはサブ画素、ＣＨ９，ＣＨ１０，ＣＨ１１…コンタクトホールあるいは画素コンタクト領域、Ｐ…表示単位としての画素、ＳＰ…サブ画素。 10 ... Semiconductor substrate as a substrate, 50, 50B, 50G, 50R ... Organic EL element as a light emitting element, 70 ... Color filter, 71, 71B, 71G, 71R ... Colored layer, 100 ... Electrooptical device, 110, 110B, 110G, 110R ... Pixel circuit or sub-pixel, CH9, CH10, CH11 ... Contact hole or pixel contact area, P ... Pixel as a display unit, SP ... Sub-pixel.

Claims (10)

第１方向に並んだ第１サブ画素、第１の領域、第２サブ画素、第２の領域、第３サブ画
素、第３の領域、第４サブ画素、第４の領域と、
前記第１サブ画素、前記第１の領域、前記第２サブ画素と前記第１方向と交差する第２
方向に隣り合う第５サブ画素と、
前記第２の領域と前記第２方向に隣り合う第５の領域と、
前記第３サブ画素、前記第３の領域、前記第４サブ画素と前記第２方向に隣り合う第６
サブ画素と、
前記第４の領域と前記第２方向に隣り合う第６の領域と、を有し、
前記第５サブ画素、前記第５の領域、前記第６サブ画素、前記第６の領域は、前記第１
方向に並んでおり、
前記第１サブ画素、前記第２サブ画素、前記第５サブ画素によって第１画素が構成され
、
前記第３サブ画素、前記第４サブ画素、前記第６サブ画素によって第２画素が構成され
、
前記第５サブ画素の前記第１方向の長さは、前記第１サブ画素および前記第２サブ画素
の前記第１方向の長さと異なり、
前記第６サブ画素の前記第１方向の長さは、前記第３サブ画素および前記第４サブ画素
の前記第１方向の長さと異なり、
前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素と異なる色であり、
前記第３サブ画素は、前記第４サブ画素と異なる色であり、
前記第１の領域は、前記第１サブ画素の画素コンタクト領域であり、
前記第２の領域は、前記第２サブ画素の画素コンタクト領域であり、
前記第３の領域は、前記第３サブ画素の画素コンタクト領域であり、
前記第４の領域は、前記第４サブ画素の画素コンタクト領域であり、
前記第５の領域は、前記第５サブ画素の画素コンタクト領域であり、
前記第６の領域は、前記第６サブ画素の画素コンタクト領域であり、
前記第１の領域、前記第２の領域、前記第３の領域、前記第４の領域、前記第５の領域
、前記第６の領域の前記第１方向の長さが同じであり、
前記第２の領域と前記第５の領域は、前記第２方向に隣り合って配置され、
前記第４の領域と前記第６の領域は、前記第２方向に隣り合って配置される、電気光学
装置。 The first sub-pixel, the first region, the second sub-pixel, the second region, the third sub-pixel, the third region, the fourth sub-pixel, and the fourth region arranged in the first direction.
The first sub-pixel, the first region, the second sub-pixel and the second intersecting the first direction.
With the 5th sub-pixel adjacent in the direction,
The second region and the fifth region adjacent to the second direction,
The third sub-pixel, the third region, the fourth sub-pixel and the sixth adjacent to the second direction.
With sub-pixels
It has the fourth region and the sixth region adjacent to the second direction.
The fifth sub-pixel, the fifth region, the sixth sub-pixel, and the sixth region are the first.
Lined up in the direction
The first pixel is composed of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the fifth sub-pixel.
The second pixel is composed of the third sub-pixel, the fourth sub-pixel, and the sixth sub-pixel.
The length of the fifth sub-pixel in the first direction is different from the length of the first sub-pixel and the second sub-pixel in the first direction.
The length of the sixth sub-pixel in the first direction is different from the length of the third sub-pixel and the fourth sub-pixel in the first direction.
The first sub-pixel has a different color from the second sub-pixel.
The third sub-pixel has a different color from the fourth sub-pixel.
The first region is a pixel contact region of the first sub-pixel.
The second region is a pixel contact region of the second sub-pixel.
The third region is a pixel contact region of the third sub-pixel.
The fourth region is a pixel contact region of the fourth sub-pixel.
The fifth region is a pixel contact region of the fifth sub-pixel.
The sixth region is a pixel contact region of the sixth sub-pixel.
The first region, the second region, the third region, the fourth region, the fifth region, and the sixth region have the same length in the first direction.
The second region and the fifth region are arranged next to each other in the second direction.
An electro-optic device in which the fourth region and the sixth region are arranged adjacent to each other in the second direction. 前記第２方向に並ぶ、前記第５サブ画素と、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素と
の間には、画素コンタクト領域は存在せず、
前記第２方向に並ぶ、前記第６サブ画素と、前記第３サブ画素及び前記第４サブ画素と
の間には、画素コンタクト領域は存在しない、請求項１に記載の電気光学装置。 There is no pixel contact region between the fifth sub-pixels arranged in the second direction and the first sub-pixels and the second sub-pixels.
The electro-optic device according to claim 1, wherein there is no pixel contact region between the sixth sub-pixels arranged in the second direction and the third sub-pixels and the fourth sub-pixels. 前記第２方向における前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素と前記第５サブ画素との
間の第７の領域と、
前記第２方向における前記第３サブ画素及び前記第４サブ画素と前記第６サブ画素との
間の第８の領域と、を有し、
前記第７の領域、前記第８の領域の前記第２方向の長さが同じである、請求項１または
２に記載の電気光学装置。 A seventh region between the first sub-pixel and the second sub-pixel and the fifth sub-pixel in the second direction.
It has the third sub-pixel in the second direction and an eighth region between the fourth sub-pixel and the sixth sub-pixel.
The electro-optic device according to claim 1 or 2, wherein the seventh region and the eighth region have the same length in the second direction. 前記第１方向に並ぶ、前記第１サブ画素、前記第１の領域、前記第２サブ画素、前記第
２の領域に対して、前記第３サブ画素、前記第３の領域、前記第４サブ画素、前記第４の
領域が、前記第１方向に沿って並列している、請求項１に記載の電気光学装置。 The third sub-pixel, the third region, and the fourth sub with respect to the first sub-pixel, the first region, the second sub-pixel, and the second region arranged in the first direction. The electro-optic device according to claim 1, wherein the pixels and the fourth region are arranged in parallel along the first direction. 前記第１サブ画素と、前記第３サブ画素とが同色であり、他のサブ画素は、前記第１サ
ブ画素と異なる色である、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置。 The electro-optics according to any one of claims 1 to 4, wherein the first sub-pixel and the third sub-pixel have the same color, and the other sub-pixels have a different color from the first sub-pixel. Device. 前記第２サブ画素と、前記第３サブ画素とが同色であり、他のサブ画素は、前記第２サ
ブ画素と異なる色である、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置。 The electro-optics according to any one of claims 1 to 4, wherein the second sub-pixel and the third sub-pixel have the same color, and the other sub-pixels have a different color from the second sub-pixel. Device. 前記第１サブ画素、前記第２サブ画素、前記第３サブ画素、前記第４サブ画素のそれぞ
れの面積に対して、前記第５サブ画素の面積、前記第６サブ画素の面積が大きく、前記第
５サブ画素及び前記第６サブ画素が青色である、請求項１に記載の電気光学装置。 The area of the 5th sub-pixel and the area of the 6th sub-pixel are larger than the areas of the 1st sub-pixel, the 2nd sub-pixel, the 3rd sub-pixel, and the 4th sub-pixel. The electro-optical device according to claim 1, wherein the fifth sub-pixel and the sixth sub-pixel are blue. 第１方向と、前記第１方向に交差する第２方向に配列した複数の表示単位を有し、
前記表示単位は、異なる色の第１サブ画素、第２サブ画素、第３サブ画素を含み、
前記第３サブ画素の前記第１方向の長さは、前記第１サブ画素および前記第２サブ画素
の前記第１方向の長さと異なり、
前記第３サブ画素は、前記第１サブ画素および前記第２サブ画素に対して前記第２方向
に隣り合って配置され、
前記第１サブ画素および前記第２サブ画素は、互いに前記第１方向に隣り合って配置さ
れ、
前記表示単位と、前記表示単位と同じ構成であり、前記表示単位と前記第１方向に隣り
合う表示単位とのそれぞれは、前記第１サブ画素と前記第２サブ画素との間の第１の領域
の前記第１方向の長さが同じであって、
前記表示単位と、前記表示単位と前記第１方向に隣り合う表示単位とのそれぞれは、前
記第１の領域の前記第１方向の長さと、前記第３サブ画素間の第２の領域の前記第１方向
の長さとが同じであって、
前記第１の領域は、前記第１サブ画素および前記第２サブ画素のうちいずれか一方に係
る画素コンタクト領域であり、
記第２の領域は、前記第３サブ画素に係る画素コンタクト領域である、電気光学装置。 It has a plurality of display units arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction.
The display unit includes a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel of different colors.
The length of the third sub-pixel in the first direction is different from the length of the first sub-pixel and the second sub-pixel in the first direction.
The third sub-pixel is arranged adjacent to the first sub-pixel and the second sub-pixel in the second direction.
The first sub-pixel and the second sub-pixel are arranged adjacent to each other in the first direction.
The display unit and the display unit having the same configuration as the display unit and adjacent to each other in the first direction are each a first sub-pixel between the first sub-pixel and the second sub-pixel. The length of the region in the first direction is the same,
The display unit, the display unit, and the display unit adjacent to the first direction are each the length of the first region in the first direction and the length of the second region between the third sub-pixels. The length in the first direction is the same,
The first region is a pixel contact region related to either one of the first sub-pixel and the second sub-pixel.
The second area is an electro-optic device, which is a pixel contact area related to the third sub-pixel. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えた、電子機器。 An electronic device provided with the electro-optic device according to any one of claims 1 to 8. 両眼のうち少なくとも一方の眼に対して、表示された画像を認識させる、請求項１乃至
８のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えた、ヘッドマウントディスプレイ。 The head-mounted display provided with the electro-optic device according to any one of claims 1 to 8, wherein at least one of both eyes recognizes the displayed image.
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