JP7059053B2 - 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム - Google Patents
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Description
V1 ・・・上流側バルブ
V2 ・・・下流側バルブ
P1 ・・・上流側圧力センサ
P2 ・・・下流側圧力センサ
R ・・・流体抵抗
VL ・・・下流側容積
1 ・・・抵抗流量算出部
2 ・・・流量特性記憶部
FE ・・・対象流量推定部
3 ・・・容積内流量推定部
31 ・・・マップ流量出力器
32 ・・・抵抗流量推定器
33 ・・・流量演算器
34 ・・・下流側圧力推定器
35 ・・・ループ切替器
4 ・・・バルブ流量推定部
5 ・・・流量制御部
6 ・・・圧力制御部
Claims (8)
- 流路に設けられた流体抵抗と、
流体抵抗の下流側に設けられた下流側バルブと、
前記流体抵抗を流れ、当該流体抵抗と前記下流側バルブとの間の流路中の容積へ流入する抵抗流量を測定する抵抗流量測定機構と、
前記下流側バルブの開度に関連する開度関連値と、前記下流側バルブの上流側の圧力と、前記下流側バルブを介して前記容積から流出するバルブ流量又は前記容積内を流れる容積内流量の間の関係を示す流量特性を記憶する流量特性記憶部と、
前記流量特性記憶部に記憶されている流量特性に基づいてバルブ流量を推定する対象流量推定部と、
設定流量と、前記対象流量推定部により推定されたバルブ流量とに基づいて前記下流側バルブを制御する流量制御部と、を備え、
前記対象流量推定部が、前記流量制御部によって実現される開度関連値、測定される上流側圧力、及び、前記流量特性に基づいて推定されるバルブ流量又は容積内流量、並びに、前記抵抗流量測定機構で測定される抵抗流量に基づいてバルブ流量を推定するように構成されており、
前記流量特性が、開度関連値、前記下流側バルブの上流側の圧力、及び、バルブ流量又は容積内流量を含むテーブルである、又は、
前記流量特性が、開度関連値及び前記下流側バルブの上流側の圧力を入力変数、バルブ流量を出力変数とする多変数関数であり、当該多変数関数が、入力変数に作用する微分演算子を含まないことを特徴とする流量制御装置。 - 前記対象流量推定部が、
開度関連値、前記下流側バルブの上流側の圧力、及び、前記流量特性に基づいて、容積内流量を推定する容積内流量推定部と、
前記抵抗流量測定機構で測定される抵抗流量と、推定された容積内流量とに基づいて、前記下流側バルブを介して前記容積から流出するバルブ流量を推定するバルブ流量推定部と、を備えた請求項1記載の流量制御装置。 - 前記バルブ流量推定部が、抵抗流量と容積内流量との差に基づいてバルブ流量を推定する請求項2記載の流量制御装置。
- 前記下流側バルブの上流側の圧力が、前記流体抵抗、及び、前記下流側バルブの間における前記流路の容積中の圧力である下流側圧力であり、
前記容積内流量推定部が、
開度関連値、下流側圧力、及び、前記流量特性に基づいて推定されたバルブ流量であるマップ流量を出力するマップ流量出力器と、
前記流体抵抗の上流側の圧力である上流側圧力と、下流側圧力に基づいて推定抵抗流量を出力する抵抗流量推定器と、
前記マップ流量出力器から出力されるマップ流量と、前記抵抗流量推定器で推定される抵抗流量と、に基づいて容積内流量を算出する流量演算器と、
流量演算器で算出された容積内流量を積分して、下流側圧力を推定する下流側圧力推定器と、を備え、
前記マップ流量出力器が、前記下流側圧力推定器で推定された下流側圧力に基づいてマップ流量を出力するように構成された請求項2又は3記載の流量制御装置。 - 前記抵抗流量測定機構が、
前記流体抵抗の上流側に設けられた上流側圧力センサと、
前記流体抵抗、及び、前記下流側バルブの間における前記流路の容積中の圧力を測定する下流側圧力センサと、
前記上流側圧力センサで測定される上流側圧力と、前記下流側圧力センサで測定される下流側圧力と、に基づいて抵抗流量を算出する抵抗流量算出部と、を備え、
前記流量制御部が、
設定流量とバルブ流量との偏差に基づいて前記下流側バルブに入力される操作量を出力するように構成されており、
前記対象流量推定部が、前記下流側バルブの上流側の圧力である前記上流側圧力センサで測定される上流側圧力と、開度関連値である前記流量制御部が出力する操作量と、前記流量特性に基づいてバルブ流量を推定するように構成されている請求項1乃至4いずれかに記載の流量制御装置。 - 前記流体抵抗よりも上流側に設けられた上流側バルブと、
設定圧力と、前記上流側圧力センサで測定される上流側圧力とに基づいて前記上流側バルブを制御する圧力制御部と、をさらに備えた請求項5記載の流量制御装置。 - 流路に設けられた流体抵抗と、流体抵抗の下流側に設けられた下流側バルブと、前記流体抵抗を流れ、当該流体抵抗と前記下流側バルブとの間の流路中の容積へ流入する抵抗流量を測定する抵抗流量測定機構と、を備えた流量制御装置を用いた流量制御方法であって、
前記下流側バルブの開度に関連する開度関連値、前記下流側バルブの上流側の圧力、及び、前記下流側バルブを介して前記容積から流出するバルブ流量又は前記容積内を流れる容積内流量の間の関係を示す流量特性を取得する流量特性取得ステップと、
前記流量特性取得ステップで取得された前記流量特性に基づいて、バルブ流量を推定する対象流量推定ステップと、
設定流量と、前記対象流量推定ステップで推定されたバルブ流量とに基づいて前記下流側バルブを制御する流量制御ステップと、を備え、
前記対象流量推定ステップが、前記流量制御ステップによって実現される開度関連値、測定される上流側圧力、及び、前記流量特性に基づいて推定されるバルブ流量又は容積内流量、並びに、前記抵抗流量測定機構で測定される抵抗流量に基づいてバルブ流量を推定することを特徴とし、
前記流量特性が、開度関連値、前記下流側バルブの上流側の圧力、及び、バルブ流量又は容積内流量を含むテーブルである、又は、
前記流量特性が、開度関連値及び前記下流側バルブの上流側の圧力を入力変数、バルブ流量を出力変数とする多変数関数であり、当該多変数関数が、入力変数に作用する微分演算子を含まないことを特徴とする流量制御方法。 - 流路に設けられた流体抵抗と、流体抵抗の下流側に設けられた下流側バルブと、前記流体抵抗を流れ、当該流体抵抗と前記下流側バルブとの間の流路中の容積へ流入する抵抗流量を測定する抵抗流量測定機構と、を備えた流量制御装置に用いられるプログラムであって、
前記下流側バルブの開度に関連する開度関連値と、前記下流側バルブの上流側の圧力と、前記下流側バルブを介して前記容積から流出するバルブ流量又は前記容積内を流れる容積内流量との間の関係を示す流量特性を記憶する流量特性記憶部と、
前記流量特性記憶部に記憶されている前記流量特性に基づいてバルブ流量を推定する対象流量推定部と、
設定流量と、前記対象流量推定部により推定されたバルブ流量とに基づいて前記下流側バルブを制御する流量制御部と、としての機能をコンピュータに発揮させることを特徴とし、
前記対象流量推定部が、前記流量制御部によって実現される開度関連値、測定される上流側圧力、及び、流量特性に基づいて推定されるバルブ流量又は容積内流量、並びに、前記抵抗流量測定機構で測定される抵抗流量に基づいてバルブ流量を推定するように構成されており、
前記流量特性が、開度関連値、前記下流側バルブの上流側の圧力、及び、バルブ流量又は容積内流量を含むテーブルである、又は、
前記流量特性が、開度関連値及び前記下流側バルブの上流側の圧力を入力変数、バルブ流量を出力変数とする多変数関数であり、当該多変数関数が、入力変数に作用する微分演算子を含まないことを特徴とする流量制御装置用プログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018044413A JP7059053B2 (ja) | 2018-03-12 | 2018-03-12 | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
KR1020190026448A KR20190107579A (ko) | 2018-03-12 | 2019-03-07 | 유량 제어 장치, 유량 제어 방법, 및 유량 제어 장치용 프로그램 |
US16/297,004 US10754361B2 (en) | 2018-03-12 | 2019-03-08 | Flow rate control apparatus, flow rate control method, and program for a flow rate control apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018044413A JP7059053B2 (ja) | 2018-03-12 | 2018-03-12 | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019159687A JP2019159687A (ja) | 2019-09-19 |
JP7059053B2 true JP7059053B2 (ja) | 2022-04-25 |
Family
ID=67843986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018044413A Active JP7059053B2 (ja) | 2018-03-12 | 2018-03-12 | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10754361B2 (ja) |
JP (1) | JP7059053B2 (ja) |
KR (1) | KR20190107579A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7164938B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2022-11-02 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
JP7068062B2 (ja) * | 2018-06-18 | 2022-05-16 | 株式会社堀場製作所 | 流体制御装置、及び、流量比率制御装置 |
US11068000B2 (en) * | 2019-07-11 | 2021-07-20 | Johnson Controls Technology Company | Valve assembly with delay compensation for proportional variable deadband control |
KR20220097911A (ko) | 2019-11-04 | 2022-07-08 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 분배 시스템을 모니터링하고, 제어하고, 동기화하는 방법 및 시스템 |
JP7169034B2 (ja) * | 2020-03-05 | 2022-11-10 | 株式会社フジキン | 流量制御装置および流量制御方法 |
JP7337012B2 (ja) * | 2020-03-17 | 2023-09-01 | 川崎重工業株式会社 | 制御装置、及びそれを備える液圧システム |
CN115332033A (zh) * | 2021-05-10 | 2022-11-11 | 中国科学院微电子研究所 | 一种刻蚀流程控制方法及装置 |
JP2023080611A (ja) * | 2021-11-30 | 2023-06-09 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120197446A1 (en) | 2010-12-01 | 2012-08-02 | Glaudel Stephen P | Advanced feed-forward valve-control for a mass flow controller |
JP2017191597A (ja) | 2016-04-12 | 2017-10-19 | 日立金属株式会社 | 質量流量制御装置及び質量流量制御方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4146746B2 (ja) | 2003-03-18 | 2008-09-10 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラ |
JP4788920B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-10-05 | 日立金属株式会社 | 質量流量制御装置、その検定方法及び半導体製造装置 |
JP5873681B2 (ja) * | 2011-10-14 | 2016-03-01 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム |
JP7245600B2 (ja) * | 2016-12-15 | 2023-03-24 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、及び、流量制御装置用プログラム |
-
2018
- 2018-03-12 JP JP2018044413A patent/JP7059053B2/ja active Active
-
2019
- 2019-03-07 KR KR1020190026448A patent/KR20190107579A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-03-08 US US16/297,004 patent/US10754361B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120197446A1 (en) | 2010-12-01 | 2012-08-02 | Glaudel Stephen P | Advanced feed-forward valve-control for a mass flow controller |
JP2017191597A (ja) | 2016-04-12 | 2017-10-19 | 日立金属株式会社 | 質量流量制御装置及び質量流量制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190278305A1 (en) | 2019-09-12 |
US10754361B2 (en) | 2020-08-25 |
JP2019159687A (ja) | 2019-09-19 |
KR20190107579A (ko) | 2019-09-20 |
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