JP7014590B2 - Vacuum suction member - Google Patents
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Description
本発明は、半導体ウエハなど基板を真空吸着保持するために用いられる真空吸着部材に関する。 The present invention relates to a vacuum suction member used for vacuum suction holding a substrate such as a semiconductor wafer.
半導体ウエハなどの被加工物を吸着保持する吸着面を有するポーラスセラミックスからなる吸着部と、当該吸着部を囲むスポンジ状の弾性部材で形成され、上面高さが吸着面よりも高い環状シール部と、を備えているチャックテーブルが提案されている（例えば、特許文献１参照）。 A suction portion made of porous ceramics having a suction surface that sucks and holds a workpiece such as a semiconductor wafer, and an annular sealing portion that is formed of a sponge-like elastic member that surrounds the suction portion and whose top surface height is higher than that of the suction surface. A chuck table comprising the above has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
被加工物がチャックテーブルに載置されると、当該被加工物は少なくとも周縁領域において環状シール部に接触した状態となる。この状態で、吸着部の吸着面とは反対側で負圧領域が生成されると、環状シール部および被加工物により画定されている空間に負圧領域が形成される。これに応じて、被加工物に対して吸着面に向かう吸引力が作用し、吸着面に接近する被加工物によって環状シール部の上面高さが吸着面の高さと同一になるまで環状シール部が押しつぶされる。これにより、被加工物の平坦度の向上が図られている。 When the workpiece is placed on the chuck table, the workpiece is in contact with the annular seal portion at least in the peripheral region. In this state, when a negative pressure region is generated on the side opposite to the suction surface of the suction portion, a negative pressure region is formed in the space defined by the annular seal portion and the workpiece. In response to this, a suction force toward the suction surface acts on the workpiece, and the annular seal portion until the height of the upper surface of the annular seal portion becomes the same as the height of the suction surface due to the workpiece approaching the suction surface. Is crushed. As a result, the flatness of the workpiece is improved.
しかし、基板の周縁領域である外側領域において反り上がっているまたは垂れ下がっている場合がある。この場合、基板の平坦度が内側領域において確保されたとしても外側領域において局所的に低下する。これにより、基板の外側領域に対して、所望の回路形成のためのエッチング処理などの所定の処理を施すことが困難となる。
そこで、本発明は、外側領域を含めて基板の全体的な平坦度の向上を図ることができる真空吸着部材を提供することを目的とする。
However, it may be warped or hung in the outer region, which is the peripheral region of the substrate. In this case, even if the flatness of the substrate is ensured in the inner region, it is locally reduced in the outer region. This makes it difficult to perform a predetermined process such as an etching process for forming a desired circuit on the outer region of the substrate.
Therefore, an object of the present invention is to provide a vacuum suction member capable of improving the overall flatness of the substrate including the outer region.
本発明の真空吸着部材は、基体と、前記基体の主面から突出している複数の凸部と、前記基体の内部を通り、前記基体の主面に開口を有する真空吸引経路と、前記複数の凸部が、前記基体の主面において内側領域に配置されている内側凸部群と、前記基体の主面において前記内側領域を取り囲む環状の外側領域に配置されている外側凸部群と、により構成され、前記外側凸部群のうち少なくとも一部を構成する複数の指定外側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置が、前記内側凸部群を構成する複数の内側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも高く、かつ、当該複数の指定外側凸部のそれぞれの一部が残りの部分よりも弾性率が低い弾性素材により構成されていることを特徴とし、前記複数の凸部のそれぞれを囲むように、前記基体の主面から突出する環状凸部をさらに備え、前記環状凸部の前記基体の主面を基準とする端面位置が、前記複数の指定外側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも低いことを特徴とする。 The vacuum suction member of the present invention includes a substrate, a plurality of protrusions protruding from the main surface of the substrate, a vacuum suction path that passes through the inside of the substrate and has an opening on the main surface of the substrate, and the plurality of protrusions. The convex portions are arranged by the inner convex portion group arranged in the inner region on the main surface of the substrate and the outer convex portion group arranged in the annular outer region surrounding the inner region on the main surface of the substrate. The end face positions of the plurality of designated outer convex portions that are configured and that form at least a part of the outer convex portion group with respect to the main surface of the substrate are the plurality of inner convex portions that form the inner convex portion group. Each part of each of the plurality of designated outer convex portions is made of an elastic material having a higher elastic ratio than the remaining portion, which is higher than the end face position of each portion with respect to the main surface of the substrate. It is characterized in that, an annular convex portion protruding from the main surface of the substrate is further provided so as to surround each of the plurality of convex portions, and the end surface position of the annular convex portion with respect to the main surface of the substrate is set. , Each of the plurality of designated outer convex portions is lower than the end face position with respect to the main surface of the substrate .
本発明の真空吸着部材によれば、基体の主面側において基板が真空吸着部材に載置されることにより、基体の主面から突出する複数の凸部のうち少なくとも一部の凸部により基板が支持される。各指定外側凸部の端面位置（面の「位置」という記載は、「基体の主面を基準とする当該面の位置」を意味する。）が、各内側凸部の端面位置よりも高いため、基板の外側領域の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがあっても、当該基板の外側領域の少なくとも一部が対応する指定外側凸部により支持されうる。この際、指定外側凸部の一部を構成する弾性素材が、当該指定外側凸部の端面位置を下げるように弾性変形することにより、基板の外側領域の少なくとも一部が指定外側凸部から受ける抗力が緩和されうる。 According to the vacuum suction member of the present invention, when the substrate is placed on the vacuum suction member on the main surface side of the substrate, the substrate is formed by at least a part of the convex portions protruding from the main surface of the substrate. Is supported. Because the end face position of each designated outer convex portion (the description of "position" of the surface means "the position of the surface with respect to the main surface of the substrate") is higher than the end face position of each inner convex portion. , Even if at least a portion of the outer region of the substrate is warped or sagging, at least a portion of the outer region of the substrate may be supported by the corresponding designated outer protrusions. At this time, the elastic material forming a part of the designated outer convex portion is elastically deformed so as to lower the end face position of the designated outer convex portion, so that at least a part of the outer region of the substrate is received from the designated outer convex portion. Drag can be mitigated.
この状態で、基体の主面および基板の裏面により挟まれた空間から通気経路を介して空気が排出されることにより、当該空間に負圧領域が形成される。その結果、基板の内側領域が内側凸部群により支持される一方、基板の外側領域が外側凸部群のうち少なくとも一部を構成する複数の指定外側凸部により支持される。基板の外側領域の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがあっても、指定外側凸部の一部を構成する弾性素材が、当該指定外側凸部の端面位置を内側凸部の端面位置に一致させるように弾性変形することができる。また、指定外側凸部の一部が残りの部分よりも弾性率が低い弾性素材により構成されているため、指定外側凸部の全部が当該弾性素材により構成されている場合よりも、弾性素材の弾性変形による指定外側凸部の端面位置の変化量が制限される。よって、前記のような形状の基板であっても、基板表面の全体的な平坦度の向上が図られるように当該基板が真空吸着保持されうる。また、当該構成の真空吸着部材によれば、少なくとも一部の凸部により支持された状態の基板の裏面と、基体の主面とにより挟まれた空間が周囲を環状凸部により囲まれている分だけ、当該空間においてより強い負圧領域が形成されうる。このため、当該空間に負圧領域が形成された際、基板の裏面と複数の内側凸部および複数の指定外側凸部のそれぞれの端面とを確実に当接させることができる。また、環状凸部の端面と基板の裏面との間に間隙が存在する場合、当該空間に負圧領域が形成される際、当該間隙を通じて当該空間に流れ込む空気の流速が局所的に高くなり、基板の外側領域に対してベルヌーイ力を作用させることができる。このため、当該空間に負圧領域が形成された際、基板の裏面と複数の指定外側凸部のそれぞれの端面とをさらに確実に当接させることができる。 In this state, air is discharged from the space sandwiched between the main surface of the substrate and the back surface of the substrate via the ventilation path, so that a negative pressure region is formed in the space. As a result, the inner region of the substrate is supported by the inner convex portions, while the outer region of the substrate is supported by the plurality of designated outer convex portions constituting at least a part of the outer convex portions group. Even if at least a part of the outer region of the substrate is warped or hung, the elastic material constituting a part of the designated outer convex portion makes the end face position of the designated outer convex portion coincide with the end face position of the inner convex portion. It can be elastically deformed as follows. Further, since a part of the designated outer convex portion is made of an elastic material having a lower elastic modulus than the rest of the designated outer convex portion, the elastic material is more than the case where the entire designated outer convex portion is made of the elastic material. The amount of change in the end face position of the designated outer convex portion due to elastic deformation is limited. Therefore, even if the substrate has the above-mentioned shape, the substrate can be vacuum-sucked and held so as to improve the overall flatness of the substrate surface. Further, according to the vacuum suction member having the above configuration, the space sandwiched between the back surface of the substrate supported by at least a part of the convex portions and the main surface of the substrate is surrounded by the annular convex portions. By the amount, a stronger negative pressure region can be formed in the space. Therefore, when the negative pressure region is formed in the space, the back surface of the substrate can be reliably brought into contact with the end faces of the plurality of inner convex portions and the plurality of designated outer convex portions. Further, when a gap exists between the end surface of the annular convex portion and the back surface of the substrate, when a negative pressure region is formed in the space, the flow velocity of air flowing into the space through the gap is locally increased. A Bernoulli force can be applied to the outer region of the substrate. Therefore, when the negative pressure region is formed in the space, the back surface of the substrate and the end faces of the plurality of designated outer convex portions can be more reliably brought into contact with each other.
本発明の真空吸着部材において、前記複数の指定外側凸部のそれぞれが、前記基体の主面から突出している第１要素と、前記第１要素の端面に連続して設けられている前記弾性素材により構成されている第２要素と、を備え、前記第２要素の前記基体の主面を基準とする端面位置が前記複数の内側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも高いことが好ましい。 In the vacuum suction member of the present invention, the elastic material in which each of the plurality of designated outer convex portions is continuously provided on the first element protruding from the main surface of the substrate and the end surface of the first element. The end surface position of the second element with respect to the main surface of the substrate is the end surface position of each of the plurality of inner convex portions with reference to the main surface of the substrate. It is preferably higher than.
当該構成の真空吸着部材によれば、基板の外側領域の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがあっても、指定外側凸部の一部を構成する第２要素が、当該指定外側凸部の端面位置ひいては第２要素の端面位置を内側凸部の端面位置に一致させるように弾性変形することができる。また、指定外側凸部の一部である第２要素が弾性素材により構成されている一方、残りの部分である第１要素は第２要素よりも弾性率が高いため、弾性素材の弾性変形による指定外側凸部の端面位置の変化量が抑制される。よって、前記のような形状の基板であっても、基板表面の全体的な平坦度の向上が図られるように当該基板が真空吸着保持されうる。 According to the vacuum suction member having the above configuration, even if at least a part of the outer region of the substrate is warped or hung down, the second element constituting a part of the designated outer convex portion is the end surface of the designated outer convex portion. The position, and thus the end face position of the second element, can be elastically deformed so as to match the end face position of the inner convex portion. Further, while the second element, which is a part of the designated outer convex portion, is composed of an elastic material, the first element, which is the remaining portion, has a higher elastic modulus than the second element, and therefore, due to the elastic deformation of the elastic material. The amount of change in the end face position of the designated outer convex portion is suppressed. Therefore, even if the substrate has the above-mentioned shape, the substrate can be vacuum-sucked and held so as to improve the overall flatness of the substrate surface.
本発明の真空吸着部材において、前記弾性素材の弾性率Ｅ［Ｐａ］、前記弾性素材の前記基体の主面の垂線方向についての長さＬ［ｍ］および前記弾性素材の前記基体の主面に平行な断面における断面積Ｓ［ｍ2］が、４［ＭＰａ］≦Ｅおよび１．０×１０-7≦Ｌ／（Ｅ×Ｓ）≦５．０×１０-6により表わされる条件を満足することが好ましい。 In the vacuum suction member of the present invention, the elastic modulus E [Pa] of the elastic material, the length L [m] of the elastic material in the perpendicular direction of the main surface of the substrate, and the main surface of the substrate of the elastic material. The cross-sectional area S [m 2 ] in the parallel cross section satisfies the condition represented by 4 [MPa] ≤ E and 1.0 × 10 -7 ≤ L / (E × S) ≤ 5.0 × 10 -6 . Is preferable.
当該構成の真空吸着部材によれば、指定外側凸部の一部を構成する弾性素材の弾性率Ｅ、長さＬおよび断面積Ｓが、外側領域の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがある基板の平坦度の向上を図る観点から適当に設計されている。 According to the vacuum suction member having the above configuration, the elastic modulus E, the length L, and the cross-sectional area S of the elastic material forming a part of the designated outer convex portion are warped or hung in at least a part of the outer region. It is appropriately designed from the viewpoint of improving the flatness of the.
本発明の真空吸着部材において、前記複数の指定外側凸部のそれぞれが、前記基体とは別個に構成されている第１要素と、前記基体に支持された状態で前記第１要素を端部で支持している弾性要素により構成されている第２要素と、を備え、前記第１要素の端面位置が前記複数の内側凸部のそれぞれの端面位置よりも高いことが好ましい。 In the vacuum suction member of the present invention, each of the plurality of designated outer convex portions has a first element configured separately from the substrate and the first element at the end while being supported by the substrate. It is preferable that the second element composed of the supporting elastic element is provided, and the end face position of the first element is higher than the end face position of each of the plurality of inner convex portions.
当該構成の真空吸着部材によれば、基板の外側領域の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがあっても、指定外側凸部の一部を構成する第２要素が、当該指定外側凸部の端面位置ひいては第１要素の端面位置を内側凸部の端面位置に一致させるように弾性変形することができる。また、指定外側凸部の一部である第２要素が弾性素材により構成されている一方、残りの部分である第１要素は第２要素よりも弾性率が高いため、弾性素材の弾性変形による指定外側凸部の端面位置の変化量が抑制される。よって、前記のような形状の基板であっても、基板表面の全体的な平坦度の向上が図られるように当該基板が真空吸着保持されうる。 According to the vacuum suction member having the above configuration, even if at least a part of the outer region of the substrate is warped or hung down, the second element constituting a part of the designated outer convex portion is the end surface of the designated outer convex portion. The position, and thus the end face position of the first element, can be elastically deformed so as to match the end face position of the inner convex portion. Further, while the second element, which is a part of the designated outer convex portion, is composed of an elastic material, the first element, which is the remaining portion, has a higher elastic modulus than the second element, and therefore, due to the elastic deformation of the elastic material. The amount of change in the end face position of the designated outer convex portion is suppressed. Therefore, even if the substrate has the above-mentioned shape, the substrate can be vacuum-sucked and held so as to improve the overall flatness of the substrate surface.
本発明の真空吸着部材において、前記基体の主面から窪んで設けられている凹部をさらに備え、前記第１要素が前記凹部に部分的に変位可能に挿入され、前記第２要素が前記凹部の内部に収容されて前記凹部の底部により支持された状態で前記第１要素を支持していることが好ましい。 The vacuum suction member of the present invention further includes a recess provided in a recess from the main surface of the substrate, the first element is partially displaceably inserted into the recess, and the second element is in the recess. It is preferable that the first element is supported in a state of being housed inside and supported by the bottom of the recess.
当該構成の真空吸着部材によれば、第２要素の弾性変形に伴って第１要素を凹部により案内しながら変位させ、これにより指定外側凸部の端面位置ひいては第１要素の端面位置が高精度で調節されうる。 According to the vacuum suction member having the above configuration, the first element is displaced while being guided by the concave portion due to the elastic deformation of the second element, whereby the end face position of the designated outer convex portion and thus the end face position of the first element are highly accurate. Can be adjusted with.
（第１実施形態）
（構成）
図１および図２に示されている本発明の第１実施形態としての真空吸着部材は、基体１と、基体１の主面１０２から突出する複数の凸部１０と、複数の凸部１０を取り囲むように延在して基体１の主面１０から突出する環状凸部１４と、基体１の内部を通り、基体１の主面１０２に開口部２０２を有する通気経路２０と、を備えている。
(First Embodiment)
(Constitution)
The vacuum suction member as the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 includes a substrate 1, a plurality of
基体１は、例えば略平板状のＳｉＣ、ＡｌＮ、Ａｌ2Ｏ3等のセラミックス焼結体からなる。複数の凸部１０、環状凸部１４および通経路２０のそれぞれは、研削加工、ブラスト加工、ミリング加工もしくはレーザー加工またはこれらの組み合わせにより形成される。基体１の主面１０２は略平面状に形成されている。
The substrate 1 is made of, for example, a substantially flat plate-shaped ceramic sintered body such as SiC, AlN, or Al 2 O 3 . Each of the plurality of
複数の凸部１０は、基体１の主面１０２において三角格子もしくは正方格子等の格子様に配置されるほか、複数の同心円のそれぞれに沿って配置され、あるいは、中心から延在する複数の放射線のそれぞれに沿って規則的に配置される等、規則的に配置されてもよく、不規則的に配置されていてもよい。各凸部１０は、略柱状、略錘台状、柱状体または錘台状体の端面または上底に、小面積の底面または下底を有する柱状体、半球、半楕円球または錘台状体が乗ったような複数の段差付きの略柱状など、様々な形状に形成されていてもよい。
The plurality of
真空吸着部材の縦断面図において環状凸部１４の形状が略矩形状のほか、略台形状、半楕円形状、真円形状、または、矩形と当該矩形の一辺を直径とする半円形とが組み合わせられた形状など、様々な形状であってもよい。なお、環状凸部１４が省略されてもよい。
In the vertical cross-sectional view of the vacuum suction member, the shape of the annular
複数の凸部１０は、内側凸部群１１および外側凸部群１２により構成されている。内側凸部群１１は、基体１の主面１０２において中心から半径Ｒ1の円形状の内側領域Ｓ1に配置されている複数の内側凸部１１２により構成されている。外側凸部群１２は、基体１の主面１０２において内側領域Ｓ1を取り囲む、中心から半径Ｒ2の外縁を有する環状の外側領域Ｓ2に配置されている複数の外側凸部１２２により構成されている。外側領域Ｓ2の外縁および環状凸部１４の内縁とは一致している。
The plurality of
内側領域Ｓ1および外側領域Ｓ2の合計面積（＝πＲ2 2）に対する、外側領域Ｓ2の面積（＝π（Ｒ2 2－Ｒ1 2））の比率（＝１－Ｒ1 2／Ｒ2 2）は、例えば０．０３～０．２０の範囲に含まれるように内側領域Ｓ1および外側領域Ｓ2が定義されている。内側領域Ｓ1の外縁は円環状に限られず、円環に沿って延在する波線状またはジグザグ線状であってもよい。外側領域Ｓ2の外縁は円環状に限られず、円環に沿って延在する波線状またはジグザグ線状であってもよい。 The ratio of the area of the outer region S 2 (= π (R 2 2 − R 1 2 )) to the total area of the inner region S 1 and the outer region S 2 (= π R 2 2 ) (= 1-R 1 2 / R). In 2 2 ), the inner region S 1 and the outer region S 2 are defined so as to be included in the range of, for example, 0.03 to 0.20. The outer edge of the inner region S 1 is not limited to an annulus, and may be a wavy line or a zigzag line extending along the annulus. The outer edge of the outer region S 2 is not limited to an annulus, and may be a wavy line or a zigzag line extending along the annulus.
基体１の主面１０２において、複数の内側凸部１１２の配置態様と複数の外側凸部１２２の配置態様とが同一であってもよく、複数の内側凸部１１２が三角格子様に配置される一方で、複数の外側凸部１２２が一の円または複数の同心円に沿って配列されるなど相違していてもよい。各内側凸部１１２の形状と各外側凸部１２２の形状とが同一であっても相違していてもよい。
On the
外側凸部群１２のうち少なくとも一部を構成する複数の指定外側凸部１２２の基体１の主面１０２を基準とする端面１２２０の位置（突出高さＨ2）が、内側凸部群１１を構成する複数の内側凸部１１２のそれぞれの基体１の主面１０２を基準とする端面１１２０の位置（突出高さＨ1）よりも高い。本実施形態では、外側凸部群１２の「全部」を構成する複数の外側凸部１２２が「指定外側凸部」に該当するが、他の実施形態として外側凸部群１２の「一部のみ」を構成する複数の外側凸部１２２が「指定外側凸部」に該当していてもよい。
The position of the end surface 1220 (projection height H 2 ) with respect to the
複数の指定外側凸部１２２のそれぞれの端面１２２０の位置と、複数の内側凸部１１２のそれぞれの端面１１２０の位置と、の高さの差Ｈ2－Ｈ1は、例えば２μｍ～２０μｍの範囲に含まれている。環状凸部１４の基体１の主面１０２を基準とする端面１４０の位置（突出高さＨ4）が、複数の指定外側凸部１２２のそれぞれの基体１の主面１０２を基準とする端面１２２０の位置（突出高さＨ2）よりも低いまたは当該端面１２２０の位置（突出高さＨ2）と同一である。本実施形態では、複数の指定外側凸部１２２のそれぞれの端面１２２０の少なくとも一部と、複数の内側凸部１１２のそれぞれの端面１１２０の少なくとも一部と、が基体１の主面１０２に対して平行である。
The height difference between the positions of the end faces 1220 of the plurality of designated outer
各指定外側凸部１２２の一部が残りの部分よりも弾性率が低い弾性素材により構成されている。具体的には、各指定外側凸部１２２は、基体１の主面１０２から突出している第１要素１２２１と、第１要素１２２１の端面に連続して設けられている弾性素材により構成されている第２要素１２２２と、を備えている。第１要素１２２１は、基体１と一体的に形成されていてもよく、基体１に対して取り付けられている別個の部材により構成されていてもよい。第１要素１２２１がＳｉＣ等のセラミックス焼結体により構成されている場合、第２要素１２２２が例えばシリコン樹脂、フッ素樹脂（ＰＦＡ）もしくはポリイミド樹脂、金属製バネまたは窒化ケイ素製バネなど、当該セラミックス焼結体よりも弾性率が低い素材またはバネ定数が低い部材により構成されている。
A part of each designated outer
第１要素１２２１の端面位置（突出高さＨ21）は、各内側凸部１１２の端面１１２０の位置（突出高さＨ1）より低く、各内側凸部１１２の端面１１２０の位置（突出高さＨ1）と同一であってもよい。第２要素１２２２の端面位置（突出高さＨ21＋Ｈ22）、すなわち指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置（突出高さＨ2）は、各内側凸部１１２の端面１１２０の位置（突出高さＨ1）よりも高い。
The end surface position (projection height H 21 ) of the
第２要素１２２２を構成する弾性素材の弾性率Ｅ［Ｐａ］、弾性素材の基体１の主面１０２の垂線方向についての長さＬ［ｍ］（図２のＨ22参照）および弾性素材の基体１の主面１０２に平行な断面における断面積Ｓ［ｍ2］の組み合わせが、関係式（１）および（２）により表わされる条件を満足する。
The elastic modulus E [Pa] of the elastic material constituting the
４［ＭＰａ］≦Ｅ ‥（１）。 4 [MPa] ≤ E ... (1).
１．０×１０-7≦Ｌ／（Ｅ×Ｓ）≦５．０×１０-6 ‥（２）。 1.0 × 10 -7 ≤ L / (E × S) ≤ 5.0 × 10 -6 (2).
通気経路２０は、基体１の主面１０２における開口部２０２とは異なる開口部（主面１０２とは反対側の面における開口部）を通じて、通気経路２０の気圧を調整する圧力調整装置または真空吸引装置（図示略）に接続されている。
The
なお、図１および図２では真空吸着部材が概略的に表されており、当該真空吸着部材の構成要素のアスペクト比、間隔、個数などは、原則的に実際の設計値とは異なっている。これは、すべての実施形態において同様である。 Note that the vacuum suction members are schematically shown in FIGS. 1 and 2, and the aspect ratio, spacing, number, and the like of the components of the vacuum suction member are different from the actual design values in principle. This is the same in all embodiments.
（機能）
本発明の第１実施形態としての真空吸着部材によれば、基体１の主面１０２の側において基板Ｗが真空吸着部材に載置されることにより、少なくとも一部の凸部１０により基板Ｗが支持される（図３Ａおよび図３Ｂ参照）。各指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置が、各内側凸部１１２の端面１１２０の位置よりも高い（図２参照）。このため、基板Ｗが外側領域Ｘ2の少なくとも一部において反り上がっている場合でも、当該基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部が対応する指定外側凸部１２２により支持されうる（図３Ａ参照）。一方、基板Ｗが外側領域Ｘ2の少なくとも一部において垂れ下がっている場合でも、当該基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部が対応する指定外側凸部１２２により支持されうる（図３Ｂ参照）。この際、指定外側凸部１２２の一部を構成する第２要素１２２２（弾性素材）が、当該指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置を下げるように弾性変形することにより、基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部が指定外側凸部１２２から受ける抗力が緩和されうる。
(function)
According to the vacuum suction member as the first embodiment of the present invention, the substrate W is placed on the vacuum suction member on the side of the
この状態で、基体１の主面１０２および基板Ｗの裏面Ｗ2により挟まれた空間から通気経路２０を介して空気が排出されることにより、当該空間に負圧領域が形成され、基板Ｗに対して基体１の主面１０２に向かう力が作用する（図３Ａおよび図３Ｂ白矢印参照）。その結果、基板Ｗの内側領域Ｘ1が複数の内側凸部１１２により支持される一方、基板Ｗの外側領域Ｘ2が複数の指定外側凸部１２２により支持される。
In this state, air is discharged from the space sandwiched between the
基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがあっても、指定外側凸部１２２の一部を構成する第２要素１２２２（弾性素材）が、当該指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置を内側凸部１１２の端面１１２０の位置に一致させるように弾性変形することができる（図３Ａ、図３Ｂ→図３Ｃ参照）。また、第２要素１２２２が第１要素１２２１よりも弾性率が低い弾性素材により構成されているため、指定外側凸部１２２の全部が当該弾性素材により構成されている場合よりも、弾性素材の弾性変形による指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置の変化量が制限される。
Even if at least a part of the outer region X 2 of the substrate W is warped or hung, the second element 1222 (elastic material) constituting a part of the designated outer
よって、前記のような形状の基板Ｗであっても、基板Ｗの表面Ｗ1の全体的な平坦度の向上が図られるように当該基板Ｗが真空吸着保持されうる。そして、基板Ｗの表面Ｗ1において、内側領域Ｘ1のみならず外側領域Ｘ2においても、所望のパターンの回路形成のためのエッチング処理など、所定の処理が実施されうる。 Therefore, even if the substrate W has the above-mentioned shape, the substrate W can be held by vacuum suction so as to improve the overall flatness of the surface W1 of the substrate W. Then, on the surface W 1 of the substrate W, a predetermined process such as an etching process for forming a circuit of a desired pattern can be performed not only in the inner region X 1 but also in the outer region X 2 .
（第２実施形態）
（構成）
図４に示されている本発明の第２実施形態としての真空吸着部材においては、各指定外側凸部１２２が、基体１とは別個に構成されている第１要素１２２１と、基体１に支持された状態で第１要素１２２１を端部で支持している弾性要素により構成されている第２要素１２２と、を備えている。第１要素１２２１の端面位置、すなわち指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置は、各内側凸部１１２の端面１１２０の位置よりも高い。具体的には、真空吸着部材が、基体１の主面１０２から略柱状に窪んで設けられている凹部１０４を備えている。略柱状の第１要素１２２１が凹部１０４に部分的に変位可能に挿入されている。第２要素１２２２が凹部１０４の内部に収容されて凹部１０４の底部により支持された状態で第１要素１２２１を支持している。
(Second Embodiment)
(Constitution)
In the vacuum suction member as the second embodiment of the present invention shown in FIG. 4, each designated outer
指定外側凸部１２２の構成を除く他の構成は、第１実施形態の真空吸着部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
Since the other configurations except the configuration of the designated outer
（機能）
本発明の第２実施形態としての真空吸着部材によれば、基体１の主面１０２の側において基板Ｗが真空吸着部材に載置されることにより、少なくとも一部の凸部１０により基板Ｗが支持される（図５Ａおよび図５Ｂ参照）。各指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置が、各内側凸部１１２の端面１１２０の位置よりも高い（図４参照）。このため、基板Ｗが外側領域Ｘ2の少なくとも一部において反り上がっている場合でも、当該基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部が対応する指定外側凸部１２２により支持されうる（図５Ａ参照）。一方、基板Ｗが外側領域Ｘ2の少なくとも一部において垂れ下がっている場合でも、当該基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部が対応する指定外側凸部１２２により支持されうる（図５Ｂ参照）。この際、指定外側凸部１２２の一部を構成する第２要素１２２２（弾性素材）が、当該指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置を下げるように弾性変形することにより、基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部が指定外側凸部１２２から受ける抗力が緩和されうる。
(function)
According to the vacuum suction member as the second embodiment of the present invention, the substrate W is placed on the vacuum suction member on the side of the
この状態で、基体１の主面１０２および基板Ｗの裏面Ｗ2により挟まれた空間から通気経路２０を介して空気が排出されることにより、当該空間に負圧領域が形成され、基板Ｗに対して基体１の主面１０２に向かう力が作用する（図５Ａおよび図５Ｂ白矢印参照）。その結果、基板Ｗの内側領域Ｘ1が複数の内側凸部１１２により支持される一方、基板Ｗの外側領域Ｘ2が複数の指定外側凸部１２２により支持される。
In this state, air is discharged from the space sandwiched between the
基板Ｗの外側領域Ｘ2の少なくとも一部に反り上がりまたは垂れ下がりがあっても、指定外側凸部１２２の一部を構成する第２要素１２２２（弾性素材）が、当該指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置を内側凸部１１２の端面１１２０の位置に一致させるように弾性変形することができる（図５Ａ、図５Ｂ→図５Ｃ参照）。また、第２要素１２２２が第１要素１２２１よりも弾性率が低い弾性素材またはバネ定数が低い部材により構成されているため、指定外側凸部１２２の全部が当該弾性素材により構成されている場合よりも、弾性素材の弾性変形による指定外側凸部１２２の端面１２２０の位置の変化量が制限される。
Even if at least a part of the outer region X 2 of the substrate W is warped or hung down, the second element 1222 (elastic material) constituting a part of the designated outer
よって、前記のような形状の基板Ｗであっても、基板Ｗの表面Ｗ1の全体的な平坦度の向上が図られるように当該基板Ｗが真空吸着保持されうる。そして、基板Ｗの表面Ｗ1において、内側領域Ｘ1のみならず外側領域Ｘ2においても、所望のパターンの回路形成のためのエッチング処理など、所定の処理が実施されうる。 Therefore, even if the substrate W has the above-mentioned shape, the substrate W can be held by vacuum suction so as to improve the overall flatness of the surface W1 of the substrate W. Then, on the surface W 1 of the substrate W, a predetermined process such as an etching process for forming a circuit of a desired pattern can be performed not only in the inner region X 1 but also in the outer region X 2 .
（第３実施形態）
（構成）
図６に示されている本発明の第３実施形態としての真空吸着部材においては、第２要素１２２２が基体１の主面１０２に固定され、第２要素１２２１の端面に第１要素１２２１が固定されている。指定外側凸部１２２の構成を除く他の構成は、第１実施形態の真空吸着部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
(Third Embodiment)
(Constitution)
In the vacuum suction member as the third embodiment of the present invention shown in FIG. 6, the
（機能）
本発明の第３実施形態としての真空吸着部材によれば、本発明の第２実施形態としての真空吸着部材と同様に、前記のように外側領域Ｘ2において反り上がっているまたは垂れ下がっている基板Ｗであっても、基板Ｗの表面Ｗ1の全体的な平坦度の向上が図られるように当該基板Ｗが真空吸着保持されうる（図５Ａ～図５Ｃ参照）。そして、基板Ｗの表面Ｗ1において、内側領域Ｘ1のみならず外側領域Ｘ2においても、所望のパターンの回路形成のためのエッチング処理など、所定の処理が実施されうる。
(function)
According to the vacuum suction member as the third embodiment of the present invention, the substrate is warped or hung down in the outer region X 2 as described above, similarly to the vacuum suction member as the second embodiment of the present invention. Even if it is W, the substrate W can be held by vacuum suction so as to improve the overall flatness of the surface W 1 of the substrate W (see FIGS. 5A to 5C). Then, on the surface W 1 of the substrate W, a predetermined process such as an etching process for forming a circuit of a desired pattern can be performed not only in the inner region X 1 but also in the outer region X 2 .
（実施例）
（実施例１）
第１実施形態にしたがって実施例１の真空吸着部材が作製された（図１参照）。外径φ３００［ｍｍ］、厚み１．２［ｍｍ］の略円盤状の炭化珪素（ＳｉＣ）セラミックス焼結体により基体１が作製された。
(Example)
(Example 1)
The vacuum suction member of Example 1 was manufactured according to the first embodiment (see FIG. 1). The substrate 1 was made of a substantially disk-shaped silicon carbide (SiC) ceramic sintered body having an outer diameter of φ300 [mm] and a thickness of 1.2 [mm].
基体１の主面１０２のφ２９２［ｍｍ］の内側領域Ｓ1において、ピッチ３．５［ｍｍ］の三角格子の各格子点に配置された径φ１．０［ｍｍ］、突出高さＨ1＝１５０［μｍ］の略円柱状の複数の突起が、複数の内側凸部１１２として形成された。
In the inner region S1 of φ292 [mm] of the
基体１の主面１０２の内径φ２９２［ｍｍ］、外径φ２９９［ｍｍ］の環状の外側領域Ｓ2においてピッチ３．５［ｍｍ］の三角格子の各格子点に配置された径φ１．０［ｍｍ］、突出高さＨ21＝１５０［μｍ］の略円柱状の複数の突起が第１要素１２２１として形成された。当該突起の端面に固定された径φ１．０［ｍｍ］、高さＨ22＝１０［μｍ］の略円柱状の複数のシリコン樹脂製の突起が第２要素１２２２として形成された。すなわち、基体１の主面１０２の外側領域Ｓ2において、径φ１．０［ｍｍ］、突出高さＨ2＝１６０［μｍ］の略円柱状の複数の外側凸部１２２がピッチ３．５［ｍｍ］の三角格子の各格子点に配置された。第２要素１２２２は、第１要素１２２１に対して成膜することにより固定されている。指定外側凸部１２２の密度（外側領域Ｓ2の面積に対する、複数の指定外側凸部１２２の端面の面積の合計の割合）が６．４３％である。
Diameter φ1.0 [m] arranged at each grid point of a triangular lattice having a pitch of 3.5 [mm] in the annular outer region S2 having an inner diameter of φ292 [mm] and an outer diameter of φ299 [mm] of the
弾性素材である硬度７０（タイプＡデュロメータ（ＪＩＳ Ｋ６２５３）により硬度を意味する。以下同じ。）の弾性率Ｅ（ヤング率）は４０．３［ＭＰａ］であり、関係式（１）で表わされる条件を満たしている。第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が１．０×１０-5［ｍ］であり、横断面積Ｓが７．８５×１０-7［ｍ2］であるため、Ｌ／（Ｅ×Ｓ）＝３．１６×１０-7であり、関係式（２）で表わされる条件を満たしている。
The elastic modulus E (Young's modulus) of the elastic material hardness 70 (meaning hardness by type A durometer (JIS K6253); the same applies hereinafter) is 40.3 [MPa] and is represented by the relational expression (1). Meets the conditions. Since the length L (height H 22 ) of the
基体１の主面１０２において、外径φ２９９［ｍｍ］、幅０．５［ｍｍ］、突出高さＨ4＝１４７［μｍ］の円環状の凸部が環状凸部１４として形成された。基体１において主面１０２の中心にφ３．０［ｍｍ］の厚さ方向に貫通する１個の貫通孔が通気経路２０として形成された。
On the
（実施例２）
第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が２．０×１０-5［ｍ］であるほかは、実施例１と同様に実施例２の真空吸着部材が作製された。
(Example 2)
The vacuum suction member of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the length L (height H 22 ) of the
（実施例３）
第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が３．０×１０-5［ｍ］であるほかは、実施例１と同様に実施例３の真空吸着部材が作製された。
(Example 3)
The vacuum suction member of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the length L (height H 22 ) of the
（実施例４）
第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が４．０×１０-5［ｍ］であるほかは、実施例１と同様に実施例４の真空吸着部材が作製された。
(Example 4)
The vacuum suction member of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the length L (height H 22 ) of the
（実施例５）
第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が５．０×１０-5［ｍ］であるほかは、実施例１と同様に実施例５の真空吸着部材が作製された。
(Example 5)
The vacuum suction member of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the length L (height H 22 ) of the
（実施例６）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．２［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が９．２６％であるほかは、実施例２と同様に実施例６の真空吸着部材が作製された。
(Example 6)
Example 6 as in Example 2 except that the diameter φ of each of the
（実施例７）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．４［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が１２．６％であるほかは、実施例２と同様に実施例７の真空吸着部材が作製された。
(Example 7)
Example 7 as in Example 2 except that the diameter φ of each of the
（実施例８）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．６［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が１６．５％であるほかは、実施例２と同様に実施例８の真空吸着部材が作製された。
(Example 8)
Example 8 is the same as in Example 2 except that the diameter φ of each of the
（実施例９）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．８［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が２０．８％であるほかは、実施例２と同様に実施例９の真空吸着部材が作製された。
(Example 9)
Example 9 as in Example 2 except that the diameter φ of each of the
（実施例１０）
第２要素１２２２が、弾性率Ｅが５．４［ＭＰａ］である硬度３０のシリコン樹脂により形成されたほかは、実施例２と同様に実施例１０の真空吸着部材が作製された。
(Example 10)
The vacuum suction member of Example 10 was produced in the same manner as in Example 2 except that the
（実施例１１）
第２要素１２２２が、弾性率Ｅが８．９［ＭＰａ］である硬度４０のシリコン樹脂により形成されたほかは、実施例２と同様に実施例１１の真空吸着部材が作製された。
(Example 11)
The vacuum suction member of Example 11 was produced in the same manner as in Example 2 except that the
（実施例１２）
第２要素１２２２が、弾性率Ｅが１４．２［ＭＰａ］である硬度５０のシリコン樹脂により形成されたほかは、実施例２と同様に実施例１２の真空吸着部材が作製された。
(Example 12)
The vacuum suction member of Example 12 was produced in the same manner as in Example 2 except that the
（実施例１３）
第２要素１２２２が、弾性率Ｅが２８．１［ＭＰａ］である硬度６０のシリコン樹脂により形成されたほかは、実施例２と同様に実施例１３の真空吸着部材が作製された。
(Example 13)
The vacuum suction member of Example 13 was produced in the same manner as in Example 2 except that the
（実施例１４）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが２．０［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が２５．７％であり、かつ、第２要素１２２２が、弾性率Ｅが４［ＭＰａ］である硬度２０のシリコン樹脂により形成されたほかは、実施例２と同様に実施例１４の真空吸着部材が作製された。
(Example 14)
The diameter φ of each of the
（実施例１５）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが０．５［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が１．６１％であり、かつ、第２要素１２２２が、弾性率Ｅが３５０［ＭＰａ］であるフッ素樹脂（ＦＰＡ）により形成されたほかは、実施例５と同様に実施例１５の真空吸着部材が作製された。
(Example 15)
The diameter φ of each of the
（実施例１６）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．０［ｍｍ］であるほかは、実施例１５と同様に実施例１６の真空吸着部材が作製された。
(Example 16)
The vacuum suction member of Example 16 was produced in the same manner as in Example 15, except that the diameter φ of each of the
（実施例１７）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが０．５［ｍｍ］であり、第２要素１２２２が、弾性率Ｅが３０００［ＭＰａ］であるポリイミド樹脂により形成された。第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が７．０×１０-5［ｍ］である。指定外側凸部１２２の密度が格子ピッチの調整により０．８０％に設定された。これらのほかは、実施例１と同様に実施例１７の真空吸着部材が作製された。
(Example 17)
The diameter φ of each of the
（比較例）
（比較例１）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．０［ｍｍ］であるほかは、実施例１４と同様に比較例１の真空吸着部材が作製された。
(Comparative example)
(Comparative Example 1)
The vacuum suction member of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 14, except that the diameter φ of each of the
（比較例２）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．０［ｍｍ］であり、第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が１．０×１０-5［ｍ］であるほかは、実施例１５と同様に比較例２の真空吸着部材が作製された。
(Comparative Example 2)
The diameter φ of each of the
（比較例３）
第１要素１２２１および第２要素１２２２のそれぞれの径φが１．０［ｍｍ］であり、指定外側凸部１２２の密度が３．２２％に設定され、かつ、第２要素１２２２の長さＬ（高さＨ22）が２．０×１０-5［ｍ］であるほかは、実施例１７と同様に比較例３の真空吸着部材が作製された。
(Comparative Example 3)
The diameter φ of each of the
（評価）
実施例および比較例のそれぞれの真空吸着部材の基体１の主面１０２の側に径φ３００ｍｍ、厚さｔ０．７ｍｍの基板Ｗ（シリコンウエハ）が載置された。非接触式のレーザー干渉計（ＺＹＧＯ社製 ＧＰＩ Ｈｓ）を用いて測定された基板Ｗの表面Ｗ1の平坦度（ローカルフラットネス）２０［ｍｍ］×２０［ｍｍ］のＰＶ値の最大値は０．５μｍであった。その後、基板Ｗの裏面Ｗ2および基体１の主面１０２により挟まれた空間が通気経路２０を通じて真空吸引装置により減圧された。これによって真空吸着部材に基板Ｗが保持された。この状態で、基板Ｗの表面Ｗ1において２０［ｍｍ］×２０［ｍｍ］のＰＶ値が非接触式のレーザー干渉計を用いて測定された。
(evaluation)
A substrate W (silicon wafer) having a diameter of φ300 mm and a thickness of t0.7 mm was placed on the side of the
これらの測定結果が、指定外側凸部１２２の特徴的な設計項目とともに表１にまとめて示されている。
These measurement results are summarized in Table 1 together with the characteristic design items of the designated outer
表１から、各実施例の真空吸着部材によれば、各比較例の真空吸着部材よりも基板Ｗの表面Ｗ1の全体的な平坦度の向上が図られていることがわかる。 From Table 1, it can be seen that according to the vacuum suction member of each example, the overall flatness of the surface W 1 of the substrate W is improved as compared with the vacuum suction member of each comparative example.
１‥基体、１０‥凸部、１１‥内側凸部群、１２‥外側凸部群、１４‥環状凸部、２０‥通気経路、１０２‥基体の主面、１０４‥凹部、１１２‥内側凸部、１２２‥外側凸部（指定外側凸部）、２０２‥開口部、１１２０‥内側凸部の端面、１２２０‥外側凸部の端面、１２２１‥第１要素、１２２２‥第２要素、Ｓ1‥主面の内側領域、Ｓ2‥主面の外側領域、Ｗ‥基板（ウエハ）、Ｗ1‥基板表面、Ｗ2‥基板裏面、Ｘ1‥基板の内側領域、Ｘ2‥基板の外側領域。 1 ... Base, 10 ... Convex, 11 ... Inner convex group, 12 ... Outer convex group, 14 ... Circular convex, 20 ... Ventilation path, 102 ... Base main surface, 104 ... Concave, 112 ... Inner convex , 122 ... outer convex part (designated outer convex part), 202 ... opening, 1120 ... end face of inner convex part, 1220 ... end face of outer convex part, 1221 ... first element, 1222 ... second element, S 1 ... main Inner region of the surface, S 2 Outer region of the main surface, W ‥ Substrate (wafer), W 1 ‥ Substrate surface, W 2 ‥ Substrate back surface, X 1 ‥ Substrate inner region, X 2 ‥ Substrate outer region.
Claims (5)
前記基体の主面から突出している複数の凸部と、
前記基体の内部を通り、前記基体の主面に開口を有する真空吸引経路と、
前記複数の凸部が、前記基体の主面において内側領域に配置されている内側凸部群と、
前記基体の主面において前記内側領域を取り囲む環状の外側領域に配置されている外側凸部群と、により構成され、
前記外側凸部群のうち少なくとも一部を構成する複数の指定外側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置が、前記内側凸部群を構成する複数の内側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも高く、かつ、当該複数の指定外側凸部のそれぞれの一部が残りの部分よりも弾性率が低い弾性素材により構成されていることを特徴とし、
前記複数の凸部のそれぞれを囲むように、前記基体の主面から突出する環状凸部をさらに備え、
前記環状凸部の前記基体の主面を基準とする端面位置が、前記複数の指定外側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも低いことを特徴とする真空吸着部材。 With the substrate
A plurality of convex portions protruding from the main surface of the substrate, and
A vacuum suction path that passes through the inside of the substrate and has an opening on the main surface of the substrate.
A group of inner convex portions in which the plurality of convex portions are arranged in an inner region on the main surface of the substrate, and a group of inner convex portions.
It is composed of a group of outer convex portions arranged in an annular outer region surrounding the inner region on the main surface of the substrate.
The end face position of each of the plurality of designated outer convex portions constituting the outer convex portion group with respect to the main surface of the substrate is the position of each of the plurality of inner convex portions constituting the inner convex portion group. It is characterized in that a part of each of the plurality of designated outer convex portions is made of an elastic material which is higher than the end face position with respect to the main surface of the substrate and has a lower elastic modulus than the remaining portion. And
An annular convex portion projecting from the main surface of the substrate is further provided so as to surround each of the plurality of convex portions.
The vacuum suction member is characterized in that the end surface position of the annular convex portion with respect to the main surface of the substrate is lower than the end surface position of each of the plurality of designated outer convex portions with respect to the main surface of the substrate. ..
前記複数の指定外側凸部のそれぞれが、前記基体の主面から突出している第１要素と、
前記第１要素の端面に連続して設けられている前記弾性素材により構成されている第２要素と、を備え、
前記第２要素の前記基体の主面を基準とする端面位置が前記複数の内側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも高いことを特徴とする真空吸着部材。 In the vacuum suction member according to claim 1,
Each of the plurality of designated outer convex portions has a first element protruding from the main surface of the substrate, and
A second element made of the elastic material, which is continuously provided on the end face of the first element, is provided.
A vacuum suction member characterized in that the end surface position of the second element with respect to the main surface of the substrate is higher than the end surface position of each of the plurality of inner convex portions with respect to the main surface of the substrate.
前記弾性素材の弾性率Ｅ［Ｐａ］、前記弾性素材の前記基体の主面の垂線方向についての長さＬ［ｍ］および前記弾性素材の前記基体の主面に平行な断面における断面積Ｓ［ｍ2］が、４［ＭＰａ］≦Ｅおよび１．０×１０-7≦Ｌ／（Ｅ×Ｓ）≦５．０×１０-6により表わされる条件を満足することを特徴とする真空吸着部材。 In the vacuum suction member according to claim 1 or 2.
The elastic modulus E [Pa] of the elastic material, the length L [m] of the elastic material in the perpendicular direction of the main surface of the substrate, and the cross-sectional area S [of the elastic material in a cross section parallel to the main surface of the substrate. m2] is a vacuum suction member, which satisfies the conditions represented by 4 [MPa] ≦ E and 1.0 × 10-7 ≦ L / (E × S) ≦ 5.0 × 10-6.
前記複数の指定外側凸部のそれぞれが、前記基体とは別個に構成されている第１要素と、前記基体に支持された状態で前記第１要素を端部で支持している弾性要素により構成されている第２要素と、を備え、
前記第１要素の端面位置が前記複数の内側凸部のそれぞれの端面位置よりも高いことを特徴とする真空吸着部材。 In the vacuum suction member according to claim 1,
Each of the plurality of designated outer convex portions is formed by a first element configured separately from the substrate and an elastic element supporting the first element at an end while being supported by the substrate. With the second element that is configured,
A vacuum suction member characterized in that the end face position of the first element is higher than the end face position of each of the plurality of inner convex portions.
前記基体の主面から窪んで設けられている凹部をさらに備え、
前記第１要素が前記凹部に部分的に変位可能に挿入され、前記第２要素が前記凹部の内部に収容されて前記凹部の底部により支持された状態で前記第１要素を支持していることを特徴とする真空吸着部材。 In the vacuum suction member according to claim 4,
Further provided with a recess provided by being recessed from the main surface of the substrate, the substrate is further provided with a recess.
The first element is partially displaceably inserted into the recess, and the second element is housed inside the recess and supported by the bottom of the recess to support the first element. A vacuum suction member characterized by.
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