JP7013286B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Description
基板処理装置の第11の態様は、複数の基板に対して一括して処理を行う基板処理装置であって、貯留槽と、前記貯留槽に処理液を供給する第1ノズルと、前記貯留槽に対して鉛直上側に配置されており、水平方向に沿って、または、水平方向よりも鉛直上側に向けて有機溶剤の蒸気を吐出して、前記貯留槽に貯留された処理液の液面に前記有機溶剤の液膜を形成する一対の第2吐出ノズルと、前記貯留槽から処理液を排出する排出部とを備え、前記一対の第2吐出ノズルからの前記有機溶剤の蒸気の吐出方向の水平面に対する角度は互いに相違する。
<基板処理装置>
図1は、基板処理装置10の構成の一例を概略的に示す図である。この基板処理装置10は、複数の基板Wを一括で処理するバッチ式の処理装置である。より具体的な一例として、基板処理装置10は、複数の基板Wに対して一括して乾燥処理を行う乾燥処理装置である。
図2は、基板処理装置10の動作(乾燥処理)の一例を示すフローチャートであり、図3~図6は、各手順における基板処理装置10内の様子の一例を概略的に示す図である。この一連の手順の実行前において、開閉弁33,43,44,53,63は閉じている。まずステップS1にて、制御部7は開閉弁33を開いて処理液を貯留槽2に供給する。これにより、図3に示すように、貯留槽2に処理液が貯留される。貯留槽2に十分な処理液が貯留されると、ステップS2にて、制御部7は搬送機構を制御して複数の基板Wを基板処理装置10内に搬入させる。具体的には、制御部7は蓋12を開き、その状態で搬送機構にキャリアCをチャンバ1内に搬入させて貯留槽2の底部に載置させる。これにより、キャリアC内に格納された複数の基板Wが処理液に浸漬される。そして、制御部7は搬送機構の一部(ハンド)をチャンバ1から引き抜いたうえで、蓋12を閉じて開閉弁33を閉じる。開閉弁33が閉じることにより、処理液の供給が終了する。
<非対称>
図1の例では、吐出ノズル51a,51bの吐出方向はYZ平面に対して互いに略対称となっている。しかしながら、吐出ノズル51a,51bの吐出方向は非対称であってもよい。図7は、一対の吐出ノズル51a,51bの吐出方向の一例を示す図である。図7の例では、吐出ノズル51aの吐出方向と水平面との間の角度θ1(0度以上90度以下)は吐出ノズル51bの吐出方向と水平面との間の角度θ2(0度以上90度以下)と異なっている。つまり、一対の吐出ノズル51a,51bは互いに非対称となる吐出方向で有機溶剤の蒸気を吐出する。
吐出ノズル51a,51bは、チャンバ1の天板(ここでは蓋12)に向けて有機溶剤の蒸気を吐出してもよい。言い換えれば、角度θ1,θ2はいずれも45度以上90度以下であってもよい。ここでは蓋12は例えば板状の形状を有しており、その下面は水平面に沿って延在している。図8は、一対の吐出ノズル51a,51bの吐出方向の一例を示す図である。図8に例示するように、吐出ノズル51aから吐出された有機溶剤の蒸気は蓋12の下面12aに衝突し、下面12aに沿って+X側に広がりつつ-Z側に向かって流れる。同様に、吐出ノズル51bから吐出された有機溶剤の蒸気は蓋12の下面12aに衝突し、-X側に広がりつつ-Z側に向かって流れる。言い換えれば、蒸気が蓋12の下面12aに衝突するように、蓋12と吐出ノズル51a,51bの各々との間の距離、および、吐出ノズル51a,51bからの蒸気の吐出圧力が設定される。
図9は、基板処理装置10Aの構成の一例を概略的に示す図である。基板処理装置10Aは突起支持部8の有無という点で基板処理装置10と相違する。
突起支持部8の説明に先立って、まずキャリアCの形状の一例について詳述する。図10および図11は、キャリアCの構成の一例を概略的に示す図である。図10は、Y軸方向に沿って見たキャリアCを示しており、図11は、キャリアCのXY断面における構成を示している。
図12は、突起支持部8、キャリアCおよび基板Wの位置関係を説明するための図である。図12は、一つの基板Wを通る位置でのZX断面が示されている。図9および図12を参照して、突起支持部8は貯留槽2の底部から+Z側に突出している。突起支持部8は例えば石英または樹脂等によって形成され得る。この突起支持部8は、キャリアCが貯留槽2の内部に載置された状態で、Z軸方向において開口部9bと対向する領域内に配置される。突起支持部8の先端(+Z側の端部)はキャリアCの開口部9bにおいて複数の基板Wの側面に当接し、複数の基板WをキャリアCに対して浮かした状態で支持する。つまり、複数の基板Wが突起支持部8に支持された状態においては、基板Wは側部91の対向面911から離間しており、キャリアCはもはや複数の基板WをZ軸方向において支持していない。ただし、基板Wの起立姿勢を維持できるように、この状態でも各仕切部93は2つの基板Wの間に位置している。このような支持は、突起支持部8のZ軸方向における高さを調整することで実現できる。
図9および図12の例では、突起支持部8は+Z側に向かうにしたがって先細となる先細形状を有している。これよれば、突起支持部8と基板Wの側面との接触面積を小さくすることができるので、この接触箇所における処理液の残留量も低減できる。この観点によれば、突起支持部8はZX平面において点接触で基板Wと接触することが望ましい。また突起支持部8はY軸方向に沿って一様に延在しているとよい。これによれば、全ての基板Wの側面との接触面積を低減できる。
図13は、突起支持部8の形状の他の一例を示す図である。図13の例示では、基板Wの中心よりも-X側に位置する突起支持部8aにおいて、+X側の先端面82が-X側の先端面81よりもZ軸方向に沿っている。逆に言えば、突起支持部8aにおいて先端面81の傾斜が先端面82の傾斜よりも緩やかである。同様に、基板Wの中心よりも+X側に位置する突起支持部8bにおいて、-X側の先端面83が+X側の先端面84よりもZ軸方向に沿っている。逆に言えば、突起支持部8bにおいて先端面84の傾斜が先端面83の傾斜よりも緩やかである。
図14は、突起支持部8の形状の他の一例を示す図である。図14の例示では、突起支持部8a,8bの各々の先端部はZX平面において二等辺三角形の斜辺に沿う形状を有している。つまり、突起支持部8aにおいて先端面81,82はYZ平面に関して互いに対称であり、突起支持部8bにおいて先端面83,84はYZ平面に関して互いに対称である。
4 排出部
8a 第1突起支持部(突起支持部)
8b 第2突起支持部(突起支持部)
10,10A 基板処理装置
31 第1吐出ノズル(吐出ノズル)
51,51a,51b 第2吐出ノズル(吐出ノズル)
61,61a,61b 第3吐出ノズル(吐出ノズル)
81 第1先端面(先端面)
82 第2先端面(先端面)
83 第3先端面(先端面)
84 第4先端面(先端面)
C 基板格納容器(キャリア)
W 基板
Claims (12)
- 複数の基板に対して一括して処理を行う基板処理装置であって、
貯留槽と、
前記貯留槽に処理液を供給する第1ノズルと、
前記貯留槽に対して鉛直上側に配置されており、水平方向よりも鉛直上側に向けて有機溶剤の蒸気を吐出して、前記貯留槽に貯留された処理液の液面に前記有機溶剤の液膜を形成する少なくとも一つの第2吐出ノズルと、
前記第2吐出ノズルに対して鉛直上側に配置される板状部材と、
前記貯留槽から処理液を排出する排出部と
を備え、
前記少なくとも一つの第2吐出ノズルは前記板状部材に向けて前記有機溶剤の蒸気を吐出する、基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記少なくとも一つの第2吐出ノズルは、水平方向において互いに離間した位置に配置された一対の第2吐出ノズルを含み、
前記一対の第2吐出ノズルの一方は他方に向けて前記有機溶剤の蒸気を吐出する、基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記一対の第2吐出ノズルからの前記有機溶剤の蒸気の吐出方向の水平面に対する角度は互いに相違する、基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記有機溶剤の蒸気を70℃以上に加熱する加熱部を更に備える、基板処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
鉛直方向において前記貯留槽と前記少なくとも一つの第2吐出ノズルとの間に配置されており、基板乾燥用の気体を前記複数の基板に向けて吐出する第3吐出ノズルを更に備える、基板処理装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記貯留槽の底部から鉛直上側に向かって突起する第1突起支持部および第2突起支持部を更に備え、
前記複数の基板は起立姿勢で基板格納容器に格納された状態で、前記貯留槽の処理液に浸漬され、
前記複数の基板が収納される前記基板格納容器の内部空間は鉛直上側にも鉛直下側にも開口しており、
前記第1突起支持部の先端および前記第2突起支持部の先端は前記基板格納容器の鉛直下側の開口部において前記複数の基板の側面にそれぞれ当接して、前記複数の基板を前記基板格納容器から浮かせて支持する、基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記第1突起支持部および前記第2突起支持部の先端部は鉛直上側に向かうにしたがって先細となる先細形状を有する、基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置であって、
前記第1突起支持部の先端部は第1先端面および第2先端面を有し、
前記第2先端面は前記第1先端面に対して前記第2突起支持部側の面であり、
前記第2突起支持部の先端部は第3先端面および第4先端面を有し、
前記第3先端面は前記第4先端面に対して前記第1突起支持部側の面であり、
前記第1先端面は前記第2先端面よりも鉛直方向に沿っており、
前記第4先端面は前記第3先端面よりも鉛直方向に沿っている、基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記第1突起支持部の先端部は第1先端面および第2先端面を有し、
前記第2先端面は前記第1先端面に対して前記第2突起支持部側の面であり、
前記第2突起支持部の先端部は第3先端面および第4先端面を有し、
前記第3先端面は前記第4先端面に対して前記第1突起支持部側の面であり、
前記第2先端面は前記第1先端面よりも鉛直方向に沿っており、
前記第3先端面は前記第4先端面よりも鉛直方向に沿っている、基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記第1突起支持部および前記第2突起支持部の各々の先端部は二等辺三角形の斜辺に沿う形状を有する、基板処理装置。 - 複数の基板に対して一括して処理を行う基板処理装置であって、
貯留槽と、
前記貯留槽に処理液を供給する第1ノズルと、
前記貯留槽に対して鉛直上側に配置されており、水平方向に沿って、または、水平方向よりも鉛直上側に向けて有機溶剤の蒸気を吐出して、前記貯留槽に貯留された処理液の液面に前記有機溶剤の液膜を形成する一対の第2吐出ノズルと、
前記貯留槽から処理液を排出する排出部と
を備え、
前記一対の第2吐出ノズルからの前記有機溶剤の蒸気の吐出方向の水平面に対する角度は互いに相違する、基板処理装置。 - 複数の基板に一括して処理を行う基板処理方法であって、
貯留槽に貯留された処理液に複数の基板を起立姿勢で浸漬する工程と、
吐出ノズルが、水平方向よりも鉛直上側に向けて、かつ、前記吐出ノズルに対して鉛直上側に配置される板状部材に向けて、前記貯留槽の上部空間に有機溶剤の蒸気を吐出して、前記貯留槽に貯留された処理液の液面に前記有機溶剤の液膜を形成する工程と、
前記貯留槽から処理液を排出する工程と
を備える、基板処理方法。
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