JP6997168B2 - 固体サーモクロミックデバイス及びそのデバイスの製造方法 - Google Patents
固体サーモクロミックデバイス及びそのデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6997168B2 JP6997168B2 JP2019503933A JP2019503933A JP6997168B2 JP 6997168 B2 JP6997168 B2 JP 6997168B2 JP 2019503933 A JP2019503933 A JP 2019503933A JP 2019503933 A JP2019503933 A JP 2019503933A JP 6997168 B2 JP6997168 B2 JP 6997168B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- thickness
- oxide
- infrared
- thermochromic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B64—AIRCRAFT; AVIATION; COSMONAUTICS
- B64G—COSMONAUTICS; VEHICLES OR EQUIPMENT THEREFOR
- B64G1/00—Cosmonautic vehicles
- B64G1/22—Parts of, or equipment specially adapted for fitting in or to, cosmonautic vehicles
- B64G1/226—Special coatings for spacecraft
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B64—AIRCRAFT; AVIATION; COSMONAUTICS
- B64G—COSMONAUTICS; VEHICLES OR EQUIPMENT THEREFOR
- B64G1/00—Cosmonautic vehicles
- B64G1/22—Parts of, or equipment specially adapted for fitting in or to, cosmonautic vehicles
- B64G1/52—Protection, safety or emergency devices; Survival aids
- B64G1/58—Thermal protection, e.g. heat shields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K9/00—Tenebrescent materials, i.e. materials for which the range of wavelengths for energy absorption is changed as a result of excitation by some form of energy
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/008—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Critical Care (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
スタックを備える固体サーモクロミックデバイスであって、前記スタックが、背面から太陽放射に晒される前面まで、
(a)550℃以下の温度、特に540℃以下の温度、例えば500℃以下の温度に耐性のある無機材料からなる固体基板と、
(b)導電性材料で作られる赤外線反射層と、
(c)電子絶縁性界面層と、
(d)酸化セリウム(CeO2)で作られ、400から900nm、好ましくは700から900nmの厚さを有する、赤外線に対して透過的な電子絶縁性無機誘電体層と、
(e)電子絶縁性界面層と、
(f)nドープされたVO2酸化バナジウムであり、単斜晶相又はルチル相に結晶化された、30から50nm、好ましくは30から40nmの厚さを有する赤外活性サーモクロミック材料の層と、
(g)赤外線に対して透過的な、日射反射コーティングである日射防止コーティングと、
を連続的に備え、好ましくはこれらからなる、固体サーモクロミックデバイスによって達成される。
-yは、VO2バナジウム酸化物の原子%で表した金属カチオンのドーピング率を表します。従って、例えば、ドーピング率が2原子%である場合、yは、0.02に等しくなる。
-nは、4より大きく、例えば5又は6であり得る。
-Zは、Nb、Ta、Mo又はWから選択することができ、好ましくは、ZはWである。
(a)550℃以下の温度、特に540℃以下の温度、例えば500℃以下の温度に耐える、無機材料の固体基板に導電性材料からなる赤外線反射層を堆積する段階と、
(b)段階(a)の間に堆積された前記赤外線反射層に電子絶縁性界面層を堆積する段階と、
(c)段階(b)の間に堆積された前記界面層に、400から900nm、好ましくは700から900nmの厚さを有する、酸化セリウム(CeO2)で作られた、赤外線に対して透過的な電子絶縁性無機誘電体層を堆積する段階と、
(d)段階(c)の間に堆積され、酸化セリウム(CeO2)から作られる、赤外線に対して透過的な前記電子絶縁性誘電体層に電子絶縁性界面層を堆積する段階と、
(e)段階(d)の間に堆積された前記界面層に、ドープされていないバナジウム酸化物(VO2)又は酸素空孔がドープされたバナジウム酸化物(VO2-x)であり、単斜晶相である赤外活性サーモクロミック材料の層を堆積する段階であって、超微細層、すなわち、0.1から0.5nmの厚さの、例えばタングステン金属である金属Zの層が、前記ドープされていないバナジウム酸化物VO2の層に挿入され、又は、任意に、超微細層、すなわち、0.1から0.5nmの厚さの、例えばタングステン金属である金属Zの層が、前記酸素空孔がドープされたバナジウム酸化物(VO2-x)の層に挿入される、段階と、
(f)前記サーモクロミック材料を結晶化するために、450℃を超え550℃未満(すなわち、450℃から550℃の温度であり、ここで、450℃及び550℃の限界値は除外される)、好ましくは460℃から540℃、より好ましくは500℃の温度で、前記基板、及び段階(a)から(e)の間に堆積された前記層をアニーリングする段階と、
(g)前記サーモクロミック材料の層に、赤外線を透過する、日射反射コーティングである日射防止コーティングを堆積する段階と、
が連続して行われる、デバイスを製造する方法に関する。
-例えば初期圧力が優勢であり、例えば約5×10-7mbarであり、最初に窒素で満たされたチャンバを用いて、チャンバ内に真空を生成するための最大ポンピング速度が900L/sである、例えば0.1m3の容積の真空チャンバ;
-3インチ(又は76mm)の直径を有する、最大で6個のカソード、又は、6インチ(又は152mm)の直径を有する2個のカソード及び3インチ(又は76mm)の直径を有する2個のカソード;
-堆積する材料及びターゲットの脆さの関数として遅い又は高い堆積速度、例えばそれぞれCeO2及びAgに対して3から120nm/分の速度を得るために、各堆積物は、例えばAg、Si、CeO2、V又はWで作られる金属又は金属酸化物ターゲットから、高周波数RFモードで、ターゲットの1から10W/cm2の印加電力を用いて、又は、DCモードで、0.6から2W/cm2の印加電力で、マグネトロンカソードスパッタリングによって生成される。
-例えば銀で作られる金属からなる反射層を堆積させるための、例えば9×10-3mbarの圧力を有するアルゴン;
-例えば、全圧2.1から2.3×10-2mbarで、それぞれ70から75体積%及び25から30体積%の割合のアルゴン及び窒素の混合物、例えばSi3N4で作られる界面層の堆積用としては2.2×10-2mbarのアルゴン及び窒素の混合物;
-例えばそれぞれ83から96堆積%と4から17体積%の割合で、界面層、又はSiO2日射防止コーティングの層の堆積、誘電層、又はCeO2日射防止コーティングの層の堆積、又は、赤外線で活性なVO2サーモクロミック層の堆積において、総圧1.7から3.3、例えば3.2×10-2mbar又は1.2×10-2mbar、又は1.75×10-2mbarのアルゴン及び酸素の混合物。
本発明によるデバイスのすべての層、及び本発明によるデバイスによって製造されるものは、デバイスの最後の層が堆積される前にチャンバを開けることなく2つの連続層の堆積の間に真空を維持しながら、真空下(すなわち、10-6mbar未満(高真空、二次真空)の残留圧力で、一次真空(粗真空)下で行われる薄層の材料の堆積段階中に使用されるプラズマ生成ガスの導入前に)、反応性モードでのアルゴン、又は、アルゴン及び窒素の混合物、又は、アルゴン及び酸素の混合物の圧力下で、同じマグネトロンスパッタリングチャンバ内で同じ技術、すなわちマグネトロンカソードスパッタリング技術を実施することによって製造される。
-反射性バックグラウンドを製造するための銀ターゲット、
-界面層及びブラッグミラーの低屈折率層を製造するためのシリコンターゲット、
-誘電体層及びブラッグミラーの高屈折率層を製造するための酸化セリウムターゲット、
-サーモクロミック材料を製造するためのバナジウムターゲット、
-サーモクロミック材料をドーピングするためのタングステンターゲット。
反射性バックグラウンドとして機能する金属層は、マグネトロンカソードスパッタリングによって堆積された厚さ100nmの銀の層である。
第1の界面層は、Si3N4で構成され、厚さは、10nmである。
この層は、CeO2で構成され、厚さは、400nmである。
主誘電体層とサーモクロミック層との間の第1の界面層は、SiO2で構成され、厚さは、10nmである。
この層は、主にVO2で構成され、厚さは、40から50nmである。
上記の段階1から5で使用されたものと同じマグネトロンカソードスパッタリング堆積技術もまた、日射防止膜を実現するために使用され、すなわち上記の段階1から5の最後に得られたスタック上の、反射率78%であるガラス上の反射体であるブラッグミラー又はソーラーミラーを実現するために使用される。
2 太陽放射
3 背面
4 支持体
5 反射層
6 界面層
7 窒化層
8 酸化層
9 誘電体層
10 界面層
11 酸化層
12 窒化層
13 サーモクロミック層
14 赤外線
15 日射防止コーティング
Claims (31)
- スタックを備える固体サーモクロミックデバイスであって、前記スタックが、背面から太陽放射に晒される前面まで、
(a)550℃以下の温度に耐性のある無機材料からなる固体基板と、
(b)導電性材料で作られる赤外線反射層と、
(c)電子絶縁性界面層と、
(d)酸化セリウム(CeO2)で作られ、400から900nmの厚さを有する、赤外線に対して透過的な電子絶縁性無機誘電体層と、
(e)電子絶縁性界面層と、
(f)nドープされたVO2酸化バナジウムであり、単斜晶相又はルチル相に結晶化された、30から50nmの厚さを有する赤外活性サーモクロミック材料の層と、
(g)赤外線に対して透過的な、日射反射コーティングである日射防止コーティングと、
を連続的に備える、固体サーモクロミックデバイス。 - 前記固体基板が、アルミニウム、シリコン及びホウケイ酸ガラスの中から選択される材料で作られる、請求項1に記載のデバイス。
- 前記固体基板が、層の形態である、請求項1又は2に記載のデバイス。
- 前記層が、0.3から1mmの厚さを有する、請求項3に記載のデバイス。
- 前記赤外線反射層(b)の導電性材料が、金属、金属合金、及び可視範囲で透過可能な導電性金属酸化物から選択される、請求項1から4の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記赤外線反射層(b)の導電性材料が、貴金属、アルミニウム及びクロムから選択される、請求項5に記載のデバイス。
- 前記反射層(b)が、金、銀又は白金である、請求項6に記載のデバイス。
- 前記反射層(b)が、80から150nmの厚さを有する、請求項1から7の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記界面層(c)の数が2である、請求項1から8の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記界面層(c)が、10から30nmの総厚を有する、請求項1から9の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記界面層(c)が、前記反射層から出発して、Si3N4又はAlNからなる第1の層、次いで、SiO2又はAl2O3からなる第2の層を含む、請求項1から10の何れか一項に記載のデバイス。
- Si3N4又はAlNからなる前記第1の層が、5から15nmの厚さを有し、SiO2又はAl2O3からなる前記第2の層が、5から15nmの厚さを有する、請求項11に記載のデバイス。
- 前記界面層(e)の数が2である、請求項1から12の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記界面層(e)が、105から155nmの総厚を有する、請求項1から13の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記界面層(e)が、前記反射層から出発して、SiO2からなる第1の層、次いで、Si3N4からなる第2の層を備える、請求項1から14の何れか一項に記載のデバイス。
- SiO2からなる前記第1の層が、5から15nmの厚さを有し、Si3N4からなる前記第2の層が、100から140nmの厚さを有する、請求項15に記載のデバイス。
- V4+カチオンを含む前記バナジウムIV酸化物(VO2)が、酸素空孔でnドープされ、及び/又は、4より大きい価数nを有するZn+金属カチオンを用いた前記V4+カチオンの置換によってnドープされる、請求項1から16の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記バナジウムIV酸化物(VO2)が、酸素空孔によってのみnドープされており、式VO2-xに対応し、xが、0超、0.25以下である、請求項17に記載のデバイス。
- 前記バナジウムIV酸化物(VO2)が、4より大きい価数nを有するZn+金属カチオンを用いたV4+カチオンの置換によってのみnドープされ、式V1-yZyO2に対応し、yが、0.01から0.03の範囲である、請求項17に記載のデバイス。
- nが5又は6に等しく、ZがNb、Ta、Mo又はWの中から選択される、請求項17又は19に記載のデバイス。
- 前記バナジウムIV酸化物(VO2)が、酸素空孔と、4より大きい価数nを有するZn+金属カチオンを用いた前記V4+カチオンの置換とによって同時にnドープされており、式V1-yZyO2-xに対応する、請求項17に記載のデバイス。
- 赤外線に対して透過的である前記日射反射コーティングである日射防止コーティング(g)が、ブラッグミラーからなる、請求項1から21の何れか一項に記載のデバイス。
- 前記ブラッグミラーが、高屈折率(nが2から2.5)の金属酸化物の層と、低屈折率(nが1.3から1.8)の酸化物の層との交互層からなる、請求項22に記載のデバイス。
- (a)550℃以下の温度に耐える、無機材料の固体基板に導電性材料からなる赤外線反射層を堆積する段階と、
(b)段階(a)の間に堆積された前記赤外線反射層に電子絶縁性界面層を堆積する段階と、
(c)段階(b)の間に堆積された前記界面層に、400から900nmの厚さを有する、酸化セリウム(CeO2)で作られた、赤外線に対して透過的な電子絶縁性無機誘電体層を堆積する段階と、
(d)段階(c)の間に堆積され、酸化セリウム(CeO2)から作られる、赤外線に対して透過的な前記電子絶縁性無機誘電体層に電子絶縁性界面層を堆積する段階と、
(e)段階(d)の間に堆積された前記界面層に、ドープされていないバナジウム酸化物(VO2)又は酸素空孔がドープされたバナジウム酸化物(VO2-x)であり、単斜晶相である赤外活性サーモクロミック材料の層を堆積する段階であって、超微細層、すなわち、0.1から0.5nmの厚さの金属Zの層が、前記ドープされていないバナジウム酸化物VO2の層に挿入され、又は、任意に、超微細層、すなわち、0.1から0.5nmの厚さの金属Zの層が、前記酸素空孔がドープされたバナジウム酸化物(VO2-x)の層に挿入される、段階と、
(f)前記サーモクロミック材料を結晶化するために、450℃を超え550℃未満の温度で、前記基板、及び段階(a)から(e)の間に堆積された前記層をアニーリングする段階と、
(g)前記サーモクロミック材料の層に、赤外線を透過する、日射反射コーティングである日射防止コーティングを堆積する段階と、
が連続して行われる、請求項1から23の何れか一項に記載のデバイスを製造する方法。 - 前記金属Zが、タングステン金属である、請求項24に記載の方法。
- 前記基板、及び段階(a)から(e)の間に堆積された前記層のアニーリングが、少なくとも96体積%のアルゴンを含有するアルゴン及び酸素雰囲気下で行われる、請求項24又は25に記載の方法。
- 前記層及び前記日射防止コーティングが、マグネトロンカソードスパッタリング、レーザーアブレーション及び蒸着の中から選択される物理気相堆積法(PVD)によって堆積される、請求項24から26の何れか一項に記載の方法。
- 全ての前記層及び前記日射防止コーティングが、同じ物理気相堆積法によって、真空下で堆積される、請求項27に記載の方法。
- 段階(f)及び(g)を含む全ての前記段階が、同一の真空チャンバ内で前記段階の各々の間に前記真空チャンバを開くことなく連続的に行われる、請求項28に記載の方法。
- 物体の熱的保護のための、請求項1から23の何れか一項に記載のデバイスの使用。
- 前記物体が、衛星、建物、又は、乗り物の客室である、請求項30に記載のデバイスの使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1657316 | 2016-07-28 | ||
FR1657316A FR3054676B1 (fr) | 2016-07-28 | 2016-07-28 | Dispositif thermochrome tout-solide, et procede de preparation de ce dispositif |
PCT/FR2017/052092 WO2018020160A1 (fr) | 2016-07-28 | 2017-07-26 | Dispositif thermochrome tout-solide, et procede de preparation de ce dispositif |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019525242A JP2019525242A (ja) | 2019-09-05 |
JP6997168B2 true JP6997168B2 (ja) | 2022-02-04 |
Family
ID=57796414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019503933A Active JP6997168B2 (ja) | 2016-07-28 | 2017-07-26 | 固体サーモクロミックデバイス及びそのデバイスの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11086054B2 (ja) |
EP (1) | EP3490951B1 (ja) |
JP (1) | JP6997168B2 (ja) |
FR (1) | FR3054676B1 (ja) |
WO (1) | WO2018020160A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110031922A (zh) * | 2019-04-10 | 2019-07-19 | 上海理工大学 | 一种温控近红外超表面吸波器 |
CN109870863B (zh) * | 2019-04-15 | 2021-06-11 | 哈尔滨工业大学 | 一种可通过电压调节等效发射率的热控皮肤及其在航天器中的应用 |
CN111665672B (zh) * | 2020-06-10 | 2023-03-21 | 宁波祢若电子科技有限公司 | 一种双功能电致变色能量存储器件及其制作方法 |
CN112331765B (zh) * | 2020-09-27 | 2023-04-18 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于近场热辐射的多级热控逻辑开关 |
CN114506136B (zh) * | 2022-02-24 | 2023-08-18 | 哈尔滨工业大学(威海) | 一种具有温度自适应性和隔热保温功能的智能辐射制冷复合膜及其制备方法与应用 |
CN115200410B (zh) * | 2022-07-21 | 2024-02-20 | 哈尔滨工业大学 | 一种红外辐射动态可重构器件及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000137251A (ja) | 1998-08-28 | 2000-05-16 | Itaru Yasui | サ―モクロミック体及びその製造方法 |
US20040155154A1 (en) | 2001-04-04 | 2004-08-12 | Topping Alexander John | Structure with variable emittance |
JP2008045207A (ja) | 2006-08-10 | 2008-02-28 | Boeing Co:The | 熱制御コーティング、コンポーネントの温度を制御する方法、および熱制御コーティングを含む宇宙船のコンポーネント |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3834793A (en) * | 1973-06-21 | 1974-09-10 | Advance Technology Center Inc | Dichromic mirror having multilayer thin films including vanadium dioxide |
US4401690A (en) * | 1982-02-01 | 1983-08-30 | Ppg Industries, Inc. | Thermochromic vanadium oxide with depressed switching temperature |
US6358307B1 (en) * | 1995-11-03 | 2002-03-19 | Les Peintures Jefco | Vanadium dioxide microparticles, method for preparing same, and use thereof, in particular for surface coating |
GB9619781D0 (en) * | 1996-09-23 | 1996-11-06 | Secr Defence | Multi layer interference coatings |
FR2809388B1 (fr) | 2000-05-23 | 2002-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant au moins une couche a proprietes thermochromes |
FR2856802B1 (fr) | 2003-06-26 | 2005-10-14 | France Etat Armement | Materiau souple a contraste optique dans l'infrarouge |
US7265891B1 (en) | 2006-06-20 | 2007-09-04 | Eclipse Energy Systems | Electrochromic device with self-forming ion transfer layer and lithium-fluoro-nitride electrolyte |
US7761053B2 (en) | 2006-09-08 | 2010-07-20 | Mpb Communications Inc. | Variable emittance thermochromic material and satellite system |
US9007674B2 (en) * | 2011-09-30 | 2015-04-14 | View, Inc. | Defect-mitigation layers in electrochromic devices |
US8422113B2 (en) * | 2009-10-01 | 2013-04-16 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Panel including thermochromic layer |
EP2450322A1 (en) | 2010-09-13 | 2012-05-09 | Korea Electronics Technology Institute | Double window / door system for blocking infrared rays |
FR2969323B1 (fr) | 2010-12-15 | 2013-08-16 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif electrochrome tout-solide, électrode bicouche pour ce dispositif, et procédé de préparation de ce dispositif. |
DE102012012219B4 (de) | 2012-06-21 | 2014-12-24 | Justus-Liebig-Universität Giessen | Thermochrome Schicht für Glas, Verfahren zur Herstellung einer thermochromen Schicht und Verwendung einer thermochromen Schicht |
US8908253B2 (en) | 2012-11-19 | 2014-12-09 | Institut National De La Recherche Scientifique (Inrs) | Passively variable emittance device and method for making the same |
FR3003267B1 (fr) * | 2013-03-15 | 2015-12-18 | Viessmann Faulquemont | Materiau absorbant et panneau solaire utilisant un tel materiau |
US20150362374A1 (en) | 2014-06-16 | 2015-12-17 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Atomic Layer Deposition of Vanadium Oxide for Microbolometer and Imager |
KR101906656B1 (ko) * | 2015-12-03 | 2018-10-10 | 아주대학교산학협력단 | 단층 스마트 윈도우 |
-
2016
- 2016-07-28 FR FR1657316A patent/FR3054676B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-07-26 US US16/320,142 patent/US11086054B2/en active Active
- 2017-07-26 WO PCT/FR2017/052092 patent/WO2018020160A1/fr unknown
- 2017-07-26 JP JP2019503933A patent/JP6997168B2/ja active Active
- 2017-07-26 EP EP17754756.9A patent/EP3490951B1/fr active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000137251A (ja) | 1998-08-28 | 2000-05-16 | Itaru Yasui | サ―モクロミック体及びその製造方法 |
US20040155154A1 (en) | 2001-04-04 | 2004-08-12 | Topping Alexander John | Structure with variable emittance |
JP2008045207A (ja) | 2006-08-10 | 2008-02-28 | Boeing Co:The | 熱制御コーティング、コンポーネントの温度を制御する方法、および熱制御コーティングを含む宇宙船のコンポーネント |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018020160A1 (fr) | 2018-02-01 |
US20190243036A1 (en) | 2019-08-08 |
US11086054B2 (en) | 2021-08-10 |
JP2019525242A (ja) | 2019-09-05 |
FR3054676A1 (fr) | 2018-02-02 |
EP3490951A1 (fr) | 2019-06-05 |
FR3054676B1 (fr) | 2018-08-31 |
EP3490951B1 (fr) | 2020-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6997168B2 (ja) | 固体サーモクロミックデバイス及びそのデバイスの製造方法 | |
KR101728620B1 (ko) | 열 복사선 반사 코팅을 갖는 판유리 | |
Buch et al. | Review on electrochromic property for WO3 thin films using different deposition techniques | |
Jin et al. | Design, formation and characterization of a novel multifunctional window with VO 2 and TiO 2 coatings | |
CA2861707C (en) | Pane with thermal radiation reflecting coating | |
KR101820219B1 (ko) | 열 복사선 반사 코팅을 갖는 패널 | |
Kanu et al. | Thin films for solar control applications | |
JP6196980B2 (ja) | 太陽光制御板ガラスユニット | |
JP5705963B2 (ja) | 不連続金属層を備えた日射制御コーティング | |
ES2642800T3 (es) | Acristalamiento de baja emisividad | |
JP4370396B2 (ja) | 多機能自動調光断熱ガラス及び空調方法 | |
CN110418710A (zh) | 用于玻璃基材的低发射率涂层 | |
JP4399583B2 (ja) | マグネシウム・チタン合金を用いた全固体型反射調光エレクトロクロミック素子及び調光部材 | |
JPH05246737A (ja) | 車両特に自動車用バックミラー | |
JP2000229381A (ja) | ガラス積層体及びその製造方法 | |
AU2024200132A1 (en) | Solar control coatings and methods of forming solar control coatings | |
JP2008297177A (ja) | サーモクロミックガラスおよびサーモクロミック複層ガラス | |
KR20140148380A (ko) | 일광 조절 창유리 | |
CN108803183B (zh) | 一种双层全无机电致变色器件及其制备方法 | |
US20030196454A1 (en) | Multifunctional automatic switchable heat-insulating glass and air-conditioning method | |
JP4359980B2 (ja) | ガラス積層体、及びその製造方法 | |
Cao et al. | Solar modulation utilizing VO2-based thermochromic coatings for energy-saving applications | |
JPH0859301A (ja) | 紫外線熱線遮断ガラス | |
Oktik et al. | Thin‐Film Technologies for Glass Surfaces | |
Binions | Thermochromic Thin Films and Nanocomposites for Smart Glazing |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200520 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6997168 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |