JP6993370B2 - Cultivation equipment and cultivation method - Google Patents

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Description

この発明は、栽培装置および栽培方法に関する。 The present invention relates to a cultivation apparatus and a cultivation method.

従来より、植物の栽培方法として水耕栽培が知られている。このような栽培方法として、たとえば特許文献１（特開平３－１０８４２３号公報）、特許文献２（特開平１０－１１７６１６号公報）および特許文献３（特開２０１６－１７８８８７号公報）などが知られている。 Conventionally, hydroponics has been known as a method for cultivating plants. As such a cultivation method, for example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 3-108423), Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 10-117616) and Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2016-178887) are known. ing.

特許文献１の水耕栽培管理システムには、植物の育成成長の過程に応じて、一定時間一定量の培養液を供給したり、培養液の水位を零に調節することが開示されている。また、特許文献２の水耕栽培方法には、養液供給、養液排出および日照経過のサイクルを繰り返して行い、予め設定した積算日照量に応じた期間経過後に養液供給を行うことが開示されている。特許文献３の水耕栽培装置には、植物の根の全長の１０％以上３０％以下の範囲を空気にさらされるようにし、根の先端を常に培養液に浸漬させるように水位を調節する方法が開示されている。 The hydroponic cultivation management system of Patent Document 1 discloses that a constant amount of a culture solution is supplied for a certain period of time or the water level of the culture solution is adjusted to zero according to the process of growing and growing a plant. Further, in the hydroponic cultivation method of Patent Document 2, it is disclosed that the cycle of nutrient solution supply, nutrient solution discharge and sunshine progress is repeated, and the nutrient solution is supplied after a period corresponding to a preset cumulative amount of sunshine elapses. Has been done. In the hydroponic cultivation apparatus of Patent Document 3, a method of adjusting the water level so that the range of 10% or more and 30% or less of the total length of the root of a plant is exposed to air and the tip of the root is always immersed in the culture solution. Is disclosed.

特開平３－１０８４２３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-108423 特開平１０－１１７６１６号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-117616 特開２０１６－１７８８８７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-178887

特許文献１，２では、培養液の水位の管理システムや養液供給サイクルを調節する条件が曖昧であり、植物の状態に合わせた管理を行うことができない。さらに、特許文献３では、植物の根の先端が常に培養液に浸漬された状態であるため、根腐れが起こり、植物の生育を妨げるおそれがある。 In Patent Documents 1 and 2, the control system for the water level of the culture solution and the conditions for adjusting the nutrient solution supply cycle are ambiguous, and it is not possible to perform management according to the state of the plant. Further, in Patent Document 3, since the tip of the root of the plant is always immersed in the culture solution, root rot may occur and the growth of the plant may be hindered.

この課題を解決するため、本発明は、着生植物の状態に合わせた管理を行うことで、着生植物の生育を促進することが可能な栽培装置および栽培方法を提供することを目的とする。 In order to solve this problem, it is an object of the present invention to provide a cultivation device and a cultivation method capable of promoting the growth of epiphytes by performing management according to the state of epiphytes. ..

本発明に係る栽培装置は、着生植物の栽培に用いられる。栽培装置は、底面を有する水受けと、水受けに水を供給する給水路と、給水路を開閉する給水弁と、水受けに溜まった水を排水する排水路と、排水路を開閉する排水弁と、着生植物を収容し底部に水を通す穴を有する収容容器を、水受けの底面から上方に浮かせた状態で支持する高位置支持手段とを備える。 The cultivation apparatus according to the present invention is used for cultivation of epiphytes. The cultivation equipment consists of a water receiver with a bottom surface, a water supply channel that supplies water to the water receiver, a water supply valve that opens and closes the water supply channel, a drainage channel that drains the water accumulated in the water receiver, and drainage that opens and closes the drainage channel. It is provided with a valve and a high-position support means for supporting a storage container having a hole for accommodating a settled plant and allowing water to pass through the bottom while floating upward from the bottom surface of the water receiver.

好ましくは、水受けは、底面を取り囲む立壁をさらに有し、立壁の高さは、高位置支持手段に支持された収容容器の底部よりも高い。 Preferably, the water receiver further has a standing wall surrounding the bottom surface, the height of the standing wall being higher than the bottom of the containment vessel supported by the high position support means.

好ましくは、高位置支持手段は、水受けの底面に設けられ、水受けの底面から上方に突出する突出部である。 Preferably, the high position support means is a protrusion provided on the bottom surface of the water receiver and projecting upward from the bottom surface of the water receiver.

好ましくは、着生植物の培地の含水率を測定するセンサと、センサで測定された含水率に応じて給水弁の開閉を制御する給水弁制御部と、センサで測定された含水率に応じて排水弁の開閉を制御する排水弁制御部とを備える。 Preferably, a sensor for measuring the water content of the medium of the settled plant, a water supply valve control unit for controlling the opening and closing of the water supply valve according to the water content measured by the sensor, and a water content measured by the sensor. It is equipped with a drain valve control unit that controls the opening and closing of the drain valve.

好ましくは、着生植物の上方に位置し、着生植物に向けて光を照射する照明器具をさらに備える。 Preferably, it is further provided with a luminaire located above the epiphyte and irradiating the epiphyte with light.

本発明に係る栽培方法は、着生植物の栽培方法において、水受けの底面から浮かせた状態で着生植物を支持する工程と、着生植物を収容する収容容器内の培地の含水率をセンサで測定する工程と、センサで測定された含水率に応じて、給水路から水を水受けに供給し、水受けに溜まった水の液面高さが収容容器の底部よりも上方にくるように給水する工程と、センサで測定された含水率に応じて、水受けに溜まった水を排水路へ排水し、水受けに溜まった水の液面高さが収容容器の底部よりも下方、かつ、水受けの底面よりも上方に維持されるように、水受けに溜まった水を排水する工程とを備える。 The cultivation method according to the present invention is a method for cultivating a settling plant, in which a step of supporting the settling plant while floating from the bottom surface of a water receiver and a sensor for the water content of the medium in a container containing the settled plant are detected. According to the process measured by and the water content measured by the sensor, water is supplied to the water receiver from the water supply channel so that the water level height of the water collected in the water receiver is above the bottom of the storage container. Depending on the process of supplying water to the water and the water content measured by the sensor, the water collected in the water receiver is drained to the drainage channel, and the water level level of the water collected in the water receiver is below the bottom of the storage container. Moreover, it is provided with a step of draining the water accumulated in the water receiver so that the water is maintained above the bottom surface of the water receiver.

好ましくは、センサで測定された含水率が所定の下限閾値を検出したことに応じて給水弁を開放する給水弁開放工程と、センサで測定された含水率が所定の上限閾値を検出したことに応じて排水弁を開放する排水弁開放工程とをさらに備える。 Preferably, the water supply valve opening step of opening the water supply valve according to the water content measured by the sensor detecting a predetermined lower threshold value and the water content measured by the sensor detecting a predetermined upper limit threshold value. A drain valve opening step of opening the drain valve accordingly is further provided.

本発明の栽培装置および栽培方法によれば、着生植物の状態に合わせた管理を行うことで、着生植物の生育を促進することができる。 According to the cultivation apparatus and cultivation method of the present invention, the growth of epiphytes can be promoted by performing management according to the state of epiphytes.

本実施の形態に係る栽培装置の模式図である。It is a schematic diagram of the cultivation apparatus which concerns on this embodiment. 本実施の形態における水受けを示す図であって、（ａ）は斜視図であり、（ｂ）は水受けの内部にトレイを配置した斜視図である。It is a figure which shows the water receiver in this embodiment, (a) is a perspective view, and (b) is a perspective view which arranged the tray inside the water receiver. トレイを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the tray. 着生植物を収容したポットを示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the pot which contained the epiphyte. 本実施の形態に係る栽培装置の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of the cultivation apparatus which concerns on this embodiment. 本実施の形態に係る栽培装置の栽培方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the cultivation method of the cultivation apparatus which concerns on this embodiment. 水受け内における給水および排水時の水の水位を示す説明図であり、（ａ）は第１水位を示し、（ｂ）は第２水位を示し、（ｃ）は全排水した場合を示す。It is explanatory drawing which shows the water level at the time of water supply and drainage in a water receiver, (a) shows the 1st water level, (b) shows the 2nd water level, and (c) shows the case of total drainage. 本実施の形態における培地の含水率を日毎に示すグラフである。It is a graph which shows the water content of the culture medium in this embodiment day by day. 各照明条件における分光分布図であり、（ａ）は照明条件Ａを示し、（ｂ）は照明条件Ｂを示し、（ｃ）は照明条件Ｃを示し、（ｄ）は照明条件Ｄを示し、（ｅ）は照明条件Ｅを示す。It is a spectral distribution map under each lighting condition, (a) shows lighting condition A, (b) shows lighting condition B, (c) shows lighting condition C, (d) shows lighting condition D, (E) indicates the lighting condition E. 胡蝶蘭を各照明条件で栽培した場合の開花率を比較したグラフであり、（ａ）は色温度における開花率を比較したグラフであり、（ｂ）は平均ＰＰＦＤ値における開花率を比較したグラフである。It is a graph comparing the flowering rate when the butterfly orchid is cultivated under each lighting condition, (a) is a graph comparing the flowering rate at the color temperature, and (b) is a graph comparing the flowering rate at the average PPFD value. Is.

本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。 Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The same or corresponding parts in the drawings are designated by the same reference numerals and the description thereof will not be repeated.

（栽培装置について）
図１を参照して、本発明の実施の形態に係る栽培装置１について説明する。図１は、栽培装置１の模式図である。 (About cultivation equipment)
The cultivation apparatus 1 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram of the cultivation device 1.

本実施の形態に係る栽培装置１は、着生植物４の栽培に用いられる。着生植物４は、たとえばラン科、パイナップル（アナナス）科、ユリ科などの植物である。本実施の形態では、着生植物４として、胡蝶蘭および背丈の低いミニ胡蝶蘭が用いられる。栽培装置１は建物内に設置され、たとえばビニールハウスやプラスチックハウスのような温室や、植物工場などに設置される。この場合、温室は、太陽光が通過しない素材により形成されていてもよいし、太陽光を屋内に取り込む素材により形成されていてもよい。 The cultivation device 1 according to the present embodiment is used for cultivation of epiphytes 4. The epiphyte 4 is, for example, a plant of the family Orchidaceae, Bromeliaceae, Liliaceae and the like. In this embodiment, Phalaenopsis orchid and short mini Phalaenopsis orchid are used as the epiphyte 4. The cultivation device 1 is installed in a building, for example, in a greenhouse such as a vinyl house or a plastic house, or in a plant factory. In this case, the greenhouse may be formed of a material that does not allow sunlight to pass through, or may be formed of a material that takes in sunlight indoors.

本実施の形態に係る栽培装置１は、着生植物４の底面から水を染み込ませる底面灌水方式を採用する。栽培装置１は、概略的には、栽培棚７０と、栽培棚７０に配置される水受け１０と、水受け１０の内部に配置され、着生植物４を収容する収容容器４０とを備える。 The cultivation device 1 according to the present embodiment employs a bottom irrigation method in which water is impregnated from the bottom surface of the epiphyte 4. The cultivation device 1 generally includes a cultivation shelf 70, a water receiver 10 arranged on the cultivation shelf 70, and a storage container 40 arranged inside the water receiver 10 and accommodating the epiphyte 4.

栽培棚７０は、たとえば複数の柱７２と、複数の柱７２に掛け渡される棚７１と、複数の柱７２の上端を連結する上枠７３とを含む。棚７１の上には、水受け１０が配置されている。上枠７３には、着生植物４に向けて光を照射する照明器具６０が取付けられる。照明器具６０の光源は、たとえばＬＥＤ、蛍光灯、電球などが挙げられるが、ＬＥＤを用いることが好ましい。照明器具６０は、植物の生長に合わせて照射する光の波長を限定してもよく、照明条件などの詳細については後述する。なお、照明器具６０は、上枠７３に取付けられることに限定されず、単に着生植物４の上方に位置していればよい。 The cultivation shelf 70 includes, for example, a plurality of pillars 72, a shelf 71 spanned over the plurality of pillars 72, and an upper frame 73 connecting the upper ends of the plurality of pillars 72. A water receiver 10 is arranged on the shelf 71. A lighting fixture 60 that irradiates light toward the epiphyte 4 is attached to the upper frame 73. Examples of the light source of the lighting fixture 60 include LEDs, fluorescent lamps, and light bulbs, but it is preferable to use LEDs. The lighting fixture 60 may limit the wavelength of light to be irradiated according to the growth of the plant, and details such as lighting conditions will be described later. The lighting fixture 60 is not limited to being attached to the upper frame 73, and may be simply located above the epiphyte 4.

図２（ａ）を参照して、水受け１０は、上方が開口する箱型形状である。水受け１０は、着生植物４の生育に必要な水を溜めるために用いられる。水受け１０は、底面１１と、底面１１を取り囲む立壁１２とを有する。底面１１は、長方形形状である。立壁１２は、底面１１の外周縁から上方に向かって略垂直に立ち上がる。底面１１の長手方向端部には、好ましくは１つ以上の排水口３２が設けられる。また、水受け１０の材料は、特に限定されず、樹脂、ガラス、ステンレス材などから任意の材料が選択される。なお、本実施の形態において、水受け１０の底面１１の形状は、長方形形状であるとしたが、これに限られず、たとえば円形や正方形などであってもよい。 With reference to FIG. 2A, the water receiver 10 has a box shape with an upper opening. The water receiver 10 is used to store the water necessary for the growth of the epiphyte 4. The water receiver 10 has a bottom surface 11 and a standing wall 12 surrounding the bottom surface 11. The bottom surface 11 has a rectangular shape. The standing wall 12 rises substantially vertically upward from the outer peripheral edge of the bottom surface 11. At the longitudinal end of the bottom surface 11, preferably one or more drainage ports 32 are provided. The material of the water receiver 10 is not particularly limited, and any material can be selected from resin, glass, stainless steel and the like. In the present embodiment, the shape of the bottom surface 11 of the water receiver 10 is not limited to a rectangular shape, but may be, for example, a circle or a square.

水受け１０の底面１１上には、水受け１０の底面１１から上方に突出する突出部５０が設けられている。突出部５０は、着生植物４を水受け１０の底面１１から上方に浮かせた状態で支持する高位置支持手段の役割を果たす。突出部５０は、たとえば線状に設けられ、水受け１０の底面１１の長手方向に沿った両側に平行に延在している。突出部５０の高さは、立壁１２の高さの半分以下、好ましくは１／４以下であることが好ましい。突出部５０の横幅は、底面１１の横幅の１／５程度であることが好ましい。これにより、収容容器４０を安定して配置することができる。なお、突出部５０は、線状に設けられるのではなく、高さが同一で島状に点在する複数の突起であってもよい。 On the bottom surface 11 of the water receiver 10, a projecting portion 50 projecting upward from the bottom surface 11 of the water receiver 10 is provided. The protrusion 50 serves as a high-position support means for supporting the epiphyte 4 in a state of floating upward from the bottom surface 11 of the water receiver 10. The protrusion 50 is provided, for example, in a linear shape, and extends parallel to both sides of the bottom surface 11 of the water receiver 10 along the longitudinal direction. The height of the protrusion 50 is preferably half or less, preferably 1/4 or less of the height of the standing wall 12. The width of the protrusion 50 is preferably about 1/5 of the width of the bottom surface 11. As a result, the storage container 40 can be stably arranged. The protrusions 50 are not provided in a linear shape, but may be a plurality of protrusions having the same height and scattered in an island shape.

水受け１０の底面１１のうち、突出部５０は上げ底部であり、突出部５０以外の部分は溝部である。この溝部には、収容容器４０を突出部５０上に配置した場合でも水を溜めることができる。 Of the bottom surface 11 of the water receiver 10, the protruding portion 50 is a raised bottom portion, and the portion other than the protruding portion 50 is a groove portion. Water can be stored in this groove even when the storage container 40 is arranged on the protrusion 50.

本実施の形態に係る栽培装置１は、突出部５０を備え、水の液面高さを突出部５０の高さ以下とすることにより、着生植物４を収容する収容容器４０と水とが接しない状態で水受け１０内に水を溜めることができる。これにより、屋内において着生植物４の生長に最適な湿度環境を保つことができる。また、給水時以外は根が水に浸漬されないため、根腐れを防ぐことができ、着生植物４の生育を促進することができる。このような生育環境のため、生産性および歩留まりを向上することができる。 The cultivation device 1 according to the present embodiment is provided with a protrusion 50, and by setting the liquid level height of water to be equal to or lower than the height of the protrusion 50, the storage container 40 for accommodating the epiphyte 4 and the water can be separated from each other. Water can be stored in the water receiver 10 in a state where it is not in contact with the water receiver 10. As a result, the optimum humidity environment for the growth of the epiphyte 4 can be maintained indoors. In addition, since the roots are not immersed in water except when water is supplied, root rot can be prevented and the growth of the epiphyte 4 can be promoted. Due to such a growing environment, productivity and yield can be improved.

上述のように、水受け１０の突出部５０上には収容容器４０が配置される。以下、収容容器４０について説明する。収容容器４０は、トレイ４１とポット４３とを含む。図２（ｂ）に示すように、トレイ４１は、水受け１０内に収容される。図３は、トレイ４１を示す斜視図である。図３に示すように、トレイ４１は、育苗用のトレイであり、たとえばプラスチックなどで形成される。トレイ４１は、下述するポット４３を収容する凹部４６を複数有する。凹部４６は、底部４２に水を通す穴を有する。トレイ４１は、市販のものを用いることができる。 As described above, the storage container 40 is arranged on the protruding portion 50 of the water receiver 10. Hereinafter, the storage container 40 will be described. The storage container 40 includes a tray 41 and a pot 43. As shown in FIG. 2B, the tray 41 is housed in the water receiver 10. FIG. 3 is a perspective view showing the tray 41. As shown in FIG. 3, the tray 41 is a tray for raising seedlings, and is made of, for example, plastic. The tray 41 has a plurality of recesses 46 for accommodating the pot 43 described below. The recess 46 has a hole in the bottom 42 for allowing water to pass through. As the tray 41, a commercially available one can be used.

また、水受け１０の突出部５０上にトレイ４１を配置した場合、上述した水受け１０の立壁１２の高さは、突出部５０に支持されたトレイ４１の底部４２よりも高い。このため、トレイ４１の底部４２よりも高い位置まで水を溜めることができるため、着生植物４の生長に十分な量の水を確実に与えることができる。 Further, when the tray 41 is arranged on the protrusion 50 of the water receiver 10, the height of the vertical wall 12 of the water receiver 10 described above is higher than the bottom 42 of the tray 41 supported by the protrusion 50. Therefore, since water can be stored up to a position higher than the bottom 42 of the tray 41, a sufficient amount of water can be reliably supplied to the growth of the epiphyte 4.

図３のトレイ４１の凹部４６には、ポット４３が収容される。図４を参照して、ポット４３は、着生植物４および培地４５を収容する。ポット４３は、苗ポットであり、たとえばプラスチックなどで形成される。ポット４３は、底部４４に水を通す穴を有する。培地４５は、典型的には水苔であるが、人工培土やスポンジなどでもよい。なお、本実施の形態では、トレイ４１とポット４３を別の部材としたが、ポット４３を用いずに、トレイ４１に着生植物４と培地４５を直接収容してもよい。 The pot 43 is housed in the recess 46 of the tray 41 of FIG. With reference to FIG. 4, the pot 43 houses the epiphyte 4 and the medium 45. The pot 43 is a seedling pot and is made of, for example, plastic. The pot 43 has a hole in the bottom 44 for allowing water to pass through. The medium 45 is typically sphagnum moss, but may be artificial soil or sponge. In the present embodiment, the tray 41 and the pot 43 are separate members, but the epiphyte 4 and the medium 45 may be directly accommodated in the tray 41 without using the pot 43.

本実施の形態におけるトレイ４１の底部４２およびポット４３の底部４４は、穴を有する。そのため、ポット４３を収容したトレイ４１を水受け１０に配置した場合、給水により水受け１０に水が溜まって水の液面高さが上昇すると、底面灌水方式により底部４２，４４の穴から培地４５に水が浸透し、着生植物４に水が供給される。これにより、各ポット４３に収容された着生植物４に均等に水を供給することができる。 The bottom 42 of the tray 41 and the bottom 44 of the pot 43 in this embodiment have holes. Therefore, when the tray 41 accommodating the pot 43 is arranged in the water receiver 10, when water is accumulated in the water receiver 10 due to water supply and the liquid level height of the water rises, the medium is formed from the holes in the bottoms 42 and 44 by the bottom irrigation method. Water permeates 45, and water is supplied to the settling plant 4. As a result, water can be evenly supplied to the epiphytes 4 housed in each pot 43.

培地４５には、培地４５の含水率を測定するセンサ８０が挿入される。センサ８０は、たとえば土壌水分計（株式会社セラク社製、みどりボックスに付属の土壌水分センサ）およびｐＦメータ（大起理化工業株式会社製、ＤＩＫ－８３４３）などの市販の製品である。センサ８０は、ポット４３に収容された培地４５の上から２～３ｃｍの位置まで挿入される。センサ８０は、トレイ４１に収容された複数のポット４３のうち、選択された代表株の培地４５に挿入される。なお、培地４５の含水率の計測とともに、気温・湿度センサ、照度センサ、温度センサなどを用いて温室内の温度、湿度、照度などを計測してもよい。 A sensor 80 for measuring the water content of the medium 45 is inserted into the medium 45. The sensor 80 is a commercially available product such as a soil moisture meter (manufactured by SERAKU Co., Ltd., a soil moisture sensor attached to a green box) and a pF meter (manufactured by Daiki Rika Kogyo Co., Ltd., DIK-8343). The sensor 80 is inserted up to a position 2 to 3 cm above the medium 45 contained in the pot 43. The sensor 80 is inserted into the medium 45 of the representative strain selected from the plurality of pots 43 contained in the tray 41. In addition to measuring the water content of the medium 45, the temperature, humidity, illuminance, etc. in the greenhouse may be measured using a temperature / humidity sensor, an illuminance sensor, a temperature sensor, or the like.

図１を参照して、着生植物４が収容された水受け１０には水が供給され、排水される。具体的には、栽培装置１は、水受け１０に水を供給する給水路２０と、給水路２０を開閉する給水弁２１と、水受け１０に溜まった水を排水する排水路３０と、排水路３０を開閉する排水弁３１とを備える。 With reference to FIG. 1, water is supplied to the water receiver 10 in which the epiphyte 4 is housed and drained. Specifically, the cultivation device 1 includes a water supply channel 20 for supplying water to the water receiver 10, a water supply valve 21 for opening and closing the water supply channel 20, a drainage channel 30 for draining the water collected in the water receiver 10, and drainage. It is provided with a drain valve 31 that opens and closes the road 30.

給水路２０は、水が通る管であり、その先端に給水口２２を有する。給水口２２は、水受け１０の上方に配置される。この場合、給水口２２は、給水時に着生植物４に直接かからず、水受け１０内に水を給水できる位置に設けられることが好ましい。また、給水口２２は、水受け１０の長手方向の一方端部に設けられる。また、給水口２２から給水される水は、典型的には汲み置きタンクまたは上水道から供給される水、井戸水などであるが、着生植物４の生長に必要な養分を含んだ培養液であってもよい。 The water supply channel 20 is a pipe through which water passes, and has a water supply port 22 at its tip. The water supply port 22 is arranged above the water receiver 10. In this case, it is preferable that the water supply port 22 is provided at a position where water can be supplied to the water receiver 10 without directly touching the epiphyte 4 at the time of water supply. Further, the water supply port 22 is provided at one end of the water receiver 10 in the longitudinal direction. The water supplied from the water supply port 22 is typically water supplied from a pumping tank or a water supply, well water, or the like, but is a culture solution containing nutrients necessary for the growth of epiphytes 4. You may.

給水弁２１は、給水路２０から水受け１０へ供給される水の給水量を調節するものであり、たとえばバルブである。給水弁２１を開けることで、給水路２０の水を、水受け１０へ供給し、給水弁２１を閉めることで、水の供給を停止する。 The water supply valve 21 adjusts the amount of water supplied from the water supply channel 20 to the water receiver 10, and is, for example, a valve. By opening the water supply valve 21, the water in the water supply channel 20 is supplied to the water receiver 10, and by closing the water supply valve 21, the water supply is stopped.

排水路３０は、水が通る管であり、その先端に排水口３２を有する。排水口３２は、水受け１０の底面１１に配置される。この場合、排水口３２は、水受け１０の底面１１に１つ以上設けられることが好ましい。排水口３２は、水受け１０の長手方向の他方端部に設けられる。これにより、給水口２２と排水口３２は、水受け１０の両端部に位置するため、効率よく水を供給することができる。なお、排水路３０へ排出される水は、衛生面を向上する観点から再利用せずに廃棄される。 The drainage channel 30 is a pipe through which water passes, and has a drainage port 32 at its tip. The drain port 32 is arranged on the bottom surface 11 of the water receiver 10. In this case, it is preferable that one or more drainage ports 32 are provided on the bottom surface 11 of the water receiver 10. The drain port 32 is provided at the other end of the water receiver 10 in the longitudinal direction. As a result, since the water supply port 22 and the drainage port 32 are located at both ends of the water receiver 10, water can be efficiently supplied. The water discharged to the drainage channel 30 is discarded without being reused from the viewpoint of improving hygiene.

給水口２２を水受け１０の長手方向の一方端部に設け、排水口３２を水受け１０の長手方向の一方端部に設けてもよい。具体的には、水受け１０の長手方向の片側に給水口２２と排水口３２を上下方向に整列するよう設けてもよい。これにより、給水口２２と排水口３２は、水受け１０の長手方向の一方端部側に集約されるため、すっきりとした外観となる。また、水受け１０の長手方向の他方端部側の空間に余裕が生じるため、作業を容易かつ効率的に行うことができる。 The water supply port 22 may be provided at one end in the longitudinal direction of the water receiver 10, and the drain port 32 may be provided at one end in the longitudinal direction of the water receiver 10. Specifically, the water supply port 22 and the drainage port 32 may be provided so as to be aligned in the vertical direction on one side of the water receiver 10 in the longitudinal direction. As a result, the water supply port 22 and the drainage port 32 are concentrated on one end side in the longitudinal direction of the water receiver 10, so that the appearance is neat. In addition, since there is a margin in the space on the other end side of the water receiver 10 in the longitudinal direction, the work can be performed easily and efficiently.

排水弁３１は、水受け１０から排出される水の排水量を調節するものであり、たとえばバルブである。排水弁３１を開けることで、水受け１０に溜まった水を排水路３０へ排出し、排水弁３１を閉めることで、水の排出を停止する。 The drain valve 31 regulates the amount of drainage of water discharged from the water receiver 10, and is, for example, a valve. By opening the drain valve 31, the water accumulated in the water receiver 10 is discharged to the drainage channel 30, and by closing the drain valve 31, the drainage of water is stopped.

給水弁２１および排水弁３１の開閉は、自動で行うことが可能である。この場合、栽培装置１は、センサ８０で測定された含水率に応じて給水弁２１の開閉を制御する給水弁制御部と、センサ８０で測定された含水率に応じて排水弁３１の開閉を制御する排水弁制御部とを備える。 The water supply valve 21 and the drain valve 31 can be opened and closed automatically. In this case, the cultivation device 1 opens and closes the water supply valve control unit that controls the opening and closing of the water supply valve 21 according to the water content measured by the sensor 80, and the drain valve 31 according to the water content measured by the sensor 80. It is equipped with a drain valve control unit to control.

給水弁制御部は、培地４５が乾燥した場合に給水する。具体的には、給水弁制御部は、センサ８０で測定された含水率が所定の下限閾値以下である場合に、給水弁２１を開放する。含水率の下限閾値は、５～１５％であり、好ましくは１０％である。給水弁２１が開放されると、給水路２０から水受け１０に水が供給される。給水弁２１が閉鎖されると、給水路２０から水受け１０への水の供給が停止される。 The water supply valve control unit supplies water when the medium 45 is dry. Specifically, the water supply valve control unit opens the water supply valve 21 when the water content measured by the sensor 80 is equal to or less than a predetermined lower limit threshold value. The lower threshold of the water content is 5 to 15%, preferably 10%. When the water supply valve 21 is opened, water is supplied from the water supply channel 20 to the water receiver 10. When the water supply valve 21 is closed, the supply of water from the water supply channel 20 to the water receiver 10 is stopped.

排水弁制御部は、培地４５が十分に水分を含んだ場合に排水する。具体的には、排水弁制御部は、センサ８０で測定された含水率が所定の上限閾値以下である場合に、排水弁３１を開放する。含水率の上限閾値は、２５～４５％であり、好ましくは２５％である。排水弁３１が開放されると、水受け１０に溜まった水は排水路３０へ排水される。排水弁３１が閉鎖されると、水受け１０から排水路３０への排水は停止し、水受け１０に水を溜めることができる。 The drain valve control unit drains the medium 45 when it contains sufficient water. Specifically, the drain valve control unit opens the drain valve 31 when the water content measured by the sensor 80 is equal to or less than a predetermined upper limit threshold value. The upper threshold of the water content is 25 to 45%, preferably 25%. When the drain valve 31 is opened, the water collected in the water receiver 10 is drained to the drainage channel 30. When the drain valve 31 is closed, drainage from the water receiver 10 to the drainage channel 30 is stopped, and water can be stored in the water receiver 10.

本実施の形態に係る栽培装置１は、給水弁制御部と排水弁制御部を用いることで、自動で着生植物４の状態に合わせた管理を行うことができ、水の与えすぎによる根腐れを防ぎ、着生植物４の生育を促進することができる。 The cultivation device 1 according to the present embodiment can automatically manage the epiphyte 4 according to the state of the epiphyte by using the water supply valve control unit and the drainage valve control unit, and root rot due to excessive water supply. It is possible to prevent the growth of the epiphyte 4 and promote the growth of the epiphyte 4.

（変形例について）
図５は、複数の棚７１を備えた栽培装置１００の模式図である。本実施の形態では、栽培棚７０として棚７１を１段備えるタイプを用いたが、棚７１を複数段備える栽培棚７００を用いてもよい。図５に示すように、栽培装置１００は、複数の柱７２と、複数の柱７２に固定され、上下方向に間隔をあけて設けられる２つの棚７１とを含む。棚７１は、２段設けられることとしたが、３段以上の棚７１を設けてもよく、棚７１の数が増えても仕組みは同様である。これにより、面積あたりの栽培効率を向上させることができる。 (About modification)
FIG. 5 is a schematic diagram of a cultivation device 100 provided with a plurality of shelves 71. In this embodiment, a type having one shelf 71 is used as the cultivation shelf 70, but a cultivation shelf 700 having a plurality of shelves 71 may be used. As shown in FIG. 5, the cultivation device 100 includes a plurality of pillars 72 and two shelves 71 fixed to the plurality of pillars 72 and provided at intervals in the vertical direction. Although it is decided that the shelves 71 are provided in two stages, the shelves 71 having three or more stages may be provided, and the mechanism is the same even if the number of shelves 71 increases. This makes it possible to improve the cultivation efficiency per area.

棚７１の上下方向の間隔は、着生植物４の種によって適宜調節する。たとえばミニ胡蝶蘭の場合、ミニ胡蝶蘭の背丈は２０ｃｍ程度であるため、棚７１を設ける間隔はたとえば３０ｃｍである。このように、栽培装置１００は、特に背丈の低い着生植物４に対して好適に用いることができる。 The vertical spacing of the shelves 71 is appropriately adjusted depending on the species of the epiphyte 4. For example, in the case of a mini Phalaenopsis orchid, the height of the mini Phalaenopsis orchid is about 20 cm, so the interval at which the shelves 71 are provided is, for example, 30 cm. As described above, the cultivation device 100 can be suitably used for the epiphyte 4 having a particularly short stature.

多段式の栽培装置１００の場合、給水路２０の給水口２２は、それぞれの棚７１に設けられた水受け１０の上方に配置される。また、排水路３０の排水口３２は、それぞれの棚７１に設けられた水受け１０の底面１１に配置される。すなわち、給水路２０は、それぞれの水受け１０に水を供給し、排水路３０は、それぞれの水受け１０に溜まった水を排水する。この場合、給水弁２１および排水弁３１は、水受け１０ごとに調節できるような位置に設けられてもよいし、栽培棚７００に設けられた全ての水受け１０の給水および排水を一括制御可能な位置に設けられてもよい。 In the case of the multi-stage cultivation device 100, the water supply port 22 of the water supply channel 20 is arranged above the water receiver 10 provided on each shelf 71. Further, the drainage port 32 of the drainage channel 30 is arranged on the bottom surface 11 of the water receiver 10 provided on each shelf 71. That is, the water supply channel 20 supplies water to each water receiver 10, and the drainage channel 30 drains the water accumulated in each water receiver 10. In this case, the water supply valve 21 and the drain valve 31 may be provided at positions that can be adjusted for each water receiver 10, and the water supply and drainage of all the water receivers 10 provided on the cultivation shelf 700 can be collectively controlled. It may be provided at various positions.

さらに、多段式の栽培装置１００の場合、照明器具６０は、上枠７３だけでなく、着生植物４の上方に位置する棚７１の下面にも取り付けられる。これにより、着生植物４に向けて光を照射することができ、複数の棚７１を備える場合であっても、下方に位置する着生植物４の生長に必要な光源を確保することができる。 Further, in the case of the multi-stage cultivation device 100, the lighting fixture 60 is attached not only to the upper frame 73 but also to the lower surface of the shelf 71 located above the settling plant 4. As a result, it is possible to irradiate the epiphyte 4 with light, and even when a plurality of shelves 71 are provided, it is possible to secure a light source necessary for the growth of the epiphyte 4 located below. ..

温室内にて照明器具６０を用いた栽培をする場合、照明器具６０からの発熱により、室温が必要以上に上昇する。この場合、冷房装置を用いて屋内を冷やす必要がある。冷房装置を使用すると、その除湿作用により屋内の湿度が低下するため、ミニ胡蝶蘭などの着生植物４の生育に悪影響を及ぼす。本実施の形態の栽培装置１は、給水時以外でも水受け１０の突出部５０の高さ以下の液面高さまで水を溜めることができる。そのため、冷房装置を使用しても温室内の湿度を保つことができ、着生植物４の生育環境を良好に保つことができる。 When cultivating using the lighting fixture 60 in a greenhouse, the room temperature rises more than necessary due to the heat generated from the lighting fixture 60. In this case, it is necessary to cool the room using a cooling device. When a cooling device is used, the indoor humidity is lowered due to its dehumidifying action, which adversely affects the growth of epiphytes 4 such as mini Phalaenopsis orchids. The cultivation device 1 of the present embodiment can store water up to a liquid level height equal to or lower than the height of the protrusion 50 of the water receiver 10 even when the water is not supplied. Therefore, even if the cooling device is used, the humidity in the greenhouse can be maintained, and the growing environment of the epiphyte 4 can be kept good.

（栽培方法について）
次に、図６，７を参照して、栽培装置１を用いた着生植物４の栽培方法について説明する。図６は、本実施の形態に係る栽培装置１の栽培方法を示すフローチャートであり、図７は、本実施の形態における給水および排水時の水の水位を示す説明図であり、（ａ）は第１水位を示し、（ｂ）は第２水位を示し、（ｃ）は全排水した場合を示している。以下の栽培方法は、手動で行われる。 (About cultivation method)
Next, a method of cultivating the epiphyte 4 using the cultivation device 1 will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a flowchart showing a cultivation method of the cultivation apparatus 1 according to the present embodiment, FIG. 7 is an explanatory diagram showing a water level at the time of water supply and drainage in the present embodiment, and FIG. 7A is an explanatory diagram. The first water level is shown, (b) shows the second water level, and (c) shows the case of total drainage. The following cultivation methods are performed manually.

まず、着生植物４を収容したトレイ４１を、水受け１０の底面１１から浮かせた状態で支持するように突出部５０に設置する（ステップＳ（以下「Ｓ」と略す）１）。具体的には、ポット４３をトレイ４１の凹部４６に収容し、トレイ４１を水受け１０の突出部５０上に置く。トレイ４１に収容されたポット４３内の培地４５にセンサ８０を挿入し、培地４５の含水率を測定する。培地４５の含水率が所定の下限閾値、すなわち１０％以下の場合（Ｓ２）、給水弁２１を開放し、給水を開始する（Ｓ４）。なお、トレイ４１を設置した直後は、水受け１０の水を全て排水する工程（Ｓ３）は、省略可能とする。 First, the tray 41 containing the epiphytes 4 is installed on the protruding portion 50 so as to be floated from the bottom surface 11 of the water receiver 10 (step S (hereinafter abbreviated as “S”) 1). Specifically, the pot 43 is housed in the recess 46 of the tray 41, and the tray 41 is placed on the protruding portion 50 of the water receiver 10. The sensor 80 is inserted into the medium 45 in the pot 43 housed in the tray 41, and the water content of the medium 45 is measured. When the water content of the medium 45 is a predetermined lower limit, that is, 10% or less (S2), the water supply valve 21 is opened and water supply is started (S4). Immediately after installing the tray 41, the step (S3) of draining all the water from the water receiver 10 can be omitted.

給水開始後、図７（ａ）に示す第１水位Ｄ１の位置まで水位が上昇したか否かを判断する（Ｓ５）。この場合、第１水位Ｄ１の高さは、ポット４３の高さの約７分目程度であるが、培地４５に水が浸透する程度であればよい。第１水位Ｄ１の測定は、典型的には人による水位の目視で行われるが、たとえば水受け１０内の水位をフロートセンサで測定、水受け１０内の水量を重量センサで測定、給水路２０からの給水量を流量計で測定、給水時間をタイマで制御、など種々の方法で行われる。第１水位Ｄ１に満たない場合（Ｓ５にてＮＯ）、給水を継続する。給水した水が第１水位Ｄ１に到達した場合（Ｓ５にてＹＥＳ）、給水を停止する（Ｓ６）。数分から数時間、水を第１水位Ｄ１まで溜めた状態で放置し、培地４５に水を浸透させる。 After the start of water supply, it is determined whether or not the water level has risen to the position of the first water level D1 shown in FIG. 7 (a) (S5). In this case, the height of the first water level D1 is about 7 minutes from the height of the pot 43, but it may be such that water permeates the medium 45. The measurement of the first water level D1 is typically performed by visual inspection of the water level by a person. For example, the water level in the water receiver 10 is measured by a float sensor, the amount of water in the water receiver 10 is measured by a weight sensor, and the water supply channel 20 is measured. The amount of water supplied from the water is measured by a flow meter, the water supply time is controlled by a timer, and so on. If the first water level is less than D1 (NO in S5), water supply is continued. When the supplied water reaches the first water level D1 (YES in S5), the water supply is stopped (S6). The water is left in a state of being stored up to the first water level D1 for several minutes to several hours, and the medium 45 is infiltrated with water.

数分から数時間放置した後、センサ８０で培地４５の含水率を測定する。培地４５の含水率が所定の上限閾値、すなわち２５％以上の場合（Ｓ７）、排水弁３１を開放し、排水を開始する（Ｓ８）。排水開始後、図７（ｂ）に示す第２水位Ｄ２の位置まで水位が低下したか否かを判断する（Ｓ９）。第２水位Ｄ２の高さは、トレイ４１の底部４２よりも下方かつ水受け１０の底面１１よりも上方である。つまり、第２水位Ｄ２の高さは、培地４５と水とが接しない高さである。第２水位Ｄ２よりも高い水位の場合（Ｓ９にてＮＯ）、排水は継続する。第２水位Ｄ２まで水位が低下した場合（Ｓ９にてＹＥＳ）、排水は停止する（Ｓ１０）。排水された水は、衛生面を向上する観点から、再利用されずに全て廃棄される。なお、第２水位Ｄ２の測定は、上述した第１水位Ｄ１の測定方法と同じである。 After leaving it for several minutes to several hours, the water content of the medium 45 is measured by the sensor 80. When the water content of the medium 45 is a predetermined upper threshold value, that is, 25% or more (S7), the drain valve 31 is opened and drainage is started (S8). After the start of drainage, it is determined whether or not the water level has dropped to the position of the second water level D2 shown in FIG. 7 (b) (S9). The height of the second water level D2 is below the bottom 42 of the tray 41 and above the bottom 11 of the water receiver 10. That is, the height of the second water level D2 is the height at which the medium 45 and the water do not come into contact with each other. If the water level is higher than the second water level D2 (NO in S9), drainage will continue. When the water level drops to the second water level D2 (YES in S9), drainage stops (S10). From the viewpoint of improving hygiene, all the drained water is discarded without being reused. The measurement of the second water level D2 is the same as the above-mentioned measurement method of the first water level D1.

第２水位Ｄ２まで水を溜めた状態で、約１週間～２週間程度放置する。その後、再びセンサ８０で培地４５の含水率を測定する。培地４５の含水率が１０％以下の場合（Ｓ２）、図７（ｃ）に示すように、第２水位Ｄ２まで溜めていた水を全て排水する（Ｓ３）。排水後、再び給水を開始し（Ｓ４）、以後同様の作業が行われる。上記作業は、着生植物４が出荷可能な状態へ生長するまで繰り返される。 With water stored up to the second water level D2, leave it for about 1 to 2 weeks. Then, the water content of the medium 45 is measured again with the sensor 80. When the water content of the medium 45 is 10% or less (S2), as shown in FIG. 7 (c), all the water accumulated up to the second water level D2 is drained (S3). After drainage, water supply is started again (S4), and the same work is performed thereafter. The above operation is repeated until the epiphyte 4 grows to a state where it can be shipped.

以上、手動で行う栽培方法について説明したが、制御装置からの信号により自動で行ってもよい。 Although the cultivation method to be carried out manually has been described above, it may be carried out automatically by a signal from the control device.

上記工程が自動で行われる場合、給水弁制御部および排水弁制御部が用いられる。給水弁制御部は、Ｓ２にてセンサ８０で測定された培地４５の含水率が１０％を検出したことに応じて、給水弁２１を開放する（給水弁開放工程）。給水弁制御部は、第１水位Ｄ１の位置まで水位が上昇したことを検出すると（Ｓ５にてＹＥＳ）、給水弁２１を閉鎖する。 When the above steps are performed automatically, a water supply valve control unit and a drain valve control unit are used. The water supply valve control unit opens the water supply valve 21 in response to the detection that the water content of the medium 45 measured by the sensor 80 in S2 is 10% (water supply valve opening step). When the water supply valve control unit detects that the water level has risen to the position of the first water level D1 (YES in S5), the water supply valve control unit closes the water supply valve 21.

さらに、排水制御部は、Ｓ７にてセンサ８０で測定された培地４５の含水率が２５％を検出したことに応じて、排水弁３１を開放する（排水弁開放工程）。排水弁制御部は、第２水位Ｄ２の位置まで水位が低下したことを検出すると（Ｓ９にてＹＥＳ）、排水弁３１を閉鎖する。 Further, the drainage control unit opens the drainage valve 31 in response to the detection that the water content of the medium 45 measured by the sensor 80 in S7 is 25% (drainage valve opening step). When the drain valve control unit detects that the water level has dropped to the position of the second water level D2 (YES in S9), the drain valve control unit closes the drain valve 31.

このように、底面灌水方式で第１水位Ｄ１まで水を溜めることで、水受け１０内のトレイ４１に収容される着生植物４に均等に水を供給することができ、一度の給水作業で水受け１０内の全ての着生植物４に水を供給することができる。このため、給水作業に要する手間を省くことができる。このような栽培方法のため、健常者はもちろんのこと、高齢者や障がい者であっても栽培作業に従事することが可能となる。 In this way, by storing water up to the first water level D1 by the bottom irrigation method, water can be evenly supplied to the epiphytes 4 housed in the tray 41 in the water receiver 10, and water can be supplied once. Water can be supplied to all epiphytes 4 in the water receiver 10. Therefore, the labor required for the water supply work can be saved. Because of such a cultivation method, not only healthy people but also elderly people and people with disabilities can engage in cultivation work.

本実施の形態における栽培方法によれば、着生植物４に水を供給しない場合でも第２水位Ｄ２に水を維持する。これにより、温室内において着生植物４の生長に最適な湿度環境を保つことができる。また、給水時以外は着生植物４の根が水に浸漬しないため、根腐れを防止することができ、着生植物４の生育を促進することができる。このような生育環境のため、生産性および歩留まりを向上することができる。 According to the cultivation method in the present embodiment, water is maintained at the second water level D2 even when water is not supplied to the epiphyte 4. As a result, the optimum humidity environment for the growth of the epiphyte 4 can be maintained in the greenhouse. Further, since the roots of the epiphyte 4 are not immersed in water except when water is supplied, root rot can be prevented and the growth of the epiphyte 4 can be promoted. Due to such a growing environment, productivity and yield can be improved.

さらに、本実施の形態の栽培方法は、２回目以降の給水を行う前に、第２水位Ｄ２まで溜めていた水を一度全て排水する。これにより、栽培装置１の衛生環境を保つことができ、着生植物４全体に病原菌が拡散することを防ぐことができる。 Further, in the cultivation method of the present embodiment, all the water accumulated up to the second water level D2 is drained once before the second and subsequent water supply is performed. As a result, the hygienic environment of the cultivation device 1 can be maintained, and the pathogen can be prevented from spreading to the entire epiphyte 4.

（含水率の上限閾値および下限閾値について）
ここで、培地４５の含水率の上限閾値および下限閾値を算出した実験について説明する。図４に示すように、着生植物４を収容するポット４３内の培地４５に挿入したセンサ８０で培地４５の含水率を測定した。 (About the upper and lower thresholds of water content)
Here, an experiment in which the upper limit threshold value and the lower limit threshold value of the water content of the medium 45 are calculated will be described. As shown in FIG. 4, the water content of the medium 45 was measured by the sensor 80 inserted into the medium 45 in the pot 43 containing the epiphyte 4.

この実験で用いたセンサ８０は、土壌水分計（株式会社セラク社製、みどりボックスに付属の土壌水分センサ）およびｐＦメータ（大起理化工業株式会社製、ＤＩＫ－８３４３）である。土壌水分センサの含水率を２分間隔で測定し、その日毎の平均を記録した。同時に、ｐＦメータの含水量も測定し、記録した。ｐＦメータの値は、ｐＦ１．７未満が湿潤状態を表し、ｐＦ１．７～２．３が乾燥状態でも湿潤状態でもない中間状態を表し、ｐＦ２．３を超えた場合が乾燥状態を表している。経過日数と培地４５の含水率との相関関係を把握した。図８は、培地４５の含水率を日毎に示したグラフである。 The sensor 80 used in this experiment is a soil moisture meter (manufactured by SERAKU Co., Ltd., a soil moisture sensor attached to a green box) and a pF meter (manufactured by Daiki Rika Kogyo Co., Ltd., DIK-8343). The water content of the soil moisture sensor was measured at 2-minute intervals, and the daily average was recorded. At the same time, the water content of the pF meter was also measured and recorded. As for the value of the pF meter, a value of less than pF1.7 indicates a wet state, a value of pF1.7 to 2.3 indicates an intermediate state that is neither a dry state nor a wet state, and a value of more than pF2.3 indicates a dry state. .. The correlation between the number of days elapsed and the water content of the medium 45 was grasped. FIG. 8 is a graph showing the water content of the medium 45 on a daily basis.

図８に示すように、５日目では、土壌水分センサで測定した培地４５の含水率が１０％を示し、この場合のｐＦメータの値がｐＦ２．３以上を示した。ｐＦメータの値がｐＦ２．３以上の場合は乾燥状態を表しているため、土壌水分センサで測定した含水率が１０％以下の場合は乾燥状態であることがわかった。この場合に給水を行うこととした。 As shown in FIG. 8, on the 5th day, the water content of the medium 45 measured by the soil moisture sensor was 10%, and the value of the pF meter in this case was pF2.3 or more. When the value of the pF meter is pF2.3 or more, it indicates a dry state. Therefore, when the water content measured by the soil moisture sensor is 10% or less, it is found to be a dry state. In this case, we decided to supply water.

給水後、同日中に排水を行った。排水後、６日目では、土壌水分センサで測定した培地４５の含水率は３０％まで上昇し、７日目では培地４５の含水率はさらに４５％まで上昇した。８日目からは、培地４５の含水率は緩やかに低下した。培地４５の含水率が３０％の場合、ｐＦメータの値はｐＦ１．７未満を示した。ｐＦメータの値がｐＦ１．７未満の場合は、湿潤状態を示しているため、培地４５の含水率が３０％以上の場合は湿潤状態であることがわかった。この後、培地４５の含水率は８～２０日目にかけて緩やかに低下し、乾燥状態へと戻った。 After water supply, drainage was performed on the same day. On the 6th day after drainage, the water content of the medium 45 measured by the soil moisture sensor increased to 30%, and on the 7th day, the water content of the medium 45 further increased to 45%. From the 8th day, the water content of the medium 45 gradually decreased. When the water content of the medium 45 was 30%, the value of the pF meter showed a pF of less than 1.7. When the value of the pF meter is less than pF 1.7, it indicates a wet state. Therefore, when the water content of the medium 45 is 30% or more, it is found to be a wet state. After that, the water content of the medium 45 gradually decreased from the 8th to the 20th day, and returned to the dry state.

また、５日目と６日目の間では、培地４５の含水率は２５％を示し、この場合のｐＦメータの値はｐＦ１．７を示した。上述のように、ｐＦメータの値がｐＦ１．７の場合は中間状態を表しているため、培地４５の含水率が２５％以上の場合は湿潤状態であることがわかった。以上より、土壌水分センサで測定した培地４５の含水率が２５～４５％であれば、湿潤状態であることがわかった。上記条件で給水および排水を繰り返したところ、根腐れを起こす株もなく、着生植物４の開花が確認できた。以上の実験から、土壌水分センサで測定した培地４５の含水率の上限閾値は２５％であり、下限閾値は１０％であることがわかった。 Further, between the 5th day and the 6th day, the water content of the medium 45 was 25%, and the value of the pF meter in this case was pF1.7. As described above, when the value of the pF meter is pF1.7, it indicates an intermediate state, and therefore, when the water content of the medium 45 is 25% or more, it is found to be a wet state. From the above, it was found that when the water content of the medium 45 measured by the soil moisture sensor was 25 to 45%, it was in a wet state. When water supply and drainage were repeated under the above conditions, there was no strain that caused root rot, and flowering of the settled plant 4 was confirmed. From the above experiments, it was found that the upper limit threshold value of the water content of the medium 45 measured by the soil moisture sensor was 25%, and the lower limit threshold value was 10%.

（照明器具の照明条件について）
次に、開花に適した照明条件を調べる実験について説明する。複数の照明条件Ａ～Ｅの試験区を設定し、各試験区における着生植物４の開花割合を確認した。後述する表１は、各照明条件Ａ～Ｅにおける平均光合成光量子束密度（ＰＰＦＤ、単位はμｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比および色温度（Ｋ）を示す表である。 (About lighting conditions of lighting equipment)
Next, an experiment for investigating lighting conditions suitable for flowering will be described. A plurality of test plots with lighting conditions A to E were set, and the flowering ratio of the epiphyte 4 in each test plot was confirmed. Table 1 described later is a table showing the average photosynthetic photon flux density (PPFD, unit: μmol / m 2 / s), RGB ratio, and color temperature (K) under each illumination condition A to E.

着生植物４としてミニ胡蝶蘭を使用した。ミニ胡蝶蘭は、低温処理によって花芽が５ｃｍ程度形成されたものを使用した。また、ミニ胡蝶蘭は直径６ｃｍのポット４３に収容され、ポット４３はトレイ４１に収容され、トレイ４１は水受け１０に収容されているものとする。各試験区において、ミニ胡蝶蘭を７株ずつ用意した。 A mini Phalaenopsis orchid was used as the epiphyte 4. The mini Phalaenopsis orchid used had flower buds formed by about 5 cm by low temperature treatment. Further, it is assumed that the mini Phalaenopsis orchid is housed in a pot 43 having a diameter of 6 cm, the pot 43 is housed in a tray 41, and the tray 41 is housed in a water receiver 10. Seven mini Phalaenopsis orchids were prepared in each test plot.

照明器具６０は、長尺状のＬＥＤを使用した。具体的には、ＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒ（有限会社豊川温室社製）およびｔｅｃｏｌｅｄＧ（東神電気株式会社製）の２種類のＬＥＤを使用した。なお、ＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒは、赤色および白色ＬＥＤであり、ｔｅｃｏｌｅｄＧは、白色ＬＥＤである。これらの照明器具６０を用いて、下記表１に示すように照明条件Ａ～Ｅを設定した。照明条件Ａ～Ｅについて、平均ＰＰＦＤ値（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比および色温度（Ｋ）を測定した。平均ＰＰＦＤ値（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）およびＲＧＢ比は、ＲＧＢ光量子計Ｍｏｄｅｌ－１０１ＥＧ（株式会社日本医化器械製作所社製）を使用し、ＬＥＤ照射面から３００ｍｍ離れた位置で測定した。色温度（Ｋ）と分光分布は、演色照度計ＣＬ－７０Ｆ（株式会社コニカミノルタ社製）で測定した。 The luminaire 60 used a long LED. Specifically, two types of LEDs, NEXLIGHT BAR / R (manufactured by Toyokawa Greenhouse Co., Ltd.) and tecoldG (manufactured by Toshin Electric Co., Ltd.), were used. In addition, NEXLIGHT BAR / R is a red and white LED, and tecoldG is a white LED. Using these lighting fixtures 60, the lighting conditions A to E were set as shown in Table 1 below. For the lighting conditions A to E, the average PPFD value (μmol / m 2 / s), the RGB ratio and the color temperature (K) were measured. The average PPFD value (μmol / m 2 / s) and the RGB ratio were measured at a position 300 mm away from the LED irradiation surface using an RGB photon meter Model-101EG (manufactured by Nippon Medical Instruments Mfg. Co., Ltd.). The color temperature (K) and the spectral distribution were measured with a color illuminance meter CL-70F (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.).

表１を参照して、ＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒを２本用いた場合を、照明条件Ａとした。照明条件Ａでは、平均ＰＰＦＤ値が１６０．８（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比が８１：１１：８、色温度が１９９７Ｋであった。 With reference to Table 1, the case where two NEXLIGHT BAR / R were used was set as the lighting condition A. Under the illumination condition A, the average PPFD value was 160.8 (μmol / m 2 / s), the RGB ratio was 81: 11: 8, and the color temperature was 1997K.

ＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒを１本、ｔｅｃｏｌｅｄＧを２本用いた場合を、照明条件Ｂとした。照明条件Ｂでは、平均ＰＰＦＤ値が１６０．６（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比が６２：２４：１４、色温度が３５６２Ｋであった。 The case where one NEXLIGHT BAR / R and two steeled G were used was defined as the lighting condition B. Under the illumination condition B, the average PPFD value was 160.6 (μmol / m 2 / s), the RGB ratio was 62:24:14, and the color temperature was 3562K.

ｔｅｃｏｌｅｄＧを４本用いた場合を、照明条件Ｃとした。照明条件Ｃでは、平均ＰＰＦＤ値が１４９．４（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比が４０：３９：２１、色温度が５１５９Ｋであった。 The case where four tecold Gs were used was set as the lighting condition C. Under the illumination condition C, the average PPFD value was 149.4 (μmol / m 2 / s), the RGB ratio was 40:39:21, and the color temperature was 5159K.

ＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒを１本用いた場合を、照明条件Ｄとした。照明条件Ｄでは、平均ＰＰＦＤ値が９２．２（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比が８１：１１：８、色温度が１９７９Ｋであった。 The case where one NEXLIGHT BAR / R was used was set as the lighting condition D. Under the illumination condition D, the average PPFD value was 92.2 (μmol / m 2 / s), the RGB ratio was 81: 11: 8, and the color temperature was 1979K.

ＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒを３本用いた場合を、照明条件Ｅとした。照明条件Ｅでは、平均ＰＰＦＤ値が２１９．７（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）、ＲＧＢ比が８１：１１：８、色温度が１９７５Ｋであった。 The case where three NEXLIGHT BAR / R were used was set as the lighting condition E. Under the illumination condition E, the average PPFD value was 219.7 (μmol / m 2 / s), the RGB ratio was 81: 11: 8, and the color temperature was 1975K.

Figure 0006993370000001
Figure 0006993370000001

図９は、各照明条件における分光分布図であり、（ａ）は照明条件Ａ、（ｂ）は照明条件Ｂ、（ｃ）は照明条件Ｃ、（ｄ）は照明条件Ｄ、（ｅ）は照明条件Ｅの分光分布図を表している。図９を参照して、Ｘ軸は波長（ｎｍ）を表し、Ｙ軸は相対値を表している。一般的に、３８０ｎｍ～４３０ｎｍが紫色、４３０ｎｍ～４６０ｎｍが藍色、４６０ｎｍ～５００ｎｍが青色、５００ｎｍ～５７０ｎｍが緑色、５７０ｎｍ～５９０ｎｍが黄色、５９０ｎｍ～６１０ｎｍが橙色、６１０～７５０ｎｍが赤色の光の波長を表している。吸収スペクトルの波形によって何色の光が含まれているのかがわかり、この光の色を定量的に数値化したものが色温度（Ｋ）である。たとえば、白色光であれば青色、緑色、赤色が万遍なく含まれる連続スペクトルを示し、色温度は約５０００Ｋとなる。 9A and 9B are spectral distribution diagrams under each lighting condition, where (a) is lighting condition A, (b) is lighting condition B, (c) is lighting condition C, (d) is lighting condition D, and (e) is. The spectral distribution map of the illumination condition E is shown. With reference to FIG. 9, the X-axis represents the wavelength (nm) and the Y-axis represents the relative value. Generally, 380 nm to 430 nm is purple, 430 nm to 460 nm is indigo, 460 nm to 500 nm is blue, 500 nm to 570 nm is green, 570 nm to 590 nm is yellow, 590 nm to 610 nm is orange, and 610 to 750 nm is red. Represents. The waveform of the absorption spectrum shows how many colors of light are contained, and the color temperature (K) is a quantitative numerical value of the color of this light. For example, white light shows a continuous spectrum including blue, green, and red evenly, and the color temperature is about 5000K.

上述のように、図９（ａ），（ｄ），（ｅ）は、照明条件Ａ，Ｄ，Ｅの分光分布図である。照明条件Ａ，Ｄ，Ｅは、赤色および白色ＬＥＤのＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒのみを光源としている。図９（ａ），（ｄ），（ｅ）に示すように、照明条件Ａ，Ｄ，Ｅは、白色ＬＥＤに特有の連続スペクトルも含まれるものの、いずれも特に６６０ｎｍに吸収極大を有することから、赤色を主とする朝日や夕日程度の照明条件であることがわかった。これにより、照明条件Ａ，Ｄ，Ｅの色温度は、いずれも約１９７０～２０００Ｋであることがわかった。 As described above, FIGS. 9A, 9D, and 9E are spectral distribution diagrams of the illumination conditions A, D, and E. The lighting conditions A, D, and E use only the NEXLIGHT BAR / R of the red and white LEDs as the light source. As shown in FIGS. 9A, 9D, and 9E, the illumination conditions A, D, and E include a continuous spectrum peculiar to a white LED, but all of them have an absorption maximum at 660 nm. , It turned out that the lighting conditions are mainly red and the lighting conditions are about the sunrise and sunset. From this, it was found that the color temperatures of the illumination conditions A, D, and E were all about 1970 to 2000K.

図９（ｂ）は、照明条件Ｂの分光分布図である。照明条件Ｂは、赤色および白色ＬＥＤのＮＥＸＬＩＧＨＴ ＢＡＲ／Ｒと白色ＬＥＤのｔｅｃｏｌｅｄＧを光源としている。照明条件Ｂ（図９（ｂ））は、赤色を主とする吸収を有しながらも青色、緑色も万遍なく含まれる連続スペクトルを示すことから、温白色程度の照明条件であることがわかった。これにより、照明条件Ｂの色温度は約３５００Ｋであることがわかった。 FIG. 9B is a spectral distribution diagram of the illumination condition B. The lighting condition B uses NEXLIGHT BAR / R of red and white LEDs and tecold G of white LEDs as light sources. Illumination condition B (FIG. 9 (b)) shows a continuous spectrum in which blue and green are evenly included while having absorption mainly in red, indicating that the illumination condition is about warm white. rice field. From this, it was found that the color temperature of the illumination condition B was about 3500K.

図９（ｃ）は、照明条件Ｃの分光分布図である。照明条件Ｃは、白色ＬＥＤのｔｅｃｏｌｅｄＧのみを光源としている。照明条件Ｃ（図９（ｃ））は、特に長波長領域の吸収が少なく、青色、緑色、赤色が万遍なく含まれる連続スペクトルを示すことから、白色を主とする昼白色程度の照明条件であることがわかった。これにより、照明条件Ｃの色温度は約５０００Ｋであることがわかった。 FIG. 9C is a spectral distribution diagram of the illumination condition C. The lighting condition C uses only the white LED tecoldG as a light source. Illumination condition C (FIG. 9 (c)) shows a continuous spectrum in which blue, green, and red are evenly included, with little absorption in the long wavelength region. Therefore, the illumination condition is about neutral white, mainly white. It turned out to be. From this, it was found that the color temperature of the illumination condition C was about 5000K.

これらの照明条件Ａ～Ｅのうち、色温度（Ｋ）の異なる照明条件Ａ，Ｂ，Ｃを用いて、開花に適した照明条件を調べる実験を行った。図１０は、胡蝶蘭を６０日間栽培した場合の開花率（％）を比較したグラフであり、（ａ）は色温度（Ｋ）の異なる照明条件Ａ，Ｂ，Ｃで栽培した場合のグラフであり、（ｂ）は平均ＰＰＦＤ値の異なる照明条件Ａ，Ｄ，Ｅで栽培した場合のグラフである。なお、図１０（ａ），（ｂ）において、３０日以前の記載については、図示を省略した。 Among these lighting conditions A to E, an experiment was conducted to investigate lighting conditions suitable for flowering using lighting conditions A, B, and C having different color temperatures (K). FIG. 10 is a graph comparing the flowering rates (%) when Phalaenopsis orchid is cultivated for 60 days, and FIG. 10 (a) is a graph when cultivated under different lighting conditions A, B, and C with different color temperatures (K). Yes, (b) is a graph when cultivated under lighting conditions A, D, and E having different average PPFD values. In addition, in FIGS. 10 (a) and 10 (b), the description before 30 days is omitted.

図１０（ａ）に示すように、照明条件Ａ，Ｂ，Ｃの試験区は、いずれの場合も４９日目まで開花せず、４９日経過後から徐々に開花し始めた。さらに、６０日目に開花率が５７．１％～１００．０％となることがわかった。具体的には、６０日目に照明条件Ａの場合は開花率１００％、照明条件Ｂの場合は開花率８５．７％、照明条件Ｃの場合は開花率５７．１％であった。すなわち、色温度（Ｋ）により開花率が変化することがわかり、ミニ胡蝶蘭の開花に適した色温度（Ｋ）は、約２０００Ｋ～５２００Ｋであることがわかった。 As shown in FIG. 10A, the test plots under the lighting conditions A, B, and C did not bloom until the 49th day, and gradually started to bloom after 49 days. Furthermore, it was found that the flowering rate was 57.1% to 100.0% on the 60th day. Specifically, on the 60th day, the flowering rate was 100% in the case of the lighting condition A, the flowering rate was 85.7% in the case of the lighting condition B, and the flowering rate was 57.1% in the case of the lighting condition C. That is, it was found that the flowering rate changed depending on the color temperature (K), and the color temperature (K) suitable for flowering of mini Phalaenopsis orchid was found to be about 2000K to 5200K.

また、照明条件Ａ～Ｅのうち、平均ＰＰＦＤ値（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）の異なる照明条件Ａ，Ｄ，Ｅを用いて、開花に適した照明条件を調べる実験を行った。図１０（ｂ）に示すように、照明条件Ａ，Ｄ，Ｅの試験区は、いずれの場合も４９日目まで開花せず、４９日経過後から徐々に開花し始めた。さらに、６０日目に開花率が７１．４％～１００．０％となることがわかった。具体的には、６０日目に照明条件Ａの場合は開花率１００．０％、照明条件Ｄの場合は開花率８５．７％、照明条件Ｅの場合は開花率５７．１％であった。すなわち、平均ＰＰＦＤ値（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）により開花率が変化することがわかり、ミニ胡蝶蘭の開花に適した平均ＰＰＦＤ値（μｍｏｌ／ｍ２／ｓ）は、約９０μｍｏｌ／ｍ２／ｓ～２２０μｍｏｌ／ｍ２／ｓであることがわかった。 In addition, an experiment was conducted to investigate lighting conditions suitable for flowering using lighting conditions A, D, and E having different average PPFD values (μmol / m 2 / s) among the lighting conditions A to E. As shown in FIG. 10 (b), the test plots under the lighting conditions A, D, and E did not bloom until the 49th day, and gradually started to bloom after 49 days. Furthermore, it was found that the flowering rate was 71.4% to 100.0% on the 60th day. Specifically, on the 60th day, the flowering rate was 100.0% in the case of lighting condition A, the flowering rate was 85.7% in the case of lighting condition D, and the flowering rate was 57.1% in the case of lighting condition E. .. That is, it was found that the flowering rate changes depending on the average PPFD value (μmol / m 2 / s), and the average PPFD value (μmol / m 2 / s) suitable for flowering of mini Phalaenopsis orchids is about 90 μmol / m 2 / s. It was found to be s to 220 μmol / m 2 / s.

なお、本実施の形態における高位置支持手段は、水受け１０の底面１１に設けられた突出部５０に限られない。高位置支持手段として、トレイ４１などの収容容器４０の底部４２に脚部を設けてもよい。この場合、脚部の高さ位置は、水受け１０の立壁１２の高さよりも低く、水受け１０の底面１１よりも浮いた位置となる。 The high-position support means in the present embodiment is not limited to the protruding portion 50 provided on the bottom surface 11 of the water receiver 10. As the high-position support means, legs may be provided on the bottom 42 of the storage container 40 such as the tray 41. In this case, the height position of the legs is lower than the height of the standing wall 12 of the water receiver 10 and is a position floating above the bottom surface 11 of the water receiver 10.

また、本実施の形態では照明器具６０を設けていたが、照明器具６０は備えていなくてもよい。すなわち、本実施の形態に係る栽培装置１で栽培される着生植物４は、太陽光を光源として栽培されてもよい。また、着生植物４は、温室内のうち一部にのみ照明器具６０を設け、補助的に使用することで栽培されてもよい。 Further, although the lighting fixture 60 is provided in the present embodiment, the lighting fixture 60 may not be provided. That is, the epiphyte 4 cultivated by the cultivation device 1 according to the present embodiment may be cultivated using sunlight as a light source. Further, the epiphyte 4 may be cultivated by providing a lighting fixture 60 only in a part of the greenhouse and using it as an auxiliary.

さらに、上記実施の形態において、給水する前に水受け１０の第２水位Ｄ２まで溜めた水を全て排水するとしたが、この工程は必須ではない。すなわち、水受け１０の第２水位Ｄ２まで溜めていた水を排水せずに、給水を行うこととしてもよい。 Further, in the above embodiment, it is assumed that all the water stored up to the second water level D2 of the water receiver 10 is drained before the water is supplied, but this step is not essential. That is, water may be supplied without draining the water stored up to the second water level D2 of the water receiver 10.

また、本実施の形態に係る栽培装置１で用いた水は、再利用はせずに排水するとしたが、水受け１０に供給される水は再利用水であってもよい。 Further, although the water used in the cultivation apparatus 1 according to the present embodiment is drained without being reused, the water supplied to the water receiver 10 may be reused water.

本実施の形態に係る栽培装置１は、着生植物４の培地４５の含水率を測定するセンサ８０で測定された含水率に応じて給水および排水を行うこととしたが、これに限定されない。たとえば、センサ８０を用いずに、培地４５の状態を目視により、あるいは手で触ることにより確認することで給水および排水を行ってもよい。 The cultivation apparatus 1 according to the present embodiment is limited to, but is not limited to, supplying and draining water according to the water content measured by the sensor 80 that measures the water content of the medium 45 of the epiphyte 4. For example, water may be supplied and drained by visually or by touching the state of the medium 45 without using the sensor 80.

今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。 The embodiments disclosed this time should be considered to be exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is shown by the scope of claims rather than the above description, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

１ 栽培装置、４ 着生植物、１０ 水受け、１１ 底面、１２ 立壁、２０ 給水路、２１ 給水弁、２２ 給水口、３０ 排水路、３１ 排水弁、３２ 排水口、４０ 収容容器、４１ トレイ、４２，４４ 底部、４３ ポット、４５ 培地、４６ 凹部、５０ 突出部、６０ 照明器具、７０ 栽培棚、７１ 棚、７２ 柱、７３ 上枠、８０ センサ、１００ 栽培装置、７００ 栽培棚。 1 cultivation equipment, 4 vegetative plants, 10 water receivers, 11 bottoms, 12 standing walls, 20 water supply channels, 21 water supply valves, 22 water supply ports, 30 drainage channels, 31 drainage valves, 32 drainage ports, 40 storage containers, 41 trays, 42, 44 bottom, 43 pots, 45 media, 46 recesses, 50 protrusions, 60 lighting fixtures, 70 cultivation shelves, 71 shelves, 72 pillars, 73 top frames, 80 sensors, 100 cultivation equipment, 700 cultivation shelves.

Claims (5)

建物内に設置される着生植物の栽培装置であって、
複数段の棚を有する栽培棚と、
前記複数段の棚のそれぞれに設けられ、底面を有する水受けと、
前記各水受けに水を供給する給水路と、
前記給水路の開閉を、前記水受け毎に調節することのできる給水弁と、
前記各水受けに溜まった水を排水する排水路と、
前記排水路の開閉を、前記水受け毎に調節することのできる排水弁と、
前記着生植物を収容し底部に水を通す穴を有する収容容器を、前記水受けの底面から上方に浮かせた状態で支持する高位置支持手段と、
前記着生植物の上方に位置し、前記着生植物に向けて光を照射する照明器具と、
前記着生植物の培地の含水率を測定するセンサと、
前記センサで測定された含水率が所定の下限閾値以下になった場合に、前記給水弁を開くように制御する給水弁制御部と、
前記センサで測定された含水率が所定の上限閾値以上になった場合に、前記排水弁を開くように制御する排水弁制御部とを備え、
前記底面のうち、前記高位置支持手段以外の部分は水を溜めるための領域である、栽培装置。 It is an epiphyte cultivation device installed in the building.
Cultivation shelves with multiple shelves and
A water receiver provided on each of the multiple shelves and having a bottom surface,
A water supply channel that supplies water to each of the water receivers,
A water supply valve that can adjust the opening and closing of the water supply channel for each water receiver,
A drainage channel for draining the water collected in each of the water receivers,
With a drain valve that can adjust the opening and closing of the drainage channel for each water receiver,
A high-position support means for accommodating the epiphytes and supporting the accommodating container having a hole for passing water at the bottom while floating upward from the bottom surface of the water receiver.
A lighting fixture located above the epiphyte and irradiating the epiphyte with light .
A sensor for measuring the water content of the epiphyte medium and
A water supply valve control unit that controls to open the water supply valve when the water content measured by the sensor becomes equal to or less than a predetermined lower limit threshold value.
It is provided with a drain valve control unit that controls to open the drain valve when the water content measured by the sensor exceeds a predetermined upper limit threshold value .
A cultivation device in which a portion of the bottom surface other than the high-position support means is an area for storing water. 前記水受けは、前記底面を取り囲む立壁をさらに有し、
前記立壁の高さは、前記高位置支持手段に支持された前記収容容器の底部よりも高い、請求項１に記載の栽培装置。 The water receiver further has a standing wall surrounding the bottom surface.
The cultivation device according to claim 1, wherein the height of the standing wall is higher than the bottom of the storage container supported by the high position support means. 前記高位置支持手段は、前記水受けの底面に設けられ、前記水受けの底面から上方に突出する突出部である、請求項１または２に記載の栽培装置。 The cultivation device according to claim 1 or 2, wherein the high-position support means is provided on the bottom surface of the water receiver and is a protruding portion protruding upward from the bottom surface of the water receiver. 建物内において、複数段の棚を有する栽培棚で栽培する着生植物の栽培方法であって、
前記複数段の棚のそれぞれに設けられた各水受けの底面から浮かせた状態で前記着生植物を支持する工程と、
前記着生植物を収容する収容容器内の培地の含水率をセンサで測定する工程と、
前記センサで測定された含水率が所定の下限閾値以下になった場合に、給水路から水を前記水受けに供給し、前記水受けに溜まった水の液面高さが前記収容容器の底部よりも上方にくるように給水する工程と、
前記センサで測定された含水率が所定の上限閾値以上になった場合に、前記水受けに溜まった水を排水路へ排水し、前記水受けに溜まった水の液面高さが前記収容容器の底部よりも下方、かつ、前記水受けの底面よりも上方に維持されるように、前記水受けに溜まった水を排水する工程とを備える、栽培方法。 It is a method of cultivating epiphytes cultivated on a cultivation shelf having multiple shelves in a building.
A step of supporting the epiphyte while floating from the bottom surface of each water receiver provided on each of the plurality of shelves.
The step of measuring the water content of the medium in the container containing the epiphytes with a sensor, and
When the water content measured by the sensor becomes equal to or less than a predetermined lower limit, water is supplied to the water receiver from the water supply channel, and the liquid level height of the water collected in the water receiver is the bottom of the storage container. The process of supplying water so that it comes above
When the water content measured by the sensor becomes equal to or higher than a predetermined upper limit, the water collected in the water receiver is drained to the drainage channel, and the liquid level height of the water collected in the water receiver is the storage container. A cultivation method comprising a step of draining water accumulated in the water receiver so as to be maintained below the bottom of the water receiver and above the bottom surface of the water receiver. 前記センサで測定された含水率が所定の下限閾値を検出したことに応じて給水弁を開放する給水弁開放工程と、
前記センサで測定された含水率が所定の上限閾値を検出したことに応じて排水弁を開放する排水弁開放工程とをさらに備える、請求項４に記載の栽培方法。 A water supply valve opening step of opening the water supply valve according to the detection of a predetermined lower limit threshold value of the water content measured by the sensor, and a water supply valve opening step.
The cultivation method according to claim 4 , further comprising a drain valve opening step of opening the drain valve according to the detection of a predetermined upper limit threshold value of the water content measured by the sensor.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001045894A (en) 1999-08-04 2001-02-20 M Shiki Suiko Kenkyusho:Kk Plant-culturing medium and nutritious liquid-culturing container
WO2008133376A1 (en) 2007-04-25 2008-11-06 Irevo Ns, Inc. Automatic water supplying system and method for planter
US20090293354A1 (en) 2006-03-29 2009-12-03 Federal Pacific Trading, Inc. Plant watering system
JP2014233231A (en) 2013-05-31 2014-12-15 三菱樹脂アグリドリーム株式会社 Multistage shelf type plant growth device and plant growth system
JP2015112061A (en) 2013-12-11 2015-06-22 株式会社 アーバングリーンコンポジション Hydroponic apparatus

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2548975Y2 (en) * 1992-01-13 1997-09-24 群馬県 Automatic irrigation system for seeds and seedlings
JPH10117616A (en) * 1996-10-25 1998-05-12 Sekisui Plastics Co Ltd Method and device for hydroponics of moth orchid
JPH11196694A (en) * 1998-01-09 1999-07-27 Yanmar Agricult Equip Co Ltd Waterer

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001045894A (en) 1999-08-04 2001-02-20 M Shiki Suiko Kenkyusho:Kk Plant-culturing medium and nutritious liquid-culturing container
US20090293354A1 (en) 2006-03-29 2009-12-03 Federal Pacific Trading, Inc. Plant watering system
WO2008133376A1 (en) 2007-04-25 2008-11-06 Irevo Ns, Inc. Automatic water supplying system and method for planter
JP2014233231A (en) 2013-05-31 2014-12-15 三菱樹脂アグリドリーム株式会社 Multistage shelf type plant growth device and plant growth system
JP2015112061A (en) 2013-12-11 2015-06-22 株式会社 アーバングリーンコンポジション Hydroponic apparatus

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