JP6985513B2 - 流体循環および吐出 - Google Patents

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Description

流体吐出器は、比較的小さな容積の流体を選択的に分配するために使用されている。多くの流体吐出器は流体アクチュエータを利用しており、これは流体をノズルオリフィスを通して移動させる。幾つかの用途においては、流体はカートリッジから供給される。他の用途においては、流体は遠隔の源から供給される。
図1は、例示的な流体循環吐出システムの各部を示す概略図である。
図2は、流体を流体吐出器に供給し、また流体吐出器に関して流体を循環させるための、例示的な方法の流れ図である。
図3は、例示的な流体循環吐出システムの各部を示す概略図である。
図4は、例示的な流体循環吐出システムの各部の断面図である。
図5は、5−5線に沿って取った図4のシステムの各部の断面図である。
図6は、6−6線に沿って取った図4のシステムの各部の断面図である。
図7は、流体が図4のシステムにおいて循環する容積を示す斜視図である。
図8は、流体吐出器の駆動チャンバーを横切る流体の循環を示す、図4のシステムの一部分の拡大斜視図である。
図面全体を通して、同一の参照番号は類似した、しかし必ずしも同一ではない要素を指している。図面は必ずしも縮尺通りではなく、幾つかの部材の大きさは、図示の例をより明確に示すために誇張されていてよい。さらにまた、図面は詳細な説明と一貫性のある例示および/または実施形態を提供する;しかしながら詳細な説明は、図面に提示された例示および/または実施形態に限定されるものではない。
流体吐出器によって分配される多くの流体は、沈降する傾向のある粒子または顔料を含有している。そうした粒子または顔料の沈降は、流体吐出器の性能の低下を導く可能性がある。例えば、顔料の沈降およびデキャップは、水性UVインクのような固形分の多いインクを印刷する場合の挑戦課題である。
本願に開示されているのは、流体吐出器の駆動チャンバーを通過し横切って流体を循環させ、粒子または顔料の沈降を低減させるための、例示的な流体循環吐出システムである。この例示的な流体循環吐出システムは、個別の、または単一オリフィス流体吐出器を横切って流体を循環させる。単一オリフィス流体吐出器は、駆動チャンバーから延びる単一のノズル開口またはオリフィスを有し、粒子または顔料が沈降されうる停滞領域を減少させる。例示的な流体循環吐出システムは、マイクロ流体ダイまたは流体吐出器を支持しているダイから遠隔の加圧流体源を使用して、単一オリフィスを横切り、また駆動チャンバーを横切る圧力勾配を生成することにより、単一オリフィス流体吐出器を横断して流体を循環させる。加圧流体源およびマイクロ流体ダイに関して、用語「遠隔」は、ポンプまたはその他の、加圧流体源の駆動機構が、マイクロ流体ダイ22それ自体に担持または配置されておらず、ポンプによって生成される何らかの熱が、マイクロ流体ダイ22から分離されることを意味している。遠隔の加圧流体源によって生成される加圧流体は、管または他のチャネルを介してマイクロ流体ダイへと差し向けられる。加圧流体源は流体吐出器を支持しているマイクロ流体ダイから遠隔にあるため、加圧流体源はマイクロ流体ダイおよび吐出される流体を加熱することはなく、そうでない場合には熱によってもたらされる可能性のある、吐出欠陥または印刷欠陥が低減される。
本願に開示されているのは、流体供給チャネルから、単一オリフィス流体吐出器を横切り、流体排出チャネルへと流体を循環させる、例示的な流体循環吐出システムである。この流体排出チャネルは、駆動チャンバーを横切って循環された流体を、駆動チャンバーから離れるように差し向ける。流体供給チャネルおよび流体排出チャネルは、マイクロ流体ダイの駆動チャンバーに隣接する領域において、相互に分離されている。流体吐出器が、流体を吐出するために熱を発生させる、熱抵抗器の形態の流体アクチュエータを用いる実施形態においては、吐出されていないが熱抵抗器によって加熱されている流体が、新たに供給された流体と実質的に混合することは許されない。駆動チャンバーおよび流体吐出器に供給された、新たな未加熱の流体は、流体吐出器から過剰の熱を移送するのを補助し、流体吐出器に隣接する温度をより均一に維持して、熱によって惹起される印刷欠陥または流体吐出欠陥を低減させる。
幾つかの例示的なシステムは、マイクロ流体チャネルを含むマイクロ流体ダイを有している。マイクロ流体チャネルは、流体ダイのマイクロ流体ダイに、エッチング、微細加工(例えば、フォトリソグラフィ)、マイクロマシニングプロセス、またはこれらの任意の組み合わせを実行することによって形成されてよい。幾つかの例示的なマイクロ流体ダイには、シリコン系のマイクロ流体ダイ、ガラス系のマイクロ流体ダイ、ガリウム砒素系のマイクロ流体ダイ、および/または微細加工デバイスおよび構造について適切な種類の他のそうしたマイクロ流体ダイが含まれていてよい。従って、マイクロ流体チャネル、チャンバー、オリフィス、および/または他のそうした特徴は、流体ダイのマイクロ流体ダイに製作された表面によって規定されていてよい。さらにまた、本願で使用するところでは、マイクロ流体チャネルは、小さな容積の流体(例えば、ピコリットルスケール、ナノリットルスケール、マイクロリットルスケール、ミリリットルスケール、その他)の搬送を容易にするための、十分に小さな大きさ(例えば、ナノメートルサイズのスケール、マイクロメートルサイズのスケール、ミリメートルサイズのスケール、その他)のチャネルに対応していてよい。
本願に開示されているのは例示的な流体循環吐出システムであり、これは、マイクロ流体ダイ、マイクロ流体ダイ内部に駆動チャンバーを有する単一オリフィス流体吐出器、および駆動チャンバーを横切る圧力勾配を生成し、駆動チャンバーを横断して流体を循環させる、マイクロ流体ダイから遠隔の加圧流体源を含んでいる。
本願に開示されているのは例示的な流体循環吐出システムであり、これは、流体供給通路および流体排出通路を含むマイクロ流体ダイ、流体供給通路から流体供給通路に対して垂直に延びる流体供給チャネル、流体排出通路から流体排出通路に対して垂直に延びる、流体供給チャネルと平行な流体排出チャネル、および流体供給チャネルおよび流体排出チャネルの間にある流体吐出器を含んでいてよい。流体吐出器の各々は、流体アクチュエータと、流体アクチュエータに隣接する駆動チャンバーとを含んでいてよい。駆動チャンバーは、流体アクチュエータによって吐出される流体が通過する単一オリフィス、流体供給通路に接続された流体入口、および流体排出通路に接続された流体出口を含んでいる流体吐出器を含んでいてよい。このシステムはさらに、加圧流体を流体供給通路に供給して駆動チャンバーを横切る圧力差を生成し、駆動チャンバーを横断して流体を循環させる、マイクロ流体ダイから遠隔の流体源を含んでいてよい。
本願に開示されているのは、流体を流体吐出器に供給するための例示的な方法である。この方法は、マイクロ流体ダイ上の単一オリフィス流体吐出器へと、マイクロ流体ダイから遠隔の加圧流体源を用いて加圧流体を供給することを含んでいてよい。この方法はさらに、加圧流体源により供給される流体を用いて単一オリフィス流体吐出器の駆動チャンバーを横切る圧力差を維持し、駆動チャンバーを横断して流体を循環させることを含んでいてよい。
図1は、例示的な体循環吐出システム20の各部を概略的に示している。システム20は、新鮮で冷たい流体を単一オリフィス流体吐出器を通じて循環させることによって向上された流体吐出性能を提供し、粒子の沈降を低減させ、過剰の熱の高まりを低減させる。システム20は、単一オリフィス流体吐出器の駆動チャンバーを横切る向上された圧力勾配を促進する構造を提供し、粒子の沈降を低減させる。システム20は、流体吐出器を支持するマイクロ流体ダイから遠隔の、流体ポンプまたは他の加圧流体源を用い、かくして加圧流体源それ自体が、マイクロ流体ダイへと付加的な熱を導入しないようにされる。システム20 は、マイクロ流体ダイ22、単一オリフィス流体吐出器(SOFE)40、および加圧流体源(PFS)50を含んでいる。
マイクロ流体ダイ22は、吐出器40を支持している。マイクロ流体ダイ22は、マイクロ流体チャネルまたは通路を含んでおり、それによって流体は、単一オリフィス流体吐出器40へと差し向けられる。マイクロ流体ダイ22はさらに、導電性ワイヤまたはトレースを支持していてよく、電力信号および制御信号はそれによって、吐出器40へと伝達される。1つの実施形態においては、マイクロ流体ダイ22は、流体吐出器の噴射チャンバーおよびノズル開口を形成する付加的な層を支持する基材を含んでいる。1つの実施形態においては、この基材はシリコンから形成されてよく、これに対して他の層は、フォトレジストおよびその他のような、他の材料から形成されている。他の実施形態においては、基材および他の層は、ポリマー、セラミック、ガラスおよびその他といった、他の材料から形成されていてよい。
単一オリフィス流体吐出器40は、矢印53によって示されている液滴のような、制御された容積の流体を吐出する。単一オリフィス流体吐出器40は、噴射チャンバーと、噴射チャンバーから延びる単一オリフィスまたは開口を有し、流体の液滴はこれを通過して吐出される。噴射チャンバーは流体を単一オリフィスまたはノズルへと供給することから、噴射チャンバーの容量(大きさ)は、駆動チャンバーを横断する増大された速度の流体流れをもたらすように低減されてよく、粒子の沈降を低減させる。
単一オリフィス流体吐出器40は、流体を移動させる流体アクチュエータを含んでいてよい。1つの実施形態においては、流体アクチュエータは熱抵抗器に基づくアクチュエータを含んでいてよく、そこでは抵抗器を通って流れる電流が、隣接する流体を蒸発させるのに十分な熱を発生し、それによって膨張する気泡を生成して、流体をオリフィスを通過して移動させる。他の実施形態においては、流体アクチュエータは、圧電膜に基づくアクチュエータ、静電膜アクチュエータ、機械的/衝撃駆動膜アクチュエータ、磁歪駆動アクチュエータ、または電気的起動に応じて流体に移動を生じさせてよい、他のそうした要素を含んでいてよい。
加圧流体源50は、マイクロ流体ダイ22からは遠隔において、吐出器40に流体的に結合された加圧流体源を含んでいる。用語「流体的に結合」は、2つまたはより多くの流体伝達容積が、相互に直接的に接続され、または中間の容積または空間によって相互に接続され、かくして流体が1つの容積から他の容積へと流動してよいことを意味する。加圧流体源50は、流体吐出器40の駆動チャンバーを横切る圧力勾配を生成し、かくして加圧流体源50によって供給された流体が、駆動チャンバーを通過し横断して循環され(矢印55および57によって示されているように)、粒子の沈降を低減させ、過剰の熱を流体吐出器40から遠くへと除去するようにする。流体吐出器40から離れるように排出される流体は、流体吐出器40の近傍で流体吐出器40へと流入する流体と再混合することは許されない。その結果として、流体吐出器40によって導入される熱は、流体吐出器40から除去される。加えて、加圧流体源50はマイクロ流体ダイ22から遠隔にあることから、加圧流体源50は付加的な熱をマイクロ流体ダイ22または流体吐出器40へと導入しない。その結果として、吐出器40の駆動チャンバー内部の流体の温度が不均一または過剰であることにより生ずる、流体吐出エラーは低減されうる。
図2は、流体吐出器へと流体を供給するための例示的な方法100の流れ図である。方法100は、単一オリフィス流体吐出器の駆動チャンバーを横切る圧力差または圧力勾配を維持し、駆動チャンバーを横断して流体を循環させて、沈降を低減させ、過剰の熱を駆動チャンバーから除去される。方法100は、マイクロ流体ダイから遠隔の加圧流体源を用いて圧力差を生成し、駆動チャンバー内部の流体の加熱をさらに低減させる。方法100は、上述した流体循環吐出システム20について実施されるものとして説明されるが、方法100は、以下に説明する任意のシステムまたは他の類似した流体吐出および循環システムについて実施されてよいことが理解されねばならない。
ブロック104によって示されているように、加圧流体は、ダイ22のようなダイ上にある単一オリフィス流体吐出器へと、加圧流体源50のようなダイから遠隔の加圧流体源を用いて供給される。ブロック108によって示されているように、加圧流体源によって供給された流体により、単一オリフィス流体吐出器の駆動チャンバーを横切って圧力差が維持される。この圧力差は、駆動チャンバーを横断する流体の循環を生じさせ、流体の沈降を阻止し、そして熱を駆動チャンバーから除去する。1つの実施形態においては、駆動チャンバーを横切って生成される圧力差は、少なくとも0.1インチwc(インチ水柱)である。
図3は、例示的な流体循環吐出システム120の各部を示す概略図である。システム120は、マイクロ流体ダイ122、単一オリフィス流体吐出器140A−140N(集合的に流体吐出器40として参照する)、および加圧流体源150を含んでいる。マイクロ流体ダイ122は、マイクロ流体ダイ122が複数の単一オリフィス流体吐出器140を支持するものとして特定的に説明されていることを除き、上述したマイクロ流体ダイ22に類似している。
単一オリフィス流体吐出器140の各々は、上述した単一オリフィス流体吐出器40に類似している。各々の流体吐出器140は、液滴のような、制御された容積の流体を吐出する。各々の単一オリフィス流体吐出器140は、噴射チャンバーおよび単一オリフィス、または噴射チャンバーから延伸する開口を有し、流体の液滴はそこを通過して吐出される。噴射チャンバーが流体を単一オリフィスまたはノズルへと供給することから、噴射チャンバーの大きさ(容積)を低減させて、駆動チャンバーを横断する流体に増大した流速をもたらし、粒子の沈降を低減させるようにしてよい。
単一オリフィス流体吐出器140の各々は、流体を移動させる流体アクチュエータを含んでいてよい。1つの実施形態においては、流体アクチュエータは熱抵抗器に基づくアクチュエータを含んでいてよく、そこでは抵抗器を通って流れる電流が、隣接する流体を蒸発させるのに十分な熱を発生し、それによって膨張する気泡を生成して、流体をオリフィスを通過して移動させる。他の実施形態においては、流体アクチュエータは、圧電膜に基づくアクチュエータ、静電膜アクチュエータ、機械的/衝撃駆動膜アクチュエータ、磁歪駆動アクチュエータ、または電気的起動に応じて流体に移動を生じさせてよい、他のそうした要素を含んでいてよい。
加圧流体源150は、上述した加圧流体源50に類似している。加圧流体源150は、マイクロ流体ダイ122からは遠隔において、吐出器140の各々に流体的に結合された加圧流体源を含んでいる。加圧流体源150は、流体吐出器140の各々の駆動チャンバーを横切る圧力勾配を生成し、かくして加圧流体源150によって供給された流体が、駆動チャンバーを通過し横断して循環され(矢印155および157によって示されているように)、粒子の沈降を低減させ、過剰の熱を流体吐出器140から遠くへと移送するようにする。流体吐出器140の各々から離れるように排出される流体は、流体吐出器140の近傍で流体吐出器140へと流入する流体と再混合することは許されない。その結果として、流体吐出器140によって導入される熱は、流体吐出器140から除去される。加えて、加圧流体源150はマイクロ流体ダイ122から遠隔にあることから、加圧流体源150は付加的な熱をマイクロ流体ダイ122または流体吐出器140へと導入しない。その結果として、吐出器140の駆動チャンバー内部の流体の温度が不均一であることにより生ずる、流体吐出エラーは低減されうる。
図示された例においては、加圧流体源150は加圧流体を流体吐出器140の各々へと、流体吐出器140の各々の入口132に接続された、単一の流体供給チャネル130を通して供給する。各々の流体吐出器140は、流体吐出器140から流体を遠くへと移送する、共有された流体排出チャネル136に接続された、出口134を有している。図示された例においては、流体吐出器140は列に配置され、そこにおいて流体供給チャネル130および流体排出チャネル136は列の両側において延びていて、マイクロ流体ダイ122上にコンパクトな配置構成をもたらしている。他の実施形態においては、流体吐出器140の各々、または流体吐出器140のグループは、専用の流体供給通路および/または流体排出通路を有していてよい。
図4から図7は、流体循環吐出システム220の別の例の各部を例示している。システム20および120と同様に、システム220は単一オリフィス流体吐出器の駆動チャンバーを横切る圧力勾配を生成することによって、流体を駆動チャンバーを横断して循環させ、粒子の沈降を低減させる。システム20および120と同様に、システム220は、マイクロ流体ダイへと熱を導入しない遠隔の加圧流体源を使用して、圧力勾配をもたらす。システム20および120と同様に、システム220は、分離された流体供給源、および駆動チャンバーを出たばかりの、加熱されている可能性のある流体の混合を阻止する流体排出チャネルを使用する。システム220は、加圧流体源250から加圧流体が供給される、複数の単一オリフィス流体吐出器240を支持するマイクロ流体ダイ222を含んでいる。
マイクロ流体ダイ222は、基材224、接着層226、介在層228、チャンバー層230およびオリフィス層232を含み、これらは流体供給スロット234、流体供給チャネル236、流体吐出器240の駆動チャンバー238、流体排出チャネル242、流体排出スロット244およびバイパスチャネル256を形成する。基材224は材料層を含んでおり、その中に流体供給スロット234および流体排出スロット236が形成されている。1つの実施形態においては、基材224はシリコン層を含んでいる。他の実施形態においては、基材224は、ポリマー、セラミック、ガラス、およびその他の材料から形成されてよい。
接着層228は接着材料の層を含み、介在層228を基材224に接合する。図示の例では、接着層226は、バイパスチャネル246を形成するように、介在層228を基材224から離隔している。1つの実施形態においては、接着層228はエポキシ接着剤を含んでいる。他の実施形態においては、接着層228は他の材料から形成されていてよく、または省略されてよい。
介在層228は、接着層226とチャンバー層230の間に延びる材料層を含んでいる。介在層228は、スロット234に接続された、流体供給チャネル236の入口252を形成している。介在層230はまた、排出スロット244に接続された、流体排出チャネル242の出口254を形成している。介在層228は、チャネル236および242の製造を容易にし、チャンバー層230に溝を形成してチャネル236および242を形成するのを容易にし、そこにおいて介在層228はチャネル236および242の床を形成する(図4に見られるように)。1つの実施形態においては、介在層228はシリコンから形成される。他の実施形態においては、介在層228はポリマー、セラミック、ガラスおよびその他の材料から形成されてよい。
チャンバー層230は、流体供給チャネル236、流体排出チャネル242、および駆動チャンバー238の天井または上部(システム220が流体を下向きの方向に吐出している場合)を形成する材料層を含んでいる。図5はシステム220の一部分を通る断面図であり、チャンバー層230およびオリフィス層232をより詳細に例示している。図5によって示されているように、チャンバー層230は介在層228と協働して、流体供給チャネル236および流体排出チャネル242を形成している。チャンバー層230は、介在層228と反対側でチャンバー層230を通って延びる開口260を含んでいる。開口260の各々は、部分的に上を覆っている駆動チャンバー238の入口または供給孔を形成するように配置されている。同様に、チャンバー層230は開口262を含んでおり、これらは介在層228と反対側でチャンバー層230を通って延びている。開口262の各々は、部分的に上を覆っている駆動チャンバー238の出口または排出孔を形成するように配置されている。
図6は、図4の6−6線に沿って取った、システム220の断面図である。図6は、流体供給チャネル236および流体排出チャネル238が交互になった、例示的なレイアウトを説明しており、これらのチャネルは、列に配置された多数の流体吐出器40へと流体を供給し、また流体を排出させる。図6によって示されているように、各々の流体供給チャネル236は、2行の入口260を含んでいる。各々の流体排出チャネル242は、2行の出口262を含んでいる。各々の駆動チャンバー238(その幾つかを図6に矩形で概略的に示している)は、隣接する、または連続するチャネル236、242を横断して差し渡されており、オリフィス266が2つのチャネル236、242のほぼ間にある。図6に示された構造は、単一の流体供給チャネル236が、2つの列の流体吐出器240の入口260へと流体を供給し、また2つの列の流体吐出器240の出口262から流体を排出することを可能にする。その結果として、この構造は、流体吐出器240の各々について分離された流体供給チャネルおよび流体排出チャネルを提供するための、コンパクトで効率的なレイアウトをもたらす。
図4および図5によって示されているように、オリフィス層232は、チャンバー層230の上に堆積または形成され、各々の噴射チャンバー238および各々の吐出器240の単一のノズルまたはオリフィス266の側面および床面を形成するようにパターニングされた材料層を含んでいる。オリフィス層232はチャンバー層230と協働して、各々の駆動チャンバー238を形成する。1つの実施形態においては、オリフィス層232は、SU8(有機溶媒(ガンマブチロラクトンGBLまたはシクロペンタノン)に溶解されたビスフェノールAノボラックエポキシ)のような、エポキシ系フォトレジスト材料を含んでいてよく、各々の駆動チャンバー238の床面および側面、並びに各々の流体吐出器240のノズルまたはオリフィス266を形成するための、層232のパターニングを容易なものとする。さらに他の実施形態においては、オリフィス層232は他の材料から形成されていてよい。
図5によって示されているように、各々の吐出器240はさらに、オリフィス266にほぼ対面して、各々の駆動チャンバー238の内部に流体アクチュエータ270を含んでいる。図示の例においては、各々の流体アクチュエータ230は、電力源へと電気的に接続された熱抵抗器と、電流を抵抗器へと選択的に供給するための関連するスイッチまたはトランジスタを含んでおり、それによって十分な熱を発生して隣接する流体を蒸発させて膨張する気泡を形成し、それが気化されなかった流体をオリフィス266を通過させて移動させ、放出する。他の実施形態においては、各々の流体アクチュエータ230は圧電膜に基づくアクチュエータ、静電膜アクチュエータ、機械的/衝撃駆動膜アクチュエータ、磁歪駆動アクチュエータといった他の形態の流体アクチュエータ、または電気的起動に応じて流体に移動を生じさせてよい、他のそうした要素を含んでいてよい。
図7および図8は、システム220内部での流体の循環を例示している。図7は、システム220内で流体が流動して通過する、種々の通路または容積の大体の形状を示している。図7によって示されているように、マイクロ流体ダイ222から遠隔で、また基材224から遠隔の、加圧流体源250からの加圧流体は、矢印281によって示されているようにして、スロット234へと供給される。流体は矢印282によって示されているようにして入口252を通過し、そして矢印283によって示されているようにしてマイクロ流体供給チャネル236に沿って流動し、チャネル236の突き当り283に到達し、チャネル236を加圧する。供給チャネル236内部の加圧流体は、矢印285によって示されているようにして、各々の流体吐出器240の入口260の中へと流動する。流体は、薄く細長いマイクロ流体通路またはチャネルの形態をしている、各々の駆動チャンバー238を横断して流動または循環される。流体アクチュエータ270(図5に示す)によってオリフィス266を通して吐出されなかった流体は、出口262を通って流体排出チャネル242内へと排出される。
図8は、流体供給チャネル236から流体排出チャネル242へと、駆動チャンバー238を通過し横断する流体の循環を例示している。図8によって示されているように、各々の流体供給チャネル236は第1の流動容量(流体が通過して流動してよい断面積)を有し、これに対して各々の駆動チャンバー238およびそれに関連する流体入口260は第1の流動容量よりも小さな第2の流動容量を有している。入口260および駆動チャンバー238の流動容量の流動容積は、供給チャネル236と排出チャネル242の間に形成される圧力勾配と相俟って、粒子の沈降を効果的に阻止する、駆動チャンバー238を通る流速をもたらす。
1つの実施形態においては、流体供給チャネル236および流体排出チャネル242のそれぞれは、100μmと400μmの間、公称では275μmの幅と、200μmと600μmの間、公称では300μmの高さを有している。流体供給孔の入口260および流体排出孔の出口262のそれぞれは、10μmと50μmの間、公称では30μmの直径を有している。入口260のそれぞれ、および出口262のそれぞれは、10μmと120μmの間、公称では50μmの高さを有している。マイクロ流体チャネルの形態にある、駆動チャンバー238の各々は、10μmと40μmの間、公称では17μmの高さ、10μmと50μmの間、公称では20μmの幅、そして50μmと500μmの間、公称ではマイクロメートルの長さ(入口160から出口162まで)を有している。図示の例においては、駆動チャンバー238およびそれらのそれぞれのノズルオリフィス266は、少なくとも100μm、公称では169μmだけ、相互にピッチを有し、または離隔されている。こうした寸法は、流体吐出器240のコンパクトなレイアウトおよび配置をもたらし、同時に駆動チャンバー238を通過し横断する流体に適切な流速をもたらして、粒子の沈降を阻止し、また熱を個別の流体吐出器240の各々から外へ除去する。
図7によってさらに示されているように、出口262を通って流体排出チャネル242の中へと、矢印287によって示されているように排出された流体は、排出チャネル242に沿って、チャネル242の突き当り291に到達するまで、矢印289によって示されているように流動し、流体はそこで出口254を通過して、矢印293によって示されているように流体排出スロット244へと入る。図示の例においては、流体吐出器240からの熱の除去は、バイパスチャネル256によってさらに容易なものとされる。図4によって示されているように、バイパスチャネル256は、基材224と、チャネル236、242の床面を形成する介在層228の間に延びている。バイパスチャネル256は、流体が流体吐出器240の各々の後ろ側で横断して循環されてよい、より大きな流動容積をもたらし、過剰の熱を運び去る。流体の大きな循環流量は、異なる流体吐出器240にわたり、温度をより均一で一定にすることを容易ならしめ、流体の吐出または印刷性能を、より信頼性のある一貫したものとする。
本開示は、例示的な実施形態に関連して説明されてきたが、本技術の当業者であれば、特許請求された主題の思想および範囲から逸脱することなしに、形態および詳細について変更を行ってよいことを認識するであろう。例えば、異なる例示的な実施形態が、1つまたはより多くの利点をもたらす1つまたはより多くの特徴を含むものとして説明されてきたであろうが、説明された例示的な実施形態において、または他の代替的な実施形態において、説明された特徴を相互に交換してよく、または代替的には相互に組み合わせてよいことが考慮されている。本開示の技術は比較的複雑であることから、すべての技術的な変化を見通すことはできない。本開示は、例示的な実施形態に関して説明され、そして以下の特許請求の範囲に記載するところであるが、最も広くあることを意図していることは明らかである。例えば、特に別様に注記されていない限り、単一の特定の要素を記載している請求項は、そうした特定の要素の複数をも範囲内としている。請求項中の「第1」、「第2」、「第3」といった用語は、単に異なる要素を識別しているだけであり、別様に記載されていない限り、開示された要素の特定の順序または特定の順番と具体的に関連付けられるものではない。

Claims (14)

  1. 流体循環吐出システムであって:
    流体供給通路および流体排出通路を含むマイクロ流体ダイ;
    複数の流体吐出器の列;
    列の第1の側に沿って延び、流体供給通路に対して接続され、列にある複数の流体吐出器によって共有された流体供給チャネル;および
    列の第2の側に沿って延び、流体排出通路に対して接続され、列にある複数の流体吐出器によって共有された流体排出チャネルを含み、
    複数の流体吐出器の各々は駆動チャンバーを含み、この駆動チャンバーは:
    吐出される流体が通過する単一オリフィス;
    流体供給チャネルに接続された流体入口;および
    流体排出チャネルに接続された流体出口を含んでおり、そして
    加圧流体を流体供給通路に供給して駆動チャンバーを横切る圧力差を生成し、駆動チャンバーを横断して流体を循環させる、マイクロ流体ダイから遠隔の流体源、および
    複数の流体吐出器の列に沿って、流体供給チャネルおよび流体排出チャネルと別個に平行に延びて複数の流体吐出器をバイパスし、流体供給通路および流体排出通路を直接接続するバイパスチャネルを含む、流体循環吐出システム。
  2. 流体供給チャネルは流体供給通路と流体排出通路の間に延びて一端で流体供給通路に接続されており、流体排出チャネルは流体供給通路と流体排出通路の間に延びて一端で流体排出通路に接続されている、請求項1の流体循環吐出システム。
  3. 流体供給チャネルの他端は流体排出通路の近傍に位置する突き当りであり、流体排出チャネルの他端は流体供給通路の近傍に位置する突き当りである、請求項2の流体循環吐出システム。
  4. 流体供給チャネルは流体供給通路から流体供給通路に対して垂直に延び、流体排出チャネルは流体排出通路から流体排出通路に対して垂直に延び、流体供給チャネルと平行である、請求項1から3のいずれか1の流体循環吐出システム。
  5. 複数の流体吐出器の列は流体供給チャネルと流体排出チャネルの間に延びる、請求項1から4のいずれか1の流体循環吐出システム。
  6. マイクロ流体ダイによって支持され、各々の流体吐出器の駆動チャンバー、流体入口、および流体出口を形成する第1の層;
    第1の層によって支持され、各々の流体吐出器のオリフィスを形成する第2の層をさらに含む、請求項1から5のいずれか1の流体循環吐出システム。
  7. マイクロ流体ダイと第1の層の間に介在層をさらに含み、介在層は各々の流体吐出器の流体供給チャネルおよび各々の流体吐出器の流体排出チャネルの一部分を形成する、請求項6の流体循環吐出システム。
  8. 流体入口は第1の流動容量を有し、流体供給チャネルは第1の流動容量よりも大きな第2の流動容量を有する、請求項1からのいずれか1の流体循環吐出システム。
  9. 流体源は流体ポンプを含む、請求項1からのいずれか1の流体循環吐出システム。
  10. 列に対して平行に延びる、複数の第2の流体吐出器の第2の列;および
    第2の列の第1の側に沿って延び、流体排出通路に接続され、第2の列にある複数の第2の流体吐出器によって共有された第2の流体排出チャネルをさらに含み、
    流体供給チャネルは第2の列の第2の側に沿って延び、第2の列にある複数の第2の流体吐出器によって共有され、
    第2の流体吐出器の各々は第2の駆動チャンバーを含み、この第2の駆動チャンバーは:
    吐出される流体が通過する第2の単一オリフィス;
    流体供給チャネルに接続された第2の流体入口;および
    第2の流体排出チャネルに接続された第2の流体出口を含んでいる、請求項1からのいずれか1の流体循環吐出システム。
  11. 第2の流体排出チャネルは流体供給通路と流体排出通路の間に延びて一端で流体排出通路に接続されている、請求項10の流体循環吐出システム。
  12. 第2の流体排出チャネルの他端は流体供給通路の近傍に位置する突き当りである、請求項11の流体循環吐出システム。
  13. 第2の流体排出チャネルは流体排出通路から流体排出通路に対して垂直に延び、流体供給チャネルと平行である、請求項10から12のいずれか1の流体循環吐出システム。
  14. 複数の第2の流体吐出器の第2の列は流体供給チャネルと第2の流体排出チャネルの間に延びる、請求項10から13のいずれか1の流体循環吐出システム。
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