JP6961359B2

JP6961359B2 - 圧粉磁心

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Publication number: JP6961359B2
Application number: JP2017035295A
Authority: JP
Inventors: 誠吾野老; 暁太朗阿部; 晶出▲崎▼
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2017-02-27
Filing date: 2017-02-27
Publication date: 2021-11-05
Anticipated expiration: 2037-02-27
Also published as: JP2018142596A

Description

本発明は圧粉磁心に関し、さらに詳しくは金属磁性粉の充填率が高い圧粉磁心に関する。

近年、インダクタ、チョークコイル、トランス等といったコイル部品やモーターなどの小型化が求められていることから、フェライトと比較して飽和磁束密度が大きく、直流重畳特性が高磁界まで保たれる金属磁性材料が広く用いられるようになった。金属磁性材料の多くは、透磁率の高いＦｅ系の非晶質合金磁性粉が用いられる。Ｆｅ系非晶質合金磁性粉は、一般に硬質で、変形し難い。このため、Ｆｅ系非晶質合金磁性粉単独では圧縮成形が難しく、適量のバインダーと混合して、圧縮成形することで圧粉磁心（コア）を得ている。

圧粉磁心では、金属磁性粉の粒子同士がバインダーによって結着されることで、金属磁性粉間の絶縁と、磁心形状の保持とが実現されている。その一方で、バインダーが多くなり過ぎると、磁性粉の相対比率が低下し、圧粉磁心の透磁率の低下が避けられない。このため、圧粉磁心に高密度で磁性粉を充填する技術が提案されている。

特許文献１（特開2004-197218）、特許文献２（特開2004-363466）および特許文献３（特開2010-118486）には、非晶質軟磁性粉末と結晶質軟磁性粉末との混合粉末を用いることにより、磁性粉の充填率を改善することが提案されている。結晶質磁性粉は非晶質磁性粉に比べて硬度が低いため、圧縮成形時に結晶質軟磁性粉末を塑性変形させることにより、充填率を向上させ、透磁率を高めることができる。

また、特許文献４（特開2014-103265）には、ビッカース硬度が異なる（高Ｈｖと低Ｈｖ）磁性粉を用いることが記載されている。

すなわち、特許文献１〜４では、硬度の異なる磁性粉を併用し、低硬度磁性粉を圧縮成形時の圧力によって変形して、高硬度磁性粉間の空隙を充填することで、磁性粉の充填度を向上させている。

特開2004-197218 特開2004-363466 特開2010-118486 特開2014-103265

上記特許文献１〜４では、磁性粉の充填度は向上するものの、未だにバインダー成分を併用しなければ圧粉成形体の形状維持が困難であった。このことは、特許文献１〜４の実施例においてバインダー成分が併用されていることからも裏付けられる。したがって、本発明は、バインダー成分の使用量をさらに削減し、磁心における磁性粉の相対密度を向上し、究極的にはバインダー成分を使用しなくても圧粉成形が可能な技術を提供することを目的としている。

本発明者らは、圧粉磁心を構成する金属磁性粉の充填率向上を目指し鋭意検討を続けたところ、磁性粉の硬度は、その変形性の指標のひとつではあるが、形状の維持性を反映するものではないことに想到した。すなわち、硬度が低く、変形が容易であっても、除圧後に元の形状に復元すると、磁性粉間の充填性は低下し、また圧粉磁心にクラックが発生することもある。

そこで、本発明者らは、磁性粉の塑性変形と、変形後の形状維持の重要性に鑑みて、材料探索を行い、特定のパラメータ（後述のＮＩＴ値）を満足する磁性粉を組み合わせて用いることで、磁性粉の高充填が可能であり、さらに保型性に優れた圧粉磁性が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は以下の要旨を含む。
（１）ＮＩＴ値が１０％以上３０％以下の第１金属磁性粉と、ＮＩＴ値が３０％を超え９０％以下の第２金属磁性粉とを含む圧粉磁心。
（２）第１金属磁性粉と第２金属磁性粉との合計１００質量部当り、第１金属磁性粉を３０〜５０質量部、第２金属磁性粉を７０〜５０質量部の割合で含む（１）に記載の圧粉磁心。
（３）圧粉磁心の全質量に対する樹脂成分の含有量が２質量％以下である（１）または（２）に記載の圧粉磁心。
（４）第１金属磁性粉のＮＩＴ値と第２金属磁性粉のＮＩＴ値との差が６０％以下である（１）〜（３）のいずれかに記載の圧粉磁心。
（５）第１金属磁性粉のＮＩＴ値と第２金属磁性粉のＮＩＴ値との差が５０％以下である（４）に記載の圧粉磁心。
（６）第１金属磁性粉および第２金属磁性粉がともにＦｅ系軟磁性粉である（１）〜（５）のいずれかに記載の圧粉磁心。
（７）第１金属磁性粉および第２金属磁性粉のいずれか一方または両方が絶縁被膜を有する（１）〜（６）のいずれかに記載の圧粉磁心。

本発明では、ＮＩＴ値の異なる少なくとも２種の金属磁性粉を併用する。第１金属磁性粉は、低ＮＩＴ値を有し、変形しやすく、また変形後の形状を維持する性質を有する。一方の第２金属磁性粉は高ＮＩＴ値を有し、比較的硬質であり、変形性は低い。このため、圧粉成形時に第２金属磁性粉の間の空隙に第１金属磁性粉が充填され、またその状態を維持する。この結果、金属磁性粉の充填率が向上し、また保型性に優れた圧粉磁心が得られる。

そして、本発明によれば第１金属磁性粉がバインダーとしての機能を果たすため、樹脂系バインダーの使用量を削減でき、究極的には樹脂系のバインダーを用いることなく圧粉磁心を得ることもできる。

図１は、ナノインデンテーション法による荷重−変位曲線の典型例を示す。

以下、本発明を、具体的な実施形態に基づき説明するが、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変は許容される。

（圧粉磁心）
本実施形態に係る圧粉磁心は、２種の金属磁性粉を含む。圧粉磁心には、有機バインダー成分は含まれていても良いが、本発明によれば樹脂系バインダーの使用量を削減でき、究極的には樹脂系のバインダーを用いることなく圧粉磁心を得ることもできる。金属磁性粉の一方または両方には、絶縁被膜が形成されていてもよい。

このような圧粉磁心は、コイル型電子部品の磁心として好適に用いられる。たとえば、所定形状の圧粉磁心内部に、ワイヤが巻回された空芯コイルが埋設されたコイル型電子部品であってもよいし、所定形状の圧粉磁心の表面にワイヤが所定の巻き数だけ巻回されてなるコイル型電子部品であってもよい。ワイヤが巻回される磁心の形状としては、ＦＴ型、ＥＴ型、ＥＩ型、ＵＵ型、ＥＥ型、ＥＥＲ型、ＵＩ型、ドラム型、トロイダル型、ポット型、カップ型等を例示することができる。

（金属磁性粉）
本実施形態における金属磁性粉は、ＮＩＴ値が１０％以上３０％以下の第１金属磁性粉と、ＮＩＴ値が３０％を超え９０％以下の第２金属磁性粉とを含む。ＮＩＴ値は、Nano-IndenTation（ナノインデンテーション）法により評価される特性値であり、塑性変形性と形状保持性とを反映するパラメータ値である。

ナノインデンテーション法は、測定装置の基盤上に載置した試料の表面にダイヤモンド製の三角錐の圧子をある荷重まで押し込んだ（圧入）後、その圧子を取り除く（除荷）までの荷重（Ｐ）と変位（圧入深さｈ）の関係（圧入（負荷）−除荷曲線）を測定する方法である。図１に、ナノインデンテーション法による典型的な荷重−変位曲線を示す。

圧入（負荷）曲線は材料の弾塑性的な変形挙動を反映し、除荷曲線は弾性的な回復挙動により得られる。そして、負荷曲線と除荷曲線と横軸で囲まれた面積（α）が、塑性変形に消費したエネルギーＥｐである。また負荷曲線の最大荷重点から横軸（圧入深さｈ）に下ろした垂線と除荷曲線とで囲まれた面積（β）が、弾性変形で吸収されたエネルギーＥｅである。

本実施形態では、負荷曲線の最大荷重点から横軸（圧入深さｈ）に下ろした垂線と負荷曲線と横軸とで囲まれた面積（α＋β）に対する面積（β）の割合（百分率）をＮＩＴ値と定義する。
ＮＩＴ値＝１００β／（α＋β）

第１金属磁性粉のＮＩＴ値は１０％以上３０％以下であり、好ましくは１２〜２８％、さらに好ましくは１５〜２５％である。また、第２金属磁性粉のＮＩＴ値は３０％を超え９０％以下であり、好ましくは５０〜８８％、さらに好ましくは５９〜８６％である。第１金属磁性粉および第２金属磁性粉のＮＩＴ値が上記範囲にあることで、圧粉成形時に第２金属磁性粉の間の空隙に第１金属磁性粉が充填され、またその状態を維持する。この結果、金属磁性粉の充填率が向上し、また保型性に優れた圧粉磁心が得られる。第１金属磁性粉のＮＩＴ値が１０％未満であると、材質的に軟らか過ぎるため、圧粉成形後に成形体が変形することがある。また第１金属磁性粉のＮＩＴ値が３０％を超えると、第２金属磁性粉と同程度に硬質であるため、変形が困難になり、成形できないことがある。また、成形できても成形体が形状を維持できないことがある。第２金属磁性粉のＮＩＴ値が３０％以下であると、第１金属磁性粉と同程度に軟質であるため、成形体の形状を維持できないことがある。また、第２金属磁性粉のＮＩＴ値が９０％を超えると、成形が困難になり、また成形できても形状を維持できないことがある。

第１金属磁性粉のＮＩＴ値と第２金属磁性粉のＮＩＴ値との差が大きすぎると、得られる圧粉磁心のコアロスが増大することがある。したがって、第１金属磁性粉のＮＩＴ値と第２金属磁性粉のＮＩＴ値との差は、６０％以下が好ましく、５０％以下がさらに好ましい。

第１金属磁性粉および第２金属磁性粉は、特に限定はされないが、好ましくは軟磁性粒子であり、Ｆｅ系軟磁性粒子であってもよい。Ｆｅ系磁性粒子は、具体的には、純鉄、Ｆｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ系アモルファス合金、Ｆｅ系ナノ結晶合金等が例示され、純鉄またはＦｅ−Ｓｉ系合金であることがより好ましい。

好ましい金属磁性粉であるＦｅ−Ｓｉ系合金では、ＦｅおよびＳｉの含有量が合計８０重量％以上である。また、ＦｅとＳｉとの比率には特に制限はないが、重量比でＳｉ／Ｆｅ＝０／１００〜１０／９０であると、飽和磁荷が高くなり好ましい。

金属磁性粉の作製方法には特に制限はないが、例えば、アトマイズ法（例えば、水アトマイズ法、ガスアトマイズ法、高速回転水流アトマイズ法等）、還元法、カルボニル法、粉砕法等の各種粉末化法により製造される。

第１金属磁性粉と第２金属磁性粉とは、ＮＩＴ値が上記範囲にある限り同一の材質であってもよく、異なる材質であっても良い。ＮＩＴ値は、磁性粉の材質や、磁性粉に添加される不純物の種類、量、磁性粉の熱処理条件により制御できる。たとえば、Ｆｅ系磁性粉にカーボンを添加し、１０００℃以上で熱処理することで、ＮＩＴ値が増加する。非制限的な例として、ＮＩＴ値が１８％のＦｅ系磁性粉に、カーボンを０．５質量％添加し１２００℃に加熱し、急冷することで、ＮＩＴ値が３５％程度に増加する。同様にＮＩＴ値が１５％のＦｅ系磁性粉に、カーボンを０．２質量％添加し１１００℃に加熱し、急冷することで、ＮＩＴ値が２３％程度に増加する。また、一般にＦｅ系磁性粉では、純度が高くなるほどＮＩＴ値が低くなる傾向にあり、純度９９．９％のＦｅ系磁性粉ではＮＩＴ値が１０％程度になる。また、一般に結晶性磁性粉のＮＩＴ値は小さく、非晶性磁性粉のＮＩＴ値は大きな傾向があるため、磁性粉の結晶性を考慮して、所望のＮＩＴ値を有する磁性粉を選択することもでき、また磁性粉の結晶化処理あるいは非晶化処理などにより所望のＮＩＴ値を有する磁性粉を得ることもできる。

第１金属磁性粉および第２金属磁性粉のいずれか一方または両方には、絶縁被膜が形成されていてもよい。

絶縁被膜の構成材料としては、例えば、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウム、リン酸亜鉛、リン酸マンガン、リン酸カドミウムのようなリン酸塩、ケイ酸ナトリウムのようなケイ酸塩（水ガラス）、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウ酸塩ガラス、硫酸塩ガラス等の無機被膜が好ましく用いられる。無機被膜は、特に絶縁性に優れていることから、誘導電流によるジュール損失を特に小さく抑えることができる。また、絶縁被膜を設けることにより、金属材料で構成された各粒子間の絶縁性を特に高めることができる。

絶縁被膜の厚みは、好ましくは５〜１００ｎｍ、さらに好ましくは５〜５０ｎｍ、特に好ましくは１０〜３０ｎｍの範囲にある。絶縁被膜の厚みが薄過ぎると十分な耐食性が得られず、また厚過ぎると金属磁性材料間の間隔が広がってしまい、圧粉磁心としての透磁率μが低下することがある。

本実施形態に係る圧粉磁心を構成する第１金属磁性粉および第２金属磁性粉の大きさ、形状は特に限定はされない。第１金属磁性粉は変形性を有し、第２金属磁性粉間の空隙を充填するため、第１金属磁性粉および第２金属磁性粉の形状がいかなる形状であっても高い充填率が達成できる。したがって、第１金属磁性粉および第２金属磁性粉の形状は特に限定されず、例えば、球形状、楕円形状、円柱形状、多角柱、針状ないし棒状形状、板状形状、円板形状、薄片形状、鱗片形状、不定形状などが挙げられる。また、第１金属磁性粉は変形性を有し、第２金属磁性粉間の空隙を充填するため、第１金属磁性粉は、第２金属磁性粉よりも比較的小粒径であることが好ましい。何ら制限されるものではないが、第１金属磁性粉の円相当径は、好ましくは１０〜３０μｍ、さらに好ましくは１５〜２５μｍであり、第２金属磁性粉の円相当径は好ましくは３０〜６０μｍ、さらに好ましくは４０〜５０μｍの範囲にある。

圧粉磁心における第１金属磁性粉と第２金属磁性粉との配合比は特に限定はされない。ＮＩＴ値の高い第２金属磁性粉は、一般的に非晶質であり、結晶質磁性粉に比べて高い透磁率を示すため、圧粉磁心の主成分とすることが好ましい。したがって、第１金属磁性粉と第２金属磁性粉との合計１００質量部当り、第１金属磁性粉の配合量は、好ましくは３０〜５０質量部、さらに好ましくは３５〜４５質量部であり、第２金属磁性粉の配合量は、好ましくは７０〜５０質量部、さらに好ましくは６５〜５５質量部の範囲にある。

第１金属磁性粉は、変形しやすく、また変形後の形状を維持する性質を有する。一方の第２金属磁性粉は比較的硬質であり、変形性は低い。このため、圧粉成形時に第２金属磁性粉の間の空隙に第１金属磁性粉が充填され、またその状態を維持する。この結果、金属磁性粉の充填率が向上し、また保型性に優れた圧粉磁心が得られる。そして、第１金属磁性粉がバインダーとしての機能を果たすため、樹脂系バインダーの使用量を削減でき、究極的には樹脂系のバインダーを用いることなく圧粉磁心を得ることもできる。

したがって、本実施形態に係る圧粉磁心では、圧粉磁心の全質量に対する樹脂成分の含有量を２質量％以下とすることができ、また好ましい実施形態では１質量％以下とすることもできる。さらには、バインダーを配合することなく、圧粉成形体を得ても良い。

なお、使用してもよいバインダーを構成する樹脂としては、公知の樹脂を用いることができる。具体的には、各種有機高分子樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等が例示される。

（圧粉磁心の製造方法）
圧粉磁心の製造方法としては、特に制限されず、公知の方法を採用することができる。まず、第１金属磁性粉と第２金属磁性粉と、必要に応じバインダーとを混合し、混合粉を得る。また、必要に応じて、得られた混合粉を造粒粉としてもよい。そして、混合粉または造粒粉を金型内に充填して圧縮成形し、作製すべき磁性体（圧粉磁心）の形状を有する成形体を得る。得られた成形体に対して、熱処理を行うことにより、金属磁性粉が固定された所定形状の圧粉磁心が得られる。熱硬化処理の条件に特に制限はなく、例えば１５０〜２２０℃で１〜１０時間、熱処理を行う。また、熱処理時の雰囲気にも特に制限はなく、大気中で熱処理をしてもよい。得られた圧粉磁心に、ワイヤを所定回数だけ巻回することにより、インダクタ等のコイル型電子部品が得られる。

また、上記の混合粉または造粒粉と、ワイヤを所定回数だけ巻回して形成された空心コイルとを、金型内に充填して圧縮成形しコイルが内部に埋設された成形体を得てもよい。得られた成形体に対して、熱処理を行うことにより、コイルが埋設された所定形状の圧粉磁心が得られる。このような圧粉磁心は、その内部にコイルが埋設されているので、インダクタ等のコイル型電子部品として機能する。

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は上記の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の範囲内において種々の態様で改変しても良い。

以下、実施例を用いて、発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
下記において、ＮＩＴ値は以下のように測定した。

＜ＮＩＴ値測定＞
ナノインデンテーション測定装置として、超微小押し込み硬さ試験機（ＥＮＴ−１１００ａ、株式会社エリオニクス製）を使用して、金属磁性粉のＮＩＴ値を測定した。金属磁性粉の表面が平面になるように研磨した。研磨は、研磨紙で研磨した後、バフ研磨（６μｍ）を行い、さらにバフ研磨（１μｍ）を行った。なお、粉体が小さすぎると正確な測定が行えないため、各金属磁性粉の中から、比較的大粒の粉体を使用する。測定する磁性粉の種類にもよるが、５０〜１００μｍ程度の粉体を使用することで、信頼性の高い測定値が得られる。

測定装置の基盤上に載置した試料の表面にダイヤモンド製の三角錐の圧子を１００００００μＮの加重まで押し込んだ（圧入）後、その圧子を取り除く（除荷）までの荷重（Ｐ）と変位（圧入深さｈ）の関係（圧入（負荷）−除荷曲線）を測定した。下記式に基づきＮＩＴ値を算出した。
ＮＩＴ（％）＝１００β／（α＋β）
使用した各金属磁性粉のＮＩＴ値、円相当径、形状を下表にまとめる。下表で、Ｅｘは実施例を表し、ＣＥｘは比較例を表す。

（実施例１）
第１金属磁性粉として、ＮＩＴ値１６％、円相当径２０μｍのＦｅ系磁性粉を準備した（磁性粉１Ａ）。また、第２金属磁性粉として、ＮＩＴ値５９％、円相当径４５μｍの楕円形状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ａ）。

磁性粉１Ａを４０質量部、磁性粉２Ａを６０質量部混合した。混合粉を外径１７．５ｍｍ、内径１１．０ｍｍのトロイダル形状の金型内に充填し、成形圧９８０ＭＰａで加圧し圧粉磁心の成形体を得た。成形体重量は５ｇとした。作製した圧粉磁心の成形体を２００℃で５時間、大気中での熱硬化処理を行い、圧粉磁心を得た。

（実施例２）
第１金属磁性粉として、ＮＩＴ値２５％、円相当径２３μｍのＦｅＮｉＳｉＣｏ系磁性粉を準備した（磁性粉１Ｂ）。また、第２金属磁性粉として、ＮＩＴ値６５％、円相当径４７μｍの球状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｂ）。

磁性粉１Ｂを４０質量部、磁性粉２Ｂを６０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例３）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ｂを準備した。また、第２金属磁性粉として、ＮＩＴ値６５％、円相当径４０μｍの破片状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｃ）。

磁性粉１Ｂを４０質量部、磁性粉２Ｃを６０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例４）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ａを準備した。また、第２金属磁性粉として、ＮＩＴ値７０％、円相当径４２μｍの楕円形状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｄ）。

磁性粉１Ａを４０質量部、磁性粉２Ｄを６０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例５）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ｂを準備した。また、第２金属磁性粉として、磁性粉２Ａを準備した。また、バインダーとして、熱硬化樹脂であるエポキシ樹脂および硬化剤であるイミド樹脂を準備した（以下「バインダー」と記載）。

磁性粉１Ｂを４０質量部、磁性粉２Ａを６０質量部、および磁性粉の合計重量に対し２質量％のバインダーを混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例６）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ａを準備した。また、第２金属磁性粉として、ＮＩＴ値６３％、円相当径５０μｍの不定形状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｅ）。

磁性粉１Ａを４０質量部、磁性粉２Ｅを６０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例７）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ｂを準備した。また、第２金属磁性粉として、ＮＩＴ値８６％、円相当径３６μｍの楕円形状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｆ）。

磁性粉１Ｂを４０質量部、磁性粉２Ｆを６０質量部およびバインダー１質量％を混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例８）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ａを準備した。また、第２金属磁性粉として、磁性粉２Ａを準備した。

磁性粉１Ａを３０質量部、磁性粉２Ａを７０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例９）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ａを準備した。また、第２金属磁性粉として、磁性粉２Ａを準備した。

磁性粉１Ａを５０質量部、磁性粉２Ａを５０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（実施例１０）
第１金属磁性粉として、磁性粉１Ａを準備した。また、第２金属磁性粉として、磁性粉２Ａを準備した。また、これらとは別にＮＩＴ値６３％、円相当径４０μｍの不定形状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉３Ａ）。

磁性粉１Ａを４０質量部、磁性粉２Ａを６０質量部、磁性粉３Ａを１０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（比較例１）
比較例１では、ＮＩＴ値が３０％を超える第２金属磁性粉を２種用いた。
第２金属磁性粉として、磁性粉２Ａを準備した。また、これらとは別にＮＩＴ値３３％、円相当径２０μｍの不定形状のＦｅ−２Ｓｉ系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｇ）。

磁性粉２Ｇを４０質量部、磁性粉２Ａを６０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（比較例２）
第２金属磁性粉として、磁性粉２Ｂおよび２Ｇを準備した。

磁性粉２Ｇを４０質量部、磁性粉２Ｂを６０質量部混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（比較例３）
磁性粉２Ａのみを使用して、実施例１と同様に圧粉成形を行なったが、保型性が悪く、磁心形状を維持できなかった。

（比較例４）
磁性粉２Ｃのみを使用して、実施例１と同様に圧粉成形を行なったが、保型性が悪く、磁心形状を維持できなかった。

（比較例５）
比較例５では、ＮＩＴ値が３０％を超える第２金属磁性粉を２種用いた。
第２金属磁性粉として、磁性粉２Ａを準備した。また、これとは別にＮＩＴ値６５％、円相当径４０μｍの楕円形状のアモルファス系磁性粉を準備した（磁性粉２Ｈ）。

磁性粉２Ａを４０質量部、磁性粉２Ｈを６０質量部混合し、実施例１と同様に圧粉成形を行なったが、保型性が悪く、磁心形状を維持できなかった。

（比較例６）
磁性粉２Ｈにバインダー３質量％混合し、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

（比較例７）
比較例７では、実施例１の第１金属磁性粉（磁性粉１Ａ）に代えて、ＮＩＴ値５％、円相当径１５μｍの純Ｆｅ系磁性粉（磁性粉３Ｂ）を使用した以外は、実施例１と同様に圧粉成形を行なったが、保型性が悪く、磁心形状を維持できなかった。

（比較例８）
比較例８では、実施例１の第２金属磁性粉（磁性粉２Ａ）に代えて、ＮＩＴ値９５％、円相当径４５μｍの破片状のアモルファス系磁性粉（磁性粉３Ｃ）を使用した以外は、実施例１と同様に圧粉成形を行なったが、保型性が悪く、磁心形状を維持できなかった。

（比較例９）
磁性粉１Ａのみを使用して、実施例１と同様にして圧粉磁心を得た。

上記で作成した各圧粉磁心について、以下の評価を行った。
＜保型性＞
作成した圧粉磁心を、目視及び拡大鏡で観察する。コアの崩れ、割れ、クラックの有無を観察し全てにおいて異常が無いかどうかを確認する。異常が無い場合を「良好」とし、僅かに異常はあるが、コア形状を維持できる場合には「可」として、コア形状が維持できなかった場合を「不良」とした。なお、保型性が不良の場合には、以下の相対密度、透磁率、コアロスの測定は行っていない。

＜相対密度＞
得られた圧粉磁心の密度を、その寸法および質量から算出し、算出された圧粉磁心の密度を、磁性粉の質量比率から計算した真密度で除して、占積率（相対密度）を算出した。

＜透磁率＞
得られた圧粉磁心について、初透磁率を測定した。初透磁率は、圧粉磁心にワイヤを巻きつけ巻き数を１２ｔｕｒｎとして、ＬＣＲメーター（ＨＰ社ＬＣＲ４２８Ａ）によって測定した。

＜コアロス＞
得られたトロイダルコアサンプルに、１次巻線および２次巻線を１次２０回２次１４回ずつ巻回し、２ＭＨｚ、１０ｍＴ、２３℃での電力損失Ｐｃｖを測定した（単位：ｋＷ／ｍ³）。測定は、Ｂ−Ｈアナライザー（岩崎通信機株式会社製ＳＹ−８２３２）を用いて行った。
以上の結果を下表にまとめる。

上記より、ＮＩＴ値が１０％以上３０％以下の第１金属磁性粉と、ＮＩＴ値が３０％を超え９０％以下の第２金属磁性粉とを組み合わせて使用することで、保型性、相対密度、透磁率の高い圧粉磁心が得られることが分かる。第１金属磁性粉を使用しない場合には、十分な保型性が得られず、磁心の形状が維持できないか（比較例３、４、５）、または相対密度の低い磁心が得られる（比較例１、２）。第１金属磁性粉を使用しない場合でも、バインダーを配合することで、磁心成形は可能であるが、相対密度が低下し、透磁率も低下する（比較例６）。第１金属磁性粉に代えて、ＮＩＴ値が過度に低い金属磁性粉を用いても、磁心の形状維持はできなかった（比較例７）。第２金属磁性粉に代えて、ＮＩＴ値が過度に高い金属磁性粉を用いても、磁心の形状維持はできなかった（比較例８）。また、第２金属磁性粉を用いない場合には、透磁率が上がらず、保型性も十分ではなかった（比較例９）。

Claims

ＮＩＴ値が１０％以上３０％以下の第１金属磁性粉と、ＮＩＴ値が３０％を超え９０％以下の第２金属磁性粉とを含み、
圧粉磁心の全質量に対する樹脂成分の含有量が１質量％以下である圧粉磁心。
第１金属磁性粉と第２金属磁性粉との合計１００質量部当り、第１金属磁性粉を３０〜５０質量部、第２金属磁性粉を７０〜５０質量部の割合で含む請求項１に記載の圧粉磁心。
第１金属磁性粉のＮＩＴ値と第２金属磁性粉のＮＩＴ値との差が６０％以下である請求項１または２に記載の圧粉磁心。
第１金属磁性粉のＮＩＴ値と第２金属磁性粉のＮＩＴ値との差が５０％以下である請求項３に記載の圧粉磁心。
第１金属磁性粉および第２金属磁性粉がともにＦｅ系軟磁性粉である請求項１〜４のいずれかに記載の圧粉磁心。
第１金属磁性粉および第２金属磁性粉のいずれか一方または両方が絶縁被膜を有する請求項１〜５のいずれかに記載の圧粉磁心。