JP6955037B2 - Arminohosilicate glass, its manufacturing method and application - Google Patents

Arminohosilicate glass, its manufacturing method and application Download PDF

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Description

本発明は、ガラス製造の分野に関し、具体的には、アルミノホウシリケートガラス、その製造方法及び応用に関する。 The present invention relates to the field of glass production, and specifically to aluminum nohosilicate glass, a method for producing the same, and application thereof.

スマートフォン及びタブレットの普及に伴い、スマートモビリティの時代が始まった。従来の携帯電話は、通信機能に限定されているが、スマートフォンやタブレットを含む現在のスマート機器の特性は、ノート型コンピュータに近く、人々がワイヤレス通信の利便性を活用して常に高いレベルのビジネスやエンターテイメント活動を行ったり楽しんだりすることが可能になる。このような傾向では、ディスプレイの特性への要求も持続的に向上しており、特に、モバイルスマート機器の画質、屋外での視認性への要求も高まりつつあり、また、手持ち式機器の使用の負担を軽減するために、軽量化、薄型化へ進んでいる。この開発トレンドのガイダンスによって、ディスプレイパネルは、低密度化、軽量薄型化、超高精細ディスプレイの方向へ開発されており、パネルの製造プロセスは、高処理温度化へ発展しており、また、プロセス処理されると、単一の板ガラスの厚さは、０．２５ｍｍ、０．２ｍｍ、０．１ｍｍ以下に達する。ただし、ガラス基板の厚さが大幅に減少するに伴い、セル化したディスプレイパネルは、機械的強度が大幅に低下し、落下衝撃耐性が不十分になり、パネルの製造プロセスにはＢｅｎｄｉｎｇ試験の失敗がしばしば発生する。したがって、基板ガラス材料の柔軟性を向上させて、ガラス材料の脆性を低減することは、材料処方の研究における重要な課題の１つである。 With the spread of smartphones and tablets, the era of smart mobility has begun. Traditional mobile phones are limited to communication functions, but the characteristics of today's smart devices, including smartphones and tablets, are similar to those of laptop computers, and people always take advantage of the convenience of wireless communication to achieve a high level of business. It will be possible to carry out and enjoy entertainment activities. In this trend, the demand for display characteristics is continuously increasing, and in particular, the demand for image quality and outdoor visibility of mobile smart devices is increasing, and the use of handheld devices is increasing. In order to reduce the burden, we are proceeding with weight reduction and thinning. With the guidance of this development trend, display panels are being developed toward lower density, lighter weight and thinner, ultra-high definition displays, and the panel manufacturing process is evolving to higher processing temperature, and the process. When processed, the thickness of a single flat glass reaches 0.25 mm, 0.2 mm, 0.1 mm or less. However, as the thickness of the glass substrate is significantly reduced, the cell-shaped display panel has a significantly reduced mechanical strength, insufficient drop impact resistance, and a failure of the bending test in the panel manufacturing process. Often occurs. Therefore, improving the flexibility of the substrate glass material and reducing the brittleness of the glass material is one of the important issues in the study of material formulation.

フレキシブルディスプレイの分野では、フレキシブルディスプレイデバイスは、主に基板、中間ディスプレイ媒体、及びパッケージの３層から構成されている。基板ベース材料は、ガラス、有機ポリマー、金属などの材料で製造され、現在のところ、それぞれ長所と短所があり、強度と靭性を両立できる最適な対策はない。有機ポリマーのフレキシブルベースには、コストが低く、製造しやすいなどの利点がある反面、熱安定性、水及び酸素のバリア性などの点に関しては大きな制限があり、たとえば、最適化されたポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、略語ＰＩ）は、４００℃を超えた高温耐性を有するが、ＬＴＰＳプロセスにおける６００℃の高温プロセスの要求を満たすことはできず、一方、ＯＬＥＤ材料に求められる水及び酸素バリアへの要求を満たすためには、高価なフィルムパッケージプロセスを使用する必要がある。ポリマーや金属箔などのフレキシブル材料と比較して、厚さ＜０．１ｍｍの極薄ガラスは、高度に最適化された処方を有するガラス材料であり、その水分及び酸素のバリア性に優れ、優れた耐薬品性及び機械的特性を有するとともに、低熱膨張性及び高熱安定性を有する。その最大の利点は、コーティング技術の成熟性及び互換性にある。現在、主流のＡＭＬＣＤ、ＡＭＯＬＥＤは、すべてガラス基板にＴＦＴを製造し、関連する技術、設備や産業チェーンは非常に成熟しており、互換性は非常に満足のいくものであり、生産コストを大幅に削減させることができ、フレキシブルガラス基板は、折り畳むことができないという問題が存在するが、すべての応用シーンでデバイスを折り畳む必要があるわけではない。固定曲面を備えた高画素密度の光電子ディスプレイデバイスなど、非折り畳み式のフレキシブル光電子デバイスの応用に対する需要も多い。一方、高耐熱性を有するフレキシブルガラス基板を提供することは、ＬＴＰＳなどの技術の円滑な実施に有利であり、高精細フレキシブルディスプレイデバイスの製造による要求を満たせる。フレキシブルガラスベースとして使用されるガラス材料は、十分に高い熱安定性を有する必要があり、たとえば、歪点は、６４０℃、６６０℃、さらに６８０℃を超える。一方、脆性材料である極薄ガラスとしては、その脆弱性を低減し、その利点を拡大することは、材料処方の点では解決すべき課題であり、例えば、成分を改良することによりその柔軟性と曲げ特性を向上させることができる。また、製造コストを大幅に増加させず、透過率を大幅に低下させないことを前提として、ガラス基板の屈折率を適切に増加させると、ＯＬＥＤ照明又はディスプレイデバイスの光取り出し効率と統合的な表示効果にとって有利である。 In the field of flexible displays, flexible display devices are mainly composed of three layers: a substrate, an intermediate display medium, and a package. Substrate-based materials are manufactured from materials such as glass, organic polymers, and metals, each of which has its strengths and weaknesses, and there is currently no optimal measure to achieve both strength and toughness. While flexible bases of organic polymers have advantages such as low cost and ease of manufacture, they have major limitations in terms of thermal stability, water and oxygen barrier properties, etc. For example, optimized polyimide ( Polyimide (abbreviation PI) has high temperature resistance above 400 ° C., but cannot meet the requirements of the high temperature process of 600 ° C. in the LTPS process, while the requirements for water and oxygen barriers required for OLED materials. To meet, it is necessary to use an expensive film packaging process. Compared to flexible materials such as polymers and metal foils, ultra-thin glass with a thickness <0.1 mm is a glass material with a highly optimized formulation, which has excellent moisture and oxygen barrier properties and is excellent. It has chemical resistance and mechanical properties, as well as low thermal expansion and high thermal stability. Its greatest advantage lies in the maturity and compatibility of the coating technology. Currently, the mainstream AMLCD and AMOLED all manufacture TFTs on glass substrates, the related technology, equipment and industrial chain are very mature, the compatibility is very satisfactory, and the production cost is large. There is a problem that the flexible glass substrate cannot be folded, but it is not necessary to fold the device in all application scenes. There is also great demand for applications of non-foldable flexible optoelectronic devices, such as high pixel density optoelectronic display devices with fixed curved surfaces. On the other hand, providing a flexible glass substrate having high heat resistance is advantageous for smooth implementation of technologies such as LTPS, and can satisfy the requirements for manufacturing high-definition flexible display devices. The glass material used as the flexible glass base must have sufficiently high thermal stability, for example, the strain points exceed 640 ° C, 660 ° C, and even more than 680 ° C. On the other hand, for ultrathin glass, which is a brittle material, reducing its brittleness and expanding its advantages is a problem to be solved in terms of material formulation. For example, its flexibility is improved by improving its components. And the bending characteristics can be improved. In addition, if the refractive index of the glass substrate is appropriately increased on the premise that the manufacturing cost is not significantly increased and the transmittance is not significantly reduced, the light extraction efficiency of the OLED lighting or the display device and the integrated display effect are achieved. It is advantageous for.

本発明の目的は、従来技術に存在する上記問題を解決するために、アルミノホウシリケートガラス、その製造方法及び応用を提供することであり、本発明のアルミノホウシリケートガラスは、低密度、高屈折率、低熱膨張係数、高熱安定性、高柔軟性を有し、且つ曲げられやすいなどの特徴を有する。 An object of the present invention is to provide an aluminum nohosilicate glass, a method for producing the same, and an application thereof in order to solve the above-mentioned problems existing in the prior art. The aluminum nohosilicate glass of the present invention has a low density and a high refractive index. It has features such as rate, low thermal expansion coefficient, high thermal stability, high flexibility, and easy bending.

上記目的を達成させるために、第１態様によれば、本発明は、アルミノホウシリケートガラスを提供し、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成には、ＳｉＯ２：３３〜６０ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３：３〜１０ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３：１０〜３０ｗｔ％、ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３：１〜１５ｗｔ％、及びアルカリ土類金属酸化物ＲＯ：７〜２７ｗｔ％が含まれ、ここで、ＲＯは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１種であり、Ｓｃ２Ｏ３の含有量は、０．００１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦１ｗｔ％を満たす。 In order to achieve the above object, according to the first aspect, the present invention provides aluminium oxide silicate glass, and the composition of the glass is based on the total weight of each component in the composition of the glass. 2 : 33 to 60 wt%, Al 2 O 3: 3 to 10 wt%, B 2 O 3 : 10 to 30 wt%, ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 : 1 to 15 wt%, and alkaline earth metal oxide RO: 7 to 27 wt% is included, where RO is at least one of MgO, CaO, SrO and BaO, and the Sc 2 O 3 content is 0.001 wt% ≤ Sc 2 O 3 ≤ 1 wt%. Fulfill.

好ましくは、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、（ＭｇＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）＞０．６である。 Preferably, based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is (MgO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO)> 0.6 in terms of weight percentage.

好ましくは、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、ＺｎＯ／（ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）＞０．６である。 Preferably, based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is ZnO / (ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 )> 0.6 in terms of weight percentage. ..

好ましくは、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、０．１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦０．７ｗｔ％である。 Preferably, the content of each component in the composition of the glass is 0.1 wt% ≤ Sc 2 O 3 ≤ 0.7 wt% in weight percentage, based on the total weight of each component in the composition of the glass. ..

好ましくは、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、４０ｗｔ％≦ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３≦６５ｗｔ％である。 Preferably, the content of each component in the composition of the glass is 40 wt% ≤ SiO 2 + Al 2 O 3 ≤ 65 wt%, based on the total weight of each component in the composition of the glass.

好ましくは、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、脆性係数Ｄが０〜１、さらに好ましくは０．２〜０．８、よりさらに好ましくは０．３〜０．６であり、Ｄ値が式
Ｄ＝Ｐ１＊ＳｉＯ２＋２．０＊Ｂ２Ｏ３−２．０＊（Ａｌ２Ｏ３＋ＣａＯ）＋０．５＊ＳｒＯ＋１．０＊（ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）−４＊ΣＱにより計算され、
式中、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３は、それぞれ該成分の組成全体に占める重量百分率を示し、ΣＱは、組成のうちＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３以外の成分の重量百分率の和を示し、且つ３３ｗｔ％≦ＳｉＯ２≦５４ｗｔ％では、Ｐ１の値は、０．２であり、５４ｗｔ％＜ＳｉＯ２≦６０ｗｔ％では、Ｐ１の値は、−０．５である。 Preferably, based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage, and the brittleness coefficient D is 0 to 1, more preferably 0.2 to 0. .8, even more preferably from 0.3 to 0.6, D value formula D = P 1 * SiO 2 + 2.0 * B 2 O 3 -2.0 * (Al 2 O 3 + CaO) +0. Calculated by 5 * SrO + 1.0 * (MgO + BaO + ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 ) -4 * ΣQ
In the formula, SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, TiO 2 , Sc 2 O 3 each indicate the weight percentage of the total composition of the component, and ΣQ is , The sum of the weight percentages of the components other than SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, TiO 2 , and Sc 2 O 3 in the composition, and 33 wt% ≤ SiO. When 2 ≦ 54 wt%, the value of P 1 is 0.2, and when 54 wt% <SiO 2 ≦ 60 wt%, the value of P 1 is −0.5.

好ましくは、前記アルミノホウシリケートガラスは、密度が３ｇ／ｃｍ３未満、さらに好ましくは２．４３〜２．６８ｇ／ｃｍ３であり、屈折率ｎＤが１．５２より大きく、さらに好ましくは、１．５２＜ｎＤ＜１．５５であり、５０〜３５０℃の範囲での熱膨張係数が４５×１０−７／℃未満、さらに好ましくは２９×１０−７／℃〜４１×１０−７／℃である。 Preferably, the alumino silicate glass has a density of less than 3 g / cm 3 , more preferably 2.43 to 2.68 g / cm 3 , and a refractive index n D of more than 1.52, more preferably 1. .52 <n D <1.55 and the coefficient of thermal expansion in the range of 50 to 350 ° C is less than 45 × 10-7 / ° C, more preferably 29 × 10-7 / ° C to 41 × 10-7 /. ℃.

好ましくは、厚さ≦０．５ｍｍのアルミノホウシリケートガラスの曲げ係数ＣＲが、０＜ＣＲ＜０．５を満たし、さらに好ましくは、０＜ＣＲ＜０．４５、よりさらに好ましくは、０＜ＣＲ＜０．４であり、ＣＲ値が、式
ＣＲ＝（Ｒ＊σ）／（Ｅ＊ｄ）により計算され、
式中、Ｅは、前記アルミノホウシリケートガラスのヤング率であり、単位がＭＰａであり、ｄは、前記アルミノホウシリケートガラスの厚さであり、単位がｍｍであり、Ｒは、前記アルミノホウシリケートガラスの曲げ時の最小曲率半径であり、単位がｍｍであり、σは、前記アルミノホウシリケートガラスの曲率半径Ｒの場合の曲げ応力であり、単位がＭＰａである。 Preferably, the bending coefficient C R aluminosilicate borate glass having a thickness of ≦ 0.5 mm is met 0 <C R <0.5, more preferably, 0 <C R <0.45, more preferably more, 0 < CR <0.4, and the CR value is calculated by the formula CR = (R * σ) / (E * d).
In the formula, E is the Young's modulus of the alumino silicate glass, the unit is MPa, d is the thickness of the alumino silicate glass, the unit is mm, and R is the alumino silicate. It is the minimum radius of curvature at the time of bending the glass, the unit is mm, and σ is the bending stress in the case of the radius of curvature R of the aluminum nohosilicate glass, and the unit is MPa.

好ましくは、前記アルミノホウシリケートガラスの歪点温度が、６８０℃より高い。 Preferably, the strain point temperature of the alumino silicate glass is higher than 680 ° C.

好ましくは、前記アルミノホウシリケートガラスの成形温度Ｔ４と液相線温度Ｔｌの差が、１００℃より大きい。 Preferably, the difference between the molding temperature T 4 and the liquidus temperature T l of the alumino silicate glass is larger than 100 ° C.

好ましくは、前記アルミノホウシリケートガラスのヤング率が、８０ＧＰａ未満である。 Preferably, the Young's modulus of the alumino silicate glass is less than 80 GPa.

第２態様によれば、本発明は、アルミノホウシリケートガラスの製造方法を提供し、該方法は、本発明の前記アルミノホウシリケートガラスの組成に応じて原料組成物を提供し、前記原料組成物に対して溶融処理、成形処理、アニーリング処理及び機械的加工処理を順次行うことを含む。 According to the second aspect, the present invention provides a method for producing an aluminum nohosilicate glass, and the method provides a raw material composition according to the composition of the aluminum nohosilicate glass of the present invention. It includes sequentially performing a melting process, a forming process, an annealing process, and a mechanical processing process.

好ましくは、該方法は、機械的加工処理により得られた産物に対して二次溶融薄化処理を行うことをさらに含む。 Preferably, the method further comprises performing a secondary melt thinning treatment on the product obtained by the mechanical processing treatment.

さらに好ましくは、厚さ０．１ｍｍ未満のガラスを製造するように前記機械的加工処理又は前記二次溶融薄化処理の条件を制御する。 More preferably, the conditions of the mechanical processing treatment or the secondary melt thinning treatment are controlled so as to produce glass having a thickness of less than 0.1 mm.

第３態様によれば、本発明は、上記方法で製造されたアルミノホウシリケートガラスを提供する。 According to the third aspect, the present invention provides an aluminum nohosilicate glass produced by the above method.

第４態様によれば、本発明は、本発明の前記アルミノホウシリケートガラスの、ディスプレイデバイス及び／又は太陽電池の製造における応用、好ましくは、フラットディスプレイ製品のガラス基板材料及び／又はスクリーン表面保護用ガラスフィルム材料、フレキシブルディスプレイ製品のガラス基板材料及び／又は表面パッケージガラス材料及び／又はスクリーン表面保護用ガラスフィルム材料、フレキシブル太陽電池のガラス基板材料の製造における応用、並びに、熱安定性及び柔軟性が高く、曲げられやすいガラス材料を必要とするほかの応用分野における応用を提供する。 According to the fourth aspect, the present invention relates to the application of the aluminum nohosilicate glass of the present invention in the manufacture of display devices and / or solar cells, preferably for glass substrate materials and / or screen surface protection of flat display products. Glass film materials, glass substrate materials for flexible display products and / or surface package glass materials and / or glass film materials for screen surface protection, applications in the manufacture of glass substrate materials for flexible solar cells, and thermal stability and flexibility. It provides applications in other application areas that require expensive and flexible glass materials.

本発明に係るガラス材料処方は、良好な柔軟性を有するガラス材料処方であり、アルミノホウシリケートガラス系であり、フロート法、オーバーフロー法、プレス法、ダウンドロー法など、各種の一般的なガラス製造方法に適用でき、厚さ＞０．１ｍｍのフラットガラス又は厚さ＜０．１ｍｍのフレキシブルガラス（即ち、一次成形法で得られる厚さ＜０．１ｍｍのフレキシブルガラス）を生産する場合、又は二次溶融薄化方法で厚さ＜０．１ｍｍのフレキシブルガラスを生産する場合に適用できる。本発明のガラスは、高歪点、低密度、高屈折率、低熱膨張係数、高熱安定性、高柔軟性を有し、且つ曲げられやすく、大規模な産業的生産に適用できる。 The glass material formulation according to the present invention is a glass material formulation having good flexibility, is an aluminum nohosilicate glass system, and various general glass production methods such as a float method, an overflow method, a press method, and a down draw method. Applicable to the method, when producing flat glass with a thickness of> 0.1 mm or flexible glass with a thickness of <0.1 mm (ie, flexible glass with a thickness of <0.1 mm obtained by the primary molding method), or two. It can be applied when producing flexible glass having a thickness <0.1 mm by the next melt thinning method. The glass of the present invention has a high strain point, low density, high refractive index, low coefficient of thermal expansion, high thermal stability, high flexibility, and is easily bent, and can be applied to large-scale industrial production.

本発明のほかの特徴及び利点については、後の特定の実施形態において詳細に説明する。 Other features and advantages of the present invention will be described in detail later in particular embodiments.

本明細書で開示される範囲の端点及び任意の値は、この正確な範囲又は値に限定されず、これら範囲又は値は、これら範囲又は値に近い値を含むと理解されるべきである。数値の範囲に対しては、各範囲の端点値の間、各範囲の端点値と個々の点の値の間、及び個々の点の値同士を互いに組み合わせて、１つ以上の新しい数値の範囲を構成でき、これら数値の範囲は、本明細書に具体的に開示されるとみなされるべきである。 The endpoints and arbitrary values of the ranges disclosed herein are not limited to this exact range or value, and it should be understood that these ranges or values include values close to these ranges or values. For a range of numbers, between the endpoint values of each range, between the endpoint values of each range and the values of individual points, and by combining the values of individual points with each other, one or more new ranges of numbers. And the range of these numbers should be considered as specifically disclosed herein.

第１態様によれば、本発明は、アルミノホウシリケートガラスを提供し、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成には、
ＳｉＯ２：３３〜６０ｗｔ％、
Ａｌ２Ｏ３：３〜１０ｗｔ％、
Ｂ２Ｏ３：１０〜３０ｗｔ％、
ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３：１〜１５ｗｔ％、及び
アルカリ土類金属酸化物ＲＯ：７〜２７ｗｔ％が含まれ、
ここで、ＲＯは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１種であり、Ｓｃ２Ｏ３の含有量は、０．００１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦１ｗｔ％を満たす。 According to the first aspect, the present invention provides an aluminum nohosilicate glass, and the composition of the glass is based on the total weight of each component in the composition of the glass.
SiO 2 : 33-60 wt%,
Al 2 O 3 : 3-10 wt%,
B 2 O 3 : 10 to 30 wt%,
ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 : 1 to 15 wt% and alkaline earth metal oxide RO: 7 to 27 wt% are included.
Here, RO is MgO, CaO, is at least one of SrO and BaO, the content of Sc 2 O 3 satisfies 0.001wt% ≦ Sc 2 O 3 ≦ 1wt%.

好適には、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、（ＭｇＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）＞０．６である。 Preferably, based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is (MgO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO)> 0.6 in terms of weight percentage.

好適には、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、ＺｎＯ／（ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）＞０．６である。 Preferably, based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is ZnO / (ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 )> 0.6 in terms of weight percentage. be.

好適には、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、０．１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦０．７ｗｔ％である。 Preferably, the content of each component in the composition of the glass is 0.1 wt% ≤ Sc 2 O 3 ≤ 0.7 wt% by weight percentage based on the total weight of each component in the composition of the glass. be.

好適には、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、４０ｗｔ％≦ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３≦６５ｗｔ％である。 Preferably, the content of each component in the composition of the glass is 40 wt% ≤ SiO 2 + Al 2 O 3 ≤ 65 wt% in terms of weight percentage, based on the total weight of each component in the composition of the glass.

好適には、前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、脆性係数Ｄが０〜１、さらに好ましくは０．２〜０．８、よりさらに好ましくは０．３〜０．６であり、ここで、Ｄ値が、式
Ｄ＝Ｐ１＊ＳｉＯ２＋２．０＊Ｂ２Ｏ３−２．０＊（Ａｌ２Ｏ３＋ＣａＯ）＋０．５＊ＳｒＯ＋１．０＊（ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）−４＊ΣＱにより計算され、
式中、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３は、それぞれ該成分の組成全体に占める重量百分率を示し、ΣＱは、組成のうちＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３以外の成分の重量百分率の和を示し、且つ３３ｗｔ％≦ＳｉＯ２≦５４ｗｔ％では、Ｐ１の値は、０．２であり、５４ｗｔ％＜ＳｉＯ２≦６０ｗｔ％である場合、Ｐ１の値は、−０．５である。 Preferably, based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage, and the brittleness coefficient D is 0 to 1, more preferably 0.2 to 1. 0.8, even more preferably from 0.3 to 0.6, wherein, D value, the formula D = P 1 * SiO 2 + 2.0 * B 2 O 3 -2.0 * (Al 2 O 3 + CaO) + 0.5 * SrO + 1.0 * (MgO + BaO + ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 ) -4 * ΣQ
In the formula, SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, TiO 2 , Sc 2 O 3 each indicate the weight percentage of the total composition of the component, and ΣQ is , The sum of the weight percentages of the components other than SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, TiO 2 , and Sc 2 O 3 in the composition, and 33 wt% ≤ SiO. When 2 ≦ 54 wt%, the value of P 1 is 0.2, and when 54 wt% <SiO 2 ≦ 60 wt%, the value of P 1 is −0.5.

好適には、前記アルミノホウシリケートガラスの密度が、３ｇ／ｃｍ３未満、さらに好ましくは２．４３〜２．６８ｇ／ｃｍ３である。 Preferably, the density of Zenki aluminosilicate borate glass is less than 3g / cm 3, more preferably from 2.43~2.68g / cm 3.

好適には、前記アルミノホウシリケートガラスの屈折率ｎＤが、１．５２より大きく、さらに好ましくは、１．５２＜ｎＤ＜１．５５である。 Preferably, the refractive index n D of the alumino silicate glass is larger than 1.52, and more preferably 1.52 <n D <1.55.

好適には、前記アルミノホウシリケートガラスの５０〜３５０℃の範囲での熱膨張係数が、４５×１０−７／℃未満、さらに好ましくは２９×１０−７／℃〜４１×１０−７／℃である。 Preferably, the coefficient of thermal expansion of the alumino silicate glass in the range of 50 to 350 ° C. is less than 45 × 10-7 / ° C., more preferably 29 × 10-7 / ° C. to 41 × 10-7 / ° C. Is.

好適には、厚さ≦０．５ｍｍのアルミノホウシリケートガラスの曲げ係数ＣＲが、０＜ＣＲ＜０．５を満たし、さらに好ましくは、０＜ＣＲ＜０．４５、よりさらに好ましくは、０＜ＣＲ＜０．４であり、ＣＲ値が、式
ＣＲ＝（Ｒ＊σ）／（Ｅ＊ｄ）により計算され、
式中、Ｅは、前記アルミノホウシリケートガラスのヤング率であり、単位がＭＰａであり、ｄは、前記アルミノホウシリケートガラスの厚さであり、単位がｍｍであり、Ｒは、前記アルミノホウシリケートガラスの曲げ時の最小曲率半径であり、単位がｍｍであり、σは、前記アルミノホウシリケートガラスの曲率半径Ｒの場合の曲げ応力であり、単位がＭＰａである。ここで、ＣＲ値が小さいほど、ガラスの柔軟性が高く、曲げ性が高い。 Preferably, the bending coefficient C R aluminosilicate borate glass having a thickness of ≦ 0.5 mm is met 0 <C R <0.5, more preferably, 0 <C R <0.45, even more preferably , 0 < CR <0.4, and the CR value is calculated by the equation CR = (R * σ) / (E * d).
In the formula, E is the Young's modulus of the alumino silicate glass, the unit is MPa, d is the thickness of the alumino silicate glass, the unit is mm, and R is the alumino silicate. It is the minimum radius of curvature at the time of bending the glass, the unit is mm, and σ is the bending stress in the case of the radius of curvature R of the aluminum nohosilicate glass, and the unit is MPa. Here, as the C R value is smaller, greater flexibility of the glass, a high bendability.

好適には、本発明のアルミノホウシリケートガラスの歪点温度が、６８０℃より高い。 Preferably, the strain point temperature of the alumino silicate glass of the present invention is higher than 680 ° C.

好適には、本発明のアルミノホウシリケートガラスの成形温度Ｔ４と液相線温度Ｔｌとの差が、１００℃より大きい。ここで、Ｔ４は、粘度４００００Ｐに対応する成形温度である。 Preferably, the difference between the molding temperature T 4 and the liquidus temperature T l of the aluminum nohosilicate glass of the present invention is larger than 100 ° C. Here, T 4 is a molding temperature corresponding to a viscosity of 40,000 P.

好適には、本発明のアルミノホウシリケートガラスのヤング率が、８０ＧＰａ未満である。 Preferably, the Young's modulus of the aluminum nohosilicate glass of the present invention is less than 80 GPa.

好適には、本発明のアルミノホウシリケートガラスの透過率が、９１％以上である。 Preferably, the transmittance of the alumino silicate glass of the present invention is 91% or more.

第２態様によれば、本発明は、アルミノホウシリケートガラスの製造方法を提供し、該方法は、本発明の前記アルミノホウシリケートガラスの組成に応じて原料組成物を提供し、前記原料組成物に対して溶融処理、成形処理、アニーリング処理及び機械的加工処理を順次行うことを含む。 According to the second aspect, the present invention provides a method for producing an aluminum nohosilicate glass, and the method provides a raw material composition according to the composition of the aluminum nohosilicate glass of the present invention. It includes sequentially performing a melting process, a forming process, an annealing process, and a mechanical processing process.

ここで、具体的には、本発明は、原料組成物をさらに提供し、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、該組成物は、ＳｉＯ２：３３〜６０ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３：３〜１０ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３：１０〜３０ｗｔ％、ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３：１〜１５ｗｔ％、アルカリ土類金属酸化物ＲＯ：７〜２７ｗｔ％を含有し、ここで、ＲＯは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１種であり、Ｓｃ２Ｏ３の含有量は、０．００１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦１ｗｔ％を満たす。 Here, specifically, the present invention further provides a raw material composition, and the composition is SiO 2 : 33 to 60 wt%, Al 2 in terms of oxide based on the weight of the composition. O 3: 3 to 10 wt%, B 2 O 3 : 10 to 30 wt%, ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 : 1 to 15 wt%, alkaline earth metal oxide RO: 7 to 27 wt%, where RO is MgO, CaO, is at least one of SrO and BaO, the content of Sc 2 O 3 satisfies 0.001wt% ≦ Sc 2 O 3 ≦ 1wt%.

本発明の原料組成物では、ＳｉＯ２は、ネットワーク構造を構成する基質であり、それを添加することにより、ガラスの耐熱性及び化学耐久性を向上させるとともに、ガラスを失透しにくくし、またガラス化プロセスにも有利である。しかしながら、ＳｉＯ２が過量であると、溶融温度が上昇し、脆性が高まり、屈折率ｎＤの向上に不利であり、生産プロセスに対する要求が過酷になる。本発明の発明者は、研究したところ、質量百分率で、ＳｉＯ２の含有量≧３３ｗｔ％では、製造されたガラスの機械的特性、耐薬品性をさらに向上できるが、含有量が高すぎると、ガラス柔軟性を低減させる。したがって、製造されたガラスの総合的特性及び柔軟性をさらに向上させるために、好適には、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、質量百分率で、３３ｗｔ％≦ＳｉＯ２≦６０ｗｔ％である。さらに好ましくは、質量百分率で、３３ｗｔ％≦ＳｉＯ２≦５４ｗｔ％である。 In the raw material composition of the present invention, SiO 2 is a substrate constituting a network structure, and by adding it, the heat resistance and chemical durability of the glass are improved, and the glass is less likely to be devitrified. It is also advantageous for the vitrification process. However, when SiO 2 is in excess, the melting temperature increases, increased brittleness, is disadvantageous to improvement of the refractive index n D, demand for the production process becomes severe. As a result of research, the inventor of the present invention can further improve the mechanical properties and chemical resistance of the manufactured glass when the content of SiO 2 is ≥33 wt% in terms of mass percentage, but when the content is too high, Reduce glass flexibility. Therefore, in order to further improve the overall properties and flexibility of the manufactured glass, preferably 33 wt% ≤ SiO 2 ≤ 60 wt in terms of oxides, based on the weight of the composition. %. More preferably, the mass percentage is 33 wt% ≤ SiO 2 ≤ 54 wt%.

本発明の原料組成物では、Ｂ２Ｏ３は、アルミノホウシリケートガラスを構成する基質であり、単独でガラスを生成することができ、それを添加することにより、ガラスの靭性を向上させ、また、Ｂ２Ｏ３は、良好な共溶媒でもあり、ガラスの溶融温度を大幅に低下させ、ガラス化プロセスにも有利であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が高すぎると、熱安定性及び屈折率ｎＤの向上に不利である。したがって、総合的に考慮すると、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、質量百分率で、１０ｗｔ％≦Ｂ２Ｏ３≦３０ｗｔ％である。 In the raw material composition of the present invention, B 2 O 3 is a substrate constituting an aluminum nohosilicate glass, and glass can be produced by itself, and by adding it, the toughness of the glass is improved, and the toughness of the glass is also improved. , B 2 O 3 is also a good co-solvent, significantly lowers the melting temperature of the glass and is also advantageous for the vitrification process, and if the B 2 O 3 content is too high, thermal stability and refraction it is disadvantageous in improving the rate n D. Therefore, when comprehensively considered, the mass percentage is 10 wt% ≤ B 2 O 3 ≤ 30 wt% in terms of oxide based on the weight of the composition.

本発明の原料組成物では、Ａｌ２Ｏ３を添加することによって、接続されたネットワークの完全性を促進して、ガラスの耐熱性を大幅に向上できるが、ガラスの構造が剛性になる傾向を有し、ガラスの脆性が高まり、また、ガラスが失透しやすくなり、高温での表面張力及び高温粘度が過度に大きくなり、屈折率ｎＤの向上が困難になり、ガラス生産プロセスの難度が高くなるなどを引き起こす。したがって、総合的に考慮すると、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、３〜１０ｗｔ％の範囲にある。 In the raw material composition of the present invention, by adding Al 2 O 3 , the completeness of the connected network can be promoted and the heat resistance of the glass can be significantly improved, but the structure of the glass tends to be rigid. Yushi, increased brittleness of the glass, a glass tends devitrified surface tension and high temperature viscosity at high temperature becomes excessively large, it becomes difficult to improve a refractive index N D, is Nando glass production process Causes high etc. Therefore, when comprehensively considered, the content of Al 2 O 3 is in the range of 3 to 10 wt% in terms of oxide based on the weight of the composition.

本発明の原料組成物では、好適には、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、４０ｗｔ％≦ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３≦６５ｗｔ％である。 In the raw material composition of the present invention, preferably, 40 wt% ≤ SiO 2 + Al 2 O 3 ≤ 65 wt% in terms of oxide, based on the weight of the composition.

本発明の原料組成物では、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯは、すべてアルカリ土類金属酸化物であり、これらを添加することによって、ガラスの高温粘度を効果的に低下させて、ガラスの溶融性及び成形性を向上させ、且つガラスの歪点及び屈折率ｎＤを向上させ、且つＭｇＯ、ＢａＯは、ガラスの脆性を低下させる特徴を有する。その含有量が高すぎると、密度を増大して、ひび割れ、失透、相分離の発生率を高め、ＣａＯが過量であると、ガラス柔軟性の向上に不利である。したがって、総合的に考慮すると、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、各成分の重量を基準にして、７〜２７ｗｔ％のアルカリ土類金属酸化物ＲＯを含み、ここで、ＲＯ＝ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのうちのいずれか1種又は複数種である。好ましくは、該組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、（ＭｇＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）＞０．６である。 In the raw material composition of the present invention, MgO, CaO, SrO, and BaO are all alkaline earth metal oxides, and by adding these, the high temperature viscosity of the glass is effectively lowered, and the meltability of the glass is reduced. and to improve the moldability, and improves the strain point and the refractive index n D of the glass, and MgO, BaO has the characteristics of reducing the brittleness of the glass. If the content is too high, the density is increased to increase the occurrence rate of cracks, devitrification, and phase separation, and if the CaO is excessive, it is disadvantageous for improving the glass flexibility. Therefore, when comprehensively considered, 7 to 27 wt% of alkaline earth metal oxide RO is contained, based on the weight of the composition, in terms of oxide, and based on the weight of each component. RO = any one or more of MgO, CaO, SrO, and BaO. Preferably, based on the weight of the composition, (MgO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO)> 0.6 in terms of oxide.

本発明の原料組成物では、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３は、ガラスの高温粘度及び結晶化の上限温度を効果的に低下させ、軟化点以下では、強度や硬度を高め、ガラスの耐化学性を向上させ、柔軟性を高め、屈折率ｎＤを大幅に向上させる役割を有する。ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３が過量であると、ガラス形成安定性の向上に不利である。したがって、総合的に考慮すると、組成物の重量を基準にして、酸化物換算で、ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３の含有量は、１〜１５ｗｔ％の範囲であり、好ましくは、ＺｎＯ／（ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）＞０．６である。その中でも、Ｓｃ２Ｏ３は、耐熱性及び屈折率ｎＤを効果的に高めることができ、また、極薄ガラスを製造する場合は、ガラスの曲げ特性を高めることができ、しかし、Ｓｃ２Ｏ３が過量であると、ガラス形成安定性の向上に不利であり、したがって、総合的に考慮すると、０．００１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦１ｗｔ％、好ましくは、０．１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦０．７ｗｔ％である。 In the raw material composition of the present invention, ZnO, TiO 2 and Sc 2 O 3 effectively lower the high temperature viscosity of the glass and the upper limit temperature of crystallization, and increase the strength and hardness below the softening point to withstand the glass. improved chemical resistance, enhanced flexibility, has a role to greatly improve the refractive index n D. Excessive amounts of ZnO, TiO 2 , and Sc 2 O 3 are disadvantageous in improving the glass forming stability. Therefore, when comprehensively considered, the content of ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 in terms of oxide is in the range of 1 to 15 wt%, preferably ZnO / (ZnO + TiO 2 ), based on the weight of the composition. + Sc 2 O 3 )> 0.6. Among them, Sc 2 O 3 can enhance the heat resistance and refractive index n D effectively, also in the case of producing a ultra-thin glass, it is possible to increase the bending properties of the glass, however, Sc 2 An excessive amount of O 3 is disadvantageous in improving the glass forming stability. Therefore, when comprehensively considered , 0.001 wt% ≤ Sc 2 O 3 ≤ 1 wt%, preferably 0.1 wt% ≤ Sc 2. O 3 ≤ 0.7 wt%.

本発明の原料組成物では、ガラスの製造プロセスによって、組成物は、ガラスを溶融するときの清澄剤を含んでもよく、前記清澄剤は、好ましくは、硫酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物、酸化スズ及び酸化第一スズのうちの少なくとも１種であり、各成分の重量を基準にして、酸化物換算で、清澄剤の含有量は、１ｗｔ％以下である。清澄剤の具体的な選択について特に限定がなく、本分野で一般的に使用されているさまざまな選択であってもよく、たとえば、硫酸塩は、硫酸バリウムであり、硝酸塩は、硝酸バリウムであり、ハロゲン化物は、塩化バリウム及び／又はフッ化カルシウムである。 In the raw material composition of the present invention, depending on the glass manufacturing process, the composition may contain a clarifying agent for melting the glass, which clarifying agent is preferably sulfate, nitrate, halide, tin oxide and It is at least one of stannous oxide, and the content of the clarifying agent is 1 wt% or less in terms of oxide based on the weight of each component. The specific selection of the clarifying agent is not particularly limited and may be various selections commonly used in the art, for example, the sulfate is barium sulfate and the nitrate is barium nitrate. , The halides are barium chloride and / or calcium fluoride.

当業者にとって明らかなように、本発明の原料組成物では、組成物がＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯを含有するとは、該組成物には、Ｓｉ含有化合物、Ｂ含有化合物、Ａｌ含有化合物、Ｚｎ含有化合物、Ｔｉ含有化合物、Ｓｃ含有化合物、Ｍｇ含有化合物、Ｃａ含有化合物、Ｓｒ含有化合物及びＢａ含有化合物を含むことを意味し、たとえば、前記各元素を含有する炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、塩基性炭酸塩、酸化物などが挙げられ、且つ前記に記載の各成分の含有量は、すべて各元素の酸化物で換算し、具体的には、各元素の炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、塩基性炭酸塩、酸化物の選択は、当業者にとって公知するものであり、ここで詳しく説明しない。 As will be apparent to those skilled in the art, in the raw material composition of the present invention, the composition comprises SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZnO, TiO 2 , Sc 2 O 3 , MgO, CaO, SrO and BaO. The composition contains Si-containing compounds, B-containing compounds, Al-containing compounds, Zn-containing compounds, Ti-containing compounds, Sc-containing compounds, Mg-containing compounds, Ca-containing compounds, Sr-containing compounds, and Ba-containing compounds. For example, carbonates, nitrates, sulfates, phosphates, basic carbonates, oxides, etc. containing the above-mentioned elements are included, and the content of each component described above includes. All are converted by the oxide of each element, and specifically, the selection of the carbonate, nitrate, sulfate, phosphate, basic carbonate, and oxide of each element is known to those skilled in the art. It will not be explained in detail here.

本発明の原料組成物では、それを用いてアルミノホウシリケートガラスを製造する場合、ガラスに前述のような優れた総合的特性を付与できるのは、主に組成物における各成分の間の相互作用、特にＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの間の相互作用、さらに特に前述の特定の含有量の各成分の間の相互作用によるものである。 In the raw material composition of the present invention, when the aluminum nohosilicate glass is produced by using the raw material composition, it is mainly the interaction between each component in the composition that can impart the above-mentioned excellent comprehensive properties to the glass. , Especially the interactions between SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZnO, TiO 2 , Sc 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, and in particular the above-mentioned specific content of each component. It is due to the interaction between them.

本発明の方法では、好適には、溶融処理条件には、温度が１５５０℃未満であること、時間が１ｈより長いことが含まれる。当業者であれば、実際の状況に応じて具体的な溶融温度及び溶融時間を決定することができ、これは、当業者が公知するものであり、ここで詳しく説明しない。 In the method of the present invention, the melting treatment conditions preferably include a temperature of less than 1550 ° C. and a time of more than 1 h. A person skilled in the art can determine a specific melting temperature and melting time according to the actual situation, which are known to those skilled in the art and will not be described in detail here.

本発明の方法では、好適には、アニーリング処理条件には、温度が７２０℃より高いこと、時間が０．１ｈより長いことが含まれる。当業者であれば、実際の状況に応じて具体的なアニーリング温度及びアニーリング時間を決定することができ、これは、当業者が公知するものであり、ここで詳しく説明しない。 In the method of the present invention, preferably, the annealing treatment conditions include a temperature higher than 720 ° C. and a time longer than 0.1 h. A person skilled in the art can determine a specific annealing temperature and annealing time according to the actual situation, which is known to those skilled in the art and will not be described in detail here.

本発明の方法では、機械的加工処理については特に限定がなく、本分野で一般的に使用される各種の機械的加工方式であってもよく、たとえば、アニーリング処理により得られた産物に対して分断、研削、研磨などをすることができる。 The method of the present invention is not particularly limited in the mechanical processing process, and may be various mechanical processing methods generally used in this field. For example, for a product obtained by an annealing process. It can be divided, ground, polished, etc.

好ましくは、該方法は、機械的加工処理により得られた産物に対して二次溶融薄化処理を行うことをさらに含み、さらに好ましくは、厚さ０．１ｍｍ未満のガラスを製造するように前記機械的加工処理又は前記二次溶融薄化処理の条件を制御する。 Preferably, the method further comprises performing a secondary melt thinning treatment on the product obtained by the mechanical processing treatment, and more preferably, the method for producing a glass having a thickness of less than 0.1 mm. The conditions of the mechanical processing process or the secondary melt thinning process are controlled.

本発明の方法では、フロート法、オーバーフロー法、ダウンドロー法など、各種の一般的なガラス製造方法で、厚さが０．１ｍｍより大きいフラットガラス又は厚さが０．１ｍｍ未満のフレキシブルガラス（即ち、一次成形法で得られる厚さ＜０．１ｍｍのフレキシブルガラス）を生産してもよいし、二次溶融薄化方法で厚さが０．１ｍｍ未満のフレキシブルガラスを生産してもよい。したがって、該方法は、機械的加工処理により得られた産物に対して二次溶融薄化処理を行い、厚さが０．１ｍｍ未満のフレキシブルガラスを製造することをさらに含む。二次溶融薄化処理の具体的な方法について特に限定がなく、本分野で一般的に使用される各種の方法であってもよく、たとえば、二次溶融薄化処理方法は、フロート法、オーバーフロー法、ダウンドロー法などのガラス製造方法で厚さが１ｍｍ未満のフラットガラスを生産し、フラットガラスを二次延伸成形装置の供給口に搬送し、適切な速度Ｖ０ｍｍ／ｍｉｎで延伸成形炉に送り、延伸成形領域の粘度を約１０５．５〜１０７ポアズの範囲に制御し、延伸機及びドラムによって適切な速度Ｖ１ｍｍ／ｍｉｎ、ロールツーロールの方式で巻取り、厚さ０．１ｍｍ未満の極薄フレキシブルガラス板材を得ることを含み、前記引張速度Ｖ１は、Ｖ０より大きい。 In the method of the present invention, flat glass having a thickness of more than 0.1 mm or flexible glass having a thickness of less than 0.1 mm (that is, flexible glass having a thickness of less than 0.1 mm) is used in various general glass manufacturing methods such as a float method, an overflow method, and a down draw method. , Flexible glass having a thickness <0.1 mm obtained by the primary molding method) may be produced, or flexible glass having a thickness of less than 0.1 mm may be produced by the secondary melt thinning method. Therefore, the method further comprises performing a secondary melt thinning treatment on the product obtained by the mechanical processing treatment to produce a flexible glass having a thickness of less than 0.1 mm. The specific method of the secondary melt thinning treatment is not particularly limited and may be various methods generally used in this field. For example, the secondary melt thinning treatment method includes a float method and an overflow method. A flat glass having a thickness of less than 1 mm is produced by a glass manufacturing method such as a method or a down draw method, the flat glass is conveyed to a supply port of a secondary stretching molding apparatus, and a stretching molding furnace is used at an appropriate speed of V 0 mm / min. The viscosity of the stretch-molded region is controlled in the range of about 105.5 to 10 7 pores, and it is wound by a stretcher and a drum at an appropriate speed V 1 mm / min in a roll-to-roll manner, and the thickness is 0. The tensile velocity V 1 is greater than V 0 , including obtaining an ultrathin flexible glass plate of less than 1 mm.

第３態様によれば、本発明は、上記方法によって製造されたアルミノホウシリケートガラスを提供する。 According to the third aspect, the present invention provides an aluminum nohosilicate glass produced by the above method.

前記のとおり、異なるプロセスによって厚さの異なるガラスを製造することができ、フロート法、オーバーフロー法、ダウンドロー法などのさまざまな一般的なガラス製造方法によって、厚さが０．１ｍｍより大きいフラットガラス又は厚さ０．１ｍｍ未満のフレキシブルガラスを製造することができ、また、さらに二次溶融薄化方法で厚さ０．１ｍｍ未満のフレキシブルガラスを生産することができる。ここで、製造された厚さ≦０．５ｍｍのフレキシブルガラスでは、曲げ係数ＣＲ値は、０．５未満であり、好ましくは０．４５未満、さらに好ましくは０．４未満である。 As mentioned above, different processes can produce different thicknesses of glass, and various common glass production methods such as float method, overflow method, downdraw method, etc. can produce flat glass with a thickness greater than 0.1 mm. Alternatively, a flexible glass having a thickness of less than 0.1 mm can be produced, and further, a flexible glass having a thickness of less than 0.1 mm can be produced by a secondary melt thinning method. Here, in the manufactured flexible glass having a thickness of ≦ 0.5 mm, the bending coefficient CR value is less than 0.5, preferably less than 0.45, and more preferably less than 0.4.

第４態様によれば、本発明は、本発明の前記アルミノホウシリケートガラスの、ディスプレイデバイス及び／又は太陽電池の製造における応用、好ましくは、フラットディスプレイ製品のガラス基板材料及び／又はスクリーン表面保護用ガラスフィルム材料、フレキシブルディスプレイ製品のガラス基板材料及び／又は表面パッケージガラス材料及び／又はスクリーン表面保護用ガラスフィルム材料、フレキシブル太陽電池のガラス基板材料の製造、並びに、耐熱性及び柔軟性が高く、曲げられやすいガラス材料を必要とする応用分野における応用を提供する。 According to the fourth aspect, the present invention relates to the application of the aluminum nohosilicate glass of the present invention in the manufacture of display devices and / or solar cells, preferably for glass substrate materials and / or screen surface protection of flat display products. Manufacture of glass film materials, glass substrate materials for flexible display products and / or surface package glass materials and / or glass film materials for screen surface protection, glass substrate materials for flexible solar cells, and high heat resistance and flexibility, bending It provides applications in application fields that require easily accessible glass materials.

以下、実施例にて本発明を詳細に説明する。以下の実施例では、特に断らない限り、使用される各材料は、すべて市販品として入手でき、特に断らない限り、使用される方法は、本分野における一般的な方法である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples. In the following examples, unless otherwise noted, all materials used are commercially available, and unless otherwise noted, the methods used are common methods in the art.

以下の実施例及び比較例では、ＡＳＴＭ Ｃ−６９３を参照してガラス密度を測定し、単位は、ｇ／ｃｍ３である。
ＡＳＴＭ Ｅ−２２８に準じて横型膨張計を使用して５０〜３５０℃でのガラス熱膨張係数を測定し、単位は、１０−７／℃である。
ＡＳＴＭ Ｃ−６２３に準じて材料力学試験機を使用してガラスのヤング率を測定し、単位は、ＧＰａである。
ＡＳＴＭ Ｃ−３３６に準じて三点テスターを使用してガラスの歪点を測定し、単位は、℃である。
ＵＶ−２６００紫外線可視分光光度計を用いて５５０ｎｍ波長に対応するガラスの透過率を測定する。
ＡＳＴＭ Ｃ−８２９に準じて温度勾配炉法を使用してガラス液相線温度Ｔｌを測定し、単位は、℃である。
ＡＳＴＭ Ｃ−９６５に準じて回転高温粘度計を使用してガラスの高温での粘度−温度曲線を測定し、ここで、２００Ｐ粘度に対応する溶融温度Ｔｍの単位は、℃であり、４００００Ｐ粘度に対応する成形温度Ｔ４の単位は、℃である。
ＷＡＹ−２Ｓアッベデジタル屈折計を用いて、室温で波長５８７．６ｎｍ（ナトリウム黄色光）での屈折率ｎＤを測定する。
曲率半径及び曲げ応力テスターを用いて、厚さ≦０．５ｍｍのガラスの最小曲率半径及び曲げ応力を測定し、曲げ係数ＣＲ値を算出する。 In the following examples and comparative examples, the glass density is measured with reference to ASTM C-693, in units of g / cm 3 .
The coefficient of thermal expansion of glass at 50-350 ° C. is measured using a horizontal expansion meter according to ASTM E-228, and the unit is 10-7 / ° C.
The Young's modulus of glass is measured using a strength of materials tester according to ASTM C-623, and the unit is GPa.
The strain point of the glass is measured using a three-point tester according to ASTM C-336 and the unit is ° C.
The transmittance of the glass corresponding to the 550 nm wavelength is measured using a UV-2600 ultraviolet visible spectrophotometer.
The glass liquidus temperature Tl is measured using the temperature gradient furnace method according to ASTM C-829, and the unit is ° C.
ASTM C-965 viscosity at high temperature of the glass using a rotary high temperature viscometer in accordance with - the temperature curve is measured, where the units of the melting temperature T m corresponding to 200P viscosity is ° C., 40000P viscosity The unit of the molding temperature T 4 corresponding to is ° C.
Using a WAY-2S Abbe digital refractometer, the refractive index n D at a wavelength of 587.6 nm (sodium yellow light) is measured at room temperature.
Using a radius of curvature and bending stress tester, measure the minimum radius of curvature and bending stress of glass with a thickness of ≤0.5 mm, and calculate the bending coefficient CR value.

実施例１〜１８、比較例１〜８
表１〜４に示されたガラス組成に応じて各成分をそれぞれ秤量し、均一に混合して、混合材料を白金坩堝に投入して、次に、１５３０℃の抵抗炉において４時間加熱し、白金棒を用いて撹拌して気泡を放出した。溶解した溶融ガラスをステンレス鋳鉄金型にキャストして、所定のブロック形状のガラス製品を成形し、次に、ガラス製品をアニーリング炉において２時間アニーリングし、電源を切れて２５℃まで炉冷した。ガラス製品に対して分断、研削、研磨を行い、次に、脱イオン水できれいに洗浄してベークし、厚さ０．５ｍｍのガラス完成品を得た。それぞれ各ガラス完成品の諸特性について測定し、結果を表１〜４に示した。 Examples 1-18, Comparative Examples 1-8
Each component was weighed according to the glass composition shown in Tables 1 to 4, mixed uniformly, the mixed material was put into a platinum crucible, and then heated in a resistance furnace at 1530 ° C. for 4 hours. The air bubbles were released by stirring with a platinum rod. The molten glass was cast into a stainless cast iron mold to form a glass product having a predetermined block shape, and then the glass product was annealed in an annealing furnace for 2 hours, turned off, and cooled to 25 ° C. The glass product was divided, ground and polished, and then washed thoroughly with deionized water and baked to obtain a finished glass product having a thickness of 0.5 mm. Various characteristics of each finished glass product were measured, and the results are shown in Tables 1 to 4.

Figure 0006955037
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なお、表１〜４の各実施例及び比較例に挙げられた清澄剤は、ＣａＦ２、ＳｒＣｌ２、ＢａＳＯ４、ＳｎＯ２、ＳｎＯの５種類がある。前の３種類の原料を溶融炉に投入すると、陰イオンのほとんどが気体となり溶融ガラスから放出され、残りの小部分がガラスのネットワーク構造に溶解される。しかし、Ｆ−、Ｃｌ−、ＳＯ４ ２−は、いずれもＯ２ −と一致した格子を形成できないため、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａの陽イオンと同様にネットワークの隙間にある。最終的には、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａの陽イオンは、より多くの酸素イオンと共有結合のバランスを発生した。したがって、本発明の実施例及び比較例では、ＣａＦ２、ＳｒＣｌ２、ＢａＳＯ４の３種類の清澄剤がＤ値の計算に関与する場合にも、対応するＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯで計算すべきであり、ΣＱに含めてはならず、ＳｎＯ２、ＳｎＯは、ΣＱに含めるべきである。 There are five types of clarifying agents listed in each of Examples and Comparative Examples in Tables 1 to 4, CaF 2 , SrCl 2 , BaSO 4 , SnO 2, and SnO. When the above three types of raw materials are put into the melting furnace, most of the anions become gas and are released from the molten glass, and the remaining small part is dissolved in the network structure of the glass. However, since F − , Cl − , and SO 4 2- cannot form a lattice consistent with O 2 − , they are in the gap of the network like the cations of Ca, Sr, and Ba. Eventually, the Ca, Sr, and Ba cations generated a covalent balance with more oxygen ions. Therefore, in the examples and comparative examples of the present invention, even when three kinds of clarifying agents, CaF 2 , SrCl 2 , and BaSO 4 are involved in the calculation of the D value, they should be calculated by the corresponding CaO, SrO, and BaO. Yes, it should not be included in ΣQ, and SnO 2 and SnO should be included in ΣQ.

Figure 0006955037
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表１〜４におけるデータを比較したところ、本発明で製造されたガラスは、大幅に高くなる低密度、高屈折率、ガラス形成安定性、低熱膨張係数、高熱安定性、高柔軟性を兼ね備え、且つ曲げられやすいなどの特徴を有することが分かった。 Comparing the data in Tables 1 to 4, the glass produced in the present invention has significantly higher density, high refractive index, glass formation stability, low coefficient of thermal expansion, high thermal stability, and high flexibility. Moreover, it was found that it has characteristics such as being easily bent.

一部の実施例及び比較例の方法でガラスを製造し、次に、二次溶融薄化処理を行い、二次溶融薄化処理方法は、分断、研削、研磨をして得られた厚さ０．５ｍｍ、幅５０ｍｍの板ガラスを二次延伸成形装置の供給口に搬送し、Ｖ０ｍｍ／ｍｉｎの速度で延伸成形炉に送り、延伸成形領域の粘度Ｐを制御し、延伸機及びドラムによってＶ１ｍｍ／ｍｉｎの速度、ロールツーロールの方式で巻取り、厚さｄ１、幅ｄ２のフレキシブルガラスを得た。曲率半径及び曲げ応力テスターを用いて各ガラス完成品が達成可能な最小曲率半径を測定し、実施例の一部の条件及び対応する曲げ係数を表５に示した。 Glass is produced by the methods of some examples and comparative examples, then a secondary melt thinning treatment is performed, and the secondary melt thinning treatment method is a thickness obtained by dividing, grinding, and polishing. A plate glass having a width of 0.5 mm and a width of 50 mm is conveyed to the supply port of the secondary stretching molding apparatus and sent to the stretching molding furnace at a speed of V 0 mm / min, the viscosity P of the stretching molding region is controlled, and the stretching machine and the drum are used. A flexible glass having a thickness of d1 and a width of d2 was obtained by winding by a roll-to-roll method at a speed of V 1 mm / min. The minimum radius of curvature achievable for each finished glass was measured using a radius of curvature and bending stress tester, and some conditions of the examples and the corresponding bending coefficients are shown in Table 5.

Figure 0006955037
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表５の結果から明らかなように、本発明の方法は、厚さ≦０．５ｍｍのアルミノホウシリケートガラスを製造でき、その曲げ係数はＣＲ０．５未満である。曲げが発生したとき、ＣＲ値が小さいほど、同じ曲げ半径では、ガラス板が有する曲げ応力が小さく、それは、ガラス板が、曲げ半径をさらに縮小させ、即ち、より優れた柔軟曲げ性を有することを示した。 As is clear from the results in Table 5, the method of the present invention can produce an aluminum nohosilicate glass having a thickness of ≤0.5 mm, the bending coefficient of which is less than CR 0.5. When bending occurs, as C R value is small, the same bend radius, smaller bending stress having a glass plate, it is a glass plate, further reduced bending radius, i.e., has better flexibility bendability I showed that.

以上は、本発明の好適実施形態を説明したが、本発明は、それに制限されない。本発明の技術的構想の範囲で本発明の技術案についてさまざまな簡単な変形を行うことができ、各技術的特徴を任意のほかの適切な方式で組み合わせることができ、これら簡単な変形及び組み合わせは、本発明の開示内容とみなすことができ、すべて本発明の保護範囲に属する。 Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto. Various simple modifications can be made to the technical proposal of the present invention within the scope of the technical concept of the present invention, and each technical feature can be combined in any other suitable manner, and these simple modifications and combinations can be made. Can be regarded as the disclosed contents of the present invention, and all belong to the scope of protection of the present invention.

Claims (19)

アルミノホウシリケートガラスであって、
前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成には、
ＳｉＯ２ ３３〜６０ｗｔ％、
Ａｌ２Ｏ３ ３〜１０ｗｔ％、
Ｂ２Ｏ３ １０〜３０ｗｔ％、
ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３ １〜１５ｗｔ％、及び
アルカリ土類金属酸化物ＲＯ ７〜２７ｗｔ％が含まれ、
ここで、ＲＯは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのうちの少なくとも１種であり、
Ｓｃ２Ｏ３の含有量は、０．００１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦１ｗｔ％を満たすことを特徴とするアルミノホウシリケートガラス。 Almino hosilate glass
The composition of the glass is based on the total weight of each component in the composition of the glass.
SiO 2 33-60 wt%,
Al 2 O 3 3-10 wt%,
B 2 O 3 10-30 wt%,
ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 1 to 15 wt% and alkaline earth metal oxide RO 7 to 27 wt% are included.
Here, RO is at least one of MgO, CaO, SrO and BaO.
The content of Sc 2 O 3 is aluminosilicate borate silicate glass and satisfies the 0.001wt% ≦ Sc 2 O 3 ≦ 1wt%. 前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、
（ＭｇＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）＞０．６
を満たすことを特徴とする請求項１に記載のアルミノホウシリケートガラス。 Based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage.
(MgO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO)> 0.6
The aluminum nohosilicate glass according to claim 1. 前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、
ＺｎＯ／（ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）＞０．６
を満たすことを特徴とする請求項１又は２に記載のアルミノホウシリケートガラス。 Based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage.
ZnO / (ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3 )> 0.6
The alumino silicate glass according to claim 1 or 2, wherein the alumino silicate glass meets the requirements. 前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、
０．１ｗｔ％≦Ｓｃ２Ｏ３≦０．７ｗｔ％
を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラス。 Based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage.
0.1 wt% ≤ Sc 2 O 3 ≤ 0.7 wt%
The aluminum nohosilicate glass according to any one of claims 1 to 3, which is characterized by satisfying the above conditions. 前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、
４０ｗｔ％≦ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３≦６５ｗｔ％
を満たすことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラス。 Based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage.
40 wt% ≤ SiO 2 + Al 2 O 3 ≤ 65 wt%
The aluminum nohosilicate glass according to any one of claims 1 to 4, which is characterized by satisfying the above conditions. 前記ガラスの組成における各成分の全重量を基準にして、該ガラスの組成における各成分の含有量は、重量百分率で、
脆性係数Ｄが０〜１、
Ｄ値が、式
Ｄ＝Ｐ１＊ＳｉＯ２＋２．０＊Ｂ２Ｏ３−２．０＊（Ａｌ２Ｏ３＋ＣａＯ）＋０．５＊ＳｒＯ＋１．０＊（ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ＋ＴｉＯ２＋Ｓｃ２Ｏ３）−４＊ΣＱにより計算され、
式中、
ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３は、それぞれ該成分の組成全体に占める重量百分率を示し、
ΣＱは、組成のうちＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｃ２Ｏ３以外の成分の重量百分率の和を示し、且つ
３３ｗｔ％≦ＳｉＯ２≦５４ｗｔ％では、Ｐ１の値は、０．２であり、
５４ｗｔ％＜ＳｉＯ２≦６０ｗｔ％では、Ｐ１の値は、−０．５
であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラス。 Based on the total weight of each component in the composition of the glass, the content of each component in the composition of the glass is a weight percentage.
Brittle coefficient D is 0 to 1 ,
D value, the formula D = P 1 * SiO 2 + 2.0 * B 2 O 3 -2.0 * (Al 2 O 3 + CaO) + 0.5 * SrO + 1.0 * (MgO + BaO + ZnO + TiO 2 + Sc 2 O 3) -4 * Calculated by ΣQ
During the ceremony
SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, TiO 2 , and Sc 2 O 3 each indicate the weight percentage of the total composition of the component.
ΣQ indicates the sum of the weight percentages of the components other than SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, TiO 2 , and Sc 2 O 3 in the composition, and 33 wt%. in ≦ SiO 2 ≦ 54wt%, the value of P 1 is 0.2,
When 54 wt% <SiO 2 ≤ 60 wt%, the value of P 1 is -0.5.
The aluminum nohosilicate glass according to any one of claims 1 to 5, wherein the alumino silicate glass is characterized by the above. 脆性係数Ｄが０．２〜０．８である請求項６に記載のアルミノホウシリケートガラス。The aluminum nohosilicate glass according to claim 6, wherein the brittleness coefficient D is 0.2 to 0.8. 脆性係数Ｄが０．３〜０．６である請求項７に記載のアルミノホウシリケートガラス。The aluminum nohosilicate glass according to claim 7, wherein the brittleness coefficient D is 0.3 to 0.6. 前記アルミノホウシリケートガラスは、
密度が３ｇ／ｃｍ３未満、
屈折率ｎＤが１．５２より大きく、
５０〜３５０℃の範囲での熱膨張係数が４５×１０−７／℃未満、
であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラス。 The aluminum nohosilicate glass is
Density is less than 3 g / cm 3 ,
Refractive Oriritsu n D is greater than 1.52,
The coefficient of thermal expansion in the range of 50 to 350 ° C is less than 45 × 10-7 / ° C,
Aluminosilicate borate glass according to any one of claims 1 to 6, characterized in that. 前記アルミノホウシリケートガラスは、The aluminum nohosilicate glass is
密度が２．４３〜２．６８ｇ／ｃｍDensity is 2.43 to 2.68 g / cm ３3 であり、And
屈折率ｎRefractive index n ＤD が１．５２＜ｎIs 1.52 <n ＤD ＜１．５５であり、<1.55,
５０〜３５０℃の範囲での熱膨張係数が２９×１０The coefficient of thermal expansion in the range of 50 to 350 ° C is 29 × 10. −７-7 ／℃〜４１×１０/ ℃ ~ 41 × 10 −７-7 ／℃/ ℃
であることを特徴とする請求項９に記載のアルミノホウシリケートガラス。The aluminum nohosilicate glass according to claim 9. 厚さ≦０．５ｍｍのアルミノホウシリケートガラスの曲げ係数ＣＲが、
０＜ＣＲ＜０．５を満たし、
Ｃ Ｒ値が、式
ＣＲ＝（Ｒ＊σ）／（Ｅ＊ｄ）により計算され、
式中、
Ｅは、前記アルミノホウシリケートガラスのヤング率であり、単位がＭＰａであり、
ｄは、前記アルミノホウシリケートガラスの厚さであり、単位がｍｍであり、
Ｒは、前記アルミノホウシリケートガラスの曲げ時の最小曲率半径であり、単位がｍｍであり、
σは、前記アルミノホウシリケートガラスの曲率半径Ｒの場合の曲げ応力であり、単位がＭＰａ
であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラス。 Flexural modulus C R aluminosilicate borate glass having a thickness of ≦ 0.5 mm is,
Satisfy 0 < CR <0.5 ,
The CR value is calculated by the formula CR = (R * σ) / (E * d).
During the ceremony
E is the Young's modulus of the aluminum nohosilicate glass, and the unit is MPa.
d is the thickness of the aluminum nohosilicate glass, and the unit is mm.
R is the minimum radius of curvature at the time of bending the aluminum nohosilicate glass, and the unit is mm.
σ is the bending stress in the case of the radius of curvature R of the aluminum nohosilicate glass, and the unit is MPa.
The aluminum nohosilicate glass according to any one of claims 1 to 10. ０＜Ｃ0 <C ＲR ＜０．４５である請求項１１に記載のアルミノホウシリケートガラス。The aluminum nohosilicate glass according to claim 11, which is <0.45. ０＜Ｃ0 <C ＲR ＜０．４である請求項１２に記載のアルミノホウシリケートガラス。The aluminum nohosilicate glass according to claim 12, which is <0.4. 前記アルミノホウシリケートガラスの歪点温度が、６８０℃より高く、及び／又は
前記アルミノホウシリケートガラスの成形温度Ｔ４と液相線温度Ｔｌとの差が、１００℃より大きく、及び／又は
前記アルミノホウシリケートガラスのヤング率が、８０ＧＰａ未満
であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラス。 The strain point temperature of the alumino silicate glass is higher than 680 ° C. and / or the difference between the molding temperature T 4 of the alumino silicate glass and the liquidus temperature T l is larger than 100 ° C. and / or said. The aluminum nohosilicate glass according to any one of claims 1 to 13 , wherein the Young's modulus of the alminohosilicate glass is less than 80 GPa. アルミノホウシリケートガラスの製造方法であって、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラスの組成に応じて原料組成物を提供し、前記原料組成物に対して溶融処理、成形処理、アニーリング処理及び機械的加工処理を順次行うことを含む
ことを特徴とするアルミノホウシリケートガラスの製造方法。 It is a manufacturing method of Alminohosilicate glass.
A raw material composition is provided according to the composition of the aluminum nohosilicate glass according to any one of claims 1 to 14 , and the raw material composition is subjected to a melting treatment, a molding treatment, an annealing treatment and a mechanical processing treatment. the method of producing aluminosilicate borate glass, characterized in including that to make sequentially. 機械的加工処理により得られた産物に対して二次溶融薄化処理を行うことを特徴とする請求項１５に記載のアルミノホウシリケートガラスの製造方法。The method for producing an aluminum nohosilicate glass according to claim 15, wherein the product obtained by the mechanical processing treatment is subjected to a secondary melt thinning treatment. 厚さ０．１ｍｍ未満のガラスを製造するように前記機械的加工処理又は前記二次溶融薄化処理の条件を制御することをさらに含むFurther comprising controlling the conditions of the mechanical processing or the secondary melt thinning process to produce glass less than 0.1 mm thick.
ことを特徴とする請求項１６に記載のアルミノホウシリケートガラスの製造方法。The method for producing an aluminum nohosilicate glass according to claim 16. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載のアルミノホウシリケートガラスの、ディスプレイデバイス及び／又は太陽電池の製造における使用。 Of aluminosilicate borate glass as claimed in any one of claims 1 to 14 in the manufacture of a display device and / or solar cells. フラットディスプレイ製品のガラス基板材料及び／又はスクリーン表面保護用ガラスフィルム材料、フレキシブルディスプレイ製品のガラス基板材料及び／又は表面パッケージガラス材料及び／又はスクリーン表面保護用ガラスフィルム材料、フレキシブル太陽電池のガラス基板材料の製造における請求項１８に記載の使用。 Glass substrate material for flat display products and / or glass film material for screen surface protection, glass substrate material for flexible display products and / or surface package glass material and / or glass film material for screen surface protection, glass substrate material for flexible solar cells The use according to claim 18 in the manufacture of .
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