JP6954502B1 - Laminate for thin film layer transfer - Google Patents

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Abstract

ピンホールや転写不良などの欠点の発生が抑制された転写物を形成することができる薄膜層転写用積層体を提供する。離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルム、がこの順に積層された積層体であって、下記式（１）、（２）、及び（３）を満たす。０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７ （１）（Ｘ：離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度、Ｙ：薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度）Ｓｋｕ≦４０ （２）（Ｓｋｕ：離型性基材フィルムの離型面のクルトシス）Ｓｑ≦２０ｎｍ （３）（Ｓｑ：離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ）Provided is a thin film layer transfer laminate capable of forming a transferred product in which defects such as pinholes and transfer defects are suppressed. The releasable base film, the thin film layer, and the masking film are laminated in this order, and satisfy the following formulas (1), (2), and (3). 0.01 ≤ Y / X ≤ 0.7 (1) (X: release strength between the releasable base film and the thin film layer, Y: release strength between the thin film layer and the masking film) Sku ≤ 40 (2) ( Sku: Kurtosis of the release surface of the release base film) Sq ≤ 20 nm (3) (Sq: Squared average square root roughness of the release surface of the release base film)

Description

本発明は、薄膜層を転写するための積層体に関する。更に詳しくは、円偏光板などの偏光板や位相差板の製造や、液晶化合物からなる偏光層を有する偏光板の製造において用いられる、液晶化合物が配向された層を含む薄膜層を転写する際に好適に用いられる積層体に関する。 The present invention relates to a laminate for transferring a thin film layer. More specifically, when transferring a thin film layer including a layer in which a liquid crystal compound is oriented, which is used in the production of a polarizing plate such as a circular polarizing plate or a retardation plate or a polarizing plate having a polarizing layer made of a liquid crystal compound. The present invention relates to a laminate preferably used in the above.

離型性基材上に薄膜層を設け、この薄膜層を対象物に転写する技術は古くから知られている。この転写法は、従来からの絵柄の転写だけでなく、近年では、光学分野、電気電子分野などにおいて、位相差層、偏光層、紫外線や赤外線などの吸収層や反射層、電磁波シールド層、電極層、反射防止層、屈折率調整層など様々な機能を有する薄膜層が転写により対象物に設けられる方法が採用されてきている。 A technique of providing a thin film layer on a releasable substrate and transferring the thin film layer to an object has been known for a long time. This transfer method is not limited to the conventional transfer of patterns, but in recent years, in the fields of optics, electrical and electronic fields, etc., a retardation layer, a polarizing layer, an absorption layer such as ultraviolet rays and infrared rays, a reflection layer, an electromagnetic wave shield layer, and an electrode A method has been adopted in which a thin film layer having various functions such as a layer, an antireflection layer, and a refractive index adjusting layer is provided on an object by transfer.

例えば、画像表示装置においては、従来、外来光の反射を低減するために、画像表示パネルの視聴者側のパネル面に円偏光板を配置している。この円偏光板は、直線偏光板とλ／４等の位相差フィルムとの積層体により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続くλ／４等の位相差フィルムにより円偏光に変換する。円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面で反射する際に偏光面の回転方向が逆転し、この反射光は、逆に、λ／４等の位相差フィルムにより、直線偏光板で遮光される方向の直線偏光に変換され、その後直線偏光板により遮光されるため、外部への出射が抑えられる。このように、円偏光板は、偏光板にλ／４等の位相差フィルムを貼り合わせたものが用いられている。 For example, in an image display device, conventionally, a circularly polarizing plate is arranged on the panel surface of the image display panel on the viewer side in order to reduce the reflection of external light. This circular polarizing plate is composed of a laminate of a linear polarizing plate and a retardation film such as λ / 4, and converts external light toward the panel surface of the image display panel into linearly polarized light by the linear polarizing plate, followed by λ /. It is converted to circularly polarized light by a retardation film of 4 mag. When the external light due to circularly polarized light is reflected on the surface of the image display panel, the rotation direction of the polarizing surface is reversed, and on the contrary, this reflected light is shielded by a linear polarizing plate by a retardation film such as λ / 4. Since it is converted to linearly polarized light in the direction of light and then shielded by a linear polarizing plate, emission to the outside is suppressed. As described above, as the circularly polarizing plate, one in which a retardation film such as λ / 4 is bonded to the polarizing plate is used.

位相差フィルムとしては、環状オレフィン（特許文献１）、ポリカーボネート（特許文献２）、トリアセチルセルロースの延伸フィルム（特許文献３）などの単体の位相差フィルムが用いられている。また、位相差フィルムとしては、透明フィルム上に液晶化合物からなる位相差層を有する積層体の位相差フィルムが用いられている（特許文献４、５）。上記において液晶化合物からなる位相差層（液晶化合物層）を設ける際には、液晶化合物を転写してもよいことが記載されている。 As the retardation film, a single retardation film such as cyclic olefin (Patent Document 1), polycarbonate (Patent Document 2), and a stretched film of triacetyl cellulose (Patent Document 3) is used. Further, as the retardation film, a retardation film of a laminate having a retardation layer made of a liquid crystal compound on a transparent film is used (Patent Documents 4 and 5). In the above, when providing a retardation layer (liquid crystal compound layer) made of a liquid crystal compound, it is described that the liquid crystal compound may be transferred.

また、液晶化合物からなる位相差層を透明フィルムに転写することにより位相差フィルムを作製する方法は特許文献６等で知られている。このような転写法により、λ／４等の液晶化合物からなる位相差層を透明フィルム上に設け、λ／４位相差フィルムとする方法も知られている（特許文献７、８）。 Further, a method for producing a retardation film by transferring a retardation layer made of a liquid crystal compound to a transparent film is known in Patent Document 6 and the like. A method is also known in which a retardation layer made of a liquid crystal compound such as λ / 4 is provided on a transparent film by such a transfer method to form a λ / 4 retardation film (Patent Documents 7 and 8).

これらの転写法では、転写用の離型性基材フィルム（以後単に基材フィルムという場合がある）上に液晶化合物を配向させた位相差層を設けた転写用積層体を作製し、この転写用積層体の位相差層を対象となるフィルム等に貼り合わせて転写する。 In these transfer methods, a transfer laminate in which a retardation layer in which a liquid crystal compound is oriented is provided on a releasable base film for transfer (hereinafter, may be simply referred to as a base film) is prepared, and this transfer is performed. The retardation layer of the laminate is bonded to a target film or the like and transferred.

通常、転写用積層体は長尺物のロールとして作製されるが、ロールとして巻き取る際に、位相層の保護のためにマスキングフィルムを位相差層に貼り合わせて巻き取る場合があった（特許文献９）。転写用積層体のロールを用いて対象物に位相差層を転写する際には、マスキングフィルムを剥離して、接着剤等で対象物と位相差層を貼り合わせる。転写用積層体の基材フィルムは、剥がされることなく積層されたまま、一旦、ロールとして巻き取られる場合もあるが、画像表示セルに貼り合わせる時など、最終的な製品になる前に剥離される。 Normally, the transfer laminate is produced as a long roll, but when it is wound as a roll, a masking film may be attached to a phase difference layer and wound up in order to protect the phase layer (patented). Document 9). When the retardation layer is transferred to the object using the roll of the transfer laminate, the masking film is peeled off and the object and the retardation layer are bonded to each other with an adhesive or the like. The base film of the transfer laminate may be wound up as a roll while being laminated without being peeled off, but it is peeled off before it becomes the final product, such as when it is attached to an image display cell. NS.

しかしながら、これらの工程により基材フィルムに位相差層を設けた場合、ピンホールが生じる等の欠点が問題となっていた。特に、基材フィルムに位相差層を設けた直後には欠点がなくても、最終的な製品とした場合には欠点が生じる場合があり、改善が求められていた。 However, when the retardation layer is provided on the base film by these steps, there has been a problem of drawbacks such as pinholes. In particular, even if there are no defects immediately after the retardation layer is provided on the base film, defects may occur in the final product, and improvement has been sought.

特開２０１２−５６３２２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-56222 特開２００４−１４４９４３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-144943 特開２００４−４６１６６号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-46166 特開２００６−２４３６５３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-243653 特開２００１−４８３７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-4837 特開平４−５７０１７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-57017 特開２０１４−０７１３８１号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-071381 特開２０１７−１４６６１６号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-146616 特開２０１６−２２４１２８号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-224128

本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、薄膜層を転写するための転写用積層体であって、ピンホールや転写不良などの欠点の発生が抑制された転写物を形成することができる転写用積層体を提供しようとするものである。 The present invention has been made against the background of the problems of the prior art. That is, an object of the present invention is a transfer laminate for transferring a thin film layer, which can form a transfer product in which defects such as pinholes and transfer defects are suppressed. It is what we are trying to provide.

本発明者らは、かかる目的を達成するために、透明樹脂フィルムを転写用の基材フィルムとして使用して製造された位相差層積層偏光板（円偏光板）にピンホールなどの欠点が発生する原因について検討した。その結果、基材フィルム上に液晶化合物層を設けた時にはピンホールなどの欠点はなくても、マスキングフィルムを貼り合わせた転写用積層体をロール状態で保存し、このロールから転写用積層体を巻き出して対象物に転写する工程でマスキングフィルムを剥離する際や、基材フィルムを剥離する際にピンホールが発生することを見出した。さらにこのピンホールは、基材フィルムと液晶化合物層との剥離力と液晶化合物層とマスキングフィルムとの剥離力との関係を適正に保つこと、さらには基材フィルムの離型面の粗さを特定の範囲とすることで抑制できることを見出し、本発明の完成に至った。本発明の薄膜層転写用積層体は、以下の点に要旨を有する。 In order to achieve such an object, the present inventors have defects such as pinholes in a retardation layer laminated polarizing plate (circular polarizing plate) manufactured by using a transparent resin film as a base film for transfer. We examined the cause of the problem. As a result, even if there are no defects such as pinholes when the liquid crystal compound layer is provided on the base film, the transfer laminate to which the masking film is attached is stored in a roll state, and the transfer laminate is obtained from this roll. It has been found that pinholes occur when the masking film is peeled off in the process of unwinding and transferring to the object, or when the base film is peeled off. Further, this pinhole maintains an appropriate relationship between the peeling force between the base film and the liquid crystal compound layer and the peeling force between the liquid crystal compound layer and the masking film, and further, the roughness of the release surface of the base film. We have found that it can be suppressed by setting it within a specific range, and have completed the present invention. The laminate for thin film layer transfer of the present invention has the following points.

離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルム、がこの順に積層された積層体であって、下記式（１）、（２）、及び（３）を満たすことを特徴とする。
０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７ （１）
Ｘ：離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度
Ｙ：薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度
Ｓｋｕ≦４０ （２）
Ｓｋｕ：離型性基材フィルムの離型面のクルトシス
Ｓｑ≦２０ｎｍ （３）
Ｓｑ：離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さThe releasable base film, the thin film layer, and the masking film are laminated in this order, and are characterized by satisfying the following formulas (1), (2), and (3).
0.01 ≤ Y / X ≤ 0.7 (1)
X: Peeling strength between the releasable base film and the thin film layer Y: Peeling strength between the thin film layer and the masking film Sku ≦ 40 (2)
Sku: Kurtosis of the release surface of the release base film Sq ≤ 20 nm (3)
Sq: Root mean square roughness of the release surface of the release base film

本発明の薄膜層転写用積層体は、さらに下記式（４）を満たすことが好ましい。
−１．０≦Ｓｓｋ≦２．０ （４）
Ｓｓｋ：離型性基材フィルムの離型面のスキューネスThe thin film layer transfer laminate of the present invention preferably further satisfies the following formula (4).
-1.0 ≤ Sk ≤ 2.0 (4)
Sk: Releasability The skewness of the release surface of the base film

本発明の薄膜層転写用積層体は、さらに下記式（５）を満たすことが好ましい。
０．００５Ｎ／２５ｍｍ≦Ｙ≦２．０Ｎ／２５ｍｍ （５）The thin film layer transfer laminate of the present invention preferably further satisfies the following formula (5).
0.005N / 25mm ≤ Y ≤ 2.0N / 25mm (5)

上記薄膜層は液晶化合物が配向された層を含むことが好ましい。 The thin film layer preferably contains a layer in which the liquid crystal compound is oriented.

本発明の薄膜層を転写するための薄膜層転写用積層体は取り扱い性に優れ、特にロールツーロールで対象物に容易に薄膜層を転写することができる。さらに、本発明の薄膜層転写用積層体を用いることで、ピンホールや転写不良などの欠点の発生が抑制された転写物を得ることができる。 The thin film layer transfer laminate for transferring the thin film layer of the present invention is excellent in handleability, and in particular, the thin film layer can be easily transferred to an object by roll-to-roll. Furthermore, by using the thin film layer transfer laminate of the present invention, it is possible to obtain a transferred product in which the occurrence of defects such as pinholes and transfer defects is suppressed.

（離型性基材フィルム）
離型性基材フィルムの基材フィルム原反を構成する樹脂としては、転写用基材としての強度を保てるものであれば特に制限されないが、中でもポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロースが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロースが特に好ましい。なお、本発明の説明において、離型性基材フィルムとは、フィルム製膜工程で得られた基材フィルム原反に、必要により付与されるコート層などの後加工付与される層も含むもので、液晶化合物転写用積層体の製造に供される形態のものを指し、基材フィルム原反とは、フィルム製膜工程で得られた状態のものを指す。(Releasable base film)
The resin constituting the base film raw material of the releasable base film is not particularly limited as long as it can maintain the strength as a transfer base material, but among them, polyester, polycarbonate, polystyrene, polyamide, polypropylene, and cyclic polyolefin. , Triacetyl cellulose is preferable, and polyethylene terephthalate, cyclic polyolefin, and triacetyl cellulose are particularly preferable. In the description of the present invention, the releasable base film includes a layer to be post-processed, such as a coat layer to be added as needed, to the base film raw fabric obtained in the film forming process. The base film raw fabric refers to a film obtained in a film forming process, and refers to a form used for producing a laminate for transferring a liquid crystal compound.

基材フィルム原反は、構成としては単層でも共押出による複数層であってもよい。複数層の場合は、一方面のみが離型面である［離型面側層（Ａ）］／［裏面側層（Ｂ）］の構成、両面が離型面でありその中間に別の中間層（Ｃ）を有する［離型面側層（Ａ）］／［中間層（Ｃ）］／［離型面側層（Ａ）］の構成、及び一方面のみが離型面であり離型面と裏面側層との間に中間層（Ｃ）を有する［離型面側層（Ａ）］／［中間層（Ｃ）］／［裏面側層（Ｂ）］の構成などが挙げられる。 The base film raw fabric may be composed of a single layer or a plurality of layers by coextrusion. In the case of a plurality of layers, only one surface is a release surface [release surface side layer (A)] / [back surface side layer (B)], and both sides are release surfaces and another intermediate is in between. The configuration of the [release surface side layer (A)] / [intermediate layer (C)] / [release surface side layer (A)] having the layer (C), and only one surface is the release surface and the mold is released. Examples thereof include a configuration of a [release surface side layer (A)] / [intermediate layer (C)] / [back surface side layer (B)] having an intermediate layer (C) between the front surface and the back surface side layer.

なお、本発明において、基材フィルム原反の「離型面側層」とは、基材フィルム原反を構成する樹脂の各層のうち、離型面が存在する側の層を意味する。ここで、フィルムが単一の層である場合も離型面側層と呼ぶ場合がある。この場合、後述する裏面側層と離型面側層が同一層となる。また、離型面側層を単に表層という場合がある。 In the present invention, the "release surface side layer" of the base film raw fabric means the layer on the side where the release surface exists among the layers of the resin constituting the base film raw fabric. Here, even when the film is a single layer, it may be referred to as a release surface side layer. In this case, the back surface side layer and the release surface side layer, which will be described later, are the same layer. Further, the release surface side layer may be simply referred to as a surface layer.

基材フィルム原反は延伸フィルムであっても未延伸フィルムであってもよい。延伸する場合は、一軸延伸、弱二軸延伸（二軸方向に延伸しているが一方の方向が弱いもの）、二軸延伸、いずれでもかまわないが、幅方向に広い範囲で配向方向を一定にできるという面で一軸延伸か弱二軸延伸が好ましい。弱二軸延伸の場合は主配向方向を後段の延伸方向にすることが好ましい。一軸延伸の場合、延伸方向はフィルム製造の流れ方向（長手方向）であっても、これに直交する方向（横方向）であってもよい。 The base film raw fabric may be a stretched film or an unstretched film. When stretching, either uniaxial stretching, weak biaxial stretching (stretching in the biaxial direction but weak in one direction), or biaxial stretching may be used, but the orientation direction is constant over a wide range in the width direction. Uniaxial stretching or weak biaxial stretching is preferable in terms of being able to do so. In the case of weak biaxial stretching, it is preferable that the main orientation direction is the stretching direction of the subsequent stage. In the case of uniaxial stretching, the stretching direction may be the flow direction (longitudinal direction) of film production or the direction orthogonal to the flow direction (lateral direction).

二軸延伸の場合は同時二軸延伸であっても逐次二軸延伸であってもよい。長手方向の延伸は速度差の異なるロール群による延伸が好ましく、横方向の延伸はテンター延伸が好ましい。特に基材フィルム原反がポリエチレンテレフタレートである場合は延伸フィルムであることが好ましい。 In the case of biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching may be used. Stretching in the longitudinal direction is preferably stretched by roll groups having different speed differences, and stretching in the lateral direction is preferably tenter stretching. In particular, when the base film raw material is polyethylene terephthalate, it is preferably a stretched film.

基材フィルム原反は製膜時に易接着コートや離型コート、帯電防止コートなどが行われたものであってもよい。 The base film raw fabric may be an easy-adhesion coating, a release coating, an antistatic coating, or the like at the time of film formation.

離型性基材フィルムは工業的にはフィルムを巻回したロールで供給される。ロール幅の下限は好ましくは３０ｃｍであり、より好ましくは５０ｃｍであり、さらに好ましくは７０ｃｍであり、特に好ましくは９０ｃｍであり、最も好ましくは１００ｃｍである。ロール幅の上限は好ましくは５０００ｃｍであり、より好ましくは４０００ｃｍであり、さらに好ましくは３０００ｃｍであり、よりさらに好ましくは５００ｃｍであり、特に好ましくは４００ｃｍであり、最も好ましくは３００ｃｍである。 The releasable base film is industrially supplied in rolls around which the film is wound. The lower limit of the roll width is preferably 30 cm, more preferably 50 cm, still more preferably 70 cm, particularly preferably 90 cm, and most preferably 100 cm. The upper limit of the roll width is preferably 5000 cm, more preferably 4000 cm, further preferably 3000 cm, even more preferably 500 cm, particularly preferably 400 cm, and most preferably 300 cm.

ロール長さの下限は好ましくは１００ｍであり、より好ましくは５００ｍであり、さらに好ましくは１０００ｍである。ロール長さの上限は好ましくは１０００００ｍであり、より好ましくは５００００ｍであり、さらに好ましくは３００００ｍである。 The lower limit of the roll length is preferably 100 m, more preferably 500 m, and even more preferably 1000 m. The upper limit of the roll length is preferably 100,000 m, more preferably 50,000 m, and even more preferably 30,000 m.

離型性基材フィルムの厚みの下限は好ましくは３μｍであり、より好ましくは５μｍであり、さらに好ましくは８μｍであり、特に好ましくは１０μｍであり、最も好ましくは１２μｍである。厚みの上限は好ましくは１５０μｍであり、より好ましくは１００μｍであり、さらに好ましくは８０μｍであり、特に好ましくは７０μｍであり、最も好ましくは６０μｍである。上記範囲にすることで、取り扱い性に優れ、コストなど経済的にも優位となる。 The lower limit of the thickness of the releasable base film is preferably 3 μm, more preferably 5 μm, further preferably 8 μm, particularly preferably 10 μm, and most preferably 12 μm. The upper limit of the thickness is preferably 150 μm, more preferably 100 μm, further preferably 80 μm, particularly preferably 70 μm, and most preferably 60 μm. Within the above range, it is easy to handle and economically advantageous in terms of cost.

（離型面粗さ）
離型性基材フィルムの離型面は平滑であることが好ましい。なお、本発明において、離型性基材フィルムの「離型面」とは、離型性基材フィルムの表面のうち、転写する薄膜層（例えば液晶化合物層）が設けられることを意図される表面を意味する。後述するオリゴマーブロックコート層、平坦化コート層や離型層等が設けられている場合、この上に薄膜層を設けるのであれば、これらオリゴマーブロックコート層、平坦化層や離型層等の表面、すなわち薄膜層と接する面が、離型性基材フィルムの「離型面」である。(Roughness of mold release surface)
The release surface of the releasable base film is preferably smooth. In the present invention, the "release surface" of the releasable base film is intended to provide a thin film layer (for example, a liquid crystal compound layer) to be transferred on the surface of the releasable base film. Means the surface. When an oligomer block coat layer, a flattening coat layer, a release layer, etc., which will be described later, are provided, if a thin film layer is provided on this, the surface of these oligomer block coat layers, the flattening layer, the release layer, etc. That is, the surface in contact with the thin film layer is the "release surface" of the releasable base film.

なお、本発明の各粗さのパラメーターは、実施例に記載の通り、ＩＳＯ ２５１７８に準じ、非接触表面形状計測システム（菱化システム社製、ＶｅｒｔＳｃａｎ Ｒ５５０Ｈ−Ｍ１００）を用いて、下記の条件で測定したものである。
（測定条件）
測定モード：ＷＡＶＥモード
対物レンズ：５０倍
０．５×Ｔｕｂｅレンズ
測定面積：１８７μｍ×１３９μｍ
（解析条件）
面補正：４次補正
補間処理：完全補間
ＩＳＯパラメーター処理： Ｓ−Ｆｉｌｔｅｒ １μｍ指定As described in the examples, the parameters of each roughness of the present invention are in accordance with ISO 25178, using a non-contact surface shape measurement system (VertScan R550H-M100 manufactured by Ryoka System Co., Ltd.) under the following conditions. It was measured.
(Measurement condition)
Measurement mode: WAVE mode Objective lens: 50x 0.5 x Tube lens Measurement area: 187 μm x 139 μm
(Analysis conditions)
Surface correction: 4th correction
Interpolation processing: Complete interpolation ISO parameter processing: S-Filter 1 μm designation

本発明の薄膜層転写用積層体は、下記式（２）を満たす。
Ｓｋｕ≦４０ （２）
ここで、Ｓｋｕは離型性基材フィルムの離型面のクルトシスである。粗さパラメーターの一つであるクルトシスは、高さ分布の尖り度を示す指標であり、値が大きいほど尖っていることを示し、鋭いピークや谷がある場合に数値が大きくなる。なお、高さ分布が正規分布であるときクルトシスの値は３となる。本発明の離型性基材フィルムの離型面のクルトシス（Ｓｋｕ）の上限は４０である。Ｓｋｕの上限はより好ましくは３０、さらに好ましくは２０、特に好ましくは１５、最も好ましくは１２である。Ｓｋｕの下限は特に定めるものではないが、１．０が好ましく、より好ましくは２．０であり、さらに好ましくは３．０であり、Ｓｋｕは３．０超であることが特に好ましく、４．０以上、４．５以上、或いは５．０以上であることも許容される。The thin film layer transfer laminate of the present invention satisfies the following formula (2).
Sk ≤ 40 (2)
Here, Sk is a Kurtosis of the release surface of the release base film. Kurtosis, which is one of the roughness parameters, is an index showing the sharpness of the height distribution, and the larger the value, the sharper it is, and the larger the value is when there are sharp peaks or valleys. When the height distribution is a normal distribution, the value of Kurtosis is 3. The upper limit of the Kurtosis (Sku) of the release surface of the releasable base film of the present invention is 40. The upper limit of the Sku is more preferably 30, still more preferably 20, particularly preferably 15, and most preferably 12. The lower limit of Sku is not particularly defined, but 1.0 is preferable, more preferably 2.0, still more preferably 3.0, and Sku is particularly preferably more than 3.0. It is also acceptable to be 0 or more, 4.5 or more, or 5.0 or more.

薄膜層転写用積層体を用いて対象物となるフィルムに薄膜層を転写する際には、マスキングフィルムを剥離し、最終的な製品となる前には離型性基材フィルムを剥離するが、離型性基材フィルムの離型面のＳｋｕを上記範囲にすることで、なめらかな剥離ができるようになり、マスキングフィルムや基材フィルムの凸部分に液晶化合物層が残ったり、この部分をきっかけに筋状の液晶化合物層が転写されなかった領域が発生したりするような転写不良を効果的に抑制することができる。また、Ｓｋｕが３．０超、４．０以上、４．５以上、或いは５．０以上であれば、離型基材フィルムの離型面の凹凸がある程度の尖り度を有しているため、離型基材フィルムが薄膜層に貼り付くことを抑制してなめらかな剥離を行うことができる。 When transferring the thin film layer to the target film using the thin film layer transfer laminate, the masking film is peeled off, and the releasable base film is peeled off before the final product is produced. By setting the Sk on the release surface of the releasable base film to the above range, smooth peeling becomes possible, and a liquid crystal compound layer remains on the convex portion of the masking film or the base film, or this portion is a trigger. It is possible to effectively suppress transfer defects such as a region where the streaky liquid crystal compound layer is not transferred. Further, if the Sku is more than 3.0, 4.0 or more, 4.5 or more, or 5.0 or more, the unevenness of the release surface of the release base film has a certain degree of sharpness. , It is possible to prevent the release base film from sticking to the thin film layer and perform smooth peeling.

本発明の薄膜層転写用積層体は下記式（３）を満たす。
Ｓｑ≦２０ｎｍ （３）
ここでＳｑは、離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さである。離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）の上限は２０ｎｍであり、好ましくは１５ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ、さらに好ましくは７ｎｍ、最も好ましくは５ｎｍである。Ｓｑの下限は特に定めるものではないが、０．５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは０．８ｎｍ以上、特に好ましくは１．０ｎｍ以上である。Ｓｑを上記範囲とすることで、離型性基材フィルムに薄膜層を設けたときに薄膜層自体に欠点が生じる、転写時に転写不良が生じる、といった問題を抑制することができる。The thin film layer transfer laminate of the present invention satisfies the following formula (3).
Sq ≤ 20 nm (3)
Here, Sq is the root mean square roughness of the release surface of the release base film. The upper limit of the root mean square roughness (Sq) of the release surface of the releasable base film is 20 nm, preferably 15 nm, more preferably 10 nm, still more preferably 7 nm, and most preferably 5 nm. The lower limit of Sq is not particularly defined, but is preferably 0.5 nm or more, more preferably 0.8 nm or more, and particularly preferably 1.0 nm or more. By setting Sq in the above range, it is possible to suppress problems such as defects in the thin film layer itself when the thin film layer is provided on the releasable base film, and transfer defects during transfer.

本発明の薄膜層転写用積層体は下記式（４）を満たすことが好ましい。
−１．０≦Ｓｓｋ≦２．０ （４）
ここで、Ｓｓｋは離型性基材フィルムの離型面のスキューネスである。粗さパラメーターの一つであるスキューネスは、高さ分布の対称性を示す指標であり、値が０のとき高さ分布が上下対象であることを示し、値が正のときは山が多い表面、値が負のときは谷が多い表面であることを示している。離型性基材フィルムの離型面のスキューネス（Ｓｓｋ）の下限は好ましくは−１．０であり、よりこのましくは−０．７であり、さらに好ましくは−０．５であり、特に好ましくは−０．３である。上記とすることで、離型性基材フィルムの巻き取りを安定して行うことができる。離型性基材フィルムの離型面のＳｓｋの上限は好ましくは２．０であり、より好ましくは１．７であり、さらに好ましくは１．５であり、特に好ましくは１．３であり、最も好ましくは０．６である。上記範囲とすることで転写不良をより抑制することができる。また離型基材フィルムの表面を谷よりも山がある程度多い表面とすることができるため、離型基材フィルムが薄膜層に貼り付くことを抑制してなめらかな剥離を行うことができる。The thin film layer transfer laminate of the present invention preferably satisfies the following formula (4).
-1.0 ≤ Sk ≤ 2.0 (4)
Here, Sk is the skewness of the release surface of the release base film. Skewness, which is one of the roughness parameters, is an index showing the symmetry of the height distribution. When the value is 0, it indicates that the height distribution is vertically symmetrical, and when the value is positive, the surface has many peaks. , When the value is negative, it indicates that the surface has many valleys. The lower limit of the skewness (Ssk) of the release surface of the releasable base film is preferably -1.0, more preferably -0.7, and even more preferably -0.5, particularly. It is preferably −0.3. By doing the above, the releasable base film can be stably wound. The upper limit of Ssk on the release surface of the releasable base film is preferably 2.0, more preferably 1.7, still more preferably 1.5, and particularly preferably 1.3. Most preferably, it is 0.6. By setting the above range, transfer defects can be further suppressed. Further, since the surface of the release base film can be a surface having a certain number of peaks rather than valleys, it is possible to suppress the release base film from sticking to the thin film layer and perform smooth peeling.

離型性基材フィルムの離型面の算術平均粗さ（Ｓａ）の上限は好ましくは１５ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍであり、特に好ましくは４ｎｍであり、最も好ましくは３ｎｍである。離型性基材フィルムの離型面のＳａの下限は好ましくは０．２ｎｍであり、より好ましくは０．４ｎｍであり、さらに好ましくは０．５ｎｍである。離型性基材フィルムの離型面のＳａを上記範囲とすることで、離型性基材フィルムに薄膜層を設けた時に薄膜層自体に欠点が生る、転写時に転写不良が生じる、といった問題を抑制することができる。 The upper limit of the arithmetic mean roughness (Sa) of the release surface of the releasable base film is preferably 15 nm, more preferably 10 nm, still more preferably 5 nm, particularly preferably 4 nm, and most preferably. Is 3 nm. The lower limit of Sa on the release surface of the releasable base film is preferably 0.2 nm, more preferably 0.4 nm, and even more preferably 0.5 nm. By setting the Sa of the release surface of the releasable base film within the above range, defects occur in the thin film layer itself when the thin film layer is provided on the releasable base film, and transfer defects occur during transfer. The problem can be suppressed.

離型性基材フィルムの離型面の界面の展開面積（Ｓｄｒ）の上限は好ましくは０．００１５％であり、より好ましくは０．００１％であり、さらに好ましくは０．０００７％である。上記以下にすることで離型性基材フィルムに薄膜層を設けた時に薄膜層自体に欠点が生じる、転写時に転写不良が生じる、といった問題を抑制することができる。界面の展開面積（Ｓｄｒ）の下限は好ましくは０．０００１％である。Ｓｄｒは上部から見た面積に対して、実際の界面の面積がどの程度大きくなっているかを示す指標であり、小さな凹凸が多い場合、凹凸の傾斜が急な場合に大きくなる傾向である。Ｓｄｒが小さいほど、転写時の引っかかりを少なくすることができ、転写不良を抑制することができるのではないかと考えられる。 The upper limit of the developed area (Sdr) of the interface of the release surface of the releasable base film is preferably 0.0015%, more preferably 0.001%, and further preferably 0.0007%. By setting the above or less, it is possible to suppress problems such as defects in the thin film layer itself when the thin film layer is provided on the releasable base film, and transfer defects during transfer. The lower limit of the developed area (Sdr) of the interface is preferably 0.0001%. Sdr is an index showing how large the area of the actual interface is with respect to the area seen from the upper part, and tends to be large when there are many small irregularities and when the inclination of the irregularities is steep. It is considered that the smaller the Sdr, the less the catch during transfer, and the more the transfer defect can be suppressed.

離型性基材フィルムの離型面の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）の下限は好ましくは１（１／ｍｍ）であり、より好ましくは３（１／ｍｍ）であり、さらに好ましくは５（１／ｍｍ）であり、特に好ましくは７（１／ｍｍ）であり、最も好ましくは８（１／ｍｍ）である。上記以上にすることでとすることができる。離型性基材フィルムの離型面の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）の上限は好ましくは１００（１／ｍｍ）であり、より好ましくは８０（１／ｍｍ）であり、さらに好ましくは７０（１／ｍｍ）であり、特に好ましくは６０（１／ｍｍ）であり、最も好ましくは５０（１／ｍｍ）である。Ｓｐｃは突起の頂点の曲率を表す指標であり、値が大きいほど頂点が尖っており、値が小さい方が頂点が滑らかであることを示す。離型性基材フィルムの離型面の粗さの頂点が滑らかである方が、転写時の引っかかりを少なくすることができ、転写不良を抑制することができるのではないかと考えられる。なお、Ｓｐｃの算出の際、用いるソフトウエアにより負の値となることがあるが、上記の範囲は絶対値として当てはめればよい。 The lower limit of the average (Spc) of the principal curvatures of the peaks of the release surface of the releasable base film is preferably 1 (1 / mm), more preferably 3 (1 / mm), and even more preferably. It is 5 (1 / mm), particularly preferably 7 (1 / mm), and most preferably 8 (1 / mm). It can be done by making it more than the above. The upper limit of the average (Spc) of the principal curvatures of the peaks of the release surface of the releasable base film is preferably 100 (1 / mm), more preferably 80 (1 / mm), and even more preferably. It is 70 (1 / mm), particularly preferably 60 (1 / mm), and most preferably 50 (1 / mm). Spc is an index showing the curvature of the apex of the protrusion, and the larger the value, the sharper the apex, and the smaller the value, the smoother the apex. It is considered that if the apex of the roughness of the release surface of the releasable base film is smooth, the catching at the time of transfer can be reduced and the transfer failure can be suppressed. When calculating Spc, it may be a negative value depending on the software used, but the above range may be applied as an absolute value.

離型性基材フィルムの離型面の粗さを上記範囲にするためには、以下の方法が挙げられる。
（ａ）基材フィルム原反の離型面側層が粒子や異物を含まないものとする。
（ｂ）基材フィルム原反の離型面側層が粒子を含む場合は粒径の小さな粒子とする。
（ｃ）基材フィルム原反の離型面側層が粒子や異物を含む場合は平坦化コートを設ける。In order to make the roughness of the release surface of the releasable base film within the above range, the following methods can be mentioned.
(A) It is assumed that the release surface side layer of the base film raw material does not contain particles or foreign substances.
(B) When the release surface side layer of the base film original fabric contains particles, the particles have a small particle size.
(C) If the release surface side layer of the base film original fabric contains particles or foreign substances, a flattening coat is provided.

また、上記以外に原料や製造工程を以下のようにクリーンにすることも重要である。
（ｄ）重合時に異物、特に触媒由来の異物が生成しにくい条件を選択する。
（ｅ）重合時の粒子スラリーにフィルターをかける。チップ化前にフィルターをかける。
（ｆ）チップ化冷却水をクリーンなものにする。チップ搬送、製膜機投入までの環境をクリーンにする。
（ｇ）製膜時、溶融樹脂にフィルターをかけ、凝集粒子や異物を除去する。
（ｈ）コート剤にフィルターをかけ、異物を除去する。
（ｉ）製膜、コート、乾燥時にクリーン環境下で行う。In addition to the above, it is also important to clean the raw materials and manufacturing process as follows.
(D) Select conditions that make it difficult for foreign matter, especially catalyst-derived foreign matter, to be generated during polymerization.
(E) Filter the particle slurry during polymerization. Filter before chipping.
(F) Make the chipped cooling water clean. Clean the environment from chip transfer to introduction of the film-forming machine.
(G) At the time of film formation, the molten resin is filtered to remove agglomerated particles and foreign substances.
(H) Filter the coating agent to remove foreign matter.
(I) Perform in a clean environment during film formation, coating, and drying.

表層は平滑化のためには実質的に粒子を含まないことが好ましい。実質的に粒子を含まないとは、粒子含有量が５０ｐｐｍ未満であり、好ましくは３０ｐｐｍ未満であることを意味する。 The surface layer is preferably substantially free of particles for smoothing. Substantially free of particles means that the particle content is less than 50 ppm, preferably less than 30 ppm.

表面の滑り性を上げるため、表層は粒子を含んでいてもよい。粒子を含む場合、表層粒子含有量の下限は好ましくは１０ｐｐｍであり、より好ましくは５０ｐｐｍであり、さらに好ましくは１００ｐｐｍである。また、表層粒子含有量の上限は好ましくは２００００ｐｐｍであり、より好ましくは１００００ｐｐｍであり、さらに好ましくは８０００ｐｐｍであり、特に好ましくは６０００ｐｐｍである。上記を越えると、表層の粗さを好ましい範囲内にできないことがある。 The surface layer may contain particles in order to increase the slipperiness of the surface. When particles are included, the lower limit of the surface particle content is preferably 10 ppm, more preferably 50 ppm, and even more preferably 100 ppm. The upper limit of the surface particle content is preferably 20000 ppm, more preferably 10000 ppm, still more preferably 8000 ppm, and particularly preferably 6000 ppm. If it exceeds the above, the roughness of the surface layer may not be within a preferable range.

表層粒子径の下限は好ましくは０．００５μｍであり、より好ましくは０．０１μｍであり、さらに好ましくは０．０２μｍである。また、表層粒子径の上限は好ましくは１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは０．３μｍであり、特に好ましくは０．１μｍである。上記を越えると、表層の粗さを好ましい範囲内にできないことがあり、平滑化コートを行っても離型面の粗さが好ましい範囲内にできないことがある。 The lower limit of the surface particle size is preferably 0.005 μm, more preferably 0.01 μm, and even more preferably 0.02 μm. The upper limit of the surface particle size is preferably 1 μm, more preferably 0.5 μm, still more preferably 0.3 μm, and particularly preferably 0.1 μm. If it exceeds the above, the roughness of the surface layer may not be within the preferable range, and even if the smoothing coating is applied, the roughness of the release surface may not be within the preferable range.

表層が粒子を含まない場合や粒径の小さな粒子とした場合であっても、その下層が粒子を含む場合は、下層の粒子の影響により離型面層の粗さが高くなる場合がある。このような場合は、表層の厚みを厚くする、粒子を含まない下層（中間層）を設ける等の方法をとることが好ましい。 Even when the surface layer does not contain particles or has particles having a small particle size, if the lower layer contains particles, the roughness of the release surface layer may increase due to the influence of the particles in the lower layer. In such a case, it is preferable to take a method such as increasing the thickness of the surface layer or providing a lower layer (intermediate layer) containing no particles.

表層厚みの下限は好ましくは０．１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは１μｍであり、特に好ましくは３μｍであり、最も好ましくは５μｍである。また、表層厚みの上限は離型性基材フィルムの全厚みに対して、好ましくは９７％、より好ましくは９５％、さらに好ましくは９０％である。 The lower limit of the surface layer thickness is preferably 0.1 μm, more preferably 0.5 μm, further preferably 1 μm, particularly preferably 3 μm, and most preferably 5 μm. The upper limit of the surface layer thickness is preferably 97%, more preferably 95%, and even more preferably 90% with respect to the total thickness of the releasable base film.

粒子を含まない中間層は実質的に粒子を含まないという意味で、粒子の含有量は５０ｐｐｍ未満であり、３０ｐｐｍ未満であることが好ましい。中間層の厚みの下限は離型性基材フィルムの全厚みに対して、好ましくは１０％、より好ましくは２０％、さらに好ましくは３０％である。上限は好ましくは９５％、より好ましくは９０％である。 The particle-free intermediate layer is substantially particle-free, and the particle content is less than 50 ppm, preferably less than 30 ppm. The lower limit of the thickness of the intermediate layer is preferably 10%, more preferably 20%, still more preferably 30% with respect to the total thickness of the releasable base film. The upper limit is preferably 95%, more preferably 90%.

基材フィルム原反の表層の粗さが高い場合、平坦化コートを設けてもよい。平坦化コートに用いられる樹脂としては、ポリエステル、アクリル、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリアミドなど一般にコート剤の樹脂として用いられるものが挙げられる。メラミン、イソシアネート、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などの架橋剤を用いることも好ましい。これらは有機溶剤や水に溶解または分散させたコート剤として塗工されて乾燥される。またはアクリルの場合は無溶剤で塗工され、放射線で硬化させてもよい。平坦化コートはオリゴマーブロックコートであってもよい。離型層をコートで設ける場合は離型層自体を厚くしてもよい。 If the surface layer of the base film raw material has a high roughness, a flattening coat may be provided. Examples of the resin used for the flattening coat include those generally used as a resin for a coating agent such as polyester, acrylic, polyurethane, polystyrene, and polyamide. It is also preferable to use a cross-linking agent such as melamine, isocyanate, epoxy resin, or oxazoline compound. These are applied and dried as a coating agent dissolved or dispersed in an organic solvent or water. Alternatively, in the case of acrylic, it may be coated without a solvent and cured by radiation. The flattening coat may be an oligomer block coat. When the release layer is provided with a coat, the release layer itself may be thickened.

表面平坦化コート層の厚みの下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．１μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍであり、特に好ましくは０．３μｍである。上記未満であると平坦化の効果が不十分となることがある。また、表面平坦化コート層の厚みの上限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは７μｍであり、さらに好ましくは５μｍであり、特に好ましくは３μｍである。上記を越えてもそれ以上の平坦化効果が得られないことがある。 The lower limit of the thickness of the surface flattening coat layer is preferably 0.01 μm, more preferably 0.1 μm, still more preferably 0.2 μm, and particularly preferably 0.3 μm. If it is less than the above, the flattening effect may be insufficient. The upper limit of the thickness of the surface flattening coat layer is preferably 10 μm, more preferably 7 μm, further preferably 5 μm, and particularly preferably 3 μm. Even if it exceeds the above, a further flattening effect may not be obtained.

平坦化コートは製膜過程中にインラインコートで設けても良く、別途オフラインで設けてもよい。 The flattening coat may be provided as an in-line coat during the film forming process, or may be separately provided offline.

基材フィルム原反の表層やその上のコート層に比較的大きな粒子や異物を含む場合、Ｓａ、Ｓｑなどは小さくてもＳｋｕやＳｓｋが前述の好ましい範囲を満足しないことがある。その場合、上記の指針を参考にして範囲内にすることができる。 When the surface layer of the base film raw material or the coat layer above it contains relatively large particles or foreign substances, even if Sa, Sq and the like are small, Sk and Sk may not satisfy the above-mentioned preferable range. In that case, it can be within the range by referring to the above guideline.

上記では主に基材フィルム原反が延伸フィルムの場合を説明したが、トリアセチルセルロースなどを溶剤に溶解したドープを金属ベルト等に展開して溶剤を乾燥させる流延法によって製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、溶剤の除去に伴い粒子による凹凸が上面（金属ベルトの反対面）に生じるので、粗さを調節することができる。この場合、金属ベルトの表面粗さを小さくして金属ベルト面を離型面とすることが好ましい。流延法による場合であっても、上記（ａ）〜（ｉ）は好ましい方法である。この場合（ｅ）、（ｇ）の方法では、原料樹脂製造時にフィルターをかける、ドープにフィルターをかけ凝集粒子や異物を除去する、となる。 In the above, the case where the base film raw material is mainly a stretched film has been described, but the film is not formed by a casting method in which a dope prepared by dissolving triacetyl cellulose or the like in a solvent is developed on a metal belt or the like and the solvent is dried. Even in the case of a stretched film, by adding the particles, unevenness due to the particles is generated on the upper surface (opposite surface of the metal belt) as the solvent is removed, so that the roughness can be adjusted. In this case, it is preferable to reduce the surface roughness of the metal belt and use the metal belt surface as the release surface. Even in the case of the casting method, the above (a) to (i) are preferable methods. In this case, in the methods (e) and (g), a filter is applied during the production of the raw material resin, and the dope is filtered to remove agglomerated particles and foreign substances.

また、ドープに粒子が含まれる場合、溶剤含有量が多い状態で金属ベルトから剥離すると粒子による凹凸が金属ベルト面にも出る場合があるため、溶剤含有量が少ない状態まで乾燥後、金属ベルトから剥離することも好ましい。これらの剥離のタイミングで粗さを調整することもできる。また、溶剤を若干量含んだ状態でテンター内で延伸乾燥させる場合は、延伸倍率等で粗さを調整することもできる。また、粒子を含まない場合では金属ベルトの粗さを調節して、金属ベルト面を裏面としてもよい。また、粗さの異なるロール間を通しながら乾燥すると共に粗さを表面に転写させてもよい。 In addition, when the dope contains particles, if it is peeled off from the metal belt in a state where the solvent content is high, unevenness due to the particles may appear on the metal belt surface. It is also preferable to peel off. Roughness can also be adjusted at the timing of these peelings. Further, when stretching and drying in a tenter with a small amount of solvent contained, the roughness can be adjusted by a stretching ratio or the like. When particles are not contained, the roughness of the metal belt may be adjusted so that the metal belt surface is the back surface. Further, the roughness may be transferred to the surface while being dried while being passed between rolls having different roughness.

ＣＯＰなどの溶融樹脂をキャストして製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、粗さを調節することができる。無機粒子など熱膨張係数がフィルム樹脂と異なる粒子を用いることで、冷却時に起こる熱収縮で添加粒子による凹凸を表面に形成することができる。この場合、溶融樹脂をシート状に押し出す冷却ロールの表面粗さを小さくすることで離型面とすることが好ましい。また、冷却ロールを粗くして粗さを転写し、裏面としてもよい。フィルム樹脂のＴｇ以上の温度で粗さの異なるロール間を通して粗さを転写させてもよい。また、未延伸フィルムの場合であっても、上記（ａ）〜（ｉ）は好ましい方法である。 Even in the case of an unstretched film formed by casting a molten resin such as COP, the roughness can be adjusted by adding particles. By using particles having a coefficient of thermal expansion different from that of the film resin, such as inorganic particles, it is possible to form irregularities on the surface due to the added particles due to heat shrinkage that occurs during cooling. In this case, it is preferable to reduce the surface roughness of the cooling roll that extrudes the molten resin into a sheet to form a release surface. Alternatively, the cooling roll may be roughened to transfer the roughness and used as the back surface. Roughness may be transferred between rolls having different roughness at a temperature of Tg or more of the film resin. Further, even in the case of an unstretched film, the above (a) to (i) are preferable methods.

（裏面側粗さ）
離型性基材フィルムの離型面とは反対側の面（裏面）の算術平均粗さ（Ｓａ）の下限は好ましくは１．０ｎｍであり、より好ましくは１．３ｎｍであり、さらに好ましくは１．５ｎｍである。また、裏面のＳａの上限は好ましくは５０ｎｍであり、より好ましくは４０ｎｍであり、さらに好ましくは３０ｎｍである。(Roughness on the back side)
The lower limit of the arithmetic mean roughness (Sa) of the surface (back surface) opposite to the release surface of the releasable base film is preferably 1.0 nm, more preferably 1.3 nm, and even more preferably. It is 1.5 nm. The upper limit of Sa on the back surface is preferably 50 nm, more preferably 40 nm, and even more preferably 30 nm.

離型性基材フィルムの裏面の二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）の下限は、好ましくは１．３ｎｍであり、より好ましくは１．５ｎｍであり、さらに好ましくは１．８ｎｍであり、特に好ましくは２．０ｎｍである。また、裏面のＳｑの上限は好ましくは７０ｎｍであり、より好ましくは６０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍであり、特に好ましくは４５ｎｍである。 The lower limit of the root mean square roughness (Sq) of the back surface of the releasable base film is preferably 1.3 nm, more preferably 1.5 nm, still more preferably 1.8 nm, and particularly preferably. It is 2.0 nm. The upper limit of Sq on the back surface is preferably 70 nm, more preferably 60 nm, still more preferably 50 nm, and particularly preferably 45 nm.

離型性基材フィルムの裏面のＳａ、Ｓｑを上記範囲とすることで、離型性基材フィルムの巻き取りを容易にし、かつ、巻き取った状態で保存した場合でも巻きずれやブロッキングが起こりにくく、さらには、裏面の凹凸が表面に転写した場合であっても、表面の粗さの状態を適正な範囲に保つことができる。 By setting Sa and Sq on the back surface of the releasable base film within the above ranges, the releasable base film can be easily wound, and even when the releasable base film is stored in the wound state, unwinding and blocking occur. Furthermore, it is difficult, and even when the unevenness of the back surface is transferred to the front surface, the state of surface roughness can be maintained within an appropriate range.

離型性基材フィルムの裏面のＳｋｕは離型面のＳｋｕより大きいことが好ましい。具体的には、（裏面のＳｋｕ）／（離型面のＳｋｕ）の下限は１．２が好ましく、より好ましくは１．４、さらに好ましくは１．５である。（裏面のＳｋｕ）／（離型面のＳｋｕ）の上限は４０が好ましく、より好ましくは３０、さらに好ましくは２５、特に好ましくは２０である。 The Sku on the back surface of the releasable base film is preferably larger than the Sku on the releasable surface. Specifically, the lower limit of (Sku on the back surface) / (Sku on the release surface) is preferably 1.2, more preferably 1.4, and even more preferably 1.5. The upper limit of (Sku on the back surface) / (Sku on the release surface) is preferably 40, more preferably 30, still more preferably 25, and particularly preferably 20.

離型性基材フィルムの裏面のＳｋｕの上限は好ましくは２００であり、より好ましくは１７０である。裏面のＳｋｕの下限は好ましくは３であり、より好ましくは５であり、さらに好ましくは７である。 The upper limit of the Sku on the back surface of the releasable base film is preferably 200, more preferably 170. The lower limit of the Sku on the back surface is preferably 3, more preferably 5, and even more preferably 7.

離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋは離型面のＳｓｋより大きいことが好ましい。具体的には、（裏面のＳｓｋ）／（離型面のＳｓｋ）の絶対値の下限は１．２が好ましく、さらに好ましくは１．５、さらに好ましくは１．８、特に好ましくは２である。（裏面のＳｓｋ）／（離型面のＳｓｋ）の上限は２０が好ましく、より好ましくは１７、さらに好ましくは１５である。 The Ssk on the back surface of the releasable base film is preferably larger than the Ssk on the releasable surface. Specifically, the lower limit of the absolute value of (Ssk on the back surface) / (Ssk on the release surface) is preferably 1.2, more preferably 1.5, still more preferably 1.8, and particularly preferably 2. .. The upper limit of (Ssk on the back surface) / (Ssk on the release surface) is preferably 20, more preferably 17, and even more preferably 15.

離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋの下限は好ましくは−３であり、より好ましくは−１であるが、０を越えていることが安定した巻き取りのためには好ましく、さらには１以上であることが好ましい。離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋの上限は好ましくは２０であり、より好ましくは１５であり、さらに好ましくは１２であり、特に好ましくは１０である。 The lower limit of Ssk on the back surface of the releasable base film is preferably -3, more preferably -1, but more than 0 is preferable for stable winding, and further 1 or more. Is preferable. The upper limit of Ssk on the back surface of the releasable base film is preferably 20, more preferably 15, still more preferably 12, and particularly preferably 10.

離型性基材フィルムの離型面の各粗さパラメータを前述の好ましい範囲とし、裏面のＳａ、Ｓｑを前述の好ましい範囲内とした場合であっても、離型面や裏面のＳａ、Ｓｑが下限値に近い場合は、巻き取り性や保存性が低下する場合がある。裏面と離型面のＳｋｕやＳｓｋのいずれか、好ましくは両方を上記とすることで、薄膜層のピンホール等を防ぎながら、巻き取りの際の過剰な空気の巻き込みを抑制して良好な巻き取り性や保存性を確保することができる。 Releasability Even when the roughness parameters of the release surface of the base film are within the above-mentioned preferable ranges and the back surface Sa and Sq are within the above-mentioned preferable ranges, the release surface and the back surface Sa and Sq If is close to the lower limit, the rewindability and storage stability may deteriorate. By setting either or preferably both Sk and Sk on the back surface and the release surface as described above, it is possible to prevent pinholes in the thin film layer and suppress excessive air entrainment during winding, resulting in good winding. It is possible to secure the releasability and storage stability.

裏面の粗さを上記範囲とするためには、例えば以下の方法が挙げられる。
・基材フィルム原反の裏面側層（裏面層）を特定の粒子を含むものにする。
・基材フィルム原反の中間層に粒子を含むものを用い、裏面層側（裏面層）に粒子を含まないものとして厚みを薄くする。
・基材フィルム原反の裏面側層（裏面層）の粗さが大きい場合は平坦化コートを設ける。
・基材フィルム原反の裏面側層（裏面層）が粒子を含まない場合や粗さが小さい場合は易滑コート（粒子含有コート）を設ける。In order to make the roughness of the back surface within the above range, for example, the following method can be mentioned.
-The back surface side layer (back surface layer) of the base film raw fabric contains specific particles.
-Use a base film that contains particles in the intermediate layer of the original fabric, and reduce the thickness by assuming that the back surface layer side (back surface layer) does not contain particles.
-If the back surface side layer (back surface layer) of the base film raw fabric has a large roughness, a flattening coat is provided.
-If the back surface side layer (back surface layer) of the base film raw fabric does not contain particles or the roughness is small, an easy-to-slip coat (particle-containing coat) is provided.

裏面層粒子径の下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０５μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍである。上記未満であると滑り性が悪くなり、巻き取り不良が起こる場合がある。また、裏面層粒子径の上限は好ましくは５μｍであり、より好ましくは３μｍであり、さらに好ましくは２μｍである。上記を越えると裏面が粗くなりすぎることがある。 The lower limit of the particle size of the back surface layer is preferably 0.01 μm, more preferably 0.05 μm, and even more preferably 0.1 μm. If it is less than the above, the slipperiness is deteriorated and winding failure may occur. The upper limit of the particle size of the back surface layer is preferably 5 μm, more preferably 3 μm, and even more preferably 2 μm. If it exceeds the above, the back surface may become too rough.

裏面層が粒子を含む場合、裏面層粒子含有量の下限は好ましくは５０ｐｐｍであり、より好ましくは１００ｐｐｍである。上記未満であると粒子を添加することによる滑り性の効果が得られないことがある。また、裏面層粒子含有量の上限は好ましくは１００００ｐｐｍであり、より好ましくは７０００ｐｐｍであり、さらに好ましくは５０００ｐｐｍである。上記を越えると裏面が粗くなりすぎることがある。 When the back surface layer contains particles, the lower limit of the back surface layer particle content is preferably 50 ppm, more preferably 100 ppm. If it is less than the above, the slippery effect due to the addition of particles may not be obtained. The upper limit of the back layer particle content is preferably 10000 ppm, more preferably 7000 ppm, and even more preferably 5000 ppm. If it exceeds the above, the back surface may become too rough.

裏面層厚みの下限は好ましくは０．１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは１μｍであり、特に好ましくは３μｍであり、最も好ましくは５μｍである。また、裏面層厚みの上限は離型性基材フィルムの全厚みに対して、好ましくは９５％、より好ましくは９０％、さらに好ましくは８５％である。 The lower limit of the back surface layer thickness is preferably 0.1 μm, more preferably 0.5 μm, further preferably 1 μm, particularly preferably 3 μm, and most preferably 5 μm. The upper limit of the back surface layer thickness is preferably 95%, more preferably 90%, and even more preferably 85% with respect to the total thickness of the releasable base film.

中間層に粒子を含ませ、裏面層は粒子を含まずに薄くすることで裏面の粗さを制御することも好ましい。このような形態を取ることで、粒子の脱落を防ぎながら裏面の粗さを確保することができる。 It is also preferable to control the roughness of the back surface by including particles in the intermediate layer and thinning the back surface layer without containing particles. By taking such a form, it is possible to secure the roughness of the back surface while preventing the particles from falling off.

中間層の粒子の粒径や添加量としては、裏面層の粒子と同様である。この場合の裏面層の厚みの下限は好ましくは０．５μｍであり、より好ましくは１μｍであり、さらに好ましくは２μｍである。厚みの上限は好ましくは３０μｍであり、より好ましくは２５μｍであり、さらに好ましくは２０μｍである。 The particle size and the amount of particles added in the intermediate layer are the same as those in the back surface layer. In this case, the lower limit of the thickness of the back surface layer is preferably 0.5 μm, more preferably 1 μm, and even more preferably 2 μm. The upper limit of the thickness is preferably 30 μm, more preferably 25 μm, and even more preferably 20 μm.

基材フィルム原反の裏面が粗い場合、平坦化コートを設けることも好ましい。平坦化コートは表面の平坦化コートで挙げたものを同様に用いることができる。 When the back surface of the base film raw fabric is rough, it is also preferable to provide a flattening coat. As the flattening coat, those listed in the surface flattening coat can be used in the same manner.

裏面平坦化コート層の厚みの下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０３μｍであり、さらに好ましくは０．０５μｍである。上記未満であると平坦化の効果が小さくなることがある。また、裏面平坦化コート層の厚みの上限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは５μｍであり、さらに好ましくは３μｍである。上記を超えても平坦化の効果が飽和してしまう。 The lower limit of the thickness of the back surface flattening coat layer is preferably 0.01 μm, more preferably 0.03 μm, and even more preferably 0.05 μm. If it is less than the above, the flattening effect may be reduced. The upper limit of the thickness of the back surface flattening coat layer is preferably 10 μm, more preferably 5 μm, and even more preferably 3 μm. Even if it exceeds the above, the effect of flattening will be saturated.

基材フィルム原反の裏面側を粒子を含まないものとし、裏面に粒子を含有する易滑コート層を設けてもよい。また、基材フィルム原反の裏面の粗さが小さい場合には、易滑コート層を設けてもよい。 The back surface side of the base film raw fabric may not contain particles, and an easy-slip coat layer containing particles may be provided on the back surface side. Further, when the roughness of the back surface of the base film raw fabric is small, an easy-to-slip coat layer may be provided.

裏面易滑コート層の粒子径の下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０５μｍである。上記未満であると易滑性が得られないことがある。また、裏面易滑コート層の粒子径の上限は好ましくは５μｍであり、より好ましくは３μｍであり、さらに好ましくは２μｍであり、特に好ましくは１μｍである。上記を越えると裏面の粗さが高すぎることがある。 The lower limit of the particle size of the back surface slippery coat layer is preferably 0.01 μm, more preferably 0.05 μm. If it is less than the above, slipperiness may not be obtained. The upper limit of the particle size of the back surface slippery coat layer is preferably 5 μm, more preferably 3 μm, still more preferably 2 μm, and particularly preferably 1 μm. If it exceeds the above, the roughness of the back surface may be too high.

裏面易滑コート層の粒子含有量の下限は好ましくは０．１質量％であり、より好ましくは０．５質量％であり、さらに好ましくは１質量％であり、特に好ましくは１．５質量％であり、最も好ましくは２質量％である。上記未満であると易滑性が得られないことがある。また、裏面易滑コート層の粒子含有量の上限は好ましくは２０質量％であり、より好ましくは１５質量％であり、さらに好ましくは１０質量％である。上記を越えると裏面の粗さが高すぎることがある。 The lower limit of the particle content of the back surface slippery coat layer is preferably 0.1% by mass, more preferably 0.5% by mass, still more preferably 1% by mass, and particularly preferably 1.5% by mass. Most preferably, it is 2% by mass. If it is less than the above, slipperiness may not be obtained. The upper limit of the particle content of the back surface slippery coat layer is preferably 20% by mass, more preferably 15% by mass, and further preferably 10% by mass. If it exceeds the above, the roughness of the back surface may be too high.

裏面易滑コート層の厚みの下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０３μｍであり、さらに好ましくは０．０５μｍである。また、裏面易滑コート層の厚みの上限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは５μｍであり、さらに好ましくは３μｍであり、特に好ましくは２μｍであり、最も好ましくは１μｍである。 The lower limit of the thickness of the back surface slippery coat layer is preferably 0.01 μm, more preferably 0.03 μm, and even more preferably 0.05 μm. The upper limit of the thickness of the back surface slippery coat layer is preferably 10 μm, more preferably 5 μm, further preferably 3 μm, particularly preferably 2 μm, and most preferably 1 μm.

上記では本発明の離型性基材フィルムが延伸フィルムの場合を説明したが、トリアセチルセルロースなどを溶剤に溶解したドープを金属ベルト等に展開して溶剤を乾燥させる流延法によって製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、溶剤の除去に伴い粒子による凹凸が上面（金属ベルトの反対面）に生じるので、粗さを調節することができる。この場合、金属ベルトの表面粗さを小さくして金属ベルト面を離型面とすることが好ましい。また、ドープに粒子が含まれる場合、溶剤含有量が多い状態で金属ベルトから剥離すると粒子による凹凸が金属ベルト面にも出る場合があるため、溶剤含有量が少ない状態まで乾燥後、金属ベルトから剥離することも好ましい。これらの剥離のタイミングで粗さを調整することもできる。また、溶剤を若干量含んだ状態でテンター内で延伸乾燥させる場合は、延伸倍率等で粗さを調整することもできる。また、粒子を含まない場合では金属ベルトの粗さを調節して、金属ベルト面を裏面としてもよい。また、粗さの異なるロール間を通しながら乾燥すると共に粗さを表面に転写させてもよい。 In the above, the case where the releasable base film of the present invention is a stretched film has been described, but the film is formed by a casting method in which a dope obtained by dissolving triacetyl cellulose or the like in a solvent is developed on a metal belt or the like and the solvent is dried. Even in the case of the unstretched film, by adding the particles, unevenness due to the particles is generated on the upper surface (opposite surface of the metal belt) as the solvent is removed, so that the roughness can be adjusted. In this case, it is preferable to reduce the surface roughness of the metal belt and use the metal belt surface as the release surface. In addition, when the dope contains particles, if it is peeled off from the metal belt in a state where the solvent content is high, unevenness due to the particles may appear on the metal belt surface. It is also preferable to peel off. Roughness can also be adjusted at the timing of these peelings. Further, when stretching and drying in a tenter with a small amount of solvent contained, the roughness can be adjusted by a stretching ratio or the like. When particles are not contained, the roughness of the metal belt may be adjusted so that the metal belt surface is the back surface. Further, the roughness may be transferred to the surface while being dried while being passed between rolls having different roughness.

また、ＣＯＰなどの溶融樹脂をキャストして製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、粗さを調節することができる。無機粒子など熱膨張係数がフィルム樹脂と異なる粒子を用いることで、冷却時に起こる熱収縮で添加粒子による凹凸を表面に形成することができる。この場合、溶融樹脂をシート状に押し出す冷却ロールの表面粗さを小さくすることで離型面とすることが好ましい。また、冷却ロールを粗くして粗さを転写し、裏面としてもよい。フィルム樹脂のＴｇ以上の温度で粗さの異なるロール間を通して粗さを転写させてもよい。なお、これらの未延伸フィルムでも、延伸フィルムと同様に、平滑コートや粒子を含有する易滑コートにより粗さを調整することもできる。 Further, even in the case of an unstretched film formed by casting a molten resin such as COP, the roughness can be adjusted by adding particles. By using particles having a coefficient of thermal expansion different from that of the film resin, such as inorganic particles, it is possible to form irregularities on the surface due to the added particles due to heat shrinkage that occurs during cooling. In this case, it is preferable to reduce the surface roughness of the cooling roll that extrudes the molten resin into a sheet to form a release surface. Alternatively, the cooling roll may be roughened to transfer the roughness and used as the back surface. Roughness may be transferred between rolls having different roughness at a temperature of Tg or more of the film resin. As with the stretched film, the roughness of these unstretched films can be adjusted by a smooth coating or an easy-slip coating containing particles.

（薄膜層）
次に、薄膜層について説明する。薄膜層は、液晶化合物が配向された層を含むことが好ましい。また、薄膜層は、位相差層、偏光層、紫外線や赤外線などの吸収層や反射層、電磁波シールド層、電極層、反射防止層、屈折率調整層などであってもよい。これらの薄膜層は単層で合っても複数の層であってもよい。(Thin film layer)
Next, the thin film layer will be described. The thin film layer preferably contains a layer in which the liquid crystal compound is oriented. Further, the thin film layer may be a retardation layer, a polarizing layer, an absorption layer such as ultraviolet rays or infrared rays, a reflection layer, an electromagnetic wave shield layer, an electrode layer, an antireflection layer, a refractive index adjusting layer, or the like. These thin film layers may be a single layer or a plurality of layers.

薄膜層の厚みの下限は、０．００１μｍが好ましく、より好ましくは０．００５μｍ、さらに好ましくは０．０１μである。厚みの上限は２０μｍが好ましく、より好ましくは１０μｍ、さらに好ましくは７μｍ、特に好ましくは５μｍ、最も好ましくは４．５μｍである。なお、薄膜層が複数の場合は総厚みが上記範囲であることが好ましい。 The lower limit of the thickness of the thin film layer is preferably 0.001 μm, more preferably 0.005 μm, and even more preferably 0.01 μm. The upper limit of the thickness is preferably 20 μm, more preferably 10 μm, still more preferably 7 μm, particularly preferably 5 μm, and most preferably 4.5 μm. When there are a plurality of thin film layers, the total thickness is preferably in the above range.

（液晶化合物層）
次に、本発明で好適な薄膜層である液晶化合物層について説明する。液晶化合物層は位相差層や偏光層として用いられ、この場合、液晶化合物層は離型性基材フィルム上に塗工し配向させる必要がある。配向させる方法としては、液晶化合物層の下層（離型面）にラビング処理等を行い配向制御機能を付与する方法や、液晶化合物を塗布後に偏光紫外線等を照射して直接液晶化合物を配向させる方法がある。(Liquid crystal compound layer)
Next, a liquid crystal compound layer, which is a thin film layer suitable for the present invention, will be described. The liquid crystal compound layer is used as a retardation layer or a polarizing layer, and in this case, the liquid crystal compound layer needs to be coated and oriented on the releasable base film. As a method of orienting, a method of rubbing the lower layer (separation surface) of the liquid crystal compound layer to give an orientation control function, or a method of directly orienting the liquid crystal compound by irradiating it with polarized ultraviolet rays or the like after applying the liquid crystal compound. There is.

（配向制御層）
また、離型性基材フィルムに配向制御層を設け、この配向制御層上に液晶化合物層を設ける方法も好ましい。配向制御層としては、液晶化合物層を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向制御層でもよいが、樹脂の塗工膜をラビング処理したラビング処理配向制御層や、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向制御層が好適な例として挙げられる。(Orientation control layer)
Further, a method in which an orientation control layer is provided on the releasable base film and a liquid crystal compound layer is provided on the orientation control layer is also preferable. The orientation control layer may be any orientation control layer as long as the liquid crystal compound layer can be brought into a desired orientation state. A preferred example is a photo-orientation control layer that orients molecules by irradiation with polarized light to generate an orientation function.

（ラビング処理配向制御層）
ラビング処理により形成される配向制御層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。(Rubbing treatment orientation control layer)
As the polymer material used for the orientation control layer formed by the rubbing treatment, polyvinyl alcohol and its derivatives, polyimide and its derivatives, acrylic resins, polysiloxane derivatives and the like are preferably used.

以下、ラビング処理配向制御層の形成方法を説明する。まず、上記のポリマー材料を含むラビング処理配向制御層形成用塗料を離型性基材フィルムの離型面上に塗布したのち、加熱乾燥等を行ない、ラビング処理前の配向制御層を得る。ラビング配向制御層形成用塗料は架橋剤を有していてもよい。 Hereinafter, a method for forming the rubbing treatment orientation control layer will be described. First, a coating material for forming a rubbing treatment orientation control layer containing the above polymer material is applied onto the release surface of a releasable base film, and then heat-dried to obtain an orientation control layer before the rubbing treatment. The coating material for forming a rubbing orientation control layer may have a cross-linking agent.

ラビング処理配向制御層形成用塗料の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、アルコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、エーテル系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。 As the solvent for the coating material for forming the rubbing treatment orientation control layer, any solvent can be used as long as it dissolves the polymer material. Specific examples include water, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, aromatic hydrocarbon solvents, ether solvents and the like. These solvents may be used alone or in combination.

ラビング処理配向制御層の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、さらには０．０５〜５μｍ、特には０．１μｍ〜１μｍであることが好ましい。 The thickness of the rubbing treatment orientation control layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 5 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.

ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。一般的には、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用い、配向制御層表面をラビング処理する。離型性基材フィルムの走行方向に対して斜めの方向に配向する配向制御層を設けるためには配向制御層のラビング方向もそれに合った角度にする必要がある。角度の調整は、ラビングローラーと離型性基材フィルムとの角度調整、離型性基材フィルムの搬送速度とローラーの回転数の調整で合わせることができる。 The rubbing treatment can generally be carried out by rubbing the surface of the polymer layer with paper or cloth in a certain direction. Generally, a rubbing roller of a brushed cloth made of fibers such as nylon, polyester, and acrylic is used to rub the surface of the orientation control layer. In order to provide the orientation control layer that is oriented diagonally with respect to the traveling direction of the releasable base film, it is necessary to set the rubbing direction of the orientation control layer at an angle corresponding to the rubbing direction. The angle can be adjusted by adjusting the angle between the rubbing roller and the releasable base film, and adjusting the transport speed of the releasable base film and the rotation speed of the roller.

（光配向制御層）
光配向制御層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗料（光配向制御層形成用塗料）を離型性基材フィルムの離型面に塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、偏光膜のスメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。(Photo-orientation control layer)
The photo-orientation control layer is a coating containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent (paint for forming a photo-orientation control layer) applied to the release surface of a releasable base film, and is polarized, preferably. It refers to an alignment film that is given an orientation-regulating force by irradiating it with polarized ultraviolet light. The photoreactive group refers to a group that produces a liquid crystal alignment ability by irradiation with light. Specifically, it produces a photoreaction that is the origin of the liquid crystal orientation ability, such as a molecule orientation-inducing or isomerization reaction, a dimerization reaction, a photocrosslinking reaction, or a photodecomposition reaction that occurs when light is irradiated. be. Among the photoreactive groups, those that cause a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction are preferable in that they have excellent orientation and maintain the smectic liquid crystal state of the polarizing film. The photoreactive group capable of causing the above reaction is preferably an unsaturated bond, particularly a double bond, and is a group consisting of a C = C bond, a C = N bond, an N = N bond, and a C = O bond. A group having at least one selected from the above is particularly preferable.

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。 Examples of the photoreactive group having a C = C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stillbazol group, a stillvazolium group, a chalcone group and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C = N bond include a group having a structure such as an aromatic Schiff base and an aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N = N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group and a formazan group, and those having an azoxylene basic structure. Examples of the photoreactive group having a C = O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group, a maleimide group and the like. These groups may have substituents such as an alkyl group, an alkoxy group, an allyl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group and an alkyl halide group.

中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。さらにいえば、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、（メタ）アクリル、ポリエステル、等が挙げられる。 Among them, a photoreactive group capable of causing a photodimerization reaction is preferable, and a photo-alignment layer in which a cinnamoyl group and a chalcone group require a relatively small amount of polarization for photo-orientation and is excellent in thermal stability and temporal stability is obtained. It is preferable because it is easy to obtain. Furthermore, as the polymer having a photoreactive group, a polymer having a cinnamoyl group such that the terminal portion of the side chain of the polymer has a cinnamic acid structure is particularly preferable. Examples of the structure of the main chain include polyimide, polyamide, (meth) acrylic, polyester, and the like.

照射する偏光の角度を調整することにより、光配向制御層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。 By adjusting the angle of the polarized light to be irradiated, the direction of the orientation regulating force of the optical orientation control layer can be arbitrarily adjusted.

なお、転写時には配向制御層は液晶化合物層と共に剥離して転写されることが好ましい。また、配向制御層と液晶化合物層を合わせた総称として液晶化合物層と呼ぶ場合がある。 At the time of transfer, it is preferable that the orientation control layer is peeled off together with the liquid crystal compound layer and transferred. Further, the alignment control layer and the liquid crystal compound layer may be collectively referred to as a liquid crystal compound layer.

（液晶化合物層）
液晶化合物層は、液晶化合物が配向されたものであれば特に制限はない。具体的な例としては、液晶化合物と二色性色素を含む偏光膜（偏光子）、棒状やディスコティック液晶化合物を含む位相差層、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶構造の円偏光反射層などが挙げられる。(Liquid crystal compound layer)
The liquid crystal compound layer is not particularly limited as long as the liquid crystal compound is oriented. Specific examples include a polarizing film (polarizer) containing a liquid crystal compound and a dichroic dye, a retardation layer containing a rod-shaped or discotic liquid crystal compound, and a circularly polarized light reflecting layer having a cholesteric liquid crystal structure containing a rod-shaped liquid crystal compound. Can be mentioned.

（偏光膜）
偏光膜は一方向のみの偏光を通過させる機能を有し、二色性色素を含む。(Polarizing film)
The polarizing film has a function of passing polarized light in only one direction and contains a dichroic dye.

（二色性色素）
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。(Dichroic pigment)
The dichroic dye refers to a dye having a property in which the absorbance in the major axis direction and the absorbance in the minor axis direction of the molecule are different.

二色性色素は、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素は、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、色調を調整（無彩色）にするため、２種以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。特に、３種類以上のアゾ化合物を組み合わせることが好ましい。 The dichroic dye preferably has an absorption maximum wavelength (λMAX) in the range of 300 to 700 nm. Examples of such a dichroic dye include an acridine dye, an oxazine dye, a cyanine dye, a naphthalene dye, an azo dye and an anthraquinone dye, and among them, the azo dye is preferable. Examples of the azo dye include a monoazo dye, a bisazo dye, a trisazo dye, a tetrakisazo dye and a stilbene azo dye, and preferably a bisazo dye and a trisazo dye. The dichroic dyes may be used alone or in combination, but in order to adjust the color tone (achromatic color), it is preferable to combine two or more kinds, and it is more preferable to combine three or more kinds. In particular, it is preferable to combine three or more kinds of azo compounds.

好ましいアゾ化合物としては、特開２００７−１２６６２８号公報、特開２０１０−１６８５７０号公報、特開２０１３−１０１３２８号公報、特開２０１３−２１０６２４号公報に記載の色素が挙げられる。 Preferred azo compounds include dyes described in JP-A-2007-126628, JP-A-2010-168570, JP-A-2013-101328, and JP-A-2013-210624.

二色性色素はアクリルなどのポリマーの側鎖に導入された二色性色素ポリマーであることも好ましい。これら二色性色素ポリマーとしては特開２０１６−４０５５号公報で挙げられるポリマー、特開２０１４−２０６６８２号公報の［化６］〜［化１２］の化合物が重合されたポリマーが例示できる。 The dichroic dye is also preferably a dichroic dye polymer introduced into the side chain of a polymer such as acrylic. Examples of these dichroic dye polymers include polymers listed in JP-A-2016-4055 and polymers obtained by polymerizing compounds [Chemical formula 6] to [Chemical formula 12] in JP-A-2014-206682.

偏光膜中の二色性色素の含有量は、二色性色素の配向を良好にする観点から、偏光膜中、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１．０〜１５質量％がさらに好ましく、２．０〜１０質量％が特に好ましい。 The content of the dichroic dye in the polarizing film is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass in the polarizing film from the viewpoint of improving the orientation of the dichroic dye. , 1.0 to 15% by mass is more preferable, and 2.0 to 10% by mass is particularly preferable.

偏光膜には、膜強度や偏光度、膜均質性の向上のため、さらに重合性液晶化合物が含まれていることが好ましい。なお、ここで重合性液晶化合物は膜として重合後のものも含まれる。 The polarizing film preferably further contains a polymerizable liquid crystal compound in order to improve the film strength, the degree of polarization, and the film homogeneity. Here, the polymerizable liquid crystal compound also includes a film after polymerization.

（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。(Polymerizable liquid crystal compound)
The polymerizable liquid crystal compound is a compound having a polymerizable group and exhibiting liquid crystallinity. The polymerizable group means a group involved in the polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group. Here, the photopolymerizable group refers to a group that can undergo a polymerization reaction with an active radical, an acid, or the like generated from a photopolymerization initiator described later. Examples of the polymerizable group include a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxylanyl group, an oxetanyl group and the like. Of these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxylanyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal or a riotropic liquid crystal, and may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal in the thermotropic liquid crystal.

重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相が高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光膜を製造することができる。 The polymerizable liquid crystal compound is preferably a smectic liquid crystal compound, and more preferably a higher-order smectic liquid crystal compound, in that higher polarization characteristics can be obtained. When the liquid crystal phase formed by the polymerizable liquid crystal compound is a higher-order smectic phase, a polarizing film having a higher degree of orientation order can be produced.

具体的な好ましい重合性液晶化合物としては、例えば、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００７−１６２０７号公報、特開２０１５−１６３５９６号公報、特表２００７−５１０９４６号公報、特開２０１３−１１４１３１号公報、ＷＯ２００５／０４５４８５号、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５，３２１−３２８（１９９６）などに記載のものが挙げられる。 Specific preferred polymerizable liquid crystal compounds include, for example, JP-A-2002-308832, JP-A-2007-16207, JP-A-2015-163596, JP-A-2007-510946, JP-A-2013-114131. No., WO2005 / 045485, Lub et al. Recl. Trav. Chim. Examples thereof include those described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996) and the like.

偏光膜中の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、偏光膜中７０〜９９．５質量％が好ましく、より好ましくは７５〜９９質量％、さらに好ましくは８０〜９７質量％であり、特に好ましくは８３〜９５質量％である。 The content ratio of the polymerizable liquid crystal compound in the polarizing film is preferably 70 to 99.5% by mass, more preferably 75 to 99% by mass, and further preferably 75 to 99% by mass in the polarizing film from the viewpoint of increasing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. It is preferably 80 to 97% by mass, and particularly preferably 83 to 95% by mass.

偏光膜は偏光膜形成用塗料を塗工して設けることができる。偏光膜形成用塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。 The polarizing film can be provided by applying a coating film for forming a polarizing film. The coating material for forming a polarizing film may contain a solvent, a polymerization initiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a polymerizable non-liquid crystal compound, a cross-linking agent and the like.

重合性非液晶化合物としては、重合性液晶化合物と共重合するものが好ましく、例えば、重合性液晶化合物が（メタ）アクリロイルオキシ基を有する場合は（メタ）クリレート類が挙げられる。（メタ）クリレート類は単官能であっても多官能であってもよい。多官能の（メタ）クリレート類を用いることで、偏光膜の強度を向上させることができる。重合性非液晶化合物を用いる場合は偏光膜中に１〜１５質量％とすることが好ましく、さらには２〜１０質量％、特には３〜７質量％にすることが好ましい。１５質量％を越えると偏光度が低下することがある。 The polymerizable non-liquid crystal compound is preferably one that copolymerizes with the polymerizable liquid crystal compound, and examples thereof include (meth) clarates when the polymerizable liquid crystal compound has a (meth) acryloyloxy group. The (meth) clearates may be monofunctional or polyfunctional. By using polyfunctional (meta) clearates, the strength of the polarizing film can be improved. When a polymerizable non-liquid crystal compound is used, it is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 2 to 10% by mass, and particularly preferably 3 to 7% by mass in the polarizing film. If it exceeds 15% by mass, the degree of polarization may decrease.

架橋剤としては、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物の官能基と反応しうる化合物が挙げられ、イソシアネート化合物、メラミン、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などが挙げられる。 Examples of the cross-linking agent include a polymerizable liquid crystal compound and a compound capable of reacting with a functional group of a polymerizable non-liquid crystal compound, and examples thereof include an isocyanate compound, a melamine, an epoxy resin, and an oxazoline compound.

偏光膜形成用塗料を離型性基材フィルム上または配向制御層上に直接塗工後、必要により乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。 The polarizing film is provided by applying the polarizing film forming paint directly on the releasable base film or the orientation control layer, and then drying, heating, and curing as necessary.

偏光膜中の二色性色素および重合性液晶化合物をより強固に配向させるために、加熱処理を行うことができる。加熱温度は、重合性液晶化合物が液晶相を形成する温度範囲にすることが好ましい。 Heat treatment can be performed to more strongly orient the dichroic dye and the polymerizable liquid crystal compound in the polarizing film. The heating temperature is preferably in the temperature range in which the polymerizable liquid crystal compound forms a liquid crystal phase.

偏光膜形成用塗料に重合性液晶化合物が含まれる場合は、硬化するのが好ましい。硬化方法としては、加熱及び光照射が挙げられ、光照射が好ましい。硬化により二色性色素を配向した状態で固定することができる。硬化は、重合性液晶化合物に液晶相を形成させた状態で行うのが好ましく、液晶相を示す温度で光照射して硬化してもよい。光照射における光としては、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。 When the coating film for forming a polarizing film contains a polymerizable liquid crystal compound, it is preferably cured. Examples of the curing method include heating and light irradiation, and light irradiation is preferable. By curing, the dichroic dye can be fixed in an oriented state. The curing is preferably carried out in a state where the polymerizable liquid crystal compound has a liquid crystal phase formed therein, and may be cured by irradiating light at a temperature indicating the liquid crystal phase. Examples of the light in the light irradiation include visible light, ultraviolet light and laser light. Ultraviolet light is preferable because it is easy to handle.

偏光膜は、偏光膜形成用塗料を配向制御層上に塗布することで、液晶化合物と色素が配向層の配向方向に添って配向し、その結果、所定方向の偏光透過軸を有することになるが、配向制御層を設けず直接離型性基材フィルムに塗工した場合は、偏光光を照射して液晶化合物と色素を硬化させることで、偏光膜を配向させることもできる。この際には、離型性基材フィルムの長手方向に対して斜め方向の偏光光を照射する。さらにその際に加熱処理することで二色性色素を強固に高分子液晶の配向方向に添って配向させることが好ましい。 By applying the polarizing film forming paint on the alignment control layer, the polarizing film is oriented along the orientation direction of the alignment layer, and as a result, the polarizing film has a polarization transmission axis in a predetermined direction. However, when the film is directly applied to the releasable base film without providing the orientation control layer, the polarizing film can be oriented by irradiating polarized light to cure the liquid crystal compound and the dye. At this time, polarized light in an oblique direction with respect to the longitudinal direction of the releasable base film is irradiated. Further, it is preferable that the dichroic dye is firmly oriented along the orientation direction of the polymer liquid crystal by heat treatment at that time.

偏光膜の厚さは、０．１〜５μｍであることが好ましく、より好ましくは０．３〜３μｍ、さらに好ましくは０．５〜２μｍである。 The thickness of the polarizing film is preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.3 to 3 μm, and even more preferably 0.5 to 2 μm.

（位相差層）
位相差層は液晶表示装置の偏光子と液晶セルの間に光学補償のために設けられるものや、円偏光板のλ／４層、λ／２層等が代表的なものとして挙げられる。液晶化合物としては、正や負のＡプレート、正や負のＣプレート、Ｏプレートなど、目的に合わせて棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物などを使用することができる。(Phase difference layer)
Typical examples of the retardation layer are those provided for optical compensation between the polarizer of the liquid crystal display device and the liquid crystal cell, and λ / 4 layer and λ / 2 layer of a circular polarizing plate. As the liquid crystal compound, a rod-shaped liquid crystal compound, a discotic liquid crystal compound, or the like can be used depending on the purpose, such as a positive or negative A plate, a positive or negative C plate, or an O plate.

これらの位相差層に用いられる液晶化合物としては、配向状態を固定できるという面で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物であることが好ましい。 The liquid crystal compound used for these retardation layers is preferably a polymerizable liquid crystal compound having a polymerizable group such as a double bond in terms of being able to fix the orientation state.

棒状液晶化合物の例としては、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報、及び特開平１１−５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。 Examples of the rod-shaped liquid crystal compound include JP-A-2002-030042, JP-A-2004-204190, JP-A-2005-263789, JP-A-2007-119415, JP-A-2007-186430, and special publications. Examples thereof include rod-shaped liquid crystal compounds having a polymerizable group described in Kaihei 11-513360.

具体的な化合物としては、
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−ＮＰｈ−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＨ3
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ１−Ｐｈ１−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ5
式中、ｍ、ｎは２〜６の整数であり、
Ｐｈ１、Ｐｈ２は１，４−フェニル基（Ｐｈ２は２位がメチル基であってもよい）であり、
ＮＰｈは２，６−ナフチル基である
が挙げられる。
これらの棒状液晶化合物は、ＢＡＳＦ社からＬＣ２４２等として市販されており、それらを利用することができる。これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。Specific compounds include
CH 2 = CHCOO- (CH 2 ) m- O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O- (CH 2 ) n -OCO-CH = CH 2
CH 2 = CHCOO- (CH 2 ) m- O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O- (CH 2 ) n -OCO-CH = CH 2
CH 2 = CHCOO- (CH 2 ) m- O-Ph1-COO-Ph2-OCH 3
CH 2 = CHCOO- (CH 2 ) m- O-Ph1-COO-Ph1-Ph1-CH 2 CH (CH 3 ) C 2 H 5
In the formula, m and n are integers of 2 to 6 and
Ph1 and Ph2 are 1,4-phenyl groups (Ph2 may have a methyl group at the 2-position).
NPh is a 2,6-naphthyl group.
These rod-shaped liquid crystal compounds are commercially available from BASF as LC242 and the like, and they can be used. A plurality of these rod-shaped liquid crystal compounds may be used in combination at any ratio.

また、ディスコティック液晶化合物としては、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系、フェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられ、特開２００１−１５５８６６号公報に様々なものが記載されており、これらが好適に用いられる。中でもディスコティック化合物としては、下記一般式（１）で表されるトリフェニレン環を有する化合物が好ましく用いられる。

Figure 0006954502

式中、Ｒ1〜Ｒ6はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、又は−Ｏ−Ｘで示される基（ここで、Ｘは、Ｘはアルキル基、アシル基、アルコキシベンジル基、エポキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルキル基である）である。Ｒ1〜Ｒ6は、下記一般式（２）で表されるアクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基（ここで、ｍは４〜１０）であることが好ましい。
Figure 0006954502
 Examples of the discotic liquid crystal compound include a benzene derivative, a tolucene derivative, a cyclohexane derivative, an azacrown-based compound, a phenylacetylene-based macrocycle, and the like, and various ones are described in JP-A-2001-155866. Is preferably used. Among them, as the discotic compound, a compound having a triphenylene ring represented by the following general formula (1) is preferably used.
Figure 0006954502
In the formula, R 1 to R 6 are independently represented by hydrogen, halogen, alkyl group, or -OX (where X is X is an alkyl group, an acyl group, an alkoxybenzyl group, or an epoxy-modified group. It is an alkoxybenzyl group, an acryloyloxy-modified alkoxybenzyl group, and an acryloyloxy-modified alkyl group). R 1 to R 6 are preferably acryloyloxy-modified alkoxybenzyl groups represented by the following general formula (2) (where m is 4 to 10).
Figure 0006954502

位相差層は位相差層形成用塗料を塗工して設けることができる。位相差層形成用塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向制御層や液晶偏光子の部分で説明したものを用いることができる。 The retardation layer can be provided by applying a paint for forming a retardation layer. The retardation layer forming coating material may contain a solvent, a polymerization initiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a polymerizable non-liquid crystal compound, a cross-linking agent and the like. As these, those described in the orientation control layer and the liquid crystal polarizer can be used.

位相差層形成用塗料を離型性基材フィルムの離型面または配向制御層上に塗工後、乾燥、加熱、硬化することにより、位相差層が設けられる。これらの条件についても、配向制御層や液晶偏光子の部分で説明した条件が好ましい条件として用いられる。 A retardation layer is provided by applying a paint for forming a retardation layer on a release surface or an orientation control layer of a releasable base film, and then drying, heating, and curing. As for these conditions, the conditions described in the orientation control layer and the liquid crystal polarizer are used as preferable conditions.

（円偏光反射層）
円偏光反射層は液晶化合物をコレステリック液晶配向させたものであることが好ましい。液晶化合物としては、上記位相差層で挙げた棒状液晶化合物が好ましい例として挙げられる。(Circularly polarized light reflective layer)
The circularly polarized light reflecting layer is preferably a cholesteric liquid crystal oriented liquid crystal compound. As the liquid crystal compound, the rod-shaped liquid crystal compound mentioned in the above retardation layer can be mentioned as a preferable example.

円偏光反射層の液晶化合物をコレステリック液晶配向させるためには、液晶化合物にキラル剤を添加することが好ましい。キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。 In order to orient the liquid crystal compound of the circularly polarized light reflecting layer in a cholesteric liquid crystal, it is preferable to add a chiral agent to the liquid crystal compound. The chiral agent has the function of inducing the helical structure of the cholesteric liquid crystal phase.

キラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００３−２８７６２３号公報、特開２００２−３０２４８７号公報、特開２００２−８０４７８号公報、特開２００２−８０８５１号公報、特開２０１０−１８１８５２号公報または特開２０１４−０３４５８１号公報の各公報に記載の化合物が挙げられる。キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。 Examples of chiral agents include Liquid Crystal Device Handbook (Chapter 3, 4-3, TN, Chiral Auxiliary for STN, 199 pages, edited by Japan Society for the Promotion of Science 142, 1989), JP-A-2003-287623, JP. Examples thereof include the compounds described in JP-A-2002-302487, JP-A-2002-80478, JP-A-2002-80851, JP-A-2010-181852, and JP-A-2014-034581. The chiral agent generally contains an asymmetric carbon atom, but an axial asymmetric compound or a surface asymmetric compound that does not contain an asymmetric carbon atom can also be used as the chiral agent. Examples of axial or asymmetric compounds include binaphthyl, helicene, paracyclophane and derivatives thereof. Moreover, the chiral agent may be a liquid crystal compound.

キラル剤は重合性基を有していることが好ましい。液晶化合物と同じ重合性基を有することで、液晶化合物と共にコレステリック液晶構造を固定化することができる。キラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、またはビナフチル誘導体を好ましく用いることができる。イソソルビド誘導体としては、ＢＡＳＦ社製のＬＣ−７５６等の市販品を用いてもよい。キラル剤は、重合性液晶化合物の総モル量に対して０．０１モル％〜２００モル％が好ましく、１モル％〜３０モル％がより好ましい。 The chiral agent preferably has a polymerizable group. By having the same polymerizable group as the liquid crystal compound, the cholesteric liquid crystal structure can be immobilized together with the liquid crystal compound. As the chiral agent, an isosorbide derivative, an isomannide derivative, or a binaphthyl derivative can be preferably used. As the isosorbide derivative, a commercially available product such as LC-756 manufactured by BASF may be used. The chiral agent is preferably 0.01 mol% to 200 mol%, more preferably 1 mol% to 30 mol%, based on the total molar amount of the polymerizable liquid crystal compound.

円偏光反射層は、上記の位相差層と同様にして離型性基材フィルム上に設けることができる。 The circularly polarized light reflecting layer can be provided on the releasable base film in the same manner as the above retardation layer.

離型性基材フィルムには液晶化合物層が複数設けられていてもよい。複数の位相差層や複数の円偏光反射層、偏光層と位相差層、偏光層と円偏光反射層、円偏光反射層と位相差層が設けられていてもよい。さらに、偏光子と位相差層の間、位相差層と円偏光反射層の間や位相差層の上や位相差層の間などに層間保護コート層を設け、各層の成分の移行を防ぐ場合がある。これらの層間保護コート層も位相差層や偏光層、円偏光反射層と共に離型性基材フィルム上に設けて対象物に転写してもよい。 A plurality of liquid crystal compound layers may be provided on the releasable base film. A plurality of retardation layers, a plurality of circularly polarized light reflecting layers, a polarizing layer and a retarding layer, a polarizing layer and a circularly polarized light reflecting layer, and a circularly polarized light reflecting layer and a retardation layer may be provided. Further, when an interlayer protective coating layer is provided between the polarizer and the retardation layer, between the retardation layer and the circularly polarized light reflecting layer, above the retardation layer, between the retardation layers, etc. to prevent the transfer of components of each layer. There is. These interlayer protection coating layers may also be provided on the releasable base film together with the retardation layer, the polarizing layer, and the circularly polarized light reflecting layer and transferred to the object.

層間保護コート層としては透明樹脂の塗工層が挙げられる。透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など特に限定するものではない。これら樹脂に架橋剤を加えて架橋構造としてもよい。また、ハードコートのようなアクリルなどの光硬化性の組成物を硬化させたものであってもよい。また、層間保護コート層を離型性基材フィルム上に設けた後、層間保護コート層をラビング処理し、その上に配向制御層を設けることなく液晶化合物層を設けてもよい。 Examples of the interlayer protection coating layer include a transparent resin coating layer. The transparent resin is not particularly limited to polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, polyester, polyurethane, polyamide, polystyrene, acrylic resin, epoxy resin and the like. A cross-linking agent may be added to these resins to form a cross-linked structure. Further, a photocurable composition such as a hard coat may be cured. Further, after the interlayer protection coat layer is provided on the releasable base film, the interlayer protection coat layer may be subjected to a rubbing treatment, and a liquid crystal compound layer may be provided on the interlayer protection coat layer without providing an orientation control layer.

（マスキングフィルム）
本発明では、薄膜層の上（薄膜層の離型性基材フィルムに面する面とは反対の面）にはマスキングフィルムが貼り合わされている。マスキングフィルムは少なくとも基材層と粘着層からなり、薄膜層の上または層間保護コート層の上にマスキングフィルムの粘着層面が直接貼り合わされている。(Masking film)
In the present invention, a masking film is bonded on the thin film layer (the surface of the thin film layer opposite to the surface facing the releasable base film). The masking film is composed of at least a base material layer and an adhesive layer, and the adhesive layer surface of the masking film is directly bonded onto the thin film layer or the interlayer protective coating layer.

マスキングフィルムの基材は樹脂フィルムが好ましく、フィルムの素材としてはポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、などが挙げられる。中でも、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。これらは、フィルムの柔軟性など諸物性を調整するため、共重合されていてもよい。樹脂フィルムは未延伸フィルムであっても延伸フィルムであってもよい。延伸フィルムの場合は、一軸延伸であっても二軸延伸であってもよい。 The base material of the masking film is preferably a resin film, and examples of the film material include polypropylene, polyethylene, polyester, polyamide, and polyurethane. Of these, polypropylene, polyethylene and polyethylene terephthalate are preferable. These may be copolymerized in order to adjust various physical properties such as the flexibility of the film. The resin film may be an unstretched film or a stretched film. In the case of a stretched film, it may be uniaxially stretched or biaxially stretched.

マスキングフィルムの粘着層には、ゴム系、アクリル系、ポリオレフィン系、など、従来の粘着剤を使用することができる。ゴム系では、天然ゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム等のゴム、ＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、ＳＥＰＳなどのスチレン系ブロック共重合体エラストマーが挙げられる。アクリル系では（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルなどの共重合体を架橋したものが挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート剤、二重結合を複数含有する化合物などが挙げられる。 As the adhesive layer of the masking film, a conventional adhesive such as a rubber-based adhesive, an acrylic-based adhesive, or a polyolefin-based adhesive can be used. Examples of the rubber type include rubbers such as natural rubber, butadiene rubber and isoprene rubber, and styrene block copolymer elastomers such as SBS, SIS, SEBS and SEPS. In the acrylic system, the copolymer weight of methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, etc. Examples include cross-linked coalescing. Examples of the cross-linking agent include isocyanate compounds, epoxy compounds, metal chelating agents, and compounds containing a plurality of double bonds.

ポリオレフィン系としてはＥＰＭやＥＰＤＭなどのエチレン−プロピレンゴムやこれらをソフトセグメントにしてポリエチレンやポリプロピレンをハードセグメントとしたもの、エチレン−プロピレンゴムとポリエチレンやポリプロピレンとのブレンド物などが挙げられる。 Examples of the polyolefin-based material include ethylene-propylene rubber such as EPM and EPDM, those in which these are soft segments and polyethylene or polypropylene is used as a hard segment, and blends of ethylene-propylene rubber and polyethylene or polypropylene.

これらの粘着剤には、タッキファイヤー、脂肪酸エステル類、脂肪酸ビスアミド類、ポリグリセリン、シリコーンオイル、シリコーン樹脂など各種の粘着力調整剤や安定剤が添加されていてもよい。 Various adhesive strength modifiers and stabilizers such as tack fire, fatty acid esters, fatty acid bisamides, polyglycerin, silicone oil, and silicone resin may be added to these pressure-sensitive adhesives.

粘着剤は、基材となる樹脂フィルムに塗工して設ける方法、樹脂フィルム製膜時に基材の樹脂と粘着層となる樹脂とを共押出しする方法、などが挙げられる。 Examples of the pressure-sensitive adhesive include a method of coating the resin film as the base material and providing the pressure-sensitive adhesive, and a method of co-extruding the resin of the base material and the resin serving as the pressure-sensitive adhesive layer at the time of forming the resin film.

マスキングフィルムは、離型性基材フィルム上に薄膜層を設けた後、巻き取る前に貼り合わされ、その後ロール状に巻き取られることが好ましい。 It is preferable that the masking film has a thin film layer provided on the releasable base film, is bonded before being wound up, and then wound up in a roll shape.

本発明は、離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルムがこの順で積層された積層体であって、離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度をＸ（Ｎ／２５ｍｍ）、薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度をＹ（Ｎ／２５ｍｍ）としたとき下記式（１）を満たす。
０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７ （１）The present invention is a laminate in which a releasable base film, a thin film layer, and a masking film are laminated in this order, and the peel strength between the releasable base film and the thin film layer is X (N / 25 mm). When the peel strength between the thin film layer and the masking film is Y (N / 25 mm), the following formula (1) is satisfied.
0.01 ≤ Y / X ≤ 0.7 (1)

Ｙ／Ｘの下限はより好ましくは０．０２であり、さらに好ましくは０．０３であり、特に好ましくは０．０４であり、最も好ましくは０．０５である。 The lower limit of Y / X is more preferably 0.02, further preferably 0.03, particularly preferably 0.04, and most preferably 0.05.

Ｙ／Ｘの上限はより好ましくは０．６であり、さらに好ましくは０．５であり、特に好ましくは０．４であり、最も好ましくは０．３５である。 The upper limit of Y / X is more preferably 0.6, still more preferably 0.5, particularly preferably 0.4, and most preferably 0.35.

Ｙ／Ｘを上記値以上にすることにより、薄膜層転写用積層体の巻き取り、巻き出し、スリット等取り扱い時にマスキングフィルムが不必要に剥離することなく、安定した取り扱いが可能となる。また、薄膜層転写用積層体を用いて対象物に薄膜層を転写する際に、離型性基材フィルムの剥離が容易で、剥離時に薄膜層にピンホールや転写不良が起こりにくくなる。 By setting Y / X to the above value or more, stable handling is possible without the masking film being unnecessarily peeled off when handling the thin film layer transfer laminate, such as winding, unwinding, and slitting. Further, when the thin film layer is transferred to the object using the thin film layer transfer laminate, the releasable base film is easily peeled off, and pinholes and transfer defects are less likely to occur in the thin film layer at the time of peeling.

また、Ｙ／Ｘを上記値以下にすることにより、薄膜層転写用積層体からマスキングフィルムを剥離する際にマスキングフィルムの剥離が容易で、剥離時に液晶化合物層にピンホールや薄膜層の剥がれが起きにくくなる。 Further, by setting Y / X to the above value or less, the masking film can be easily peeled off when the masking film is peeled off from the thin film layer transfer laminate, and pinholes or the thin film layer can be peeled off in the liquid crystal compound layer at the time of peeling. It becomes difficult to get up.

薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙは、下記式（５）を満たすことが好ましい。
０．００５Ｎ／２５ｍｍ≦Ｙ≦２．０Ｎ／２５ｍｍ （５）
薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙの下限は０．００５Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．０１Ｎ／２５ｍｍであり、さらに好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは０．０５Ｎ／２５ｍｍである。剥離強度Ｙの上限は２．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、１．５Ｎ／２５ｍｍであることがより好ましく、さらに好ましくは１．２Ｎ／２５ｍｍであり、よりさらに好ましくは１．０Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは０．７Ｎ／２５ｍｍであり、最も好ましくは０．５Ｎ／２５ｍｍである。The peel strength Y between the thin film layer and the masking film preferably satisfies the following formula (5).
0.005N / 25mm ≤ Y ≤ 2.0N / 25mm (5)
The lower limit of the peel strength Y between the thin film layer and the masking film is preferably 0.005 N / 25 mm, more preferably 0.01 N / 25 mm, further preferably 0.03 N / 25 mm, and particularly preferably 0. It is .05N / 25mm. The upper limit of the peel strength Y is preferably 2.0 N / 25 mm, more preferably 1.5 N / 25 mm, still more preferably 1.2 N / 25 mm, and even more preferably 1.0 N / 25 mm. Yes, particularly preferably 0.7 N / 25 mm, most preferably 0.5 N / 25 mm.

薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙを上記以上にすることにより、薄膜層転写用積層体の巻き取り、巻き出し、スリット等取り扱い時にマスキングフィルムが不必要に剥離することなく、安定した取り扱いが可能となる。また、薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙを上記以下にすることにより、薄膜層転写用積層体を用いて対象物に薄膜層を転写する時に、離型性基材フィルムの剥離が容易で、剥離時に薄膜層にピンホールや転写不良が起こりにくくなる。 By setting the peel strength Y between the thin film layer and the masking film to the above or higher, stable handling is possible without the masking film being unnecessarily peeled when handling the thin film layer transfer laminate, such as winding, unwinding, and slitting. It will be possible. Further, by setting the peeling strength Y between the thin film layer and the masking film to the above or less, the releasable base film can be easily peeled off when the thin film layer is transferred to the object using the thin film layer transfer laminate. , Pinholes and transfer defects are less likely to occur in the thin film layer during peeling.

薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙは、薄膜層の組成等に合わせて、マスキングフィルムの粘着剤の組成、塗工条件などで調整することができる。 The peel strength Y between the thin film layer and the masking film can be adjusted according to the composition of the thin film layer and the like, the composition of the pressure-sensitive adhesive of the masking film, the coating conditions, and the like.

薄膜層と離型性基材フィルムとの剥離強度Ｘの下限は０．０１Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍであり、さらに好ましくは０．０５Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは０．０７Ｎ／２５ｍｍである。薄膜層と離型性基材フィルムとの剥離強度Ｘの上限は２．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは１．５Ｎ／２５ｍｍであり、さらに好ましくは１．２Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは１．０Ｎ／２５ｍｍであり、最も好ましくは０．８Ｎ／２５ｍｍである。 The lower limit of the peel strength X between the thin film layer and the releasable base film is preferably 0.01 N / 25 mm, more preferably 0.03 N / 25 mm, and further preferably 0.05 N / 25 mm. Particularly preferably, it is 0.07 N / 25 mm. The upper limit of the peel strength X between the thin film layer and the releasable base film is preferably 2.0 N / 25 mm, more preferably 1.5 N / 25 mm, and further preferably 1.2 N / 25 mm. It is particularly preferably 1.0 N / 25 mm, and most preferably 0.8 N / 25 mm.

薄膜層と離型性基材フィルムとの剥離強度Ｘは、薄膜層の組成、これら塗工時の条件等に合わせて、離型性基材フィルムのコロナ処理などの表面処理、離型層の組成、などを変えることで調整することができる。 The peel strength X between the thin film layer and the releasable base film is determined by surface treatment such as corona treatment of the releasable base film and release layer according to the composition of the thin film layer and the conditions at the time of coating. It can be adjusted by changing the composition, etc.

（薄膜層の転写対象）
薄膜層の転写対象物としては特に限定されるものではないが、フィルムやシート状物であることが好ましく、樹脂フィルムやガラスフィルム、樹脂シート、ガラス板、金属板が挙げられる。中でも、樹脂フィルムが好ましい。(Transfer target of thin film layer)
The transfer target of the thin film layer is not particularly limited, but is preferably a film or a sheet, and examples thereof include a resin film, a glass film, a resin sheet, a glass plate, and a metal plate. Of these, a resin film is preferable.

薄膜層が液晶化合物層である場合の本発明の一実施形態においては、透明樹脂フィルムを転写対象物としたとき、偏光膜を転写して偏光板を作製する、位相差層を転写して位相差フィルムとする、位相差層と偏光子を転写して円偏光や光学補償層積層の偏光板とする、円偏光反射層と位相差層（λ／４位相差層）を転写して輝度向上フィルムとするなどの態様が挙げられる。 In one embodiment of the present invention when the thin film layer is a liquid crystal compound layer, when a transparent resin film is used as a transfer target, a polarizing film is transferred to produce a polarizing plate, and a retardation layer is transferred. The retardation layer and the polarizer, which are used as a retardation film, are transferred to form a polarizing plate for circularly polarized light or an optical compensation layer, and the circularly polarized light reflecting layer and the retardation layer (λ / 4 retardation layer) are transferred to improve brightness. Examples include the use of a film.

本発明の一実施形態において、偏光板を対象として、位相差層を転写して円偏光や光学補償層積層の偏光板とする、円偏光反射層と位相差層（λ／４位相差層）を転写して輝度向上層積層偏光板とするなどの態様が挙げられる。 In one embodiment of the present invention, a circularly polarized light reflecting layer and a retardation layer (λ / 4 retardation layer) in which a retardation layer is transferred to a polarizing plate of circularly polarized light or an optical compensation layer laminate for a polarizing plate. Is transferred to obtain a brightness-improving layer laminated polarizing plate.

本発明の一実施形態において、液晶表示セルを対象として、偏光層や位相差層と偏光層を転写して直接液晶表示セルに偏光層を積層する、有機ＥＬ表示セルなどを対象として、位相差層と偏光層、円偏光反射層と位相差層と偏光層を転写して反射防止用円偏光層や輝度向上層付円偏光層を積層する、など行い、画像表示パネルとする、などの態様が挙げられる。 In one embodiment of the present invention, a liquid crystal display cell is targeted, and an organic EL display cell or the like in which a polarizing layer or a retardation layer and a polarizing layer are transferred and a polarizing layer is directly laminated on the liquid crystal display cell is targeted. A mode such as transferring a layer and a polarizing layer, a circularly polarized light reflecting layer, a retardation layer, and a polarizing layer to laminate an antireflection circularly polarized light layer or a circularly polarized light layer with a brightness improving layer to form an image display panel. Can be mentioned.

本発明の一実施形態において、画像表示装置の表面カバーシートを対象として、位相差層と偏光層、円偏光反射層と位相差層と偏光層を転写して反射防止用円偏光層や輝度向上層付円偏光層を積層する、など行い、有機ＥＬ表示装置用などの反射防止機能付きの表面カバーシートとする、などの態様が挙げられる。 In one embodiment of the present invention, the retardation layer and the polarizing layer, the circularly polarized light reflecting layer and the retarding layer and the polarizing layer are transferred to the surface cover sheet of the image display device to transfer the antireflection circularly polarized light layer and the brightness improvement. Examples thereof include laminating circularly polarized light layers with layers to obtain a surface cover sheet with an antireflection function for an organic EL display device and the like.

転写はロールツーロールで行われることが好ましいが、光学軸を合わせるためなどの理由や転写対象が画像表示セルやパネル、表面カバーシートなど非長尺物であるなどの場合は枚葉で行ってもよい。 The transfer is preferably performed by roll-to-roll, but if the transfer target is a non-long object such as an image display cell, a panel, or a surface cover sheet for reasons such as aligning the optic axis, perform the transfer with a single sheet. May be good.

（円偏光板の製造方法）
一例として、本発明の薄膜層転写用積層体が好ましく用いられる、円偏光板の製造方法を説明する。(Manufacturing method of circularly polarizing plate)
As an example, a method for producing a circularly polarizing plate in which the thin film layer transfer laminate of the present invention is preferably used will be described.

まず、離型性基材フィルムの離型面に液晶化合物からなるλ／４位相差層を設け、マスキングフィルムを貼り合わせて薄膜層転写用積層体のロール状物を得る。その後、ロールから薄膜層転写用積層体を巻き出し、マスキングフィルムを剥離し、λ／４位相差層と直線偏光板を接着剤等で貼り合わせ、離型性基材フィルムを剥離して円偏光板を得る。 First, a λ / 4 retardation layer made of a liquid crystal compound is provided on the release surface of the releasable base film, and a masking film is bonded to obtain a roll-like laminate for thin film layer transfer. After that, the thin film layer transfer laminate is unwound from the roll, the masking film is peeled off, the λ / 4 retardation layer and the linear polarizing plate are bonded together with an adhesive or the like, the releasable base film is peeled off, and circularly polarized light is formed. Get the board.

λ／４位相差層の正面レタデーションは１００〜１８０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは１２０〜１５０ｎｍである。λ／４位相差層の配向軸（遅相軸）と離型性基材フィルムの幅方向（フィルムの製膜走行方向と直交する方向）との角度は４５度とすることが好ましく、誤差も含め４３〜４７度の範囲であることが好ましい。 The front retardation of the λ / 4 retardation layer is preferably 100 to 180 nm. More preferably, it is 120 to 150 nm. The angle between the orientation axis (slow phase axis) of the λ / 4 retardation layer and the width direction of the releasable base film (direction orthogonal to the film forming running direction of the film) is preferably 45 degrees, and an error is also present. It is preferably in the range of 43 to 47 degrees including.

また、λ／４位相差層はλ／４位相差層とλ／２位相差層と組み合わせた複合λ／４位相差層であってもよい。λ／２位相差層の正面レタデーションは２００〜３６０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは２４０〜３００ｎｍである。 Further, the λ / 4 retardation layer may be a composite λ / 4 retardation layer in which the λ / 4 retardation layer and the λ / 2 retardation layer are combined. The front retardation of the λ / 2 retardation layer is preferably 200 to 360 nm. More preferably, it is 240 to 300 nm.

この場合、λ／４位相差層とλ／２位相差層は、円偏光板で、合わせて位相差がλ／４となるような角度に配置されることが好ましい。具体的には、λ／２位相差層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸の角度（θ）は５〜２０度が好ましく、より好ましくは７度〜１７度であり、λ／２位相差層の配向軸（遅相軸）とλ／４位相差層の配向軸（遅相軸）との角度は、２θ＋４５度±１０度の範囲が好ましく、より好ましくは２θ＋４５度±５度の範囲であり、さらに好ましくは２θ＋４５度±３度の範囲である。広く用いられているヨウ素を吸着させたポリビニルアルコールフィルムを延伸した偏光子の場合、幅方向が透過軸であるため、離型性基材フィルムの幅方向（フィルムの製膜走行方向と直交する方向）との角度も上記範囲とすることが好ましい。 In this case, it is preferable that the λ / 4 retardation layer and the λ / 2 retardation layer are arranged at an angle such that the retardation is λ / 4 in total by using a circularly polarizing plate. Specifically, the angle (θ) between the orientation axis (slow phase axis) of the λ / 2 retardation layer and the transmission axis of the polarizer is preferably 5 to 20 degrees, more preferably 7 to 17 degrees, and λ. The angle between the orientation axis (slow phase axis) of the / 2 retardation layer and the orientation axis (slow phase axis) of the λ / 4 retardation layer is preferably in the range of 2θ + 45 degrees ± 10 degrees, more preferably 2θ + 45 degrees ± 5. It is in the range of degrees, more preferably in the range of 2θ + 45 degrees ± 3 degrees. In the case of a polarizer obtained by stretching a polyvinyl alcohol film adsorbing iodine, which is widely used, the width direction is the transmission axis, so the width direction of the releasable base film (direction orthogonal to the film forming running direction of the film). ) Is also preferably in the above range.

複合λ／４位相差層を有する円偏光板の製造においては、離型性基材フィルムにλ／４位相差層とλ／２位相差層を設けてこれを転写してもよく、別々に離型性基材フィルムにλ／４位相差層とλ／２位相差層を設けてこれらを転写してもよい。さらに、円偏光板においては、Ｃプレート層などの位相差層が設けられる場合がある。この場合においても、位相差層すべてを離型性基材フィルムに設けて転写してもよく、別々に転写してもよい。 In the production of a circularly polarizing plate having a composite λ / 4 retardation layer, a λ / 4 retardation layer and a λ / 2 retardation layer may be provided on a releasable base film and transferred thereof, or they may be transferred separately. A λ / 4 retardation layer and a λ / 2 retardation layer may be provided on the releasable base film and these may be transferred. Further, in the circularly polarizing plate, a retardation layer such as a C plate layer may be provided. Also in this case, the entire retardation layer may be provided on the releasable base film and transferred, or may be transferred separately.

転写対象物である直線偏光板は特に制限されるものではないが、偏光子の両面、又は片面に偏光子保護フィルムが設けられた直線偏光板が好ましい。 The linear polarizing plate to be transferred is not particularly limited, but a linear polarizing plate in which a polarizing element protective film is provided on both sides or one side of the polarizer is preferable.

偏光子は、ＰＶＡ系のフィルムを単独で延伸して作製した偏光子や、ポリエステルやポリプロピレンなどの未延伸基材にＰＶＡを塗工し、基材ごと延伸して作製した偏光子を偏光子保護フィルムに転写したものや、液晶化合物と二色性色素からなる偏光子を偏光子保護フィルムに塗工するか転写したもの等が挙げられ、いずれも好ましく用いられる。 The polarizer protects the polarizer produced by stretching a PVA-based film alone or by applying PVA to an unstretched base material such as polyester or polypropylene and stretching the entire base material. Examples thereof include those transferred to a film and those in which a polarizer composed of a liquid crystal compound and a dichroic dye is coated or transferred to a polarizer protective film, and all of them are preferably used.

偏光子保護フィルムはＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリカーボネート、ポリエステルなど一般に知られているものが使用できる。中でもＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリエステルが好ましい。ポリエステルはポリエチレンテレフタレートが好ましい。ポリエステルの場合は、面内レタデーション１００ｎｍ以下、特には５０ｎｍ以下のゼロレタデーションフィルムであるか、３０００ｎｍ〜３００００ｎｍの高レタデーションポリエステルフィルムであることが好ましい。 As the polarizer protective film, generally known ones such as TAC, acrylic, COP, polycarbonate, and polyester can be used. Of these, TAC, acrylic, COP, and polyester are preferable. Polyethylene terephthalate is preferable as the polyester. In the case of polyester, an in-plane retardation of 100 nm or less, particularly a zero retardation film of 50 nm or less, or a high retardation polyester film of 3000 nm to 30,000 nm is preferable.

貼り付ける方法としては、接着剤、粘着剤など従来知られているものを用いることができる。接着剤としてはポリビニルアルコール系接着剤、アクリルやエポキシなどの紫外線硬化型接着剤、エポキシやイソシアネート（ウレタン）などの熱硬化型接着剤が好ましく用いられる。粘着剤は、アクリルやウレタン系、ゴム系などの粘着剤が挙げられる。また、アクリル基材レスの光学用透明粘着剤シートを用いることも好ましい。 As a method of sticking, conventionally known ones such as an adhesive and an adhesive can be used. As the adhesive, a polyvinyl alcohol-based adhesive, an ultraviolet curable adhesive such as acrylic or epoxy, and a heat-curable adhesive such as epoxy or isocyanate (urethane) are preferably used. Examples of the adhesive include acrylic, urethane, and rubber adhesives. It is also preferable to use an optical transparent adhesive sheet without an acrylic base material.

このようにして得られた円偏光板の厚みは、１２０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１００μｍ以下、さらには９０μｍ以下、特には８０μｍ以下が好ましく、最も好ましくは７０μｍ以下である。 The thickness of the circularly polarizing plate thus obtained is preferably 120 μm or less. It is more preferably 100 μm or less, further 90 μm or less, particularly 80 μm or less, and most preferably 70 μm or less.

本願は、２０２０年３月２６日に出願された日本国特許出願第２０２０−５６８２３号に基づく優先権の利益を主張するものである。２０２０年３月２６日に出願された日本国特許出願第２０２０−５６８２３号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。 This application claims the benefit of priority under Japanese Patent Application No. 2020-56823 filed on March 26, 2020. The entire contents of the specification of Japanese Patent Application No. 2020-56823 filed on March 26, 2020 are incorporated herein by reference.

（１）表面粗さ
各粗さのパラメーターはＩＳＯ ２５１７８に準じ、非接触表面形状計測システム（菱化システム社製、ＶｅｒｔＳｃａｎ Ｒ５５０Ｈ−Ｍ１００）を用いて、下記の条件で測定した。
（測定条件）
測定モード：ＷＡＶＥモード
対物レンズ：５０倍
０．５×Ｔｕｂｅレンズ
測定面積：１８７μｍ×１３９μｍ
（解析条件）
面補正：４次補正
補間処理：完全補間
ＩＳＯパラメーター処理：Ｓ−Ｆｉｌｔｅｒ １μｍ指定
測定は５点で行い、その平均値を求めた。(1) Surface Roughness The parameters of each roughness were measured according to ISO 25178 using a non-contact surface shape measurement system (VertScan R550H-M100 manufactured by Ryoka System Co., Ltd.) under the following conditions.
(Measurement condition)
Measurement mode: WAVE mode Objective lens: 50x 0.5 x Tube lens Measurement area: 187 μm x 139 μm
(Analysis conditions)
Surface correction: Fourth-order correction Interpolation processing: Complete interpolation ISO parameter processing: S-Filter 1 μm designation The measurement was performed at 5 points, and the average value was calculated.

（２）剥離強度
（２−１）サンプルの準備
実施例、比較例で得られた離型性基材フィルム／位相差層／マスキングフィルムの積層体を幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍにカットしてサンプルを作製した。サンプルの長さ方向は離型性基材フィルムの幅方向とした。また、サンプルは、マスキングフィルムを貼り合わせてから２４℃、相対湿度５０％の部屋に１週間放置した積層フィルムのロールから巻き出して、ロールの巻芯から１００ｍの位置から切り出して作製した。(2) Peeling strength (2-1) Preparation of sample A sample obtained by cutting a laminate of the releasable base film / retardation layer / masking film obtained in Examples and Comparative Examples into a width of 25 mm and a length of 160 mm. Was produced. The length direction of the sample was the width direction of the releasable base film. Further, the sample was prepared by unwinding from a roll of laminated film left in a room at 24 ° C. and 50% relative humidity for 1 week after the masking film was attached, and cutting out from a position 100 m from the core of the roll.

（２−２）位相差層−マスキングフィルム間の剥離強度
サンプルの離型性基材フィルム面を、厚さ１ｍｍのサンプルと同じ幅及び長さのアクリル板に両面テープを用いて重ねて貼り付けた。サンプルの長さ方向の一方の端部約２０ｍｍの部分のマスキングフィルムを剥離し、表面マスキングフィルムの剥離部分に幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍ、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを両面テープを用いて貼り付けた。表面マスキングフィルムを剥離した部分の位相差層／離型性フィルムの積層体をアクリル板ごと引っ張り試験機の下部チャックで把持し、二軸延伸ポリエステルフィルムの表面マスキングフィルムを貼り合わせた反対側の端部を上部チャックで把持して、３００ｍｍ／分の速度で１８０度剥離した際の剥離強度を測定した。試験機は島津製作所製オートグラフ（登録商標）（ＡＧ−Ｘ）を用い、測定で剥離が始まって２秒後から２５秒後までの間の平均値を求めた。サンプル５点で実施し、その平均値を剥離強度とした。測定室の温度は２４℃であった。(2-2) Peeling strength between the retardation layer and the masking film The releasable base film surface of the sample is laminated on an acrylic plate having the same width and length as the 1 mm thick sample using double-sided tape. rice field. Peel off the masking film at one end of the sample in the length direction of about 20 mm, and use double-sided tape to apply a biaxially stretched polyester film with a width of 25 mm, a length of 160 mm, and a thickness of 50 μm to the peeled part of the surface masking film. I pasted it. The retardation layer / releasable film laminate at the part where the surface masking film was peeled off was grasped together with the acrylic plate with the lower chuck of the tensile tester, and the opposite end to which the surface masking film of the biaxially stretched polyester film was bonded. The part was grasped by the upper chuck, and the peel strength when peeled by 180 degrees at a speed of 300 mm / min was measured. An autograph (registered trademark) (AG-X) manufactured by Shimadzu Corporation was used as a testing machine, and the average value from 2 seconds to 25 seconds after the start of peeling was determined by measurement. It was carried out at 5 points of the sample, and the average value was taken as the peel strength. The temperature in the measurement room was 24 ° C.

（２−３）離型性基材フィルム−位相差層間の剥離強度
上記測定後のマスキングフィルムが剥離されたサンプルの位相差層上に幅２５ｍｍのポリプロピレン基材の粘着テープ（日東電工社製 ダンプロン（登録商標）エースＮｏ．３２００）を長さ１６０ｍｍにカットしたものを正確に貼り合わせた。この際に、粘着テープの上記測定でチャックした部分に相当する箇所には、幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍ、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムの端部を貼り合わせた。貼り合わせにおいてはハンドローラーを用いてで気泡が入らないよう行った。サンプルの上記測定と同じ箇所を、引っ張り試験器の下部チャックで保持し、上部チャックでは粘着テープと貼り合わせた二軸延伸ポリエステルフィルムの粘着テープと貼り合わせた反対側の端部を保持し、上記と同様の条件で測定した。(2-3) Release strength between releasable base film and retardation layer Adhesive tape of polypropylene base material with a width of 25 mm on the retardation layer of the sample from which the masking film after the above measurement was peeled off (Damplon manufactured by Nitto Denko KK) Ace No. 3200 (registered trademark) cut to a length of 160 mm was accurately bonded. At this time, the end portion of the biaxially stretched polyester film having a width of 25 mm, a length of 160 mm, and a thickness of 50 μm was attached to a portion of the adhesive tape corresponding to the chucked portion in the above measurement. In the bonding, a hand roller was used to prevent air bubbles from entering. The same points as the above measurement of the sample are held by the lower chuck of the tensile tester, and the upper chuck holds the end on the opposite side of the biaxially stretched polyester film bonded to the adhesive tape. It was measured under the same conditions as above.

（３）転写作業性
転写作業性として、切断時や取り扱い時のマスキングフィルムの剥がれ、マスキングフィルムの剥離容易性、基材フィルムの剥離容易性の観点から評価した。
○：いずれも問題は無かった。
△：いずれかに若干の問題があり転写作業に注意を要した。
×：いずれかに問題があり、転写作業が困難であった。(3) Transfer workability The transfer workability was evaluated from the viewpoints of peeling of the masking film during cutting and handling, ease of peeling of the masking film, and ease of peeling of the base film.
◯: There was no problem in either case.
Δ: There was some problem in one of them, and attention was required for the transfer work.
X: There was a problem in one of them, and the transfer work was difficult.

（４）転写性
得られた円偏光板の表面を鏡面研磨したアルミニウム板の上に、λ／４層が下になるように置き、上から光を照射してλ／４層の転写状態を観察した。観察は肉眼およびルーペで行った。
◎：肉眼、ルーペ観察ともピンホールはほとんど見られなかった。
○：ルーペ観察では若干のピンホールが認められたが、肉眼では認められなかった。
△：ルーペ観察で比較的多くのピンホールが認められたが、肉眼では認められなかった。
×：肉眼で明らかなピンホールが認められた、又は、λ／４層が転写できていない部分が認められた。(4) Transferability Place the obtained circularly polarizing plate on an aluminum plate whose surface is mirror-polished so that the λ / 4 layer is on the bottom, and irradiate light from above to change the transfer state of the λ / 4 layer. Observed. Observations were made with the naked eye and loupe.
⊚: Almost no pinholes were seen with the naked eye or loupe observation.
◯: Some pinholes were observed in the loupe observation, but not with the naked eye.
Δ: A relatively large number of pinholes were observed by loupe observation, but not by the naked eye.
X: A pinhole that was clearly visible to the naked eye was observed, or a portion where the λ / 4 layer could not be transferred was observed.

（５）巻き取り性
製膜時の離型性基材フィルム、スリット時の離型性基材フィルムの巻き取り状態を観察した。さらにスリット後の離型性基材フィルムを１か月間倉庫に保管後、ロールの状態を観察した。
○：皺、蛇行やエアの巻き込みなどの問題なく巻き取ることができ、保管後も異常はなかった。
△：皺、蛇行やエアの巻き込みなどの問題なく巻き取ることができたが、保管後のロールに若干の異常（端面ずれ、部分的なゆるみ、表面のたるみなど）が見られた。
×：巻き取り時に皺、蛇行やエアの巻き込みなどの問題が認められた。(5) Rewindability The winding state of the releasable base film during film formation and the releasable base film during slitting was observed. Further, the releasable base film after slitting was stored in a warehouse for one month, and then the state of the roll was observed.
◯: It was possible to wind up without problems such as wrinkles, meandering and air entrainment, and there was no abnormality even after storage.
Δ: It was possible to wind up without problems such as wrinkles, meandering, and air entrainment, but some abnormalities (end face deviation, partial loosening, surface slack, etc.) were observed in the roll after storage.
X: Problems such as wrinkles, meandering, and air entrainment were observed during winding.

（原料ポリエステル樹脂の製造）
（粒子不含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（Ｘ１））の製造）
エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部及びエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１１質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行い、反応の後段で酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部添加し、さらに引き続き加圧エステル化反応を行った。その後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０．０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。(Manufacturing of raw material polyester resin)
(Manufacture of particle-free polyester resin (PET (X1)))
When the temperature of the esterification reaction can was raised to 200 ° C., 86.4 parts by mass of terephthalic acid and 64.6 parts by mass of ethylene glycol were charged, and 0.011 parts by mass of antimony trioxide was used as a catalyst while stirring. 0.16 parts by mass of triethylamine was charged. Then, the pressure was raised, the pressure esterification reaction was carried out under the conditions of a gauge pressure of 0.34 MPa and 240 ° C., and 0.064 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate was added in the subsequent stage of the reaction, and the addition was continued. A pressure esterification reaction was carried out. Then, the esterification reaction can was returned to normal pressure, and 0.014 parts by mass of phosphoric acid was added. Further, the temperature was raised to 260 ° C. over 15 minutes, and 0.012 parts by mass of trimethyl phosphate was added. Then, after 15 minutes, dispersion treatment was carried out with a high-pressure disperser, and after 15 minutes, the obtained esterification reaction product was transferred to a polycondensation reaction can, and a polycondensation reaction was carried out under reduced pressure at 280 ° C.

重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットし、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（Ｘ１））を得た。ＰＥＴ（Ｘ１）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、エステル環状三量体の含有量は１．０５質量％であり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。 After completion of the polycondensation reaction, filtration is performed with a Naslon filter having a 95% cut diameter of 5 μm, extruded into strands from a nozzle, and cooled and solidified using cooling water that has been previously filtered (pore diameter: 1 μm or less). , It was cut into pellets to obtain a polyethylene terephthalate resin (PET (X1)). The intrinsic viscosity of PET (X1) was 0.62 dl / g, the content of the ester cyclic trimer was 1.05% by mass, and the inert particles and internally precipitated particles were substantially not contained.

（粒子不含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（Ｘ２））の製造）
三酸化アンチモンの添加量を０．０１７質量部にし、酢酸マグネシウム４水和物の添加を三酸化アンチモンの添加と同時に行ったこと、ナスロンフィルターを９５％カット径が２０μｍのものに変えたこと以外はＰＥＴ（Ｘ１）と同様にして、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（Ｘ２））を得た。(Manufacture of particle-free polyester resin (PET (X2)))
The amount of antimony trioxide added was 0.017 parts by mass, magnesium acetate tetrahydrate was added at the same time as the addition of antimony trioxide, and the Naslon filter was changed to one with a 95% cut diameter of 20 μm. A polyethylene terephthalate resin (PET (X2)) was obtained in the same manner as in PET (X1) except for the above.

（シリカ粒子含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（ＸＳｉ）の製造））
ＰＥＴ（Ｘ１）の製造において、２６０℃に昇温し、リン酸トリメチルを添加した１５分後に、下記シリカ粒子のエチレングリコールスラリーを、生成ポリエステルに対して、１００００ｐｐｍとなるよう添加したこと、及び９５％カット径が２０μｍのナスロンフィルター（日本精線（株）製）で濾過処理を行ったこと以外はＰＥＴ（Ｘ１）の製造と同様にして、固有粘度が０．６３ｄｌ／ｇのシリカ粒子含有ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（ＸＳｉ））を得た。なお、シリカ粒子のエチレングリコールスラリーは、平均粒子径が２．５μｍのシリカ粒子（富士シリシア社製）をエチレングリコール中に仕込み、さらに９５％カット径が３０μｍのビスコースレーヨン製フィルターで濾過処理を行い製造した。(Silica particle-containing polyester resin (manufacturing of PET (XSi)))
In the production of PET (X1), the temperature was raised to 260 ° C., and 15 minutes after the addition of trimethyl phosphate, the ethylene glycol slurry of the following silica particles was added to the produced polyester so as to be 10000 ppm, and 95. Similar to the production of PET (X1), it contains silica particles with an intrinsic viscosity of 0.63 dl / g, except that it was filtered with a Naslon filter (manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd.) having a% cut diameter of 20 μm. A polyethylene terephthalate resin (PET (XSi)) was obtained. For the ethylene glycol slurry of silica particles, silica particles (manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.) having an average particle diameter of 2.5 μm are charged in ethylene glycol, and further filtered with a viscose rayon filter having a 95% cut diameter of 30 μm. Manufactured by doing.

（炭酸カルシウム粒子含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（ＸＣａ）の製造））
ＰＥＴ（ＸＳｉ）の製造において、シリカ粒子のエチレングリコールスラリーの代わりに炭酸カルシウム粒子のエチレングリコールスラリーを用いた以外は同様に行ない、固有粘度が０．６３ｄｌ／ｇの炭酸カルシウム粒子含有ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（ＸＣａ））を得た。なお、炭酸カルシウム粒子のエチレングリコールスラリーは、シリカ粒子の代わりに平均粒子径が０．６μｍの炭酸カルシウム粒子（丸尾カルシウム社製）を用いて製造した。(Polyester resin containing calcium carbonate particles (manufacturing of PET (XCa)))
In the production of PET (XSi), the same procedure was carried out except that the ethylene glycol slurry of calcium carbonate particles was used instead of the ethylene glycol slurry of silica particles, and the polyethylene terephthalate resin containing calcium carbonate particles having an intrinsic viscosity of 0.63 dl / g ( PET (XCa)) was obtained. The ethylene glycol slurry of calcium carbonate particles was produced by using calcium carbonate particles (manufactured by Maruo Calcium Co., Ltd.) having an average particle diameter of 0.6 μm instead of silica particles.

（インラインコート用塗料の製造）
（ポリウレタン樹脂の製造）
脂肪族系ポリカーボネートポリオールを構成成分とするポリウレタン樹脂Ｄ−１を次の手順で製造した。撹拌機、ジムロート冷却器、窒素導入管、シリカゲル乾燥管、及び温度計を備えた４つ口フラスコに、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート４３．７５質量部、ジメチロールブタン酸１２．８５質量部、数平均分子量２０００のポリヘキサメチレンカーボネートジオール１５３．４１質量部、ジブチルスズジラウレート０．０３質量部、及び溶剤としてアセトン８４．００質量部を投入し、窒素雰囲気下、７５℃において３時間撹拌し、反応液が所定のアミン当量に達したことを確認した。次に、この反応液を４０℃にまで降温した後、トリエチルアミン８．７７質量部を添加し、ポリウレタンプレポリマー溶液を得た。次に、高速攪拌可能なホモディスパーを備えた反応容器に、水４５０ｇを添加して、２５℃に調整して、２０００ｍｉｎ-1で攪拌混合しながら、ポリウレタンプレポリマー溶液を添加して水分散した。その後、減圧下で、アセトンおよび水の一部を除去することにより、固形分濃度３５質量％の水溶性ポリウレタン樹脂Ｄ−１を調製した。得られたポリウレタン樹脂Ｄ−１のガラス転移点温度は−３０℃であった。(Manufacturing of paint for in-line coating)
(Manufacturing of polyurethane resin)
A polyurethane resin D-1 containing an aliphatic polycarbonate polyol as a constituent was produced by the following procedure. In a four-necked flask equipped with a stirrer, Dimroth condenser, nitrogen introduction tube, silica gel drying tube, and thermometer, 43.75 parts by mass of 4,4-diphenylmethane diisocyanate, 12.85 parts by mass of dimethylolbutanoic acid, number. 153.41 parts by mass of polyhexamethylene carbonate diol with an average molecular weight of 2000, 0.03 parts by mass of dibutyltin dilaurate, and 84.00 parts by mass of acetone as a solvent were added, and the mixture was stirred at 75 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere to prepare a reaction solution. Was confirmed to have reached the prescribed amine equivalent. Next, the reaction solution was cooled to 40 ° C., and then 8.77 parts by mass of triethylamine was added to obtain a polyurethane prepolymer solution. Next, 450 g of water was added to a reaction vessel equipped with a homodisper capable of high-speed stirring, the temperature was adjusted to 25 ° C., and the polyurethane prepolymer solution was added and water-dispersed while stirring and mixing at 2000 min -1. .. Then, under reduced pressure, acetone and a part of water were removed to prepare a water-soluble polyurethane resin D-1 having a solid content concentration of 35% by mass. The glass transition temperature of the obtained polyurethane resin D-1 was −30 ° C.

（オキサゾリン系架橋剤の製造）
温度計、窒素ガス導入管、還流冷却器、滴下ロート、および攪拌機を備えたフラスコに水性媒体としてのイオン交換水５８質量部とイソプロパノール５８質量部との混合物、および、重合開始剤（２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）・二塩酸塩）４質量部を投入した。一方、滴下ロートに、オキサゾリン基を有する重合性不飽和単量体としての２−イソプロペニル−２−オキサゾリン１６質量部、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（エチレングリコールの平均付加モル数・９モル、新中村化学製）３２質量部、およびメタクリル酸メチル３２質量部の混合物を投入し、窒素雰囲気下、７０℃において１時間にわたり滴下した。滴下終了後、反応溶液を９時間攪拌し、冷却することで固形分濃度４０質量％のオキサゾリン基を有する水溶性樹脂を得た。(Manufacturing of oxazoline-based cross-linking agent)
A flask equipped with a thermometer, a nitrogen gas introduction tube, a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, a mixture of 58 parts by mass of ion-exchanged water as an aqueous medium and 58 parts by mass of isopropanol, and a polymerization initiator (2,2). '-Azobis (2-amidinopropane), dihydrochloride) 4 parts by mass was added. On the other hand, in the dropping funnel, 16 parts by mass of 2-isopropenyl-2-oxazoline as a polymerizable unsaturated monomer having an oxazoline group, methoxypolyethylene glycol acrylate (average number of moles of ethylene glycol added: 9 mol, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) A mixture of 32 parts by mass and 32 parts by mass of methyl methacrylate was added and added dropwise at 70 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. After completion of the dropping, the reaction solution was stirred for 9 hours and cooled to obtain a water-soluble resin having an oxazoline group having a solid content concentration of 40% by mass.

（易接着層用塗布液１の調製）
下記の塗剤を混合して易接着層用塗布液を作製した。
水 ５５．６２質量％
イソプロパノール ３０．００質量％
ポリウレタン樹脂 １１．２９質量％
オキサゾリン系架橋剤 ２．２６質量％
粒子Ａ ０．７０質量％
（平均粒径４０ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
粒子Ｂ ０．０７質量％
（平均粒径５００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
界面活性剤 ０．０５質量％
（シリコーン系、固形分濃度１００質量％）(Preparation of coating liquid 1 for easy adhesive layer)
The following coating agents were mixed to prepare a coating liquid for an easy-adhesion layer.
Water 55.62% by mass
Isopropanol 30.00% by mass
Polyurethane resin 11.29% by mass
Oxazoline-based cross-linking agent 2.26% by mass
Particle A 0.70% by mass
(Silica sol with an average particle size of 40 nm, solid content concentration of 40% by mass)
Particle B 0.07% by mass
(Silica sol with an average particle size of 500 nm, solid content concentration of 40% by mass)
Surfactant 0.05% by mass
(Silicone type, solid content concentration 100% by mass)

（易接着層用塗布液２の調製）
下記の塗剤を混合して易接着層用塗布液を作成した。
水 ５５．６２質量％
イソプロパノール ３０．００質量％
ポリウレタン樹脂 １１．２９質量％
オキサゾリン系架橋剤 ２．２６質量％
界面活性剤 ０．０５質量％
（シリコーン系、固形分濃度１００質量％）(Preparation of coating liquid 2 for easy adhesive layer)
The following coating agents were mixed to prepare a coating liquid for an easy-adhesion layer.
Water 55.62% by mass
Isopropanol 30.00% by mass
Polyurethane resin 11.29% by mass
Oxazoline-based cross-linking agent 2.26% by mass
Surfactant 0.05% by mass
(Silicone type, solid content concentration 100% by mass)

（フィルムＡの製造）
転写用配向フィルムの離型層側用の原料として、粒子を含有しないＰＥＴ（Ｘ１）樹脂ペレットを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機１に供給し、反対面層（裏面層）用の原料として、ＰＥＴ（Ｘ１）樹脂ペレットと粒子を含有するポリエステル（ＰＥＴ（ＸＳｉ））樹脂ペレットを、反対面層（裏面層）の粒子含有量が表１に示す所定の値になるような割合でブレンドしたものを乾燥して押出機２に供給し、２８５℃で溶解した。この２種の溶融ポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種２層合流ブロックにて積層し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを製造した。この時、離型層と裏面層の厚みが表１に示す所定の値になるように各押し出し機の吐出量を調整した。(Manufacturing of film A)
As a raw material for the release layer side of the alignment film for transfer, PET (X1) resin pellets containing no particles are dried under reduced pressure (1 Torr) at 135 ° C. for 6 hours and then supplied to the extruder 1 to supply the opposite surface layer (back surface). As a raw material for the layer), a PET (X1) resin pellet and a polyester (PET (XSi)) resin pellet containing particles are used, and the particle content of the opposite surface layer (back surface layer) becomes a predetermined value shown in Table 1. The blended product in such a ratio was dried and supplied to the extruder 2 and melted at 285 ° C. These two types of molten polymers are each filtered through a filter medium of a stainless sintered body (nominal filtration accuracy of 10 μm particles 95% cut), laminated with a two-type two-layer confluence block, extruded into a sheet from a mouthpiece, and then extruded. An unstretched film was produced by winding it around a casting drum having a surface temperature of 30 ° C. and cooling and solidifying it using an electrostatic application casting method. At this time, the discharge amount of each extruder was adjusted so that the thickness of the release layer and the back surface layer became the predetermined values shown in Table 1.

この未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２１０℃、１０秒間で熱固定処理し、さらに３．０％の緩和処理を行った。その後、１３０℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断した後にＰＥＴ（Ｘ１）面にコロナ処理を行い、０．５ｋｇ／ｍｍ2の張力でコアに巻き取り、フィルム厚み５０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルム（幅１８００ｃｍ、長さ５０００ｍ）を得た。得られたフィルムの中央部を５０ｃｍ幅にスリットし、長さ約５００ｍのフィルムロール（フィルムＡ）を得た。ＰＥＴ（Ｘ１）面を離型面とした。This unstretched film was guided to a tenter stretching machine, and while gripping the end of the film with a clip, it was guided to a hot air zone having a temperature of 125 ° C. and stretched 4.0 times in the width direction. Next, while maintaining the width stretched in the width direction, heat fixing treatment was performed at a temperature of 210 ° C. for 10 seconds, and further relaxation treatment of 3.0% was performed. Then, after cutting both ends of the film cooled to 130 ° C. with a shear blade, the PET (X1) surface is subjected to corona treatment , wound around the core with a tension of 0.5 kg / mm 2 , and uniaxially oriented PET with a film thickness of 50 μm. A film (width 1800 cm, length 5000 m) was obtained. The central portion of the obtained film was slit to a width of 50 cm to obtain a film roll (film A) having a length of about 500 m. The PET (X1) surface was used as the release surface.

（フィルムＢの製造）
反対面層（裏面層）用の原料のうち、ＰＥＴ（ＸＳｉ）樹脂ペレットをＰＥＴ（ＸＣａ）に変更した以外は同様にして、フィルムロール（フィルムＢ１）を得た。また、コロナ処理の強度を上げたものをフィルムＢ２とし、さらにコロナ処理を行わなかったものをＢ３とした。(Manufacturing of film B)
A film roll (film B1) was obtained in the same manner except that the PET (XSi) resin pellet was changed to PET (XCa) among the raw materials for the opposite surface layer (back surface layer). Further, the film in which the strength of the corona treatment was increased was designated as the film B2, and the film in which the corona treatment was not performed was designated as B3.

（フィルムＣの製造）
厚み比を変えた以外は実施例２と同様にしてフィルムロール（フィルムＣ）を得た。(Manufacturing of film C)
A film roll (film C) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness ratio was changed.

（フィルムＤの製造）
フィルム用原料としてＰＥＴ（Ｘ１）ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを製造した。次いで、この未延伸ＰＥＴフィルムの片面に易接着層用塗布液１を乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ2になるように塗布した後、乾燥機に導き８０℃で２０秒間乾燥した。(Manufacturing of film D)
PET (X1) pellets are supplied to an extruder as a raw material for a film, extruded into a sheet from a mouthpiece, and then wound around a casting drum having a surface temperature of 30 ° C. using an electrostatic application casting method to be cooled and solidified. A stretched film was produced. Next, the coating liquid 1 for the easy-adhesion layer was applied to one side of this unstretched PET film so that the coating amount after drying was 0.12 g / m 2 , and then guided to a dryer and dried at 80 ° C. for 20 seconds.

この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１３５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、その後、冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断して、塗布層の反対面にフィルムＡと同様にコロナ処理、スリットを行い、幅５０ｃｍ長さ約５００ｍのフィルムロール（フィルムＤ）を得た。コロナ処理面を離型面とした。 The unstretched film on which this coating layer was formed was guided to a tenter stretching machine, and while gripping the end of the film with a clip, it was guided to a hot air zone having a temperature of 135 ° C. and stretched four times in the width direction. Next, the film was treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds while maintaining the width stretched in the width direction, and then both ends of the cooled film were cut with a shear blade to form a film A on the opposite surface of the coating layer. Similarly, corona treatment and slitting were performed to obtain a film roll (film D) having a width of 50 cm and a length of about 500 m. The corona-treated surface was used as the release surface.

（フィルムＥの製造）
フィルム用原料としてＰＥＴ（Ｘ２）を用いた以外はフィルムＤと同様にして、フィルムロール（フィルムＥ）を得た。(Manufacturing of film E)
A film roll (film E) was obtained in the same manner as in film D except that PET (X2) was used as a raw material for film.

（フィルムＦの製造）
両面に易接着層用塗布液１を塗布した以外はフィルムＤと同様にして両面にコート層を有するフィルムＦを得た。なお、コロナ処理は行わなかった。(Manufacturing of film F)
A film F having a coating layer on both sides was obtained in the same manner as the film D except that the coating liquid 1 for an easy-adhesion layer was applied to both sides. No corona treatment was performed.

（フィルムＧの製造）
片面に易接着層用塗布液１を反対面に易接着層用塗布液２を塗布した以外はフィルムＤと同様にして両面に易接着層を有するフィルムＧを得た。このフィルムの易接着層用塗布液２塗布面を離型面とした。なお、コロナ処理は行わなかった。(Manufacturing of film G)
A film G having easy-adhesive layers on both sides was obtained in the same manner as the film D except that the easy-adhesive layer coating liquid 1 was applied to one side and the easy-adhesive layer coating liquid 2 was applied to the other side. The coating liquid 2 coating surface for the easy-adhesion layer of this film was used as the release surface. No corona treatment was performed.

（フィルムＨの製造）
フィルム用原料として、ＰＥＴ（Ｘ１）樹脂ペレットと粒子を含有するポリエステル（ＰＥＴ（ＸＳｉ））樹脂ペレットを、粒子含有量が表１に示す所定の値になるような割合でブレンドしたものを乾燥して押出機２に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを製造した。次いで、未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１３５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に３．５倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、その後、冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断、コロナ処理を行い、フィルム厚み５０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルム（幅１８００ｃｍ、長さ５０００ｍ）を得た。さらに、フィルムＡと同様にコロナ処理、スリットを行い、幅５０ｃｍ長さ約５００ｍのフィルムロール（フィルムＨ）を得た。なお、コロナ処理は樹脂の押出時にキャスティングドラムに接触していた面に行い、コロナ処理面を離型面とした。(Manufacturing of film H)
As a raw material for a film, a PET (X1) resin pellet and a polyester (PET (XSi)) resin pellet containing particles are blended at a ratio such that the particle content becomes a predetermined value shown in Table 1 and dried. The film was supplied to the extruder 2 and extruded into a sheet from a mouthpiece, and then wound around a casting drum having a surface temperature of 30 ° C. using an electrostatic application casting method to be cooled and solidified to produce an unstretched film. Next, the unstretched film was guided to a tenter stretching machine, and while gripping the end portion of the film with a clip, the unstretched film was guided to a hot air zone having a temperature of 135 ° C. and stretched 3.5 times in the width direction. Next, while maintaining the width stretched in the width direction, the film was treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds, and then both ends of the cooled film were cut with a shear blade and subjected to corona treatment to uniaxially orient the film with a thickness of 50 μm. A PET film (width 1800 cm, length 5000 m) was obtained. Further, corona treatment and slitting were performed in the same manner as in film A to obtain a film roll (film H) having a width of 50 cm and a length of about 500 m. The corona treatment was performed on the surface that was in contact with the casting drum when the resin was extruded, and the corona treatment surface was used as the release surface.

（フィルムＩの製造）
フィルムＨの片面に、フィルムＤの方法と同様に易接着層用塗布液２を用いて片面に易接着層を有するフィルムを得た。得られたフィルムの易接着層面に、下記組成のコート剤を塗布し、加熱オーブン中で１５０℃３分間乾燥させ、平坦化コート層を有するフィルムＩを得た。平坦化層面を離型面とした。(Manufacturing of Film I)
A film having an easy-adhesion layer on one side was obtained by using the coating liquid 2 for an easy-adhesion layer on one side of the film H in the same manner as in the method of film D. A coating agent having the following composition was applied to the easy-adhesion layer surface of the obtained film and dried in a heating oven at 150 ° C. for 3 minutes to obtain Film I having a flattening coating layer. The flattening layer surface was used as the release surface.

（平坦化コート剤の調製）
下記の塗剤を混合して平坦化コート剤を作製した。
メラミン架橋アルキル変性アルキド樹脂（日立化成ポリマー社製：テスファイン３２２：固形分４０％） １０質量部
Ｐ−トルエンスルホン酸（日立化成ポリマー社製：ドライヤー９００）
０．１質量部
溶剤（トルエン／メチルエチルケトン＝１／１質量部）
２０質量部

なお、コート剤は２μｍのフィルターで濾過し、乾燥時の空気は９５％カット径が１μｍのヘパフィルターで濾過した後、さらに９９．９％カット径が０．３μｍのヘパフィルターで高精度濾過したものを使用した。さらに、コート剤のフィルムへの塗布は、クラス１，０００の環境下で行った。(Preparation of flattening coating agent)
The following coating agents were mixed to prepare a flattening coating agent.
Melamine cross-linked alkyl-modified alkyd resin (Hitachi Kasei Polymer Co., Ltd .: Tessfine 322: Solid content 40%) 10 parts by mass P-toluenesulfonic acid (Hitachi Kasei Polymer Co., Ltd .: Dryer 900)
0.1 parts by mass Solvent (toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 parts by mass)
20 parts by mass

The coating agent was filtered through a 2 μm filter, and the air during drying was filtered through a HEPA filter having a 95% cut diameter of 1 μm and then further filtered through a HEPA filter having a 99.9% cut diameter of 0.3 μm with high precision. I used the one. Further, the coating agent was applied to the film in a class 1,000 environment.

なお、実施例において塗工・乾燥工程は同様の環境下で行った。 In the examples, the coating / drying steps were performed in the same environment.

（マスキングフィルムの準備）
市販のポリプロピレンを基材とし粘着層を設けたマスキングフィルムｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔの５種類を準備した。(Preparation of masking film)
Five types of masking films p, q, r, s, and t using commercially available polypropylene as a base material and provided with an adhesive layer were prepared.

実施例１〜１２、比較例１〜４
フィルムＡ〜Ｉに下記のλ／４位相差層の作製１の方法でλ／４位相差層を設け、マスキングフィルムを積層して巻き取った。実施例、比較例の詳細および評価結果を表１に示す。Examples 1-12, Comparative Examples 1-4
A λ / 4 retardation layer was provided on the films A to I by the method of Preparation 1 of Preparation of the λ / 4 retardation layer described below, and the masking films were laminated and wound. Table 1 shows the details of Examples and Comparative Examples and the evaluation results.

（λ／４位相差層の作製１）
（ラビング処理配向制御層の形成）
基材フィルムとして上記フィルムを巻き出し、離型面にコロナ処理を行った後、下記組成のラビング処理配向制御層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で５分間乾燥し、厚み２００ｎｍの膜を形成した。引き続き、得られた膜の表面をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理し、ラビング処理配向制御層を積層した転写用配向フィルムを得た。ラビングはラビングロールに対して基材フィルムを斜めに架け、基材フィルムの搬送速度とラビングロールの回転数を調節して、ラビング方向が基材フィルムの幅方向に対して４５度になるように行った。
完全ケン化型ポリビニルアルコール（重量平均分子量８００） ２質量部
イオン交換水 １００質量部
界面活性剤 ０．５質量部(Preparation of λ / 4 retardation layer 1)
(Formation of rubbing treatment orientation control layer)
After unwinding the above film as a base film and performing corona treatment on the release surface, a coating for a rubbing treatment orientation control layer having the following composition is applied using a bar coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and has a thickness of 200 nm. Formed a film. Subsequently, the surface of the obtained film was treated with a rubbing roll wrapped with a brushed nylon cloth to obtain a transfer orientation film in which a rubbing treatment orientation control layer was laminated. For rubbing, the base film is hung diagonally with respect to the rubbing roll, and the transport speed of the base film and the number of rotations of the rubbing roll are adjusted so that the rubbing direction is 45 degrees with respect to the width direction of the base film. went.
Fully saponified polyvinyl alcohol (weight average molecular weight 800) 2 parts by mass Ion-exchanged water 100 parts by mass Surfactant 0.5 parts by mass

（配向液晶化合物配向層の成形）
引き続き、ラビング処理を施した面に、下記組成の配向液晶化合物層形成用溶液をバーコート法により塗布した。１１０℃で３分間乾燥し、紫外線を照射して硬化させ、配向液晶化合物層（λ／４層）をフィルムに形成した。配向液晶化合物層が積層されたフィルムは液晶化合物層面にマスキングフィルムを貼り合わせて巻き取った。
棒状液晶化合物（ＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２） ７５質量部
下記式（３）で表される化合物 ２０質量部

Figure 0006954502

トリメチロールプロパントリアクリレート ５質量部
イルガキュア３７９ ３質量部
界面活性剤 ０．１質量部
メチルエチルケトン ２５０質量部(Formation of oriented liquid crystal compound oriented layer)
Subsequently, a solution for forming an oriented liquid crystal compound layer having the following composition was applied to the surface subjected to the rubbing treatment by a bar coating method. The film was dried at 110 ° C. for 3 minutes and cured by irradiating with ultraviolet rays to form an oriented liquid crystal compound layer (λ / 4 layer) on the film. The film on which the oriented liquid crystal compound layer was laminated was wound by laminating a masking film on the surface of the liquid crystal compound layer.
Rod-shaped liquid crystal compound (LC242 manufactured by BASF) 75 parts by mass 20 parts by mass of the compound represented by the following formula (3)
Figure 0006954502
Trimethylolpropane Triacrylate 5 parts by mass Irgacure 379 3 parts by mass Surfactant 0.1 parts by mass Methyl ethyl ketone 250 parts by mass

実施例１３、比較例５
フィルムＢ２およびＢ３に下記のλ／４位相差層の作製２の方法でλ／４位相差層を設け、マスキングフィルムを積層して巻き取った。実施例、比較例の詳細および評価結果を表１に示す。Example 13, Comparative Example 5
A λ / 4 retardation layer was provided on the films B2 and B3 by the method of Preparation 2 of the following λ / 4 retardation layer, and the masking films were laminated and wound. Table 1 shows the details of Examples and Comparative Examples and the evaluation results.

（λ／４位相差層の作製２）
（光処理配向制御層の形成）
基材フィルムの片面に下記組成の光配向層用塗料を、バーコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間乾燥し、厚み１５０ｎｍの膜を形成した。引き続き、偏光ＵＶ光を照射し、光配向層を積層した基材フィルムを得た。ＵＶ光の偏光方向はフィルムの長手方向に対して４５度とした。(Preparation of λ / 4 retardation layer 2)
(Formation of light treatment orientation control layer)
A coating material for a photoalignment layer having the following composition was applied to one side of a base film using a bar coater and dried at 80 ° C. for 1 minute to form a film having a thickness of 150 nm. Subsequently, it was irradiated with polarized UV light to obtain a base film on which a photoalignment layer was laminated. The polarization direction of the UV light was 45 degrees with respect to the longitudinal direction of the film.

（光配向層用塗料）
特開２０１３−３３２４８号公報の実施例１、実施例２、及び実施例３の記載に基づき、下記式（４）で表されるポリマーのシクロペンタノンへの５質量％溶液を製造した。
下記式（４）で表される化合物 ５質量部

Figure 0006954502

界面活性剤 ０．１質量部
シクロペンタノン ９５質量部(Paint for photo-alignment layer)
Based on the description of Example 1, Example 2, and Example 3 of JP2013-33248A, a 5% by mass solution of the polymer represented by the following formula (4) to cyclopentanone was produced.
5 parts by mass of the compound represented by the following formula (4)
Figure 0006954502
Surfactant 0.1 parts by mass Cyclopentanone 95 parts by mass

前述の配向液晶化合物層形成用溶液を用いて光配向層上に塗布し、λ／４位相差層の作製１と同様にして積層体を製造した。 The above-mentioned solution for forming an oriented liquid crystal compound layer was applied onto the photoaligned layer to produce a laminate in the same manner as in Preparation 1 of the λ / 4 retardation layer.

（円偏光板の作製）
実施例および比較例のマスキングフィルムが積層された配向液晶化合物層積層フィルムを巻き出し、巻芯から９０〜１００ｍ付近の積層体をマスキングフィルムごと長さ６０ｃｍに切断した。さらに幅方向の両端を端部から２ｃｍの位置で切断し、配向液晶化合物層が塗布されていない部分を除去した後、マスキングフィルムを剥離した。(Preparation of circularly polarizing plate)
The oriented liquid crystal compound layer laminated film on which the masking films of Examples and Comparative Examples were laminated was unwound, and the laminated body in the vicinity of 90 to 100 m from the winding core was cut into a length of 60 cm together with the masking film. Further, both ends in the width direction were cut at a position 2 cm from the end to remove the portion to which the oriented liquid crystal compound layer was not applied, and then the masking film was peeled off.

一方、縦４６ｃｍ、横６０ｃｍの偏光板（ポリビニルアルコールの延伸フィルムにヨウ素を吸着させた偏光子をトリアセチルセルロース製の厚さ６０μｍの偏光子保護フィルムとポリエチレンテレフタレート製の厚さ８０μｍの偏光子保護フィルムで挟んだもの）のトリアセチルセルロース面に紫外線硬化型接着剤を塗布後、これの接着剤面と配向液晶化合物層積層フィルムの配向液晶化合物層面を積層し、紫外線を照射して貼り合わせた。その後、基材フィルムを剥離して円偏光板を得た。転写作業性および転写性を評価した。結果を表１に示す。 On the other hand, a polarizing plate having a length of 46 cm and a width of 60 cm (a polarizing element in which iodine is adsorbed on a stretched film of polyvinyl alcohol is protected by a 60 μm thick polarizer film made of triacetyl cellulose and an 80 μm thick polarizer made of polyethylene terephthalate. After applying an ultraviolet curable adhesive to the triacetyl cellulose surface (sandwiched between films), the adhesive surface of the adhesive surface and the oriented liquid crystal compound layer surface of the oriented liquid crystal compound layer laminated film were laminated and irradiated with ultraviolet rays to bond them together. .. Then, the base film was peeled off to obtain a circularly polarizing plate. Transfer workability and transferability were evaluated. The results are shown in Table 1.

比較例６
易接着層用塗布液１を塗布しなかった以外はフィルムＥと同様にして、塗工層のないフィルムロール（フィルムＪ）を得た。フィルムの厚み及び離型面の各粗さパラメータを表１に示す。得られたフィルムロールは、気泡の巻き込み、皺があり、離型性基材フィルムとしての使用には適さないものであった。Comparative Example 6
A film roll (film J) without a coating layer was obtained in the same manner as the film E except that the coating liquid 1 for the easy-adhesion layer was not applied. Table 1 shows the film thickness and the roughness parameters of the release surface. The obtained film roll had air bubbles and wrinkles, and was not suitable for use as a releasable base film.

Figure 0006954502
Figure 0006954502

Claims (19)

離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルム、がこの順に積層された積層体であって、下記式（１）、（２）、及び（３）を満たすことを特徴とする薄膜層転写用積層体。

０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７ （１）
Ｘ：離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度
Ｙ：薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度

１．０≦Ｓｋｕ≦４０ （２）
Ｓｋｕ：離型性基材フィルムの離型面のクルトシス

０．５ｎｍ≦Ｓｑ≦２０ｎｍ （３）
Ｓｑ：離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ A laminate in which a releasable base film, a thin film layer, and a masking film are laminated in this order, and is used for thin film layer transfer, which satisfies the following formulas (1), (2), and (3). Laminated body.

0.01 ≤ Y / X ≤ 0.7 (1)
X: Peeling strength between the releasable base film and the thin film layer Y: Peeling strength between the thin film layer and the masking film

1.0 ≤ Sku ≤ 40 (2)
Sku: Kurtosis of the release surface of the release base film

0.5 nm ≤ Sq ≤ 20 nm (3)
Sq: Root mean square roughness of the release surface of the release base film 下記式（４）を満たす、請求項１に記載の薄膜層転写用積層体。

−１．０≦Ｓｓｋ≦２．０ （４）
Ｓｓｋ：離型性基材フィルムの離型面のスキューネス The laminate for thin film layer transfer according to claim 1, which satisfies the following formula (4).

-1.0 ≤ Sk ≤ 2.0 (4)
Sk: Releasability The skewness of the release surface of the base film 前記離型性基材フィルムの離型面のＳｋｕが３．０超２０以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the Sk on the release surface of the releasable base film is more than 3.0 and 20 or less. 前記離型性基材フィルムの離型面のＳｑが１．０ｎｍ以上７ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the Sq of the release surface of the releasable base film is 1.0 nm or more and 7 nm or less. 前記離型性基材フィルムの離型面の算術平均粗さ（Ｓａ）が０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the arithmetic mean roughness (Sa) of the release surface of the releasable base film is 0.5 nm or more and 5 nm or less. 前記離型性基材フィルムの離型面の界面の展開面積（Ｓｄｒ）が０．０００１％以上０．０００７％以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the developed area (Sdr) of the interface of the release surface of the releasable base film is 0.0001% or more and 0.0007% or less. 前記離型性基材フィルムの離型面の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が７（１／ｍｍ）以上７０（１／ｍｍ）以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the average (Spc) of the principal curvatures of the peaks of the release surface of the releasable base film is 7 (1 / mm) or more and 70 (1 / mm) or less. Laminated body for. 前記離型性基材フィルムの裏面の算術平均粗さ（Ｓａ）が１．５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the arithmetic average roughness (Sa) of the back surface of the releasable base film is 1.5 nm or more and 30 nm or less. 前記離型性基材フィルムの裏面の二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）が２．０ｎｍ以上４５ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the root mean square roughness (Sq) of the back surface of the releasable base film is 2.0 nm or more and 45 nm or less. 前記離型性基材フィルムの裏面のＳｋｕが７以上１７０以下であり、かつ、（裏面のＳｋｕ）／（離型面のＳｋｕ）が１．５以上２０以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The first or second claim, wherein the Sku on the back surface of the releasable base film is 7 or more and 170 or less, and the (Sku on the back surface) / (Sku on the releasable surface) is 1.5 or more and 20 or less. Thin film layer transfer laminate. 前記離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋが１以上１０以下であり、かつ（裏面のＳｓｋ）／（離型面のＳｓｋ）の絶対値が２以上１５以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The first or second claim, wherein the Ssk on the back surface of the releasable base film is 1 or more and 10 or less, and the absolute value of (Ssk on the back surface) / (Ssk on the releasable surface) is 2 or more and 15 or less. Thin film layer transfer laminate. Ｙ／Ｘが０．０５以上０．３５以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein Y / X is 0.05 or more and 0.35 or less. 下記式（５）を満たす請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。

０．００５Ｎ／２５ｍｍ≦Ｙ≦２．０Ｎ／２５ｍｍ （５） The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, which satisfies the following formula (5).

0.005N / 25mm ≤ Y ≤ 2.0N / 25mm (5) 前記剥離強度Ｙが０．０３Ｎ／２５ｍｍ以上０．５Ｎ／２５ｍｍ以下である請求項１３に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 13, wherein the peel strength Y is 0.03 N / 25 mm or more and 0.5 N / 25 mm or less. 前記剥離強度Ｘが０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上０．８Ｎ／２５ｍｍ以下である請求項１３に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 13, wherein the peel strength X is 0.05 N / 25 mm or more and 0.8 N / 25 mm or less. 前記薄膜層の厚みが０．０１μｍ以上４．５μｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for transferring a thin film layer according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the thin film layer is 0.01 μm or more and 4.5 μm or less. 前記薄膜層は、液晶化合物が配向された層を含む請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。 The thin film layer transfer laminate according to claim 1 or 2 , wherein the thin film layer includes a layer in which a liquid crystal compound is oriented. 前記離型性基材フィルムの基材フィルム原反を構成する樹脂がポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロースのいずれかである請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 1 or 2, wherein the resin constituting the base film raw material of the releasable base film is any one of polyethylene terephthalate, cyclic polyolefin, and triacetyl cellulose. 前記離型性基材フィルムの基材フィルム原反が３０００ｎｍ〜３００００ｎｍのレタデーションを有し、前記基材フィルム原反を構成する樹脂がポリエチレンテレフタレートである請求項１８に記載の薄膜層転写用積層体。The laminate for thin film layer transfer according to claim 18, wherein the base film raw fabric of the releasable base film has a retardation of 3000 nm to 30,000 nm, and the resin constituting the base film raw fabric is polyethylene terephthalate. ..
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