JP6953777B2 - Carbon dioxide recovery system and recovery method - Google Patents

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Description

本発明は、気体−液体間の接触における物質移動を利用して、燃焼ガス等のような二酸化炭素を含むガスから二酸化炭素を分離、除去又は回収し、排ガスの浄化等にも利用可能である二酸化炭素の回収システム及び回収方法に関する。 The present invention can be used for purifying exhaust gas by separating, removing or recovering carbon dioxide from a gas containing carbon dioxide such as combustion gas by utilizing the movement of substances in contact between gas and liquid. Regarding carbon dioxide recovery system and recovery method.

従来、化学プラントや火力発電所等において、気液接触を利用して、様々な種類のガスを含む排ガス等の被処理ガスから特定のガスを分離、除去又は回収するガス分離装置が使用されている。例えば、二酸化炭素の回収システムでは、モノエタノールアミン水溶液等の吸収液に二酸化炭素を含むガスを接触させる吸収装置を用いて二酸化炭素を吸収分離し、吸収した後の吸収液を加熱しながら気液接触させる再生装置を用いて二酸化炭素を気相に放出させて回収する。また、排ガスから有害ガス成分を除去するためのガス浄化装置や、混合ガスから特定ガス成分を分離するためのガス分離装置においても、気液接触を利用して吸収液による特定ガス成分の吸収が行われる。更に、高温の液体又はガスを冷却する冷却装置においても気液接触が利用されている。 Conventionally, in chemical plants, thermal power plants, etc., a gas separation device that separates, removes, or recovers a specific gas from a gas to be treated such as an exhaust gas containing various types of gases has been used by using gas-liquid contact. There is. For example, in a carbon dioxide recovery system, carbon dioxide is absorbed and separated by using an absorption device that brings a gas containing carbon dioxide into contact with an absorption liquid such as a monoethanolamine aqueous solution, and the absorbed liquid after absorption is heated while air-liquid. Carbon dioxide is released into the gas phase and recovered using a contacting regeneration device. In addition, gas purification devices for removing harmful gas components from exhaust gas and gas separation devices for separating specific gas components from mixed gas also use gas-liquid contact to absorb specific gas components by the absorbing liquid. Will be done. Further, gas-liquid contact is also used in a cooling device for cooling a high-temperature liquid or gas.

一般的に、気液接触を行う装置は、液体とガスとの接触面積を増大させるための充填材を有し、充填材表面において液体とガスとを気液接触させて、ガス中の特定ガス成分や熱を液体に吸収させる。気液接触面積の増大に有用な充填材の形態として、様々なものが提案されている。しかし、形状や構造が複雑な不規則充填物は、加工や装填に手間が掛かるため、大容量の処理を行う工業分野においては、製造コストの削減や作業上の手間の簡略化の観点から、簡素な構成の規則充填材を使用する吸収装置の利用が進められている。 In general, a device that performs gas-liquid contact has a filler for increasing the contact area between the liquid and the gas, and the liquid and the gas are brought into gas-liquid contact on the surface of the filler to bring a specific gas in the gas. Allows liquids to absorb ingredients and heat. Various forms of fillers have been proposed that are useful for increasing the gas-liquid contact area. However, irregular fillings with complicated shapes and structures require time and effort to process and load. Therefore, in the industrial field where large-capacity processing is performed, from the viewpoint of reducing manufacturing costs and simplifying work labor, Absorption devices that use regular fillers with a simple structure are being used.

産業設備において生じる排ガスから二酸化炭素を回収する場合、排出される排ガスは大量になる。回収システムの保守及び修繕のために排ガスの取り入れを停止する動作が適切でないと、設備に負荷が掛かって悪影響を生じる可能性がある。下記特許文献１では、排ガスの取り入れを停止する際に設備に負荷が掛からないような排ガスの取り入れについて記載している。 When carbon dioxide is recovered from exhaust gas generated in industrial equipment, a large amount of exhaust gas is emitted. Improper operation to stop the intake of exhaust gas for maintenance and repair of the recovery system can overwhelm the equipment and cause adverse effects. Patent Document 1 below describes the intake of exhaust gas so that the equipment is not loaded when the intake of exhaust gas is stopped.

又、排ガスの排出量は、設備の稼動状況によって変動する。例えば、火力発電設備においては、電力需要に基づいて発電を行うので、排ガスの排出量は、発電量に応じて変動する。従って、発電施設から排出される排ガスを処理するには、排出量の変動に対処し得るような機能が回収システムに求められる。下記特許文献２においては、排ガスの流量や温度の変動に応じて、吸収液の循環量及び再生用の加熱量を変更することが記載される。一方、下記特許文献３においては、排ガスの量が変動しても二酸化炭素の回収率を維持するために、排ガスの二酸化炭素濃度を検出し、検出濃度に基づいて排ガスの処理率を決定することが記載される。 In addition, the amount of exhaust gas emitted varies depending on the operating status of the equipment. For example, in a thermal power generation facility, since power is generated based on power demand, the amount of exhaust gas emitted fluctuates according to the amount of power generated. Therefore, in order to treat the exhaust gas emitted from the power generation facility, the recovery system is required to have a function capable of coping with fluctuations in the amount of emission. In Patent Document 2 below, it is described that the circulation amount of the absorbing liquid and the heating amount for regeneration are changed according to the fluctuation of the flow rate and the temperature of the exhaust gas. On the other hand, in Patent Document 3 below, in order to maintain the carbon dioxide recovery rate even if the amount of exhaust gas fluctuates, the carbon dioxide concentration of the exhaust gas is detected and the treatment rate of the exhaust gas is determined based on the detected concentration. Is described.

特許第５０３９６５１号公報Japanese Patent No. 5039651 特許第５２３７２０４号公報Japanese Patent No. 5237204 特開２０１３−１５８６８５号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-158685

充填材や気液接触板を有する吸収装置においては、充填材表面の形状や構造等に起因して、ガス又は液体の偏流による気液接触効率の低下、ガスの流通抵抗による圧力損失の激増、フラッディング現象（液体の流下及び滴下がガス流圧によって阻止される状態）等が生じる。従って、吸収装置の設計においては、上述の点を考慮して、ガス処理に関する適正な流量範囲が設定される。産業設備から排出される大流量の排ガスを処理する場合、単独で対処可能な大規模な吸収装置の設計は、建設及び設置条件等の観点から困難であるので、排ガスの排出規模に応じて複数の吸収装置を組み合わせて、排ガスの流量に対応可能なシステムが構成される。 In an absorber having a filler or a gas-liquid contact plate, the gas or liquid contact efficiency decreases due to the drift of gas or liquid due to the shape and structure of the filler surface, and the pressure loss due to the gas flow resistance increases sharply. A flooding phenomenon (a state in which the flow and drip of a liquid is blocked by a gas flow pressure) and the like occur. Therefore, in the design of the absorber, an appropriate flow rate range for gas treatment is set in consideration of the above points. When treating a large flow rate of exhaust gas emitted from industrial equipment, it is difficult to design a large-scale absorption device that can be dealt with independently from the viewpoint of construction and installation conditions, so there are multiple depending on the exhaust gas emission scale. A system that can handle the flow rate of exhaust gas is constructed by combining the absorption devices of.

一方、ガスの流量が、吸収装置に設定される適正範囲より低いと、二酸化炭素の吸収自体は良好であるが、処理効率は低下する。従って、複数の吸収装置を組み合わせたシステムにおいて、各吸収装置における流量調整を一律に行うと、排ガスの排出量が減少した時に、システム全体としての操業効率もかなり低下し得る。 On the other hand, when the gas flow rate is lower than the appropriate range set in the absorption device, the carbon dioxide absorption itself is good, but the processing efficiency is lowered. Therefore, in a system in which a plurality of absorption devices are combined, if the flow rate of each absorption device is uniformly adjusted, the operating efficiency of the system as a whole can be significantly reduced when the exhaust gas emission amount is reduced.

又、排ガスの流量が低下して、吸収液単位当たりの二酸化炭素吸収量（最大二酸化炭素濃度）が低下すると、吸収液における吸収容量の利用効率は低下する。従って、ガス処理量に比べて、再生処理による吸収剤の消耗が進行し易くなる。 Further, when the flow rate of the exhaust gas decreases and the amount of carbon dioxide absorbed per unit of the absorbing liquid (maximum carbon dioxide concentration) decreases, the utilization efficiency of the absorption capacity in the absorbing liquid decreases. Therefore, the consumption of the absorbent due to the regeneration treatment is more likely to proceed than the amount of gas treated.

本発明は、上述した問題点に鑑みて創案されたものであって、複数の吸収装置を用いてガスから二酸化炭素を回収する際に、各吸収装置におけるガス流量が常時適正範囲に維持されるように、導入されるガスの流量変動に対応して各吸収装置へのガス分配を調整可能な二酸化炭素回収システム及び二酸化炭素の回収方法を提供することを課題とする。 The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and when carbon dioxide is recovered from gas using a plurality of absorption devices, the gas flow rate in each absorption device is always maintained within an appropriate range. As described above, it is an object of the present invention to provide a carbon dioxide recovery system and a carbon dioxide recovery method capable of adjusting the gas distribution to each absorption device in response to fluctuations in the flow rate of the introduced gas.

上記課題を解決するために、本発明者等は、吸収装置におけるガス流量と吸収効率との関係について検討したところ、複数の吸収装置を用いた並行処理において、所定のガス流量未満での処理を回避するようなガス分配を行うことによって、利用効率を低下させずに良好なガス処理を実現可能であることを見出した。 In order to solve the above problems, the present inventors examined the relationship between the gas flow rate and the absorption efficiency in the absorption device, and found that in the parallel processing using a plurality of absorption devices, the treatment was performed at a gas flow rate less than a predetermined value. It was found that good gas treatment can be realized without lowering the utilization efficiency by performing gas distribution that avoids it.

本発明の一態様によれば、二酸化炭素の回収システムは、化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収装置と、導入されるガスを前記複数の吸収装置に分配して供給可能な供給系と、前記複数の吸収装置の各々へ供給するガスの流量を調整可能な調整機構と、導入されるガスの流量変動に応じて前記調整機構を制御して、ガスが供給される吸収装置におけるガスの流量が、吸収装置において効率的に処理可能なガス流量の最小値以上に維持されるように、前記複数の吸収装置の各々へ供給するガスの流量を変更する制御機構とを有することを要旨とする。 According to one aspect of the present invention, the carbon dioxide recovery system is a plurality of absorption devices that recover carbon dioxide by a chemical absorption method, and a supply system capable of distributing and supplying the introduced gas to the plurality of absorption devices. An adjusting mechanism capable of adjusting the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption devices, and a gas in the absorbing device to which the gas is supplied by controlling the adjusting mechanism according to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas. It is a gist to have a control mechanism for changing the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption devices so that the flow rate of the gas is maintained at or above the minimum value of the gas flow rate that can be efficiently processed in the absorption device. And.

前記調整機構は、前記複数の吸収装置のうちガスが供給される吸収装置の数の変更、及び、前記複数の吸収装置の各々に供給するガス流量の変更が可能なように、前記供給系に設置される複数の流量調整弁を含む。 The adjusting mechanism is provided to the supply system so that the number of absorption devices to which gas is supplied among the plurality of absorption devices can be changed and the flow rate of gas supplied to each of the plurality of absorption devices can be changed. Includes multiple flow control valves installed.

前記複数の吸収装置は、効率的に処理可能なガス流量が実質的に等しくなるような処理能力を各々有する場合、前記制御機構は、導入されるガス流量を検出する検出器を有し、前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と前記複数の吸収装置の数との積以上である時は、前記複数の吸収装置の各々に供給するガス流量が前記ガス流の最小値以上になるように前記調整機構を制御し、それにより前記複数の吸収装置の全てにガスが供給され、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と前記複数の吸収装置の数との積未満である時は、前記複数の吸収装置の一部への供給を停止して他の吸収装置におけるガス流量を前記最小値以上に維持するように前記調整機構を制御するように設定することができる。この形態において、前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と全吸収装置の数との積以上である時に、前記複数の吸収装置の全てに実質的に均等にガスが供給されるように前記調整機構を制御することができる。或いは、前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と全吸収装置の数との積以上である時に、吸収装置が処理可能なガス流量の最大値でガスが供給される吸収装置の数が最大になるように前記調整機構を制御することができる。更に、前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と前記複数の吸収装置の数との積未満である時に、ガスが供給される吸収装置におけるガス流量が実質的に等しくなるように前記調整機構を制御することができる。 When each of the plurality of absorbers has a processing capacity such that the gas flow rates that can be efficiently processed are substantially equal, the control mechanism has a detector for detecting the gas flow rate to be introduced. When the gas flow rate detected by the detector is equal to or greater than the product of the minimum value and the number of the plurality of absorption devices, the control mechanism supplies the gas flow rate to each of the plurality of absorption devices. The adjustment mechanism is controlled so as to be equal to or more than the minimum value of the flow, whereby gas is supplied to all of the plurality of absorption devices, and the gas flow rate detected by the detector is the minimum value and the plurality of absorptions. When it is less than the product of the number of devices, the adjustment mechanism is controlled so as to stop the supply to a part of the plurality of absorption devices and maintain the gas flow rate in the other absorption devices at the minimum value or more. Can be set as. In this embodiment, the control mechanism is substantially evenly distributed to all of the plurality of absorbers when the gas flow rate detected by the detector is greater than or equal to the product of the minimum value and the total number of absorbers. The adjusting mechanism can be controlled so that the gas is supplied. Alternatively, the control mechanism supplies gas at the maximum value of the gas flow rate that can be processed by the absorption device when the gas flow rate detected by the detector is equal to or greater than the product of the minimum value and the total number of absorption devices. The adjustment mechanism can be controlled so that the number of absorption devices to be generated is maximized. Further, in the control mechanism, when the gas flow rate detected by the detector is less than the product of the minimum value and the number of the plurality of absorption devices, the gas flow rate in the absorption device to which the gas is supplied is substantially. The adjustment mechanism can be controlled so as to be equal to.

前記複数の吸収装置は、各々、吸収液を前記ガスに気液接触させて前記ガスに含まれる二酸化炭素を吸収することによって二酸化炭素を回収する装置であり、二酸化炭素の回収システムは、更に、二酸化炭素を吸収した吸収液から加熱により二酸化炭素を放出させて吸収液を再生する、前記複数の吸収装置と同数である複数の再生装置と、前記複数の吸収装置と前記複数の再生装置との間で吸収液を循環可能な循環系であって、前記複数の吸収装置と前記複数の再生装置とが各々対をなすように接続し、対をなす吸収装置と再生装置との間で吸収液が循環する前記循環系と、前記循環系を循環する吸収液が前記複数の吸収装置の各々を流通する流量を調整可能な循環調整機構とを有し、前記制御機構は、前記複数の吸収装置の各々において、供給されるガスの流量に対応した流量で吸収液が流通するように、前記調整機構の制御に対応して前記循環調整機構を制御するように構成することができる。 Each of the plurality of absorption devices is a device that recovers carbon dioxide by bringing the absorbing liquid into gas-liquid contact with the gas and absorbing carbon dioxide contained in the gas, and the carbon dioxide recovery system further comprises. A plurality of regenerating devices having the same number as the plurality of absorbing devices, and the plurality of absorbing devices and the plurality of regenerating devices, which regenerate the absorbed liquid by releasing carbon dioxide from the absorbing liquid that has absorbed the carbon dioxide by heating. It is a circulation system that can circulate the absorbing liquid between them, and the plurality of absorbing devices and the plurality of regenerating devices are connected so as to form a pair, and the absorbing liquid is connected between the paired absorbing device and the regenerating device. The control mechanism includes the circulation system in which the gas is circulated and a circulation adjustment mechanism capable of adjusting the flow rate of the absorption liquid circulating in the circulation system flowing through each of the plurality of absorption devices. In each of the above, the circulation adjusting mechanism can be controlled in response to the control of the adjusting mechanism so that the absorbing liquid flows at a flow rate corresponding to the flow rate of the supplied gas.

或いは、二酸化炭素の回収システムは、更に、二酸化炭素を吸収した吸収液から加熱により二酸化炭素を放出させて吸収液を再生する、前記複数の吸収装置より数が少ない１つ以上の再生装置と、前記複数の吸収装置と前記１つ以上の再生装置との間で吸収液を循環可能な循環系であって、前記複数の吸収装置で二酸化炭素を吸収した吸収液は、一旦統合されて前記１つ以上の再生装置に供給されて、前記１つ以上の再生装置で再生された吸収液は、前記複数の吸収装置へ分配還流されるように前記複数の吸収装置と前記１つ以上の再生装置とを接続する前記循環系と、前記循環系を循環する吸収液が前記複数の吸収装置の各々を流通する流量を調整可能な循環調整機構とを有し、前記制御機構は、前記複数の吸収装置の各々において、供給されるガスの流量に対応した流量で吸収液が流通するように、前記調整機構の制御に対応して前記循環調整機構を制御するように構成することができる。前記１つ以上の再生装置の数が複数である場合、前記循環系における前記複数の吸収装置と前記複数の再生装置との接続は、一旦統合された二酸化炭素を吸収した吸収液が前記複数の再生装置へ分配供給されて、前記複数の再生装置で再生された吸収液が一旦統合されて前記複数の吸収装置へ分配還流されるように構成すると良い。 Alternatively, the carbon dioxide recovery system further comprises one or more regeneration devices, which are fewer in number than the plurality of absorption devices, which regenerate the absorption solution by releasing carbon dioxide from the absorption solution that has absorbed carbon dioxide by heating. A circulation system capable of circulating an absorption liquid between the plurality of absorption devices and the one or more regeneration devices, and the absorption liquids that have absorbed carbon dioxide by the plurality of absorption devices are once integrated and described in the above 1. The plurality of absorption devices and the one or more regeneration devices so that the absorption liquid supplied to the one or more regeneration devices and regenerated by the one or more regeneration devices is distributed and refluxed to the plurality of absorption devices. It has the circulation system connecting the above and a circulation adjustment mechanism capable of adjusting the flow rate of the absorption liquid circulating in the circulation system flowing through each of the plurality of absorption devices, and the control mechanism has the plurality of absorptions. Each of the devices can be configured to control the circulation adjusting mechanism in response to the control of the adjusting mechanism so that the absorbing liquid flows at a flow rate corresponding to the flow rate of the supplied gas. When the number of the one or more regenerating devices is plural, the connection between the plurality of absorbing devices and the plurality of regenerating devices in the circulatory system is such that the absorbing liquid once integrated has absorbed carbon dioxide. It is preferable that the absorbing liquids that are distributed and supplied to the regenerating device and regenerated by the plurality of regenerating devices are once integrated and distributed and refluxed to the plurality of absorbing devices.

又、本発明の一態様によれば、二酸化炭素の回収方法は、化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収工程と、導入されるガスを前記複数の吸収工程に分配して供給する供給工程と、前記複数の吸収工程の各々へ供給するガスの流量を調整する調整工程と、導入されるガスの流量変動に応じて前記調整工程を制御して、ガスが供給される吸収工程におけるガスの流量が、吸収工程において効率的に処理可能なガス流量の最小値以上に維持されるように、前記複数の吸収工程の各々へ供給するガスの流量を変更する制御工程とを有することを要旨とする。 Further, according to one aspect of the present invention, the method for recovering carbon dioxide is a plurality of absorption steps for recovering carbon dioxide by a chemical absorption method, and a supply in which the introduced gas is distributed and supplied to the plurality of absorption steps. The gas in the step, the adjustment step of adjusting the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption steps, and the gas in the absorption step in which the gas is supplied by controlling the adjustment step according to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas. It is a gist to have a control step of changing the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption steps so that the flow rate of the gas is maintained at or above the minimum value of the gas flow rate that can be efficiently processed in the absorption step. And.

発電設備等の産業設備から排出される排ガスの流量変動に応じたガス分配によって、並列する複数の吸収装置の各々におけるガス流量が適正範囲に維持されるので、吸収装置の稼動効率が常時良好であり、操業時のエネルギー効率が良好な二酸化炭素の回収システムを提供可能である。 By distributing the gas according to the fluctuation of the flow rate of the exhaust gas discharged from the industrial equipment such as the power generation equipment, the gas flow rate in each of the plurality of parallel absorption devices is maintained in an appropriate range, so that the operation efficiency of the absorption device is always good. Therefore, it is possible to provide a carbon capture system with good energy efficiency during operation.

二酸化炭素の回収システムの第１の実施形態を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the 1st Embodiment of the carbon dioxide capture system. 二酸化炭素の回収システムの第２の実施形態を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the 2nd Embodiment of the carbon dioxide capture system. 二酸化炭素の回収システムの第３の実施形態を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the 3rd Embodiment of the carbon dioxide capture system. 二酸化炭素の回収システムの第４の実施形態を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the 4th Embodiment of the carbon dioxide capture system.

本発明の実施形態について、単に例として、添付の図面を参照して以下に説明する。実施形態において示す寸法、材料、その他の具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、本発明を限定するものではない。尚、明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また、本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。 Embodiments of the present invention will be described below, by way of example only, with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, other specific numerical values, etc. shown in the embodiments are merely examples for facilitating the understanding of the invention, and do not limit the present invention. In the specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are designated by the same reference numerals to omit duplicate description, and elements not directly related to the present invention are not shown. do.

本発明に係る二酸化炭素の回収システムは、例えば、図１のように概略的に記載することができ、化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収装置を有する。図１においては、並列する２つの吸収装置を有する回収システムを記載するが、本発明の構成は、吸収装置の数が多い回収システムにおいて、より有益性が高まり、並行処理における効率が改善できる。尚、図において、電気的接続は破線で示す。 The carbon dioxide recovery system according to the present invention can be roughly described, for example, as shown in FIG. 1, and has a plurality of absorption devices that recover carbon dioxide by a chemical absorption method. Although FIG. 1 describes a recovery system having two absorption devices in parallel, the configuration of the present invention can be more useful in a recovery system with a large number of absorption devices and can improve efficiency in parallel processing. In the figure, the electrical connection is shown by a broken line.

回収システム１は、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂと、導入されるガスＧを複数の吸収装置２Ａ，２Ｂに分配して供給可能な供給系とを有する。供給系は、出口側が複数の流路３ａ，３ｂに分岐した流路３によって構成され、流路３の入口側から導入されるガスＧが流路３を通じて吸収装置２Ａ，２Ｂの各々へ供給されるように、吸収装置２Ａ，２Ｂが流路３によって接続される。吸収装置２Ａ，２Ｂは、ガスＧに吸収液を気液接触させて、ガスＧに含まれる二酸化炭素を吸収液に吸収させ、これによって二酸化炭素がガスＧから回収される。この実施形態は、２つの吸収装置２Ａ，２Ｂを有し、ガスＧは２つの吸収装置へ分配して供給可能なように構成される。回収システム１は、更に、ガスの流量を調整可能な調整機構として、複数の流量調整弁４Ａ，４Ｂを有し、分岐した流路３ａ，３ｂの各々に設置される。従って、流量調整弁４Ａ，４Ｂの制御によって、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々へ供給するガスＧの流量を調整できる。流量調整弁４Ａ，４Ｂは、ガスＧの供給を停止できるので、流量調整弁４ａ，４Ｂの制御によって、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給するガス流量の変更だけでなく、複数の吸収装置２Ａ，２ＢのうちガスＧが供給される吸収装置の数の変更も可能である。 The recovery system 1 has a plurality of absorption devices 2A and 2B, and a supply system capable of distributing and supplying the introduced gas G to the plurality of absorption devices 2A and 2B. The supply system is composed of a flow path 3 whose outlet side is branched into a plurality of flow paths 3a and 3b, and gas G introduced from the inlet side of the flow path 3 is supplied to each of the absorption devices 2A and 2B through the flow path 3. As described above, the absorbers 2A and 2B are connected by the flow path 3. The absorption devices 2A and 2B bring the absorbing liquid into gas-liquid contact with the gas G to absorb the carbon dioxide contained in the gas G into the absorbing liquid, whereby the carbon dioxide is recovered from the gas G. This embodiment has two absorption devices 2A and 2B, and the gas G is configured to be distributed and supplied to the two absorption devices. The recovery system 1 further has a plurality of flow rate adjusting valves 4A and 4B as an adjusting mechanism capable of adjusting the gas flow rate, and is installed in each of the branched flow paths 3a and 3b. Therefore, the flow rate of the gas G supplied to each of the absorption devices 2A and 2B can be adjusted by controlling the flow rate adjusting valves 4A and 4B. Since the flow rate adjusting valves 4A and 4B can stop the supply of the gas G, the control of the flow rate adjusting valves 4a and 4B not only changes the gas flow rate supplied to each of the plurality of absorption devices 2A and 2B, but also absorbs a plurality of absorption devices. It is also possible to change the number of absorption devices to which the gas G is supplied among the devices 2A and 2B.

回収システム１は、更に、システムに導入されるガスＧの流量を検出する検出器５と、検出器５の検出値に基づいて流量調整弁４Ａ，４Ｂを制御する制御装置６とを有する。検出器５、及び、流量調整弁４Ａ，４Ｂの各々は、制御装置６と電気的に接続され、検出器５で検出した値は、電気信号として制御装置６へ送信される。制御装置６においては、吸収装置２Ａ，２Ｂにおけるガスの流量が、吸収装置２Ａ，２Ｂにおいて効率的に処理可能なガス流量の最小値以上（つまり、適正範囲内）に維持されるようなガスＧの供給配分が、演算処理によって決定される。この配分に従って、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給されるガスの流量に対応する制御信号が流量調整弁４Ａ，４Ｂの各々へ伝達される。つまり、検出器５及び制御装置６は、調整機構を制御する制御機構として機能して、導入されるガスＧの流量変動に応じて、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの各々へ供給するガスの流量を変更する。分岐した流路３ａ，３ｂには検出器７Ａ，７Ｂが各々設置され、流路３ａ，３ｂにおける実際のガス流量を検出する。検出器７Ａ，７Ｂは、流量調整弁４Ａ，４Ｂの電気接続系統に組み込まれ、これらの検出値を参照して、流量調整弁４Ａ，４Ｂによる流量調整が制御装置６で決定される供給配分に対応するように監視される。 The recovery system 1 further includes a detector 5 that detects the flow rate of the gas G introduced into the system, and a control device 6 that controls the flow rate adjusting valves 4A and 4B based on the detection value of the detector 5. Each of the detector 5 and the flow rate adjusting valves 4A and 4B is electrically connected to the control device 6, and the value detected by the detector 5 is transmitted to the control device 6 as an electric signal. In the control device 6, the gas G in which the gas flow rate in the absorption devices 2A and 2B is maintained at or above the minimum value (that is, within an appropriate range) of the gas flow rate that can be efficiently processed by the absorption devices 2A and 2B. The supply distribution of is determined by arithmetic processing. According to this distribution, a control signal corresponding to the flow rate of the gas supplied to each of the absorption devices 2A and 2B is transmitted to each of the flow rate adjusting valves 4A and 4B. That is, the detector 5 and the control device 6 function as a control mechanism for controlling the adjustment mechanism, and the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption devices 2A and 2B according to the flow rate fluctuation of the introduced gas G. To change. Detectors 7A and 7B are installed in the branched flow paths 3a and 3b, respectively, to detect the actual gas flow rate in the flow paths 3a and 3b. The detectors 7A and 7B are incorporated in the electrical connection system of the flow rate adjusting valves 4A and 4B, and the flow rate adjustment by the flow rate adjusting valves 4A and 4B is determined by the control device 6 with reference to these detected values. Monitored to correspond.

概して、吸収装置におけるガスの処理効率は、使用する充填材の性能に依存する。充填材の性能は、ＨＥＴＰ（１理論段数当たりの充填高さ）という数値で表され、この数値が小さい方が性能が良いと評価される。様々な充填材の性能評価において、ＨＥＴＰ値とＦファクター（ガス流量と、ガス密度の平方根との積）との関係が調査されており、公知の文献（参照：Anil Krishana JAMMULA, "NEW LIQUID HOLDUP, LOAD POINT AND FLOODING VELOCITY MODELS IN DIFFERENT REGIONS OF OPERATIONS FOR A ATRUCTURED PACKED COLUMN"(Dec. 2014), submitted to the Faculty of the Graduate College of the Oklahoma State University）によれば、ＨＥＴＰ値が低下して極小となる範囲が、Ｆファクターにおいて存在する（特に、上記文献の第７６頁、図４．９）。つまり、Ｆファクターがこの範囲以外の値であると、ＨＥＴＰ値が非常に高くなる。これは、Ｆファクターの要素であるガス流量が特定の範囲内にある時に充填材の性能が高くなることを意味する。つまり、吸収装置におけるガスの処理効率は、ガス流量との間に相関関係があり、良好な処理効率を達成可能である好適なガス流量の範囲が存在する。 In general, the efficiency of gas processing in an absorber depends on the performance of the filler used. The performance of the filler is expressed by a numerical value called HETP (filling height per theoretical plate number), and the smaller this numerical value is, the better the performance is evaluated. In the performance evaluation of various fillers, the relationship between the HETP value and the F factor (the product of the gas flow rate and the square root of the gas density) has been investigated, and known literature (see: Anil Krishana JAMMULA, "NEW LIQUID HOLDUP" , LOAD POINT AND FLOODING VELOCITY MODELS IN DIFFERENT REGIONS OF OPERATIONS FOR A ATRUCTURED PACKED COLUMN "(Dec. 2014), submitted to the Faculty of the Graduate College of the Oklahoma State University) There is a range in the F factor (particularly, page 76 of the above document, FIG. 4.9). That is, if the F factor is a value outside this range, the HETP value becomes very high. This means that the performance of the filler is improved when the gas flow rate, which is an element of the F factor, is within a specific range. That is, the gas processing efficiency in the absorber has a correlation with the gas flow rate, and there is a suitable gas flow rate range in which good processing efficiency can be achieved.

吸収装置の設計において、処理可能なガス流量（処理能力）は、空塔速度（充填材を装填しない状態でガスが流通可能な速度）以下の範囲で設定される。一般的な市販の充填材において、前述のＨＥＴＰ値が極小となるＦファクターの範囲は、概して０．５〜２．５程度であり、これを超えると、フラッディング（flooding）が起こる。従って、吸収装置は、運転可能範囲におけるガス流量が、０．５〜２．５のＦファクターに対応するガス流量の範囲内に最大限含まれるように設計するのが一般的であり、運転効率の観点から、処理可能なガス流量の最大値（最大処理能力）が０．５〜２．５のＦファクターに相当するように設定される。つまり、吸収装置における好適なガス流量範囲の最大値は、処理能力の１００％での運転時のガス流量となるように設計される。これは、Ｆファクターが０．５未満になる低い流量の範囲、つまり、好適なガス流量範囲から外れる流量範囲が存在するを意味する。これに従えば、吸収装置の好適なガス流量範囲は、装置に設定される最大流量を基準とする比率で、例えば、約０．２５〜１倍となる。そして、好適な流量範囲より低いガス流量においては、処理効率が顕著に減少して、吸収装置の稼動収支上好ましくない。故に、好適な流量範囲未満での処理は避けるべきである。この点に関して、複数の吸収装置を利用する回収システムにおいては、全吸収装置において好適な流量範囲未満である場合でも、一部の吸収装置への供給を停止することによって、他の吸収装置における流量を増加させて装置当たりの処理効率を改善することが可能である。つまり、ガス供給は、全ての吸収装置に対して均等分配する供給に限定する必要がない。従って、導入されるガスの流量が変動した際に、ガスを均等分配すると各吸収装置におけるガス流量が好適な流量範囲未満になる場合には、一部の吸収装置への供給を停止すれば良く、これにより、残りの吸収装置における流量が好適な流量範囲に達するように各吸収装置への供給流量を調整することができる。その結果、吸収装置を効率的に稼動することができる。 In the design of the absorber, the processable gas flow rate (processing capacity) is set in the range of the superficial velocity (the speed at which the gas can flow without the filler being loaded) or less. In a general commercially available filler, the range of the F factor at which the above-mentioned HETP value becomes the minimum is generally about 0.5 to 2.5, and if it exceeds this range, flooding occurs. Therefore, the absorber is generally designed so that the gas flow rate in the operable range is included in the gas flow rate range corresponding to the F factor of 0.5 to 2.5 as much as possible, and the operating efficiency is increased. From this point of view, the maximum value (maximum processing capacity) of the gas flow rate that can be processed is set to correspond to an F factor of 0.5 to 2.5. That is, the maximum value of the suitable gas flow rate range in the absorption device is designed to be the gas flow rate during operation at 100% of the processing capacity. This means that there is a low flow rate range where the F factor is less than 0.5, i.e., there is a flow rate range outside the suitable gas flow rate range. According to this, the suitable gas flow rate range of the absorption device is, for example, about 0.25 to 1 times the ratio based on the maximum flow rate set in the device. Then, when the gas flow rate is lower than the suitable flow rate range, the processing efficiency is remarkably reduced, which is not preferable in terms of the operating balance of the absorber. Therefore, treatment below a suitable flow rate range should be avoided. In this regard, in a recovery system using a plurality of absorption devices, even if the flow rate is less than the suitable flow rate range for all the absorption devices, the flow rate in the other absorption devices is stopped by stopping the supply to some of the absorption devices. It is possible to improve the processing efficiency per device. That is, the gas supply need not be limited to a supply that is evenly distributed to all the absorbers. Therefore, when the flow rate of the gas to be introduced fluctuates and the gas flow rate in each absorption device is less than the suitable flow rate range when the gas is evenly distributed, the supply to some of the absorption devices may be stopped. As a result, the supply flow rate to each absorption device can be adjusted so that the flow rate in the remaining absorption devices reaches a suitable flow rate range. As a result, the absorber can be operated efficiently.

従って、回収システム１において実施される二酸化炭素の回収方法は、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂにおいて化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収工程と、導入されるガスを複数の吸収工程に分配して供給する供給工程と、流量調整弁４Ａ，４Ｂを用いて複数の吸収工程の各々へ供給するガスの流量を調整する調整工程と、制御装置６によって、導入されるガスの流量変動に応じて調整工程を制御する制御工程とを有する。制御工程においては、吸収工程におけるガスの流量が、吸収工程において効率的に処理可能なガス流量の最小値以上に維持されるように、複数の吸収工程の各々へ供給するガスの流量を変更する。このような制御の一例を、図１を参照しながら、以下に具体的に説明する。但し、図１の回収システムにおける吸収装置の数は２であるが、以下においては、吸収装置の数が２つである場合に限らず、数ｎの吸収装置を有するシステムに一般化して説明する。 Therefore, the carbon dioxide recovery method implemented in the recovery system 1 is a plurality of absorption steps for recovering carbon dioxide by a chemical absorption method in a plurality of absorption devices 2A and 2B, and a gas to be introduced is distributed to a plurality of absorption steps. In response to fluctuations in the flow rate of the gas introduced by the control device 6, the supply step of adjusting the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption steps using the flow rate adjusting valves 4A and 4B, and the control device 6 It has a control process for controlling the adjustment process. In the control step, the flow rate of the gas supplied to each of the plurality of absorption steps is changed so that the flow rate of the gas in the absorption step is maintained above the minimum value of the gas flow rate that can be efficiently processed in the absorption step. .. An example of such control will be specifically described below with reference to FIG. However, although the number of absorption devices in the recovery system of FIG. 1 is 2, the following description will be generalized to a system having several n absorption devices, not limited to the case where the number of absorption devices is two. ..

図１の回収システム１は、実質的に等しい処理能力を有する複数の吸収装置２Ａ，２Ｂを用いて構成される。従って、各吸収装置において効率的に処理可能な好適なガス流量の範囲は、実質的に同一と見なして良く、好適な流量範囲の最大値Ｖ（最大流量）及び最小値ｖ（最小流量）を全吸収装置に統一して設定することができる。導入されるガスの均等分配によって全ての吸収装置へ最小流量以上でガスを供給可能である時、導入されるガス流量ｓは、下記式で示す条件１を満たし、最小値ｖと吸収装置の数ｎとの積以上である（式中、ｎは２以上の自然数）、ｒは最小値と最大値との比率（＝ｖ／Ｖ））。 The recovery system 1 of FIG. 1 is configured by using a plurality of absorption devices 2A and 2B having substantially the same processing capacity. Therefore, the range of suitable gas flow rates that can be efficiently processed in each absorption device can be regarded as substantially the same, and the maximum value V (maximum flow rate) and the minimum value v (minimum flow rate) of the suitable flow rate range can be regarded as substantially the same. It can be set uniformly for all absorption devices. When the gas can be supplied to all the absorption devices at a flow rate equal to or higher than the minimum flow rate by equal distribution of the introduced gas, the gas flow rate s to be introduced satisfies the condition 1 shown by the following formula, and the minimum value v and the number of absorption devices are satisfied. It is equal to or greater than the product of n (in the equation, n is a natural number of 2 or more), and r is the ratio of the minimum value to the maximum value (= v / V).

（数１）
ｓ ≧ ｎｖ ＝ ｎ（ｒＶ） ［条件１］ (Number 1)
s ≧ nv = n (rV) [Condition 1]

導入されるガス流量ｓが、上記の範囲内で変動する場合、各吸収装置へ供給するガスの流量は、一律に変更して均等分配を維持するように調整する、或いは、吸収装置の一部のみについて供給流量を変更するように調整する、の何れの調整でも、導入ガスの流量変動に対応することが可能である。 When the gas flow rate s to be introduced fluctuates within the above range, the flow rate of the gas supplied to each absorption device is uniformly changed and adjusted to maintain even distribution, or a part of the absorption device. It is possible to respond to fluctuations in the flow rate of the introduced gas by any adjustment of adjusting the supply flow rate so as to change only the supply flow rate.

一方、導入されるガス流量ｓが条件１を満たさない（つまり、ｓ＜ｎｖ）時は、一部（少なくとも１つ）の吸収装置への供給を停止して、残りの吸収装置における流量が最小値ｖ以上に維持されるように制御される。この場合、供給を停止する吸収装置の数ｎ’（ｎ’は、ｎ以下の自然数）は、下記式で示す条件２を満たすような値になる。 On the other hand, when the gas flow rate s to be introduced does not satisfy the condition 1 (that is, s <nv), the supply to a part (at least one) absorption device is stopped, and the flow rate in the remaining absorption device is the minimum. It is controlled to be maintained above the value v. In this case, the number n'(n'is a natural number of n or less) of the absorption devices for which the supply is stopped is a value that satisfies the condition 2 represented by the following formula.

（数２）
（ｎｖ−ｓ）／ｖ ≦ ｎ’ ≦ ｎ−（ｓ／Ｖ） ［条件２］ (Number 2)
(Nv-s) / v ≤ n'≤ n- (s / V) [Condition 2]

条件２を満たす数ｎ’が複数存在する時、導入ガスの流量変動によって停止される吸収装置の数ｎ’の変動が少なくなるように数ｎ’を決定するとよく、これにより、吸収装置の停止／再稼動の繰り返しを少なくすることができる。好ましくは、停止する数ｎ’を変更せずに、各吸収装置への供給流量の変更によって対応できるとよい。 When there are a plurality of number n'satisfying the condition 2, it is preferable to determine the number n'so that the fluctuation of the number n'of the absorption device stopped due to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas is small, whereby the absorption device is stopped. / It is possible to reduce the repetition of restarting. Preferably, it is preferable that the number n'to be stopped is not changed, and the supply flow rate to each absorption device can be changed.

或いは、処理可能なガス流量の最大値Ｖでガスが供給される吸収装置の数が最大になるような分配供給を行ってもよい。この場合には、条件２を満たす数ｎ’の最大値を求めて、数ｎ’の吸収装置への供給を停止する。更に、下記式の条件３を満たす数ｘ（ｘは、ｎ以下の自然数）の最大値を求めて、数ｘの吸収装置における供給流量は最大値Ｖに設定する。残りの数（ｎ−ｎ’−ｘ）の吸収装置における供給流量は、（ｓ−ｘＶ）／（ｎ−ｎ’−ｘ）となる。 Alternatively, the distributed supply may be performed so that the number of absorption devices to which the gas is supplied at the maximum value V of the gas flow rate that can be processed is maximized. In this case, the maximum value of the number n'that satisfies the condition 2 is obtained, and the supply to the absorption device of the number n'is stopped. Further, the maximum value of the number x (x is a natural number of n or less) satisfying the condition 3 of the following equation is obtained, and the supply flow rate in the absorption device of the number x is set to the maximum value V. The supply flow rate of the remaining number (n−n′−x) in the absorber is (s−xV) / (n−n′−x).

（数３）
ｖ ≦ ｓ−ｘＶ ［条件３］ (Number 3)
v ≤ s-xV [Condition 3]

簡単な例として、ガス流量の適正範囲の最小値ｖと最大値Ｖとの比率ｒ（＝ｖ／Ｖ）が２５％である吸収装置を２つ有する回収システムを想定する。回収システムに導入されるガスの流量が、最大処理流量（２Ｖ）の２５％未満（０．５Ｖ未満）である時、１つの吸収装置を停止することで、適正範囲のガス流量での処理が可能である。例えば、最大処理流量の１５％（０．３Ｖ）の時に、１つの吸収装置を停止して、もう１つの吸収装置に全てのガスを供給すると、この吸収装置におけるガス流量は、最大値Ｖの３０％になり、適正範囲の最小値を超える。吸収装置の数が２の場合、導入されるガス流量が最大処理流量の１２．５％以上であれば、適正範囲のガス流量での処理が可能である。吸収装置の数がｎの場合には、導入ガス流量が、最大処理流量の２５／ｎ％以上において、適正範囲のガス流量での処理が可能となる。 As a simple example, assume a recovery system having two absorbers in which the ratio r (= v / V) of the minimum value v and the maximum value V in the appropriate range of gas flow rate is 25%. When the flow rate of the gas introduced into the recovery system is less than 25% (less than 0.5V) of the maximum processing flow rate (2V), by stopping one absorption device, processing with a gas flow rate within an appropriate range can be performed. It is possible. For example, when one absorption device is stopped and all the gas is supplied to the other absorption device at 15% (0.3V) of the maximum processing flow rate, the gas flow rate in this absorption device becomes the maximum value V. It becomes 30% and exceeds the minimum value in the appropriate range. When the number of absorption devices is 2, if the gas flow rate to be introduced is 12.5% or more of the maximum processing flow rate, processing can be performed with a gas flow rate within an appropriate range. When the number of absorption devices is n, the introduced gas flow rate is 25 / n% or more of the maximum processing flow rate, and the gas flow rate in an appropriate range can be used for processing.

上述のような供給制御は、検出器５、制御装置６、及び、流量調整弁４Ａ，４Ｂによって実施される。制御装置６は、検出器５によって検出されるガス流量ｓに基づいて、上記の条件１について判断し、検出器５によって検出されるガス流量ｓが、最小値ｖと複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの数ｎとの積以上である時は、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給するガス流量が最小値ｖ以上になるように、各流量調整弁４Ａ，４Ｂを制御する電気信号を送信し、それにより、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの全てにガスＧが供給される。この際に、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの全てに実質的に均等にガスを供給する場合は、導入されるガス流量ｓを吸収装置の数ｎで除した値を、各吸収装置への供給流量として決定し、これに対応した電気信号を送信して流量調整弁４Ａ，４Ｂを制御する。 The supply control as described above is carried out by the detector 5, the control device 6, and the flow rate adjusting valves 4A and 4B. The control device 6 determines the above condition 1 based on the gas flow rate s detected by the detector 5, and the gas flow rate s detected by the detector 5 has a minimum value v and a plurality of absorption devices 2A and 2B. When the product is equal to or greater than the product of the number n, an electric signal for controlling the flow rate adjusting valves 4A and 4B is transmitted so that the gas flow rates supplied to each of the plurality of absorption devices 2A and 2B are equal to or greater than the minimum value v. As a result, the gas G is supplied to all of the plurality of absorbers 2A and 2B. At this time, when gas is supplied to all of the plurality of absorption devices 2A and 2B substantially evenly, the value obtained by dividing the introduced gas flow rate s by the number n of the absorption devices is supplied to each absorption device. It is determined as the flow rate, and the corresponding electric signal is transmitted to control the flow rate adjusting valves 4A and 4B.

検出器５によって検出されるガス流量ｓが、最小値ｖと複数の吸収装置の数ｎとの積未満である時は、供給を停止する吸収装置の数ｎ’として、上記条件２を満たすｎ’を決定する。この決定に基づいて、複数の吸収装置の一部への供給を停止して他の吸収装置におけるガス流量を最小値ｖ以上に維持するように流量調整弁を制御する電気信号を送信する。それにより、ガスＧが供給される吸収装置においては、好適な流量範囲での供給が確保される。この時、ガスが供給される吸収装置におけるガス流量が実質的に等しくなるように調整する場合は、数（ｎ−ｎ’）の吸収装置へのガス流量ｓが、ｓ／（ｎ−ｎ’）になるように流量調整弁４Ａ，４Ｂが制御される。 When the gas flow rate s detected by the detector 5 is less than the product of the minimum value v and the number n of the plurality of absorption devices, the number n'of the absorption devices for stopping the supply is set to satisfy the above condition 2. 'Determine. Based on this determination, an electrical signal is transmitted to control the flow control valve so as to stop the supply to some of the plurality of absorbers and maintain the gas flow rate in the other absorbers above the minimum value v. As a result, in the absorption device to which the gas G is supplied, the supply in a suitable flow rate range is ensured. At this time, when adjusting so that the gas flow rates in the absorption device to which the gas is supplied are substantially equal, the gas flow rate s to the number (n-n') of the absorption devices is s / (n-n'). ), The flow rate adjusting valves 4A and 4B are controlled.

図１の回収システム１は、更に、複数の再生装置８Ａ，８Ｂを有し、再生装置の数は、吸収装置と同数である。更に、回収システム１は、供給路９Ａ，９Ｂ及び還流路１０Ａ，１０Ｂによって構成される循環系を有し、循環系は、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂと複数の再生装置８Ａ，８Ｂとが各々対をなすように接続する２つの経路を形成する。従って、吸収液は、循環系を通じて、対をなす吸収装置２Ａと再生装置８Ａ、及び、吸収装置２Ｂと再生装置８Ｂの間で、互いに独立して循環可能である。再生装置８Ａ，８Ｂは、二酸化炭素を吸収した吸収液を加熱し、吸収液から二酸化炭素を放出させて吸収液を再生する装置である。吸収装置２Ａ，２Ｂの各々においてガスＧから二酸化炭素を吸収した吸収液Ｌ’は、再生装置８Ａ，８Ｂの各々において、加熱により再生され、再生された吸収液Ｌは、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に還流される。吸収液Ｌ，Ｌ’の循環は、循環系に設けられるポンプＰによって付勢される。 The recovery system 1 of FIG. 1 further has a plurality of regenerating devices 8A and 8B, and the number of regenerating devices is the same as that of the absorbing device. Further, the recovery system 1 has a circulatory system composed of supply paths 9A and 9B and return paths 10A and 10B, and the circulatory system includes a plurality of absorption devices 2A and 2B and a plurality of regeneration devices 8A and 8B, respectively. Form two paths that connect in pairs. Therefore, the absorbing liquid can be circulated independently of each other through the circulation system between the paired absorbing device 2A and the regenerating device 8A, and the absorbing device 2B and the regenerating device 8B. The regenerating devices 8A and 8B are devices that heat the absorbing liquid that has absorbed carbon dioxide and release carbon dioxide from the absorbing liquid to regenerate the absorbing liquid. The absorption liquid L'that absorbed carbon dioxide from the gas G in each of the absorption devices 2A and 2B is regenerated by heating in each of the regeneration devices 8A and 8B, and the regenerated absorption liquid L is in the absorption devices 2A and 2B. It is refluxed to each. The circulation of the absorption liquids L and L'is urged by the pump P provided in the circulation system.

前述のように、回収システム１に導入されるガスＧの流量変動によって、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々へ供給されるガスの流量が変更される。これに応じて、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給される（循環される）吸収液の流量も適正量に調整するために、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂが、供給路９Ａ，９Ｂ及び還流路１０Ａ，１０Ｂに各々設置されている。つまり、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂは、循環系を循環する吸収液が複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの各々を流通する流量を調整可能な循環調整機構として機能する。回収システム１の制御機構は、調整機構の制御に対応して循環調整機構を制御し、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂの各々において、供給されるガスの流量に対応した流量で吸収液が流通するように構成される。具体的には、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂは、制御装置６と電気的に接続され、吸収装置２Ａ，２Ｂに分配供給されるガス流量が制御装置６において決定されると、それに対応した流量で吸収液が吸収装置２Ａ，２Ｂを通じて循環するように、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂが制御される。吸収液の流量を監視するために、検出器１３Ａ，１３Ｂ，１４Ａ，１４Ｂが循環系に付設され、これらの検出値に基づいて、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂが適切に流量を調整するように電気的接続を介して制御される。吸収液の流量は、吸収装置に供給されるガスの流量に比例するように調整してよいが、これに限定されず、使用する吸収液の吸収特性を考慮して吸収液の流量調整を設定することができる。 As described above, the flow rate of the gas supplied to each of the absorbers 2A and 2B is changed by the fluctuation of the flow rate of the gas G introduced into the recovery system 1. Correspondingly, in order to adjust the flow rate of the absorbing liquid supplied (circulated) to each of the absorbing devices 2A and 2B to an appropriate amount, the flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A and 12B have the supply paths 9A, It is installed in 9B and the return passages 10A and 10B, respectively. That is, the flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A, and 12B function as a circulation adjusting mechanism capable of adjusting the flow rate of the absorbing liquid circulating in the circulation system flowing through each of the plurality of absorbing devices 2A and 2B. The control mechanism of the recovery system 1 controls the circulation adjustment mechanism in response to the control of the adjustment mechanism, and the absorption liquid flows in each of the plurality of absorption devices 2A and 2B at a flow rate corresponding to the flow rate of the supplied gas. It is configured as follows. Specifically, the flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A, and 12B are electrically connected to the control device 6, and when the gas flow rate distributed and supplied to the absorption devices 2A and 2B is determined by the control device 6, the flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A, and 12B are electrically connected to the control device 6. The flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A, 12B are controlled so that the absorbing liquid circulates through the absorbing devices 2A and 2B at the corresponding flow rates. Detectors 13A, 13B, 14A, 14B are attached to the circulation system to monitor the flow rate of the absorbing liquid, and the flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A, 12B appropriately adjust the flow rate based on these detected values. It is controlled via an electrical connection so that it does. The flow rate of the absorption liquid may be adjusted so as to be proportional to the flow rate of the gas supplied to the absorption device, but the flow rate is not limited to this, and the flow rate adjustment of the absorption liquid is set in consideration of the absorption characteristics of the absorption liquid to be used. can do.

従って、吸収液は、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給されるガスＧの流量に対応して調整される適正流量で、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々の上部に供給され、充填材が装填される気液接触部Ｆを流下する間にガスＧから二酸化炭素を吸収する。吸収装置２Ａ，２Ｂの底部に流下して一時貯留された吸収液Ｌ’は、再生装置８Ａ，８Ｂの上部に上述の適正流量で供給され、充填材が装填される気液接触部Ｆ’を流下する間にリボイラＲｅによって加熱されて二酸化炭素を放出し、吸収液は再生される。再生装置８Ａ，８Ｂの底部に一時貯留された吸収液Ｌは、吸収装置２Ａ，２Ｂの上部に還流される前に、循環系に設けられる熱交換器Ｅにおいて、再生装置８Ａ，８Ｂへ供給される吸収液との熱交換によって冷却され、更に、水冷式の冷却器Ｒａにおいて十分に冷却される。 Therefore, the absorbing liquid is supplied to the upper part of each of the absorbing devices 2A and 2B at an appropriate flow rate adjusted according to the flow rate of the gas G supplied to each of the absorbing devices 2A and 2B, and the filler is loaded. It absorbs carbon dioxide from the gas G while flowing down the gas-liquid contact portion F. The absorbing liquid L'flowing down to the bottom of the absorbing devices 2A and 2B and temporarily stored is supplied to the upper part of the regenerating devices 8A and 8B at the above-mentioned appropriate flow rate, and the gas-liquid contact portion F'loaded with the filler is loaded. During the flow, it is heated by the reboiler Re to release carbon dioxide, and the absorption liquid is regenerated. The absorbing liquid L temporarily stored at the bottom of the regenerating devices 8A and 8B is supplied to the regenerating devices 8A and 8B in the heat exchanger E provided in the circulation system before being returned to the upper part of the absorbing devices 2A and 2B. It is cooled by heat exchange with the absorbing liquid, and is further cooled sufficiently in the water-cooled cooler Ra.

吸収装置２Ａ，２Ｂの各々において、吸収液によって二酸化炭素が除去されたガスＧ’は、装置上部で冷却された後に、頂部に各々接続される排気路１５ａ，１５ｂを通じて排出されて、排気路１５ａ，１５ｂが統合された排気路１５から外部へ放出される。又、再生装置８Ａ，８Ｂの各々において、吸収液から放出される二酸化炭素Ｃは、装置上部で冷却された後に、頂部に各々接続される回収路１６ａ，１６ｂを通じて排出される。回収路１６ａ，１６ｂの各々には、水冷式の冷却器Ｒａ及び気液分離器Ｓが設けられ、二酸化炭素Ｃは、冷却器Ｒａによって十分に冷却されて水蒸気が凝縮する。凝縮水は、気液分離器Ｓにおいて二酸化炭素Ｃから分離除去されて再生装置の上部へ還流され、二酸化炭素Ｃの冷却に利用される。凝縮水が除去された二酸化炭素Ｃは、回収路１６ａ，１６ｂが統合された回収路１６から回収される。回収された二酸化炭素Ｃは、液化製品の調製、土壌中への埋設処理等に適宜使用することができる。 In each of the absorption devices 2A and 2B, the gas G'from which carbon dioxide has been removed by the absorption liquid is cooled at the upper part of the device and then discharged through the exhaust passages 15a and 15b connected to the top, respectively, and the exhaust passage 15a. , 15b are discharged to the outside from the integrated exhaust passage 15. Further, in each of the regenerating devices 8A and 8B, the carbon dioxide C released from the absorbing liquid is cooled at the upper part of the device and then discharged through the recovery paths 16a and 16b connected to the tops, respectively. A water-cooled cooler Ra and a gas-liquid separator S are provided in each of the recovery paths 16a and 16b, and the carbon dioxide C is sufficiently cooled by the cooler Ra to condense water vapor. The condensed water is separated and removed from the carbon dioxide C in the gas-liquid separator S, returned to the upper part of the regenerator, and used for cooling the carbon dioxide C. The carbon dioxide C from which the condensed water has been removed is recovered from the recovery path 16 in which the recovery paths 16a and 16b are integrated. The recovered carbon dioxide C can be appropriately used for preparation of liquefied products, burial treatment in soil, and the like.

吸収液の流量は、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給されるガスＧの流量変動に応じて変更されるので、これに対応して、再生装置８Ａ，８Ｂの各々において吸収液の再生に必要な熱エネルギーの供給量も変動する。従って、再生装置８Ａ，８Ｂの各々におけるリボイラＲｅからの供給熱量を、ガスＧの供給流量の変動に応じて調整可能なように構成される。具体的には、リボイラＲｅへ供給されるスチームの流量を、流量調整弁等（図示は省略する）を用いて変更することで、再生装置８Ａ，８Ｂの各々への供給熱量を調節することができる。制御装置６との電気接続によって熱量供給の自動制御を行うようにするとよい。尚、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に供給されるガスの流量変動によって、再生装置８Ａ，８Ｂの各々から放出される二酸化炭素Ｃの流量も変動するので、必要であれば、冷却器Ｒａにおける冷却効率を調整可能なように構成してもよい。例えば、冷却器Ｒａに供給される冷却水の流量を変更することによって、二酸化炭素Ｃの流量変動に対応することができる。 Since the flow rate of the absorbing liquid is changed according to the flow rate fluctuation of the gas G supplied to each of the absorbing devices 2A and 2B, it is necessary to regenerate the absorbing liquid in each of the regenerating devices 8A and 8B in response to this. The amount of heat energy supplied also fluctuates. Therefore, the amount of heat supplied from the reboiler Re in each of the regenerating devices 8A and 8B is configured to be adjustable according to the fluctuation of the supply flow rate of the gas G. Specifically, the amount of heat supplied to each of the regenerating devices 8A and 8B can be adjusted by changing the flow rate of steam supplied to the reboiler Re using a flow rate adjusting valve or the like (not shown). can. It is preferable to automatically control the heat supply by the electric connection with the control device 6. Since the flow rate of carbon dioxide C released from each of the regenerating devices 8A and 8B also fluctuates due to the fluctuation of the flow rate of the gas supplied to each of the absorbing devices 2A and 2B, cooling in the cooler Ra is necessary. It may be configured so that the efficiency can be adjusted. For example, by changing the flow rate of the cooling water supplied to the cooler Ra, it is possible to cope with the fluctuation of the flow rate of carbon dioxide C.

上述においては、実質的に等しい処理能力を有する複数の吸収装置２Ａ，２Ｂを用いて構成される回収システム１について記載している。しかし、本発明は、複数の吸収装置が同等の処理能力を有するものに限定されず、複数の吸収装置における処理能力（最大処理流量）は異なっていても良い。図２の回収システム２０は、処理能力が異なる複数の吸収装置を有するシステムの一例である。この回収システム２０は、３つの吸収装置２Ａ，２Ｃ，２Ｄと、これらの各々に対になって設けられる３つの再生装置８Ａ，８Ｃ，８Ｄとを有し、吸収装置２Ａ及び再生装置８Ａの処理能力が最大であり、吸収装置２Ｄ及び再生装置８Ｄの処理能力が最小である。 In the above description, the recovery system 1 configured by using a plurality of absorption devices 2A and 2B having substantially the same processing capacity is described. However, the present invention is not limited to those in which a plurality of absorption devices have the same processing capacity, and the processing capacity (maximum processing flow rate) in the plurality of absorption devices may be different. The recovery system 20 of FIG. 2 is an example of a system having a plurality of absorption devices having different processing capacities. The recovery system 20 has three absorption devices 2A, 2C, and 2D, and three reproduction devices 8A, 8C, and 8D provided in pairs with each of the absorption devices 2A, 2C, and 8D, and processes the absorption devices 2A and the reproduction device 8A. The capacity is maximum, and the processing capacity of the absorption device 2D and the reproduction device 8D is the minimum.

回収システム２０に導入されるガスＧの流量は、検出器５によって検出され、ガスＧの流量が変化したら、制御装置６は、検出器５の検出値に基づいて、ガスの供給を停止する吸収装置の有無及び数を決定する。これに従って、流路３ａ、３ｃ、３ｄ上の流量調整弁４Ａ，４Ｃ，４Ｄが制御され、各吸収装置へ分配供給されるガスの流量が調整される。検出器７Ａ，７Ｃ，７Ｄにおけるガス流量の検出値に基づいて、流量調整が的確であるか監視される。更に、各吸収装置へ供給されるガスの流量に応じて、制御装置６は、電気接続を通じて、供給路９Ａ，９Ｃ，９Ｄ上の流量調整弁１１Ａ，１１Ｃ，１１Ｄ、及び、還流路１０Ａ，１０Ｃ，１０Ｄ上の流量調整弁１２Ａ，１２Ｃ，１２Ｄを制御する。この制御によって、供給路及び還流路を循環する吸収液の流量も適正に調整される。吸収液の循環流量の調整に伴って、再生エネルギーの供給量についても、供給配分が決定されたガスの流量に基づいて前述と同様に調整することができる。 The flow rate of the gas G introduced into the recovery system 20 is detected by the detector 5, and when the flow rate of the gas G changes, the control device 6 stops the supply of the gas based on the detection value of the detector 5. Determine the presence and number of devices. According to this, the flow rate adjusting valves 4A, 4C, and 4D on the flow paths 3a, 3c, and 3d are controlled, and the flow rate of the gas distributed and supplied to each absorption device is adjusted. Based on the detected values of the gas flow rate in the detectors 7A, 7C, 7D, it is monitored whether the flow rate adjustment is accurate. Further, according to the flow rate of the gas supplied to each absorption device, the control device 6 sets the flow rate adjusting valves 11A, 11C, 11D, and the return paths 10A, 10C on the supply paths 9A, 9C, 9D through the electrical connection. , 10D Flow rate control valves 12A, 12C, 12D are controlled. By this control, the flow rate of the absorbing liquid circulating in the supply path and the return path is also properly adjusted. Along with the adjustment of the circulating flow rate of the absorbing liquid, the supply amount of the renewable energy can also be adjusted in the same manner as described above based on the flow rate of the gas whose supply distribution is determined.

回収システム２０において、導入されるガスＧの流量が変動した時にガスの供給を停止する吸収装置の有無及び数は、各吸収装置におけるガス流量の適正範囲の最低値を合算した合計値に基づいて決定される。導入されるガスＧの流量がこの合計値を下回った場合に、一部の吸収装置へのガス供給が停止され、残りの吸収装置へ供給されるガス流量が適正範囲の最低値以上になるように調整される。この調整として、例えば、導入されるガスＧの流量と最低値の合計値との差が小さい時には、処理能力（又は最低値）が小さい吸収装置を停止し、差が大きい時は、処理能力（又は最低値）が大きい吸収装置を停止するような調整が挙げられる。導入されるガスＧの流量変動がある程度の幅内で繰り返される場合、この流動変動の幅が、吸収装置におけるガス流量の適正範囲の幅の合計に収まるように、ガスを供給する吸収装置を選択すると、吸収装置の停止／再稼動の繰り返しを少なくすることができる。従って、この点に関しては、処理能力が小さい吸収装置への供給を優先的に停止するような供給配分が有利になる。 In the recovery system 20, the presence / absence and number of absorption devices that stop the gas supply when the flow rate of the introduced gas G fluctuates is based on the total value obtained by adding the minimum values of the appropriate range of the gas flow rate in each absorption device. It is determined. When the flow rate of the introduced gas G falls below this total value, the gas supply to some of the absorbers is stopped so that the gas flow rate supplied to the remaining absorbers is equal to or higher than the minimum value in the appropriate range. Is adjusted to. As this adjustment, for example, when the difference between the flow rate of the introduced gas G and the total value of the minimum value is small, the absorber having a small processing capacity (or the minimum value) is stopped, and when the difference is large, the processing capacity (or the processing capacity (or the minimum value)) is stopped. Alternatively, adjustments may be made to stop the absorber having a large (minimum value). When the flow rate fluctuation of the introduced gas G is repeated within a certain range, the absorption device that supplies the gas is selected so that the width of this flow fluctuation falls within the total width of the appropriate range of the gas flow rate in the absorption device. Then, the repetition of stopping / restarting the absorber can be reduced. Therefore, in this respect, it is advantageous to allocate the supply so as to preferentially stop the supply to the absorption device having a small processing capacity.

図１，２の回収システムは、吸収装置と再生装置とが対を成すように、吸収装置と同数の再生装置が設けられる実施形態であるが、本発明は、この点に関して更に変形することが可能である。具体的には、図３の回収システム２１に示すように、複数の吸収装置と、吸収装置より数が少ない再生装置とを有するように回収システムを構成してもよい。つまり、再生装置の数は、１つ以上であって良く、単数でも複数でも良い。再生装置の稼動には、再生エネルギーを安定して供給する必要があり、特に加圧下での再生では、圧力条件も安定させる必要がある。従って、再生装置を一旦停止すると、再稼動する前に加熱及び圧力条件を安定化させる時間が必要となり、ガスの供給配分及び吸収液の流量調整を行う際の律速段階となるのを避けるには慣らし運転が必要となり得る。又、停止／再稼動の繰り返しは、再生装置に与える負荷も増大させるので、再生装置の停止／再稼動は、可能な限り回避することが好ましい。複数の吸収装置のうちの一部が停止した際に再生装置の停止を伴わなければ、システムに導入されるガスＧの流量変動に対してより迅速に対応することができるので、システム全体としての処理効率やメンテナンス等の点において有利である。再生装置の処理能力は、再生エネルギーの供給に依存し、設計の幅は吸収装置に比べて広いので、複数の吸収装置から供給される吸収液の再生を単独で処理可能なように再生装置を設計することが可能である。 The recovery system of FIGS. 1 and 2 is an embodiment in which the same number of regenerators as the absorbers are provided so that the absorber and the regenerator are paired, but the present invention may be further modified in this respect. It is possible. Specifically, as shown in the recovery system 21 of FIG. 3, the recovery system may be configured to have a plurality of absorption devices and a regeneration device having a smaller number than the absorption devices. That is, the number of playback devices may be one or more, and may be one or more. In order to operate the regeneration device, it is necessary to stably supply renewable energy, and especially in regeneration under pressure, it is also necessary to stabilize the pressure condition. Therefore, once the regenerator is stopped, it takes time to stabilize the heating and pressure conditions before restarting, and it is necessary to avoid the rate-determining step when adjusting the gas supply distribution and the flow rate of the absorbing liquid. Break-in may be required. Further, since the repeated stop / restart also increases the load applied to the reproduction device, it is preferable to avoid the stop / restart of the reproduction device as much as possible. If the regeneration device is not stopped when a part of the plurality of absorption devices is stopped, it is possible to respond more quickly to the fluctuation of the flow rate of the gas G introduced into the system, so that the system as a whole can respond more quickly. It is advantageous in terms of processing efficiency and maintenance. The processing capacity of the regenerator depends on the supply of renewable energy, and the range of design is wider than that of the absorber. It is possible to design.

図３の回収システム２１は、図１と同様に２つの吸収装置２Ａ，２Ｂを有するが、再生装置８Ｅは１つのみである。回収システム２１に導入されるガスＧを吸収装置２Ａ，２Ｂへ供給する供給系は、図１と同様に構成される。つまり、ガスＧを吸収装置２Ａ，２Ｂへ分配供給可能なように、流路３が流路３ａ，３ｂに分岐して吸収装置２Ａ，２Ｂの各々に接続される。回収システム２１は、図１と同様に、複数の流量調整弁４Ａ，４Ｂを有して分岐した流路３ａ，３ｂの各々に設置されるので、流量調整弁４Ａ，４Ｂの制御によって、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々へ供給するガスＧの流量調整、及び、ガスＧが供給される吸収装置の数の変更が可能である。 The recovery system 21 of FIG. 3 has two absorption devices 2A and 2B as in FIG. 1, but has only one reproduction device 8E. The supply system for supplying the gas G introduced into the recovery system 21 to the absorbers 2A and 2B is configured in the same manner as in FIG. That is, the flow path 3 is branched into the flow paths 3a and 3b and connected to each of the absorption devices 2A and 2B so that the gas G can be distributed and supplied to the absorption devices 2A and 2B. Since the recovery system 21 is installed in each of the flow paths 3a and 3b branched with the plurality of flow rate adjusting valves 4A and 4B as in FIG. 1, the absorption device is controlled by the flow rate adjusting valves 4A and 4B. It is possible to adjust the flow rate of the gas G supplied to each of 2A and 2B and change the number of absorption devices to which the gas G is supplied.

一方、回収システム２１における吸収装置と再生装置の数は異なるので、吸収液を循環させる循環系は、吸収装置と再生装置とを対にするようには接続しない。回収システム２１の循環系は、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂで二酸化炭素を吸収した吸収液Ｌ’が、一旦一つに統合されてから再生装置８Ｅに供給されて、再生装置８Ｅで再生された吸収液Ｌは、複数の吸収装置２Ａ，２Ｂへ分配還流されるように構成される。つまり、吸収装置２Ａの底部から吸収液Ｌ’を送出する供給路９ａと、吸収装置２Ｂの底部から吸収液Ｌ’を送出する供給路９ｂとが供給路９ｕに統合され、これが再生装置８Ｅの上部に接続される。再生装置８Ｅの底部から吸収液Ｌを送出する還流路１０ｕは、２つの還流路１０ａ，１０ｂに分岐され、これらの末端は、吸収装置２Ａ，２Ｂの上部に各々接続されるので、再生された吸収液Ｌは、複数の吸収装置へ分配還流される。供給路９ａ，９ｂには、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂが各々設置され、還流路１０ａ，１０ｂには、流量調整弁１２Ａ，１２Ｂが各々設置され、これらによって、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々を流通する吸収液の流量を調整できる。 On the other hand, since the number of absorption devices and regeneration devices in the recovery system 21 is different, the circulation system for circulating the absorbing liquid is not connected so as to pair the absorption devices and the regeneration devices. In the circulation system of the recovery system 21, the absorption liquids L'that have absorbed carbon dioxide in the plurality of absorption devices 2A and 2B are once integrated into one and then supplied to the regeneration device 8E and regenerated by the regeneration device 8E. The absorption liquid L is configured to be distributed and refluxed to a plurality of absorption devices 2A and 2B. That is, the supply path 9a that sends out the absorption liquid L'from the bottom of the absorption device 2A and the supply path 9b that sends out the absorption liquid L'from the bottom of the absorption device 2B are integrated into the supply path 9u, and this is integrated into the supply path 9u. Connected to the top. The reflux path 10u that sends out the absorption liquid L from the bottom of the regenerator 8E is branched into two reflux paths 10a and 10b, and these ends are connected to the upper portions of the absorption devices 2A and 2B, respectively, and thus are regenerated. The absorption liquid L is distributed and refluxed to a plurality of absorption devices. The flow rate adjusting valves 11A and 11B are installed in the supply paths 9a and 9b, respectively, and the flow rate adjusting valves 12A and 12B are installed in the return paths 10a and 10b, respectively. The flow rate of the absorbing liquid can be adjusted.

回収システム２１は、図１の実施形態と同様に、ガス供給の調整機構及び吸収液の循環調整機構を有し、制御機構は、図１の形態と同様に作用して、調整機構を制御すると共に、これに対応して循環調整機構を制御する。詳細には、回収システム２１に導入されるガスＧの流動変動に応じて、制御装置６は、流量調整弁４Ａ，４Ｂを制御して、吸収装置２Ａ，２Ｂへ供給されるガスの流量を適正に調整すると共に、流量調整弁１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂを制御して、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々を流通する吸収液の流量を適正に調整する。これにより、吸収装置２Ａ，２Ｂの各々において、供給されるガスの流量に対応した流量で吸収液が流通する。 The recovery system 21 has a gas supply adjusting mechanism and an absorbing liquid circulation adjusting mechanism as in the embodiment of FIG. 1, and the control mechanism operates in the same manner as in the embodiment of FIG. 1 to control the adjusting mechanism. At the same time, the circulation adjustment mechanism is controlled correspondingly. Specifically, the control device 6 controls the flow rate adjusting valves 4A and 4B according to the flow fluctuation of the gas G introduced into the recovery system 21, and appropriately adjusts the flow rate of the gas supplied to the absorption devices 2A and 2B. The flow rate adjusting valves 11A, 11B, 12A, and 12B are controlled to properly adjust the flow rate of the absorbing liquid flowing through each of the absorbing devices 2A and 2B. As a result, the absorbing liquid flows in each of the absorbing devices 2A and 2B at a flow rate corresponding to the flow rate of the supplied gas.

回収システム２１においては、導入されるガスＧの流量変動に応じて吸収装置２Ａ，２Ｂの何れかへのガス供給が停止された時でも、再生装置の停止は行われない。例えば、吸収装置２Ｂにおけるガス供給及び吸収液の流通を停止した時、供給路９ｕ及び還流路１０ｕを通じて再生装置８Ｅを流通する吸収液の流量は、吸収装置２Ａを流通する吸収液の流量に等しい。このようにして、図１の回収システム１と同様に、導入されるガスＧの流量変動に対応して流量が調整された吸収液は、再生装置８Ｅにおいて加熱再生され、放出された二酸化炭素Ｃは、回収路１６ｅから回収される。 In the recovery system 21, the regeneration device is not stopped even when the gas supply to any of the absorption devices 2A and 2B is stopped according to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas G. For example, when the gas supply and the flow of the absorption liquid in the absorption device 2B are stopped, the flow rate of the absorption liquid flowing through the regeneration device 8E through the supply path 9u and the return path 10u is equal to the flow rate of the absorption liquid flowing through the absorption device 2A. .. In this way, similarly to the recovery system 1 of FIG. 1, the absorption liquid whose flow rate is adjusted in response to the flow rate fluctuation of the introduced gas G is heated and regenerated in the regeneration device 8E, and the carbon dioxide C released. Is recovered from the recovery path 16e.

図３の回収システム２１において、吸収装置２Ａ，２Ｂは、処理能力が同等であっても異なっていても良く、例えば、図２の回収システム２０のように、処理能力が異なる複数の吸収装置を用いて回収システムを構成してもよい。 In the recovery system 21 of FIG. 3, the absorbers 2A and 2B may have the same processing capacity or different processing capacities. For example, as in the recovery system 20 of FIG. 2, a plurality of absorbing devices having different processing capacities may be used. It may be used to configure a recovery system.

回収システム２１のような実施形態は、複数の吸収装置の処理能力の総計に対応し得る処理能力を単独で有する再生装置を用いて構成することが可能である。従って、そのような再生装置の処理能力の範囲において、図３の実施形態における吸収装置の数を増加させるように変更することができる。この点に関し、複数の吸収装置の処理能力の総計が、再生装置の処理能力を超える場合には、例えば、図４に示すような実施形態に構成するとよい。つまり、再生装置の数は、吸収装置の数より少なければ、１つに限らず、１つ以上の再生装置を有して良い。 An embodiment such as the recovery system 21 can be configured using a regenerator that alone has a processing capacity that can correspond to the total processing capacity of the plurality of absorption devices. Therefore, within the processing capacity of such a regenerator, it can be modified to increase the number of absorbers in the embodiment of FIG. In this regard, when the total processing capacity of the plurality of absorption devices exceeds the processing capacity of the regenerating device, for example, the embodiment as shown in FIG. 4 may be configured. That is, as long as the number of regenerating devices is smaller than the number of absorbing devices, the number of regenerating devices is not limited to one, and one or more regenerating devices may be provided.

図４は、複数（図４では３つ）の吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇと、吸収装置より少ない複数（図４では２つ）の再生装置８Ｈ，８Ｉとを有する回収システム２２を記載する。尚、この回収システム２２において、複数の吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇは、処理能力が同等であっても異なっても良く、又、複数の再生装置８Ｈ，８Ｉも、処理能力が同等であっても異なっても良い。ガスＧの流路３は、流路３ｅ，３ｆ，３ｇに分岐して吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇに各々接続される。吸収液の循環系を構成する供給路及び還流路のうち、供給路は、吸収装置からの送出側において分岐する供給路９ｅ，９ｆ，９ｇと、再生装置への投入側において分岐する供給路９ｈ，９ｉと、これらを中間で統合する供給路９ｕとによって構成される。循環系を構成する還流路は、再生装置からの送出側において分岐する還流路１０ｈ，１０ｉと、吸収装置への投入側において分岐する還流路１０ｅ，１０ｆ，１０ｇと、これらを中間で統合する還流路１０ｕとによって構成される。従って、吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇにおいて二酸化炭素を吸収して送出された吸収液Ｌ’は、供給路９ｕにおいて一旦合流した後に、再生装置８Ｈ，８Ｉへ分配供給され、再生装置８Ｈ，８Ｉにおいて再生されて送出された吸収液Ｌは、還流路１０ｕにおいて一旦合流した後に、吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇに分配還流される。 FIG. 4 describes a recovery system 22 having a plurality of (three in FIG. 4) absorbers 2E, 2F, 2G and a plurality of (two in FIG. 4) regenerators 8H, 8I, which are less than the absorbers. In the recovery system 22, the plurality of absorption devices 2E, 2F, and 2G may have the same processing capacity or different processing capacities, and the plurality of regenerating devices 8H, 8I also have the same processing capacity. May be different. The flow path 3 of the gas G branches into the flow paths 3e, 3f, and 3g and is connected to the absorption devices 2E, 2F, and 2G, respectively. Of the supply paths and recirculation paths that make up the absorption liquid circulation system, the supply paths are supply paths 9e, 9f, 9g that branch off on the delivery side from the absorption device and supply paths 9h that branch off on the input side to the regeneration device. , 9i and a supply channel 9u that integrates them in the middle. The recirculation paths constituting the circulatory system include the recirculation paths 10h and 10i branching on the sending side from the regeneration device and the recirculation paths 10e, 10f and 10g branching on the input side to the absorption device, and the recirculation that integrates these in the middle. It is composed of a road 10u. Therefore, the absorbing liquid L'that has absorbed carbon dioxide in the absorbing devices 2E, 2F, and 2G and is sent out is once merged in the supply path 9u and then distributed and supplied to the regenerating devices 8H and 8I, and is distributed and supplied to the regenerating devices 8H and 8I. The absorbed liquid L that has been regenerated and sent out is once merged in the reflux path 10u, and then distributed and refluxed to the absorption devices 2E, 2F, and 2G.

回収システム２２に導入されるガスＧの流量は、検出器５によって検出され、ガスＧの流量が変化したら、制御装置６は、検出器５の検出値に基づいて、ガスの供給を停止する吸収装置の有無及び数を決定し、各吸収装置におけるガス流量を設定する。これに従って、流路３ｅ、３ｆ、３ｇ上の流量調整弁４Ｅ，４Ｆ，４Ｇが制御され、各吸収装置へ分配供給されるガスの流量が調整される。検出器７Ｅ，７Ｆ，７Ｇにおけるガス流量の検出値に基づいて、流量調整が的確であるか監視される。更に、各吸収装置へ供給されるガスの流量に応じて、制御装置６は、電気接続を通じて、供給路９ｅ，９ｆ，９ｇ上の流量調整弁１１Ｅ，１１Ｆ，１１Ｇ、及び、還流路１０ｅ，１０ｆ，１０ｇ上の流量調整弁１２Ｅ，１２Ｆ，１２Ｇを制御する。この制御によって、吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇの各々を流通する吸収液の流量が適正に調整される。検出器１３Ｅ，１３Ｆ，１３Ｇ及び検出器１４Ｅ，１４Ｆ，１４Ｇにおける吸収液の流量の検出値に基づいて、吸収装置に関する流量調整が的確であるか監視される。同時に、制御装置６は、供給路９ｈ，９ｉ上の流量調整弁２３Ｈ，２３Ｉ、及び、還流路１０ｈ，１０ｉ上の流量調整弁２４Ｈ，２４Ｉを制御する。この制御によって、再生装置８Ｈ，８Ｉの各々へ分配供給される吸収液の流量は、吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇを流通する吸収液の流量変更に応じて適正に調整される。検出器２５Ｈ，２５Ｉ及び検出器２６Ｈ，２６Ｉにおける吸収液の流量の検出値に基づいて、再生装置に関する流量調整が的確であるか監視される。 The flow rate of the gas G introduced into the recovery system 22 is detected by the detector 5, and when the flow rate of the gas G changes, the control device 6 stops the supply of the gas based on the detection value of the detector 5. Determine the presence and number of devices and set the gas flow rate in each absorption device. According to this, the flow rate adjusting valves 4E, 4F, and 4G on the flow paths 3e, 3f, and 3g are controlled, and the flow rate of the gas distributed and supplied to each absorption device is adjusted. Based on the detected values of the gas flow rate in the detectors 7E, 7F, 7G, it is monitored whether the flow rate adjustment is accurate. Further, according to the flow rate of the gas supplied to each absorption device, the control device 6 sets the flow rate adjusting valves 11E, 11F, 11G, and the return paths 10e, 10f on the supply paths 9e, 9f, 9g through the electrical connection. , 10g of flow control valves 12E, 12F, 12G are controlled. By this control, the flow rate of the absorbing liquid flowing through each of the absorbing devices 2E, 2F, and 2G is appropriately adjusted. Based on the detected values of the flow rate of the absorbent liquid in the detectors 13E, 13F, 13G and the detectors 14E, 14F, 14G, it is monitored whether the flow rate adjustment for the absorber is accurate. At the same time, the control device 6 controls the flow rate adjusting valves 23H and 23I on the supply paths 9h and 9i and the flow rate adjusting valves 24H and 24I on the return paths 10h and 10i. By this control, the flow rate of the absorbing liquid distributed and supplied to each of the regenerating devices 8H and 8I is appropriately adjusted according to the change in the flow rate of the absorbing liquid flowing through the absorbing devices 2E, 2F and 2G. Based on the detected values of the flow rate of the absorbing liquid in the detectors 25H and 25I and the detectors 26H and 26I, it is monitored whether the flow rate adjustment for the regenerator is accurate.

回収システム２２においても、図３の回収システム２１と同様に、吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇの何れかへのガス供給が停止された時でも、再生装置の停止は行われない。例えば、吸収装置２Ｇにおけるガス供給及び吸収液の流通を停止した時、吸収装置２Ｅ，２Ｆの各々を流通する吸収液の流量の合計が、再生装置８Ｈ，８Ｉの各々を流通する吸収液の流量の合計に等しくなるように調整される。従って、この合計流量が、供給路９ｕ及び還流路１０ｕを通じて回収システムを循環する吸収液の流量となる。このようにして、前述の回収システム１，２０，２１と同様にして、導入されるガスＧの流量変動に対応して吸収装置２Ｅ，２Ｆ，２Ｇにおける流量が調整された吸収液は、再生装置８Ｈ，８Ｉにおいて加熱再生される。吸収液から放出された二酸化炭素Ｃは、回収路１６ｈ，１６ｉ上での冷却及び気液分離を経て、共に回収路１６から回収される。 In the recovery system 22, as in the recovery system 21 of FIG. 3, the regeneration device is not stopped even when the gas supply to any of the absorption devices 2E, 2F, and 2G is stopped. For example, when the gas supply and the flow of the absorbing liquid in the absorbing device 2G are stopped, the total flow rate of the absorbing liquid flowing through each of the absorbing devices 2E and 2F is the flow rate of the absorbing liquid flowing through each of the regenerating devices 8H and 8I. Is adjusted to be equal to the sum of. Therefore, this total flow rate becomes the flow rate of the absorbing liquid circulating in the recovery system through the supply path 9u and the return path 10u. In this way, in the same manner as in the recovery systems 1, 20 and 21 described above, the absorbing liquid whose flow rate in the absorbing devices 2E, 2F and 2G is adjusted in response to the flow rate fluctuation of the introduced gas G is regenerated. It is heated and regenerated at 8H and 8I. The carbon dioxide C released from the absorption liquid is recovered from the recovery path 16 together after cooling on the recovery paths 16h and 16i and gas-liquid separation.

図４のように複数の再生装置８Ｈ，８Ｉを有する回収システム２２では、一旦統合した二酸化炭素を吸収した吸収液を再生装置８Ｈ，８Ｉへ分配供給する際に、流量調整弁２３Ｈ，２３Ｉ，２４Ｈ，２４Ｉによる流量調整を利用して、分配供給の比率を適宜変更することができる。例えば、再生装置の処理能力に対応した比率で吸収液を再生装置８Ｈ，８Ｉへ分配供給する、或いは、一部の再生装置における吸収液の流量を固定して、残部の再生装置における流量変更によって導入されるガスＧの流量変動に対応する等の実施形態が可能である。尚、再生装置の数が２つである場合、一方の再生装置へ投入される吸収液の流量を調整すれば、残りの吸収液は他方の再生装置へ投入されるので、流量調整弁２３Ｈ，２３Ｉの一方を省略することは可能である。 As shown in FIG. 4, in the recovery system 22 having a plurality of regeneration devices 8H and 8I, the flow control valves 23H, 23I and 24H are used when the absorbed liquid that has absorbed carbon dioxide once integrated is distributed and supplied to the regeneration devices 8H and 8I. The flow rate adjustment by 24I can be used to change the distribution supply ratio as appropriate. For example, by distributing and supplying the absorbing liquid to the regenerating devices 8H and 8I at a ratio corresponding to the processing capacity of the regenerating device, or by fixing the flow rate of the absorbing liquid in some regenerating devices and changing the flow rate in the remaining regenerating device. Embodiments such as responding to fluctuations in the flow rate of the introduced gas G are possible. When the number of regenerating devices is two, if the flow rate of the absorbing liquid to be charged to one regenerating device is adjusted, the remaining absorbing liquid is charged to the other regenerating device. Therefore, the flow rate adjusting valve 23H, It is possible to omit one of the 23Is.

上述のように、回収システム２２においては、導入されるガスＧの流量変動に対応して、各吸収装置へのガスの供給配分の調整（供給停止を含む）、各吸収装置における吸収液の流量調整（循環停止を含む）、各再生装置における吸収液の流量調整（循環停止を含まない）、及び、各再生装置への再生エネルギーの供給量の調整（供給停止を含まない）が行われる。再生エネルギーの供給調整は、再生装置における吸収液の流量に基づいて同様に調整すればよい。 As described above, in the recovery system 22, the adjustment of the gas supply distribution to each absorption device (including the supply stop) and the flow rate of the absorption liquid in each absorption device correspond to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas G. Adjustment (including circulation stop), flow rate adjustment of the absorbing liquid in each regeneration device (excluding circulation stop), and adjustment of the supply amount of regenerated energy to each regeneration device (excluding supply stop) are performed. The supply of renewable energy may be adjusted in the same manner based on the flow rate of the absorbing liquid in the regenerating device.

上述から理解されるように、図３及び図４のように吸収装置の数より少ない再生装置を用いて、吸収装置の一部の稼働を停止する際に再生装置の稼動停止を回避することが可能な回収システムを構成することができる。これにより、再生装置の再稼動のための調整が不要になる。つまり、吸収液の流量調整を行う際に律速段階となり得る要因を排除できるので、導入されるガスＧの流量変動に対応して、吸収液の流量調整を迅速に行うことができる。 As can be understood from the above, it is possible to avoid the operation stop of the reproduction device when the operation of a part of the absorption device is stopped by using the reproduction device which is smaller than the number of absorption devices as shown in FIGS. 3 and 4. A possible recovery system can be configured. This eliminates the need for adjustments for restarting the playback device. That is, since the factor that may be the rate-determining step when adjusting the flow rate of the absorbing liquid can be eliminated, the flow rate of the absorbing liquid can be quickly adjusted in response to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas G.

尚、上述のような回収システムにおいて、吸収装置及び再生装置の気液接触部Ｆ、Ｆ’の形状は、必要に応じて適宜設計変更が可能であり、四角柱状や円柱状に限らず、多角柱状や楕円柱状等も含む様々な軸性形状から適宜選択することができる。従って、それらを構成する充填材の装填形状についても同様である。充填材についても、市販の様々な充填物から適宜選択して使用することができる。又、市販品に限定されず、平板やコルゲート板等を利用して、任意に充填材を構成することもできる。ガスと液体とを接触させる際のガスの流通抵抗は、操業時の消費エネルギーを左右するので、特に、吸収装置については、これらを考慮して、好適な流通空間になるように充填材の選択及び設計を行うとよい。 In the recovery system as described above, the shapes of the gas-liquid contact portions F and F'of the absorbing device and the regenerating device can be appropriately redesigned as needed, and are not limited to square columns and columns, but are polygonal. It can be appropriately selected from various axial shapes including a columnar shape and an elliptical columnar shape. Therefore, the same applies to the loading shape of the fillers constituting them. As the filler, it can be appropriately selected from various commercially available fillers and used. Further, the filler is not limited to a commercially available product, and a filler can be arbitrarily formed by using a flat plate, a corrugated plate, or the like. Since the gas flow resistance when the gas and the liquid are brought into contact with each other affects the energy consumption during operation, especially for the absorber, the filler is selected so as to have a suitable flow space in consideration of these factors. And design.

上述のような回収システムは、化学プラントや火力発電所等の設備内で発生した廃ガス（排ガス）や反応ガスを導入して、二酸化炭素を好適に回収することができる。吸収液としては、環状アミン化合物やアルカノール系アミン、フェノール系アミン、アルカリ金属塩等のアルカリ剤の水溶液が屡々用いられる。二酸化炭素の回収において屡々用いられるモノエタノールアミン（ＭＥＡ）水溶液では、二酸化炭素との反応によって、カルバミン酸塩・アミン塩（カーバメート）、炭酸塩、重炭酸塩等が生じる。 The recovery system as described above can suitably recover carbon dioxide by introducing waste gas (exhaust gas) or reaction gas generated in equipment such as a chemical plant or a thermal power plant. As the absorbing solution, an aqueous solution of an alkaline agent such as a cyclic amine compound, an alkanol-based amine, a phenol-based amine, or an alkali metal salt is often used. In the monoethanolamine (MEA) aqueous solution often used in the recovery of carbon dioxide, the reaction with carbon dioxide produces carbamate / amine salt (carbamate), carbonate, bicarbonate and the like.

このため、回収システムを構成する各部は、上述したようなガスＧの成分や吸収液Ｌに含まれる化学薬剤に対して耐性を有する素材で製造される。そのような素材として、例えば、ステンレス綱、アルミニウム、ニッケル、チタン、炭素鋼、真鍮、銅、モネル、銀、スズ、ニオブ等の金属や、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＰＴＦＥ等の樹脂が挙げられる。充填材も、少なくとも表面が、上述のような、処理するガスＧ及び使用する吸収液Ｌとの反応（腐食）を生じない耐食性の素材で構成される。素材は、やすりがけ、サンドブラスト処理、紫外線オゾン処理、プラズマ処理などの表面加工によって表面に微小な凹凸を形成して表面粗さを付与したものであっても良く、また、コーティング等による表面の改質によって、上述のような使用条件に合うように調製した素材であってもよい。気液接触を行う条件に応じて、好適な強度を保持し得るように素材を適宜選択することができる。 Therefore, each part constituting the recovery system is manufactured of a material having resistance to the components of the gas G and the chemical agent contained in the absorption liquid L as described above. Examples of such a material include metals such as stainless steel, aluminum, nickel, titanium, carbon steel, brass, copper, monel, silver, tin and niobium, and resins such as polyethylene, polypropylene and PTFE. At least the surface of the filler is also made of a corrosion-resistant material that does not cause a reaction (corrosion) with the gas G to be treated and the absorption liquid L to be used as described above. The material may be one in which minute irregularities are formed on the surface by surface treatment such as sanding, sandblasting, ultraviolet ozone treatment, plasma treatment, etc. to impart surface roughness, and the surface is modified by coating or the like. Depending on the quality, the material may be prepared to meet the above-mentioned conditions of use. The material can be appropriately selected so as to maintain suitable strength according to the conditions for gas-liquid contact.

尚、上述において、吸収装置は、ガスＧ及び吸収液Ｌが対向する接触形態として説明しているが、ガスＧ及び吸収液Ｌを気液接触部Ｆの上方から供給して、ガスＧ及び吸収液Ｌが並行する接触形態に変更することも可能である。 In the above description, the absorption device is described as a contact form in which the gas G and the absorption liquid L face each other, but the gas G and the absorption liquid L are supplied from above the gas-liquid contact portion F to absorb the gas G and the absorption liquid L. It is also possible to change the contact form in which the liquid L is parallel.

並列する複数の吸収装置を用いて、各吸収装置におけるガス流量を適正範囲に維持しつつ、導入されるガス流量の変動に対応した並行処理を実施可能な二酸化炭素の回収システムが提供可能であり、排ガスの排出流量が変動する発電設備等の様々な産業設備や大型装置に適用するためのガス処理システムとして有用である。経済性の向上に基づく汎用化によって、燃焼ガス等の排ガスの処理の普及による環境保護等に貢献可能である。 It is possible to provide a carbon dioxide capture system that can perform parallel processing in response to fluctuations in the gas flow rate introduced while maintaining the gas flow rate in each absorption device within an appropriate range by using a plurality of parallel absorption devices. It is useful as a gas treatment system for application to various industrial equipment such as power generation equipment and large equipment where the discharge flow rate of exhaust gas fluctuates. By generalization based on the improvement of economy, it is possible to contribute to environmental protection by popularizing the treatment of exhaust gas such as combustion gas.

１，２０，２１，２２ 回収システム
２Ａ〜２Ｇ 吸収装置
３，３ａ〜３ｇ 流路
４Ａ〜４Ｇ 流量調整弁
５ 検出器
６ 制御装置
７Ａ，７Ｂ 検出器
８Ａ〜８Ｅ，８Ｈ，８Ｉ 再生装置
９Ａ〜９Ｄ 供給路
９ａ，９ｂ，９ｅ〜９ｉ，９ｕ 供給路
１０Ａ〜Ｄ 還流路
１０ａ，１０ｂ，１０ｅ〜１０ｉ，１０ｕ 還流路
１１Ａ，１１Ｂ，１２Ａ，１２Ｂ 流量調整弁
１３Ａ，１３Ｂ，１４Ａ，１４Ｂ 検出器
１５，１５ａ，１５ｂ 排気路
１６，１６ａ，１６ｂ 回収路
２３Ｈ，２３Ｉ，２４Ｈ，２４Ｉ 流量調整弁
２５Ｈ，２５Ｉ，２６Ｈ，２６Ｉ 検出器
Ｐ ポンプ
Ｆ，Ｆ’ 気液接触部
Ｅ 熱交換器
Ｒａ 冷却器
Ｒｅ リボイラ
Ｃ 二酸化炭素
Ｌ，Ｌ’ 吸収液
Ｇ，Ｇ’ ガス 1,20,21,22 Recovery system 2A ~ 2G Absorber 3,3a ~ 3g Flow path 4A ~ 4G Flow control valve 5 Detector 6 Control device 7A, 7B Detector 8A ~ 8E, 8H, 8I Reproduction device 9A ~ 9D Supply passages 9a, 9b, 9e to 9i, 9u Supply passages 10A to D Circulation passages 10a, 10b, 10e to 10i, 10u Circulation passages 11A, 11B, 12A, 12B Flow control valves 13A, 13B, 14A, 14B Detector 15, 15a, 15b Exhaust passage 16, 16a, 16b Recovery passage 23H, 23I, 24H, 24I Flow control valve 25H, 25I, 26H, 26I Detector P Pump F, F'Gas-liquid contact part E Heat exchanger Ra Cooler Re reboiler C Carbon dioxide L, L'absorbent liquid G, G'gas

Claims (10)

化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収装置と、
導入されるガスを前記複数の吸収装置に分配して供給可能な供給系と、
前記複数の吸収装置の各々へ供給するガスの流量を調整可能な調整機構と、
導入されるガスの流量変動に応じて前記調整機構を制御して、ガスが供給される吸収装置におけるガスの流量が、吸収装置において効率的に処理可能なガス流量の最小値以上に維持されるように、前記複数の吸収装置の各々へ供給するガスの流量を変更する制御機構と
を有し、
前記効率的に処理可能なガス流量は、Ｆファクターの範囲が０．５〜２．５となるように前記制御機構によって制御される二酸化炭素の回収システム。 Multiple absorption devices that recover carbon dioxide by the chemical absorption method,
A supply system capable of distributing and supplying the gas to be introduced to the plurality of absorption devices, and
An adjustment mechanism that can adjust the flow rate of gas supplied to each of the plurality of absorption devices, and
By controlling the adjustment mechanism according to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas, the flow rate of the gas in the absorption device to which the gas is supplied is maintained at or above the minimum value of the gas flow rate that can be efficiently processed in the absorption device. as described above, it has a control mechanism for changing the flow rate of the gas supplied to each of said plurality of absorber,
The efficiently processable gas flow rates, carbon dioxide recovery system range F factor that are controlled by the control mechanism so that 0.5 to 2.5. 前記調整機構は、前記複数の吸収装置のうちガスが供給される吸収装置の数の変更、及び、前記複数の吸収装置の各々に供給するガス流量の変更が可能なように、前記供給系に設置される複数の流量調整弁を含む請求項１に記載の二酸化炭素の回収システム。 The adjusting mechanism is provided to the supply system so that the number of absorption devices to which gas is supplied among the plurality of absorption devices can be changed and the gas flow rate supplied to each of the plurality of absorption devices can be changed. The carbon dioxide recovery system according to claim 1, further comprising a plurality of flow control valves to be installed. 前記複数の吸収装置は、効率的に処理可能なガス流量が実質的に等しくなるような処理能力を各々有し、前記制御機構は、導入されるガス流量を検出する検出器を有し、
前記制御機構は、
前記検出器によって検出されるガス流量が、ガス流量の前記最小値と前記複数の吸収装置の数との積以上である時は、前記複数の吸収装置の各々に供給するガス流量が前記最小値以上になるように前記調整機構を制御し、それにより前記複数の吸収装置の全てにガスが供給され、
前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と前記複数の吸収装置の数との積未満である時は、前記複数の吸収装置の一部への供給を停止して他の吸収装置におけるガス流量を前記最小値以上に維持するように前記調整機構を制御する請求項１又は２に記載の二酸化炭素の回収システム。 Each of the plurality of absorbers has a processing capacity such that the gas flow rates that can be efficiently processed are substantially equal, and the control mechanism has a detector that detects the gas flow rate to be introduced.
The control mechanism
When the gas flow rate detected by the detector is equal to or greater than the product of the minimum value of the gas flow rate and the number of the plurality of absorbers, the gas flow rate supplied to each of the plurality of absorbers is the minimum value. The adjustment mechanism is controlled so as to be as described above, whereby gas is supplied to all of the plurality of absorption devices.
When the gas flow rate detected by the detector is less than the product of the minimum value and the number of the plurality of absorbers, the supply to a part of the plurality of absorbers is stopped and the other absorbers are stopped. The carbon dioxide capture system according to claim 1 or 2, wherein the adjusting mechanism is controlled so as to maintain the gas flow rate in the above-mentioned minimum value or more. 前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と全吸収装置の数との積以上である時に、前記複数の吸収装置の全てに実質的に均等にガスが供給されるように前記調整機構を制御する請求項３に記載の二酸化炭素の回収システム。 When the gas flow rate detected by the detector is equal to or greater than the product of the minimum value and the total number of absorption devices, the control mechanism supplies gas to all of the plurality of absorption devices substantially evenly. The carbon dioxide recovery system according to claim 3, wherein the adjustment mechanism is controlled so as to be used. 前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と全吸収装置の数との積以上である時に、吸収装置が処理可能なガス流量の最大値でガスが供給される吸収装置の数が最大になるように前記調整機構を制御する請求項３に記載の二酸化炭素の回収システム。 In the control mechanism, when the gas flow rate detected by the detector is equal to or greater than the product of the minimum value and the total number of absorption devices, the gas is supplied at the maximum value of the gas flow rate that the absorption device can process. The carbon dioxide capture system according to claim 3, wherein the adjusting mechanism is controlled so that the number of absorption devices is maximized. 前記制御機構は、前記検出器によって検出されるガス流量が、前記最小値と前記複数の吸収装置の数との積未満である時に、ガスが供給される吸収装置におけるガス流量が実質的に等しくなるように前記調整機構を制御する請求項３〜５の何れか一項に記載の二酸化炭素の回収システム。 In the control mechanism, when the gas flow rate detected by the detector is less than the product of the minimum value and the number of the plurality of absorption devices, the gas flow rates in the absorption devices to which the gas is supplied are substantially equal. The carbon dioxide recovery system according to any one of claims 3 to 5, which controls the adjusting mechanism so as to be. 前記複数の吸収装置は、各々、吸収液を前記ガスに気液接触させて前記ガスに含まれる二酸化炭素を吸収することによって二酸化炭素を回収する装置であり、
更に、
二酸化炭素を吸収した吸収液から加熱により二酸化炭素を放出させて吸収液を再生する、前記複数の吸収装置と同数である複数の再生装置と、
前記複数の吸収装置と前記複数の再生装置との間で吸収液を循環可能な循環系であって、前記複数の吸収装置と前記複数の再生装置とが各々対をなすように接続し、対をなす吸収装置と再生装置との間で吸収液が循環する前記循環系と、
前記循環系を循環する吸収液が前記複数の吸収装置の各々を流通する流量を調整可能な
循環調整機構と
を有し、前記制御機構は、前記複数の吸収装置の各々において、供給されるガスの流量に対応した流量で吸収液が流通するように、前記調整機構の制御に対応して前記循環調整機構を制御する請求項１〜６の何れか一項に記載の二酸化炭素の回収システム。 Each of the plurality of absorbing devices is a device that recovers carbon dioxide by bringing the absorbing liquid into gas-liquid contact with the gas and absorbing carbon dioxide contained in the gas.
In addition
A plurality of regenerating devices having the same number as the plurality of absorbing devices, which regenerate the absorbed liquid by releasing carbon dioxide from the absorbing liquid that has absorbed carbon dioxide by heating.
It is a circulatory system capable of circulating an absorbing liquid between the plurality of absorbing devices and the plurality of regenerating devices, and the plurality of absorbing devices and the plurality of regenerating devices are connected so as to form a pair. The circulatory system in which the absorbing liquid circulates between the absorbing device and the regenerating device.
The absorption liquid circulating in the circulatory system has a circulation adjustment mechanism capable of adjusting the flow rate flowing through each of the plurality of absorption devices, and the control mechanism is a gas supplied in each of the plurality of absorption devices. The carbon dioxide recovery system according to any one of claims 1 to 6, wherein the circulation adjusting mechanism is controlled in response to the control of the adjusting mechanism so that the absorbing liquid flows at a flow rate corresponding to the flow rate of the above. 前記複数の吸収装置は、各々、吸収液を前記ガスに気液接触させて前記ガスに含まれる二酸化炭素を吸収することによって二酸化炭素を回収する装置であり、
更に、
二酸化炭素を吸収した吸収液から加熱により二酸化炭素を放出させて吸収液を再生する、前記複数の吸収装置より数が少ない１つ以上の再生装置と、
前記複数の吸収装置と前記１つ以上の再生装置との間で吸収液を循環可能な循環系であって、前記複数の吸収装置で二酸化炭素を吸収した吸収液は、一旦統合されて前記１つ以上の再生装置に供給されて、前記１つ以上の再生装置で再生された吸収液は、前記複数の吸収装置へ分配還流されるように前記複数の吸収装置と前記１つ以上の再生装置とを接続する前記循環系と、
前記循環系を循環する吸収液が前記複数の吸収装置の各々を流通する流量を調整可能な循環調整機構と
を有し、前記制御機構は、前記複数の吸収装置の各々において、供給されるガスの流量に対応した流量で吸収液が流通するように、前記調整機構の制御に対応して前記循環調整機構を制御する請求項１〜６の何れか一項に記載の二酸化炭素の回収システム。 Each of the plurality of absorbing devices is a device that recovers carbon dioxide by bringing the absorbing liquid into gas-liquid contact with the gas and absorbing carbon dioxide contained in the gas.
In addition
One or more regenerating devices, which are fewer than the plurality of absorbing devices, and regenerate the absorbing liquid by releasing carbon dioxide from the absorbing liquid that has absorbed carbon dioxide by heating.
A circulatory system capable of circulating an absorption liquid between the plurality of absorption devices and the one or more regeneration devices, and the absorption liquids that have absorbed carbon dioxide by the plurality of absorption devices are once integrated into the above 1 The plurality of absorption devices and the one or more regeneration devices so that the absorption liquid supplied to the one or more regeneration devices and regenerated by the one or more regeneration devices is distributed and refluxed to the plurality of absorption devices. With the circulatory system that connects
The absorption liquid circulating in the circulatory system has a circulation adjustment mechanism capable of adjusting the flow rate flowing through each of the plurality of absorption devices, and the control mechanism is a gas supplied in each of the plurality of absorption devices. The carbon dioxide recovery system according to any one of claims 1 to 6, wherein the circulation adjusting mechanism is controlled in response to the control of the adjusting mechanism so that the absorbing liquid flows at a flow rate corresponding to the flow rate of the above. 前記１つ以上の再生装置の数は複数であり、前記循環系における前記複数の吸収装置と前記複数の再生装置との接続は、一旦統合された二酸化炭素を吸収した吸収液が前記複数の再生装置へ分配供給されて、前記複数の再生装置で再生された吸収液が一旦統合されて前記複数の吸収装置へ分配還流されるように構成される請求項８に記載の二酸化炭素の回収システム。 The number of the one or more regenerating devices is a plurality, and in the connection between the plurality of absorbing devices and the plurality of regenerating devices in the circulatory system, the absorbing liquid that has absorbed carbon dioxide once integrated is the plurality of regenerating devices. The carbon dioxide recovery system according to claim 8, wherein the absorption liquids that are distributed and supplied to the devices and regenerated by the plurality of regenerating devices are once integrated and distributed and recirculated to the plurality of absorbing devices. 化学吸収法によって二酸化炭素を回収する複数の吸収工程と、
導入されるガスを前記複数の吸収工程に分配して供給する供給工程と、
前記複数の吸収工程の各々へ供給するガスの流量を調整する調整工程と、
導入されるガスの流量変動に応じて前記調整工程を制御して、ガスが供給される吸収工程におけるガスの流量が、吸収工程において効率的に処理可能なガス流量の最小値以上に維持されるように、前記複数の吸収工程の各々へ供給するガスの流量を変更する制御工程と
を有し、
前記効率的に処理可能なガス流量は、Ｆファクターの範囲が０．５〜２．５となるように前記制御工程で制御される二酸化炭素の回収方法。 Multiple absorption steps to recover carbon dioxide by chemical absorption method,
A supply process in which the introduced gas is distributed and supplied to the plurality of absorption processes, and a supply process.
An adjustment step that adjusts the flow rate of gas supplied to each of the plurality of absorption steps, and
The adjustment step is controlled according to the fluctuation of the flow rate of the introduced gas, and the flow rate of the gas in the absorption step in which the gas is supplied is maintained at or above the minimum value of the gas flow rate that can be efficiently processed in the absorption step. as described above, it has a control step of changing the flow rate of gas supplied to each of the plurality of absorption step,
The efficiently processable gas flow rates, the recovery method of carbon dioxide range of F factor that are controlled by said control step so that 0.5 to 2.5.
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