JP6950076B2 - UV irradiation device and manufacturing method of optical film - Google Patents

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Description

本発明は、紫外線照射装置、光学フィルムの製造方法、及び赤外線カットガラスに関する。 The present invention relates to an ultraviolet irradiation device, a method for producing an optical film, and an infrared cut glass.

フィルムの上に機能層を設けた光学フィルムが、各種製品に使用されている。このような光学フィルムは、一般的に、搬送された支持体の上に紫外線硬膜剤が添加された塗布液を塗布し、次いで、塗布液を乾燥し、乾燥した塗布液に紫外線を照射することにより、塗布液を硬化し、製造される。この塗布液の硬化には、紫外線照射装置が用いられることが多い。 Optical films with a functional layer on top of the film are used in various products. In such an optical film, generally, a coating liquid to which an ultraviolet hardening agent is added is applied onto a conveyed support, then the coating liquid is dried, and the dried coating liquid is irradiated with ultraviolet rays. As a result, the coating liquid is cured and manufactured. An ultraviolet irradiation device is often used to cure the coating liquid.

例えば、特許文献１には、光源と、光源と対象物との間に配置されたる熱線カットフィルターとも称される赤外線カットガラスと、を備える紫外線照射装置が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses an ultraviolet irradiation device including a light source and an infrared cut glass also called a heat ray cut filter arranged between the light source and an object.

特開平９−１２７３００号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-127300

近年、光学フィルムに使用される支持体の幅が大きくなっている。そのため、紫外線照射装置において、複数の赤外線カットガラスが支持体の幅方向に沿って並べて配置されている。これらの複数の赤外線カットガラスは、光源からの不要な波長の光が対象物に照射されないようにするため、赤外線カットガラスの端面同士を接触させて配置される。複数の赤外線カットガラスは枠体で保持されている。赤外線カットガラスが枠体に沿ってスライドできるように、赤外線カットガラスと枠体とは一定のクリアランス合計が確保される。 In recent years, the width of the support used for the optical film has increased. Therefore, in the ultraviolet irradiation device, a plurality of infrared cut glasses are arranged side by side along the width direction of the support. These plurality of infrared cut glasses are arranged so that the end faces of the infrared cut glasses are in contact with each other so that the object is not irradiated with light having an unnecessary wavelength from the light source. A plurality of infrared cut glasses are held by a frame. A certain total clearance is secured between the infrared cut glass and the frame so that the infrared cut glass can slide along the frame.

紫外線照射装置の光源を点灯すると、複数の赤外線カットガラス、及び枠体が加熱され、複数の赤外線カットガラス、及び枠体の温度が上昇する。赤外線カットガラス、及び枠体が熱膨張すると、赤外線カットガラスと、枠体とは熱膨張係数が異なるので、熱膨張係数の差に起因して、赤外線カットガラスと枠体との間のクリアランスが常温時より小さくなる。結果、赤外線カットガラスにストレスが加えられ、隣接する赤外線カットガラスの端面同士が擦れて、赤外線カットガラスが破損等を生じやすくなる懸念があった。 When the light source of the ultraviolet irradiation device is turned on, the plurality of infrared cut glasses and the frame are heated, and the temperatures of the plurality of infrared cut glasses and the frame are raised. When the infrared cut glass and the frame are thermally expanded, the coefficient of thermal expansion differs between the infrared cut glass and the frame, so that the clearance between the infrared cut glass and the frame is increased due to the difference in the coefficient of thermal expansion. It is smaller than at room temperature. As a result, there is a concern that stress is applied to the infrared cut glass, the end faces of the adjacent infrared cut glasses rub against each other, and the infrared cut glass is liable to be damaged.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、赤外線カットガラスが破損等するのを抑制できる紫外線照射装置、光学フィルムの製造方法、及び赤外線カットガラスを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an ultraviolet irradiation device capable of suppressing damage to the infrared cut glass, a method for producing an optical film, and an infrared cut glass.

第１の態様に係る紫外線照射装置は、対象物に向けて光を放射する光源と、光源と対象物との間に配置される複数の赤外線カットガラスと、複数の赤外線カットガラスを支持する枠体と、を備えた紫外線照射装置であって、赤外線カットガラスは、対向する主面と主面を繋ぐ４個の端面とを有する平面視で四角形のガラス板と、ガラス板の少なくとも一方の主面に配置された複数の誘電体膜とを備え、隣接する赤外線カットガラスが、端面同士を接触させて一方向に並べて配置され、かつ接触する端面が０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する。 The ultraviolet irradiation device according to the first aspect is a frame that supports a light source that emits light toward an object, a plurality of infrared cut glasses arranged between the light source and the object, and a plurality of infrared cut glasses. An ultraviolet irradiation device including a body, wherein the infrared cut glass is a rectangular glass plate having a main surface facing each other and four end faces connecting the main surfaces, and at least one main surface of the glass plate. It is provided with a plurality of dielectric films arranged on the surface, and adjacent infrared cut glasses are arranged side by side in one direction with the end faces in contact with each other, and the contacting end faces have an arithmetic average roughness of 0.1 μm or less. ..

第２の態様に係る紫外線照射装置において、ガラス板の４個の端面が、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する。 In the ultraviolet irradiation device according to the second aspect, the four end faces of the glass plate have an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less.

第３の態様に係る紫外線照射装置において、ガラス板の、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する端面が、面取部を有する。 In the ultraviolet irradiation device according to the third aspect, the end face of the glass plate having an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less has a chamfered portion.

第４の態様に係る紫外線照射装置において、赤外線カットガラスが、２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域において９２％以上の透過率を有し、７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の波長域において７８％以下の透過率を有する。 In the ultraviolet irradiation device according to the fourth aspect, the infrared cut glass has a transmittance of 92% or more in a wavelength range of 200 nm or more and 400 nm or less, and has a transmittance of 78% or less in a wavelength range of 700 nm or more and 2000 nm or less. ..

第５の態様に係る紫外線照射装置において、赤外線カットガラスが、複数の誘電体膜を、両方の主面に備える。 In the ultraviolet irradiation device according to the fifth aspect, the infrared cut glass includes a plurality of dielectric films on both main surfaces.

第６の態様に係る紫外線照射装置において、ガラス板が矩形である。 In the ultraviolet irradiation device according to the sixth aspect, the glass plate is rectangular.

第７の態様に係る紫外線照射装置において、ガラス板が、溶融石英ガラス、及び合成石英ガラスの何れかである。 In the ultraviolet irradiation device according to the seventh aspect, the glass plate is either fused silica glass or synthetic quartz glass.

第８の態様に係る紫外線照射装置において、光源が、メタルハライドランプ、水銀ランプ、及び発光ダイオードの少なくも一つにより構成される。 In the ultraviolet irradiation device according to the eighth aspect, the light source is composed of at least one of a metal halide lamp, a mercury lamp, and a light emitting diode.

第９の態様に係る紫外線照射装置において、光源に対して複数の赤外線カットガラスと反対側に配置され、光源から放射される光を対象物に向けて反射する反射鏡を備える。 The ultraviolet irradiation device according to the ninth aspect includes a reflector that is arranged on the opposite side of the plurality of infrared cut glasses with respect to the light source and that reflects the light emitted from the light source toward the object.

第１０の態様に係る紫外線照射装置において、反射鏡に対して光源と反対側に配置される冷却機構を備える。 The ultraviolet irradiation device according to the tenth aspect includes a cooling mechanism arranged on the side opposite to the light source with respect to the reflecting mirror.

第１１の態様に係る光学フィルムの製造方法は、紫外線硬化性化合物を含む塗膜が形成された支持体を搬送する搬送工程と、上述の紫外線照射装置から対象物である塗膜が形成された支持体に光を照射する照射工程を含む。 The method for producing an optical film according to the eleventh aspect includes a transport step of transporting a support on which a coating film containing an ultraviolet curable compound is formed, and a coating film to be an object formed from the above-mentioned ultraviolet irradiation device. It includes an irradiation step of irradiating the support with light.

第１２の態様に係る光学フィルムにおいて、照射工程が不活性ガス雰囲気下で行われる。 In the optical film according to the twelfth aspect, the irradiation step is performed in an inert gas atmosphere.

第１３の態様に係る赤外線カットガラスは、紫外線照射装置において端面同士を接触させて並べて配置され、対向する主面と主面を繋ぐ４個の端面とを有する平面視で四角形のガラス板と、ガラス板の少なくとも一方の主面に配置された複数の誘電体膜と、少なくとも接触される端面が０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する。 The infrared cut glass according to the thirteenth aspect is arranged side by side with the end faces in contact with each other in the ultraviolet irradiation device, and has a rectangular glass plate in a plan view having a main surface facing each other and four end faces connecting the main surfaces. The plurality of dielectric films arranged on at least one main surface of the glass plate and at least the end faces in contact with each other have an arithmetic average roughness of 0.1 μm or less.

本発明によれば、赤外線カットガラスが破損等することを抑制できる。 According to the present invention, it is possible to prevent the infrared cut glass from being damaged.

図１は、紫外線照射装置を含む製造ラインの全体の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of the entire production line including the ultraviolet irradiation device. 図２は、実施形態の紫外線照射装置の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the ultraviolet irradiation device of the embodiment. 図３は、赤外線カットガラスの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of infrared cut glass. 図４は、枠体に支持される赤外線カットガラスの平面図である。FIG. 4 is a plan view of infrared cut glass supported by the frame. 図５は、図４のＶ−Ｖに沿う断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 図６は、枠体に支持されるカバーガラスの平面図である。FIG. 6 is a plan view of the cover glass supported by the frame body. 図７は、試験１、及び試験２の試験前と、マイクロスコープ画像を対比して示す図である。FIG. 7 is a diagram showing the microscope images in comparison with those before the tests of Test 1 and Test 2. 図８は、試験２の試験後の斜め上から観察した際の画像である。FIG. 8 is an image when observed from diagonally above after the test of Test 2.

以下、添付図面にしたがって本発明の好ましい実施形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施形態により説明される。本発明の範囲を逸脱すること無く、多くの手法により変更を行うことができ、実施形態以外の他の実施形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention will be described by the following preferred embodiments. Changes can be made by many methods without departing from the scope of the present invention, and embodiments other than the embodiment can be used. Therefore, all modifications within the scope of the present invention are included in the claims.

図１は、実施形態の紫外線照射装置を含む製造ラインの全体の概略図である。なお、ここでいう「上流」、及び「下流」は、支持体Ｗの搬送方向（Machine Direction）を基準としている。ある基準に対して搬送方向側に位置する場合を「下流」、搬送方向と反対側に位置する場合を「上流」と定義される。 FIG. 1 is a schematic view of the entire production line including the ultraviolet irradiation device of the embodiment. The "upstream" and "downstream" referred to here are based on the transport direction (Machine Direction) of the support W. The case where it is located on the transport direction side with respect to a certain reference is defined as "downstream", and the case where it is located on the opposite side of the transport direction is defined as "upstream".

図１に示されるように、製造ライン１は、対象物を構成する支持体Ｗを送り出す送り出し装置１０と、支持体Ｗを巻き取る巻き取り装置１２と、を備える。支持体Ｗは、送り出し装置１０から巻き取り装置１２に、矢印に示される搬送方向に沿って、連続的に搬送される。 As shown in FIG. 1, the production line 1 includes a delivery device 10 that sends out a support W that constitutes an object, and a take-up device 12 that winds up the support W. The support W is continuously conveyed from the delivery device 10 to the take-up device 12 along the transfer direction indicated by the arrow.

送り出し装置１０は、支持体Ｗを巻き回したロールを送り出すことができれば、その構造は特に限定されない。送り出し装置１０として、複数のロールを連続的に送り出すことができる、ターレット式の送り出し装置１０を好適に使用できる。 The structure of the feeding device 10 is not particularly limited as long as the roll around the support W can be fed. As the delivery device 10, a turret type delivery device 10 capable of continuously delivering a plurality of rolls can be preferably used.

巻き取り装置１２は、支持体Ｗを巻き回してロールにすることができれば、その構造は特に限定されない。巻き取り装置１２として、支持体Ｗを複数のロールに巻き取ることができる、ターレット式の巻き取り装置１２を好適に使用できる。 The structure of the take-up device 12 is not particularly limited as long as the support W can be wound into a roll. As the take-up device 12, a turret-type take-up device 12 capable of winding the support W on a plurality of rolls can be preferably used.

送り出し装置１０の下流には塗布装置１４が配置される。塗布装置１４から支持体Ｗの一方の面に塗布液が塗布される。塗布液は、少なくとも紫外線硬化性化合物を含んでいる。 A coating device 14 is arranged downstream of the feeding device 10. The coating liquid is applied from the coating device 14 to one surface of the support W. The coating liquid contains at least an ultraviolet curable compound.

塗布装置１４により、支持体Ｗの上に乾燥前の塗膜１６が形成される。塗布装置１４の下流には、乾燥装置１８が配置される。乾燥装置１８には、搬送される支持体Ｗの通過を可能にする入口開口１８Ａと出口開口１８Ｂとが形成される。乾燥装置１８は、搬送される支持体Ｗの上に形成された塗膜１６を乾燥させる。 The coating device 14 forms a coating film 16 before drying on the support W. A drying device 18 is arranged downstream of the coating device 14. The drying device 18 is formed with an inlet opening 18A and an outlet opening 18B that allow the conveyed support W to pass through. The drying device 18 dries the coating film 16 formed on the conveyed support W.

乾燥装置１８の下流には、ケーシング２０が配置される。ケーシング２０には、搬送される支持体Ｗの通過を可能にする入口開口２０Ａと出口開口２０Ｂとが形成される。ケーシング２０の中を不活性ガス雰囲気下にするため、ケーシング２０の中には、不活性ガスを供給するノズル２４が配置される。 A casing 20 is arranged downstream of the drying device 18. The casing 20 is formed with an inlet opening 20A and an outlet opening 20B that allow the conveyed support W to pass through. In order to create an inert gas atmosphere inside the casing 20, a nozzle 24 for supplying the inert gas is arranged in the casing 20.

ケーシング２０には、紫外線照射装置３０が取り付けられている。紫外線照射装置３０は、支持体Ｗと、支持体Ｗの上に形成された乾燥後の塗膜１６とに光を照射する。支持体Ｗの上に形成された塗膜１６が硬化する。 An ultraviolet irradiation device 30 is attached to the casing 20. The ultraviolet irradiation device 30 irradiates the support W and the dried coating film 16 formed on the support W with light. The coating film 16 formed on the support W is cured.

ケーシング２０の下流に配置された巻き取り装置１２により、硬化された塗膜１６の形成された支持体Ｗが、ロールに巻き取られる。 The support W on which the cured coating film 16 is formed is wound on a roll by a winding device 12 arranged downstream of the casing 20.

図２を参照して、実施形態の紫外線照射装置３０について説明する。図２に示されるように、紫外線照射装置３０は、第１室３２Ａと第２室３２Ｂとを有する筐体３２を備える。第１室３２Ａには、光を放射する棒状の光源３４と、光源３４を覆う反射鏡３６と、を備える。光源３４、及び反射鏡３６は、搬送方向に直交する幅方向（Transverse Direction）に延び、支持体Ｗの幅よりも大きい長さを有している。 The ultraviolet irradiation device 30 of the embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the ultraviolet irradiation device 30 includes a housing 32 having a first chamber 32A and a second chamber 32B. The first chamber 32A includes a rod-shaped light source 34 that emits light and a reflecting mirror 36 that covers the light source 34. The light source 34 and the reflecting mirror 36 extend in the width direction (Transverse Direction) orthogonal to the transport direction, and have a length larger than the width of the support W.

反射鏡３６は、楕円の一部、又は放物線の断面形状を有する。反射鏡３６は、光源３４から放射される光を反射し、光源３４からの光を効率的に支持体Ｗに導く。 The reflector 36 has a part of an ellipse or a parabolic cross-sectional shape. The reflector 36 reflects the light emitted from the light source 34 and efficiently guides the light from the light source 34 to the support W.

光源３４として、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、又は発光ダイオード光源等を使用することできる。光源３４から放射される光は、紫外線と称される２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長の光と、波長以外の７００ｎｍ以上の波長の光とを含んでいる。２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長の光は、塗膜１６に含まれる紫外線硬化性化合物の反応に寄与する。一方で、７００ｎｍ以上の波長の光は、支持体Ｗを加熱する要因となる。 As the light source 34, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a light emitting diode light source, or the like can be used. The light emitted from the light source 34 includes light having a wavelength of 200 nm or more and 400 nm or less, which is called ultraviolet light, and light having a wavelength of 700 nm or more other than the wavelength. Light having a wavelength of 200 nm or more and 400 nm or less contributes to the reaction of the ultraviolet curable compound contained in the coating film 16. On the other hand, light having a wavelength of 700 nm or more becomes a factor for heating the support W.

そこで、複数の赤外線カットガラス３８が、第１室３２Ａの中であって、光源３４と支持体Ｗの間となる位置に配置される。赤外線カットガラス３８は７００ｎｍ以上の波長の光を反射、又は吸収することができるので、赤外線カットガラス３８は７００ｎｍ以上の波長の光が、塗膜１６、及び支持体Ｗに照射されないようにできる。なお、複数の赤外線カットガラス３８は筐体３２に取り付けられた枠体４４により、支持される。 Therefore, a plurality of infrared cut glasses 38 are arranged at positions in the first chamber 32A between the light source 34 and the support W. Since the infrared cut glass 38 can reflect or absorb light having a wavelength of 700 nm or more, the infrared cut glass 38 can prevent light having a wavelength of 700 nm or more from being irradiated to the coating film 16 and the support W. The plurality of infrared cut glasses 38 are supported by the frame body 44 attached to the housing 32.

なお、赤外線カットガラス３８は、紫外線硬化性化合物の反応に不要な波長を選択的に反射する。反射の輻射熱により、第１室３２Ａが加熱される懸念がある。第１室３２Ａ内の温度を徐冷するため、第２室３２Ｂに冷却機構４６が配置される。冷却機構４６として、例えば、ファン、多孔板等を挙げることができる。 The infrared cut glass 38 selectively reflects wavelengths unnecessary for the reaction of the ultraviolet curable compound. There is a concern that the first chamber 32A may be heated by the reflected radiant heat. A cooling mechanism 46 is arranged in the second chamber 32B in order to slowly cool the temperature in the first chamber 32A. Examples of the cooling mechanism 46 include a fan, a perforated plate, and the like.

図２に示されるように、赤外線カットガラス３８は、紫外線照射装置３０において、ケーシング２０に近い側に配置される。 As shown in FIG. 2, the infrared cut glass 38 is arranged on the side close to the casing 20 in the ultraviolet irradiation device 30.

ケーシング２０には、紫外線照射装置３０から光を透過させるための窓５０が設けられている。窓５０は、ケーシング２０の開口に配置されたカバーガラス５２と、カバーガラス５２を支持する枠体５４と、カバーガラス５２と枠体５４との間を埋めるゴムパッキン５６とにより構成される。 The casing 20 is provided with a window 50 for transmitting light from the ultraviolet irradiation device 30. The window 50 is composed of a cover glass 52 arranged at the opening of the casing 20, a frame body 54 that supports the cover glass 52, and a rubber packing 56 that fills the space between the cover glass 52 and the frame body 54.

紫外線照射装置３０と窓５０とが位置合わせされ、紫外線照射装置３０は窓５０に対して着脱自在に固定される。紫外線照射装置３０の投影面積と、カバーガラス５２の平面視で面積とは、略同じ大きさに設定されている。したがって、カバーガラス５２は、紫外線照射装置３０からの光をほぼ全て、ケーシング２０に中に透過できる。 The ultraviolet irradiation device 30 and the window 50 are aligned, and the ultraviolet irradiation device 30 is detachably fixed to the window 50. The projected area of the ultraviolet irradiation device 30 and the area of the cover glass 52 in a plan view are set to substantially the same size. Therefore, the cover glass 52 can transmit almost all the light from the ultraviolet irradiation device 30 into the casing 20.

赤外線カットガラス３８を通過した紫外線照射装置３０からの光は、窓５０を透過し、ケーシング２０の中を搬送される塗膜１６、及び支持体Ｗに照射される。 The light from the ultraviolet irradiation device 30 that has passed through the infrared cut glass 38 passes through the window 50 and is applied to the coating film 16 and the support W that are conveyed in the casing 20.

ケーシング２０の中に存在する酸素が、紫外線硬化性化合物の反応を阻害する。ノズル２４（図１参照）から不活性ガスを噴射され、ケーシング２０の中が不活性ガスに置き替えられる。したがって、ケーシング２０、特に窓５０のカバーガラス５２から不活性ガスをリークさせないことが好ましい。 The oxygen present in the casing 20 inhibits the reaction of the UV curable compound. The inert gas is injected from the nozzle 24 (see FIG. 1), and the inside of the casing 20 is replaced with the inert gas. Therefore, it is preferable that the inert gas does not leak from the casing 20, particularly the cover glass 52 of the window 50.

図３は、赤外線カットガラス３８の斜視図である。図３に示されるように、赤外線カットガラス３８は、平面視で四角形のガラス板４０により構成される。ガラス板４０は、例えば、溶融石英ガラス、及び合成石英ガラスの何れかで構成されることが好ましい。溶融石英ガラスは水晶の粉末を酸水素炎で溶融した石英ガラスである。合成石英ガラスは、四塩化ケイ素を加水分解して得られる石英ガラスである。石英ガラスにすることにより、熱膨張係数を小さくでき、２００ｎｍの波長の光を透過させることができる。 FIG. 3 is a perspective view of the infrared cut glass 38. As shown in FIG. 3, the infrared cut glass 38 is composed of a quadrangular glass plate 40 in a plan view. The glass plate 40 is preferably made of, for example, molten quartz glass or synthetic quartz glass. Fused quartz glass is quartz glass obtained by melting crystal powder with a hydrogen acid flame. Synthetic quartz glass is quartz glass obtained by hydrolyzing silicon tetrachloride. By using quartz glass, the coefficient of thermal expansion can be reduced and light having a wavelength of 200 nm can be transmitted.

ガラス板４０は、対向する２個の主面４０Ａと、２個の主面４０Ａを繋ぐ４個の端面（対向する２個の端面４０Ｂ及び対向する２個の端面４０Ｃ）とを有している。主面４０Ａは面積の大きな部分で、光源３４からの光（後述する誘電体膜で反射、又は吸収される光を除く）を透過する面になる。主面４０Ａは、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有することが好ましい。０．１μｍ以下の算術平均粗さにすることにより、ガラス板４０の主面４０Ａでの光の散乱、屈折率のバラツキを小さくでき、ガラス板４０に求められる光学特性を維持することができる。 The glass plate 40 has two facing main surfaces 40A and four end faces connecting the two main surfaces 40A (two facing end faces 40B and two facing end faces 40C). .. The main surface 40A is a portion having a large area, and is a surface that transmits light from the light source 34 (excluding light reflected or absorbed by the dielectric film described later). The main surface 40A preferably has an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. By setting the arithmetic mean roughness to 0.1 μm or less, it is possible to reduce the scattering of light and the variation in the refractive index on the main surface 40A of the glass plate 40, and it is possible to maintain the optical characteristics required for the glass plate 40.

赤外線カットガラス３８は、光源３４からの赤外線をカットするため、２個の主面４０Ａの少なくとも一方の主面に、複数の誘電体膜（不図示）が形成されている。複数の誘電体膜は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層した構造を有する。低屈折率層を構成する材料として、酸化チタン等を挙げることができ、高屈折率層を構成する材料としてシリカ等を挙げることができる。 Since the infrared cut glass 38 cuts infrared rays from the light source 34, a plurality of dielectric films (not shown) are formed on at least one main surface of the two main surfaces 40A. The plurality of dielectric films have a structure in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated. Examples of the material constituting the low refractive index layer include titanium oxide, and examples of the material constituting the high refractive index layer include silica and the like.

実施形態の赤外線カットガラス３８は、両方の主面４０Ａに複数の誘電体膜が形成されることが好ましい。一方の主面４０Ａのみに複数の誘電体膜を形成すると、複数の誘電体膜が全体として厚くなり、クラック等が生じる懸念がある。両方の主面４０Ａに複数の誘電体膜を形成することで、誘電体膜のクラックを回避できる。 In the infrared cut glass 38 of the embodiment, it is preferable that a plurality of dielectric films are formed on both main surfaces 40A. If a plurality of dielectric films are formed only on one main surface 40A, the plurality of dielectric films may become thick as a whole and cracks or the like may occur. By forming a plurality of dielectric films on both main surfaces 40A, cracks in the dielectric films can be avoided.

実施形態において、赤外線カットガラス３８の複数の誘電体膜は、７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の波長域において７８％以下の透過率を有するように構成される。また、赤外線カットガラス３８は石英ガラスで構成されるので、２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域において９２％以上の透過率を有することができる。透過率は分光光度計により測定することできる。 In the embodiment, the plurality of dielectric films of the infrared cut glass 38 are configured to have a transmittance of 78% or less in a wavelength range of 700 nm or more and 2000 nm or less. Further, since the infrared cut glass 38 is made of quartz glass, it can have a transmittance of 92% or more in a wavelength range of 200 nm or more and 400 nm or less. The transmittance can be measured by a spectrophotometer.

図４は、枠体４４に支持された赤外線カットガラス３８を光源の側から見た平面図である。図５はＶ−Ｖ線に沿う断面図である。図４に示されるように枠体４４は、２個のスライド枠体４４Ａと、２個の固定板４４Ｂとにより構成される。スライド枠体４４Ａと固定板４４Ｂとは、金属で構成され、例えばアルミニウムで構成することが好ましい。 FIG. 4 is a plan view of the infrared cut glass 38 supported by the frame body 44 as viewed from the side of the light source. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV. As shown in FIG. 4, the frame body 44 is composed of two slide frame bodies 44A and two fixing plates 44B. The slide frame 44A and the fixing plate 44B are made of metal, and are preferably made of, for example, aluminum.

複数の赤外線カットガラス３８は、両方の端面４０Ｃの側で２個のスライド枠体４４Ａにより支持され、かつ複数の赤外線カットガラス３８は２個の固定板４４Ｂによりスライド枠体４４Ａに沿って両側から挟み込まれている。その結果、複数の赤外線カットガラス３８は、ガラス板４０のそれぞれの端面４０Ｂ同士を接触させて、隙間なく一方向に並べて配置される。ここで、一方向は、支持体Ｗの幅方向に沿う方向である。複数の赤外線カットガラス３８を隙間なく配置することにより、紫外線硬化性化合物の反応に寄与しない波長の光が、複数の赤外線カットガラス３８の間を通過してしまうことを防止できる。なお、固定板４４Ｂはネジ等で固定され、複数の赤外線カットガラス３８が移動することを防止する。複数の赤外線カットガラス３８は平面視で四角形であればよく、矩形であることがより好ましい。 The plurality of infrared cut glasses 38 are supported by two slide frame bodies 44A on the sides of both end faces 40C, and the plurality of infrared cut glass 38s are supported by two fixing plates 44B from both sides along the slide frame body 44A. It is sandwiched. As a result, the plurality of infrared cut glasses 38 are arranged side by side in one direction without gaps by bringing the end faces 40B of the glass plates 40 into contact with each other. Here, one direction is a direction along the width direction of the support W. By arranging the plurality of infrared cut glasses 38 without gaps, it is possible to prevent light having a wavelength that does not contribute to the reaction of the ultraviolet curable compound from passing between the plurality of infrared cut glasses 38. The fixing plate 44B is fixed with screws or the like to prevent the plurality of infrared cut glasses 38 from moving. The plurality of infrared cut glasses 38 may be rectangular in a plan view, and more preferably rectangular.

図５に示されるように、赤外線カットガラス３８はＵ字型の断面を有するスライド枠体４４Ａに支持される。スライド枠体４４Ａから固定板４４Ｂを取り外した際、赤外線カットガラス３８をスライド枠体４４Ａに沿って移動させて配置できるよう、赤外線カットガラス３８と２個のスライド枠体４４Ａと間には１．５ｍｍ以下のクリアランス合計が設けられている。 As shown in FIG. 5, the infrared cut glass 38 is supported by a slide frame 44A having a U-shaped cross section. 1. Between the infrared cut glass 38 and the two slide frames 44A so that the infrared cut glass 38 can be moved and arranged along the slide frame 44A when the fixing plate 44B is removed from the slide frame 44A. A total clearance of 5 mm or less is provided.

ところで、光源３４が点灯されると、光源３４からの光が赤外線カットガラス３８、及び枠体４４を加熱する。すると、赤外線カットガラス３８、及び枠体４４の温度が上昇し、赤外線カットガラス３８、及び枠体４４が熱膨張する。赤外線カットガラス３８が石英ガラスである場合、熱膨張係数は０．４７×１０−６／℃である。枠体４４がアルミニウム製である場合、熱膨張係数は２４．３×１０−６／℃である。赤外線カットガラス３８と枠体４４とは熱膨張係数が異なり、熱膨張係数に関して、枠体４４が赤外線カットガラス３８より大きい。熱膨張係数の差に起因して、赤外線カットガラス３８と枠体４４との間のクリアランスが常温時より小さくなる。結果、赤外線カットガラス３８にストレスが加えられ、隣接する赤外線カットガラス３８の端面４０Ｂ同士が擦れて、赤外線カットガラス３８が破損を生じることがあった。特に、光源３４の点灯及び消灯を繰り返した場合、端面４０Ｂ同士が擦れる回数が多くなり、赤外線カットガラス３８が破損しやすくなる。By the way, when the light source 34 is turned on, the light from the light source 34 heats the infrared cut glass 38 and the frame 44. Then, the temperature of the infrared cut glass 38 and the frame 44 rises, and the infrared cut glass 38 and the frame 44 thermally expand. When the infrared cut glass 38 is quartz glass, the coefficient of thermal expansion is 0.47 × 10 -6 / ° C. When the frame 44 is made of aluminum, the coefficient of thermal expansion is 24.3 × 10 -6 / ° C. The infrared cut glass 38 and the frame 44 have different coefficients of thermal expansion, and the frame 44 is larger than the infrared cut glass 38 in terms of the coefficient of thermal expansion. Due to the difference in the coefficient of thermal expansion, the clearance between the infrared cut glass 38 and the frame 44 becomes smaller than at room temperature. As a result, stress was applied to the infrared cut glass 38, and the end faces 40B of the adjacent infrared cut glasses 38 rubbed against each other, which sometimes caused the infrared cut glass 38 to be damaged. In particular, when the light source 34 is repeatedly turned on and off, the number of times the end faces 40B rub against each other increases, and the infrared cut glass 38 is easily damaged.

発明者は、隣接する赤外線カットガラス３８の破損等について、鋭意検討した結果、次の知見を得た。即ち、赤外線カットガラス３８の破損等が、赤外線カットガラス３８を構成するガラス板４０の端面４０Ｂの算術平均粗さと関係することを見出し、本発明に至った。 As a result of diligent studies on the breakage of the adjacent infrared cut glass 38, the inventor obtained the following findings. That is, they have found that the breakage of the infrared cut glass 38 is related to the arithmetic mean roughness of the end face 40B of the glass plate 40 constituting the infrared cut glass 38, and have reached the present invention.

実施形態では、ガラス板４０の接触する端面４０Ｂの算術平均粗さを０．１μｍ以下にすることにより、赤外線カットガラス３８が破損をすることを防止する。端面４０Ｂの算術平均粗さを０．１μｍ以下にすることにより、端面４０Ｂに残存するクラックの数を少なくでき、又はクラックの深度を浅くできる。ガラス板４０の端面４０Ｂ同士の接触により端面４０Ｂのクラックに応力が集中することを回避できる。結果として、紫外線照射装置３０を動作させた場合において、赤外線カットガラス３８の破損等を防止することができる。また、固定板４４Ｂと接触する端面４０Ｂに対して、算術平均粗さを０．１μｍ以下にすることができる。 In the embodiment, the infrared cut glass 38 is prevented from being damaged by setting the arithmetic mean roughness of the end face 40B in contact with the glass plate 40 to 0.1 μm or less. By setting the arithmetic mean roughness of the end face 40B to 0.1 μm or less, the number of cracks remaining on the end face 40B can be reduced, or the depth of cracks can be made shallow. It is possible to prevent stress from concentrating on cracks in the end faces 40B due to contact between the end faces 40B of the glass plates 40. As a result, it is possible to prevent the infrared cut glass 38 from being damaged when the ultraviolet irradiation device 30 is operated. Further, the arithmetic mean roughness can be set to 0.1 μm or less with respect to the end face 40B in contact with the fixing plate 44B.

算術平均粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４）に基づく算術平均粗さＲａを意味する。端面４０Ｂの算術平均粗さは、表面粗さ計（ミツトヨ製、型式ＳＪ−２０１、精度 ０．０１μｍ、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４準拠）を用いて測定することができる。測定箇所は、端面４０Ｃから内側に５ｍｍの範囲である（図５参照）。 Arithmetic mean roughness means arithmetic mean roughness Ra based on JIS B0601 (1994). The arithmetic mean roughness of the end face 40B can be measured using a surface roughness meter (manufactured by Mitutoyo, model SJ-201, accuracy 0.01 μm, JIS B0601-1994 compliant). The measurement point is in the range of 5 mm inward from the end face 40C (see FIG. 5).

接触するガラス板４０の端面４０Ｂに加えて、スライド枠体４４Ａに対向するガラス板４０の端面４０Ｃを０．１μｍ以下の算術平均粗さとすることが好ましい。ガラス板４０の端面４０Ｃとスライド枠体４４Ａとの擦れに起因する、赤外線カットガラス３８の破損等を防止することができる。 In addition to the end face 40B of the glass plate 40 in contact, it is preferable that the end face 40C of the glass plate 40 facing the slide frame 44A has an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. It is possible to prevent the infrared cut glass 38 from being damaged due to the rubbing between the end surface 40C of the glass plate 40 and the slide frame 44A.

ガラス板４０の４個の端面（端面４０Ｂ、及び端面４０Ｃ）を０．１μｍ以下の算術平均粗さにすることにより、ガラス板４０自身が加熱により膨張した際にも、端面４０Ｂ及び端面４０Ｃのクラックに応力が集中することを防止でき、赤外線カットガラス３８の破損等を防止することができる。 By making the four end faces (end face 40B and end face 40C) of the glass plate 40 having an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less, even when the glass plate 40 itself expands due to heating, the end face 40B and the end face 40C It is possible to prevent stress from concentrating on the cracks and prevent damage to the infrared cut glass 38.

次にガラス板４０の端面４０Ｂを０．１μｍ以下の算術平均粗さにする方法の一例を説明する。ガラス板４０の端面４０Ｂを研削した後、端面４０Ｂをアルミナ、酸化セリウム等の砥粒を用いてバフ研磨を施すことより、端面４０Ｂを０．１μｍ以下の算術平均粗さにできる。端面４０Ｂは、光学研磨面であることが好ましい。光学研磨面は、光の散乱、局部的な屈折率のバラツキ等が低減された光学的機能する面を意味する。ガラス板４０の端面４０Ｂを、光学研磨面とすることにより、より確実に赤外線カットガラス３８の破損等を防止することができる。 Next, an example of a method of adjusting the end face 40B of the glass plate 40 to an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less will be described. After grinding the end face 40B of the glass plate 40, the end face 40B is buffed with abrasive grains such as alumina and cerium oxide, so that the end face 40B can have an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. The end face 40B is preferably an optically polished surface. The optically polished surface means an optically functional surface in which light scattering, local variation in the refractive index, and the like are reduced. By using the end surface 40B of the glass plate 40 as an optically polished surface, it is possible to more reliably prevent damage to the infrared cut glass 38.

端面４０Ｂについて説明したが、端面４０Ｃについても同様の方法を適用することができ、端面４０Ｃを０．１μｍ以下の算術平均粗さにすることができる。 Although the end face 40B has been described, the same method can be applied to the end face 40C, and the end face 40C can have an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less.

図３において、赤外線カットガラス３８を構成するガラス板４０の主面４０Ａと端面４０Ｂとの境界線、及び主面４０Ａと端面４０Ｃとの境界線での成す角度は、ほぼ９０°である。しかしながら、境界線での角度が９０°であると、赤外線カットガラス３８の各境界線で欠け等が発生しやすくなる。ガラス板４０の端面４０Ｂと端面４０Ｃにおける境界線に面取部を形成することが好ましい。面取部とは、境界線を削りとった状態を意味し、Ｒ面取部、又はＣ面取部とすることができる。Ｒ面取部は境界線を曲線に削り取った形状であり、Ｃ面取部は所定の角度で直線状に削り取った形状である。 In FIG. 3, the angle formed by the boundary line between the main surface 40A and the end surface 40B and the boundary line between the main surface 40A and the end surface 40C of the glass plate 40 constituting the infrared cut glass 38 is approximately 90 °. However, if the angle at the boundary line is 90 °, chipping or the like is likely to occur at each boundary line of the infrared cut glass 38. It is preferable to form a chamfered portion at the boundary line between the end face 40B and the end face 40C of the glass plate 40. The chamfered portion means a state in which the boundary line is scraped off, and may be an R chamfered portion or a C chamfered portion. The R chamfered portion has a shape in which the boundary line is cut into a curved line, and the C chamfered portion has a shape in which the boundary line is cut into a straight line at a predetermined angle.

図６は、枠体５４に支持されたカバーガラス５２を光源３４の側から見た平面図である。図６に示されるように枠体５４は、２個のスライド枠体５４Ａと、２個の固定板５４Ｂとにより構成される。スライド枠体５４Ａと固定板５４Ｂとは、金属で構成され、例えば、ステンレス鋼で構成させることができる。カバーガラス５２は、支持体Ｗの幅方向に沿って延びる長尺の一枚板で構成される。カバーガラス５２は、溶融石英ガラス、及び合成石英ガラスの何れかで構成されることが好ましい。石英ガラスにすることにより、熱膨張係数を小さくでき、２００ｎｍの波長の光を透過させることができる。カバーガラス５２は、複数の石英ガラス板を準備し、石英ガラス板の端面同士を溶接することにより一枚板の構成にすることができる。カバーガラス５２は対向する主面を有する。主面は０．１μｍ以下の算術平均粗さを有することが好ましい。カバーガラス５２の主面は、面積の大きな部分で、紫外線照射装置３０からの光を透過させる面となる。０．１μｍ以下の算術平均粗さにすることにより、カバーガラス５２の主面での光の散乱、屈折率のバラツキを小さくでき、求められる光学特性を維持することができる。 FIG. 6 is a plan view of the cover glass 52 supported by the frame body 54 as viewed from the side of the light source 34. As shown in FIG. 6, the frame body 54 is composed of two slide frame bodies 54A and two fixing plates 54B. The slide frame body 54A and the fixing plate 54B are made of metal, and can be made of, for example, stainless steel. The cover glass 52 is composed of a long single plate extending along the width direction of the support W. The cover glass 52 is preferably made of either fused silica glass or synthetic quartz glass. By using quartz glass, the coefficient of thermal expansion can be reduced and light having a wavelength of 200 nm can be transmitted. The cover glass 52 can be formed into a single plate by preparing a plurality of quartz glass plates and welding the end faces of the quartz glass plates to each other. The cover glass 52 has facing main surfaces. The main surface preferably has an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. The main surface of the cover glass 52 is a portion having a large area and serves as a surface through which light from the ultraviolet irradiation device 30 is transmitted. By setting the arithmetic mean roughness to 0.1 μm or less, it is possible to reduce the scattering of light and the variation in the refractive index on the main surface of the cover glass 52, and it is possible to maintain the required optical characteristics.

カバーガラス５２が一枚板であり、かつゴムパッキン５６がスライド枠体５４Ａとカバーガラス５２との間に介在するので、ケーシング２０の中の不活性ガスが窓５０からリークすることを防止することができる。 Since the cover glass 52 is a single plate and the rubber packing 56 is interposed between the slide frame 54A and the cover glass 52, the inert gas in the casing 20 is prevented from leaking from the window 50. Can be done.

次に、図１を参照して、光学フィルムの製造方法について説明する。送り出し装置１０に支持体Ｗを巻き回したロールがセットされる。支持体Ｗは、可撓性の連続した帯状であって、対向する面積の大きな面を有し、膜厚の薄い部材を意味する。支持体Ｗを構成する材質として、樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルムの材質として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体、６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が例示することができる。 Next, a method for manufacturing an optical film will be described with reference to FIG. A roll around which the support W is wound is set in the delivery device 10. The support W means a member having a flexible continuous band shape, having surfaces having a large facing area, and a thin film thickness. As a material constituting the support W, a resin film can be mentioned. Examples of the material of the resin film include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, vinyl polymers such as polyvinyl acetate, polyvinyl chloride and polystyrene, polyamides such as 6,6-nylon and 6-nylon, polyethylene terephthalate, polyethylene-2, Examples thereof include polyesters such as 6-naphthalate, polycarbonates, cellulose triacetates, cellulose acetates such as cellulose diacetate, and the like.

送り出し装置１０から支持体Ｗが、例えば、０．１ｍ／秒から１．５ｍ／秒の搬送速度で送り出される。 The support W is delivered from the delivery device 10 at a transport speed of, for example, 0.1 m / sec to 1.5 m / sec.

塗布装置１４から塗布液が支持体Ｗの一方面に供給され、支持体Ｗの一方面に塗膜１６が形成される。塗膜１６とは、支持体Ｗに塗布された塗布液を意味し、乾燥前、乾燥後、硬化前、及び硬化後の塗布液を含む。塗膜１６が形成された支持体Ｗが搬送される（搬送工程）。 The coating liquid is supplied from the coating device 14 to one surface of the support W, and the coating film 16 is formed on one surface of the support W. The coating film 16 means a coating liquid applied to the support W, and includes a coating liquid before drying, after drying, before curing, and after curing. The support W on which the coating film 16 is formed is conveyed (transfer step).

塗布装置１４の方式は、エクストルージョンコート方式、ディップコート方式、エアーナイフコート方式、カーテンコート方式、スライドコート方式、ローラーコート方式、ワイヤーバーコート方式、及びグラビアコート方式の何れも適用することができ、これらには限定されない。 As the method of the coating device 14, any of the extrusion coating method, the dip coating method, the air knife coating method, the curtain coating method, the slide coating method, the roller coating method, the wire bar coating method, and the gravure coating method can be applied. , Not limited to these.

塗布液は、少なくとも紫外線硬化性化合物を含み、紫外線硬化性化合物以外にも溶媒、光重合開始剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を必要に応じて含んでいてもよい。 The coating liquid contains at least an ultraviolet curable compound, and may contain a solvent, a photopolymerization initiator, a surfactant, an ultraviolet absorber and the like, if necessary, in addition to the ultraviolet curable compound.

紫外線硬化性化合物としては、紫外線により硬化可能な紫外線硬化性化合物（紫外線硬化性モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の紫外線硬化性化合物等）等が例示できる。なお、紫外線硬化性モノマー、オリゴマー、又は低分子量であってもよい。紫外線硬化性化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the ultraviolet curable compound include ultraviolet curable compounds (ultraviolet curable monomers, oligomers, prepolymers and the like) that can be cured by ultraviolet rays. It may be an ultraviolet curable monomer, an oligomer, or a low molecular weight. The UV curable compound can be used alone or in combination of two or more.

紫外線硬化性化合物は、通常、紫外線硬化性基、例えば、重合性基（ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等）、感光性基（シンナモイル基等）等を有しており、特に重合性基を有する紫外線硬化性化合物（例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂））が好ましい。 The ultraviolet curable compound usually has an ultraviolet curable group, for example, a polymerizable group (vinyl group, allyl group, (meth) acryloyl group, etc.), a photosensitive group (cinnamoyl group, etc.), and the like, and particularly polymerizes. UV curable compounds having a sex group (eg, monomers, oligomers (or resins, especially low molecular weight resins)) are preferred.

重合性基を有する紫外線硬化性化合物のうち、単量体としては、例えば、単官能性単量体［（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル系単量体、例えば、アルキル（メタ）アクリレート（メチル（メタ）アクリレート等のＣ１−６アルキル（メタ）アクリレート等）、シクロアルキル（メタ）アクリレート、橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート（イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等）、グリシジル（メタ）アクリレート；酢酸ビニル等のビニルエステル、ビニルピロリドン等のビニル系単量体等］、少なくとも２つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体［エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の３から６程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体］が例示できる。 Among the ultraviolet curable compounds having a polymerizable group, examples of the monomer include a monofunctional monomer [a (meth) acrylic monomer such as (meth) acrylic acid ester, for example, an alkyl (meth). Acrylate (C1-6 alkyl (meth) acrylate such as methyl (meth) acrylate), cycloalkyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having bridging ring hydrocarbon group (isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth)) Acrylate etc.), glycidyl (meth) acrylate; vinyl ester such as vinyl acetate, vinyl monomer such as vinylpyrrolidone], polyfunctional monomer having at least two polymerizable unsaturated bonds [ethylene glycol di (ethylene glycol di () Alkylene glycol di (meth) acrylates such as meta) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate. ) (Poly) oxyalkylene glycol di (meth) acrylates such as acrylates, dipropylene glycol di (meth) acrylates, polyoxytetramethylene glycol di (meth) acrylates; tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylates, adamantangi ( Di (meth) acrylate having a bridging ring-type hydrocarbon group such as meta) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylol ethanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate. ) Polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated bond of about 3 to 6 such as acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate] can be exemplified.

光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類等を使用できる。 As the photopolymerization initiator, for example, acetophenones or propiophenones, benzyls, benzoins, benzophenones, thioxanthones, acylphosphine oxides and the like can be used.

使用される溶媒としては、各成分を溶解、又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。 The solvent used is that each component can be dissolved or dispersed, that it tends to have a uniform surface shape in the coating process and the drying process, that liquid storage stability can be ensured, that it has an appropriate saturated vapor pressure, and the like. Various solvents selected from the viewpoint of can be used.

溶媒は２種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃超の溶剤を少量含有することが好ましい。 Two or more kinds of solvents can be mixed and used. In particular, from the viewpoint of drying load, it is preferable that the main component is a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature, and a small amount of a solvent having a boiling point of more than 100 ° C. is contained in order to adjust the drying rate.

沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）等の炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）等のエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）等のエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）等のケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）等のアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）等のシアノ化合物類、及び二硫化炭素（４６．２℃）等がある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。 Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), and benzene (80.1 ° C.). Hydrocarbonized hydrocarbons such as dichloromethane (39.8 ° C.), chloroform (61.2 ° C.), carbon tetrachloride (76.8 ° C.), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C.), trichloroethylene (87.2 ° C.), etc. Hydrocarbons, diethyl ether (34.6 ° C.), diisopropyl ether (68.5 ° C.), dipropyl ether (90.5 ° C.), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C.), ethyl formate (54.2 ° C.), Ethers such as methyl acetate (57.8 ° C), ethyl acetate (77.1 ° C), isopropyl acetate (89 ° C), acetone (56.1 ° C), 2-butanone (same as methyl ethyl ketone, 79.6 ° C) Ketones such as methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), alcohols such as 1-propanol (97.2 ° C), acetonitrile (81.6 ° C). ℃), cyano compounds such as propionitrile (97.4 ° C), carbon disulfide (46.2 ° C) and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.

沸点が１００℃を超える溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）等がある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。 Examples of the solvent having a boiling point exceeding 100 ° C. include octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), chlorobenzene (131.7 ° C.), and the like. Dioxane (101.3 ° C), dibutyl ether (142.4 ° C), isobutyl acetate (118 ° C), cyclohexanone (155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C), There are 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Preferred are cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone.

紫外線吸収剤については特に制限はなく、特開２００６−１８４８７４号公報［０１０７］〜［０１８５］段落に記載の化合物を挙げることができる。高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤が好ましく用いられる。 The ultraviolet absorber is not particularly limited, and the compounds described in paragraphs [0107] to [0185] of JP-A-2006-184874 can be mentioned. A polymer ultraviolet absorber can also be preferably used, and in particular, the polymer ultraviolet absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used.

界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤あるいはその両者を含有することが好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマー、及びポリマーの何れかであることが好ましい。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制することができる。 Specifically, the surfactant preferably contains a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, or both. Further, the surfactant is preferably either an oligomer or a polymer rather than a low molecular weight compound. In general, surfactants can suppress film thickness unevenness and the like caused by drying variations due to the local distribution of drying air.

塗膜１６が形成された支持体Ｗが乾燥装置１８の中に搬送される。乾燥装置１８は、搬送される支持体Ｗの上に形成された塗膜１６に含まれる、例えば溶媒を蒸発させることにより、塗膜１６を乾燥させる。乾燥装置１８に適用される乾燥方式について特に制限はなく、熱風による対流乾燥方式、赤外線等の輻射熱による輻射乾燥方式等、種々の乾燥方式を採用することができる。 The support W on which the coating film 16 is formed is conveyed into the drying device 18. The drying device 18 dries the coating film 16 by evaporating, for example, a solvent contained in the coating film 16 formed on the support W to be conveyed. The drying method applied to the drying device 18 is not particularly limited, and various drying methods such as a convection drying method using hot air and a radiant drying method using radiant heat such as infrared rays can be adopted.

乾燥装置１８で乾燥された塗膜１６が形成された支持体Ｗが、不活性ガス雰囲気下のケーシング２０の中に搬送される。紫外線照射装置３０の光源３４からの光が、赤外線カットガラス３８、及びケーシング２０の窓５０のカバーガラス５２（図２参照）を介して、乾燥後の塗膜１６の形成された支持体Ｗに照射される（照射工程）。 The support W on which the coating film 16 dried by the drying device 18 is formed is conveyed into the casing 20 under the atmosphere of an inert gas. Light from the light source 34 of the ultraviolet irradiation device 30 passes through the infrared cut glass 38 and the cover glass 52 (see FIG. 2) of the window 50 of the casing 20 to the support W on which the coating film 16 is formed after drying. Irradiated (irradiation step).

紫外線照射装置３０からの光は、塗膜１６に含まれる紫外線硬化性化合物を架橋反応、重合反応等の反応を起させ、塗膜１６を硬化させる。硬化された塗膜１６が機能層となる。機能層は、特に限定されず、たとえば、ハードコート層、防眩層、低透湿のバリア層、帯電防止層、反射防止層、光学異方性層等を挙げることができる。支持体Ｗに機能層を径背することにより、各種表示装置、発光装置、偏光板等の各種光学素子等の、光学部材に用いることができる光学フィルムを製造することができる。 The light from the ultraviolet irradiation device 30 causes a reaction such as a cross-linking reaction or a polymerization reaction to cause the ultraviolet curable compound contained in the coating film 16 to cure the coating film 16. The cured coating film 16 serves as a functional layer. The functional layer is not particularly limited, and examples thereof include a hard coat layer, an antiglare layer, a low moisture permeability barrier layer, an antistatic layer, an antireflection layer, and an optically anisotropic layer. By placing the functional layer on the support W, it is possible to manufacture an optical film that can be used for an optical member such as various display devices, light emitting devices, and various optical elements such as a polarizing plate.

上述したように、紫外線照射装置３０の隣接する赤外線カットガラス３８の端面４０Ｂが０．１μｍ以下の算術平均粗さを有しているので、赤外線カットガラス３８の破損等を防止できる。 As described above, since the end face 40B of the infrared cut glass 38 adjacent to the ultraviolet irradiation device 30 has an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less, damage to the infrared cut glass 38 can be prevented.

以下、本発明の実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples of the present invention. However, the present invention is not limited to these examples.

＜試験条件＞
紫外線照射装置の紫外線照射量を５０ｍＪ／ｃｍ２から６００ｍＪ／ｃｍ２の範囲とし、紫外線照射装置を１００℃から３００℃の範囲で断続的に使用した。赤外線カットガラスを支持する枠体の温度を、紫外線照射装置の温度とした。<Test conditions>
The ultraviolet irradiation amount of the ultraviolet irradiation device in a range from 50 mJ / cm 2 of 600 mJ / cm 2, and intermittently used in the range of 300 ° C. The UV irradiation apparatus from 100 ° C.. The temperature of the frame supporting the infrared cut glass was defined as the temperature of the ultraviolet irradiation device.

＜試験１＞
通常の研削を終えた複数の赤外線カットガラスを準備した。赤外線カットガラスを構成するガラス板の端面に、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有するため研磨処理を実施した。ミツトヨ製のＳＪ−２０１で端面を測定したところ算術平均粗さは０．１μｍであった。<Test 1>
A plurality of infrared cut glasses that had been subjected to normal grinding were prepared. The end face of the glass plate constituting the infrared cut glass was polished because it had an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. When the end face was measured with SJ-201 manufactured by Mitutoyo, the arithmetic mean roughness was 0.1 μm.

＜試験２＞
通常の研削を終えた複数の赤外線カットガラスを準備した。ここでは、赤外線カットガラスを構成するガラス板の端面に、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有するための処理を実施しなかった。ミツトヨ製のＳＪ−２０１で端面を測定したところ算術平均粗さは３．０μｍであった。<Test 2>
A plurality of infrared cut glasses that had been subjected to normal grinding were prepared. Here, the end face of the glass plate constituting the infrared cut glass was not subjected to the treatment for having an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. When the end face was measured with SJ-201 manufactured by Mitutoyo, the arithmetic mean roughness was 3.0 μm.

＜評価＞
試験１、及び試験２の赤外線カットガラスをそれぞれ複数枚準備し、端面同士を接触させた状態で紫外線照射装置にセットした。試験条件にしたがって、紫外線の照射を実施した。評価は、試験前、及び試験後における、試験１、及び試験２の赤外線カットガラスの端面のマイクロスコープ（キーエンス製、型式デジタルマイクロスコープ ＶＨＸ−１０００）の画像を観察することで行った。観察画像がガラス端部の上下線が略平行であることと、局所的な照明反射が視認できない場合、破損、及び割れ「無し」と判断し、観察画像がガラス端部の上下線が水面様に形状変化しており、照明反射が局所的に発生している場合、破損、及び割れの何れかが「有り」と判断した。<Evaluation>
A plurality of infrared cut glasses of Test 1 and Test 2 were prepared and set in an ultraviolet irradiation device with the end faces in contact with each other. Ultraviolet irradiation was carried out according to the test conditions. The evaluation was performed by observing the images of the microscopes (Keyence, model digital microscope VHX-1000) on the end faces of the infrared cut glass of Tests 1 and 2 before and after the test. If the vertical lines of the glass edge of the observation image are almost parallel and the local illumination reflection is not visible, it is judged that there is no damage or cracking, and the vertical line of the glass edge of the observation image is like the water surface. When the shape changed to and the illumination reflection was locally generated, it was judged that either the damage or the crack was "presence".

図７は、試験１、及び試験２の試験前及び試験後の各端面のマイクロスコープ画像を対比して示す表である。試験前の試験１と試験２とを対比すると、試験１では凹凸は確認できなかった。一方、試験２では、凹凸が確認できた。いずれも破損、及び割れは確認されなかった。 FIG. 7 is a table showing the microscope images of the end faces of Test 1 and Test 2 before and after the test in comparison with each other. Comparing Test 1 and Test 2 before the test, no unevenness could be confirmed in Test 1. On the other hand, in Test 2, unevenness was confirmed. No damage or cracks were confirmed in either case.

試験１の試験後において、端面を観察したところ、破損、及び割れは確認されなかった。試験２の試験後において、ガラス端部の上線が水面様に形状変化しており、照明反射が局所的に発生していることが確認できた。試験２のガラス表層で、剥離が見られた。図８は、試験後の試験２を、斜め上から観察した画像である。図８に示されるように、試験２の表層に破損が発生していることが確認できた。 When the end face was observed after the test of Test 1, no breakage or crack was confirmed. After the test of Test 2, it was confirmed that the upper line at the end of the glass changed its shape like the water surface, and that the illumination reflection was locally generated. Peeling was observed on the glass surface layer of Test 2. FIG. 8 is an image of test 2 after the test observed from diagonally above. As shown in FIG. 8, it was confirmed that the surface layer of Test 2 was damaged.

観察結果から、端面の算術平均粗さを０．１μｍ以下にすることにより、赤外線カットガラスの破損等を防止できることが理解できる。 From the observation results, it can be understood that damage to the infrared cut glass can be prevented by setting the arithmetic mean roughness of the end face to 0.1 μm or less.

１ 製造ライン
１０ 送り出し装置
１２ 巻き取り装置
１４ 塗布装置
１６ 塗膜
１８ 乾燥装置
１８Ａ 入口開口
１８Ｂ 出口開口
２０ ケーシング
２０Ａ 入口開口
２０Ｂ 出口開口
２４ ノズル
３０ 紫外線照射装置
３２ 筐体
３２Ａ 第１室
３２Ｂ 第２室
３４ 光源
３６ 反射鏡
３８ 赤外線カットガラス
４０ ガラス板
４０Ａ 主面
４０Ｂ 端面
４０Ｃ 端面
４４ 枠体
４４Ａ スライド枠体
４４Ｂ 固定板
４６ 冷却機構
５０ 窓
５２ カバーガラス
５４ 枠体
５４Ａ スライド枠体
５４Ｂ 固定板
５６ ゴムパッキン
Ｗ 支持体1 Production line 10 Feeding device 12 Winding device 14 Coating device 16 Coating device 18 Drying device 18A Inlet opening 18B Outlet opening 20 Casing 20A Inlet opening 20B Outlet opening 24 Nozzle 30 Ultraviolet irradiation device 32 Housing 32A First room 32B Second room 34 Light source 36 Reflector 38 Infrared cut glass 40 Glass plate 40A Main surface 40B End surface 40C End surface 44 Frame 44A Slide frame 44B Fix plate 46 Cooling mechanism 50 Window 52 Cover glass 54 Frame 54A Slide frame 54B Fix plate 56 Rubber packing W support

Claims (12)

対象物に向けて光を放射する光源と、
前記光源と前記対象物との間に配置される複数の赤外線カットガラスと、
前記複数の赤外線カットガラスを支持する枠体と、を備えた紫外線照射装置であって、
前記赤外線カットガラスは、対向する主面と前記主面を繋ぐ４個の端面とを有する平面視で四角形のガラス板と、前記ガラス板の少なくとも一方の前記主面に配置された複数の誘電体膜とを備え、
隣接する前記赤外線カットガラスが、前記端面同士を接触させて一方向に並べて配置され、かつ接触する前記端面が０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する紫外線照射装置。 A light source that emits light toward an object,
A plurality of infrared cut glasses arranged between the light source and the object,
An ultraviolet irradiation device including a frame body that supports the plurality of infrared cut glasses.
The infrared cut glass includes a quadrangular glass plate having a main surface facing each other and four end faces connecting the main surfaces, and a plurality of dielectrics arranged on at least one of the main surfaces of the glass plate. With a membrane,
An ultraviolet irradiation device in which adjacent infrared cut glasses are arranged side by side in one direction with the end faces in contact with each other, and the contact end faces have an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. 前記ガラス板の４個の前記端面が、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する請求項１に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein the four end faces of the glass plate have an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less. 前記ガラス板の、０．１μｍ以下の算術平均粗さを有する前記端面が、面取部を有する請求項１又は２に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to claim 1 or 2, wherein the end face of the glass plate having an arithmetic mean roughness of 0.1 μm or less has a chamfered portion. 前記赤外線カットガラスが、２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域において９２％以上の透過率を有し、７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の波長域において７８％以下の透過率を有する請求項１から３の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 Any one of claims 1 to 3 in which the infrared cut glass has a transmittance of 92% or more in a wavelength range of 200 nm or more and 400 nm or less and a transmittance of 78% or less in a wavelength range of 700 nm or more and 2000 nm or less. The ultraviolet irradiation device according to. 前記赤外線カットガラスが、前記複数の誘電体膜を、両方の前記主面に備える請求項１から４の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 4, wherein the infrared cut glass includes the plurality of dielectric films on both main surfaces. 前記ガラス板が矩形である請求項１から５の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 5, wherein the glass plate is rectangular. 前記ガラス板が、溶融石英ガラス、及び合成石英ガラスの何れかである請求項１から６の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 6, wherein the glass plate is either fused silica glass or synthetic quartz glass. 前記光源が、メタルハライドランプ、水銀ランプ、及び発光ダイオードの少なくも一つにより構成される請求項１から７の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 7, wherein the light source is composed of at least one of a metal halide lamp, a mercury lamp, and a light emitting diode. 前記光源に対して前記複数の赤外線カットガラスと反対側に配置され、前記光源から放射される光を前記対象物に向けて反射する反射鏡を備える請求項１から８の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 The invention according to any one of claims 1 to 8, further comprising a reflecting mirror arranged on the opposite side of the plurality of infrared cut glasses with respect to the light source and reflecting the light emitted from the light source toward the object. UV irradiation device. 前記反射鏡に対して前記光源と反対側に配置される冷却機構を備える請求項９に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to claim 9, further comprising a cooling mechanism arranged on the side opposite to the light source with respect to the reflector. 紫外線硬化性化合物を含む塗膜が形成された支持体を搬送する搬送工程と、
請求項１から１０の何れか一項に記載された紫外線照射装置から対象物である前記塗膜が形成された前記支持体に光を照射する照射工程と、
を含む光学フィルムの製造方法。 A transport process for transporting a support on which a coating film containing an ultraviolet curable compound is formed, and
An irradiation step of irradiating the support on which the coating film, which is an object, is formed from the ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 10.
A method for manufacturing an optical film including. 前記照射工程が不活性ガス雰囲気下で行われる請求項１１に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 11, wherein the irradiation step is performed in an atmosphere of an inert gas.
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