JP6931280B2 - 多孔質膜形成用組成物、セパレータ、電気化学素子、及び電極複合体の製造方法 - Google Patents
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Description
多孔質膜形成用組成物は、疎水化変性された絶縁性繊維(A)と、バインダー樹脂(B)と、溶剤(S)とを含有する。
かかる多孔質膜形成用組成物からなる膜から溶剤(S)を除去すると、バインダー樹脂(B)が付着した絶縁性繊維(A)が交絡することにより絶縁性繊維(A)間に形成された多数の空孔を含む多孔質膜が形成される。
疎水化変性された絶縁性繊維(A)が、多孔質膜形成用組成物中で良好且つ均一に分散されるため、絶縁性繊維(A)が多孔質膜中で良好に絡み合い、均質な空孔を有する多孔質膜を形成できる。
塗布により、所望の膜厚に調整され、且つ均一な膜厚の塗布膜を形成でき、その結果、所望の膜厚であって均一な膜厚の多孔質膜を形成できる。
絶縁性繊維(A)は、所定の疎水化変性が施された状態で組成物中に均一に分散されるものであれば特に限定されない。
かかる絶縁性繊維(A)が分散された組成物を用いて形成された塗布膜から後述する溶剤(S)を除去して多孔質膜を形成すると、膜内において絶縁性繊維(A)が交絡することによって絶縁性繊維(A)間に空孔が形成される。
絶縁性繊維(A)としては、有機繊維であっても無機繊維であってもよい。繊維が柔軟で絡み合いやすいことや、絶縁性が良好であることから、絶縁性繊維(A)としては、有機繊維が好ましい。
無機繊維の好適な例としては、マイクロガラス(細径のガラス繊維)やロックウール等が挙げられる。有機繊維の好適な例としては、セルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテート等のセルロースエステル、及びリグノセルロース等のセルロース系繊維材料や、キチン、キトサン等の中性ムコ多糖系の繊維材料や、脂肪族ナイロンや芳香族ナイロン(アラミド)等のポリアミド、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ビニロン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフッ化ビニリデン等の樹脂からなる合成樹脂系の繊維材料が挙げられる。合成樹脂系の繊維材料について、例えば、電界紡糸(エレクトロスピニング)等の方法により、合成樹脂の微細な繊維を得ることができる。
また、エポキシ基等の反応性基とともに、メチル基やアセチル基等を有するカチオン化剤も、絶縁性繊維(A)の疎水化変性処理に好適に用いることができる。かかるカチオン化剤の好適な例としては、下記式(a1):
で表される化合物が挙げられる。
ハロゲン化物イオンの具体例としては、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、及びヨウ化物イオンが挙げられ、カチオン化剤の化学的安定性や入手の容易さ等から塩化物イオン及び臭化物イオンが好ましく、塩化物イオンがより好ましい。
カルド構造を有する化合物は、一般的にカルド構造を有する化合物であると認識されている化合物であれば特に限定されない。
カルド構造を有する化合物としては、9,9−ビスアリールフルオレン骨格を有する化合物(単に、フルオレン骨格を有する化合物という場合がある)が好ましい。
絶縁性繊維(A)と、カルド構造を有する化合物とを混合した後に、繊維を回収することにより、疎水化変性された絶縁性繊維(A)が得られる。
フルオレン骨格を有する化合物は、9,9−ビスアリールフルオレン骨格(例えば、9,9−ビスフェニルフルオレン骨格、9,9−ビスナフチルフルオレン骨格)を有する限り特に限定されない。
通常、9,9−ビス(アミノアリール)フルオレン(例えば、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン等)、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン(例えば、9,9−ビス(カルボキシフェニル)フルオレン等)、9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン等の官能基(例えば、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基等)を有するフルオレン骨格を有する化合物を好適に使用できる。
環Zとしては、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましい。
なお、フルオレンの9位に置換する環Zの置換位置は、特に限定されない。例えば、環Zがナフタレン環の場合、フルオレンの9位に置換する環Zに対応する基は、1−ナフチル基、2−ナフチル基等であってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基等のC1−C6アルキル基(例えば、C1−C4アルキル基、特にメチル基)等が挙げられる。
また、フルオレンを構成するベンゼン環に対する基R1の結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数kは、0又は1、特に0である。なお、フルオレンを構成する2つのベンゼン環において、置換数kは、互いに同一又は異なっていてもよい。
このような官能基に含まれるヘテロ原子の数は、特に制限されないが、通常、1〜3、好ましくは1又は2である。
前記官能基としては、例えば、ヒドロキシル基、エポキシ含有基(グリシジルオキシ基等)、カルボキシ基等の酸素原子含有官能基;メルカプト基等のイオウ原子含有官能基;アミノ基又はN−モノ置換アミノ基(例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基等のN−モノアルキルアミノ基(N−モノC1−C4アルキルアミノ基等)、ヒドロキシエチルアミノ基等のN−モノヒドロキシアルキルアミノ基(N−モノヒドロキシC1−C4アルキルアミノ基等)等)等の窒素原子含有官能基等が挙げられる。
好ましい基Xとしては、ヒドロキシ基、メルカプト基、エポキシ含有基(グリシジルオキシ基等)、アミノ基又はN−モノ置換アミノ基等が挙げられ、特に、ヒドロキシ基が好ましい。
なお、Xは異なるZにおいて同一又は異なる基であってもよく、また、同一の環Zにおいて同一又は異なる基であってもよい。
なお、基R2は、同一の又は異なるアルキレン基であってもよい(すなわち、mが複数である場合、R2は同一であっても異なっていてもよい)。すなわち、mが2以上の場合、ポリアルコキシ(ポリオキシアルキレン)基[−(OR2)m−]は、同一のオキシアルキレン基で構成されていてもよく、複数のオキシアルキレン基(例えば、オキシエチレン基とオキシプロピレン基等)で構成されていてもよい。
通常、R2は同一のベンゼン環において、同一のアルキレン基であってもよい。
また、mは2つの環Zにおいて異なっていてもよく、同一の環Zにおいて異なっていてもよい。
例えば、同一の環Zにおいて、mが0である基−Xと、mが1以上である基−[(OR2)m−X]とを有していてもよい。なお、式(1)において、基−[(OR2)m−X]の置換数nは、環Zの種類にもよるが、例えば、1〜6、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1〜3、特に1〜2であってもよい。
特に、R3は、アルキル基(C1−C4アルキル基(特にメチル基)等)、アリール基(例えば、C6−C10アリール基(特にフェニル基)等)等であるのが好ましい。
異なる環Zにおいて、置換数pは、互いに同一又は異なっていてもよく、通常同一であってもよい。また、同一の環Zにおいて、pが複数(2以上)である場合、基R3は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。さらに、2つの環Zにおいて、基R3は同一であってもよく、異なっていてもよい。
絶縁性繊維(A)とカルド構造を有する化合物との(混合割合)は、例えば、絶縁性繊維(A)/カルド構造を有する化合物(質量比)として、99/1〜1/99(例えば、95/5〜5/95)、好ましくは93/7〜7/93(例えば、90/10〜10/90)、さらに好ましくは85/15〜5/95(例えば、80/20〜6/94)、特に75/25〜5/95(例えば、70/30〜7/93)程度であってよく、通常70/30〜10/90程度であってもよい。
混合条件は、カルド構造を有する化合物の性状(例えば、液状であるか固体状であるか)や、混合時の圧力等に応じて選択できる。通常、加温下(又は加熱下)で、混合が行われてもよい。加熱温度としては、例えば、100〜300℃(例えば、120〜250℃)、好ましくは150〜300℃(例えば、160〜300℃)、さらに好ましくは165〜270℃(例えば、165〜250℃)、特に170〜250℃程度であってもよい。
加熱混合は、不活性ガス雰囲気中、又は空気中で、減圧下、常圧又は加圧下(例えば、0.05〜15MPa程度の圧力下)で行うことができる。
混合は、カルド構造を有する化合物が液状である条件で行われるのが好ましい。
混合装置は、連続式の混合装置でも、バッチ式の混合装置でもよい。例えば、押し出し機を用いて混合を行う場合、絶縁性繊維(A)を解しつつ、混合を行えるため好ましい。
疎水化変性された絶縁性繊維(A)における、カルド構造を有する化合物の含有量は、疎水化変性された絶縁性繊維(A)の質量に対して、0.01〜10質量%が好ましい。
ビスフェノール構造を有する化合物としては、カルド構造を有する化合物以外の化合物であって、一般にビスフェノール類であると認識されている化合物であれば特に限定されない。
かかる疎水化変性は、アセチル基、又はメチル基を有する変性剤を用いて、カルド構造を有する化合物を用いる疎水化変性と同様に行われる。
アセチル基、又はメチル基を有する変性剤を絶縁性繊維(A)の表面に化学的に結合させて疎水化変性を行う場合、アセチル基、又はメチル基は、連結基を介して絶縁性繊維(A)の表面に結合すればよく、アセチル基、又はメチル基が、絶縁性繊維(A)の表面に直接化学的に結合する必要はない。
少量の変性剤の使用で高い変性効果が得られることから、アセチル基、又はメチル基を、絶縁性繊維(A)の表面に、直接、化学的に結合させて疎水化変性を行うのが好ましい。
機械力によって、衝撃、ずり、せん断力、又は圧力等を、カチオン化剤と、絶縁性繊維(A)とに加えることによって、絶縁性繊維(A)の表面にカチオン化剤を反応させてもよい。機械力を与える装置としては、高圧圧縮ロールミル、ロール回転ミル、リングローラー見る、ローラーレースミル、ボールレースミル、転動ボールミル、振動ボールミル、振動ロッドミル、振動チューブミル、遊星ボールミル、遠心流動化ミル、塔式粉砕機、撹拌槽式ミル、流通槽式ミル、アニュラー式ミル、高速遠心ローラーミル、オングミル、乳鉢、石臼等が挙げられる。
機械力による処理を行う場合の処理温度は特に限定されないが、例えば、−20〜200℃が好ましく、−10〜100℃がより好ましく、0〜80℃が特に好ましく、10〜60℃が最も好ましい。機械力による処理を行う処理時間としては、通常0.01〜20時間が好ましく、0.05〜10時間がより好ましく、0.1〜5時間が特に好ましい。
かかる範囲の量の、疎水化変性された絶縁性繊維(A)を用いる場合、絶縁性繊維(A)が密に絡み合いながらも、電解液を速やかに浸透させ、且つリチウムイオン等のイオンを良好に移動させることができる、セパレータとして好ましく使用される多孔質膜を形成することができる。
また多孔質膜形成用組成物中で、絶縁性繊維(A)が良好に分散することにより、開口径の分布が狭く、膜厚が均一な多孔質膜を形成することができる。このため、多孔質膜形成用組成物を用いて形成される多孔質膜は、液体又は気体のろ過用の用フィルタとしても好適に使用される。
多孔質膜形成用組成物は、バインダー樹脂(B)を含む。バインダー樹脂(B)を含むことにより多孔質膜形成用組成物は、容易に多孔質膜を形成できる製膜性を備える。
バインダー樹脂(B)としては、溶剤(S)に可溶な樹脂であれば特に限定されない。また、通常、バインダー樹脂(B)は絶縁性の樹脂である。
これらのバインダー樹脂(B)は、1種を単独で使用されてもよく、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
ここで、バインダー樹脂(B)と、後述する溶剤(S)とには好ましい組み合わせがある。例えば、バインダー樹脂(B)がポリフッ化ビニリデンである場合、溶剤(S)としてはN−メチル−2−ピロリドンのような含窒素極性有機溶剤が好ましい。また、バインダー樹脂(B)がスチレンブタジエンゴムである場合、溶剤(S)としては、含水溶剤が好ましい。
多孔質膜形成用組成物は、例えば、電気化学素子用のセパレータの製造に従来より用いられており、溶剤(S)に不溶である種々の微粒子(C)を含んでいてもよい。微粒子(C)は、無機微粒子又は有機微粒子であってもよい。多孔質膜形成用組成物が微粒子(C)を含むことにより、多孔質膜形成用組成物を用いて、機械的強度や寸法安定性に優れる多孔質膜を形成しやすい。
また、導電性材料の微粒子の表面が、絶縁性の材料(例えば、前述の無機酸化物や有機高分子材料等)で被覆された微粒子を用いることもできる。導電性材料としては、金属;SnO2及びインジウム錫酸化物(ITO)等の導電性酸化物;カーボンブラック及びグラファイト等の炭素質材料等が挙げられる。
溶剤(S)は、絶縁性繊維(A)を溶解したり、疎水化変性により導入された疎水性の構造を絶縁性繊維の表面から除去したりすることのない溶剤であれば特に限定されない。
溶剤(S)は2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
溶剤(S)は、本発明の目的を阻害しない範囲で水を含んでいてもよい。溶剤(S)が水を含む場合、絶縁性繊維(A)の分散性や、多孔質膜をセパレータとして用いる場合にセパレータ中に水が残存しにくい点から、多孔質膜形成用組成物中の水の含有率は50質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましく、5質量%以下が特に好ましく、1質量%以下が最も好ましい。
グリコールの好適な例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール(DPG)、トリエチレングリコール、及びトリプロピレングリコール等が挙げられる。
グリコールアルキルエーテルとしては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(MFDG)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノn−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(MFTG)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジn−プロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジn−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(DMM)、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジn−プロピルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジn−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、及びトリプロピレングリコールジn−プロピルエーテルが挙げられる。
グリコールアルキルエーテルアセテートとしては、3−メトキシブチルアセテート(MA)、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DPMA)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、及びトリプロピレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテートが挙げられる。
鎖状又は環状エステルとしては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸sec−ペンチル、酢酸メチルペンチル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸n−ノニル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、酢酸フェネチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸n−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、シュウ酸ジメチル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジn−プロピル、シュウ酸ジn−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n−ブチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン(GBL)、α−メチル−γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−ラウロラクトン、δ−バレロラクトン、及びヘキサノラクトン等が挙げられる。
鎖状又は環状ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、及びシクロヘプタノン等が挙げられる。
炭素−炭素二重結合を有する溶剤としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、及びN,N−ジメチルメタクリルアミド等が挙げられる。
上記以外のエーテルとしては、ジエチルエーテル、ジn−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn−ブチルエーテル、アニソール、フェノキシエタノール、テトラヒドロフラン(THF)、及びジオキサン等が挙げられる。
上記以外の炭素原子数7以下のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、n−ヘキシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、及びn−ヘプチルアルコール等が挙げられる。
アミン系溶剤としては、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、アニリン、及びN,N−ジメチルアニリン等が挙げられる。
上記以外の非プロトン性極性溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N,N,N’,N’−テトラメチルウレア(TMU)、N,N,N’,N’−テトラエチルウレア、N−メチルカプロラクタム、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、及びアセトニトリル等が挙げられる。
多孔質膜形成用組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲において、以上説明した絶縁性繊維(A)、バインダー樹脂(B)、微粒子(C)、及び溶剤(S)以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤等が挙げられる。
多孔質膜形成用組成物を製造する方法は、絶縁性繊維(A)を組成物中に均一に分散させつつ、各成分を溶剤(S)中に溶解又は分散させること出来る方法であれば特に限定されない。
膜多孔質形成用組成物の製造方法の具体例としては、多孔質膜形成用組成物に含まれるそれぞれ所定量の各成分を溶剤(S)に加えた後、分散装置により処理して、絶縁性繊維(A)等の成分が均一に分散された多孔質膜形成用組成物を得る方法が挙げられる。
分散装置の好適な例としては、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、二本ロール、三本ロール、ロールミル、コロイドミル、ジェットミル、ニーダー、及びホモジナイザー等が挙げられる。
なお、分散条件を調整することにより、多孔質膜形成用組成物中での絶縁性繊維の粒子径(分散径、体積平均粒子径)や、粒子径分布を調整することができる。
なお、多孔質膜において、絶縁性繊維(A)は、長径の方向が多孔質膜の面方向に対して略平行であるように分布する。このため、絶縁性繊維(A)の体積平均粒子径が多孔質膜の膜厚よりも大きくても問題ない。
また、以上説明した多孔質膜形成用組成物用いてリチウムイオンを良好に透過させるセパレータを容易に形成できることから、二次電池としては、リチウム電池又はリチウムイオン電池が特に好ましい。
セパレータは、前述の多孔質膜形成用組成物から形成される。つまり、前述の組成物からなる塗布膜を形成した後、形成された塗布膜から溶剤(S)を除去することにより多孔質膜であるセパレータが形成される。
このため、セパレータは、前述の疎水化変性された絶縁性繊維(A)が絡み合った不織布状の多孔質部を含む。
セパレータは、電気化学素子中のセパレータが配置されるべき面に、上記の多孔質膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成した後、塗布膜から溶剤(S)を除去して形成されるのが好ましい。
セパレータが配置されるのは、通常電極上である。このため、典型的には、電極上に多孔質膜形成用組成物を塗布することにより、電極上に直接セパレータが形成される。
この場合、隙間を生じることなく電極に極めて良好に密着したセパレータを形成できるため、セパレータと電極との界面における電場の集中が抑制される。その結果、電気化学素子の寿命や性能に悪影響を与える、リチウムデンドライトの成長等が抑制され、高品質な電気化学素子を形成できる。
この場合、電極の表面積と、電極とセパレータの接触面積との増大によって、極めて高速での充電が可能であり、高容量の電気化学素子を形成できる。
セパレータは、絶縁性繊維(A)を主体として構成される。そして、絶縁性繊維(A)は前述の疎水化変性を程化されているため、ジメチルカーボネートを含む電解液に濡れやすい。このため、前述の多孔質膜形成用組成物を用いると、上記所定の条件で測定されるジメチルカーボネートを含む電解液との間の接触角が25°以下であるセパレータを形成できる。
接触角を調整する方法は特に限定されないが、例えば、絶縁性繊維(A)の疎水化変性において、変性剤の使用量を増加させたり、変性剤を、より疎水化効果の高い変性剤に変更したりする方法が挙げられる。
電気化学素子は、前述のセパレータを備えることの他は、電気化学素子に関する従来知られる周知の構成を備えていてよい。
前述のセパレータは、電極と複合化された電極複合体として、電気化学素子の一要素を構成する。
前述のセパレータと電極とが複合化された電極複合体は、二次電池に使用されるのが好ましく、リチウムイオン二次電池に使用されるがより好ましい。
例えば、電気化学素子としてのリチウムイオン二次電池は、電極複合体中の多孔質膜(セパレータ)に電解液が含浸された単位電池層を備えることができる。
前述の通り、多孔質膜形成用組成物を電極上に塗布する塗布工程を備える方法により、セパレータとして機能する多孔質膜を形成でき、これにより電極と、セパレータとを含む電極複合体が製造される。
多孔質膜形成用組成物が塗布される電極は、正極であっても負極であってもよい。
塗布装置は特に限定されず、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置や、カーテンフローコータ、ダイコーター、スリットコーター、スプレー等の非接触型塗布装置を用いてもよい。
電極の表面に凹凸が存在する場合であっても、膜厚の均一な塗布膜を形成しやすいことから、塗布方法としてはスプレー、例えば回転霧化方式の塗布装置を用いる方法が好ましい。回転霧化方式の塗布装置としては、例えば、特開2013−115181号公報に記載されるものを使用することができる。
また、カルド構造を有するフルオレン化合物としては、大阪ガス社製のフルオレンセルロース(Lot.WSAC−0001)を用いた。
上記の疎水化変性されたセルロース繊維10質量部と、ポリフッ化ビニリデン0.4質量部とを、表1に記載の溶剤中に固形分濃度が約1質量%となるように混合した。
得られた混合物を、ビーズミルを用いて分散10分間分散処理して、多孔質膜形成用組成物を得た。
分散処理後の多孔質膜形成用組成物を目視観察し、以下の基準に従って、多孔質膜形成用組成物中での疎水化変性されたセルロース繊維の分散状態を評価した。評価結果を表1に記す。
◎:セルロース繊維が良好に分散。
○:セルロース繊維が分散されているが、緩やかな沈降が観察される。
×:セルロース繊維の分離、沈降が観察される。
アルミニウムシート上に形成された負極(LTO、リチウムチタン酸化物)の表面に、実施例22の多孔質膜形成用組成物を回転霧化方式の塗布装置を用いて塗布した後、塗布膜を加熱してNMPを除去して、膜厚4μmのセパレータを形成した。
なお、実施例22の多孔質膜形成用組成物中の疎水化変性されたセルロース繊維の体積平均粒子径は40μmであった。
このことから、セパレータの表面の上記の電解液との接触角はあきらかに25°以下であることが分かる。
作成された電池セルについて、放電容量(mAh/g)に基づく充放電評価(3サイクル)を行ったところ良好な結果であった。
溶媒を水に変えることの他は、実施例22と同様にして多孔質膜形成用組成物を得た。
得られた多孔質膜形成用組成物を用いて、実施例37と同様にして、電池セルを作成した。
得られた電池セルについて、実施例37と同様にして、充放電評価(3サイクル)を行ったところ、実施例37の評価結果よりも著しく劣っていた。
ポリフッ化ビニリデンをスチレンブタジエンゴムに変更することの他は、実施例22と同様にして多孔質膜形成用組成物を得た。
得られた多孔質膜形成用組成物を用いて、実施例37と同様にして、電池セルを作成した。
得られた電池セルについて、実施例37と同様にして、充放電評価(3サイクル)を行ったところ、実施例37の評価結果と同様の良好な結果であった。
さらに、リチウムイオン電導性セラミックス(LLTO)粒子分散液(体積平均粒子径0.5μm(NMP、PVDFで分散))10.4質量部を加えることの他は、実施例22と同様にして多孔質膜形成用組成物を得た。
得られた多孔質膜形成用組成物を用いて、実施例37と同様にして、電池セルを作成した。
得られた電池セルについて、実施例37と同様にして、充放電評価(3サイクル)を行ったところ、実施例37の評価結果と同様の良好な結果であった。
実施例40、及び実施例41について、セパレータの膜厚を表2に記載の膜厚に変更することの他は、実施例37と同様にして、電池セルを作成した。参考例1では、セルガード社製の膜厚25μmの市販のセパレータ(Celgard(登録商標)2400)を用いることの他は、実施例37と同様に電池セルを作成した。
作成した電池セルについて、以下の条件で充放電を2サイクル実施した後に、以下の条件でインピーダンスの測定を行った。インピーダンスの測定結果を表2に記す。
(充放電)
充電:定電流定電圧充電(CCCV)、0.1C、0.01Cで終了
休止:10分
放電:定電流(CC)、0.1C、2.6Vで終了
(インピーダンス測定)
充電率(SOC):50%
周波数:1000kHz〜10mHz
電圧Va:10mV
特に、実施例37及び実施例41と、参考例1との比較によれば、疎水化変性された絶縁性繊維(A)と、バインダー樹脂(B)と、溶剤(S)とを含有する多孔質膜形成用組成物を用いて形成されたセパレータが、薄膜でも、市販品のセパレータよりも良好な絶縁性を示すことが分かる。
実施例42について、セパレータの膜厚を表3に記載の膜厚に変更することの他は、実施例38と同様にして、電池セルを作成した。
実施例43について、セパレータの膜厚を表3に記載の膜厚に変更することの他は、実施例39と同様にして、電池セルを作成した。
実施例40、実施例42、及び実施例43の電池セル、及び参考例1の電池セルについて、前述の方法に従ってインピーダンスの測定を行った。インピーダンスの測定結果を表3に記す。
そして、実施例40、実施例42、及び実施例43の電池セルは、セパレータが薄膜であっても、市販品のセパレータよりも良好な絶縁性を示した。
実施例44について、分散処理時間を10分から3分に変えることの他は実施例22と同様にして調製された多孔質膜形成用組成物を用いて、実施例40と同様に電池セルを形成した。
実施例45について、分散処理時間を10分から30分に変えることの他は実施例22と同様にして調製された多孔質膜形成用組成物を用いて、実施例40と同様に電池セルを形成した。
実施例40、実施例44、実施例45、及び参考例1の電池セルについて、前述の方法に従ってインピーダンスの測定を行った。インピーダンスの測定結果を表4に記す。
また、絶縁性繊維(A)分散時間が長くなるほど、インピーダンスの値が高いことが分かる。
そして、実施例40、実施例44、及び実施例45の電池セルは、セパレータが薄膜であっても、市販品のセパレータよりも良好な絶縁性を示した。
実施例37、実施例40、及び参考例1の電池セルについて2Cでの充電容量(mAh/g)に基づく急速充電の評価を行った。2Cでの充電容量の値を表5に記す。
実施例40、実施例43、及び参考例1の電池セルについて、前述の方法に従って急速充電の評価を行った。2Cでの充電容量の値を表6に記す。
実施例40、実施例44、及び参考例1の電池セルについて、前述の方法に従って急速充電の評価を行った。2Cでの充電容量の値を表7に記す。
実施例37、実施例40、実施例44、及び参考例1の電池セルについて、300サイクルの充放電を行い、放電容量維持率(%)に基づいて耐久性の評価を行った。
上記試験の結果、参考例1の電池セルでは、150サイクル以降において放電容量維持率(%)が80%以下に急速に低下し、200サイクルでは放電容量維持率が約20%まで低下した。
他方、実施例37、実施例40、及び実施例44の電池セルでは、150サイクルでも100%に近い放電容量維持率が保たれ、200サイクルでも80%を超える放電容量維持率が保たれた。
つまり、疎水化変性された絶縁性繊維(A)と、バインダー樹脂(B)と、溶剤(S)とを含有する多孔質膜形成用組成物を用いて形成されたセパレータを備える電池セルの耐久性は、市販品のセパレータを備える電池セルの耐久性よりも顕著に優れる。
Claims (13)
- 疎水化変性された絶縁性繊維(A)と、バインダー樹脂(B)と、溶剤(S)とを含有し、
前記疎水化変性が、カルド構造、及びビスフェノール構造からなる群より選択される少なくとも1種を有する化合物による表面修飾である、多孔質膜形成用組成物。 - 前記絶縁性繊維(A)がセルロースである、請求項1に記載の組成物。
- 前記溶剤(S)が、グリコール、グリコールアルキルエーテル、グリコールアルキルエーテルアセテート、鎖状又は環状エステル、鎖状又は環状ケトン、炭素−炭素二重結合を有する溶剤、上記以外のエーテル、上記以外の炭素原子数7以下のアルコール、アミン系溶剤、及び上記以外の非プロトン性極性溶剤からなる群より選択される少なくとも1種を含有する、請求項1又は2に記載の組成物。
- 水の含有率が50質量%以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記疎水化変性された絶縁性繊維(A)の体積平均粒子径が10μm以上である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
- 塗布型である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記多孔質膜がセパレータである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物から形成される、セパレータ。
- ジメチルカーボネートを含む電解液の液滴を表面に落としてから2秒後の条件で測定した場合の前記電解液との間の接触角が25°以下である、請求項8に記載のセパレータ。
- 請求項8又は9に記載のセパレータを備える電気化学素子。
- 二次電池である、請求項10に記載の素子。
- リチウム電池又はリチウムイオン電池である、請求項10又は11に記載の素子。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物を電極上に塗布する塗布工程を備える、電極複合体の製造方法。
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