JP6926436B2 - ガラス材及びその製造方法 - Google Patents

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本発明は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ等の磁気デバイスを構成する磁気光学素子に好適なガラス材及びその製造方法に関する。
常磁性化合物である酸化テルビウムを含むガラス材は、磁気光学効果の一つであるファラデー効果を示すことが知られている。ファラデー効果とは、磁場中におかれた材料を通過する直線偏光の偏光面を回転させる効果である。このような効果は光アイソレータや磁界センサなどに利用されている。
ファラデー効果による旋光度(偏光面の回転角)θは、磁場の強さをH、偏光が通過する物質の長さをLとして、以下の式により表される。式中において、Vは物質の種類に依存する定数であり、ベルデ定数と呼ばれる。ベルデ定数は反磁性体の場合は正の値、常磁性体の場合は負の値となる。ベルデ定数の絶対値が大きいほど、旋光度の絶対値も大きくなり、結果として大きなファラデー効果を示す。
θ=VHL
従来、ファラデー効果を示すガラス材として、SiO−B−Al−Tb系のガラス材(特許文献1参照)、P−B−Tb系のガラス材(特許文献2参照)、あるいはP−TbF−RF(Rはアルカリ土類金属)系のガラス材(特許文献3参照)等が知られている。
特公昭51−46524号公報 特公昭52−32881号公報 特公昭55−42942号公報
上記のガラス材は可視域〜赤外域(例えば450〜1500nm)の範囲で高い透過率を示すものの、低波長域(例えば450nm以下)ではテルビウム元素自体による光吸収を示す。そのため、低波長域では光透過率が低下し、磁気光学デバイスの光取出し効率に劣るという問題がある。
以上に鑑み、本発明は、高いファラデー効果と、低波長域における高い透過率を両立させることが可能なガラス材を提供することを目的とする。
本発明者が鋭意検討を行った結果、特定の組成を有するガラス材により前記課題を解決できることを見出した。
即ち、本発明のガラス材は、モル%で、Pr 25〜50%(ただし25%は含まない)、SiO 40〜75%(ただし75%は含まない)を含有することを特徴とする。
本発明のガラス材は、Prを含有する。Prは基本的に420nm以下(例えば250〜420nm)の波長域に光吸収を示さないため、当該波長域において高い透過率を示す。
さらに、本発明者は、ガラス材のベルデ定数の絶対値は、Prイオン密度に比例して大きくなることに着目した。そこで、Prイオン密度が大きくなるガラス組成を見出し、本発明を提案するに至った。
ガラス材におけるPrイオン密度は下記の式で求められる。
Prイオン密度=(ρ×n×N)/M
ρ:ガラス材の密度、n:Prイオンのモル数、N:アボガドロ数、M:ガラス材のモル質量
上記の式から明らかなように、Prイオン密度を大きくするためには、ガラス材の密度を大きくする、Prイオンの含有量を増やす、またはガラス材のモル質量を小さくするという方法が考えられる。これらの中で、本発明者はガラス材のモル質量に着目し、ガラス材に添加する種々のガラス骨格成分について調査した結果、ガラス材のモル質量を小さくするためには、SiOを用いることが効果的であることを見出した。すなわち、SiOは分子量は60.08と小さいため、ガラス材中に多量に含有させても、Prイオン密度を低下させにくい。そこで、本発明のガラス材においては、SiOを上記の通り多量に含有させることにより、ファラデー効果の低下(ベルデ定数の絶対値の低下)を抑制しつつ、ガラス化を容易にしている。
本発明のガラス材は、さらに、モル%で、B 0〜25%を含有することが好ましい。このようにすれば、ガラス化がより容易になる。しかしながら、Bは分子量が69.62と比較的大きいため、ガラス材のモル質量が大きくなり、Prイオン密度が比較的低下しやすいため、含有量の上限を上記の通り規制している。
本発明のガラス材は、さらに、モル%で、Al 0〜35%を含有することが好ましい。このようにすれば、ガラス化がより容易になる。しかしながら、Alは分子量が101.96と大きいため、ガラス材のモル質量が大きくなり、Prイオン密度が比較的低下しやすいため、含有量の上限を上記の通り規制している。
本発明のガラス材は、厚さ1mmで、波長405nmにおける光透過率が50%以上であることが好ましい。
本発明のガラス材は、磁気光学素子として用いることができる。例えば、本発明のガラス材は、磁気光学素子の一種であるファラデー回転素子として用いることができる。上記の用途に用いることにより、本発明の効果を享受することができる。
本発明のガラス材の製造方法は、上記のガラス材を製造するための方法であって、原料塊を空中に浮遊させて保持した状態で、原料塊を加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする。本発明のガラス材は、SiOを多量に含有することによりガラス化を容易にしているが、融点は比較的高くなるため、溶融容器を用いた通常の溶融法では作製が困難な場合がある。例えば、通常の溶融で用いられる溶融容器(坩堝)のうち、高温溶融に適している白金製容器でも融点は1770℃程度であるため、それより融点の高いガラス材は製造することが困難である。しかしながら、上記の方法(無容器浮遊法)によれば、このように融点が比較的高いガラス材であっても、基本的に溶融ガラスが溶融容器に接触しないため、溶融容器との界面を起点とする結晶化を防止することができ、ガラス材を容易に作製することが可能となる。
本発明によれば、高いファラデー効果と、低波長域における高い透過率を両立させることが可能であり、特に低波長域での磁気光学デバイスのファラデー回転素子として好適である。
本発明のガラス材を製造するための装置の一実施形態を示す模式的断面図である。
本発明のガラス材は、モル%で、Pr 25〜50%(ただし25%は含まない)、SiO 40〜75%(ただし75%は含まない)を含有する。ガラス組成範囲をこのように限定した理由を以下に説明する。なお、以下の各成分の含有量に関する説明において、特に断りのない限り「%」は「モル%」を意味する。
Prはベルデ定数の絶対値を大きくしてファラデー効果を高める成分である。Prの含有量は25〜50%(ただし25%は含まない)であり、好ましくは26〜50%(ただし50%は含まない)、より好ましくは27〜49%、さらに好ましくは30〜48%である。Prの含有量が少なすぎると、上記効果が得られにくくなる。一方、Prの含有量が多すぎると、ガラス化が困難になる傾向がある。なお、ガラス中におけるPrは3価や4価の状態で存在するが、本発明ではこれら全てをPrとして表す。
ベルデ定数の起源となる磁気モーメントはPr4+よりもPr3+の方が大きい。よって、ガラス材におけるPr3+の割合が大きいほど、ファラデー効果が大きくなるため好ましい。具体的には、全Pr中におけるPr3+の割合は、モル%で50%以上、60%以上、70%以上、80%以上、特に90%以上であることが好ましい。
SiOはガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。それにより、ガラス材の大径化が容易となる。また既述の通り、SiOはガラス材におけるPrイオン密度を低下させにくいため、多量に含有させた場合のファラデー効果の低下を抑制することができる。さらに、SiOはガラス転移点を上昇させて熱的安定性を高める効果、機械的強度を高める効果、化学的耐久性を高める効果も有する。SiOの含有量は40〜75%(ただし75%は含まない)であり、好ましくは43%〜73%、より好ましくは45%〜70%である。
本発明のガラス材には、上記成分以外にも、以下に示す種々の成分を含有させることができる。
はガラス形成能を高める成分である。Bを含有させることによりガラス材の大径化が容易となる。ただし、既述の通り、BはSiOよりも分子量が大きいため、ファラデー効果を比較的低下させやすい。また、熱的安定性や硬度を低下させやすい成分である。従って、Bの含有量は好ましくは0〜25%(ただし25%は含まない)、より好ましくは0.1〜23%、さらに好ましくは1〜20%、特に好ましくは2〜15%である。
Alはガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。Alを含有させることによりガラス材の大径化が容易となる。ただし、既述の通り、AlはBよりも分子量が大きいため、ファラデー効果を比較的低下させやすい。従って、Alの含有量は0〜35%であり、好ましくは0〜30%、より好ましくは0.1〜20%、さらに好ましくは1〜17%である。
なお、B+Alは0〜35%、0.1〜30%、1〜28%、特に2〜25%であることが好ましい。ここで、「B+Al」は、B及びAlの含有量の合量を意味する。
La、Gd、Yb、Yはガラス化の安定性を向上させる効果があるが、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。また、光透過率低下の原因となる。よって、La、Gd、Yb、Yの含有量は各々10%以下、特に5%以下であることが好ましい。
Dy、Eu、Ceはガラス化の安定性を向上させるとともに、ベルデ定数の向上にも寄与する。ただし、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。また、光透過率低下の原因となる。よって、Dy、Eu、Ceの含有量は各々15%以下、特に10%以下であることが好ましい。なお、Dy、Eu、Ceの含有量は、ガラス中に存在するDy、Eu、Ceを全て3価の酸化物に換算して表したものである。
MgO、CaOはガラス化を安定にし、また化学的耐久性を高める効果がある。また、分子量が比較的小さいため、Prイオン密度を低下させにくいという特徴がある。ただし、その含有量が多すぎるとガラス化しにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々0〜20%、特に0〜15%であることが好ましい。
SrO、BaOはガラス化を安定にし、また化学的耐久性を高める効果がある。ただし、分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとPrイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々0〜10%、特に0〜5%であることが好ましい。
GeOはガラス形成能を高める成分である。ただし、GeOは分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとPrイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、GeOの含有量は0〜15%、0〜10%、特に0〜9%であることが好ましい。
はガラス形成能を高める成分である。ただし、Pは分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとPrイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Pの含有量は0〜7%、特に0〜5%であることが好ましい。
Gaはガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、Gaは分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとPrイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Gaの含有量は0〜6%、特に0〜5%であることが好ましい。
フッ素はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると溶融中に揮発して組成変動を引き起こしたり、ガラス化に悪影響を及ぼすおそれがある。従って、フッ素の含有量(F換算)は0〜10%、0〜7%、特に0〜5%であることが好ましい。
還元剤としてSbを添加することができる。ただし、着色を避けるため、あるいは環境への負荷を考慮して、Sbの含有量は0.1%以下であることが好ましい。
本発明のガラス材は、特にアイソレータ等の磁気光学素子として使用する場合における光透過損失がなるべく小さいことが好ましい。そのため、本発明のガラス材の光透過率は、波長405nmにおいて50%以上、60%、特に70%以上であることが好ましい。
本発明のガラス材の大きさは特に限定されないが、大きいほど生産性が向上するため好ましい。具体的には、本発明のガラス材が球状あるいは楕円体状である場合、その直径(楕円体状の場合は長径)は1mm以上、2mm以上、特に3mm以上であることが好ましい。
本発明のガラス材は、例えば無容器浮遊法により作製することができる。図1は、無容器浮遊法によりガラス材を作製するための製造装置の一例を示す模式的断面図である。以下、図1を参照しながら、本発明のガラス材の製造方法について説明する。
ガラス材の製造装置1は成形型10を有する。成形型10は溶融容器としての役割も果たす。成形型10は、成形面10aと、成形面10aに開口している複数のガス噴出孔10bとを有する。ガス噴出孔10bは、ガスボンベなどのガス供給機構11に接続されている。このガス供給機構11からガス噴出孔10bを経由して、成形面10aにガスが供給される。ガスの種類は特に限定されず、例えば、空気や酸素であってもよいし、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、水素を含有した還元性ガスであってもよい。
製造装置1を用いてガラス材を製造するに際しては、まず、原料塊12を成形面10a上に配置する。原料塊12としては、例えば、原料粉末をプレス成型等により一体化したものや、原料粉末をプレス成型等により一体化した後に焼結させた焼結体や、目標ガラス組成と同等の組成を有する結晶の集合体等が挙げられる。
次に、ガス噴出孔10bからガスを噴出させることにより、原料塊12を成形面10a上で浮遊させる。すなわち、原料塊12を、成形面10aに接触していない状態で保持する。その状態で、レーザー光照射装置13からレーザー光を原料塊12に照射する。これにより原料塊12を加熱溶融してガラス化させ、溶融ガラスを得る。その後、溶融ガラスを冷却することにより、ガラス材を得ることができる。原料塊12を加熱溶融する工程と、溶融ガラス、さらにはガラス材の温度が少なくとも軟化点以下となるまで冷却する工程においては、少なくともガスの噴出を継続し、原料塊12、溶融ガラス、さらにはガラス材と成形面10aとの接触を抑制することが好ましい。なお、加熱溶融する方法としては、レーザー光を照射する方法以外にも、輻射加熱であってもよい。
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
表1は本発明の実施例及び比較例を示している。
Figure 0006926436
各試料は次のようにして作製した。まず表に示すガラス組成になるように調合した原料をプレス成型し、800〜1400℃で6時間焼結することにより原料塊を作製した。
次に、乳鉢中で原料塊を粗粉砕し、0.05〜1.0gの小片とした。得られた原料塊の小片を用いて、図1に準じた装置を用いた無容器浮遊法によってガラス材(直径約1〜10mm)を作製した。なお、熱源としては100W COレーザー発振器を用いた。また、原料塊を浮遊させるためのガスとして窒素ガスを用い、流量1〜30L/分で供給した。
得られたガラス材について、カー(Kerr)効果測定装置(日本分光(株)製、品番:K−250)を用いてベルデ定数を測定した。具体的には、得られたガラス材を1mm程度の厚さとなるよう研磨加工し、15kOeの磁場中で波長350〜850nmでのファラデー回転角を測定し、波長405nmにおけるベルデ定数を算出した。なお、波長の掃引速度は6nm/minとした。結果を表1に示す。
光透過率は、得られたガラス材を1mmの厚さとなるよう研磨加工し、分光光度計(島津製作所製UV−3100)を用いて測定することにより得られた光透過率曲線から、波長405nmにおける光透過率を読み取った。なお、光透過率は反射も含んだ外部透過率である。
表1から明らかなように実施例1〜5のガラス材は、波長405nmにおけるベルデ定数が−0.83〜−1.98であり、絶対値が大きかった。また、波長405nmにおける光透過率は80.9%以上と高い値を示した。一方、比較例1〜3のガラス材は、波長405nmにおけるベルデ定数が−0.22〜−0.45と絶対値が小さかった。
本発明のガラス材は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ等の磁気デバイスを構成する磁気光学素子として好適である。
1:ガラス材の製造装置
10:成形型
10a:成形面
10b:ガス噴出孔
11:ガス供給機構
12:原料塊
13:レーザー光照射装置

Claims (7)

  1. モル%で、Pr〜50%、SiO〜74%を含有することを特徴とするガラス材。
  2. さらに、モル%で、B 0〜25%を含有することを特徴とする請求項1に記載のガラス材。
  3. さらに、モル%で、Al 0〜3%を含有することを特徴とする請求項1または2に記載のガラス材。
  4. 厚さ1mmで、波長405nmにおける光透過率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜3に記載のガラス材。
  5. 磁気光学素子として用いられることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラス材。
  6. ファラデー回転素子として用いられることを特徴とする請求項5に記載のガラス材。
  7. 請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラス材を製造するための方法であって、ガラス原料塊を空中に浮遊させて保持した状態で、前記ガラス原料塊を加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、前記溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする、ガラス材の製造方法。
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