JP6917523B2 - 基板ホルダおよび基板ホルダを製造する方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2017年11月8日出願の欧州出願第17200605.8号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
基板対向面を有する本体と、
基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは基板と係合するように構成された遠位端を有し、遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ基板を支持するように構成される、複数のバールと、
複数のバール間の基板対向面上のコーティングであって、所定の厚さを有するコーティングと、を備え、
基板対向面は、複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域は、サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、各段状変化は、コーティングの厚さよりも大きい。
基板対向面を有する本体と、
基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは基板と係合するように構成された遠位端を有し、遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ基板を支持するように構成される、複数のバールと、
複数のバール間の基板対向面上のコーティングと、を備え、
基板対向面は、複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域は、サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、隣接した領域は、側壁によって接続され、側壁上のコーティングはいずれも、隣接した領域間で応力を伝達するには不十分である。
基板ホルダは、
基板対向面を有する本体と、
本体の基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは基板と係合するように構成された遠位端を有し、遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ基板を支持するように構成される、複数のバールと、
複数のバール間の基板対向面上のコーティングであって、所定の厚さを有するコーティングと、を備え、
本体の基板対向面は、複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域は、サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、各段状変化は、コーティングの厚さよりも大きい。
基板ホルダは、
基板対向面を有する本体と、
本体の基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは基板と係合するように構成された遠位端を有し、遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ基板を支持するように構成される、複数のバールと、
複数のバール間の基板対向面上のコーティングと、を備え、
本体の基板対向面は、複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域は、サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、隣接した領域は、側壁によって接続され、側壁上のコーティングはいずれも、隣接した領域間で応力を伝達するには不十分である。
基板対向面を有する本体を提供することと、
本体の基板対向面から突出した複数のバールを形成することであって、各バールは基板と係合するように構成された遠位端を有し、遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ基板を支持するように構成されることと、
本体の基板対向面が、複数のバール間に、複数の領域の配置を有し、隣接した領域が、サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離されるように、基板対向面を整形することと、
本体の基板対向面上の複数のバール間にコーティングを形成することであって、コーティングが所定の厚さを有し、各段状変化はコーティングの厚さよりも大きいことと、
を含む。
基板対向面を有する本体を提供することと、
本体の基板対向面から突出した複数のバールを形成することであって、各バールは基板と係合するように構成された遠位端を有し、遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ基板を支持するように構成されることと、
本体の基板対向面が、複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域が、サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離されるように、基板対向面を整形することと、
本体の基板対向面上の複数のバール間にコーティングを形成することであって、隣接した領域は側壁によって接続され、側壁上のコーティングはいずれも隣接した領域間で応力を伝達するには不十分であることと、
を含む。
放射ビームB(例えば紫外線またはDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されているサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコート製品基板)Wを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従って、例えば基板Wのテーブルの表面を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されているサポートテーブル(例えば、1つ以上のセンサを支持するセンサテーブルまたは基板サポート装置60)と、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイの一部を含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (15)
- リソグラフィ装置用の基板ホルダであって、前記基板ホルダは基板の下面を支持するように構成され、前記基板ホルダは、
基板対向面を有する本体と、
前記基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは前記基板と係合するように構成された遠位端を有し、前記遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ前記基板を支持するように構成される、複数のバールと、
前記複数のバール間の前記基板対向面上のコーティングと、を備え、
前記基板対向面は、前記複数のバール間に複数の領域の配置を有し、
隣接した領域は、前記サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、
各段状変化は、前記コーティングの厚さよりも大きく、
前記隣接した領域のうち前記サポート平面に近い第1の領域は、前記隣接した領域のうち前記第1の領域よりも前記サポート平面から遠い第2の領域の上の前記コーティングの層に重なっていない、基板ホルダ。 - 隣接した領域は、側壁によって接続され、
前記側壁上のコーティングはいずれも、隣接した領域間で応力を伝達するには不十分である、請求項1に記載の基板ホルダ。 - リソグラフィ装置用の基板ホルダであって、前記基板ホルダは基板の下面を支持するように構成され、前記基板ホルダは、
基板対向面を有する本体と、
前記基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは前記基板と係合するように構成された遠位端を有し、前記遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ前記基板を支持するように構成される、複数のバールと、
前記複数のバール間の前記基板対向面上のコーティングと、を備え、
前記基板対向面は、前記複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域は、前記サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、隣接した領域は、側壁によって接続され、前記側壁上のコーティングはいずれも、隣接した領域間で応力を伝達するには不十分である、基板ホルダ。 - 前記コーティングは、残留応力を有する、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 前記コーティングは、隣接した領域間で不連続である、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 各段状変化は、少なくとも1μmである、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 前記領域の横方向寸法は、前記バールの横方向寸法よりも小さい、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 各段状変化は、前記本体の前記基板対向面と前記サポート平面との間の最小距離よりも小さい、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 各領域は、当該領域を隣接した領域から分離する前記段状変化よりも大きい横方向寸法を有する、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 隣接した領域は、前記サポート平面に実質的に垂直に延在する側壁によって接続される、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 各領域は、前記サポート平面から下方の2つの異なる距離の一方にある、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- 前記複数の領域の前記配置は、グリッドである、請求項1、2または3に記載の基板ホルダ。
- パターニングデバイスを支持するように構成されたサポート構造と、
前記パターニングデバイスによってパターン付与されたビームを基板上に投影するように配置された投影システムと、
前記基板を保持するように配置された、請求項1〜12のいずれか一項に記載の基板ホルダと、
を備える、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置を使用したデバイス製造方法であって、
基板ホルダ上に基板を保持する一方で、パターニングデバイスによってパターン付与されたビームを前記基板上に投影することを含み、
前記基板ホルダは、
基板対向面を有する本体と、
前記本体の前記基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは前記基板と係合するように構成された遠位端を有し、前記遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ前記基板を支持するように構成される、複数のバールと、
前記複数のバール間の前記基板対向面上のコーティングと、を備え、
前記本体の前記基板対向面は、前記複数のバール間に複数の領域の配置を有し、
隣接した領域は、前記サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、
各段状変化は、前記コーティングの厚さよりも大きく、
前記隣接した領域のうち前記サポート平面に近い第1の領域は、前記隣接した領域のうち前記第1の領域よりも前記サポート平面から遠い第2の領域の上の前記コーティングの層に重なっていない、デバイス製造方法。 - リソグラフィ装置を使用したデバイス製造方法であって、
基板ホルダ上に基板を保持する一方で、パターニングデバイスによってパターン付与されたビームを前記基板上に投影することを含み、
前記基板ホルダは、
基板対向面を有する本体と、
前記本体の前記基板対向面から突出した複数のバールであって、各バールは前記基板と係合するように構成された遠位端を有し、前記遠位端は、サポート平面に実質的に一致し、かつ前記基板を支持するように構成される、複数のバールと、
前記複数のバール間の前記基板対向面上のコーティングと、を備え、
前記本体の前記基板対向面は、前記複数のバール間に複数の領域の配置を有し、隣接した領域は、前記サポート平面から下方への距離の段状変化によって分離され、隣接した領域は、側壁によって接続され、前記側壁上のコーティングはいずれも、隣接した領域間で応力を伝達するには不十分である、デバイス製造方法。
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