JP6917462B2 - ウェハ形状測定方法及びシステム - Google Patents
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Description
本願は、2017年1月9日に出願された米国特許仮出願第62/443,815号の米国特許法第119条(e)の下の利益を主張する。前記米国特許仮出願第62/443,815号は、その全体を本願に引用して援用する。
Claims (17)
- ウェハ形状測定ツールを利用して3次元NAND構造の形状測定値を得ることと、
1つまたは複数のプロセッサにより、前記3次元NAND構造から前記ウェハ形状測定ツールによって得られた前記形状測定値を補正するために多層スタック補正モデルを適用することと、
前記補正された形状測定値にもとづき、半導体製造設備内の1つまたは複数のプロセスツールに1つまたは複数の制御信号を提供することと、
を含み、
前記多層スタック補正モデルが、真の厚さと測定された厚さとの間の相関を示すシミュレートされた補正曲線を含み、前記多層スタック補正モデルが、前記3次元NAND構造上に配置された透明膜によって引き起こされたトポグラフィデータにおける測定誤差を前記透明膜から測定された反射率および位相変化情報にもとづき補正するように構成される、
ことを特徴とするウェハ形状測定方法。 - 請求項1に記載の方法であって、前記多層スタック補正モデルが、真のウェハ厚さデータと、前記ウェハ形状測定ツールを使用して測定されたウェハ厚さデータとの間の相関に少なくとも部分的に基づいて得られることを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記多層スタック補正モデルが、前記ウェハの設計と、前記ウェハの複数の層の既知の物理的および光学的特性とに少なくとも部分的に基づいて得られることを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記多層スタック補正モデルが、反射率情報を有するウェハマップをさらに考慮に入れることを特徴とする方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記反射率情報を有する前記ウェハマップが、多数のウェハ表面位置から空間情報を収集する単一波長干渉計を利用して得られることを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記補正曲線が、ラッピングおよびアンラッピングをサポートすることを特徴とする方法。
- ウェハの設計と、前記ウェハの3次元NAND構造の既知の物理的および光学的特性とに少なくとも部分的に基づいて多層スタック補正モデルを生成することと、
ウェハ形状測定ツールを利用して前記ウェハの形状測定値を得ることと、
前記ウェハ形状測定ツールによって得られた前記形状測定値を補正するために前記多層スタック補正モデルを適用することと、
前記補正された形状測定値にもとづき、半導体製造設備内の1つまたは複数のプロセスツールに1つまたは複数の制御信号を提供することと、
を含み、
前記多層スタック補正モデルが、真の厚さと測定された厚さとの間の相関を示すシミュレートされた補正曲線を含み、
前記多層スタック補正モデルが、前記ウェハの前記3次元NAND構造上に配置された透明膜によって引き起こされたトポグラフィデータにおける測定誤差を補正するように構成される、
ことを特徴とするウェハ形状測定方法。 - 請求項7に記載の方法であって、前記多層スタック補正モデルが、真のウェハ厚さデータと、前記ウェハ形状測定ツールを使用して測定されたウェハ厚さデータとの間の相関に少なくとも部分的に基づいて生成されることを特徴とする方法。
- 請求項7に記載の方法であって、前記多層スタック補正モデルが、反射率情報を有するウェハマップをさらに考慮に入れることを特徴とする方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記反射率情報を有する前記ウェハマップが、多数のウェハ表面位置から空間情報を収集する単一波長干渉計を利用して得られることを特徴とする方法。
- 請求項7に記載の方法であって、前記補正曲線が、ラッピングおよびアンラッピングをサポートすることを特徴とする方法。
- ウェハの3次元NAND構造の形状測定値を得るように構成された1つ以上のウェハ形状測定ツールと、
前記1つ以上のウェハ形状測定ツールと通信する1つ以上のプロセッサであり、前記1つ以上のプロセッサが、
前記3次元NAND構造から前記ウェハ形状測定ツールによって得られた前記形状測定値を補正するために多層スタック補正モデルを適用し、
前記補正された形状測定値にもとづき、半導体製造設備内の1つまたは複数のプロセスツールに1つまたは複数の制御信号を提供する、
ように構成された、1つ以上のプロセッサと、
を備えたシステムであって、
前記多層スタック補正モデルが、真の厚さと測定された厚さとの間の相関を示すシミュレートされた補正曲線を含み、前記多層スタック補正モデルが、前記3次元NAND構造上に配置された透明膜によって引き起こされたトポグラフィデータにおける1つまたは複数の測定誤差を前記透明膜から測定された反射率および位相変化情報にもとづき補正するように構成される、
ことを特徴とするシステム。 - 請求項12に記載のシステムであって、前記多層スタック補正モデルが、真のウェハ厚さデータと、前記ウェハ形状測定ツールを使用して測定されたウェハ厚さデータとの間の相関に少なくとも部分的に基づいて得られることを特徴とするシステム。
- 請求項12に記載のシステムであって、前記多層スタック補正モデルが、前記ウェハの設計と、前記ウェハの複数の層の既知の物理的および光学的特性とに少なくとも部分的に基づいて得られることを特徴とするシステム。
- 請求項12に記載のシステムであって、前記多層スタック補正モデルが、反射率情報を有するウェハマップをさらに考慮に入れることを特徴とするシステム。
- 請求項15に記載のシステムであって、前記反射率情報を有する前記ウェハマップが、多数のウェハ表面位置から空間情報を収集する単一波長干渉計を利用して得られることを特徴とするシステム。
- 請求項12に記載のシステムであって、前記補正曲線が、ラッピングおよびアンラッピングをサポートすることを特徴とするシステム。
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