JP6904567B2 - スクライブ加工方法及びスクライブ加工装置 - Google Patents
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Description
特許文献1に示す技術では、収束レーザビームは、基板内で自己収束を引き起こし、結果としてフィラメントを作り出すように選択されたエネルギー及びパルス持続時間を有するパルスで構成される。そして、複数のフィラメントによって、基板を劈開するためのスクライブラインが形成される。
本発明の一見地に係るスクライブ加工方法は、ガラス基板をスクライブ加工する方法であって、下記の工程を備えている。
◎レーザ光を照射することによるガラス基板の内部加工を平面方向に断続的に行うことでスクライブラインを形成するスクライブライン形成工程。
上記の工程では、レーザ光の光軸上に並んだ複数の集光点がガラス基板の内部に位置している。また、複数の集光点のうち、レーザが照射される面とは反対側の面に最も近い第1の集光点のビーム強度が、複数の他の集光点のビーム強度よりも高い。
この方法では、ガラス基板Gの底面に最も近い集光点のピーク強度を他の集光点のピーク強度よりも高くすることにより、ガラス基板の底面付近でも確実に加工痕を形成でき、厚みの大きいガラス基板であっても、ガラス基板の厚さ方向全体に渡る内部加工を行うことができる。
この方法では、ガラス基板の内部に光軸に沿って並んだ複数の加工痕を均等に形成できる。
この方法では、簡単な構造によって、上記の加工方法が実現される。
(1)全体構成
図1に、本発明の一実施形態によるガラス基板切断用のレーザ加工装置1の全体構成を示す。図1は、本発明の第1実施形態のレーザ加工装置の模式図である。
レーザ加工装置1は、ガラス基板Gをフルカット加工するための装置である。
ガラス基板Gは、ソーダガラスであり、厚みが例えば2.5mm以上である。
レーザ装置3は、レーザ光を後述する機械駆動系に伝送する伝送光学系5を有している。伝送光学系5は、例えば、集光レンズ19、複数のミラー(図示せず)、プリズム(図示せず)等を有する。
集光レンズ19は、非球面レンズであり、レンズを通過する入射光に対して分散した焦点パターンを作り出す。つまり、集光レンズ19は、複数の異なる焦点を作成する分散焦点レンズとして機能する。
レーザ加工装置1は、レンズの位置を光軸方向に移動させることによって、レーザ光の集光角を変更する駆動機構11を有している。
制御部9は、単一のプロセッサで構成されていてもよいが、各制御のために独立した複数のプロセッサから構成されていてもよい。
図2〜図5を用いて、レーザ加工装置1によるスクライブ加工方法を説明する。図2は、パルス加工によるスクライブライン形成工程を説明するためのガラス基板の平面図である。図3は、図2の部分拡大図である。図4は、ビームウェストからの距離に対するガラス内部のピーク強度の分布を示すグラフである。
◎レーザ装置3を用いたパルスPによるガラス基板Gの内部加工を平面方向に断続的に行うことでスクライブライン31を形成するスクライブライン形成工程
そこでは、図4に示すように、パルスPのビームウェストBWがガラス基板の内部に位置する。
この方法では、レーザ装置3の1スキャンを平面方向の異なる位置に順番に行うことによって、比較的厚いガラス基板Gでもスクライブライン31を形成できる。
この方法では、レーザ光が各集光点で非線形吸収されることによって、ガラス基板の内部に光軸に沿って並んだ複数の加工痕が形成される。
このように、光軸上に並んだ複数の集光点によって、レーザエネルギーをガラス基板Gの厚み方向全体にわたって吸収させることができ、各点において厚み方向全体に加工痕を形成できる。この結果、加工痕は、ガラス基板Gの表面間に延びている。つまり、ガラス基板Gにおける加工深さが長くなっており、ガラス基板Gの加工効率が良い。
集光点の数は特に限定されないが、ガラス基板の厚さ100〜500μm間隔で形成されていることが好ましい。なお、複数の各集光点に形成される加工痕が互いに重なる場合、ガラス基板Gの厚さ方向全体に渡る一様な加工痕が形成される。
スクライブライン31の加工条件の一例を説明する。
パルスエネルギーは、200μJ以上が好ましく、例えば400μJである。
スクライブライン31を構成するパルス照射位置S1のピッチD1は、1〜5μmの範囲であり、例えば3μmである。
図5は、第2実施形態のレーザ加工装置の模式図である。
レーザ加工装置1Aは、レーザ装置3から出射されたレーザ光を変調する空間光変調器21及び集光レンズ22を有している。空間光変調器21は、例えば反射型であり、反射型液晶(LCOS:Liquid Crystal on Silicon)の空間光変調器(SLM:Spatial Light Modulator)であってもよい。空間光変調器21は、水平方向から入射するレーザ光を変調すると共に、下方に反射する。
集光レンズ22は、空間光変調器21で変調されたレーザ光を集光してガラス基板Gに照射する。集光レンズ22は、焦点を1つ形成するレンズであり、例えば球面レンズである。
空間光変調器21の変調パターンに応じて、空間光変調器21と集光レンズ22によって形成される集光点の数、位置及びビーム強度が任意に調整される。
空間光変調器21によって、第1実施形態と同じレーザ加工が実現される。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施例及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
前記実施形態ではガラス基板Gにおいてスクライブライン31は環状に形成されているが、スクライブラインは環状以外の形状でもよい。
3 :レーザ装置
5 :伝送光学系
7 :加工テーブル
9 :制御部
11 :駆動機構
13 :テーブル駆動部
15 :レーザ発振器
17 :レーザ制御部
19 :集光レンズ
21 :空間光変調器
22 :集光レンズ
23 :駆動部
31 :スクライブライン
Claims (6)
- ガラス基板をスクライブ加工する方法であって、
レーザ光を照射することによるガラス基板の内部加工を平面方向に断続的に行うことでスクライブラインを形成するスクライブライン形成工程を備え、
前記レーザ光の光軸上に並んだ複数の集光点が前記ガラス基板の内部に位置し、
前記複数の集光点のうち、レーザが照射される面とは反対側の面に最も近い第1の集光点のビーム強度が、複数の他の集光点のビーム強度よりも高い、
スクライブ加工方法。 - 前記複数の他の集光点はビーム強度が均一である、請求項1に記載のスクライブ加工方法。
- 前記第1の集光点のビーム強度が前記複数の他の集光点のビーム強度の1.8〜2.8倍である、請求項1又は2に記載のスクライブ加工方法。
- 前記スクライブライン形成工程では、非球面レンズを用いて前記複数の集光点を形成する、請求項1〜3のいずれかに記載のスクライブ加工方法。
- 前記スクライブライン形成工程では、空間光変調器と集光レンズを用いて前記複数の集光点を形成する、請求項1〜3のいずれかに記載のスクライブ加工方法。
- レーザ装置と、
請求項1〜5のいずれかに記載のスクライブ加工方法を前記レーザ装置に実行させる制御部と、
を備えたスクライブ加工装置。
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