JP6886883B2 - スチレン系樹脂の製造方法 - Google Patents
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- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
かかる問題を解消するために、種々の試みが行われている。
前記基材樹脂を、(1)測定条件200℃において、以下の関係式を満たすメルトフローレート(MFR:g/10分)と溶融張力値(MT:cN)
MT≧−3×ln(MFR)+12
(2)以下の関係式を満たす0.01rad/sと100rad/sの角周波数ωでの損失正接tanδの比
4≦tanδ(ω=0.01(rad/s))/tanδ(ω=100(rad/s))≦20
を有するものとすることが開示されている(例えば、特許文献3参照)。
更に、発泡成形品へのスチレン及びそのオリゴマーの溶出を低減させつつ、成形時の生産性を向上し得る押出発泡用ポリスチレン系樹脂組成物を得るために、押出発泡用のポリスチレン系樹脂組成物を、(1)分子量分布におけるトップピーク分子量(Mp)が14万〜22万;(2)Mp以下の分子量の割合が全体の40〜55%;(3)z+1平均分子量が80万〜350万;(4)スチレンダイマーとスチレントリマーとからなるオリゴマーの含有量が2000ppm以下;及び(5)スチレンの含有量が1000ppm以下の物性を有するものとすることが開示されている(例えば、特許文献4参照)。
<1> スチレン系樹脂を含む核粒子を水性媒体中に分散させる分散工程と、
前記水性媒体中に、有機過酸化物を含む重合開始剤及びスチレン単量体を添加し、実質的にスチレン単量体の重合が進行しない温度で前記核粒子に前記重合開始剤及び前記スチレン単量体を含浸させる含浸工程と、
前記水性媒体を昇温して、前記スチレン単量体の重合を開始させる重合開始工程と、
前記水性媒体中に、スチレン単量体を追加して添加し、前記核粒子に該スチレン単量体を含浸させて、スチレン系樹脂にスチレン単量体をグラフト重合させる追加含浸重合工程と、
を含み、
前記含浸工程におけるスチレン単量体の添加量は、前記核粒子100重量部に対し20〜200重量部であり、
前記追加含浸重合工程におけるスチレン単量体の添加量は、前記核粒子100重量部に対して50〜700重量であるとともに、前記追加含浸重合工程における前記核粒子中のスチレン単量体の含有量を10重量%以下に維持するスチレン系樹脂の製造方法である。
前記水性媒体中に、有機過酸化物を含む重合開始剤及びスチレン単量体を添加し、実質的にスチレン単量体の重合が進行しない温度で前記核粒子に前記重合開始剤及び前記スチレン単量体を含浸させる含浸工程と、
前記水性媒体を昇温して、前記スチレン単量体の重合を開始させる重合開始工程と、
前記水性媒体中に、スチレン単量体を追加して添加し、前記核粒子に該スチレン単量体を含浸させて、スチレン系樹脂にスチレン単量体をグラフト重合させる追加含浸重合工程と、
を含み、
前記含浸工程におけるスチレン単量体の添加量は、前記核粒子100重量部に対し20〜200重量部であり、
前記追加含浸重合工程におけるスチレン単量体の添加量は、前記核粒子100重量部に対して50〜700重量であるとともに、前記追加含浸重合工程における前記核粒子中のスチレン単量体の含有量を10重量%以下に維持する。
本発明の製造方法は、得られたスチレン系樹脂を洗浄する工程等の他の工程を、更に含んでいてもよい。
これに対し、本発明の製造方法が上記構成であることで、溶融張力が高く、かつ流動性にも優れるスチレン系樹脂を製造することができる理由は定かではないが、次の理由によるものと推察される。
一方、反応場のスチレン単量体の濃度が低い場合、開始剤ラジカルやポリマー鎖の生長末端ラジカルはスチレン単量体との重合反応だけではなく、ポリマー鎖の水素引抜反応を生じやすくなると考えられる。その結果、水素引抜反応により発生したポリマー鎖上のラジカルに、スチレン単量体がグラフト重合したり、あるいは、ポリマー鎖の生長末端ラジカルが再結合したりすることで、ポリマー鎖に分岐鎖が生成すると考えられる。更に、ポリマー鎖に分岐鎖が生成した位置は、立体的に混み合った状況にあることから、生成した分岐点の近くには更なる分岐鎖は生じにくいと考えられる。つまり、立体障害が生じない程度に、分岐点から離れたポリマー鎖上で、再び水素引き抜き反応が生じ、分岐鎖が生成すると考えられる。そのため、分岐点間が適度に離れながら、分岐鎖を生成するため、ゲル化が生じることなく、多くの分岐鎖を有するスチレン系樹脂が得られるものと考えられる。 以上により、本発明の製造方法によれば、ゲル化を抑制しつつ、分岐鎖を多く有し、かつ高分子量のスチレン系樹脂を製造できるためできるため、溶融張力が高く、かつ流動性が維持されたスチレン系樹脂を製造することができると考えられる。
以下、本発明の製造方法の各工程について詳細に説明する。
分散工程では、スチレン系樹脂を含む核粒子を水性媒体中に分散させる。
核粒子の水性媒体中への分散方法は、特に制限されず、例えば、核粒子と共に、水性媒体に懸濁剤と、必要に応じて界面活性剤を添加し、混合すればよい。
核粒子は、スチレン系樹脂を含む。
スチレン系樹脂としては、スチレン単量体の重合体、スチレン単量体と他の単量体との共重合体、及びこれらの2種以上の混合物が挙げられる。その共重合体に含まれるスチレン単量体に由来する構造単位は少なくとも50重量%以上、好ましくは60重量%以上、より好ましくは80重量%以上である。
スチレン系樹脂として、具体的には、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレン(耐衝撃性ポリスチレン)、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体等が例示できる。スチレン系樹脂は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。これらのスチレン系樹脂の中でも、水素引き抜き反応を生じ易く、スチレン単量体と共に分岐鎖を生じ易い点から、ポリスチレンからなることが好ましい。
核粒子は、スチレン系樹脂以外の樹脂を含んでいてもよいが、スチレン系樹脂を70重量%以上含んでいることが好ましく、85重量%以上含んでいることがより好ましく、スチレン系樹脂からなることが更に好ましい。
核粒子の平均粒子径は、63%体積平均粒子径を意味する。
水性媒体としては、通常、脱イオン水等の水を用いることができるが、核粒子が溶解しない限度において、アルコール等の水溶性有機溶剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤、及びノニオン性界面活性剤が挙げられる。これらの中でも、界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、及びノニオン性界面活性剤からなる群より選択される少なくとも1つを有することが好ましい。具体的には、アルキルスルホン酸塩(例えば、ドデシルスルホン酸ナトリウム)、アルキルベンゼンスルホン酸塩(例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)、ポリオキシアルキルエーテルリン酸エステル、アルキルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、高級アルコール、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオオキシエチレンアルキルエーテル、脂肪酸塩等が挙げられる。
界面活性剤は1種のみ用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
更に、界面活性剤と共に、例えば塩化リチウム、塩化カリウム、塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、コハク酸ナトリウム等の電解質を用いてもよい。
懸濁剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の親水性高分子;第三リン酸カルシウム、硝酸マグネシウム、ピロリン酸マグネシウム、ヒドロキシアパタイト、酸化アルミニウム、タルク、カオリン、ベントナイト等の難水溶性無機塩等が挙げられる。
懸濁剤は1種のみ用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。親水性高分子又は難水溶性無機塩のいずれか一方又は両方を、それぞれ1種のみ用いてもよいし、それぞれ2種以上を用いてもよい。
懸濁剤として難水溶性無機塩を使用する場合には、アルキルスルホン酸ナトリウムやアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤を併用することが好ましい。
含浸工程では、水性媒体中、すなわち、分散工程により分散した核粒子と、必要に応じて懸濁剤、界面活性剤等を含む水性媒体中に、有機過酸化物を含む重合開始剤及びスチレン単量体を添加し、実質的にスチレン単量体の重合が進行しない温度で核粒子に重合開始剤及びスチレン単量体を含浸させる。
ここで、「実質的にスチレン単量体の重合が進行しない温度」とは、有機過酸化物が実質的に分解しない温度であり、有機過酸化物の分解を抑制するという観点から、有機過酸化物の10時間半減期温度をT1/2としたとき、含浸工程における水性媒体の温度を(T1/2−15)℃以下とすることが好ましく、(T1/2−18)℃以下とすることがより好ましい。核粒子へのスチレン単量体の含浸性の観点から、含浸工程における水性媒体の温度を70℃以上とすることが好ましく、75℃以上とすることがより好ましい。
また、含浸工程の水性媒体の温度は前記範囲内であれば一定でもよく、徐々に上昇させるなど、変化させてもよい。
含浸工程の時間は、スチレン単量体と重合開始剤とを核粒子中に十分に含浸させるという観点から、0.5〜2.0時間程度とすることが好ましく、1.0〜2.0時間とすることがより好ましい。
重合開始剤は、少なくとも有機過酸化物を含む。
有機過酸化物としては、例えば過酸化ベンゾイル、ジラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−アミルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン等が挙げられる。
これらの有機過酸化物は1種のみ用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
重合開始剤の添加量は、核粒子とスチレン単量体の総添加量の合計100重量部に対して0.1〜2.0重量部であることが好ましい。この範囲であることで生産性を過度に低くせず、水素引き抜き反応を起こし易い。重合開始剤の添加量は、核粒子とスチレン単量体の総添加量の合計100重量部に対して、0.2〜1.5重量部であることがより好ましい。
水性媒体として、30℃における酸素濃度が4mg/L以上の水性媒体を用いることが好ましい。水性媒体の酸素は、水性媒体中での重合禁止剤として機能しており、細粒の発生を阻害する。従って、水性媒体中の酸素濃度が高いほど、スチレン系樹脂の収率が向上する。30℃における酸素濃度は5mg/L以上であることがより好ましい。
また、水性媒体に、水溶性の重合禁止剤、例えば亜硝酸ナトリウムを30〜200ppm添加することによっても細粒発生を抑制することができる。
重合開始工程では、重合開始剤とスチレン単量体が含浸された核粒子を分散している水性媒体の温度を昇温し、スチレン単量体の重合を開始させる。具体的には、有機過酸化物が実質的に分解する温度とすることにより、スチレン単量体の重合を開始させることが好ましい。生産性の観点から、水性媒体の温度を(T1/2−10)℃以上の温度とすることが好ましく、(T1/2−5)℃以上の温度とすることがより好ましい。
前記温度までの昇温時間は特に限定されるものではないが、昇温中に核粒子中のスチレン単量体の重合を進め、後述する追加含浸重合において核粒子中のスチレン単量体の含有量を10重量%以下に制御しやすいことから、3時間以上とすることが好ましく、5時間以上とすることがより好ましい。一方、生産性の観点からは10時間以内とすることが好ましい。
追加含浸重合工程では、水性媒体中、すなわち、重合開始工程を経て、核粒子内でスチレン単量体の重合が始まっている核粒子を含む水性媒体中に、スチレン単量体を追加して添加して、核粒子にスチレン単量体を含浸させて重合させる。この際、スチレン単量体の添加量は、追加含浸重合工程において、核粒子100重量部に対し50〜700重量部である。そして、追加含浸重合工程における核粒子中のスチレン単量体の含有量(濃度)を10重量%以下に維持するようにスチレン単量体を断続的に又は連続的に添加する。
なお、本発明の目的効果を阻害しない範囲において、追加含浸重合工程における核粒子中のスチレン単量体の含有量は10重量%を超えることができる。核粒子中のスチレン単量体の含有量が10重量%を超える時間は、追加含浸重合工程の時間のうち2割以下であることが好ましく、1割以下であることがより好ましく、追加含浸重合工程全てにおいて核粒子中のスチレン単量体の含有量を10重量%以下とすることが最も好ましい。分岐鎖を高度に生成させるという観点から、追加含浸重合工程の時間は、150分以上とすることが好ましく、より好ましくは180分以上である。生産効率の観点から、追加含浸重合工程の時間の上限は600分程度とすることが好ましい。
追加含浸重合工程における核粒子中のスチレン単量体の含有量は8重量%以下であることが好ましく、6重量%以下であることがより好ましい。
既述のように、核粒子の平均粒子径を1.2mm以下とすることで、比表面積が大きくなり、スチレン単量体の含浸性が向上し、分岐を生成しやすくなるものと考えられる。
また、追加含浸重合工程の水性媒体の温度は前記範囲内であれば一定でもよく、徐々に上昇させるなど変化させてもよい。
スチレン単量体の添加量は、追加含浸重合工程において、核粒子100重量部に対し100〜600重量部であることが好ましく、200〜550重量部であることがより好ましい。
このような特性を示すスチレン系樹脂は、高分子量でありながらも、従来の分岐状スチレン系樹脂よりも、分子鎖中に多くの長鎖分岐鎖が存在し、かつ比較的低分子量の分子鎖中に多くの長鎖分岐鎖が存在しているものと考えられる。
スチレン系樹脂を、テトラヒドロフラン等の溶媒に溶解してスチレン系樹脂溶液を調製し、GPC測定にかけると、分子サイズが大きいポリマーほど先に溶出することから、分子サイズにより分けられる。引き続き、分けられたスチレン系樹脂溶液をMALS測定にかけることにより、分子サイズにより分けられたスチレン系樹脂の重量平均分子量(Mw’)及び分子サイズに相当する二乗平均回転半径<Rg 2>を算出することができる。
具体的には、GPCで分子サイズにより分けられたスチレン系樹脂溶液に、レーザー光を照射し、レイリー散乱によってスチレン系樹脂溶液から生じた散乱光強度を計測する。得られた測定値から、以下の式(1)及び図8に示すDebyeプロットを用いてMw’及び<Rg 2>を算出する。
n0:溶媒の屈折率
dn/dc:屈折率の濃度増分
λ0:真空中での入射光の波長
NA:アボガドロ数
c:サンプル濃度(g/mL)
R(θ):過剰散乱のレイリー比
Mw’:重量平均分子量(g/mole)
P(θ):干渉因子
P(θ)=(1−2{(4π/λ)sin(θ/2)}2<Rg 2>/3!+・・・)
λ:測定系における波長 λ0/n0
<Rg 2>:二乗平均回転半径
A2:第二ビリアル係数
Debyeプロットにより得られる回帰直線と縦軸との切片(Y軸切片)から、GPCで分子サイズにより分けられたスチレン系樹脂の重量平均分子量Mw’、回帰直線の初期勾配から、該スチレン系樹脂の二乗平均回転半径<Rg 2>が求まる。
GPC測定において、各溶出時間における濃度は非常に希薄であるため,第二ビリアル係数A2を0として解析すると、GPCで分子サイズにより分けられたスチレン系樹脂の重量平均分子量Mw’と二乗平均回転半径<Rg 2>は、それぞれ、下記式(2)、(3)により求めることができる。
dy/dx:回帰直線の初期勾配
一方、直鎖ポリスチレンを標準物質として、GPC法により求められる数平均分子量Mn、重量平均分子量Mw、Z平均分子量Mzは、スチレン系樹脂の相対分子量である。
本発明の分岐構造を有するスチレン系樹脂の二乗平均回転半径<Rg 2>Bと直鎖スチレン系樹脂の二乗平均回転半径<Rg 2>Lの比を収縮因子gとして、下記式(4)〜(8)に基づき、収縮因子gを求めることができる。そして、収縮因子gから、長鎖分岐度Bmを求めることができる。本発明においては、スチレン系樹脂が3本鎖分岐の構造であると仮定して長鎖分岐度を求める。
収縮因子gw、1分子あたりの長鎖分岐度Bm,w、スチレン1000単位あたりの長鎖分岐度Bm,1000は、下記式(4)〜(8)で求められる。
(製造例1)
撹拌装置を備えた内容積が1m3のオートクレーブに、脱イオン水350kg、懸濁剤として第三リン酸カルシウム(太平化学産業社製、20.5%スラリー)2.1kg、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(10%水溶液)0.158kg、ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸二ナトリウム(花王社製、ペレックスSSH 10%水溶液)0.053kg、電解質として酢酸ナトリウム0.535kgを投入した。
ついで、重合開始剤としてt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート0.975kg(日本油脂社製、パーブチルO)及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート0.284kg(化薬アクゾ社製、トリゴノックス117)、重合禁止剤として4−tert−ブチルカテコール15.4gを、スチレン390kgに溶解させ、110rpmで撹拌しながら、これをオートクレーブ内に供給した。オートクレーブ内を窒素置換した後、昇温を開始し、1時間15分かけて90℃まで昇温した。
冷却後、内容物を取り出し、スチレン系樹脂粒子の表面に付着した第三リン酸カルシウムを硝酸により溶解させた後、遠心分離機で脱水、洗浄し、さらに気流乾燥装置で粒子の表面に付着した水分を除去して、スチレン系樹脂粒子を得た。
得られたスチレン系樹脂粒子を篩にかけて、直径が0.5〜1.3mmの粒子(平均粒子径0.8mm)を取り出し、核粒子1とした。
なお、スチレン系樹脂粒子(前記核粒子1及び後述する核粒子2)の平均粒子径d63は、日機装株式会社の粒度分布測定装置「ミリトラック JPA」により測定した。
撹拌装置を備えた内容積が1m3のオートクレーブに、脱イオン水380kg、懸濁剤として第三リン酸カルシウム(太平化学産業社製、20.5%スラリー)6.15kg、界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(10%水溶液)0.499kg、ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸二ナトリウム(花王社製、ペレックスSSH 10%水溶液)0.166kg、懸濁助剤として過硫酸カリウム4gを供給した。
次いで、重合開始剤としてt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート0.440kg(日本油脂社製、パーブチルO)及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート0.520kg(化薬アクゾ社製、トリゴノックス117)をスチレン360kgに溶解させ、110rpmで撹拌しながら、これをオートクレーブに供給した。オートクレーブ内を窒素置換した後、昇温を開始し、1時間15分かけて90℃まで昇温した。
冷却後、内容物を取り出し、スチレン系樹脂粒子の表面に付着した第三リン酸カルシウムを硝酸により溶解させた後、遠心分離機で脱水、洗浄し、さらに気流乾燥装置で表面に付着した水分を除去して、スチレン系樹脂粒子を得た。
得られたスチレン系樹脂粒子を篩にかけて、直径が0.3〜0.5mmの粒子(平均粒子径0.4mm)を取り出し、核粒子2とした。
(実施例1)
[分散工程]
撹拌装置を備えた内容積が1.5m3のオートクレーブに、脱イオン水421kg、ピロリン酸ナトリウム2.63kg、硝酸マグネシウム6.56kgを供給し、塩交換によりオートクレーブ内で懸濁剤としてのピロリン酸マグネシウムを合成した。界面活性剤としてアルキルスルホン酸ナトリウム(花王社製、ラテムルPS、40%水溶液)0.131kg、核粒子として製造例1で得られたスチレン系樹脂粒子(核粒子1)112kgをオートクレーブに供給した後、オートクレーブ内を窒素置換した。具体的には窒素によりオートクレーブ内を0.3MPa(G)まで加圧し、その後オートクレーブ内の圧力が大気圧になるまでオートクレーブ内の気体を放出した。
次いで、50rpmで撹拌しながら、80℃まで昇温した。80℃に到達後、脱イオン水84kg、アルキルスルホン酸ナトリウム(花王社製、ラテムルPS、40%水溶液)0.171kg、スチレン(スチレン単量体)80kg、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート(化薬アクゾ社製、トリゴノックス117;表中は「BE」と記載、10時間半減期温度T1/299.0℃)1.58kgの混合物をホモジナイザーにより乳化液に調製し、乳化液をオートクレーブ内に供給した。その後、オートクレーブ内を0.1MPa(G)になるまで窒素で加圧し、80℃で1時間保持した。
その後、2時間かけて105℃まで昇温した。
105℃到達後、5.5時間保持した。オートクレーブ内の温度が105℃に到達時から5時間10分かけて、スチレン(スチレン単量体)254kgを0.8kg/分の割合でオートクレーブ内に連続的に添加した。
なお、スチレンの添加に当たっては、上記添加条件、重合に用いた重合開始剤の化学的特性、及び重合温度から計算したスチレンの重合速度をもとに、シミュレーションにより経過時間に対する核粒子中のスチレン含有量変化と温度変化を確認し、そのシミュレーションに基づき、スチレンの添加中の核粒子中のスチレン含有量が10重量%以下となるようにスチレンを追加添加した。
スチレンの追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法(「追加含浸重合工程中のスチレン単量体添加中の核粒子中のスチレン含有量の測定方法」)によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量はいずれも6重量%であった。
追加含浸重合工程後、水性媒体を120℃まで2時間かけて昇温し、120℃で3時間保持することで未反応のスチレン単量体を重合させた。
[冷却工程]
残重合工程後、6時間かけて水性媒体を35℃まで冷却した。
実施例1とは、以下の点を変更した。具体的には、核粒子を、核粒子1から製造例2で得られたスチレン系樹脂粒子(核粒子2)66.9kgに変更した。また、追加含浸重合工程において、105℃での保持時間を6時間10分に変更し、追加添加するスチレンの量を299kgに変更し、スチレンを6時間10分かけて0.8kg/分の割合で連続的に添加した。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量は、追加添加開始時は10重量%、添加開始から2.5時間経過時及び追加添加終了時は6重量%であった。
含浸工程後80℃から2時間かけて100℃に昇温し、追加含浸重合工程の温度を100℃に変更したことを除いては実施例1と同様にスチレン系樹脂を作製した。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量は、追加添加開始時は10重量%、添加開始から2.5時間経過時は9重量%、追加添加終了時は8重量%であった。
実施例1とは、以下の点を変更した。具体的には、分散工程において、核粒子(核粒子1)の供給量を183kgに変更した。また、追加含浸重合工程において、105℃での保持時間を3時間に変更し、追加添加するスチレンの量を103kgに変更し、スチレンを3時間かけて0.8kg/分の割合で連続的に添加した。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量は、追加添加開始時は3重量%、添加開始から2.5時間経過時及び追加添加終了時は5重量%であった。
実施例1とは、以下の点を変更した。分散工程において、昇温前にオートクレーブ内の空気を窒素にて置換する際、窒素によりオートクレーブ内を0.5MPa(G)まで加圧し、オートクレーブ内の圧力が大気圧になるまでオートクレーブ内の気体を放出する操作を3回繰り返した。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量はいずれも6重量%であった。
実施例1とは、以下の点を変更した。具体的には、核粒子(核粒子1)の供給量を67kgに変更した。また、追加含浸重合工程において、105℃での保持時間を6時間30分に変更し、追加添加するスチレンの量を299kgに変更し、スチレンを6時間10分かけて0.8kg/分の割合で連続的添加にした。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量は、追加添加開始時は10重量%、添加開始から2.5時間経過時及び追加添加終了時は6重量%であった。
含浸工程後80℃から2時間かけて90℃に昇温し、追加含浸重合工程の温度を90℃に変更したことを除いては実施例1と同様にスチレン系樹脂を作製した。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から2.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量は、追加添加開始時は19重量%、添加開始から2.5時間経過時は25重量%、追加添加終了時は24重量%であった。
実施例1とは、以下の点を変更した。具体的には、分散工程において、核粒子(核粒子1)の供給量を105kgに変更した。含浸工程の温度を75℃に変更し、75℃に到達後、スチレンの量を53kgに変更し、重合開始剤を過酸化ベンゾイル(日本油脂社製 ナイパーBW、水希釈粉体品;表中は「BPO」と記載、10時間半減期温度73.6℃)1.79kg、及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート(化薬アクゾ社、トリゴノックス117、10時間半減期温度99.0℃)0.18kgに変更し、分岐剤(多官能性単量体)としてジビニルベンゼン11gを添加した乳化液をオートクレーブ内に供給した。その後、75℃で2時間保持した。75℃で2時間保持した後、温度はそのままにして2時間30分かけてスチレン321kgとジビニルベンゼン89gの混合物を2.1kg/分の割合で連続的に添加した。スチレン単量体の追加添加開始時、添加開始から1.5時間経過時、追加添加終了時のそれぞれにおいて、後述する方法によりスチレン系樹脂粒子中のスチレン含有量を測定したところ、核粒子中のスチレン含有量は、追加添加開始時は8重量%、添加開始から1.5時間経過時は58重量%、追加添加終了時は66重量%であった。次いで、2時間かけて108℃まで昇温し、20分かけて112℃まで昇温し、2時間かけて125℃まで昇温した。その後、125℃で1時間30分保持し、6時間かけて35℃まで冷却した。
スチレン系樹脂として、市販品(DIC社製HP780AN)を用いて評価を行なった。
下記方法にて実施例及び比較例のスチレン系樹脂の物性を測定した。結果を表1及び2に示す。
スチレン系樹脂約1gを精秤し、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)25mlに溶解させ、ガスクロマトグラフィー(GC)で測定し、検量線で校正して、残存スチレンを定量した。なお、ガスクロマトグラフィーの測定条件は次の通りである。
使用機器:島津製作所社製ガスクロマトグラフGC−9A
カラム充填剤:
〔液相名〕PEG−20M
〔液相含浸率〕25重量%
〔担体粒度〕60/80メッシュ
〔担体処理方法〕AW−DMCS(水洗、焼成、酸処理、シラン処理)
カラム材質:内径3mm、長さ3000mmのガラスカラム
キャリアガス:N2
検出器:FID(水素炎イオン化検出器)
定量:内部標準法
スチレン系樹脂約0.1gを精秤し、テトラヒドロフラン10mlに溶解させ、23℃のn−ヘプタン約250ml中に滴下して樹脂を析出させた。樹脂を濾別した濾液をガスクロマトグラフ質量分析計で測定した。なお、ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件は次の通りである。
使用機器:島津製作所社製ガスクロマトグラフ質量分析計GC/MS−QP5050A
カラム:J&W Scientific社製DB−5MS、0.25mm×30m(固定相:5%ジフェニル−95%ジメチル−ポリシロキサン)
キャリアガス:ヘリウム、カラム流量1.6ml/min
試料注入量:1μL
昇温直前の30℃の水性媒体中の酸素濃度をハンディタイプ溶存酸素計DO−110(ニッコー・ハンセン社製)により測定した。
東洋精機社製キャピログラフ1Dにより、200℃、せん断速度100sec−1におけるスチレン系樹脂の溶融粘度を測定した。測定には内径1mm、長さ10mmのオリフィスを用いた。得られたスチレン系樹脂から無作為に採取した5つの測定用試料に対して溶融粘度の測定を行い、それらの測定値の算術平均値をスチレン系樹脂の溶融粘度とした。
東洋精機社製キャピログラフ1Dにより、200℃におけるスチレン系樹脂の溶融張力を測定した。測定には内径2.095mm、長さ8mmのオリフィスを用いた。ピストン降下速度10mm/分にてオリフィスからストランド状に押出された溶融状態の樹脂を、荷重測定部を通して引取り速度5m/分にて引取り、荷重を測定した。なお、得られたスチレン系樹脂を均質化するために、東洋精機社製ラボプラストミルを用いて行い、スクリュー回転数50rpm、樹脂温度200℃の条件で混練したものを測定用試料として用いた。なお、スチレン系樹脂の溶融張力が高すぎて単体では溶融張力が測定できない場合には、得られたスチレン系樹脂にPSジャパン製ポリスチレン「680」をそれぞれ75重量%、50重量%の割合で混練したものを測定試料として用いてそれらの溶融張力を測定し、外挿することにより「680」配合量0重量%のときの溶融張力を求め、その値をスチレン系樹脂の溶融張力とした。
スチレン系樹脂中のスチレン系樹脂1gを精秤して、テトラヒドロフラン30mlを加え、23℃で24時間浸漬後、5時間振とうし、静置する。次いで上澄みをデカンテーションにより取り除き、再度テトラヒドロフラン10mlを加えて静置し、上澄みをデカンテーションにより取り除き、23℃で24時間乾燥し、乾燥後の重量を求め、次式によりテトラヒドロフラン不溶分を求める。
テトラヒドロフラン不溶分(%)=[乾燥後の不溶分重量/試料の重量]×100
直鎖ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)法により、スチレン系樹脂の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Z平均分子量(Mz)を測定した。具体的には、東ソー社製のHLC−8320GPC EcoSECを用いて、溶離液:テトラヒドロフラン(THF)、流量:0.6ml/分、試料濃度:0.1wt%という条件で測定した。カラムとしては、TSKguardcolumn SuperH−H×1本、TSK−GEL SuperHM−H×2本を直列に接続して用いた。すなわち、スチレン系樹脂をテトラヒドロフラン(THF)に溶解させ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で分子量を測定した。そして、測定値を標準ポリスチレン(直鎖)で校正して、スチレン系樹脂の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Z平均分子量(Mz)をそれぞれ求めた。
GPC−MALS法〔多角度光散乱検出器(Multi Angle Light Scattering:MALS)〕により、スチレン系樹脂の数平均分子量(Mn’)、重量平均分子量(Mw’)、Z平均分子量(Mz’)を測定した。GPC−MALS法により、スチレン系樹脂の絶対分子量を測定することができる。具体的には、島津製作所社製Prominence LC−20AD(2HGE)/WSシステム、Wyatt Technology社製の多角度光散乱検出器 DAWN HELEOS IIを用いて、溶離液:テトラヒドロフラン(THF)、流量1.0ml/minという条件で測定した。カラムとしては、東ソー社製TSKgel HHR−H×1本、TSKgel GMHHR×2本、を直列に接続して用いた。測定の解析は、Wyatt社の解析ソフト ASTRAにより行い、スチレン系樹脂の数平均分子量(Mn’)、重量平均分子量(Mw’)、Z平均分子量(Mz’)を求めた。屈折率の濃度増分dn/dcには、0.185ml/gを用いて解析を行なった。
記述の式(4)〜(8)に基づき、収縮因子gw、1分子あたりの長鎖分岐度Bm,w、スチレン1000単位あたりの長鎖分岐度Bm,1000を下記式により求めた。本解析では3本鎖分岐と仮定して長鎖分岐度を求めた。直鎖ポリスチレンとしては、製造例1で得られたスチレン系樹脂粒子のデータを用いた。
スチレン単量体の追加添加開始、開始2.5時間目、終了時のそれぞれの系において、反応器の温度を10分以内に30℃まで冷却し、重合中のスチレン系樹脂粒子を取り出した。
スチレン系樹脂粒子をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させ、ガスクロマトグラフィー(GC)で測定し、検量線で校正して、スチレン系樹脂粒子中の残存スチレンを定量した。
なお、ガスクロマトグラフィーの測定条件は次の通りである。
使用機器:島津製作所製のガスクロマトグラフGC−9A
カラム充填剤:
〔液相名〕PEG−20M
〔液相含浸率〕25重量%
〔担体粒度〕60/80メッシュ
〔担体処理方法〕AW−DMCS(水洗、焼成、酸処理、シラン処理)
カラム材質:内径3mm、長さ3000mmのガラスカラム
キャリアガス:N2
検出器:FID(水素炎イオン化検出器)
定量:内部標準法
Claims (4)
- スチレン系樹脂を85重量%以上含む核粒子を水性媒体中に分散させる分散工程と、
前記水性媒体中に、有機過酸化物を含む重合開始剤及びスチレン単量体を添加し、実質的にスチレン単量体の重合が進行しない温度で前記核粒子に前記重合開始剤及び前記スチレン単量体を含浸させる含浸工程と、
前記水性媒体を昇温して、前記スチレン単量体の重合を開始させる重合開始工程と、
前記水性媒体中に、スチレン単量体を追加して添加し、前記核粒子に該スチレン単量体を含浸させて、スチレン系樹脂にスチレン単量体をグラフト重合させる追加含浸重合工程と、
を含み、
前記含浸工程におけるスチレン単量体の添加量は、前記核粒子100重量部に対し20〜200重量部であり、
前記追加含浸重合工程におけるスチレン単量体の添加量は、前記核粒子100重量部に対して50〜700重量であるとともに、前記追加含浸重合工程における前記核粒子中のスチレン単量体の含有量を10重量%以下に維持するスチレン系樹脂の製造方法。 - 前記水性媒体は、30℃における酸素濃度が4mg/L以上である請求項1に記載のスチレン系樹脂の製造方法。
- 前記分散工程における前記核粒子の平均粒子径が0.3〜1.2mmである請求項1又は2に記載のスチレン系樹脂の製造方法。
- 前記有機過酸化物の10時間半減期温度T1/2が85〜120℃であり、前記含浸工程における前記水性媒体の温度が70℃以上(T1/2−15)℃以下であり、前記追加含浸重合工程における前記水性媒体の温度が(T1/2−10)℃以上(T1/2+20)℃以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載のスチレン系樹脂の製造方法。
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