JP6872849B2 - Light conversion film manufacturing method, light conversion film manufacturing equipment, and light conversion film - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 244
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 43
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 616
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 384
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 46
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 34
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 17
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 164
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 37
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 32
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 21
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 101100063942 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) dot-1 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- -1 and specifically Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
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- Optical Filters (AREA)
- Planar Illumination Modules (AREA)
Description
本発明は、側面端部からの水分や酸素の浸入を防止した光変換フィルムの製造方法、光変換フィルム製造装置、及び光変換フィルムに関するものである。 The present invention relates to a method for producing a light conversion film in which moisture and oxygen are prevented from entering from the side end portions, a light conversion film manufacturing apparatus, and a light conversion film.
近年、液晶ディスプレイにおいて色再現性の向上(色域の拡大)に伴い、光変換材料として量子ドットが注目されている。量子ドットを含む光変換フィルムにバックライトから青色の光が入射すると、サイズの異なる2種類の量子ドットによって赤色光と緑色光に変換され放出される。またその際、変換されず通過する青色光と併せて、鋭いピークをもったRGB光源を作り出すことができ、色域の大幅な拡大が可能と見込まれている。 In recent years, quantum dots have been attracting attention as an optical conversion material with the improvement of color reproducibility (expansion of color gamut) in liquid crystal displays. When blue light is incident on an optical conversion film containing quantum dots from a backlight, it is converted into red light and green light by two types of quantum dots of different sizes and emitted. At that time, it is expected that an RGB light source having a sharp peak can be created together with the blue light passing through without being converted, and the color gamut can be greatly expanded.
しかし量子ドットには、水分や酸素に接触すると光酸化反応により発光強度が低下するという問題がある。 However, quantum dots have a problem that their emission intensity decreases due to a photooxidation reaction when they come into contact with water or oxygen.
特許文献1には、量子ドットを水分や酸素から保護するために、量子ドットを含む光変換フィルムにバリアフィルムをラミネートし接着する構成が記載されている。
特許文献1:特開2015−65158号公報 Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-65158
しかしながら、特許文献1記載のものは、ラミネートしたバリアフィルムの側面端部において量子ドットが含まれる光変換フィルムが露出しており、ここから水分や酸素が浸入するという問題があった。
However, the one described in
本発明は、上記問題点を解決して、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することを課題とする。 An object of the present invention is to solve the above problems and prevent the infiltration of water and oxygen from the side end portions of the photoconversion film.
上記課題を解決するために本発明は、バリアフィルムの第1主面に接触し周囲に前記バリアフィルムが存在するように前記バリアフィルムよりも小面積の光変換膜を成膜し、
前記バリアフィルムの第1主面に接触する前記光変換膜の面を第2主面としたときに、少なくとも前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜をプラズマCVD又は蒸着により成膜した後、
前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、少なくとも前記バリアフィルムを切断してなり、
前記バリアフィルムに成膜した前記光変換膜は、前記バリア膜の成膜前に硬化させるものであり、
前記バリア膜は、バッファ層及び前記バッファ層よりも高い密度のバリア層を少なくとも各1層含んで成膜された複層であり、
前記バッファ層及び前記バリア層は、前記光変換膜の前記第1主面及び側面全周囲を覆うように成膜されることを特徴とする光変換フィルムの製造方法を提供するものである。
In order to solve the above problems, the present invention forms a light conversion film having a smaller area than the barrier film so that the barrier film comes into contact with the first main surface of the barrier film and is present around the barrier film.
When the surface of the light conversion film in contact with the first main surface of the barrier film is set as the second main surface, the light conversion film is in contact with at least the first main surface and the entire side surface of the light conversion film. After forming a barrier film covering the above by plasma CVD or vapor deposition,
At least the barrier film is cut, leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film.
The light conversion film formed on the barrier film is cured before the barrier film is formed.
The barrier film is a multi-layer film formed by including at least one buffer layer and at least one barrier layer having a higher density than the buffer layer.
The buffer layer and the barrier layer provide a method for producing a light conversion film, which is characterized in that the film is formed so as to cover the first main surface and the entire side surface of the light conversion film.
この構成により、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。 With this configuration, it is possible to prevent the infiltration of water and oxygen from the side edge portion of the light conversion film.
前記バリア膜の成膜において、
前記光変換膜全体を包含する大きさの開口を有したマスクを、成膜方向からみて前記開口内に前記光変換膜を包含するように位置を合わせて前記バリア膜を成膜し、
前記バリアフィルムの切断において、
前記成膜方向からみてマスクされた位置で前記バリアフィルムを切断する構成としてもよい。
In the film formation of the barrier film,
A mask having an opening having a size that includes the entire light conversion film is aligned so as to include the light conversion film in the opening when viewed from the film forming direction, and the barrier film is formed .
In cutting the barrier film
The barrier film may be cut at a masked position when viewed from the film forming direction.
この構成により、バリア膜の成膜されていない箇所を形成することができ、そこを切断することにより、光変換膜の第1主面及び側面全周囲におけるバリア膜を損なうことなくバリアフィルムを切断することができる。 With this configuration, it is possible to form a portion where the barrier film is not formed, and by cutting the portion, the barrier film is cut without damaging the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the photoconversion film. can do.
前記バリア膜は、前記バッファ層を成膜した後、前記バリア層を成膜する構成としてもよい。 The barrier film may be configured to form the barrier layer after forming the buffer layer.
前記バリア層の成膜において、前記光変換膜全体を包含する大きさの開口を有したマスクを成膜方向からみて前記開口内に前記光変換膜を包含するように位置を合わせて、前記バリア層を成膜するとともに、
前記バッファ層の成膜において、前記光変換膜全体を包含する大きさで、かつ、前記バリア層の成膜時よりも狭い開口を有したマスクを成膜方向からみて前記開口内に前記光変換膜を包含するように位置を合わせて、前記バッファ層を成膜する構成としてもよい。
In the deposition of the pre-Symbol barrier layer, in alignment so as to encompass the light conversion layer in the opening of the mask having an opening sized for encompassing the entire light conversion film deposition direction viewed from the Along with forming a barrier layer
In the deposition of the buffer layer, a size encompassing the entire light conversion film, and the light converted into the opening of the mask having a narrow opening than during film of the barrier layer as viewed from film direction The buffer layer may be formed by aligning the positions so as to include the film.
前記バリア層の成膜において、前記光変換膜全体を包含する大きさの開口を有したマスクを成膜方向からみて前記開口内に前記光変換膜を包含するように位置を合わせて、前記バリア層を成膜するとともに、
前記バッファ層の成膜において、成膜時の圧力をバリア層成膜時より高くする構成としてもよい。
In the deposition of the pre-Symbol barrier layer, in alignment so as to encompass the light conversion layer in the opening of the mask having an opening sized for encompassing the entire light conversion film deposition direction viewed from the Along with forming a barrier layer
In the film formation of the buffer layer, the pressure at the time of film formation may be higher than that at the time of film formation of the barrier layer.
前記バリア膜を成膜した後、After forming the barrier film,
前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、前記光変換膜の外側における前記バリア膜を切断し、The barrier film on the outside of the light conversion film is cut, leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film.
さらに、前記バリア膜の上から再度バリア膜を成膜し、 Further, a barrier film is formed again on the barrier film, and the barrier film is formed again.
少なくとも前記バリアフィルムを切断するする構成としてもよい。 At least, the barrier film may be cut.
また、上記課題を解決するために本発明は、バリアフィルムを搬送する搬送手段と、
前記バリアフィルムの第1主面に接触する光変換膜を成膜して硬化させる光変換膜成膜手段と、
前記バリアフィルムの第1主面に接触する前記光変換膜の面を第2主面としたときに、少なくとも前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜をプラズマCVD又は蒸着により成膜するバリア膜成膜手段と、
前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、少なくとも前記バリアフィルムを切断する切断手段と、を備え、
前記バリア膜成膜手段が成膜する前記バリア膜は、バッファ層及び前記バッファ層よりも高い密度のバリア層を少なくとも各1層含み、前記バッファ層及び前記バリア層は、前記光変換膜の前記第1主面及び側面全周囲を覆うように成膜されるものであることを特徴とする光変換フィルム製造装置を提供するものである。
この構成により、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。
Further, in order to solve the above problems, the present invention provides a transport means for transporting the barrier film and
An optical conversion film forming means for forming and curing an optical conversion film in contact with the first main surface of the barrier film,
When the surface of the photoconversion film in contact with the first main surface of the barrier film is set as the second main surface, the photoconversion film is in contact with at least the first main surface and the entire side surface of the photoconversion film. A barrier film forming means for forming a barrier film covering the above by plasma CVD or thin film deposition,
A cutting means for cutting at least the barrier film, leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film, is provided.
The barrier film formed by the barrier film forming means includes at least one buffer layer and at least one barrier layer having a density higher than that of the buffer layer, and the buffer layer and the barrier layer are the light conversion film. It is an object of the present invention to provide an optical conversion film manufacturing apparatus characterized in that a film is formed so as to cover the entire periphery of a first main surface and a side surface.
With this configuration, it is possible to prevent the infiltration of water and oxygen from the side edge of the photoconversion film.
また、上記課題を解決するために本発明は、光変換膜の第2主面全域が前記光変換膜よりも広い面積のバリアフィルムに接し、第1主面及び側面全周囲がバリア膜に接している光変換フィルムであって、
前記バリアフィルム及び前記バリア膜は光を透過し、
前記バリア膜は、バッファ層及び前記バッファ層よりも高い密度のバリア層を少なくとも各1層含んで成膜された複層であり、
前記バッファ層及び前記バリア層は、前記光変換膜の前記第1主面及び側面全周囲を覆っており、前記バッファ層の外縁よりも前記バリア層の外縁の方が、外側に位置することを特徴とする光変換フィルムを提供するものである。
この構成により、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。
Further, the present invention in order to solve the above problems, the second main surface the whole area of the light conversion layer is in contact with the barrier film of larger area than the light conversion layer, the first main surface and side surfaces all around is in contact with the barrier film Light conversion film
The barrier film and the barrier film transmit light and
The barrier film is a multi-layer film formed by including at least one buffer layer and at least one barrier layer having a higher density than the buffer layer.
The buffer layer and the barrier layer cover the entire circumference of the first main surface and the side surface of the light conversion film, and the outer edge of the barrier layer is located outside the outer edge of the buffer layer. It provides a characteristic optical conversion film.
With this configuration, it is possible to prevent the infiltration of water and oxygen from the side edge portion of the light conversion film.
以下、本発明の実施例1を図1及び図2を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施例1における光変換フィルム製造装置の構成を説明する図である。図2は、本発明の実施例1における光変換フィルムの製造方法を説明する図である。 Hereinafter, Example 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of an optical conversion film manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram illustrating a method for producing a light conversion film according to the first embodiment of the present invention.
光変換フィルム製造装置100は、図1に示すように、ロール状に巻かれたバリアフィルム101を引き出してX方向(下流)へと連続搬送する搬送手段140と、バリアフィルム101の上面(第1主面)に光変換膜102を成膜する光変換膜成膜手段110と、光変換膜成膜手段110の下流に位置し、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲に接触するように光変換膜102を覆うバリア膜103を成膜するバリア膜成膜手段120と、バリア膜成膜手段120の下流に位置し、光変換膜102の上面(第1主面)及び側面におけるバリア膜103を残して、光変換膜102の外側における少なくともバリアフィルム101を切断する切断手段130を備えている。
As shown in FIG. 1, the optical conversion
ここで、少なくともバリアフィルム101を切断すると説明する理由は、切断位置においてバリアフィルム101の上面(第1主面)にバリア膜103が成膜されない場合があり、その場合は、バリア膜103を切断する必要がないからである。一方、バリアフィルム101の上面(第1主面)にバリア膜103が成膜されている場合は、バリア膜103及びバリアフィルム101を切断する必要がある。
Here, at least the reason for explaining that the
搬送手段140は、バリア膜成膜手段120と切断手段130との間に位置し、バリアフィルムロール141に巻かれたバリアフィルム101を引き出して下流に搬送するようにテンションをかける駆動ローラ143、及び、保護フィルムが巻かれた保護フィルムロール144から保護フィルム106を引き出すようにテンションをかけるとともに光変換膜102に保護フィルム106をラミネートするラミネートローラ142等を備えている。また、駆動ローラ143は図示しない駆動装置によって駆動される。
The transport means 140 is located between the barrier film film forming means 120 and the cutting means 130, and is a
光変換膜成膜手段110は、塗布ヘッド111と、光変換膜102を加熱して硬化させる硬化手段112を備えている。塗布ヘッド111は、Y方向に幅広の形状を有したノズルから光変換膜102をバリアフィルム101上にY方向に一定の幅で、また一定の厚さに、そして液晶ディスプレイに対応した面積に間歇的に吐出して成膜することができる。
The light conversion film forming means 110 includes a
バリア膜成膜手段120は、プラズマCVD装置によって、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲に接触するように光変換膜102を覆うバリア膜103を成膜する。ここで、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲に接触するように成膜すると説明する理由は、図2(c)に示すように、バリア膜103がバリアフィルム101の上面にも接触して成膜される場合があるからである。この場合もバリアフィルム101上にバリア膜103が成膜されることは、必ずしも必要ではなく、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲に接触するように光変換膜102を覆うバリア膜103が成膜されればよい。
The barrier film forming means 120 forms a
切断手段130は、レーザカッター131により光変換膜102の外側におけるバリアフィルム101を少なくとも切断して、液晶ディスプレイに対応した大きさの光変換フィルム109とする。光変換フィルム109は、ロボット等により、順次、台に積み重ねられる。ここで、光変換膜102の外側におけるバリアフィルム101を少なくとも切断すると説明した理由は、上述したように、切断位置においてバリア膜103がバリアフィルム101の上面に接触して成膜される場合もあるが、成膜されない場合もあるからである。つまり、バリア膜103がバリアフィルム101上に成膜されていない場合は、バリアフィルム101を切断すれば足りる。一方、バリア膜103がバリアフィルム101の上面に接触して成膜される場合は、バリア膜103及びバリアフィルム101を切断する必要がある。
The cutting means 130 cuts at least the
なお、実施例1における光変換膜製造装置100は、ロール状に巻かれたバリアフィルムを搬送手段140により引き出して、順次、光変換膜成膜手段110、バリア膜成膜手段120、及び切断手段130へと搬送する構成としたが、必ずしもこれに限定されるものではなく、枚葉式の製造を行うために、小片のバリアフィルムを供給して、光変換膜成膜手段110、バリア膜成膜手段120、切断手段130へと順次搬送する構成としてもよい。そして、小片のサイズが液晶ディスプレイのサイズに対応したサイズであれば、切断を行わなくてもよい。
The optical conversion
また、実施例1における光変換膜成膜手段110は、塗布ヘッド111と硬化手段112で構成したが、必ずしもこれに限定されず、他の手段によって光変換膜102を成膜してもよい。例えば、プラズマCVD装置や蒸着装置やUV硬化装置等を用いて成膜することができる。
Further, the light conversion film forming means 110 in Example 1 is composed of the
さらに、実施例1におけるバリア膜成膜手段120は、プラズマCVD装置で構成するようにしたが、必ずしもこれに限定されず、他の手段によってバリア膜103を成膜してもよい。例えば、蒸着装置や塗布装置等を用いて成膜することができる。
Further, the barrier film forming means 120 in Example 1 is configured to be composed of a plasma CVD apparatus, but the present invention is not necessarily limited to this, and the
さらに、実施例1における切断手段130は、レーザカッター131で構成するようにしたが、必ずしもこれに限定されず、他の手段によってバリア膜103及びバリアフィルム101を切断するように構成してもよい。例えば、金属やセラミックの刃物によるカッター等を用いて切断することができる。
Further, although the cutting means 130 in the first embodiment is configured by the
次に、図2を参照しながら、実施例1における光変換フィルムの製造方法を説明する。まず、ロール状に巻かれたバリアフィルム101を引き出す(図2(a))。バリアフィルム101は、基材104の上面(第1主面)にバリア層105が成膜されたものである。本発明においては、バリア層105が成膜された面をバリアフィルム101の第1主面と定義する。このバリア層105は、水分や酸素の浸入を防止することができる。基材104は、25〜150μmの厚さを有したポリエステルフィルム(PETやPENフィルム)等の透明な物質からなっている。またバリア層105は、透明な無機物からなり平均0.2μmの厚さを有している。具体的には、シリコン系膜であってもよく、Si並びにO(酸素)及び/又はN(窒素)を含んでいてもよい。つまりバリア膜103は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であってもよい。そして、透明な基材104と透明なバリア層105とからなるバリアフィルム101は、光を透過させることができる。
Next, the method for producing the optical conversion film according to the first embodiment will be described with reference to FIG. First, the
次に、引き出されたバリアフィルム101の上面(第1主面)に接触して光変換膜102を液晶ディスプレイに対応する大きさに光変換膜成膜手段110により成膜する(図2(b))。なお、図2では、光変換膜102を2列に間歇的に成膜しているが、必ずしもこれに限定されない、例えば、1列に間歇的に成膜してもよいし、3列以上であってもよい。2列以上の光変換膜102を成膜する場合の光変換膜102間の距離は、1cm程度あれば充分である。光変換膜102は、図8に示すように樹脂中に量子ドット1を含んだ量子ドット樹脂膜、すなわち光変換膜2からなっている。量子ドット1は青色光に対して赤色を発光する量子ドット及び緑色を発光する量子ドットを含んでいる。その結果、量子ドット樹脂膜からなる光変換膜102に青色光を照射すると、赤色及び緑色が発光するとともに青色光はそのまま透過して、RGBの光の三原色に変換される。
Next, the
次に、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲に接触するように光変換膜102を覆うバリア膜103をバリア膜成膜手段120により成膜する(図2(c))。この際に、光変換膜102の外側におけるバリアフィルム101上面にもバリア膜103が成膜されてもよく、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲に接触するように光変換膜102を覆うバリア膜103が成膜されればよい。このバリア膜103は、無機物からなり透明な性質を有している。具体的には、シリコン系膜であってもよく、Si並びにO(酸素)及び/又はN(窒素)を含んでいてもよい。つまりバリア膜103は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であってもよい。バリア膜103で光変換膜102を覆うことにより、光変換膜102への水分や酸素の浸入を防止することができる。
Next, the
最後に、切断手段130により、光変換膜102の外側における少なくともバリアフィルム101を切断して(図2(d))、液晶ディスプレイの大きさに対応した光変換フィルム109を作成する(図2(e))。この際、上述したように、バリアフィルム101上にもバリア膜103が成膜されている場合は、バリア膜103及びバリアフィルム101を切断する。光変換フィルム109は、量子ドットによって光変換をするものであるから、量子ドットフィルムともいえる。
Finally, the cutting means 130 cuts at least the
このように実施例1で作成された光変換フィルム109は、光変換膜102の上面(第1主面)、及び側面全周囲がバリア膜103で覆われ、光変換膜102の下面(第2主
面)はバリアフィルム101で覆われているから、光変換膜102への水分や酸素の浸入を防止することができ、光変換機能の劣化を防ぐことができる。特に、光変換膜102の側面全周囲がバリア膜103で覆われることにより、側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。また、バリアフィルム101もバリア膜103も透明の物質で構成されているため、光変換フィルム109は青色光を透過させ、量子ドットにより青色光の一部を赤色光及び緑色光に変換して出射するという機能を満足することができる。
In the
本発明の実施例2について、図3及び図4を参照しながら説明する。図3は、本発明の実施例2における光変換フィルム製造装置の構成を説明する図である。図4は、本発明の実施例2における光変換フィルムの製造方法を説明する図である。 Example 2 of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a light conversion film manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram illustrating a method for producing a light conversion film according to Example 2 of the present invention.
本発明の実施例2における光変換フィルム製造装置200は、実施例1における光変換フィルム製造装置100に対して、バリア膜成膜手段220の構成が異なっているのみで他の構成は実施例1と同じである。すなわち、バリア膜成膜手段220は、成膜用のマスク221を備えていて、光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲にバリア膜203を成膜する際に、光変換膜102全体を包含する大きさの開口を有したマスク221を成膜方向からみてこの開口内に光変換膜102を包含するように位置を合わせて成膜する。その際、2列以上の光変換膜102を成膜する場合、マスク221の開口の大きさは、
ひとつの光変換膜102全体を包含し隣接する光変換膜102は重ならない大きさとするとよい。マスク221はループ状になっていて搬送されているバリアフィルム101の搬送速度に合わせて、マスク221も同期して搬送する構成となっている。
The optical conversion
It is preferable that the entire
実施例2における光変換フィルム製造装置200においても、実施例1における光変換フィルム製造装置100と同様に、バリアフィルムロール141に巻かれたバリアフィルム101が搬送手段140によって引き出され、下流へと搬送される。そして、光変換膜成膜手段110における塗布ヘッド111と硬化手段112によってバリアフィルム101の上面(第1主面)に光変換膜102を液晶ディスプレイに対応した大きさに間歇的に成膜される。そして、バリア膜成膜手段220では、プラズマCVD装置によって少なくとも光変換膜102の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜203を成膜する。
In the optical conversion
実施例2におけるバリア膜成膜手段220では、マスク221を用いてバリア膜203を成膜しているので、光変換膜12の外側では図4(c)に示すように、マスクによって成膜されるバリア膜203の厚さが次第に薄くなっていてバリア膜203の外縁の外側ではバリアフィルム101上にバリア膜203は成膜されていない。したがって、バリア膜203の外縁の外でバリアフィルム101を切断すれば、バリア膜203の側面に切断面が生じることなく完全に光変換膜102を覆った状態にすることができる。
In the barrier film forming means 220 of the second embodiment, the
切断手段130では、実施例1と同様に、レーザカッター131により光変換膜102の外側における少なくともバリアフィルム101を切断して、液晶ディスプレイに対応した大きさの光変換フィルム209を作成する。光変換フィルム209は、ロボット等により、順次、台に積み重ねられる。
In the cutting means 130, at least the
次に、実施例2における光変換フィルムの製造方法について、図4を参照しながら説明する。実施例2においても光変換膜102を成膜するまでは実施例1と同じであるので、図4では、バリアフィルム101の引き出し及び光変換膜102の成膜に関する記載を省略している。また、これらの部分の説明を省略する。
Next, the method for producing the light conversion film in Example 2 will be described with reference to FIG. Since the same as in Example 1 until the
バリアフィルム101の上面(第1主面)に光変換膜102が成膜された後に、バリア膜成膜手段220によってバリア膜203を成膜する。バリア膜203は、実施例1と同様に、無機物からなり透明な性質を有している。具体的には、シリコン系膜であってもよく、Si並びにO(酸素)及び/又はN(窒素)を含んでいてもよい。つまりバリア膜203は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であってもよい。バリア膜203で光変換膜102を覆うことにより、光変換膜102への水分や酸素の浸入を防止することができる。
After the
実施例2におけるバリア膜成膜手段220では、上述のようにマスク221を用いて成膜を行っているので、プラズマCVD装置でバリア膜203を成膜した結果、図4(c)に示すようにマスク221で遮られた部分ではバリア膜203が裾野を描くように薄くなり最終的にはバリア膜203の上面がバリアフィルム101に接触するようになって、バリア膜203の外縁の外側ではバリア膜203はバリアフィルム101上に成膜されない。
In the barrier film forming means 220 of the second embodiment, the film is formed by using the
次に、切断手段130にて、光変換膜102の外側におけるバリア膜203の上面がバリアフィルム101に接触した外縁の外側でバリアフィルム101を切断して(図4(d))、液晶ディスプレイに対応した大きさの光変換フィルム209を作成する(図4(e))。この場合、切断場所にバリア膜203は存在しないので、バリア膜203を切断する必要がなく、バリアフィルム101を切断すれば足りる。
Next, the cutting means 130 cuts the
このように実施例2で作成された光変換フィルム209は、光変換膜102の上面(第1主面)、及び側面全周囲がバリア膜203で覆われ、光変換膜102の下面(第2主面)はバリアフィルム101で覆われているから、光変換膜102への水分や酸素の浸入を防止することができ、光変換機能の劣化を防ぐことができる。特に、光変換膜102の側面全周囲がバリア膜203で覆われることにより、側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。また、バリアフィルム101もバリア膜203も透明な物質で構成されているため、光変換フィルム209は青色光を透過させ、量子ドットにより青色光の一部を赤色光及び緑色光に変換して出射するという機能を満足することができる。
In the
本発明の実施例3について、図5を参照しながら説明する。図5は、本発明の実施例3におけるバリア膜の構成を説明する図である。実施例3は、バリア膜303がバリア層とバッファ層とを積層するように構成した点で実施例2とは異なる。
Example 3 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram illustrating the configuration of the barrier film according to the third embodiment of the present invention. Example 3 is different from Example 2 in that the
実施例3では、実施例2におけるバリア膜成膜手段220を連続して複数台並べて、第2バッファ層362、第2バリア層352、第1バッファ層361、第1バリア層351の順に成膜を繰り返して、図5のようなバリア膜303を作成する。第1バッファ層361、第2バッファ層362を成膜することによって、バリア膜303のフレキシブル性及び光変換膜102との密着性を向上させることができる。
In Example 3, a plurality of barrier film forming means 220 according to Example 2 are arranged in succession, and a
つまり、図5に示すように、実施例3におけるバリア膜303は、最外面から第1バリア層351、第1バッファ層361、第2バリア層352、第2バッファ層362と、バリア層とバッファ層とが交互に積層される。第1バッファ層361及び第2バッファ層362は、無機物からなる透明な層である。無機物とは、有機物を除く物質であり、具体的には炭素骨格を持たない物質である。つまり、無機物には、合成/天然樹脂及び炭素骨格(炭化水素骨格を含む)を有するその他化合物は含まれない。第1バッファ層、第2バッファ層を設けることによりバリア膜303のフレキシブル性及び光変換膜102との密着性を向上することができる。
That is, as shown in FIG. 5, the
具体的には、第1バッファ層361及び第2バッファ層362はシリコン系膜であってもよい。例えば、第1バッファ層361及び第2バッファ層362は、H、C及びSiを含むシリコン系であってもよい。また第1バッファ層361と第2バッファ層362の組成とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
Specifically, the
第1バリア層351及び第2バリア層352は、透明の無機物からなり、第1バッファ層361及び第2バッファ層362よりも高い密度を有する。第1バリア層351及び第2バリア層352の密度は具体的な数値に限定されるものではないが、水分や酸素が光変換膜102に到達することを防止できる程度であればよい。第1バリア層351及び第2バリア層352は、具体的には、シリコン系膜であってもよく、Si並びにO(酸素)及び/又はN(窒素)を含んでいてもよい。つまり第1バリア層351及び第2バリア層352は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であってもよい。また、第1バリア層351の組成と第2バリア層352の組成とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
The
図5に示すように、Z方向に平行な断面において、傾斜部分370における第1バリア層351、第2バリア層352、第1バッファ層361、第2バッファ層362の厚みは、外縁371に近づく程徐々に減少する。また、第1バッファ層361、第2バッファ層362の外縁(X−Y方向における端部)よりも第1バリア層351、第2バリア層352の外縁(X−Y方向における端部)の方が、外側に位置している。つまり、第1バリア層351、第2バリア層352は、外縁371まで達しており、第1バッファ層361、第2バッファ層362はそれよりも内側までしか設けられていない。
As shown in FIG. 5, in the cross section parallel to the Z direction, the thickness of the
図5の構成をより具体的に説明すると、最下層の第2バッファ層362の全体は、第2バッファ層362の最も近くに配置された第2バリア層352に覆われている。よって、第2バリア層352は、第2バリア層352の外縁が第2バッファ層362の外縁を囲むように配置されている。また、第1バッファ層361の全体も、その上に形成された第1バリア層351によって覆われている。よって、第1バリア層351は、第1バリア層351の外縁が第1バッファ層361の外縁を囲むように配置されている。
More specifically, the configuration of FIG. 5 will be described more specifically. The entire
このように、第1バリア層351は、第1バリア層351の外縁が第1バッファ層361の外縁を囲むように成膜するには、例えば、プラズマCVD装置でバリア層を成膜する場合は、マスクの開口サイズをバッファ層成膜時は狭く、バリア層成膜時は広くする方法を採用することができる。または、マスクと成膜対象物との距離をバッファ層成膜時は小さく、バリア層成膜時は大きくする方法を採用してもよい。さらに、成膜時のCVD装置内の圧力をバッファ層成膜時よりバリア層成膜時の方が低くすることにより、バッファ層成膜時よりもバリア層をマスクとバリアフィルムの間隙に入り込みやすくすることができる。
As described above, in order to form the
X−Y平面において、第1バッファ層361の外縁から第1バリア層351の外縁までの距離、及び、第2バッファ層362の外縁から第2バリア層352までの距離は、光変換膜102への酸素及び水分の浸入を防ぐことができる程度に設定されればよい。例えば、数十nm又は数百nm程に設定可能である。
In the XY plane, the distance from the outer edge of the
なお、第1バリア層351と第2バリア層352とが直接重なっている部分では、層の境界を認識することは難しいが、図5では、説明の便宜上、2つの層の間に境界が存在しているように描かれている。
In the portion where the
なお、第1バッファ層361の外縁及び第2バッファ層362の外縁の位置はX−Y平面において、一致していてもよいし、互いに異なっていてもよい。また、第1バリア層351の外縁及び第2バリア層352の外縁の位置はX−Y平面において、一致していてもよいし、互いに異なっていてもよい。
The positions of the outer edge of the
実施例3におけるバリア膜303のように、バッファ層とバリア層とが各2層の場合のバリア性(水蒸気透過度)は、測定した結果、5×10−3g/m2/dayであり、充分なバリア性が得られている。この測定結果は、100μm厚のPENフィルムの片面にバッファ層とバリア層とを各2層(1層あたり30nm厚)成膜して測定した結果である(測定器はAQUATRAN(モコン社)で、環境は40℃×90%RH)。
As a result of measurement, the barrier property (water vapor permeability) when the buffer layer and the barrier layer are two layers each as in the
なお、実施例3においては、バリア層及びバッファ層を各2層の複層としたが、必ずしもこれに限定されず、少なくともバリア層及びバッファ層が各1層含む複層であればよく、バリア層及びバッファ層を各3層以上設けてもよい。 In Example 3, the barrier layer and the buffer layer are each two layers, but the present invention is not limited to this, and at least the barrier layer and the buffer layer may be a plurality of layers including one layer each. Three or more layers and a buffer layer may be provided.
このように、実施例3における光変換フィルム309は、バリア膜303の最外面の全体がバリア層351で覆われることによって、第1バッファ層361及び第2バッファ層362がバリア膜303の表面から外に露出しない。バッファ層はバリア層より密度が低いことによりフレキシブル性が高い代わりにバリア性は低いが、バリア膜303の最外面の全体がバリア層351で覆われることによって、第1バッファ層361及び第2バッファ層362の露出部分から光変換膜102への水分や酸素の浸入が効果的に抑制され、光変換機能の劣化を防ぐことができる。特に、光変換膜103の側面全周囲がバリア膜303で覆われることにより、側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。また、バリアフィルム101もバリア膜303も透明な物質で構成されているため、光変換フィルム309は青色光を透過させ、量子ドットにより青色光の一部を赤色光及び緑色光に変換して出射するという機能を満足することができる。
As described above, in the light conversion film 309 of the third embodiment, the entire outermost surface of the
本発明の実施例4について、図6及び図7を参照しながら説明する。図6は、本発明の実施例4における光変換フィルム製造装置の構成を説明する図である。図7は、本発明の実施例4における光変換フィルムの製造方法を説明する図である。 Example 4 of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a light conversion film manufacturing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a diagram illustrating a method for producing a light conversion film according to Example 4 of the present invention.
実施例4は、実施例1における光変換膜及びバリア膜を成膜した後、バリア膜とバリアフィルムのうちバリア層のみを切断する点、及びその後、再度バリア膜を成膜して、最後にバリアフィルムの基材を切断する点で実施例1に対して異なっている。 In Example 4, after the photoconversion film and the barrier film of Example 1 were formed, only the barrier layer of the barrier film and the barrier film was cut, and then the barrier film was formed again, and finally. It differs from Example 1 in that it cuts the substrate of the barrier film.
実施例4における光変換フィルム製造装置400は、図6に示すように、実施例1で説明したものと同じ光変換膜成膜手段110、バリア膜成膜手段120の下流に、切断手段430とバリア膜成膜手段420と切断手段435とが配置されていて、搬送手段140によりバリアフィルム101が搬送される。
As shown in FIG. 6, the optical conversion
実施例1と同様に光変換膜成膜手段110では、バリアフィルム101の上面(第1主面)に光変換膜102を成膜し、バリア膜成膜手段120では、少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)と側面全周囲に、プラズマCVD装置により、バリア膜103を成膜する。切断手段430では、光変換膜102の外側におけるバリア膜103とバリアフィルム101のうちバリア層105とをレーザカッター431で切断する。
Similar to the first embodiment, the light conversion film forming means 110 forms the
切断手段430の下流には、バリア膜成膜手段420が配置されている。バリア膜成膜手段420では、基材104、バリア層105、光変換膜102、及びバリア膜103全体を覆うように、プラズマCVD装置によりバリア膜403を成膜する。
A barrier film forming means 420 is arranged downstream of the cutting means 430. In the barrier film forming means 420, the
バリア膜成膜手段420の下流には、切断手段435が配置され、レーザカッター436により、バリア膜403と光変換膜102の外側のバリアフィルム101のうち基材104を切断して、液晶ディスプレイに対応した大きさの光変換フィルム409を作成する。
A cutting means 435 is arranged downstream of the barrier film forming means 420, and the
次に、図7を参照しながら、実施例4における光変換膜の製造方法について説明する。少なくとも光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲にバリア膜103が成膜されるまでは、実施例1で説明した通りである。なお、図7において、バリアフィルム101に引き出し、及び光変換膜102の成膜の工程は省略している。
Next, the method for producing the light conversion film in Example 4 will be described with reference to FIG. 7. This is as described in Example 1 at least until the
バリアフィルム101の上面(第1主面)に光変換膜102が成膜された後に、バリア膜成膜手段120によってバリア膜103を成膜する。バリア膜103は、実施例1と同様に、無機物からなり透明な性質を有している。具体的には、シリコン系膜であってもよく、Si並びにO(酸素)及び/又はN(窒素)を含んでいてもよい。つまりバリア膜103は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であってもよい。バリア膜103で光変換膜102を覆うことにより、光変換膜102への水分や酸素の浸入を防止することができる。
After the
バリア膜103が成膜されたら、次に、切断手段430にて光変換膜102の上面(第1主面)及び側面全周囲におけるバリア膜103の外側の基材104を残して、バリア膜103及びバリアフィルム101のバリア層105を切断する(図7(d−1))。
After the
次に、バリア膜成膜手段420で、バリア膜103、バリア層105、及び基材104を覆うようにバリア膜403を成膜する(図7(d−2))。
Next, the barrier film forming means 420 is used to form the
そして、最後に、切断手段435にて、バリア膜403と基材104を切断して(図7(d−3))、液晶ディスプレイに対応した大きさの光変換フィルム409を作成する(図7(e))。
Finally, the
このように実施例4で作成された光変換フィルム409は、光変換膜102の上面(第1主面)、及び側面全周囲がバリア膜103で覆われるとともに、二重にバリア膜403で覆われ、光変換膜102の下面(第2主面)はバリアフィルム101のバリア層105で覆われているから、光変換膜102への水分や酸素の浸入を防止することができ、光変換機能の劣化を防ぐことができる。特に、光変換膜102の側面全周囲がバリア膜403で覆われることにより、側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。また、バリア膜103がバッファ層とバリア層との積層構造である場合に、バリア膜103の切断面からバッファ層が露出することをバリア膜403で防ぐことができる。また、バリア膜403はバリア層の単層で構成されていることが好ましい。また、バリアフィルム101もバリア膜103、403も透明の物質で構成されているため、光変換フィルム409は青色光を透過させ、量子ドットにより青色光の一部を赤色光及び緑色光に変換して出射するという機能を満足することができる。
In the
実施例5は、実施例1〜実施例4で作成された光変換フィルム109、209、309.409を適用した液晶ディスプレイの構造を、図8を参照しながら説明する。
In the fifth embodiment, the structure of the liquid crystal display to which the
図8における光変換フィルムAは、実施例1〜実施例4で作成された光変換フィルム109、光変換フィルム209、光変換フィルム309、又は光変換フィルム409のいずれかを示しており、これらは上述したようにサイズの異なる2種類の量子ドット1が分散して含まれた量子ドット樹脂膜である光変換膜2をバリア膜、バリアフィルムで封止した光変換フィルムである。光変換フィルムAの下面にはバックライト4が配置され、青色LED9が発光した青色光を光変換フィルムAに入射させる。量子ドット1は、入射する光の波長を変換する部材であるから、光変換フィルムAに青色が入射すると、2種類の量子ドット1から赤色及び緑色が発光するとともに、青色は光変換フィルムAを透過することによって、RGBの三原色が偏光板5、液晶セル6、カラーフィルタ7、ガラスもしくはプラスチックフィルム8を通して外部に出射する。これによって色域が向上した液晶ディスプレイを実現することができる。
The light conversion film A in FIG. 8 shows any one of the
このとき、光変換フィルム109、209、309.409におけるバリアフィルム101は透明で光を透過させるから、バックライト4の青色光が量子ドット樹脂膜2への到達を妨げない。また、光変換フィルム109、209、309.409におけるバリア膜103、203、303、403は、透明で光を透過させるから、光変換膜2からの青色光、赤色光、緑色光の出射を妨げることはない。
At this time, since the
そして、水分や酸素に接触すると光酸化反応により発光強度が低下するとういう問題を持つ量子ドット1は、上述したように、バリア膜、バリアフィルムによって光変換膜2の側面端部も含めて効果的に覆われているから、水分や酸素の浸入を効果的に防ぐことができ、光変換機能の劣化を防ぐことができる。
Then, as described above, the
このように、バリアフィルムの第1主面に接触し周囲に前記バリアフィルムが存在するように前記バリアフィルムよりも小面積の光変換膜を成膜し、前記バリアフィルムの第1主面に接触する前記光変換膜の面を第2主面としたときに、少なくとも前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜を成膜した後、前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、少なくとも前記バリアフィルムを切断してなることを特徴とする光変換フィルムの製造方法により、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。 In this way, a light conversion film having a smaller area than the barrier film is formed in contact with the first main surface of the barrier film so that the barrier film is present around the barrier film, and is in contact with the first main surface of the barrier film. When the surface of the optical conversion film is set as the second main surface, a barrier film covering the optical conversion film is formed so as to be in contact with at least the first main surface and the entire side surface of the optical conversion film. By a method for producing a photoconversion film, which comprises cutting at least the barrier film while leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the photoconversion film, the side end portion of the photoconversion film. It is possible to prevent the infiltration of water and oxygen from the membrane.
また、バリアフィルムを搬送する搬送手段と、前記バリアフィルムの第1主面に接触する光変換膜を成膜する光変換膜成膜手段と、前記バリアフィルムの第1主面に接触する前記光変換膜の面を第2主面としたときに、少なくとも前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜を成膜するバリア膜成膜手段と、前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、少なくとも前記バリアフィルムを切断する切断手段とを備えたことを特徴とする光変換フィルム製造装置により、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。 Further, a transport means for transporting the barrier film, a light conversion film forming means for forming a photoconverting film in contact with the first main surface of the barrier film, and the light in contact with the first main surface of the barrier film. Barrier film forming means for forming a barrier film covering at least the first main surface and the entire side surface of the optical conversion film when the surface of the conversion film is set as the second main surface. The light conversion film manufacturing apparatus is provided with a cutting means for cutting at least the barrier film while leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film. It is possible to prevent the infiltration of water and oxygen from the side edge of the film.
さらに、光変換膜の第2主面全域が前記光変換膜よりも広い面積のバリアフィルムに接し、第1主面及び側面全周囲がバリア膜に接している光変換フィルムであって、前記バリアフィルム及びバリア膜は光を透過することを特徴とする光変換フィルムにより、光変換フィルムの側面端部からの水分や酸素の浸入を防止することができる。 Further, the entire second main surface of the light conversion film is in contact with the barrier film having a larger area than the light conversion film, and the first main surface and the entire periphery of the side surface are in contact with the barrier film. The film and the barrier film are characterized by transmitting light, so that the infiltration of water and oxygen from the side edge portion of the light conversion film can be prevented.
本発明における光変換膜の製造方法、光変換膜製造装置、及び光変換フィルムは、液晶ディスプレイ以外にも発光ダイオード等に幅広く適用することができる。 The method for manufacturing a light conversion film, the light conversion film manufacturing apparatus, and the light conversion film in the present invention can be widely applied to light emitting diodes and the like in addition to liquid crystal displays.
1:量子ドット 2:光変換膜 4:バックパネル 5:偏光板 6:液晶セル 7:カラーフィルタ 8:ガラス 9:青色LED A:光変換フィルム100:光変換フィルム製造装置 101:バリアフィルム 102:光変換膜103:バリア膜 104:基材 105:バリア層 109:光変換フィルム 110:光変換膜成膜手段 111:塗布ヘッド 112:硬化手段 120:バリア膜成膜手段 130:切断手段 131:レーザカッター 140:搬送手段 141:バリアフィルムロール 142:ラミネートローラ 143:駆動ローラ 144:保護フィルムロール200:光変換フィルム製造装置 203:バリア膜 209:光変換フィルム 220:バリア膜成膜手段 221:マスク 231:レーザカッター309:光変換フィルム 303:バリア膜351:第1バリア層 352:第2バリア層 361:第1バッファ層 362:第2バッファ層370:傾斜部分 371:外縁400:光変換膜製造装置 409:光変換フィルム 420:バリア膜成膜手段430:切断手段 431:レーザカッター 435:切断手段 436:レーザカッター 1: Quantum dot 2: Light conversion film 4: Back panel 5: Plate plate 6: Liquid crystal cell 7: Color filter 8: Glass 9: Blue LED A: Light conversion film 100: Light conversion film manufacturing equipment 101: Barrier film 102: Optical conversion film 103: Barrier film 104: Base material 105: Barrier layer 109: Optical conversion film 110: Optical conversion film film forming means 111: Coating head 112: Curing means 120: Barrier film forming means 130: Cutting means 131: Laser Cutter 140: Conveying means 141: Barrier film roll 142: Laminate roller 143: Drive roller 144: Protective film roll 200: Optical conversion film manufacturing equipment 203: Barrier film 209: Optical conversion film 220: Barrier film forming means 221: Mask 231 : Laser cutter 309: Light conversion film 303: Barrier film 351: First barrier layer 352: Second barrier layer 361: First buffer layer 362: Second buffer layer 370: Inclined portion 371: Outer edge 400: Light conversion film manufacturing apparatus 409: Optical conversion film 420: Barrier film forming means 430: Cutting means 431: Laser cutter 435: Cutting means 436: Laser cutter
Claims (8)
前記バリアフィルムの第1主面に接触する前記光変換膜の面を第2主面としたときに、少なくとも前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜をプラズマCVD又は蒸着により成膜した後、
前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、少なくとも前記バリアフィルムを切断してなり、
前記バリアフィルムに成膜した前記光変換膜は、前記バリア膜の成膜前に硬化させるものであり、
前記バリア膜は、バッファ層及び前記バッファ層よりも高い密度のバリア層を少なくとも各1層含んで成膜された複層であり、
前記バッファ層及び前記バリア層は、前記光変換膜の前記第1主面及び側面全周囲を覆うように成膜されることを特徴とする光変換フィルムの製造方法。 A light conversion film having a smaller area than the barrier film is formed so as to come into contact with the first main surface of the barrier film and to have the barrier film around.
When the surface of the light conversion film in contact with the first main surface of the barrier film is set as the second main surface, the light conversion film is in contact with at least the first main surface and the entire side surface of the light conversion film. After forming a barrier film covering the above by plasma CVD or vapor deposition,
At least the barrier film is cut, leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film.
The light conversion film formed on the barrier film is cured before the barrier film is formed.
The barrier film is a multi-layer film formed by including at least one buffer layer and at least one barrier layer having a higher density than the buffer layer.
A method for producing a light conversion film, wherein the buffer layer and the barrier layer are formed so as to cover the first main surface and the entire side surface of the light conversion film.
前記光変換膜全体を包含する大きさの開口を有したマスクを成膜方向からみて前記開口内に前記光変換膜を包含するように位置を合わせて、前記バリア膜を成膜し、
前記バリアフィルムの切断において、
前記成膜方向からみてマスクされた位置で前記バリアフィルムを切断することを特徴とする請求項1に記載の光変換フィルムの製造方法。 In the film formation of the barrier film,
The barrier film is formed by aligning a mask having an opening having a size that includes the entire light conversion film so as to include the light conversion film in the opening when viewed from the film forming direction.
In cutting the barrier film
The method for producing a light conversion film according to claim 1, wherein the barrier film is cut at a position masked when viewed from the film forming direction.
前記バッファ層の成膜において、前記光変換膜全体を包含する大きさで、かつ、前記バリア層の成膜時よりも狭い開口を有したマスクを成膜方向からみて前記開口内に前記光変換膜を包含するように位置を合わせて、前記バッファ層を成膜することを特徴とする請求項1に記載の光変換フィルムの製造方法。 In the film formation of the barrier layer, the mask having an opening having a size that includes the entire light conversion film is positioned so as to include the light conversion film in the opening when viewed from the film forming direction, and the barrier is formed. Along with forming a layer
In the film formation of the buffer layer, a mask having a size that includes the entire light conversion film and having an opening narrower than that at the time of film formation of the barrier layer is light-converted in the opening when viewed from the film formation direction. The method for producing a light conversion film according to claim 1, wherein the buffer layer is formed by aligning the positions so as to include the film.
前記バッファ層の成膜において、成膜時の圧力をバリア層成膜時より高くすることを特徴とする請求項1に記載の光変換フィルムの製造方法。 In the film formation of the barrier layer, the mask having an opening having a size that includes the entire light conversion film is positioned so as to include the light conversion film in the opening when viewed from the film forming direction, and the barrier is formed. Along with forming a layer
The method for producing a light conversion film according to claim 1, wherein in the film formation of the buffer layer, the pressure at the time of film formation is higher than that at the time of film formation of the barrier layer.
前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、前記光変換膜の外側における前記バリア膜を切断し、
さらに、前記バリア膜の上から再度バリア膜を成膜し、
少なくとも前記バリアフィルムを切断することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光変換フィルムの製造方法。 After forming the barrier film,
The barrier film on the outside of the light conversion film is cut, leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film.
Further, a barrier film is formed again on the barrier film, and the barrier film is formed again.
The method for producing a light conversion film according to any one of claims 1 to 5, wherein at least the barrier film is cut.
前記バリアフィルムの第1主面に接触する光変換膜を成膜して硬化させる光変換膜成膜手段と、
前記バリアフィルムの第1主面に接触する前記光変換膜の面を第2主面としたときに、少なくとも前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲に接触するように前記光変換膜を覆うバリア膜をプラズマCVD又は蒸着により成膜するバリア膜成膜手段と、
前記光変換膜の第1主面及び側面全周囲における前記バリア膜を残して、少なくとも前記バリアフィルムを切断する切断手段と、を備え、
前記バリア膜成膜手段が成膜する前記バリア膜は、バッファ層及び前記バッファ層よりも高い密度のバリア層を少なくとも各1層含み、前記バッファ層及び前記バリア層は、前記光変換膜の前記第1主面及び側面全周囲を覆うように成膜されるものであることを特徴とする光変換フィルム製造装置。 A transport means for transporting the barrier film and
An optical conversion film forming means for forming and curing an optical conversion film in contact with the first main surface of the barrier film,
When the surface of the photoconversion film in contact with the first main surface of the barrier film is set as the second main surface, the photoconversion film is in contact with at least the first main surface and the entire side surface of the photoconversion film. A barrier film forming means for forming a barrier film covering the above by plasma CVD or thin film deposition,
A cutting means for cutting at least the barrier film, leaving the barrier film around the first main surface and the entire side surface of the light conversion film, is provided.
The barrier film formed by the barrier film forming means includes at least one buffer layer and at least one barrier layer having a density higher than that of the buffer layer, and the buffer layer and the barrier layer are the light conversion film. An optical conversion film manufacturing apparatus characterized in that a film is formed so as to cover the entire periphery of the first main surface and the side surface.
前記バリアフィルム及び前記バリア膜は光を透過し、
前記バリア膜は、バッファ層及び前記バッファ層よりも高い密度のバリア層を少なくとも各1層含んで成膜された複層であり、
前記バッファ層及び前記バリア層は、前記光変換膜の前記第1主面及び側面全周囲を覆っており、前記バッファ層の外縁よりも前記バリア層の外縁の方が、外側に位置することを特徴とする光変換フィルム。 A light conversion film in which the entire second main surface of the light conversion film is in contact with a barrier film having a larger area than the light conversion film, and the first main surface and the entire periphery of the side surface are in contact with the barrier film.
The barrier film and the barrier film transmit light and
The barrier film is a multi-layer film formed by including at least one buffer layer and at least one barrier layer having a higher density than the buffer layer.
The buffer layer and the barrier layer cover the entire circumference of the first main surface and the side surface of the light conversion film, and the outer edge of the barrier layer is located outside the outer edge of the buffer layer. A characteristic light conversion film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016000123A JP6872849B2 (en) | 2016-01-04 | 2016-01-04 | Light conversion film manufacturing method, light conversion film manufacturing equipment, and light conversion film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016000123A JP6872849B2 (en) | 2016-01-04 | 2016-01-04 | Light conversion film manufacturing method, light conversion film manufacturing equipment, and light conversion film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017122752A JP2017122752A (en) | 2017-07-13 |
JP6872849B2 true JP6872849B2 (en) | 2021-05-19 |
Family
ID=59306816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016000123A Active JP6872849B2 (en) | 2016-01-04 | 2016-01-04 | Light conversion film manufacturing method, light conversion film manufacturing equipment, and light conversion film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6872849B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7025233B2 (en) * | 2018-02-08 | 2022-02-24 | 東レエンジニアリング株式会社 | Manufacturing method of optical converter, manufacturing equipment of optical converter, and optical converter |
KR102561280B1 (en) * | 2018-03-21 | 2023-08-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | Backlight unit and display device including the same |
WO2021036211A1 (en) * | 2019-08-23 | 2021-03-04 | 致晶科技(北京)有限公司 | Quantum dot film encapsulation method and encapsulated quantum dot film, and use thereof |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003282241A (en) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Pioneer Electronic Corp | Organic electroluminescent display panel and its manufacturing method |
JP2005353398A (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | Display element, optical device, and manufacturing method of optical device |
JP2007179783A (en) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Konica Minolta Holdings Inc | Manufacturing method of organic electroluminescent element |
CN102597848B (en) * | 2009-10-17 | 2016-06-01 | Qd视光有限公司 | Optical element, include its product and the method for manufacturing it |
US20110291544A1 (en) * | 2010-05-31 | 2011-12-01 | Industrial Technology Research Institute | Gas barrier substrate, package of organic electro-luminenscent device and packaging method thereof |
JP5537308B2 (en) * | 2010-07-14 | 2014-07-02 | 東レエンジニアリング株式会社 | SEALING STRUCTURE, ITS MANUFACTURING DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD |
CN104932051A (en) * | 2010-11-10 | 2015-09-23 | 纳米***公司 | Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods |
JP2012213880A (en) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Toray Eng Co Ltd | Gas barrier film, production device therefor, and production program therefor |
JP6230974B2 (en) * | 2013-08-26 | 2017-11-15 | 富士フイルム株式会社 | Light conversion member, backlight unit, liquid crystal display device, and method of manufacturing light conversion member |
-
2016
- 2016-01-04 JP JP2016000123A patent/JP6872849B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017122752A (en) | 2017-07-13 |
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