JP6839787B2 - 放射源 - Google Patents
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- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 title claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 277
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 117
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 70
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 63
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 46
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 27
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 23
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 19
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 12
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 63
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 15
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 10
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 description 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 5
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- -1 for example Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 3
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
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- H01S3/06708—Constructional details of the fibre, e.g. compositions, cross-section, shape or tapering
- H01S3/06729—Peculiar transverse fibre profile
- H01S3/06741—Photonic crystal fibre, i.e. the fibre having a photonic bandgap
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- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/3528—Non-linear optics for producing a supercontinuum
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/365—Non-linear optics in an optical waveguide structure
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7065—Production of alignment light, e.g. light source, control of coherence, polarization, pulse length, wavelength
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06754—Fibre amplifiers
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0092—Nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
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- H01S3/094003—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light the pumped medium being a fibre
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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Description
[0001] 本出願は、2017年9月29日に出願されたEP出願第17194047.1号の優先権を主張する。これは援用により全体が本願に含まれる。
Claims (17)
- パルス放射ビームを生成するよう動作可能である放射源と、
前記パルス放射ビームを受光し、増幅パルス放射ビームを生成するように前記パルス放射ビームの強度を増大させるよう構成された光増幅器であって、利得媒体及びポンプパワー源を含む光増幅器と、
前記増幅パルス放射ビームを受光し、スーパーコンティニウム放射ビームを発生させるように前記増幅パルス放射ビームのスペクトルを拡大するよう構成された光学媒体と、を備え、
前記光増幅器の前記ポンプパワー源は、前記利得媒体にポンプ放射ビームを供給するよう構成されており、前記ポンプ放射ビームの強度は周期的であると共にポンプ周波数を有し、
前記ポンプ周波数は、前記パルス放射ビームの周波数の整数倍である、
スーパーコンティニウム放射源。 - 前記ポンプ放射の前記強度は、前記光学媒体内で前記スーパーコンティニウム放射ビームの発生に寄与する支配的プロセスが自己位相変調であるような前記増幅放射ビームの強度プロファイルとなるように、変動する、請求項1に記載のスーパーコンティニウム放射源。
- 前記ポンプ放射の前記強度は、前記スーパーコンティニウムビームの特徴のパルス間変動が実質的に最小限に抑えられるような前記増幅放射ビームの強度プロファイルとなるように、変動する、請求項1又は2に記載のスーパーコンティニウム放射源。
- 前記光増幅器は、前記ポンプ放射ビームの前記強度に対する制御を行うように構成された調整機構を更に備える、請求項1から3の何れか一項に記載のスーパーコンティニウム放射源。
- 前記スーパーコンティニウムビームの1つ以上の特徴を決定するように動作可能であるセンサを更に備える、請求項1から4の何れか一項に記載のスーパーコンティニウム放射源。
- 前記センサは更に、前記スーパーコンティニウムビームの1つ以上の特徴を示す信号を出力するように動作可能である、請求項5に記載のスーパーコンティニウム放射源。
- 前記調整機構は、前記センサが出力した前記信号に応じて前記パルス放射ビームの前記強度を制御するよう構成されている、請求項4に従属する場合の請求項6に記載のスーパーコンティニウム放射源。
- 複数のパルスを含むパルス放射ビームを生成するよう動作可能である放射源と、
前記パルス放射ビームを受光し、増幅パルス放射ビームを生成するように前記パルス放射ビームの強度を増大させるよう構成された光増幅器であって、利得媒体及びポンプパワー源を含む、光増幅器と、
前記増幅パルス放射ビームを受光し、スーパーコンティニウム放射ビームを発生させるように前記増幅パルス放射ビームのスペクトルを拡大するよう構成された光学媒体と、を備え、
前記光増幅器の前記ポンプパワー源は、前記パルス放射ビームの前記パルスが前記利得媒体を通って伝搬しているときはポンプエネルギを前記利得媒体へ供給すると共に、前記パルス放射ビームの2つの連続パルスが前記利得媒体に到着するときの間の期間の少なくとも一部ではポンプエネルギを前記利得媒体へ供給しないように構成されている、
スーパーコンティニウム放射源。 - 前記光増幅器の前記ポンプパワー源は、第1の時間期間にポンプエネルギを前記利得媒体へ供給するよう構成されており、
前記第1の時間期間は、前記パルス放射ビームのパルスが前記利得媒体に入射する前に開始し、前記パルス放射ビームの前記パルスが前記利得媒体から出射した後に終了する、請求項8に記載のスーパーコンティニウム放射源。 - 前記光増幅器の前記ポンプパワー源は、前記利得媒体にポンプ放射ビームを供給するよう構成されており、前記ポンプ放射ビームの強度は周期的であると共にポンプ周波数を有し、
前記ポンプ周波数は、前記パルス放射ビームの周波数の整数倍である、請求項8又は9に記載のスーパーコンティニウム放射源。 - 請求項1から10の何れか一項に記載のスーパーコンティニウム放射源を備える、光学測定システム。
- 請求項1から10の何れか一項に記載のスーパーコンティニウム放射源と、
基板テーブル上に支持された基板上のアライメントマークに前記スーパーコンティニウム放射ビームを投影するよう動作可能である光学システムと、
前記アライメントマークによって回折/散乱された放射を検出し、前記アライメントマークの位置に関する情報を含む信号を出力するよう動作可能であるセンサと、
前記センサから前記信号を受信し、それに応じて前記基板テーブルに対する前記アライメントマークの位置を決定するよう構成されたプロセッサと、を備える、
アライメントマーク測定システム。 - 請求項12に記載のアライメントマーク測定システムを備える、リソグラフィ装置。
- スーパーコンティニウム放射ビームを発生させるための方法であって、
パルス放射ビームを生成することと、
前記パルス放射ビームを光増幅器の利得媒体に通過させることと、
前記パルス放射ビームが前記利得媒体を通って伝搬しているときに、増幅パルス放射ビームを生成するように前記パルス放射ビームの強度を増大させるため、前記利得媒体にポンプエネルギを供給することであって、前記ポンプエネルギはポンプ放射ビームとして前記利得媒体に供給され、前記ポンプ放射ビームの強度は周期的であり、前記パルス放射ビームの周波数の整数倍であるポンプ周波数を有することと、
スーパーコンティニウム放射ビームを発生させるように前記増幅パルス放射ビームのスペクトルを拡大するよう構成された光学媒体に前記増幅パルス放射ビームを通過させることと、
を含む、方法。 - 前記スーパーコンティニウムビームの1つ以上の特徴を決定することと、
前記スーパーコンティニウムビームの前記1つ以上の決定された特徴に応じて前記パルス放射ビームの前記強度を調整することと、
を更に含む、請求項14に記載の方法。 - スーパーコンティニウム放射ビームを発生させるための方法であって、
複数のパルスを含むパルス放射ビームを生成することと、
前記パルス放射ビームを光増幅器の利得媒体に通過させることと、
前記パルス放射ビームが前記利得媒体を通って伝搬しているときに、増幅パルス放射ビームを生成するように前記パルス放射ビームの強度を増大させるため、前記利得媒体にポンプエネルギを供給することであって、前記ポンプエネルギは、前記パルス放射ビームの前記パルスが前記利得媒体を通って伝搬しているときは前記利得媒体へ供給されると共に、前記パルス放射ビームの2つの連続パルスが前記利得媒体に到着するときの間の期間の少なくとも一部では前記利得媒体へ供給されないことと、
スーパーコンティニウム放射ビームを発生させるように前記増幅パルス放射ビームのスペクトルを拡大するよう構成された光学媒体に前記増幅パルス放射ビームを通過させることと、
を含む、方法。 - 前記ポンプエネルギは、ポンプ放射ビームとして前記利得媒体に供給され、前記ポンプ放射ビームの強度は周期的であると共にポンプ周波数を有し、
前記ポンプ周波数は、前記パルス放射ビームの周波数の整数倍である、請求項16に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17194047 | 2017-09-29 | ||
EP17194047.1 | 2017-09-29 | ||
PCT/EP2018/072285 WO2019063193A1 (en) | 2017-09-29 | 2018-08-17 | SOURCE OF RADIATION |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020535458A JP2020535458A (ja) | 2020-12-03 |
JP6839787B2 true JP6839787B2 (ja) | 2021-03-10 |
Family
ID=59997248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020515085A Active JP6839787B2 (ja) | 2017-09-29 | 2018-08-17 | 放射源 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10461490B2 (ja) |
EP (1) | EP3688530B1 (ja) |
JP (1) | JP6839787B2 (ja) |
KR (1) | KR102384556B1 (ja) |
CN (1) | CN111164516B (ja) |
DK (1) | DK3688530T3 (ja) |
IL (1) | IL273374B2 (ja) |
NL (1) | NL2021478A (ja) |
TW (1) | TWI694747B (ja) |
WO (1) | WO2019063193A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK3688530T3 (da) * | 2017-09-29 | 2023-11-06 | Asml Netherlands Bv | Strålingskilde |
EP3629086A1 (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-01 | ASML Netherlands B.V. | Method and apparatus for determining a radiation beam intensity profile |
JP7358610B2 (ja) * | 2019-07-23 | 2023-10-10 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 繰り返し率のずれによって誘発される波長誤差を補償する方法 |
WO2021013611A1 (en) * | 2019-07-24 | 2021-01-28 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
WO2021121531A1 (en) | 2019-12-19 | 2021-06-24 | Nkt Photonics A/S | Light source |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60319462T2 (de) | 2002-06-11 | 2009-03-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels |
SG2010050110A (en) | 2002-11-12 | 2014-06-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP3976673B2 (ja) * | 2002-12-06 | 2007-09-19 | 富士通株式会社 | 光時分割多重分離装置 |
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JP4816063B2 (ja) | 2005-12-20 | 2011-11-16 | 住友電気工業株式会社 | 広帯域光源 |
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CN105790073B (zh) * | 2016-05-11 | 2019-07-23 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种平坦光谱输出的超连续谱激光器 |
CN105762649B (zh) | 2016-05-11 | 2018-10-19 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种平坦光谱输出的中红外超连续谱激光器 |
CN112925176B (zh) * | 2016-06-09 | 2024-06-25 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源 |
CN106785865A (zh) * | 2016-12-22 | 2017-05-31 | 北京大学深圳研究生院 | 一种超连续光谱产生装置 |
DK3688530T3 (da) * | 2017-09-29 | 2023-11-06 | Asml Netherlands Bv | Strålingskilde |
CN108649419A (zh) * | 2018-03-02 | 2018-10-12 | 上海交通大学 | 超高平均功率光参量啁啾脉冲放大器 |
-
2018
- 2018-08-17 DK DK18765017.1T patent/DK3688530T3/da active
- 2018-08-17 JP JP2020515085A patent/JP6839787B2/ja active Active
- 2018-08-17 NL NL2021478A patent/NL2021478A/en unknown
- 2018-08-17 KR KR1020207008909A patent/KR102384556B1/ko active IP Right Grant
- 2018-08-17 CN CN201880063864.4A patent/CN111164516B/zh active Active
- 2018-08-17 WO PCT/EP2018/072285 patent/WO2019063193A1/en unknown
- 2018-08-17 EP EP18765017.1A patent/EP3688530B1/en active Active
- 2018-09-26 US US16/143,018 patent/US10461490B2/en active Active
- 2018-09-27 TW TW107133999A patent/TWI694747B/zh active
-
2019
- 2019-06-14 US US16/441,864 patent/US10811836B2/en active Active
-
2020
- 2020-03-18 IL IL273374A patent/IL273374B2/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190296514A1 (en) | 2019-09-26 |
US20190103721A1 (en) | 2019-04-04 |
TWI694747B (zh) | 2020-05-21 |
NL2021478A (en) | 2019-04-04 |
US10461490B2 (en) | 2019-10-29 |
US10811836B2 (en) | 2020-10-20 |
TW201922059A (zh) | 2019-06-01 |
WO2019063193A1 (en) | 2019-04-04 |
IL273374A (en) | 2020-05-31 |
CN111164516A (zh) | 2020-05-15 |
KR20200043469A (ko) | 2020-04-27 |
IL273374B1 (en) | 2023-01-01 |
EP3688530A1 (en) | 2020-08-05 |
EP3688530B1 (en) | 2023-10-04 |
IL273374B2 (en) | 2023-05-01 |
JP2020535458A (ja) | 2020-12-03 |
CN111164516B (zh) | 2021-12-14 |
KR102384556B1 (ko) | 2022-04-08 |
DK3688530T3 (da) | 2023-11-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200508 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6839787 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |