JP6836858B2 - Heat treatment equipment - Google Patents

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本発明は、熱処理装置に関する。 The present invention relates to a heat treatment apparatus.

金属などの被処理物に熱処理が行われることがある（たとえば、特許文献１参照）。特許文献１には、熱処理炉内に耐火断熱レンガを配置する構成が開示されている。耐火断熱レンガ内には、バーナーなどの熱源が配置されている。バーナーは、耐火断熱レンガ内の空間を加熱する。この熱によって、被処理物が加熱される。 Heat treatment may be performed on an object to be treated such as metal (see, for example, Patent Document 1). Patent Document 1 discloses a configuration in which refractory heat insulating bricks are arranged in a heat treatment furnace. A heat source such as a burner is arranged in the refractory heat insulating brick. The burner heats the space inside the refractory insulation brick. This heat heats the object to be treated.

特開平９−７９７６１号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-77961

熱処理時の熱処理炉内の空間の温度が、たとえば１１００℃を超える高温の場合、金属製の熱処理炉であれば、熱間時における当該熱処理炉の強度が不足し易い。このため、金属に代えて、上述した耐火断熱レンガが熱処理炉を構成する部材として用いられる。このようなレンガであれば、熱処理時において熱処理炉の過度の強度低下を招くことを抑制できる。 When the temperature of the space in the heat treatment furnace at the time of heat treatment is high, for example, exceeding 1100 ° C., if the heat treatment furnace is made of metal, the strength of the heat treatment furnace at the time of hot heat tends to be insufficient. Therefore, instead of metal, the above-mentioned refractory heat insulating brick is used as a member constituting the heat treatment furnace. With such a brick, it is possible to prevent an excessive decrease in strength of the heat treatment furnace during heat treatment.

しかしながら、レンガであれば、緻密性が高められたレンガを用いても、気密性を十分に確保できない場合がある。このため、レンガ内の空隙を通してガスが熱処理炉の内部と外部とを通過してしまう。よって、熱処理炉内におけるガスの成分を所望の値に保つことが難しい。 However, in the case of bricks, there are cases where sufficient airtightness cannot be ensured even if bricks with improved denseness are used. Therefore, the gas passes through the voids in the brick to the inside and the outside of the heat treatment furnace. Therefore, it is difficult to keep the gas component in the heat treatment furnace at a desired value.

本発明は、上記事情に鑑みることにより、被処理物に対してより高温で熱処理を行うことができ、且つ、被処理物が配置される空間のガスの成分を所望の値により確実に保つことのできる熱処理装置を提供することを、目的とする。 In view of the above circumstances, the present invention can heat-treat the object to be processed at a higher temperature, and can surely maintain the gas component in the space where the object to be processed is arranged at a desired value. It is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus capable of performing the above.

（１）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる熱処理装置は、被処理物を熱処理するための熱処理空間を取り囲む断熱体と、前記断熱体の周囲を気密的に覆うことでガスの通過を規制するための密封体と、を備えている。 (1) In order to solve the above problems, the heat treatment apparatus according to a certain aspect of the present invention airtightly covers the heat treatment body surrounding the heat treatment space for heat-treating the object to be treated and the periphery of the heat treatment body. It is equipped with a hermetically sealed body to regulate the passage of gas.

この構成によると、密封体は、断熱体を介して熱処理空間と向かい合うこととなる。このため、被処理物の熱処理時において、熱処理空間内の熱は、断熱材を介して密封体に伝わる。よって、熱処理空間内の高熱が密封体に伝わることを抑制できる。このため、密封体の温度上昇が抑制されるので、密封体は、耐熱性をそれほど要求されず、強度および気密性に優れた材質で形成されることが可能である。これにより、熱処理空間への不要なガスの進入を、十分な強度を有する密封体によってより確実に抑制できる。よって、熱処理空間のガスの成分を所望の値に、より確実に保つことができる。また、密封体の内側に断熱体が配置されるので、断熱体は、密閉性が低くてもよい。よって、断熱体は、密閉性についての制限を受けることなく、より高い耐熱性を有する材料で形成されることができる。以上の次第で、被処理物に対してより高温で熱処理を行うことができ、且つ、被処理物が配置される熱処理空間のガスの成分を所望の値に、より確実に保つことのできる熱処理装置を提供することができる。
さらに、熱処理装置は、前記断熱体と前記密封体との間にパージガスの層を形成するためのパージガス層形成空間と、前記パージガス層形成空間にパージガスを供給するための、パージガス供給部と、前記熱処理空間内の前記被処理物を加熱するためのヒータと、制御装置と、を備え、前記熱処理空間内における前記被処理物の搬送方向に直交する断面において、前記パージガス層形成空間は、前記断熱体の下方に形成された下側空間と、前記断熱体の上方に形成された上側空間と、前記断熱体の右側方に形成された右側空間と、前記断熱体の左側方に形成された左側空間と、を含み、前記ヒータは、前記熱処理空間に配置される発熱部と、前記右側空間および前記左側空間に配置された一対の端子部と、を有し、前記制御装置は、前記ヒータによる前記熱処理空間の温度上昇時には、前記下側空間、前記上側空間、前記右側空間、前記左側空間の全てに前記パージガス供給部から前記パージガスを供給させ、前記温度上昇後における前記被処理物の熱処理時には、前記下側空間および前記上側空間への前記パージガスの供給を停止するとともに前記右側空間および前記左側空間への前記パージガス供給部からの前記パージガスの供給を継続させる。 According to this configuration, the sealed body faces the heat treatment space via the heat insulating body. Therefore, during the heat treatment of the object to be treated, the heat in the heat treatment space is transferred to the sealed body through the heat insulating material. Therefore, it is possible to suppress the transfer of high heat in the heat treatment space to the sealed body. Therefore, since the temperature rise of the sealed body is suppressed, the sealed body can be formed of a material having excellent strength and airtightness without requiring much heat resistance. As a result, the ingress of unnecessary gas into the heat treatment space can be more reliably suppressed by the sealed body having sufficient strength. Therefore, the gas component of the heat treatment space can be more reliably maintained at a desired value. Further, since the heat insulating body is arranged inside the sealed body, the heat insulating body may have a low airtightness. Therefore, the heat insulating body can be formed of a material having higher heat resistance without being restricted by the airtightness. Based on the above, the heat treatment can be performed on the object to be processed at a higher temperature, and the gas component of the heat treatment space in which the object to be processed is arranged can be more reliably maintained at a desired value. The device can be provided.
Further, the heat treatment apparatus includes a purge gas layer forming space for forming a purge gas layer between the heat insulating body and the sealed body, a purge gas supply unit for supplying the purge gas to the purge gas layer forming space, and the purge gas supply unit. The purge gas layer forming space is provided with a heater for heating the object to be processed in the heat treatment space and a control device, and the purge gas layer forming space is insulated in the cross section orthogonal to the transport direction of the object to be processed in the heat treatment space. The lower space formed below the body, the upper space formed above the heat insulating body, the right space formed on the right side of the heat insulating body, and the left side formed on the left side of the heat insulating body. The heater includes a space, the heater has a heat generating portion arranged in the heat treatment space, and a pair of terminal portions arranged in the right side space and the left side space, and the control device is based on the heater. When the temperature of the heat treatment space rises, the purge gas is supplied from the purge gas supply unit to all of the lower space, the upper space, the right side space, and the left side space, and the object to be treated after the temperature rises. During the heat treatment, the supply of the purge gas to the lower space and the upper space is stopped, and the supply of the purge gas from the purge gas supply unit to the right side space and the left side space is continued .

（２）前記熱処理装置は、前記被処理物に熱処理用ガスを供給するための熱処理用ガス供給部をさらに備え、前記熱処理用ガス供給部は、前記熱処理空間から前記熱処理用ガスを供給するように構成されており、前記熱処理用ガスは、不活性ガスとしての窒素ガスと、水素ガスと、水蒸気を所定の割合含有しているＷＥＴガスと、が混合されたガスであり、前記制御装置は、前記温度上昇時には、前記熱処理用ガス供給部から前記窒素ガスを前記熱処理空間へ供給させるとともに前記水素ガスおよび前記ＷＥＴガスは前記熱処理空間へ供給せず、前記熱処理時には前記熱処理用ガス供給部から前記熱処理用ガスを前記熱処理空間へ供給させる場合がある。 ( 2 ) The heat treatment apparatus further includes a heat treatment gas supply unit for supplying the heat treatment gas to the object to be processed, and the heat treatment gas supply unit supplies the heat treatment gas from the heat treatment space. is configured to, the heat treatment gas includes a nitrogen gas as the inert gas, and hydrogen gas, a WET gas containing ratio of water vapor given a gas are mixed, the control The apparatus supplies the nitrogen gas from the heat treatment gas supply unit to the heat treatment space when the temperature rises, and does not supply the hydrogen gas and the WET gas to the heat treatment space, and supplies the heat treatment gas during the heat treatment. In some cases, the heat treatment gas is supplied from the unit to the heat treatment space.

本発明によると、被処理物に対してより高温で熱処理を行うことができ、且つ、被処理物が配置される空間のガスの成分を所望の値により確実に保つことのできる熱処理装置を提供することができる。 According to the present invention, there is provided a heat treatment apparatus capable of performing a heat treatment on an object to be processed at a higher temperature and reliably maintaining a gas component in a space in which the object to be processed is arranged at a desired value. can do.

本発明の一実施形態に係る熱処理装置の模式的な側面図であり、一部を省略して示している。It is a schematic side view of the heat treatment apparatus which concerns on one Embodiment of this invention, and a part is omitted. 熱処理装置の主要部における、進行方向と直交する断面図である。It is sectional drawing which is orthogonal to the traveling direction in the main part of a heat treatment apparatus. 図２に示す熱処理装置における密封体の下部の周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the periphery of the lower part of the sealed body in the heat treatment apparatus shown in FIG. 図２に示す熱処理装置の密封体のうち上部の周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the periphery of the upper part of the sealed body of the heat treatment apparatus shown in FIG. 図２に示す熱処理装置のうち上下方向における中間部の周辺の拡大図であり、密封体の上部の周辺部分を示している。It is an enlarged view of the periphery of the middle portion in the vertical direction of the heat treatment apparatus shown in FIG. 2, and shows the peripheral portion of the upper part of the sealed body. 図２に示す熱処理装置のうち上下方向における中間部の周辺の拡大図であり、図５に示す部分の下方側部分を示している。It is an enlarged view of the periphery of the intermediate portion in the vertical direction of the heat treatment apparatus shown in FIG. 2, and shows the lower portion of the portion shown in FIG. 図２に示す熱処理装置のうち上下方向における中間部の周辺の拡大図であり、図６に示す部分の下方側部分を示している。It is an enlarged view of the periphery of the intermediate portion in the vertical direction of the heat treatment apparatus shown in FIG. 2, and shows the lower portion of the portion shown in FIG. 熱処理装置の動作の一例を説明するためのタイムチャートである。It is a time chart for demonstrating an example of operation of a heat treatment apparatus.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。なお、本発明は、熱処理装置として広く適用することができる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention can be widely applied as a heat treatment apparatus.

図１は、本発明の一実施形態に係る熱処理装置１の模式的な側面図であり、一部を省略して示している。図２は、熱処理装置１の主要部における、進行方向Ｘ１と直交する断面図である。なお、本実施形態では、図２の断面図における上下および左右を、単に「上下」、「左右」として説明する。図３は、図２に示す熱処理装置１における密封体１３の下部４７の周辺の拡大図である。図４は、図２に示す熱処理装置１の密封体１３のうちの上部４８の周辺の拡大図である。図５は、図２に示す熱処理装置１のうち上下方向における中間部の周辺の拡大図であり、密封体１３の上部４８の周辺部分を示している。図６は、図２に示す熱処理装置１のうち上下方向における中間部の周辺の拡大図であり、図５に示す部分の下方側部分を示している。図７は、図２に示す熱処理装置１のうち上下方向における中間部の周辺の拡大図であり、図６に示す部分の下方側部分を示している。 FIG. 1 is a schematic side view of the heat treatment apparatus 1 according to the embodiment of the present invention, and a part thereof is omitted. FIG. 2 is a cross-sectional view of the main part of the heat treatment apparatus 1 that is orthogonal to the traveling direction X1. In this embodiment, the top and bottom and left and right in the cross-sectional view of FIG. 2 will be described simply as "up and down" and "left and right". FIG. 3 is an enlarged view of the periphery of the lower portion 47 of the sealed body 13 in the heat treatment apparatus 1 shown in FIG. FIG. 4 is an enlarged view of the periphery of the upper portion 48 of the sealed body 13 of the heat treatment apparatus 1 shown in FIG. FIG. 5 is an enlarged view of the periphery of the intermediate portion of the heat treatment apparatus 1 shown in FIG. 2 in the vertical direction, and shows the peripheral portion of the upper portion 48 of the sealed body 13. FIG. 6 is an enlarged view of the periphery of the intermediate portion in the vertical direction of the heat treatment apparatus 1 shown in FIG. 2, and shows the lower portion of the portion shown in FIG. FIG. 7 is an enlarged view of the periphery of the intermediate portion of the heat treatment apparatus 1 shown in FIG. 2 in the vertical direction, and shows the lower portion of the portion shown in FIG.

図１および図２を参照して、熱処理装置１は、被処理物１００を熱処理するために設けられている。この熱処理として、焼入処理、浸炭処理、焼戻処理、窒化処理、焼鈍処理、その他の熱処理を例示することができる。本実施形態では、熱処理装置１が、ベルト式連続浸炭焼入炉である場合を例に説明する。また、本実施形態では、被処理物１００は、金属部品である。熱処理装置１は、複数の被処理物１００を、連続的に浸炭処理するように構成されている。本実施形態では、被処理物１００を１１００℃程度まで加熱するように構成されている。 With reference to FIGS. 1 and 2, the heat treatment apparatus 1 is provided for heat-treating the object to be treated 100. Examples of this heat treatment include quenching treatment, carburizing treatment, tempering treatment, nitriding treatment, annealing treatment, and other heat treatments. In the present embodiment, the case where the heat treatment apparatus 1 is a belt type continuous charcoal burning and quenching furnace will be described as an example. Further, in the present embodiment, the object to be processed 100 is a metal part. The heat treatment apparatus 1 is configured to continuously carburize a plurality of objects 100 to be processed. In this embodiment, the object to be treated 100 is configured to be heated to about 1100 ° C.

熱処理装置１は、搬送装置２と、処理室ユニット３と、を有している。 The heat treatment device 1 includes a transfer device 2 and a processing chamber unit 3.

搬送装置２は、被処理物１００を進行方向Ｘ１に沿って処理室ユニット３の外部から処理室ユニット３内に搬送し、さらに、当該被処理物１００を処理室ユニット３の外部に搬送するために設けられている。 The transport device 2 transports the object to be processed 100 from the outside of the processing chamber unit 3 along the traveling direction X1 into the processing chamber unit 3, and further conveys the object to be processed 100 to the outside of the processing chamber unit 3. It is provided in.

搬送装置２は、無端状のベルト４と、複数のローラ５と、を有している。 The transport device 2 has an endless belt 4 and a plurality of rollers 5.

ベルト４は、たとえば、メッシュベルトであり、可撓性を有している。このベルト４の各部は、処理室ユニット３の内部と外部とを循環するようにローラ５によって駆動される。ローラ５は、ベルト４のたとえば内周面に接触しており、ベルト４を支持している。ローラ５は、たとえば、４つ設けられている。ローラ５が回転することにより、ベルト４は、複数のローラ５の周囲を回転する。 The belt 4 is, for example, a mesh belt and has flexibility. Each part of the belt 4 is driven by the roller 5 so as to circulate between the inside and the outside of the processing chamber unit 3. The roller 5 is in contact with, for example, the inner peripheral surface of the belt 4 and supports the belt 4. For example, four rollers 5 are provided. As the rollers 5 rotate, the belt 4 rotates around the plurality of rollers 5.

上記の構成を有する搬送装置２によって搬送される被処理物１００は、処理室ユニット３において、加熱処理を施される。処理室ユニット３は、当該処理室ユニット３の入口３ａおよび出口３ｂが開放された構成を有している。処理室ユニット３の右側に温度センサ１８が配置され、且つ、処理室ユニット３の左側には温度センサ１８が配置されていない点以外、処理室ユニット３は、略左右対称に形成されている。 The object to be processed 100 transported by the transport device 2 having the above configuration is heat-treated in the treatment chamber unit 3. The processing chamber unit 3 has a configuration in which the inlet 3a and the outlet 3b of the processing chamber unit 3 are open. The processing chamber unit 3 is formed substantially symmetrically except that the temperature sensor 18 is arranged on the right side of the processing chamber unit 3 and the temperature sensor 18 is not arranged on the left side of the processing chamber unit 3.

処理室ユニット３は、入口３ａと、入口側排気管７と、出口３ｂと、出口側排気管８と、断熱体９と、熱処理空間１０と、ベース部材１１と、ヒータユニット１２と、密封体１３と、パージガス層形成空間１４と、パージガス供給部１５と、熱処理用ガス供給部１６と、サンプリング管１７と、温度センサ１８と、を有している。 The processing chamber unit 3 includes an inlet 3a, an inlet side exhaust pipe 7, an outlet 3b, an outlet side exhaust pipe 8, a heat insulating body 9, a heat treatment space 10, a base member 11, a heater unit 12, and a sealed body. It has a purge gas layer forming space 14, a purge gas supply unit 15, a heat treatment gas supply unit 16, a sampling pipe 17, and a temperature sensor 18.

入口３ａは、ベルト４および被処理物１００が処理室ユニット３の熱処理空間１０に導入される部分として形成されている。本実施形態では、入口３ａは、図１における処理室ユニット３の左端に形成されている。入口３ａの近傍には、入口側排気管７が配置されている。 The inlet 3a is formed as a portion where the belt 4 and the object to be processed 100 are introduced into the heat treatment space 10 of the processing chamber unit 3. In this embodiment, the inlet 3a is formed at the left end of the processing chamber unit 3 in FIG. An inlet side exhaust pipe 7 is arranged in the vicinity of the inlet 3a.

入口側排気管７は、処理室ユニット３の密封体１３内に存在するガスを当該密封体１３（熱処理空間１０）の外部に排出するために配置されている。この入口側排気管７は、密封体１３のたとえば上端部に接続されており、図示しないダクトなどに向けて、密封体１３の内側のガスを排出可能である。入口側排気管７の一端（下端）は、熱処理空間１０に接続されている。これにより、断熱体９内のガス（空気）および熱処理空間１０内のガスは、入口側排気管７を通して密封体１３の外部に排出されることが可能である。 The inlet side exhaust pipe 7 is arranged to discharge the gas existing in the sealed body 13 of the processing chamber unit 3 to the outside of the sealed body 13 (heat treatment space 10). The inlet-side exhaust pipe 7 is connected to, for example, the upper end of the sealed body 13, and can discharge the gas inside the sealed body 13 toward a duct (not shown) or the like. One end (lower end) of the inlet side exhaust pipe 7 is connected to the heat treatment space 10. As a result, the gas (air) in the heat insulating body 9 and the gas in the heat treatment space 10 can be discharged to the outside of the sealed body 13 through the inlet side exhaust pipe 7.

出口３ｂは、ベルト４および被処理物１００が処理室ユニット３の熱処理空間１０から出される部分として形成されている。本実施形態では、出口３ｂは、図１における処理室ユニット３の右端に形成されている。出口３ｂの近傍には、出口側排気管８が配置されている。 The outlet 3b is formed as a portion where the belt 4 and the object to be processed 100 are discharged from the heat treatment space 10 of the processing chamber unit 3. In this embodiment, the outlet 3b is formed at the right end of the processing chamber unit 3 in FIG. An outlet side exhaust pipe 8 is arranged in the vicinity of the outlet 3b.

出口側排気管８は、処理室ユニット３の密封体１３内に存在するガスを当該密封体１３（熱処理空間１０）の外部に排出するために配置されている。この出口側排気管８は、密封体１３のたとえば上端部に接続されており、図示しないダクトなどに向けて、密封体１３の内側のガスを排出可能である。出口側排気管８の一端（下端）は、熱処理空間１０に接続されている。これにより、断熱体９内のガス（空気）および熱処理空間１０内のガスは、出口側排気管８を通して密封体１３の外部に排出されることが可能である。上記の構成により、入口側排気管７と出口側排気管８とが協働して、密封体１３（熱処理空間１０）内のガスを排出する。進行方向Ｘ１から見て、密封体１３は、断熱体９を取り囲んでいる。 The outlet side exhaust pipe 8 is arranged to discharge the gas existing in the sealed body 13 of the processing chamber unit 3 to the outside of the sealed body 13 (heat treatment space 10). The outlet-side exhaust pipe 8 is connected to, for example, the upper end of the sealed body 13, and can discharge the gas inside the sealed body 13 toward a duct (not shown) or the like. One end (lower end) of the outlet side exhaust pipe 8 is connected to the heat treatment space 10. As a result, the gas (air) in the heat insulating body 9 and the gas in the heat treatment space 10 can be discharged to the outside of the sealed body 13 through the outlet side exhaust pipe 8. With the above configuration, the inlet side exhaust pipe 7 and the outlet side exhaust pipe 8 cooperate with each other to discharge the gas in the sealed body 13 (heat treatment space 10). Seen from the traveling direction X1, the sealing body 13 surrounds the heat insulating body 9.

断熱体９は、被処理物１００を熱処理するための熱処理空間１０を取り囲むように配置されている。この断熱体９は、入口３ａおよび出口３ｂに開放された熱処理空間１０を形成するとともに、熱処理空間１０と、熱処理空間１０の外側の空間との間において、熱の伝達を遮断する。本実施形態では、断熱体９は、複数の断熱部材を用いて形成されている。また、本実施形態では、断熱体９は、多孔質材料を用いて形成されており、ファイバー状の材料を含んで構成される。断熱体９の構成として、たとえば、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）およびシリカ（ＳｉＯ２）を所定の割合で配合し、且つ、所定のバインダーを用いて固形状とした構成を例示することができる。すなわち、断熱体９は、たとえばセラミックファイバーを用いて形成される。断熱体９をセラミックファイバーで形成した場合、断熱体９を緻密レンガで形成した場合と比べて、断熱体９の内部のガスの外部に放出し易くできる。さらに、熱処理装置１の製造コストをより低減できる。 The heat insulating body 9 is arranged so as to surround the heat treatment space 10 for heat-treating the object to be treated 100. The heat insulating body 9 forms a heat treatment space 10 open to the inlet 3a and the outlet 3b, and blocks heat transfer between the heat treatment space 10 and the space outside the heat treatment space 10. In the present embodiment, the heat insulating body 9 is formed by using a plurality of heat insulating members. Further, in the present embodiment, the heat insulating body 9 is formed by using a porous material, and includes a fibrous material. As the structure of the heat insulating body 9, for example, a structure in which alumina (Al 2 O 3 ) and silica (SiO 2 ) are blended in a predetermined ratio and made into a solid state by using a predetermined binder can be exemplified. That is, the heat insulating body 9 is formed by using, for example, ceramic fibers. When the heat insulating body 9 is made of ceramic fiber, it can be easily released to the outside of the gas inside the heat insulating body 9 as compared with the case where the heat insulating body 9 is made of dense brick. Further, the manufacturing cost of the heat treatment apparatus 1 can be further reduced.

断熱体９の耐熱温度（許容使用温度）は、たとえば、１２００℃〜１５００℃程度である。上記のように、断熱体９は、気孔を有しており、パージガス層形成空間１４内のガスは、断熱体９を通って熱処理空間１０へ到達可能である。なお、本実施形態では、断熱体９が多孔質材料を用いて形成される形態を例に説明するけれども、この通りでなくてもよい。たとえば、断熱体９は、緻密体（実質的に気孔率がゼロである材料）によって形成されていてもよい。 The heat resistant temperature (allowable operating temperature) of the heat insulating body 9 is, for example, about 1200 ° C to 1500 ° C. As described above, the heat insulating body 9 has pores, and the gas in the purge gas layer forming space 14 can reach the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9. In this embodiment, a form in which the heat insulating body 9 is formed by using a porous material will be described as an example, but this may not be the case. For example, the heat insulating body 9 may be formed of a dense body (a material having substantially zero porosity).

断熱体９は、下側断熱材２１と、上側断熱材２２と、右側断熱材２３と、左側断熱材２４と、を有している。 The heat insulating body 9 has a lower heat insulating material 21, an upper heat insulating material 22, a right heat insulating material 23, and a left heat insulating material 24.

各断熱材２１〜２４は、たとえば、直方体のブロック状に形成されており、所定の大きさを有している。 Each of the heat insulating materials 21 to 24 is formed in a rectangular parallelepiped block shape, for example, and has a predetermined size.

下側断熱材２１は、熱処理空間１０の下側に熱処理空間１０からの熱が伝わることを抑制するために設けられている。下側断熱材２１は、断熱体９の下部の一部を形成している。下側断熱材２１の左右両側方には、右側断熱材２３および左側断熱材２４が配置されている。下側断熱材２１は、右側断熱材２３の下部および左側断熱材２４の下部に挟まれている。 The lower heat insulating material 21 is provided to suppress heat transfer from the heat treatment space 10 to the lower side of the heat treatment space 10. The lower heat insulating material 21 forms a part of the lower part of the heat insulating body 9. The right side heat insulating material 23 and the left side heat insulating material 24 are arranged on both the left and right sides of the lower heat insulating material 21. The lower heat insulating material 21 is sandwiched between the lower part of the right side heat insulating material 23 and the lower part of the left side heat insulating material 24.

右側断熱材２３は、熱処理空間１０の右側に向けて熱処理空間１０からの熱が伝わることを抑制するために設けられている。右側断熱材２３は、垂直に延びるように配置されている。 The right heat insulating material 23 is provided to suppress heat transfer from the heat treatment space 10 toward the right side of the heat treatment space 10. The right heat insulating material 23 is arranged so as to extend vertically.

右側断熱材２３の内側面は、ベルト４と左右に向かい合うように配置されている。一方、右側断熱材２３の外側面は、密封体１３と左右に向かい合うように配置されている。右側断熱材２３と左右対称に左側断熱材２４が配置されている。 The inner surface of the right heat insulating material 23 is arranged so as to face the belt 4 on the left and right. On the other hand, the outer surface of the right heat insulating material 23 is arranged so as to face the sealed body 13 on the left and right. The left heat insulating material 24 is arranged symmetrically with the right heat insulating material 23.

左側断熱材２４は、熱処理空間１０の左側に向けて熱処理空間１０からの熱が伝わることを抑制するために設けられている。以下、左側断熱材２４の詳細な説明は省略する。右側断熱材２３および左側断熱材２４は、協働して上側断熱材２２を支持している。 The left heat insulating material 24 is provided to suppress heat transfer from the heat treatment space 10 toward the left side of the heat treatment space 10. Hereinafter, detailed description of the left heat insulating material 24 will be omitted. The right side insulation 23 and the left side insulation 24 work together to support the upper insulation 22.

上側断熱材２２は、熱処理空間１０の上側に向けて熱処理空間１０からの熱が伝わることを抑制するために設けられている。上側断熱材２２は、右側断熱材２３の上部および左側断熱材２４の上部に挟まれている。 The upper heat insulating material 22 is provided to suppress heat transfer from the heat treatment space 10 toward the upper side of the heat treatment space 10. The upper heat insulating material 22 is sandwiched between the upper part of the right side heat insulating material 23 and the upper part of the left side heat insulating material 24.

上記の構成により、下側断熱材２１、右側断熱材２３、左側断熱材２４、および、上側断熱材２２によって囲まれた空間としての熱処理空間１０が形成されている。熱処理空間１０は、進行方向Ｘ１と直交する断面において、たとえば矩形状の空間を形成しており、ベルト４の上部４ａにおける当該ベルト４の進行方向Ｘ１に沿って延びている。この熱処理空間１０内には、ベース部材１１が配置されている。 With the above configuration, the heat treatment space 10 is formed as a space surrounded by the lower heat insulating material 21, the right side heat insulating material 23, the left side heat insulating material 24, and the upper heat insulating material 22. The heat treatment space 10 forms, for example, a rectangular space in a cross section orthogonal to the traveling direction X1, and extends along the traveling direction X1 of the belt 4 in the upper portion 4a of the belt 4. A base member 11 is arranged in the heat treatment space 10.

ベース部材１１は、熱処理空間１０内においてベルト４を受けるために設けられている。ベース部材１１は、熱処理空間１０の床としての下側断熱材２１の上部に支持されており、ベルト４を支持している。これにより、ベルト４は、被処理物１００を支持した状態で、ベース部材１１に受けられる。熱処理空間１０内は、ヒータユニット１２によって加熱される。 The base member 11 is provided to receive the belt 4 in the heat treatment space 10. The base member 11 is supported on the upper part of the lower heat insulating material 21 as the floor of the heat treatment space 10, and supports the belt 4. As a result, the belt 4 is received by the base member 11 while supporting the object to be processed 100. The inside of the heat treatment space 10 is heated by the heater unit 12.

ヒータユニット１２は、熱処理空間１０内の雰囲気（熱処理空間１０内のガス）および被処理物１００を加熱するために設けられている。ヒータユニット１２は、１箇所または進行方向Ｘ１に沿って複数箇所に配置される。図２では、１つのヒータユニット１２が示されている。 The heater unit 12 is provided to heat the atmosphere in the heat treatment space 10 (gas in the heat treatment space 10) and the object to be processed 100. The heater units 12 are arranged at one location or at a plurality of locations along the traveling direction X1. In FIG. 2, one heater unit 12 is shown.

本実施形態では、ヒータユニット１２は、上下に離隔して配置された複数のヒータとしての上側ヒータ２６および下側ヒータ２７を含んでいる。本実施形態では、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７は、たとえば、電熱ヒータである。 In the present embodiment, the heater unit 12 includes an upper heater 26 and a lower heater 27 as a plurality of heaters arranged vertically apart from each other. In the present embodiment, the upper heater 26 and the lower heater 27 are, for example, electric heaters.

上側ヒータ２６は、熱処理空間１０内の上部において熱処理空間１０内のガスおよび被処理物１００を加熱するために設けられている。上側ヒータ２６は、断熱体９を左右に貫通するように配置されている。 The upper heater 26 is provided to heat the gas in the heat treatment space 10 and the object to be processed 100 in the upper part of the heat treatment space 10. The upper heater 26 is arranged so as to penetrate the heat insulating body 9 to the left and right.

上側ヒータ２６は、左右に延びる細長い棒状に形成されたヒータ本体３１と、電線３２，３３と、ガイド部材３４，３５と、を有している。 The upper heater 26 has a heater main body 31 formed in an elongated rod shape extending to the left and right, electric wires 32 and 33, and guide members 34 and 35.

ヒータ本体３１は、左右両端の端子部３１ａ，３１ｂと、中間部３１ｃ，３１ｄと、発熱部３１ｅと、を有している。左右方向に沿って、端子部３１ａ、中間部３１ｃ、発熱部３１ｅ、中間部３１ｄ、端子部３１ｂの順に配置されている。 The heater main body 31 has terminal portions 31a and 31b at both left and right ends, intermediate portions 31c and 31d, and a heat generating portion 31e. The terminal portion 31a, the intermediate portion 31c, the heat generating portion 31e, the intermediate portion 31d, and the terminal portion 31b are arranged in this order along the left-right direction.

端子部３１ａ，３１ｂは、ヒータ本体３１の両端部に配置されている。端子部３１ａ，３１ｂは、中間部３１ｃ，３１ｄ内を通る導電部材（図示せず）を介して、発熱部３１ｅに電気的に接続されている。端子部３１ａ，３１ｂは、熱処理空間１０の外部に配置されている。端子部３１ａは、パージガス層形成空間１４の後述する右側空間５３に配置されており、端子部３１ｂは、パージガス層形成空間１４の後述する左側空間５４に配置されている。端子部３１ａ，３１ｂに挟まれるようにして、中間部３１ｃ，３１ｄが配置されている。 The terminal portions 31a and 31b are arranged at both ends of the heater main body 31. The terminal portions 31a and 31b are electrically connected to the heat generating portion 31e via a conductive member (not shown) passing through the intermediate portions 31c and 31d. The terminal portions 31a and 31b are arranged outside the heat treatment space 10. The terminal portion 31a is arranged in the right side space 53 of the purge gas layer forming space 14, which will be described later, and the terminal portion 31b is arranged in the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14, which will be described later. The intermediate portions 31c and 31d are arranged so as to be sandwiched between the terminal portions 31a and 31b.

中間部３１ｃ，３１ｄは、断熱体９に支持される部分として設けられた、発熱しない部分である。中間部３１ｃ，３１ｄは、対応する右側断熱材２３の上部および左側断熱材２４の上部を貫通している。 The intermediate portions 31c and 31d are portions that do not generate heat and are provided as portions supported by the heat insulating body 9. The intermediate portions 31c and 31d penetrate the upper part of the corresponding right side heat insulating material 23 and the upper part of the left side heat insulating material 24.

中間部３１ｃ，３１ｄには、環状の固定部材３６が嵌合されている。これら一対の固定部材３６は、左側断熱材２４および右側断熱材２３を挟むように配置されている。これにより、ヒータ本体３１は、断熱体９に対する変位を規制された状態で、断熱体９に保持されている。中間部３１ｃ，３１ｄの間に発熱部３１ｅが配置されている。 An annular fixing member 36 is fitted to the intermediate portions 31c and 31d. These pair of fixing members 36 are arranged so as to sandwich the left side heat insulating material 24 and the right side heat insulating material 23. As a result, the heater main body 31 is held by the heat insulating body 9 in a state where the displacement with respect to the heat insulating body 9 is regulated. A heat generating portion 31e is arranged between the intermediate portions 31c and 31d.

発熱部３１ｅは、たとえば、電熱線を有しており、端子部３１ａ，３１ｂを通して外部電源（図示せず）から与えられた電力によって発熱するように構成されている。発熱部３１ｅは、熱処理空間１０の上部に配置されている。 The heat generating portion 31e has, for example, a heating wire, and is configured to generate heat by electric power supplied from an external power source (not shown) through the terminal portions 31a and 31b. The heat generating portion 31e is arranged above the heat treatment space 10.

発熱部３１ｅに電力を供給するための電線３２，３３の一端は、対応する端子部３１ａ，３１ｂに固定されている。これらの電線３２，３３は、対応する右側空間５３および左側空間５４に配置されている。電線３２，３３は、対応するガイド部材３４，３５を介して、外部電源に電気的に接続されている。 One ends of the electric wires 32 and 33 for supplying electric power to the heat generating portion 31e are fixed to the corresponding terminal portions 31a and 31b. These electric wires 32 and 33 are arranged in the corresponding right side space 53 and the left side space 54. The electric wires 32 and 33 are electrically connected to an external power source via the corresponding guide members 34 and 35.

ガイド部材３４，３５は、密封体１３を貫通する軸状部分として設けられている。ガイド部材３４，３５は、密封体１３の後述する第１右側板６１および第１左側板７１を貫通しており、且つ、側板６１，７１のうち貫通している箇所の縁部との間を気密的にシールするシール構造を有している。ガイド部材３４，３５は、導電体（金属）を用いて形成され対応する側板６１，７１を貫通するボルト３４ａ，３５ａを有している。これらのボルト３４ａ，３５ａは、対応する電線３２，３３の他端と接続されており、且つ、密封体１３で囲まれた空間の外側において、外部電源に電気的に接続されている。上記の構成を有する上側ヒータ２６の下方に、下側ヒータ２７が配置されている。 The guide members 34 and 35 are provided as shaft-shaped portions penetrating the sealed body 13. The guide members 34 and 35 penetrate the first right side plate 61 and the first left side plate 71 of the sealing body 13, which will be described later, and are between the side plates 61 and 71 and the edges of the penetrating portions. It has a sealing structure that seals airtightly. The guide members 34 and 35 have bolts 34a and 35a formed by using a conductor (metal) and penetrating the corresponding side plates 61 and 71. These bolts 34a and 35a are connected to the other ends of the corresponding electric wires 32 and 33, and are electrically connected to an external power source outside the space surrounded by the sealed body 13. The lower heater 27 is arranged below the upper heater 26 having the above configuration.

下側ヒータ２７は、熱処理空間１０内の下部において熱処理空間１０内のガスおよび被処理物１００を加熱するために設けられている。 The lower heater 27 is provided to heat the gas in the heat treatment space 10 and the object to be processed 100 in the lower part of the heat treatment space 10.

下側ヒータ２７は、ヒータ本体４１と、電線４２，４３と、ガイド部材４４，４５と、を有している。本実施形態では、下側ヒータ２７は、上側ヒータ２６と上下対称に配置されている。 The lower heater 27 has a heater main body 41, electric wires 42, 43, and guide members 44, 45. In the present embodiment, the lower heater 27 is arranged vertically symmetrically with the upper heater 26.

下側ヒータ２７のヒータ本体４１は、左右両端の端子部４１ａ，４１ｂ、中間部４１ｃ，４１ｄ、および、発熱部４１ｅを有しており、上側ヒータ２６のヒータ本体３１と同じ構成を有している。下側ヒータ２７のヒータ本体４１の中間部４１ｃ，４１ｄは、対応する右側断熱材２３および左側断熱材２４に支持されている。中間部４１ｃ，４１ｄは、固定部材４６によって断熱体９に固定されている。 The heater body 41 of the lower heater 27 has terminal portions 41a and 41b at both left and right ends, intermediate portions 41c and 41d, and a heat generating portion 41e, and has the same configuration as the heater body 31 of the upper heater 26. There is. The intermediate portions 41c and 41d of the heater main body 41 of the lower heater 27 are supported by the corresponding right side heat insulating material 23 and the left side heat insulating material 24. The intermediate portions 41c and 41d are fixed to the heat insulating body 9 by the fixing member 46.

下側ヒータ２７の端子部４１ａは、熱処理空間１０の外側において、パージガス層形成空間１４の右側空間５３に配置されており、端子部４１ｂは、パージガス層形成空間１４の左側空間５４に配置されている。下側ヒータ２７の発熱部４１ｅは、端子部４１ａ，４１ｂ、電線４２，４３、および、ガイド部材４４，４５を通して外部電源（図示せず）から与えられた電力によって発熱するように構成されており、熱処理空間１０の下部に配置されている。 The terminal portion 41a of the lower heater 27 is arranged in the right side space 53 of the purge gas layer forming space 14 outside the heat treatment space 10, and the terminal portion 41b is arranged in the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14. There is. The heat generating portion 41e of the lower heater 27 is configured to generate heat by electric power supplied from an external power source (not shown) through the terminal portions 41a and 41b, the electric wires 42 and 43, and the guide members 44 and 45. , It is arranged in the lower part of the heat treatment space 10.

電線４２，４３は、対応する右側空間５３および左側空間５４に配置されている。電線４２，４３の一端は、対応するガイド部材４４，４５に接続されている。電線４２，４３は、対応するガイド部材４４，４５を介して、外部電源（図示せず）に電気的に接続されている。 The electric wires 42 and 43 are arranged in the corresponding right side space 53 and the left side space 54. One end of the wires 42, 43 is connected to the corresponding guide members 44, 45. The electric wires 42, 43 are electrically connected to an external power source (not shown) via the corresponding guide members 44, 45.

ガイド部材４４，４５は、ガイド部材３４，３５と同じ構成を有している。ガイド部材４４，４５は、密封体１３の後述する第５右側板６５および第５左側板７５を貫通しており、且つ、側板６５，７５のうち貫通している箇所の縁部との間を気密的にシールするシール構造を有している。ガイド部材４４，４５は、導電体（金属）を用いて形成され対応する側板６５，７５を貫通するボルト４４ａ，４５ａを有している。これらのボルト４４ａ，４５ａは、対応する電線４２，４３と接続されており、且つ、密封体１３で囲まれた空間の外側において、外部電源に電気的に接続されている。 The guide members 44 and 45 have the same configuration as the guide members 34 and 35. The guide members 44, 45 penetrate the fifth right side plate 65 and the fifth left side plate 75, which will be described later, of the sealing body 13, and are between the side plates 65, 75 and the edge of the penetrating portion. It has a sealing structure that seals airtightly. The guide members 44 and 45 have bolts 44a and 45a formed by using a conductor (metal) and penetrating the corresponding side plates 65 and 75. These bolts 44a, 45a are connected to the corresponding electric wires 42, 43, and are electrically connected to an external power source outside the space surrounded by the sealed body 13.

密封体１３は、進行方向Ｘ１から見て、断熱体９の周囲を気密的に覆うことで、熱処理空間１０から排出されるガスの通過、および、密封体１３の外部から密封体１３の内部へ向かうガスの通過を規制するために設けられている。なお、密封体１３は、入口３ａおよび出口３ｂのそれぞれにおいて熱処理空間１０は塞がないように構成されており、熱処理空間１０に対するベルト４および被処理物１００の搬入および搬出が可能とされている。密封体１３は、進行方向Ｘ１に延びる筒状に形成されており、図２に示す断面図において、断熱体９の周囲を取り囲んでいる。すなわち、密封体１３は、断熱体９の下方、上方、右方、および、左方に配置されている。本実施形態では、密封体１３は、複数の金属部材を組み合わせて形成されている。 The sealed body 13 airtightly covers the periphery of the heat insulating body 9 when viewed from the traveling direction X1 so that the gas discharged from the heat treatment space 10 can pass through and from the outside of the sealed body 13 to the inside of the sealed body 13. It is provided to regulate the passage of gas to the destination. The sealed body 13 is configured so that the heat treatment space 10 is not blocked at each of the inlet 3a and the outlet 3b, and the belt 4 and the object to be processed 100 can be carried in and out of the heat treatment space 10. .. The sealed body 13 is formed in a tubular shape extending in the traveling direction X1 and surrounds the heat insulating body 9 in the cross-sectional view shown in FIG. That is, the sealed body 13 is arranged below, above, to the right, and to the left of the heat insulating body 9. In the present embodiment, the sealed body 13 is formed by combining a plurality of metal members.

また、密封体１３と断熱体９は、協働して、パージガス層形成空間１４を形成している。パージガス層形成空間１４は、断熱体９と密封体１３との間にパージガスの層を形成するために設けられている。パージガスは、不活性ガスであり、本実施形態では、窒素ガスである。パージガス層形成空間１４は、熱処理空間１０の上方、下方、および、水平方向における熱処理空間の側方（右方および左方）に配置されている。 Further, the sealed body 13 and the heat insulating body 9 cooperate with each other to form a purge gas layer forming space 14. The purge gas layer forming space 14 is provided to form a layer of purge gas between the heat insulating body 9 and the sealing body 13. The purge gas is an inert gas, and in the present embodiment, it is a nitrogen gas. The purge gas layer forming space 14 is arranged above and below the heat treatment space 10 and on the sides (right and left) of the heat treatment space in the horizontal direction.

そして、パージガス層形成空間１４、すなわち、密封体１３で囲まれた空間にパージガスを供給するための、パージガス供給部１５が設けられている。パージガス供給部１５が設けられていることにより、パージガスを、パージガス層形成空間１４から断熱体９を通して熱処理空間１０へ供給できる。そして、断熱体９内のガス（空気）および熱処理空間１０内のガスを、パージガスとともに熱処理装置１の外部に排出させることができる。以下、密封体１３、パージガス層形成空間１４、および、パージガス供給部１５について、より具体的に説明する。 Then, a purge gas supply unit 15 for supplying the purge gas to the purge gas layer forming space 14, that is, the space surrounded by the sealed body 13 is provided. By providing the purge gas supply unit 15, the purge gas can be supplied from the purge gas layer forming space 14 to the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9. Then, the gas (air) in the heat insulating body 9 and the gas in the heat treatment space 10 can be discharged to the outside of the heat treatment apparatus 1 together with the purge gas. Hereinafter, the sealed body 13, the purge gas layer forming space 14, and the purge gas supply unit 15 will be described more specifically.

密封体１３は、下部４７と、上部４８と、右側部４９と、左側部５０と、を有している。 The sealed body 13 has a lower portion 47, an upper portion 48, a right side portion 49, and a left side portion 50.

パージガス層形成空間１４は、下側空間５１と、上側空間５２と、右側空間５３と、左側空間５４と、を有している。 The purge gas layer forming space 14 has a lower space 51, an upper space 52, a right side space 53, and a left side space 54.

パージガス供給部１５は、下側供給部５５と、上側供給部５６と、右側供給部５７と、左側供給部５８と、を有している。 The purge gas supply unit 15 has a lower supply unit 55, an upper supply unit 56, a right side supply unit 57, and a left side supply unit 58.

図１〜図３を参照して、密封体１３の下部４７は、断熱体９を支持するとともに、下側空間５１を形成する部分として設けられている。下部４７は、左右に細長い矩形状の部分として儲けられている。 With reference to FIGS. 1 to 3, the lower portion 47 of the sealed body 13 is provided as a portion that supports the heat insulating body 9 and forms the lower space 51. The lower portion 47 is profitable as an elongated rectangular portion on the left and right.

密封体１３の下部４７は、複数の板部材としての第１板部４７ａと、第２板部４７ｂと、中間梁４７ｃと、を用いて形成されている。 The lower portion 47 of the sealed body 13 is formed by using a first plate portion 47a, a second plate portion 47b, and an intermediate beam 47c as a plurality of plate members.

第１板部４７ａ、および、中間梁４７ｃは、ＳＵＳ材などの金属板に曲げ加工を施して形成されている。なお、密封体１３を構成する金属部材は、本実施形態では、ＳＵＳ材（ステンレス材）によって形成されている。第２板部４７ｂは、平らな金属板を用いて形成されている。第１板部４７ａと第２板部４７ｂとが向かい合わされた状態で配置され、これら第１板部４７ａと第２板部４７ｂとの間に中間梁４７ｃが配置されている。第１板部４７ａは、上下の向きが逆さにされたＵ字状に形成されている。 The first plate portion 47a and the intermediate beam 47c are formed by bending a metal plate such as a SUS material. In this embodiment, the metal member constituting the sealed body 13 is made of a SUS material (stainless steel material). The second plate portion 47b is formed by using a flat metal plate. The first plate portion 47a and the second plate portion 47b are arranged so as to face each other, and the intermediate beam 47c is arranged between the first plate portion 47a and the second plate portion 47b. The first plate portion 47a is formed in a U shape with the vertical direction turned upside down.

第１板部４７ａは、上部４７ｄと、左右一対の側部４７ｅ，４７ｆと、左右一対の台座部４７ｇ、４７ｈと、を有している。 The first plate portion 47a has an upper portion 47d, a pair of left and right side portions 47e and 47f, and a pair of left and right pedestals 47g and 47h.

上部４７ｄは、第２板部４７ｂと平行に（水平に）延びている。上部４７ｄは、下側断熱材２１、右側断熱材２３、左側断熱材２４、右側部４９および左側部５０を支持している。上部４７ｄの左右両端部から、側部４７ｅ，４７ｆが下方に延びている。台座部４７ｇ，４７ｈは、側部４７ｅ，４７ｆの下端部においてベース部材１１から遠ざかる方向に水平に延びている。台座部４７ｇ，４７ｈは、図示しないベース部材に、ボルトなどの固定部材を用いて固定されている。上記の構成を有する第１板部４７ａの上部４７ｄの下方に、第２板部４７ｂが配置されている。 The upper portion 47d extends parallel (horizontally) with the second plate portion 47b. The upper portion 47d supports the lower heat insulating material 21, the right side heat insulating material 23, the left side heat insulating material 24, the right side portion 49, and the left side portion 50. Side portions 47e and 47f extend downward from the left and right ends of the upper portion 47d. The pedestal portions 47g and 47h extend horizontally at the lower ends of the side portions 47e and 47f in a direction away from the base member 11. The pedestals 47g and 47h are fixed to a base member (not shown) by using a fixing member such as a bolt. The second plate portion 47b is arranged below the upper portion 47d of the first plate portion 47a having the above configuration.

第２板部４７ｂは、第１板部４７ａの側部４７ｅ，４７ｆに挟まれるように配置されている。左右方向における第２板部４７ｂの両端部は、第１板部４７ａの側部４７ｅ，４７ｆに溶接などを用いて固定されており、当該側部４７ｅ，４７ｆと気密的に接続されている。そして、左右方向における第１板部４７ａの中央部に、中間梁４７ｃが配置されている。 The second plate portion 47b is arranged so as to be sandwiched between the side portions 47e and 47f of the first plate portion 47a. Both ends of the second plate portion 47b in the left-right direction are fixed to the side portions 47e and 47f of the first plate portion 47a by welding or the like, and are airtightly connected to the side portions 47e and 47f. An intermediate beam 47c is arranged at the center of the first plate portion 47a in the left-right direction.

中間梁４７ｃは、進行方向Ｘ１から見て、たとえば、Ｕ字状に形成された梁部材であり、進行方向Ｘ１に延びている。中間梁４７ｃは、第１板部４７ａの下面に溶接などを用いて気密的に接続され、且つ、第２板部４７ｂの上面に溶接などを用いて気密的に接続されている。上記の構成により、密封体１３の下部４７に、第１板部４７ａ、および、第２板部４７ｂによって下側空間５１が形成されている。 The intermediate beam 47c is, for example, a U-shaped beam member when viewed from the traveling direction X1, and extends in the traveling direction X1. The intermediate beam 47c is airtightly connected to the lower surface of the first plate portion 47a by welding or the like, and is airtightly connected to the upper surface of the second plate portion 47b by welding or the like. With the above configuration, a lower space 51 is formed in the lower portion 47 of the sealed body 13 by the first plate portion 47a and the second plate portion 47b.

下側空間５１は、断熱体９の下側断熱材２１と密封体１３の第２板部４７ｂとの間にパージガスの層を形成するために設けられている。下側空間５１は、熱処理空間１０から断熱体９を通して断熱体９の下方に到達した熱が密封体１３の外部に向かうことを抑制するために設けられている。下側空間５１は、中間梁４７ｃを挟んで左右に分かれて配置されている。下側空間５１は、水平方向に扁平な空間であり、上下の長さが、左右の長さよりも短く、且つ、進行方向Ｘ１の長さよりも短い。 The lower space 51 is provided to form a layer of purge gas between the lower heat insulating material 21 of the heat insulating body 9 and the second plate portion 47b of the sealing body 13. The lower space 51 is provided to prevent heat that has reached below the heat insulating body 9 from the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9 from going to the outside of the sealed body 13. The lower space 51 is arranged on the left and right sides of the intermediate beam 47c. The lower space 51 is a space flat in the horizontal direction, and the vertical length is shorter than the horizontal length and shorter than the length in the traveling direction X1.

下側空間５１のうち、中間梁４７ｃの右側の領域は、第１板部４７ａの右側の側部４７ｅから中間梁４７ｃにかけて延びている。また、下側空間５１のうち中間梁４７ｃの左側の領域は、第１板部４７ａの左側の側部４７ｆから中間梁４７ｃにかけて延びている。下側空間５１は、進行方向Ｘ１の両端部において、入口側排気管７および出口側排気管８に接続されている。これにより、各下側空間５１内のガスは、入口側排気管７および出口側排気管８の何れかから、密封体１３の外部に排出される。下側空間５１は、パージガス供給部１５の左右一対の下側供給部５５，５５からのパージガスによって、パージ（ガス置換）が行われる。 In the lower space 51, the region on the right side of the intermediate beam 47c extends from the right side portion 47e of the first plate portion 47a to the intermediate beam 47c. Further, the area on the left side of the intermediate beam 47c in the lower space 51 extends from the left side portion 47f of the first plate portion 47a to the intermediate beam 47c. The lower space 51 is connected to the inlet side exhaust pipe 7 and the outlet side exhaust pipe 8 at both ends of the traveling direction X1. As a result, the gas in each lower space 51 is discharged to the outside of the sealed body 13 from either the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8. The lower space 51 is purged (gas replacement) by the purge gas from the pair of left and right lower supply units 55, 55 of the purge gas supply unit 15.

各下側供給部５５は、下側空間５１のうち中間梁４７ｃの対応する右側領域および左側領域に接続されたガス供給管として設けられている。すなわち、右側の下側供給部５５は、中間梁４７ｃの右側に配置されており、左側の下側供給部５５は、中間梁４７ｃの左側に配置されている。各下側供給部５５は、密封体１３の第２板部４７ｂを貫通するように配置されている。各下側供給部５５と第２板部４７ｂとの間の部分は、溶接などによって互いに気密的に接続されている。各下側供給部５５は、タンクなどのパージガス供給源（図示せず）に接続されており、パージガスを、下側空間５１の対応する領域に供給する。 Each lower supply unit 55 is provided as a gas supply pipe connected to the corresponding right side region and left side region of the intermediate beam 47c in the lower space 51. That is, the lower supply unit 55 on the right side is arranged on the right side of the intermediate beam 47c, and the lower supply unit 55 on the left side is arranged on the left side of the intermediate beam 47c. Each lower supply portion 55 is arranged so as to penetrate the second plate portion 47b of the sealed body 13. The portions between the lower supply portion 55 and the second plate portion 47b are airtightly connected to each other by welding or the like. Each lower supply unit 55 is connected to a purge gas supply source (not shown) such as a tank, and supplies the purge gas to the corresponding region of the lower space 51.

下側空間５１に供給されたパージガスは、入口側排気管７または出口側排気管８から密封体１３の外部に排出される。下側空間５１の上方に、パージガス層形成空間１４の上側空間５２が配置されている。上側空間５２は、密封体１３の上部４８と、右側部４９と、左側部５０と、断熱体９の上側断熱材２２と、右側断熱材２３と、左側断熱材２４と、を用いて形成されている。 The purge gas supplied to the lower space 51 is discharged to the outside of the sealed body 13 from the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8. Above the lower space 51, the upper space 52 of the purge gas layer forming space 14 is arranged. The upper space 52 is formed by using the upper portion 48 of the sealed body 13, the right side portion 49, the left side portion 50, the upper heat insulating material 22 of the heat insulating body 9, the right side heat insulating material 23, and the left side heat insulating material 24. ing.

図１、図２および図４を参照して、密封体１３の上部４８は、断熱体９を上方から覆うともに、上側空間５２を形成する部分として設けられている。 With reference to FIGS. 1, 2 and 4, the upper portion 48 of the sealing body 13 is provided as a portion that covers the heat insulating body 9 from above and forms the upper space 52.

密封体１３の上部４８は、本実施形態では、平板状の金属板である。上部４８は、上側断熱材２２、右側断熱材２３および左側断熱材２４と上下に向かい合うように配置されており、これら上側断熱材２２、右側断熱材２３および左側断熱材２４を上方から覆っている。上側断熱材２２、右側断熱材２３および左側断熱材２４と、上部４８とは、上下方向に所定の間隔を隔てて離隔している。上部４８の左右両端部は、密封体１３の右側部４９および左側部５０によって支持されている。 The upper portion 48 of the sealed body 13 is a flat metal plate in the present embodiment. The upper portion 48 is arranged so as to face the upper heat insulating material 22, the right side heat insulating material 23, and the left side heat insulating material 24 vertically, and covers the upper heat insulating material 22, the right side heat insulating material 23, and the left side heat insulating material 24 from above. .. The upper heat insulating material 22, the right side heat insulating material 23, the left side heat insulating material 24, and the upper portion 48 are separated from each other by a predetermined distance in the vertical direction. The left and right ends of the upper portion 48 are supported by the right side portion 49 and the left side portion 50 of the sealing body 13.

密封体１３の右側部４９は、右側断熱材２３、上側断熱材２２、左側断熱材２４、密封体１３の左側部５０、および、密封体１３の上部４８と協働して上側空間５２を形成するとともに、右側断熱材２３と協働して右側空間５３を形成するために設けられている。同様に、密封体１３の左側部５０は、左側断熱材２４、上側断熱材２２、右側断熱材２３、密封体１３の右側部４９、および、密封体１３の上部４８と協働して上側空間５２を形成するとともに、左側断熱材２４と協働して左側空間５４を形成するために設けられている。 The right side portion 49 of the sealing body 13 cooperates with the right side heat insulating material 23, the upper heat insulating material 22, the left side heat insulating material 24, the left side portion 50 of the sealing body 13, and the upper portion 48 of the sealing body 13 to form the upper space 52. At the same time, it is provided to form the right side space 53 in cooperation with the right side heat insulating material 23. Similarly, the left side portion 50 of the sealing body 13 cooperates with the left side heat insulating material 24, the upper heat insulating material 22, the right side heat insulating material 23, the right side portion 49 of the sealing body 13, and the upper portion 48 of the sealing body 13 to form an upper space. It is provided to form 52 and to form the left side space 54 in cooperation with the left side heat insulating material 24.

密封体１３の右側部４９は、上下に並ぶ複数の板部材としての第１〜第６右側板６１〜６６と、右側仕切梁６７と、を有している。また、密封体１３の左側部５０は、上下に並ぶ複数の板部材としての第１〜第６左側板７１〜７６と、左側仕切梁７７と、を有している。 The right side portion 49 of the sealed body 13 has first to sixth right side plates 61 to 66 and right side partition beams 67 as a plurality of plate members arranged one above the other. Further, the left side portion 50 of the sealed body 13 has first to sixth left side plates 71 to 76 and left side partition beams 77 as a plurality of plate members arranged vertically.

第１〜第６右側板６１〜６６、右側仕切梁６７、第１〜第６左側板７１〜７６、および、左側仕切梁７７は、それぞれ、金属板を用いて形成されている。 The first to sixth right side plates 61 to 66, the right side partition beam 67, the first to sixth left side plates 71 to 76, and the left side partition beam 77 are each formed by using a metal plate.

第１右側板６１および第１左側板７１は、それぞれ、上部４８の対応する右端部および左端部の下方に配置され、進行方向Ｘ１から見てＬ字状に形成されている。第１右側板６１および第１左側板７１は、上部４８に隣接し鉛直に延びる鉛直部６１ａ，７１ａと、水平に延びる下端部６１ｂ，７１ｂと、を有している。 The first right side plate 61 and the first left side plate 71 are arranged below the corresponding right end portion and left end portion of the upper portion 48, respectively, and are formed in an L shape when viewed from the traveling direction X1. The first right side plate 61 and the first left side plate 71 have vertical portions 61a and 71a adjacent to the upper portion 48 and extending vertically, and lower end portions 61b and 71b extending horizontally.

第１右側板６１の鉛直部６１ａは、Ｌ字状の金属製の連結部材８１およびガスケットなどのシール材８２を用いて、上部４８の右端部と気密的に接続されている。より具体的には、連結部材８１のうち上部４８と平行に並ぶ部分が、シール材８２を介して上部４８の右端部の下面に受けられており、連結部材８１と上部４８との間が気密的に接続されている。そして、上部４８の右端部の貫通孔と、連結部材８１のうち上部４８と平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材８３が、上部４８と連結部材８１とを互いに固定している。さらに、連結部材８１のうち第１右側板６１の鉛直部６１ａと平行に並ぶ部分は、第１右側板６１の外側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 The vertical portion 61a of the first right side plate 61 is airtightly connected to the right end portion of the upper portion 48 by using an L-shaped metal connecting member 81 and a sealing material 82 such as a gasket. More specifically, the portion of the connecting member 81 that is parallel to the upper portion 48 is received by the lower surface of the right end portion of the upper portion 48 via the sealing material 82, and the space between the connecting member 81 and the upper portion 48 is airtight. Is connected. Then, the screw member 83 penetrating the through hole at the right end of the upper portion 48 and the female screw portion formed in the portion of the connecting member 81 that is parallel to the upper portion 48 fixes the upper portion 48 and the connecting member 81 to each other. ing. Further, the portion of the connecting member 81 that is aligned in parallel with the vertical portion 61a of the first right side plate 61 is airtightly connected to the outer surface of the first right side plate 61 by welding or the like.

上記と同様に、第１左側板７１は、Ｌ字状の金属製の連結部材１０１およびガスケットなどのシール材１０２を用いて、上部４８の左端部と気密的に接続されている。より具体的には、連結部材１０１のうち上部４８と平行に並ぶ部分が、シール材１０２を介して上部４８の左端部の下面に受けられており、連結部材１０１と上部４８との間が気密的に接続されている。そして、上部４８の左端部の貫通孔と、連結部材１０１のうち上部４８と平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材１０３が、上部４８と連結部材１０１とを互いに固定している。さらに、連結部材１０１のうち第１左側板７１と平行に並ぶ部分は、第１左側板７１の外側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 Similar to the above, the first left side plate 71 is airtightly connected to the left end portion of the upper portion 48 by using an L-shaped metal connecting member 101 and a sealing material 102 such as a gasket. More specifically, the portion of the connecting member 101 that is parallel to the upper portion 48 is received by the lower surface of the left end portion of the upper portion 48 via the sealing material 102, and the space between the connecting member 101 and the upper portion 48 is airtight. Is connected. Then, the threaded member 103 penetrating the through hole at the left end of the upper portion 48 and the female threaded portion formed in the portion of the connecting member 101 arranged in parallel with the upper portion 48 fixes the upper portion 48 and the connecting member 101 to each other. ing. Further, the portion of the connecting member 101 that is lined up in parallel with the first left side plate 71 is airtightly connected to the outer surface of the first left side plate 71 by welding or the like.

第１右側板６１の鉛直部６１ａの下端部と右側断熱材２３ｃとの間には、右側仕切梁６７が配置されている。右側仕切梁６７は、進行方向Ｘ１に沿って延びる梁部材であり、本実施形態では、板部材に曲げ加工を施すことで、Ｕ字状に形成されている。右側仕切梁６７は、第１右側板６１の内側面に溶接などによって気密的に接続されており、この第１右側板６１に支持されている。また、右側仕切梁６７は、右側断熱材２３の外側面に接触しており、右側仕切梁６７と右側断熱材２３との間が塞がれている。 A right partition beam 67 is arranged between the lower end of the vertical portion 61a of the first right plate 61 and the right heat insulating material 23c. The right partition beam 67 is a beam member extending along the traveling direction X1, and in the present embodiment, the plate member is bent to form a U shape. The right partition beam 67 is airtightly connected to the inner surface of the first right plate 61 by welding or the like, and is supported by the first right plate 61. Further, the right partition beam 67 is in contact with the outer surface of the right heat insulating material 23, and the space between the right partition beam 67 and the right heat insulating material 23 is closed.

上記と同様の構成により、第１左側板７１の鉛直部７１ａの下端部と左側断熱材２４との間には、左側仕切梁７７が配置されている。左側仕切梁７７は、進行方向Ｘ１に沿って延びる梁部材であり、本実施形態では、板部材に曲げ加工を施すことで、Ｕ字状に形成されている。左側仕切梁７７は、第１左側板７１の内側面に溶接などによって気密的に接続されており、この第１左側板７１に支持されている。また、左側仕切梁７７は、左側断熱材２４の外側面に接触しており、左側仕切梁７７と左側断熱材２４ｃとの間が塞がれている。 With the same configuration as above, the left partition beam 77 is arranged between the lower end of the vertical portion 71a of the first left plate 71 and the left heat insulating material 24. The left partition beam 77 is a beam member extending along the traveling direction X1, and in the present embodiment, the plate member is bent to form a U shape. The left partition beam 77 is airtightly connected to the inner surface of the first left plate 71 by welding or the like, and is supported by the first left plate 71. Further, the left partition beam 77 is in contact with the outer surface of the left heat insulating material 24, and the space between the left partition beam 77 and the left heat insulating material 24c is closed.

上記の構成により、処理室ユニット３の上部に上側空間５２が形成されている。上側空間５２は、上部４８、第１右側板６１、右側仕切壁６７、右側断熱材２３、上側断熱材２２、左側断熱材２４、左側仕切壁７７、および、第１左側板７１によって形成されている。 With the above configuration, the upper space 52 is formed in the upper part of the processing chamber unit 3. The upper space 52 is formed by an upper 48, a first right side plate 61, a right partition wall 67, a right heat insulating material 23, an upper heat insulating material 22, a left heat insulating material 24, a left partition wall 77, and a first left plate 71. There is.

上側空間５２は、断熱体９の上側断熱材２２、右側断熱材２３、および、左側断熱材２４と、密封体１３との間にパージガスの層を形成するために設けられている。上側空間５２は、パージガスを断熱体９の上方側から断熱体９を通して熱処理空間１０へ供給するために設けられている。また、上側空間５２は、熱処理空間１０から断熱体９を通して断熱体９の上方に到達した熱が密封体１３の外部に向かうことを抑制するために設けられている。進行方向Ｘ１から見て、上側空間５２は、本実施形態では、上下逆向きのＵ字状の空間である。 The upper space 52 is provided to form a layer of purge gas between the upper heat insulating material 22, the right side heat insulating material 23, the left side heat insulating material 24, and the sealing body 13 of the heat insulating body 9. The upper space 52 is provided to supply the purge gas from the upper side of the heat insulating body 9 to the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9. Further, the upper space 52 is provided to prevent heat that has reached above the heat insulating body 9 from the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9 from going to the outside of the sealed body 13. When viewed from the traveling direction X1, the upper space 52 is a U-shaped space that is upside down in the present embodiment.

このような構成により、上側空間５２は、上部４８と断熱材２２〜２４との間、第１右側板６１と右側断熱材２３との間、および、第１左側板７１と左側断熱材２４との間に位置している。上側空間５２内のガスは、断熱体９および熱処理空間１０を通して、入口側排気管７および出口側排気管８の何れかから、密封体１３の外部に排出される。上側空間５２は、パージガス供給部１５の左右一対の上側供給部５６からのパージガスによって、パージ（ガス置換）が行われる。 With such a configuration, the upper space 52 is formed between the upper portion 48 and the heat insulating materials 22 to 24, between the first right side plate 61 and the right side heat insulating material 23, and between the first left side plate 71 and the left side heat insulating material 24. It is located between. The gas in the upper space 52 is discharged to the outside of the sealed body 13 from either the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8 through the heat insulating body 9 and the heat treatment space 10. The upper space 52 is purged (gas replacement) by the purge gas from the pair of left and right upper supply units 56 of the purge gas supply unit 15.

各上側供給部５６は、上側空間５２に接続されたガス供給管として設けられている。各上側供給部５６は、上部４８の右端部および左端部に配置されている。このように、上側空間５２において、左右に離隔した箇所に複数の上側供給部５６が設けられていることにより、上側空間５２内において、より均等にパージガスが供給される。各上側供給部５６は、密封体１３の上部４８を貫通するように配置されている。各上側供給部５６と上部４８との間の部分は、溶接などによって互いに気密的に接続されている。各上側供給部５６は、タンクなどのパージガス供給源（図示せず）に接続されており、パージガスを、上側空間５２に供給する。 Each upper supply unit 56 is provided as a gas supply pipe connected to the upper space 52. Each upper supply portion 56 is arranged at the right end portion and the left end portion of the upper portion 48. As described above, in the upper space 52, the purge gas is more evenly supplied in the upper space 52 by providing the plurality of upper supply portions 56 at the positions separated from each other to the left and right. Each upper supply portion 56 is arranged so as to penetrate the upper portion 48 of the sealed body 13. The portions between the upper supply portion 56 and the upper portion 48 are airtightly connected to each other by welding or the like. Each upper supply unit 56 is connected to a purge gas supply source (not shown) such as a tank, and supplies the purge gas to the upper space 52.

上記の構成を有する上側空間５２の右下側に、第１右側板６１の下端部６１ｂが配置されている。第１右側板６１の下端部６１ｂは、前述したように、水平に延びており、第１右側板６１の鉛直部６１ａの下端において、断熱体９から遠ざかる方向（右側）に延びている。第１右側板６１の下端部６１ｂには、前述したように、上側ヒータ２６のガイド部材３４が接続されている。このガイド部材３４は、第１右側板６１の下端部６１ｂを上下に貫通している。第１右側板６１の下端部６１ｂは、Ｌ字状の金属製の連結部材８４およびガスケットなどのシール材８５を介して第２右側板６２に接続されている。 The lower end portion 61b of the first right side plate 61 is arranged on the lower right side of the upper space 52 having the above configuration. As described above, the lower end portion 61b of the first right side plate 61 extends horizontally, and extends in the direction away from the heat insulating body 9 (right side) at the lower end of the vertical portion 61a of the first right side plate 61. As described above, the guide member 34 of the upper heater 26 is connected to the lower end portion 61b of the first right side plate 61. The guide member 34 penetrates the lower end portion 61b of the first right side plate 61 up and down. The lower end portion 61b of the first right side plate 61 is connected to the second right side plate 62 via an L-shaped metal connecting member 84 and a sealing material 85 such as a gasket.

図２および図５を参照して、より具体的には、連結部材８４のうち第２右側板６２と平行に並ぶ部分が、シール材８５を介して第２右側板６２の内側面に受けられており、連結部材８４と第２右側板６２との間が気密的に接続されている。そして、第２右側板６２の上端部の貫通孔と、連結部材８４のうち第２右側板６２と平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材８６が、第２右側板６２と連結部材８４とを互いに固定している。さらに、連結部材８４のうち第１右側板６１の下端部６１ｂと平行に並ぶ部分は、第１右側板６１の下側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 With reference to FIGS. 2 and 5, more specifically, a portion of the connecting member 84 arranged parallel to the second right side plate 62 is received by the inner side surface of the second right side plate 62 via the sealing material 85. The connecting member 84 and the second right side plate 62 are airtightly connected to each other. Then, the screw member 86 that penetrates the through hole at the upper end of the second right side plate 62 and the female screw portion formed in the portion of the connecting member 84 that is parallel to the second right side plate 62 is formed by the second right side plate 62. And the connecting member 84 are fixed to each other. Further, the portion of the connecting member 84 that is aligned in parallel with the lower end portion 61b of the first right side plate 61 is airtightly connected to the lower side surface of the first right side plate 61 by welding or the like.

第２右側板６２は、鉛直に延びる部材であり、右側断熱材２３と左右に向かい合って配置されている。また、第２右側板６２は、第１右側板６１の位置および第３右側板６３の位置から右側（断熱体９から遠い側の位置）に配置されている。そして、第２右側板６２と右側断熱材２３との間に、上側ヒータ２６の一部（ガイド部材３４の一部および上側ヒータ２６の端子部４１ａ）を収容するための空間（右側空間５３の一部）が形成されている。また、第２右側板６２は、上側ヒータ２６の端子部４１ａと左右に向かい合うように配置されている。第２右側板６２の下端部は、Ｌ字状の金属製の連結部材８７およびガスケットなどのシール材８８を介して第３右側板６３に接続されている。 The second right side plate 62 is a member extending vertically, and is arranged so as to face the right side heat insulating material 23 on the left and right sides. The second right side plate 62 is arranged on the right side (the position far from the heat insulating body 9) from the position of the first right side plate 61 and the position of the third right side plate 63. Then, between the second right side plate 62 and the right side heat insulating material 23, a space (a part of the guide member 34 and a terminal portion 41a of the upper heater 26) for accommodating a part of the upper heater 26 (right side space 53). Part) is formed. The second right side plate 62 is arranged so as to face the terminal portion 41a of the upper heater 26 to the left and right. The lower end of the second right side plate 62 is connected to the third right side plate 63 via an L-shaped metal connecting member 87 and a sealing material 88 such as a gasket.

より具体的には、連結部材８７のうち第２右側板６２と平行に並ぶ部分が、シール材８８を介して第２右側板６２の内側面に受けられており、連結部材８７と第２右側板６２との間が気密的に接続されている。そして、第２右側板６２の下端部の貫通孔と、連結部材８７のうち第２右側板６２と平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材８９が、第２右側板６２と連結部材８７とを互いに固定している。さらに、連結部材８７のうち第３右側板６３の上端部６３ａと平行に並ぶ部分は、第３右側板６３の上側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 More specifically, the portion of the connecting member 87 that is parallel to the second right side plate 62 is received by the inner side surface of the second right side plate 62 via the sealing material 88, and the connecting member 87 and the second right side are received. It is airtightly connected to the plate 62. Then, the screw member 89 that penetrates the through hole at the lower end of the second right side plate 62 and the female screw portion formed in the portion of the connecting member 87 that is parallel to the second right side plate 62 is the second right side plate 62. And the connecting member 87 are fixed to each other. Further, the portion of the connecting member 87 that is lined up in parallel with the upper end portion 63a of the third right side plate 63 is airtightly connected to the upper side surface of the third right side plate 63 by welding or the like.

図２、図５および図６を参照して、第３右側板６３は、進行方向Ｘ１から見てＵ字状に形成された部分であり、右側断熱材２３および熱処理空間１０内の被処理物１００と左右に向かい合うように配置されている。第３右側板６３は、上端部６３ａと、鉛直部６３ｂと、下端部６３ｃと、を有している。第３右側板６３の上端部６３ａは、水平に延びており、第１右側板６１の下端部６１ｂと上下に向かい合っている。第３右側板６３のうち、左右方向における熱処理空間１０側の端部に、第３右側板６３の鉛直部６３ｂが配置されている。 With reference to FIGS. 2, 5 and 6, the third right plate 63 is a portion formed in a U shape when viewed from the traveling direction X1, and is a portion to be processed in the right heat insulating material 23 and the heat treatment space 10. It is arranged so as to face 100 on the left and right. The third right side plate 63 has an upper end portion 63a, a vertical portion 63b, and a lower end portion 63c. The upper end portion 63a of the third right side plate 63 extends horizontally and faces the lower end portion 61b of the first right side plate 61 in the vertical direction. The vertical portion 63b of the third right plate 63 is arranged at the end of the third right plate 63 on the heat treatment space 10 side in the left-right direction.

第３右側板６３の鉛直部６３ｂは、第１右側板６１の鉛直部６１ａと上下に並んで配置されている。そして、第３右側板６３の下端部６３ｃは、第３右側板６３の鉛直部６３ｂの下端において、断熱体９から遠ざかる方向に向けて水平に延びている。第３右側板６３の下端部６３ｃは、Ｌ字状の金属製の連結部材９０およびガスケットなどのシール材９１を介して第４右側板６４に接続されている。 The vertical portion 63b of the third right side plate 63 is arranged vertically side by side with the vertical portion 61a of the first right side plate 61. The lower end portion 63c of the third right side plate 63 extends horizontally at the lower end of the vertical portion 63b of the third right side plate 63 in a direction away from the heat insulating body 9. The lower end 63c of the third right plate 63 is connected to the fourth right plate 64 via an L-shaped metal connecting member 90 and a sealing material 91 such as a gasket.

より具体的には、連結部材９０のうち第４右側板６４と平行に並ぶ部分が、シール材９１を介して第４右側板６４の内側面に受けられており、連結部材９０と第４右側板６４との間が気密的に接続されている。そして、第４右側板６４の上端部の貫通孔と、連結部材９０のうち第４右側板６４と平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材９２が、第４右側板６４と連結部材９０とを互いに固定している。さらに、連結部材９０のうち第３右側板６３の下端部６３ｃと平行に並ぶ部分は、第３右側板６３の下側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 More specifically, the portion of the connecting member 90 that is parallel to the fourth right side plate 64 is received by the inner side surface of the fourth right side plate 64 via the sealing material 91, and the connecting member 90 and the fourth right side are received. It is airtightly connected to the plate 64. Then, the screw member 92 that penetrates the through hole at the upper end of the fourth right side plate 64 and the female screw portion formed in the portion of the connecting member 90 that is parallel to the fourth right side plate 64 is the fourth right side plate 64. And the connecting member 90 are fixed to each other. Further, the portion of the connecting member 90 that is aligned in parallel with the lower end portion 63c of the third right side plate 63 is airtightly connected to the lower side surface of the third right side plate 63 by welding or the like.

図２および図７を参照して、第４右側板６４は、鉛直に延びる部材であり、右側断熱材２３と左右に向かい合って配置されている。また、第４右側板６４は、第１右側板６１の位置および第３右側板６３の位置から右側（断熱体９から遠い側の位置）に配置されており、第２右側板６２と上下に並んでいる。これにより、右側断熱材２３と第４右側板６４との間に、下側ヒータ２７の一部（ガイド部材４４の一部および端子部４１ａの一部）を収容するための空間が形成されている。第４右側板６４の下端部は、Ｌ字状の金属製の連結部材９３およびガスケットなどのシール材９４を介して第５右側板６５に接続されている。 With reference to FIGS. 2 and 7, the fourth right side plate 64 is a vertically extending member and is arranged so as to face the right side heat insulating material 23 on the left and right sides. Further, the fourth right side plate 64 is arranged on the right side (position far from the heat insulating body 9) from the position of the first right side plate 61 and the position of the third right side plate 63, and is vertically above and below the second right side plate 62. Lined up. As a result, a space for accommodating a part of the lower heater 27 (a part of the guide member 44 and a part of the terminal portion 41a) is formed between the right side heat insulating material 23 and the fourth right side plate 64. There is. The lower end of the fourth right plate 64 is connected to the fifth right plate 65 via an L-shaped metal connecting member 93 and a sealing material 94 such as a gasket.

より具体的には、連結部材９３のうち第４右側板６４と平行に並ぶ部分が、シール材９４を介して第４右側板６４の内側面に受けられており、連結部材９３と第４右側板６４との間が気密的に接続されている。そして、第４右側板６４の下端部の貫通孔と、連結部材９３のうち第４右側板６４と平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材９５が、第４右側板６４と連結部材９３とを互いに固定している。さらに、連結部材９３のうち第５右側板６５の上端部６５ａと平行に並ぶ部分は、この上端部６５ａの上側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 More specifically, the portion of the connecting member 93 that is parallel to the fourth right side plate 64 is received by the inner side surface of the fourth right side plate 64 via the sealing material 94, and the connecting member 93 and the fourth right side are received. It is airtightly connected to the plate 64. Then, the screw member 95 that penetrates the through hole at the lower end of the fourth right side plate 64 and the female screw portion formed in the portion of the connecting member 93 that is parallel to the fourth right side plate 64 is the fourth right side plate 64. And the connecting member 93 are fixed to each other. Further, a portion of the connecting member 93 that is aligned in parallel with the upper end portion 65a of the fifth right side plate 65 is airtightly connected to the upper side surface of the upper end portion 65a by welding or the like.

第５右側板６５は、進行方向Ｘ１から見てＬ字状に形成された部材であり、第３右側板６３の下方に配置されている。また、第５右側板６５は、右側断熱材２３と左右に並ぶように配置されている。第５右側板６５は、上端部６５ａと、鉛直部６５ｂとを有している。第５右側板６５の上端部６５ａは、水平に延びている。第５右側板６５の上端部６５ａには、前述したように、下側ヒータ２７のガイド部材４４が接続されている。このガイド部材４４は、第５右側板６５の上端部６５ａを上下に貫通している。第５右側板６５の鉛直部６５ｂは、鉛直に延びており、Ｌ字状の金属製の連結部材９６およびガスケットなどのシール材９７を介して第６右側板６６に接続されている。 The fifth right side plate 65 is a member formed in an L shape when viewed from the traveling direction X1, and is arranged below the third right side plate 63. Further, the fifth right side plate 65 is arranged so as to be arranged side by side with the right side heat insulating material 23. The fifth right side plate 65 has an upper end portion 65a and a vertical portion 65b. The upper end portion 65a of the fifth right side plate 65 extends horizontally. As described above, the guide member 44 of the lower heater 27 is connected to the upper end portion 65a of the fifth right side plate 65. The guide member 44 vertically penetrates the upper end portion 65a of the fifth right side plate 65. The vertical portion 65b of the fifth right plate 65 extends vertically and is connected to the sixth right plate 66 via an L-shaped metal connecting member 96 and a sealing material 97 such as a gasket.

より具体的には、連結部材９６のうち第６右側板６６の上端部６６ａと平行に並ぶ部分が、シール材９７を介してこの上端部６６ａの上側面に受けられており、連結部材９６と第６右側板６６とが気密的に接続されている。そして、第６右側板６６の上端部６６ａの貫通孔と、連結部材９６のうち第６右側板６６の上端部６６ａと平行に並ぶ部分に形成された雌ねじ部とを貫通するねじ部材９８が、第６右側板６６と連結部材９６とを互いに固定している。さらに、連結部材９６のうち第５右側板６５の鉛直部６５ｂと平行に並ぶ部分は、第５右側板６５の鉛直部６５ｂの外側面に溶接などを用いて気密的に接続されている。 More specifically, the portion of the connecting member 96 that is aligned parallel to the upper end portion 66a of the sixth right side plate 66 is received by the upper side surface of the upper end portion 66a via the sealing material 97, and is received by the connecting member 96. The sixth right side plate 66 is airtightly connected. Then, the screw member 98 that penetrates the through hole of the upper end portion 66a of the sixth right side plate 66 and the female screw portion formed in the portion of the connecting member 96 that is parallel to the upper end portion 66a of the sixth right side plate 66. The sixth right side plate 66 and the connecting member 96 are fixed to each other. Further, the portion of the connecting member 96 that is aligned in parallel with the vertical portion 65b of the fifth right side plate 65 is airtightly connected to the outer surface of the vertical portion 65b of the fifth right side plate 65 by welding or the like.

図２、図３、および、図７を参照して、第６右側板６６は、進行方向Ｘ１から見てＵ字状に形成された部分であり、右側断熱材２３の下部と左右に向かい合うように配置されている。第６右側板６６は、上端部６６ａと、鉛直部６６ｂと、下端部６６ｃと、を有している。第６右側板６６の上端部６６ａは、水平に延びており、前述したように、連結部材９６に接続されている。第６右側板６６の鉛直部６６ｂは、右側断熱材２３の外側面に接触している。第６右側板６６の下端部６６ｃは、第６右側板６６の鉛直部６６ｂの下端部において、断熱体９から遠ざかるように水平に延びている。この第６右側板６６の下端部６６ｃは、密封体１３の下部４７における第１板部４７ａの上部４７ｄに溶接などを用いて気密的に接続されている。 With reference to FIGS. 2, 3, and 7, the sixth right plate 66 is a portion formed in a U shape when viewed from the traveling direction X1 so as to face the lower portion of the right heat insulating material 23 to the left and right. Is located in. The sixth right side plate 66 has an upper end portion 66a, a vertical portion 66b, and a lower end portion 66c. The upper end portion 66a of the sixth right side plate 66 extends horizontally and is connected to the connecting member 96 as described above. The vertical portion 66b of the sixth right side plate 66 is in contact with the outer surface of the right side heat insulating material 23. The lower end portion 66c of the sixth right side plate 66 extends horizontally at the lower end portion of the vertical portion 66b of the sixth right side plate 66 so as to be away from the heat insulating body 9. The lower end portion 66c of the sixth right side plate 66 is airtightly connected to the upper portion 47d of the first plate portion 47a in the lower portion 47 of the sealed body 13 by welding or the like.

上記の構成により、密封体１３の右側部４９および右側断熱材２３を用いて右側空間５３が形成されている。より具体的には、右側部４９の右側仕切梁６７と、第１〜６右側板６１〜６６と、右側断熱材２３とによって囲まれた空間が、右側空間５３として規定されている。 With the above configuration, the right side space 53 is formed by using the right side portion 49 and the right side heat insulating material 23 of the sealed body 13. More specifically, the space surrounded by the right partition beam 67 of the right side portion 49, the first to sixth right plates 61 to 66, and the right heat insulating material 23 is defined as the right space 53.

図２、および、図４〜図７を参照して、右側空間５３は、パージガスの層を形成するために設けられている。右側空間５３は、パージガスを断熱体９の右方側から断熱体９を通して熱処理空間１０へ供給するために設けられている。また、右側空間５３は、熱処理空間１０から断熱体９を通して断熱体９の右方に到達した熱が密封体１３の外部に向かうことを抑制するために設けられている。本実施形態では、右側空間５３は、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の配置されている領域が右側に突出し、且つ、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７間の空間が上記の領域と比べて左右方向に薄くされた空間である。また、右側空間５３は、当該右側空間５３に収容された上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ａ，４１ａ、電線３２，４２、および、ガイド部材３４，４４を冷却するための空間として設けられている。右側空間５３内のガスは、断熱体９および熱処理空間１０を通して、入口側排気管７および出口側排気管８の何れかから、密封体１３の外部に排出される。 With reference to FIGS. 2 and 4-7, the right space 53 is provided to form a layer of purge gas. The right space 53 is provided to supply the purge gas from the right side of the heat insulating body 9 to the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9. Further, the right side space 53 is provided to prevent heat that has reached the right side of the heat insulating body 9 from the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9 from going to the outside of the sealed body 13. In the present embodiment, in the right space 53, the area where the upper heater 26 and the lower heater 27 are arranged protrudes to the right, and the space between the upper heater 26 and the lower heater 27 is left and right as compared with the above area. It is a space thinned in the direction. Further, the right side space 53 is provided as a space for cooling the terminal portions 31a and 41a of the upper heater 26 and the lower heater 27, the electric wires 32 and 42, and the guide members 34 and 44 housed in the right side space 53. Has been done. The gas in the right side space 53 is discharged to the outside of the sealed body 13 from either the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8 through the heat insulating body 9 and the heat treatment space 10.

右側空間５３は、パージガス供給部１５の上下一対の右側供給部５７からのパージガスによって、パージ（ガス置換）が行われる。 The right space 53 is purged (gas replacement) by the purge gas from the pair of upper and lower right supply units 57 of the purge gas supply unit 15.

各右側供給部５７は、右側空間５３に接続されたガス供給管として設けられている。各右側供給部５７は、第３右側板６３の対応する上端部６３ａおよび下端部６３ｃにそれぞれ配置されている。このように、右側空間５３において、細長い領域を挟んで上下に離隔した幅広領域のそれぞれに右側供給部５７が設けられていることにより、右側空間５３内において、より均等にパージガスが供給される。各右側供給部５７は、第３右側板６３の対応する上端部６３ａおよび下端部６３ｃを貫通するように配置されている。各右側供給部５７のうち第３右側板６３を貫通する部分の外周面と第３右側板６３との間は、溶接などによって互いに気密的に接続されている。各右側供給部５７は、タンクなどのパージガス供給源（図示せず）に接続されており、パージガスを、右側空間５３に供給する。右側空間５３に供給されたパージガスは、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ａ，４１ａ、電線３２，４２、および、ガイド部材３４，４４に当てられ、これらの部材を冷却する。そして、右側空間５３に供給されたパージガスは、断熱体９および熱処理空間１０を通して、入口側排気管７または出口側排気管８から密封体１３の外部に排出される。 Each right side supply unit 57 is provided as a gas supply pipe connected to the right side space 53. Each right side supply portion 57 is arranged at the corresponding upper end portion 63a and lower end portion 63c of the third right side plate 63, respectively. As described above, in the right space 53, the purge gas is more evenly supplied in the right space 53 by providing the right supply portions 57 in each of the wide regions separated vertically with the elongated region in between. Each right side supply portion 57 is arranged so as to penetrate the corresponding upper end portion 63a and lower end portion 63c of the third right side plate 63. The outer peripheral surface of each right side supply portion 57 that penetrates the third right side plate 63 and the third right side plate 63 are airtightly connected to each other by welding or the like. Each right side supply unit 57 is connected to a purge gas supply source (not shown) such as a tank, and supplies the purge gas to the right side space 53. The purge gas supplied to the right space 53 is applied to the terminal portions 31a and 41a of the upper heater 26 and the lower heater 27, the electric wires 32 and 42, and the guide members 34 and 44 to cool these members. Then, the purge gas supplied to the right side space 53 is discharged to the outside of the sealed body 13 from the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8 through the heat insulating body 9 and the heat treatment space 10.

本実施形態では、上記の構成を有する密封体１３の右側部４９、パージガス層形成空間１４の右側空間５３、および、パージガス供給部１５の右側供給部５７と左右対称な構成として、密封体１３の左側部５０、パージガス層形成空間１４の左側空間５４、および、パージガス供給部１５の左側供給部５８が設けられている。以下では、左側部５０、左側空間５４、および、左側供給部５８について、右側部４９、右側空間５３、および、右側供給部５７と左右対称な構成については、説明を省略する場合がある。 In the present embodiment, the sealed body 13 has a configuration symmetrical with the right side portion 49 of the sealed body 13 having the above configuration, the right side space 53 of the purge gas layer forming space 14, and the right side supply portion 57 of the purge gas supply unit 15. The left side portion 50, the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14, and the left side supply portion 58 of the purge gas supply portion 15 are provided. In the following, the left side portion 50, the left side space 54, and the left side supply unit 58 may be omitted from the description about the configuration symmetrical with the right side portion 49, the right side space 53, and the right side supply unit 57.

前述したように、密封体１３の左側部５０は、複数の板部材としての第１〜第６左側板７１〜７６と、左側仕切梁７７と、を有している。 As described above, the left side portion 50 of the sealed body 13 has the first to sixth left side plates 71 to 76 and the left side partition beam 77 as a plurality of plate members.

そして、上側空間５２の左下側に、第１左側板７１の下端部７１ｂが配置されている。第１左側板７１の下端部７１ｂには、前述したように、上側ヒータ２６のガイド部材３５が接続されている。このガイド部材３５は、第１左側板７１の下端部７１ｂを上下に貫通している。第１左側板７１の下端部７１ｂは、Ｌ字状の金属製の連結部材１０４およびガスケットなどのシール材１０５を介して第２左側板７２に接続されている。連結部材１０４には、固定用のねじ部材１０６が取り付けられている。 The lower end portion 71b of the first left side plate 71 is arranged on the lower left side of the upper space 52. As described above, the guide member 35 of the upper heater 26 is connected to the lower end 71b of the first left plate 71. The guide member 35 penetrates the lower end portion 71b of the first left plate 71 up and down. The lower end portion 71b of the first left side plate 71 is connected to the second left side plate 72 via an L-shaped metal connecting member 104 and a sealing material 105 such as a gasket. A screw member 106 for fixing is attached to the connecting member 104.

第１左側板７１と第２左側板７２とを接続する構成は、第１右側板６１と第２右側板６２とを接続する構成と左右対称な構成であるので、詳細な説明を省略する。 Since the configuration for connecting the first left side plate 71 and the second left side plate 72 is symmetrical with the configuration for connecting the first right side plate 61 and the second right side plate 62, detailed description thereof will be omitted.

第２左側板７２は、鉛直に延びる部材であり、左側断熱材２４と左右に向かい合って配置されている。また、第２左側板７２は、第１左側板７１の位置および第３左側板７３の位置から右側（断熱体９から遠い側の位置）に配置されている。これにより、第２左側板７２と左側断熱材２４との間に、上側ヒータ２６の一部（ガイド部材３５の一部および端子部３１ｂ）を収容するための空間が形成されている。また、第２左側板７２は、上側ヒータ２６の端子部３１ｂと左右に向かい合うように配置されている。第２左側板７２の下端部は、Ｌ字状の金属製の連結部材１０７およびガスケットなどのシール材１０８を介して第３右側板６３に接続されている。連結部材１０７には、固定用のねじ部材１０９が取り付けられている。 The second left side plate 72 is a member extending vertically, and is arranged so as to face the left side heat insulating material 24 on the left and right sides. The second left side plate 72 is arranged on the right side (the position far from the heat insulating body 9) from the position of the first left side plate 71 and the position of the third left side plate 73. As a result, a space for accommodating a part of the upper heater 26 (a part of the guide member 35 and the terminal portion 31b) is formed between the second left side plate 72 and the left side heat insulating material 24. The second left side plate 72 is arranged so as to face the terminal portion 31b of the upper heater 26 to the left and right. The lower end of the second left side plate 72 is connected to the third right side plate 63 via an L-shaped metal connecting member 107 and a sealing material 108 such as a gasket. A screw member 109 for fixing is attached to the connecting member 107.

第２左側板７２と第３左側板７３とを接続する構成は、第２右側板６２と第３右側板６３とを接続する構成と左右対称な構成であるので、詳細な説明を省略する。 Since the configuration for connecting the second left side plate 72 and the third left side plate 73 is symmetrical with the configuration for connecting the second right side plate 62 and the third right side plate 63, detailed description thereof will be omitted.

第３左側板７３は、進行方向Ｘ１から見てＵ字状に形成された部分であり、左側断熱材２４および熱処理空間１０内の被処理物１００と左右に向かい合うように配置されている。第３左側板７３は、上端部７３ａと、鉛直部７３ｂと、下端部７３ｃと、を有している。第３左側板７３の上端部７３ａは、水平に延びており、第１左側板７１の下端部７１ｂと上下に向かい合っている。第３左側板７３のうち、熱処理空間１０側の端部に、第３左側板７３の鉛直部７３ｂが配置されている。 The third left plate 73 is a portion formed in a U shape when viewed from the traveling direction X1, and is arranged so as to face the left heat insulating material 24 and the object 100 in the heat treatment space 10 to the left and right. The third left plate 73 has an upper end portion 73a, a vertical portion 73b, and a lower end portion 73c. The upper end portion 73a of the third left plate 73 extends horizontally and faces the lower end portion 71b of the first left plate 71 vertically. The vertical portion 73b of the third left plate 73 is arranged at the end of the third left plate 73 on the heat treatment space 10 side.

第３左側板７３の下端部７３ｃは、Ｌ字状の金属製の連結部材１１０およびガスケットなどのシール材１１１を介して第４左側板７４に接続されている。連結部材１１０には、固定用のねじ部材１１２が取り付けられている。 The lower end 73c of the third left plate 73 is connected to the fourth left plate 74 via an L-shaped metal connecting member 110 and a sealing material 111 such as a gasket. A screw member 112 for fixing is attached to the connecting member 110.

第３左側板７３と第４左側板７４とを接続する構成は、第３右側板６３と第４右側板６４とを接続する構成と左右対称な構成であるので、詳細な説明を省略する。 Since the configuration for connecting the third left plate 73 and the fourth left plate 74 is symmetrical with the configuration for connecting the third right plate 63 and the fourth right plate 64, detailed description thereof will be omitted.

第４左側板７４は、鉛直に延びる部材であり、左側断熱材２４と左右に向かい合って配置されている。また、第４左側板７４は、第１左側板７１の位置および第３左側板７３の位置から左側（断熱体９から遠い側の位置）に配置されており、第２左側板７２と上下に並んでいる。これにより、第３左側板７３と第５左側板７５との間に、下側ヒータ２７の一部（ガイド部材４５の一部および下側ヒータ２７の端子部４１ｂ）を収容するための空間が形成されている。また、第４左側板７４は、下側ヒータ２７の端子部４１ｂと左右に向かい合うように配置されている。第４左側板７４の下端部は、Ｌ字状の金属製の連結部材１１３およびガスケットなどのシール材１１４を介して第５左側板７５に接続されている。連結部材１１３には、固定用のねじ部材１１５が取り付けられている。 The fourth left side plate 74 is a member extending vertically, and is arranged so as to face the left side heat insulating material 24 on the left and right sides. Further, the fourth left side plate 74 is arranged on the left side (position far from the heat insulating body 9) from the position of the first left side plate 71 and the position of the third left side plate 73, and is vertically above and below the second left side plate 72. Lined up. As a result, a space for accommodating a part of the lower heater 27 (a part of the guide member 45 and the terminal portion 41b of the lower heater 27) is provided between the third left side plate 73 and the fifth left side plate 75. It is formed. Further, the fourth left plate 74 is arranged so as to face the terminal portion 41b of the lower heater 27 to the left and right. The lower end of the fourth left plate 74 is connected to the fifth left plate 75 via an L-shaped metal connecting member 113 and a sealing material 114 such as a gasket. A screw member 115 for fixing is attached to the connecting member 113.

第４左側板７４と第５左側板７５とを接続する構成は、第４右側板６４と第５右側板６５とを接続する構成と左右対称な構成であるので、詳細な説明を省略する。 Since the configuration for connecting the fourth left side plate 74 and the fifth left side plate 75 is symmetrical with the configuration for connecting the fourth right side plate 64 and the fifth right side plate 65, detailed description thereof will be omitted.

第５左側板７５は、進行方向Ｘ１から見てＬ字状に形成された部材であり、第３左側板７３の下方に配置されている。また、第５左側板７５は、左側断熱材２４と左右に並ぶように配置されている。第５左側板７５は、上端部７５ａと、鉛直部７５ｂとを有している。第５左側板７５の上端部７５ａには、前述したように、下側ヒータ２７のガイド部材４５が接続されている。このガイド部材４５は、第５左側板７５の上端部７５ａを上下に貫通している。第５左側板７５の鉛直部７５ｂは、鉛直に延びており、Ｌ字状の金属製の連結部材１１６およびガスケットなどのシール材１１７を介して第６左側板７６に接続されている。連結部材１１６には、固定用のねじ部材１１８が取り付けられている。 The fifth left side plate 75 is a member formed in an L shape when viewed from the traveling direction X1, and is arranged below the third left side plate 73. Further, the fifth left side plate 75 is arranged so as to be arranged side by side with the left side heat insulating material 24. The fifth left plate 75 has an upper end portion 75a and a vertical portion 75b. As described above, the guide member 45 of the lower heater 27 is connected to the upper end portion 75a of the fifth left plate 75. The guide member 45 vertically penetrates the upper end portion 75a of the fifth left side plate 75. The vertical portion 75b of the fifth left plate 75 extends vertically and is connected to the sixth left plate 76 via an L-shaped metal connecting member 116 and a sealing material 117 such as a gasket. A screw member 118 for fixing is attached to the connecting member 116.

第５左側板７５と第６左側板７６とを接続する構成は、第５右側板６５と第６右側板６６とを接続する構成と左右対称な構成であるので、詳細な説明を省略する。 Since the configuration for connecting the fifth left side plate 75 and the sixth left side plate 76 is symmetrical with the configuration for connecting the fifth right side plate 65 and the sixth right side plate 66, detailed description thereof will be omitted.

図２、図３、および、図７を参照して、第６左側板７６は、進行方向Ｘ１から見てＵ字状に形成された部分であり、左側断熱材２４の下部と左右に向かい合うように配置されている。第６左側板７６は、上端部７６ａと、鉛直部７６ｂと、下端部７６ｃと、を有している。第６左側板７６の上端部７６ａは、水平に延びており、前述したように、連結部材１１６に接続されている。第６左側板７６の鉛直部７６ｂは、左側断熱材２４の外側面に接触している。第６左側板７６の下端部７６ｃは、密封体１３の下部４７の第１板部４７ａの上部４７ｄに溶接などを用いて気密的に接続されている。 With reference to FIGS. 2, 3, and 7, the sixth left plate 76 is a portion formed in a U shape when viewed from the traveling direction X1 so as to face the lower portion of the left heat insulating material 24 to the left and right. Is located in. The sixth left side plate 76 has an upper end portion 76a, a vertical portion 76b, and a lower end portion 76c. The upper end portion 76a of the sixth left plate 76 extends horizontally and is connected to the connecting member 116 as described above. The vertical portion 76b of the sixth left plate 76 is in contact with the outer surface of the left heat insulating material 24. The lower end portion 76c of the sixth left side plate 76 is airtightly connected to the upper portion 47d of the first plate portion 47a of the lower portion 47 of the sealed body 13 by welding or the like.

上記の構成により、密封体１３の左側部５０および左側断熱材２４を用いて左側空間５４が形成されている。より具体的には、左側部５０の左側仕切梁７７と、第１〜６左側板７１〜７６と、左側断熱材２４とによって囲まれた空間が、左側空間５４として規定されている。 With the above configuration, the left side space 54 is formed by using the left side portion 50 of the sealed body 13 and the left side heat insulating material 24. More specifically, the space surrounded by the left partition beam 77 of the left side portion 50, the first to sixth left side plates 71 to 76, and the left side heat insulating material 24 is defined as the left side space 54.

図２、および、図４〜図７を参照して、左側空間５４は、パージガスの層を形成するために設けられている。左側空間５４は、パージガスを断熱体９の左方側から断熱体９を通して熱処理空間１０へ供給するために設けられている。また、左側空間５４は、熱処理空間１０から断熱体９を通して断熱体９の左方に到達した熱が密封体１３の外部に向かうことを抑制するために設けられている。左側空間５４は、本実施形態では、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の配置されている領域が左側に突出し、且つ、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７間の空間が上記の領域と比べて左右方向に薄くされた空間である。また、左側空間５４は、当該左側空間５４に収容された上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ｂ，４１ｂ、電線３３，４３、および、ガイド部材３５，４５を冷却するための空間として設けられている。左側空間５４内のガスは、断熱体９および熱処理空間１０を通して、入口側排気管７および出口側排気管８の何れかから、密封体１３の外部に排出される。 With reference to FIGS. 2 and 4-7, the left space 54 is provided to form a layer of purge gas. The left space 54 is provided to supply the purge gas from the left side of the heat insulating body 9 to the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9. Further, the left side space 54 is provided to prevent heat that has reached the left side of the heat insulating body 9 from the heat treatment space 10 through the heat insulating body 9 from going to the outside of the sealed body 13. In the left side space 54, in the present embodiment, the area where the upper heater 26 and the lower heater 27 are arranged protrudes to the left side, and the space between the upper heater 26 and the lower heater 27 is left and right as compared with the above area. It is a space thinned in the direction. Further, the left side space 54 is provided as a space for cooling the terminal portions 31b, 41b, the electric wires 33, 43, and the guide members 35, 45 of the upper heater 26 and the lower heater 27 housed in the left side space 54. Has been done. The gas in the left side space 54 is discharged to the outside of the sealed body 13 from either the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8 through the heat insulating body 9 and the heat treatment space 10.

左側空間５４は、パージガス供給部１５の上下一対の左側供給部５８からのパージガスによって、パージ（ガス置換）が行われる。 The left space 54 is purged (gas replacement) by the purge gas from the pair of upper and lower left supply units 58 of the purge gas supply unit 15.

各左側供給部５８は、左側空間５４に接続されたガス供給管として設けられている。各左側供給部５８は、第３左側板７３の上端部７３ａおよび下端部７３ｃにそれぞれ配置されている。このように、左側空間５４において、細長い領域を挟んで上下に離隔した幅広領域のそれぞれに左側供給部５８が設けられていることにより、左側空間５４内において、より均等にパージガスが供給される。各左側供給部５８は、第３左側板７３の対応する上端部７３ａおよび下端部７３ｃを貫通するように配置されている。各左側供給部５８のうち第３左側板７３を貫通する部分の外周部と第３左側板７３とは、溶接などによって互いに気密的に接続されている。各左側供給部５８は、タンクなどのパージガス供給源（図示せず）に接続されており、パージガスを、左側空間５４に供給する。左側空間５４に供給されたパージガスは、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ｂ，４１ｂ、電線３３，４３、および、ガイド部材３５，４５に当てられ、これらの部材を冷却する。そして、左側空間５４に供給されたパージガスは、断熱体９および熱処理空間１０を通して、入口側排気管７または出口側排気管８から密封体１３の外部に排出される。 Each left side supply unit 58 is provided as a gas supply pipe connected to the left side space 54. The left side supply portions 58 are arranged at the upper end portion 73a and the lower end portion 73c of the third left side plate 73, respectively. As described above, in the left space 54, the purge gas is more evenly supplied in the left space 54 by providing the left side supply portions 58 in each of the wide regions separated vertically with the elongated region sandwiched therein. Each left side supply portion 58 is arranged so as to penetrate the corresponding upper end portion 73a and lower end portion 73c of the third left side plate 73. The outer peripheral portion of each left side supply portion 58 that penetrates the third left side plate 73 and the third left side plate 73 are airtightly connected to each other by welding or the like. Each left side supply unit 58 is connected to a purge gas supply source (not shown) such as a tank, and supplies the purge gas to the left side space 54. The purge gas supplied to the left space 54 is applied to the terminal portions 31b and 41b of the upper heater 26 and the lower heater 27, the electric wires 33 and 43, and the guide members 35 and 45 to cool these members. Then, the purge gas supplied to the left side space 54 is discharged to the outside of the sealed body 13 from the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8 through the heat insulating body 9 and the heat treatment space 10.

以上の構成により、パージガス供給部１５の右側供給部５７および左側供給部５８は、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂに向けてパージガスを供給可能である。また、進行方向Ｘ１から見て、密封体１３の下部４７、上部４８、右側部４９および左側部５０は、密封体１３の周囲を気密的に（隙間無く）取り囲んでいる。 With the above configuration, the right side supply part 57 and the left side supply part 58 of the purge gas supply part 15 can supply the purge gas toward the terminal parts 31a, 31b, 41a, 41b of the upper heater 26 and the lower heater 27. Further, when viewed from the traveling direction X1, the lower portion 47, the upper portion 48, the right side portion 49, and the left side portion 50 of the sealed body 13 airtightly (without gaps) surround the sealed body 13.

密封体１３および断熱体９には、熱処理用ガス供給部１６が貫通している。熱処理用ガス供給部１６は、熱処理空間１０内に向けて、被処理物１００の熱処理に用いられるガスとしての熱処理用ガスを供給するために設けられている。本実施形態では、熱処理用ガスは、不活性ガスとしての窒素ガスと、水素ガスと、ＷＥＴガスと、が混合されたガスである。窒素ガスは、パージガス供給部１５から供給されるパージガスと成分が同じガスである。ＷＥＴガスは、水蒸気を所定の割合含有している。熱処理用ガス供給部１６は、本実施形態では、左右一対の熱処理用ガス供給部１６が設けられている。 The heat treatment gas supply unit 16 penetrates the sealed body 13 and the heat insulating body 9. The heat treatment gas supply unit 16 is provided to supply the heat treatment gas as the gas used for the heat treatment of the object to be treated 100 toward the heat treatment space 10. In the present embodiment, the heat treatment gas is a gas obtained by mixing nitrogen gas as an inert gas, hydrogen gas, and WET gas. The nitrogen gas is a gas having the same composition as the purge gas supplied from the purge gas supply unit 15. The WET gas contains water vapor in a predetermined ratio. In the present embodiment, the heat treatment gas supply unit 16 is provided with a pair of left and right heat treatment gas supply units 16.

各熱処理用ガス供給部１６は、上下に延びる配管として設けられている。各熱処理用ガス供給部１６の上端部は、別の配管などを介して、タンクなどの熱処理用ガス供給源（図示せず）に接続されている。各熱処理用ガス供給部１６の上部１６ａは、密封体１３の上部４８を貫通している。各熱処理用ガス供給部１６の上部１６ａの外周部と上部４８との接続部は、溶接などを用いて気密的に接続されている。各熱処理用ガス供給部１６の中間部は、パージガス層形成空間１４の上側空間５２を上下に貫通し、さらに、上側断熱材２２を上下に貫通している。各熱処理用ガス供給部１６の下部１６ｂには、複数のノズル孔が形成されている。上記の構成により、熱処理用ガス供給源からの熱処理用ガスは、各熱処理用ガス供給部１６を通して、熱処理空間１０に供給される。各熱処理用ガス供給部１６に隣接して、サンプリング管１７が配置されている。 Each heat treatment gas supply unit 16 is provided as a pipe extending vertically. The upper end of each heat treatment gas supply unit 16 is connected to a heat treatment gas supply source (not shown) such as a tank via another pipe or the like. The upper portion 16a of each heat treatment gas supply portion 16 penetrates the upper portion 48 of the sealed body 13. The outer peripheral portion of the upper portion 16a of each heat treatment gas supply portion 16 and the connection portion between the upper portion 48 are airtightly connected by welding or the like. The intermediate portion of each heat treatment gas supply unit 16 penetrates the upper space 52 of the purge gas layer forming space 14 vertically, and further penetrates the upper heat insulating material 22 vertically. A plurality of nozzle holes are formed in the lower portion 16b of each heat treatment gas supply unit 16. With the above configuration, the heat treatment gas from the heat treatment gas supply source is supplied to the heat treatment space 10 through each heat treatment gas supply unit 16. A sampling tube 17 is arranged adjacent to each heat treatment gas supply unit 16.

サンプリング管１７は、熱処理空間１０内のガスをサンプルとして密封体１３の外部に取り出すために設けられている。サンプリング管１７の上端部は、別の配管などを介して、ガス検出装置（図示せず）に接続されている。サンプリング管１７の上部１７ａは、密封体１３の上部４８を貫通している。サンプリング管１７の上部１７ａの外周部と上部４８との接続部は、溶接などを用いて気密的に接続されている。サンプリング管１７の中間部は、パージガス層形成空間１４の上側空間５２を上下に貫通し、さらに、上側断熱材２２を上下に貫通している。サンプリング管１７の下部１７ｂは、熱処理空間１０に開口している。上記の構成により、熱処理空間１０内のガスは、サンプリング管１７を通して、密封体１３の外部に設置されたガス検出装置に供給される。 The sampling tube 17 is provided to take out the gas in the heat treatment space 10 as a sample to the outside of the sealed body 13. The upper end of the sampling tube 17 is connected to a gas detection device (not shown) via another pipe or the like. The upper portion 17a of the sampling tube 17 penetrates the upper portion 48 of the sealed body 13. The outer peripheral portion of the upper portion 17a of the sampling tube 17 and the connecting portion between the upper portion 48 are airtightly connected by welding or the like. The intermediate portion of the sampling tube 17 penetrates the upper space 52 of the purge gas layer forming space 14 vertically, and further penetrates the upper heat insulating material 22 vertically. The lower portion 17b of the sampling tube 17 is open to the heat treatment space 10. With the above configuration, the gas in the heat treatment space 10 is supplied to the gas detection device installed outside the sealed body 13 through the sampling pipe 17.

図２および図６を参照して、また、熱処理空間１０内の温度を計測するための温度センサ１８が、配置されている。温度センサ１８は、本実施形態では、細長い形状に形成されており、横向きに寝かされた姿勢に配置されている。温度センサ１８は、基端部１８ａと、基端部１８ａから延びる軸部１８ｂと、を有している。基端部１８ａは、密封体１３の右側方（密封体１３の外部）に配置されている。一方、軸部１８ｂの大部分は、密封体１３の内部に配置されている。 With reference to FIGS. 2 and 6, a temperature sensor 18 for measuring the temperature in the heat treatment space 10 is arranged. In the present embodiment, the temperature sensor 18 is formed in an elongated shape and is arranged in a sideways laid-down posture. The temperature sensor 18 has a base end portion 18a and a shaft portion 18b extending from the base end portion 18a. The base end portion 18a is arranged on the right side of the sealed body 13 (outside the sealed body 13). On the other hand, most of the shaft portion 18b is arranged inside the sealed body 13.

より具体的には、軸部１８ｂの基端側部分は、密封体１３の第３右側板６３の鉛直部６３ｂを貫通している。軸部１８ｂの外周部と第３右側板６３とは、シール構造などを用いて気密的に接続されている。軸部１８ｂの中間部は、パージガス層形成空間１４の右側空間５３を左右に貫通し、さらに右側断熱材２３を左右に貫通している。軸部１８ｂの先端部は、熱処理空間１０に配置されている。上記の構成により、熱処理空間１０内の雰囲気温度は、温度センサ１８によって検出される。 More specifically, the base end side portion of the shaft portion 18b penetrates the vertical portion 63b of the third right side plate 63 of the sealing body 13. The outer peripheral portion of the shaft portion 18b and the third right side plate 63 are airtightly connected by using a seal structure or the like. The intermediate portion of the shaft portion 18b penetrates the right side space 53 of the purge gas layer forming space 14 to the left and right, and further penetrates the right side heat insulating material 23 to the left and right. The tip of the shaft portion 18b is arranged in the heat treatment space 10. With the above configuration, the ambient temperature in the heat treatment space 10 is detected by the temperature sensor 18.

図１を参照して、上記の構成を有する熱処理装置１には、制御装置８０が設けられている。制御装置８０は、熱処理装置１における熱処理動作の制御処理を行うために設けられている。制御装置８０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）およびＲＡＭ（Random Access Memory）を含むコンピュータ、または、ＰＬＣ（Programmable Logic Controller）などを用いて形成されている。制御装置８０は、ヒータ２６，２７による加熱動作のオン／オフ、パージガス供給部１５によるパージガスの供給のオン／オフ、熱処理用ガス供給部１６における熱処理用ガスの各成分ガスの供給のオン／オフ、および、搬送装置２の動作のオン／オフなどを制御する。 With reference to FIG. 1, a control device 80 is provided in the heat treatment device 1 having the above configuration. The control device 80 is provided to control the heat treatment operation in the heat treatment device 1. The control device 80 is formed by using a computer including a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory), a PLC (Programmable Logic Controller), or the like. The control device 80 turns on / off the heating operation by the heaters 26 and 27, turns on / off the supply of the purge gas by the purge gas supply unit 15, and turns on / off the supply of each component gas of the heat treatment gas in the heat treatment gas supply unit 16. , And control the on / off of the operation of the transport device 2.

以上が、熱処理装置１の概略構成である。次に、熱処理装置１における熱処理動作の一例を説明する。なお、熱処理装置１における熱処理動作の制御処理は、制御装置８０によって行われてもよいし、作業員が熱処理装置１を手動操作することで行われてもよい。 The above is the schematic configuration of the heat treatment apparatus 1. Next, an example of the heat treatment operation in the heat treatment apparatus 1 will be described. The heat treatment operation control process in the heat treatment device 1 may be performed by the control device 80, or may be performed by a worker manually operating the heat treatment device 1.

図８は、熱処理装置１の動作の一例を説明するためのタイムチャートである。なお、図８を参照して説明する場合、図８以外の図も適宜参照する。図８を参照して、熱処理装置１は、昇温動作（タイミングＴ１〜Ｔ３）と、熱処理動作（タイミングＴ３〜Ｔ６）と、降温動作（タイミングＴ６〜Ｔ８）と、を行う。 FIG. 8 is a time chart for explaining an example of the operation of the heat treatment apparatus 1. In addition, when explaining with reference to FIG. 8, figures other than FIG. 8 are also referred to as appropriate. With reference to FIG. 8, the heat treatment apparatus 1 performs a temperature raising operation (timing T1 to T3), a heat treatment operation (timing T3 to T6), and a temperature lowering operation (timing T6 to T8).

昇温動作（タイミングＴ１〜Ｔ３）において、まず、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７へ電力が供給されることで、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の発熱部３１ｅ，４１ｅが発熱を開始する（タイミングＴ１）。また、パージガス供給部１５の右側供給部５７、左側供給部５８、上側供給部５６、および、下側供給部５５からパージガス層形成空間１４の対応する右側空間５３、左側空間５４、上側空間５２、および、下側空間５１へ、パージガスの供給が開始される（タイミングＴ１）。 In the temperature raising operation (timing T1 to T3), first, power is supplied to the upper heater 26 and the lower heater 27, so that the heat generating portions 31e and 41e of the upper heater 26 and the lower heater 27 start to generate heat (the heat generation portions 31e and 41e of the upper heater 26 and the lower heater 27 start to generate heat. Timing T1). Further, from the right side supply part 57, the left side supply part 58, the upper side supply part 56, and the lower side supply part 55 of the purge gas supply part 15, the corresponding right side space 53, the left side space 54, and the upper side space 52 of the purge gas layer forming space 14. Then, the supply of purge gas to the lower space 51 is started (timing T1).

さらに、熱処理用ガス供給部１６から、熱処理用ガスのうち窒素ガスの供給が開始される（タイミングＴ１）。すなわち、パージガスの成分と同じ成分の不活性ガスが、熱処理用ガス供給部１６から熱処理空間１０へ供給される。この際、熱処理用ガスのうち水素ガスおよびＷＥＴガスの供給は、まだ開始されない。上記の動作により、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７による熱処理空間１０の昇温動作と、パージガス層形成空間１４におけるパージ動作と、熱処理空間１０への窒素ガス（パージガス）の供給動作と、が同時に開始される。 Further, the heat treatment gas supply unit 16 starts supplying nitrogen gas among the heat treatment gases (timing T1). That is, an inert gas having the same composition as that of the purge gas is supplied from the heat treatment gas supply unit 16 to the heat treatment space 10. At this time, the supply of hydrogen gas and WET gas among the heat treatment gases has not yet started. By the above operation, the heating operation of the heat treatment space 10 by the upper heater 26 and the lower heater 27, the purging operation in the purge gas layer forming space 14, and the supply operation of nitrogen gas (purge gas) to the heat treatment space 10 are simultaneously performed. It will be started.

タイミングＴ１から所定時間経過後、パージガス層形成空間１４におけるパージ（酸素排出）動作が完了する（タイミングＴ２）。このタイミングで、パージガス層形成空間１４のうち上側空間５２および下側空間５１へのパージガスの供給動作が停止される。一方、パージガス層形成空間１４の右側空間５３および左側空間５４へのパージガスの供給は、継続される。これにより、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂへ、常温に近い温度のパージガスが供給され続けることとなり、端子部３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂの冷却動作が継続される。 After a predetermined time has elapsed from the timing T1, the purge (oxygen discharge) operation in the purge gas layer forming space 14 is completed (timing T2). At this timing, the operation of supplying the purge gas to the upper space 52 and the lower space 51 of the purge gas layer forming space 14 is stopped. On the other hand, the supply of purge gas to the right side space 53 and the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14 is continued. As a result, the purge gas having a temperature close to room temperature continues to be supplied to the terminal portions 31a, 31b, 41a, 41b of the upper heater 26 and the lower heater 27, and the cooling operation of the terminal portions 31a, 31b, 41a, 41b continues. Will be done.

そして、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７による熱処理空間１０の加熱動作の開始（タイミングＴ１）から所定時間経過後、熱処理空間１０内の温度が、被処理物１００の熱処理に適した温度となる（タイミングＴ３）。このタイミングで、熱処理用ガス供給部１６は、窒素ガスに加えて、水素ガスおよびＷＥＴガスを熱処理空間１０に供給する。すなわち、熱処理用ガス供給部１６は、熱処理空間１０への熱処理用ガスの供給を開始する。これにより、熱処理動作（タイミングＴ３〜Ｔ６）が開始される。 Then, after a predetermined time has elapsed from the start of the heating operation (timing T1) of the heat treatment space 10 by the upper heater 26 and the lower heater 27, the temperature in the heat treatment space 10 becomes a temperature suitable for heat treatment of the object 100 to be processed ( Timing T3). At this timing, the heat treatment gas supply unit 16 supplies hydrogen gas and WET gas to the heat treatment space 10 in addition to the nitrogen gas. That is, the heat treatment gas supply unit 16 starts supplying the heat treatment gas to the heat treatment space 10. As a result, the heat treatment operation (timing T3 to T6) is started.

そして、熱処理空間１０への熱処理用ガスの供給が開始されてから所定時間が経過すると、熱処理空間１０における熱処理用ガスの濃度が、被処理物１００の熱処理に必要な値に達する。その後の所定のタイミングにおいて、搬送装置２が、被処理物１００を熱処理空間１０に搬入する（タイミングＴ４）。これにより、被処理物１００への加熱が実行される。すなわち、熱処理装置１は、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７による熱処理空間１０の加熱動作、パージガス層形成空間１４の右側空間５３および左側空間５４へのパージガスの供給動作、熱処理空間１０への熱処理用ガスの供給動作、および、搬送装置２による被処理物１００の搬送動作が行われている状態で、被処理物１００に熱処理動作を行う。 Then, when a predetermined time elapses after the supply of the heat treatment gas to the heat treatment space 10 is started, the concentration of the heat treatment gas in the heat treatment space 10 reaches the value required for the heat treatment of the object 100 to be treated. At a predetermined timing thereafter, the transport device 2 carries the object to be processed 100 into the heat treatment space 10 (timing T4). As a result, heating of the object to be processed 100 is executed. That is, the heat treatment apparatus 1 is used for heating the heat treatment space 10 by the upper heater 26 and the lower heater 27, supplying purge gas to the right side space 53 and the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14, and heat treatment to the heat treatment space 10. The heat treatment operation is performed on the object to be processed 100 while the gas supply operation and the transfer operation of the object to be processed 100 by the transfer device 2 are being performed.

そして、タイミングＴ４から所定時間が経過し、被処理物１００に十分な処理が行われると、被処理物１００は、搬送装置２によって熱処理空間１０の外部へ搬出され、被処理物１００への加熱処理が終了する（タイミングＴ５）。このとき、熱処理用ガス供給部１６から熱処理空間１０への、熱処理用ガスの供給が停止される。ただし、熱処理用ガス供給部１６から熱処理空間１０への窒素ガスの供給は継続されることで、熱処理空間１０のパージが行われる。このとき、熱処理用ガスのうち水素ガスおよびＷＥＴガスの供給が停止される。 Then, when a predetermined time elapses from the timing T4 and sufficient treatment is performed on the object to be processed 100, the object to be processed 100 is carried out of the heat treatment space 10 by the transport device 2 and heated to the object to be processed 100. The process ends (timing T5). At this time, the supply of the heat treatment gas from the heat treatment gas supply unit 16 to the heat treatment space 10 is stopped. However, the heat treatment space 10 is purged by continuing the supply of nitrogen gas from the heat treatment gas supply unit 16 to the heat treatment space 10. At this time, the supply of hydrogen gas and WET gas among the heat treatment gases is stopped.

そして、被処理物１００が熱処理空間１０から搬出された後、所定時間経過の後に、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７への電力供給が停止されることで、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７による加熱動作が停止される（タイミングＴ６）。すなわち、熱処理動作（タイミングＴ３〜Ｔ６）が完了する。 Then, after the object 100 to be processed is carried out from the heat treatment space 10, the power supply to the upper heater 26 and the lower heater 27 is stopped after a lapse of a predetermined time, so that the upper heater 26 and the lower heater 27 operate. The heating operation is stopped (timing T6). That is, the heat treatment operation (timing T3 to T6) is completed.

次に、降温動作（タイミングＴ６〜Ｔ８）が行われる。すなわち、パージガス供給部１５は、パージガス層形成空間１４のうちの右側空間５３および左側空間５４に加えて、下側空間５１および上側空間５２へのパージガスの供給を開始する（タイミングＴ６）。これにより、パージガス供給部１５は、パージガス層形成空間１４全体へパージガスを供給する。このとき、熱処理用ガス供給部１６は、熱処理空間１０への窒素ガス（パージガス）の供給を継続している。これにより、熱処理空間１０、断熱体９、および、パージガス層形成空間１４内の空気および残留ガス（水素ガスおよびＷＥＴガスなど）は、熱処理空間１０から、入口側排気管７または出口側排気管８を通して、熱処理装置１の外部に排出される。これにより、密封体１３内の雰囲気を乾燥雰囲気にすることができる。よって、密封体１３内における結露の発生を抑制できる。 Next, the temperature lowering operation (timing T6 to T8) is performed. That is, the purge gas supply unit 15 starts supplying purge gas to the lower space 51 and the upper space 52 in addition to the right side space 53 and the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14 (timing T6). As a result, the purge gas supply unit 15 supplies the purge gas to the entire purge gas layer forming space 14. At this time, the heat treatment gas supply unit 16 continues to supply nitrogen gas (purge gas) to the heat treatment space 10. As a result, the air and residual gas (hydrogen gas, WET gas, etc.) in the heat treatment space 10, the heat insulating body 9, and the purge gas layer forming space 14 are separated from the heat treatment space 10 into the inlet side exhaust pipe 7 or the outlet side exhaust pipe 8. Through, it is discharged to the outside of the heat treatment apparatus 1. As a result, the atmosphere inside the sealed body 13 can be changed to a dry atmosphere. Therefore, the occurrence of dew condensation in the sealed body 13 can be suppressed.

そして、熱処理装置１の密封体１３内のパージ動作が完了すると、パージガス供給部１５および熱処理用ガス供給部１６からのパージガスの供給が停止される（タイミングＴ７）。その後、所定時間経過の後、自然冷却によって、熱処理空間１０内の温度が所定の温度（たとえば、常温）まで低下する（タイミングＴ８）。これにより、降温動作が完了する。 Then, when the purging operation in the sealed body 13 of the heat treatment apparatus 1 is completed, the supply of the purge gas from the purge gas supply unit 15 and the heat treatment gas supply unit 16 is stopped (timing T7). Then, after a lapse of a predetermined time, the temperature in the heat treatment space 10 is lowered to a predetermined temperature (for example, normal temperature) by natural cooling (timing T8). As a result, the temperature lowering operation is completed.

以上の次第で、熱処理装置１によると、密封体１３は、断熱体９を介して熱処理空間１０と向かい合うこととなる。このため、被処理物１００の熱処理時において、熱処理空間１０内の熱は、断熱体９を介して密封体１３に伝わる。よって、熱処理空間１０内の高熱が密封体１３に伝わることを抑制できる。このため、密封体１３の温度上昇が抑制されるので、密封体１３は、耐熱性をそれほど要求されず、強度および気密性に優れた材質で形成されることが可能である。これにより、熱処理空間１０への不要なガスの進入を、十分な強度を有する密封体１３によってより確実に抑制できる。よって、熱処理空間１０のガスの成分を所望の値に、より確実に保つことができる。また、密封体１３の内側に断熱体９が配置されるので、断熱体９は、密閉性が低くてもよい。よって、断熱体９は、密閉性についての制限を受けることなく、より高い耐熱性を有する材料で形成されることができる。以上の次第で、被処理物１００に対してより高温で熱処理を行うことができ、且つ、被処理物１００が配置される熱処理空間１０のガスの成分を所望の値（低酸素状態）に、より確実に保つことのできる熱処理装置１を提供することができる。 Based on the above, according to the heat treatment apparatus 1, the sealed body 13 faces the heat treatment space 10 via the heat insulating body 9. Therefore, during the heat treatment of the object 100 to be treated, the heat in the heat treatment space 10 is transferred to the sealed body 13 via the heat insulating body 9. Therefore, it is possible to suppress the transfer of high heat in the heat treatment space 10 to the sealed body 13. Therefore, since the temperature rise of the sealed body 13 is suppressed, the sealed body 13 can be formed of a material having excellent strength and airtightness without being required to have much heat resistance. As a result, the ingress of unnecessary gas into the heat treatment space 10 can be more reliably suppressed by the sealed body 13 having sufficient strength. Therefore, the gas component of the heat treatment space 10 can be more reliably maintained at a desired value. Further, since the heat insulating body 9 is arranged inside the sealed body 13, the heat insulating body 9 may have a low airtightness. Therefore, the heat insulating body 9 can be formed of a material having higher heat resistance without being limited in terms of airtightness. Based on the above, the heat treatment of the object to be processed 100 can be performed at a higher temperature, and the gas component of the heat treatment space 10 in which the object to be processed 100 is arranged can be set to a desired value (low oxygen state). It is possible to provide a heat treatment apparatus 1 that can be maintained more reliably.

また、熱処理装置１によると、密封体１３は、複数の金属部材（下部４７、上部４８、右側部４９、および、左側部５０）を組み合わせて形成されている。この構成によると、密封体１３を一体成形品とした場合と比べて、密封体１３の形状の自由度をより高くできる。また、密封体１３の組立および解体をより容易に行うことができる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, the sealed body 13 is formed by combining a plurality of metal members (lower portion 47, upper portion 48, right side portion 49, and left side portion 50). According to this configuration, the degree of freedom in the shape of the sealed body 13 can be increased as compared with the case where the sealed body 13 is an integrally molded product. In addition, the sealed body 13 can be assembled and disassembled more easily.

また、熱処理装置１によると、密封体１３を構成する複数の部材（４８，６１〜６６，７１〜７６）は、シール材８２，８５，８８，９１，９４，９７，１０２，１０５，１０８，１１１，１１４，１１７を介して接続されている。この構成によると、密封体１３における複数の部材（４８，６１〜６６，７１〜７６）同士の接続部において、気密性を確保することが重要となる。そして、複数の部材（４８，６１〜６６，７１〜７６）をシール材８２，８５，８８，９１，９４，９７，１０２，１０５，１０８，１１１，１１４，１１７を介して接続することで、複数の部材（４８，６１〜６６，７１〜７６）間の気密性を、より容易に、且つ、より確実に確保できる。しかも、密封体１３の使用温度は、比較的低くて済む。よって、シール材８２，８５，８８，９１，９４，９７，１０２，１０５，１０８，１１１，１１４，１１７の材質を、耐熱性の制限を比較的受けずに設定することができる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, the plurality of members (48,61 to 66,71 to 76) constituting the sealing body 13 are the sealing materials 82,85,88,91,94,97,102,105,108, It is connected via 111, 114, 117. According to this configuration, it is important to ensure airtightness at the connection portion between the plurality of members (48, 61 to 66, 71 to 76) in the sealed body 13. Then, by connecting a plurality of members (48,61 to 66,71 to 76) via the sealing material 82,85,88,91,94,97,102,105,108,111,114,117, The airtightness between the plurality of members (48, 61 to 66, 71 to 76) can be more easily and more reliably ensured. Moreover, the operating temperature of the sealed body 13 can be relatively low. Therefore, the materials of the sealing materials 82, 85, 88, 91, 94, 97, 102, 105, 108, 111, 114, 117 can be set without being relatively limited in heat resistance.

また、熱処理装置１によると、パージガス供給部１５が設けられていることにより、被処理物１００の熱処理時において、熱処理空間１０内で生じた不要なガスは、パージガスによって除去される。これにより、熱処理空間１０内の雰囲気を、より清浄な状態に維持することができる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, since the purge gas supply unit 15 is provided, unnecessary gas generated in the heat treatment space 10 at the time of heat treatment of the object to be treated 100 is removed by the purge gas. As a result, the atmosphere in the heat treatment space 10 can be maintained in a cleaner state.

また、熱処理装置１によると、断熱体９と密封体１３との間にパージガス層形成空間１４の上側空間５２、右側空間５３、および、左側空間５４が形成されている。この構成によると、パージガス層形成空間１４の上側空間５２、右側空間５３、および、左側空間５４が形成されることで、パージガスを、より広い範囲に均等に供給することができる。これにより、密封体１３内の雰囲気を、より清浄な状態に維持することができる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, an upper space 52, a right side space 53, and a left side space 54 of the purge gas layer forming space 14 are formed between the heat insulating body 9 and the sealed body 13. According to this configuration, the purge gas can be evenly supplied to a wider range by forming the upper space 52, the right side space 53, and the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14. As a result, the atmosphere inside the sealed body 13 can be maintained in a cleaner state.

また、熱処理装置１によると、パージガス層形成空間１４の上側空間５２、右側空間５３、および、左側空間５４は、熱処理空間１０の上方、および、熱処理空間１０の左右両側方に形成されている。この構成によると、パージガス層形成空間１４の上側空間５２、右側空間５３、および、左側空間５４は、断熱体９の周囲を取り囲むように配置される。これにより、熱処理空間１０の周囲において、より多くのパージガス層形成空間を形成することができる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, the upper space 52, the right side space 53, and the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14 are formed above the heat treatment space 10 and on both the left and right sides of the heat treatment space 10. According to this configuration, the upper space 52, the right side space 53, and the left side space 54 of the purge gas layer forming space 14 are arranged so as to surround the periphery of the heat insulating body 9. Thereby, more purge gas layer forming space can be formed around the heat treatment space 10.

また、熱処理装置１によると、パージガス供給部１５は、上側ヒータ２６および下側ヒータ２７の端子部３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂに向けてパージガスを供給可能である。この構成によると、端子部３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂを冷却するための冷却用ガスとしてパージガスを利用することができる。これにより、端子部３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂを高熱から保護するための専用のクーラが不要となり、熱処理装置１の構成をより簡素にできる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, the purge gas supply unit 15 can supply the purge gas toward the terminal portions 31a, 31b, 41a, 41b of the upper heater 26 and the lower heater 27. According to this configuration, purge gas can be used as a cooling gas for cooling the terminal portions 31a, 31b, 41a, 41b. This eliminates the need for a dedicated cooler for protecting the terminal portions 31a, 31b, 41a, 41b from high heat, and makes the configuration of the heat treatment apparatus 1 simpler.

また、熱処理装置１によると、断熱体９は、多孔質材料を用いて形成されている。この構成によると、耐熱性の高い材料を焼結することなどにより、より耐熱性の高い断熱体９を実現できる。また、パージガスを用いて断熱体９の内側の熱処理空間１０をパージする際に、断熱体９の気孔を通してパージガスを熱処理空間１０に供給できる。これにより、より短時間でパージ（ガス置換）を完了することができる。また、多孔質の断熱体９であれば、比較的蓄熱量が小さい。よって、熱処理空間１０の加熱時に、断熱体９もより迅速に昇温できる。 Further, according to the heat treatment apparatus 1, the heat insulating body 9 is formed by using a porous material. According to this configuration, a heat insulating body 9 having higher heat resistance can be realized by sintering a material having higher heat resistance. Further, when purging the heat treatment space 10 inside the heat insulating body 9 using the purge gas, the purge gas can be supplied to the heat treatment space 10 through the pores of the heat insulating body 9. As a result, purging (gas replacement) can be completed in a shorter time. Further, the porous heat insulating body 9 has a relatively small amount of heat storage. Therefore, when the heat treatment space 10 is heated, the heat insulating body 9 can also be heated more quickly.

以上、本発明の実施形態について説明したけれども、本発明は上述の実施の形態に限られない。本発明は、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments. The present invention can be modified in various ways as described in the claims.

（１）上述の実施形態において、断熱体９がセラミックファイバーである形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、断熱体９は、他の断熱材料を用いて形成されてもよい。 (1) In the above-described embodiment, the embodiment in which the heat insulating body 9 is a ceramic fiber has been described as an example. However, this does not have to be the case. For example, the heat insulating body 9 may be formed by using another heat insulating material.

（２）また、密封体１３が金属を用いて形成される形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、密封体１３は、金属以外の緻密体材料を用いて形成されてもよい。 (2) Further, a form in which the sealed body 13 is formed by using metal has been described as an example. However, this does not have to be the case. For example, the sealed body 13 may be formed by using a dense body material other than metal.

（３）以上、本発明の構成の一例について具体的に説明した。しかしながら、本発明は、断熱体と密封体とを有していればよく、他の構成についての有無は限定されない。 (3) The example of the configuration of the present invention has been specifically described above. However, the present invention only needs to have a heat insulating body and a sealed body, and the presence or absence of other configurations is not limited.

本発明は、熱処理装置として、広く適用することができる。 The present invention can be widely applied as a heat treatment apparatus.

１ 熱処理装置
９ 断熱体
１０ 熱処理空間
１３ 密封体
１４ パージガス層形成空間
１５ パージガス供給部
２６，２７ ヒータ
３１ａ，３１ｂ，４１ａ，４１ｂ 端子部
３１ｅ，４１ｅ 発熱部
８２，８５，８８，９１，９４，９７，１０２，１０５，１０８，１１１，１１４，１１７ シール材
１００ 被処理物 1 Heat treatment device 9 Heat treatment body 10 Heat treatment space 13 Sealed body 14 Purge gas layer formation space 15 Purge gas supply parts 26, 27 Heaters 31a, 31b, 41a, 41b Terminal parts 31e, 41e Heat generation parts 82, 85, 88, 91, 94, 97 , 102, 105, 108, 111, 114, 117 Sealing material 100 Material to be treated

Claims (2)

被処理物を熱処理するための熱処理空間を取り囲む断熱体と、
前記断熱体の周囲を気密的に覆うことでガスの通過を規制するための密封体と、
前記断熱体と前記密封体との間にパージガスの層を形成するためのパージガス層形成空間と、
前記パージガス層形成空間にパージガスを供給するための、パージガス供給部と、
前記熱処理空間内の前記被処理物を加熱するためのヒータと、
制御装置と、
を備え、
前記熱処理空間内における前記被処理物の搬送方向に直交する断面において、前記パージガス層形成空間は、前記断熱体の下方に形成された下側空間と、前記断熱体の上方に形成された上側空間と、前記断熱体の右側方に形成された右側空間と、前記断熱体の左側方に形成された左側空間と、を含み、
前記ヒータは、前記熱処理空間に配置される発熱部と、前記右側空間および前記左側空間に配置された一対の端子部と、を有し、
前記制御装置は、
前記ヒータによる前記熱処理空間の温度上昇時には、前記下側空間、前記上側空間、前記右側空間、前記左側空間の全てに前記パージガス供給部から前記パージガスを供給させ、
前記温度上昇後における前記被処理物の熱処理時には、前記下側空間および前記上側空間への前記パージガスの供給を停止するとともに前記右側空間および前記左側空間への前記パージガス供給部からの前記パージガスの供給を継続させることを特徴とする、熱処理装置。 A heat insulating body that surrounds the heat treatment space for heat-treating the object to be treated,
A sealed body for restricting the passage of gas by airtightly covering the periphery of the heat insulating body,
A purge gas layer forming space for forming a purge gas layer between the heat insulating body and the sealed body, and
A purge gas supply unit for supplying purge gas to the purge gas layer forming space, and
A heater for heating the object to be processed in the heat treatment space,
Control device and
With
In the cross section orthogonal to the transport direction of the object to be treated in the heat treatment space, the purge gas layer forming space is a lower space formed below the heat insulating body and an upper space formed above the heat insulating body. And the right side space formed on the right side of the heat insulating body and the left side space formed on the left side side of the heat insulating body.
The heater has a heat generating portion arranged in the heat treatment space and a pair of terminal portions arranged in the right side space and the left side space.
The control device is
When the temperature of the heat treatment space rises due to the heater, the purge gas is supplied from the purge gas supply unit to all of the lower space, the upper space, the right side space, and the left side space.
At the time of heat treatment of the object to be treated after the temperature rise, the supply of the purge gas to the lower space and the upper space is stopped, and the purge gas is supplied from the purge gas supply unit to the right side space and the left side space. A heat treatment apparatus characterized by continuing. 請求項１に記載の熱処理装置であって、
前記被処理物に熱処理用ガスを供給するための熱処理用ガス供給部をさらに備え、
前記熱処理用ガス供給部は、前記熱処理空間から前記熱処理用ガスを供給するように構成されており、
前記熱処理用ガスは、不活性ガスとしての窒素ガスと、水素ガスと、水蒸気を所定の割合含有しているＷＥＴガスと、が混合されたガスであり、
前記制御装置は、前記温度上昇時には、前記熱処理用ガス供給部から前記窒素ガスを前記熱処理空間へ供給させるとともに前記水素ガスおよび前記ＷＥＴガスは前記熱処理空間へ供給せず、前記熱処理時には前記熱処理用ガス供給部から前記熱処理用ガスを前記熱処理空間へ供給させる、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to claim 1.
A heat treatment gas supply unit for supplying a heat treatment gas to the object to be treated is further provided.
The heat treatment gas supply unit is configured to supply the heat treatment gas from the heat treatment space.
The heat treatment gas includes a nitrogen gas as the inert gas, and hydrogen gas, a WET gas containing ratio of water vapor given a gas are mixed,
The control device supplies the nitrogen gas from the heat treatment gas supply unit to the heat treatment space when the temperature rises, and does not supply the hydrogen gas and the WET gas to the heat treatment space. A heat treatment apparatus that supplies the heat treatment gas from the gas supply unit to the heat treatment space.
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