JP6833305B2 - Information display system - Google Patents
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Description
本発明は、店舗で用いられる情報表示システムに関する。 The present invention relates to an information display system used in a store.
コンビニエンスストアやショッピングセンター等の店舗の出入り口や道路に面したガラス壁の上方に垂れ幕を設置し、この垂れ幕によりキャンペーンの告知や商品の告知を行う宣伝手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。この手法では、宣伝を行う期間が終了すると、垂れ幕を廃棄し、新たな垂れ幕に交換する必要があるため、手間を要する。 A promotional method is known in which a banner is installed above the glass wall facing the road or the entrance / exit of a store such as a convenience store or a shopping center, and the banner is used to announce a campaign or a product (for example, Patent Document 1). reference). This method is troublesome because it is necessary to discard the banner and replace it with a new banner when the advertising period is over.
そこで、垂れ幕に替えて、文字や映像等の情報を電気的に表示するデジタルサイネージ等の情報表示装置を使用することが望まれている。 Therefore, it is desired to use an information display device such as digital signage that electrically displays information such as characters and images instead of the hanging curtain.
しかしながら、精密機器である情報表示装置を店舗の外部に設置すると、日光、風雨、塵埃等の影響による汚れ、変色、破損、故障、及び、盗難等の可能性が高まるため、情報表示装置の保護という観点から好ましくない。一方、情報表示装置を店舗の内部に設置し、店舗のガラス越しに外部から情報を視認させようとすると、外光等が店舗の窓ガラスに写り込んでしまうために情報の視認性が大幅に低下する。よって、情報伝達効果が低下するという問題がある。 However, if an information display device, which is a precision device, is installed outside the store, the possibility of dirt, discoloration, damage, failure, and theft due to the effects of sunlight, wind, rain, dust, etc. increases, so the information display device is protected. It is not preferable from the viewpoint. On the other hand, if an information display device is installed inside the store and the information is visually recognized from the outside through the glass of the store, the visibility of the information is greatly improved because the outside light etc. is reflected on the window glass of the store. descend. Therefore, there is a problem that the information transmission effect is lowered.
本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、情報表示装置を保護した上で、情報伝達効果を向上できる情報表示システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to provide an information display system capable of improving the information transmission effect while protecting the information display device.
本発明による情報表示システムは、
店舗用の情報表示システムであって、
前記店舗の内部と外部とを区画する透明板と、
前記透明板の一側の表面に貼り付けられた第１反射防止フィルムと、
前記第１反射防止フィルムに対向するように前記透明板の他側の表面に貼り付けられた第２反射防止フィルムと、
前記店舗の内部に配置された、情報を表示する情報表示装置と、を備え、
前記第１反射防止フィルムは、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第１凹凸面を有する第１凹凸構造層を有し、前記第１凹凸面が前記透明板とは反対側を向くように配置され、
前記第２反射防止フィルムは、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第２凹凸面を有する第２凹凸構造層を有し、前記第２凹凸面が前記透明板とは反対側を向くように配置され、
前記情報表示装置は、前記第１反射防止フィルム、前記透明板及び前記第２反射防止フィルムを介して前記店舗の外部から前記情報を視認可能な位置に配置されている。
The information display system according to the present invention
An information display system for stores
A transparent plate that separates the inside and outside of the store,
The first antireflection film attached to the surface of one side of the transparent plate and
A second antireflection film attached to the surface of the other side of the transparent plate so as to face the first antireflection film.
An information display device for displaying information, which is arranged inside the store, is provided.
The first antireflection film has a first concavo-convex structure layer having a first concavo-convex surface formed by microprojections provided at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band, and the first concavo-convex surface is the said. Arranged so that it faces the opposite side of the transparent plate,
The second antireflection film has a second concavo-convex structure layer having a second concavo-convex surface formed by microprojections provided at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band, and the second concavo-convex surface is the said. Arranged so that it faces the opposite side of the transparent plate,
The information display device is arranged at a position where the information can be visually recognized from the outside of the store via the first antireflection film, the transparent plate, and the second antireflection film.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記透明板、前記第１反射防止フィルム、前記第２反射防止フィルム、及び、前記情報表示装置は、前記店舗の入口の上方に設けられていてもよい。
In the information display system according to the present invention
The transparent plate, the first antireflection film, the second antireflection film, and the information display device may be provided above the entrance of the store.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１反射防止フィルムは、前記透明板の前記一側の表面の一部分上に張り合わされ、
前記第２反射防止フィルムは、前記透明板の前記他側の表面の一部分上に張り合わされていてもよい。
In the information display system according to the present invention
The first antireflection film is laminated on a part of the surface of the transparent plate on the one side.
The second antireflection film may be laminated on a part of the surface of the transparent plate on the other side.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記情報表示装置の前記情報の表示面に張り付けられた第３反射防止フィルムをさらに備えてもよい。
In the information display system according to the present invention
A third antireflection film attached to the information display surface of the information display device may be further provided.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１反射防止フィルムは、前記第１凹凸構造層を支持する透明基材を有し、
前記第２反射防止フィルムは、前記第２凹凸構造層を支持する透明基材を有し、
前記第１反射防止フィルム及び前記第２反射防止フィルムの前記透明基材は、ポリエチレンテレフタレートで構成されていてもよい。
In the information display system according to the present invention
The first antireflection film has a transparent base material that supports the first uneven structure layer, and has a transparent base material.
The second antireflection film has a transparent base material that supports the second uneven structure layer, and has a transparent base material.
The first antireflection film and the transparent base material of the second antireflection film may be made of polyethylene terephthalate.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸面上、及び、前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸面上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、
前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸面上、及び、前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸面上での水に対する接触角が２０°以下であってもよい。
In the information display system according to the present invention
The reflectance due to 5 ° specular reflection on the first uneven surface of the first antireflection film and on the second uneven surface of the second antireflection film is 0.3% or less.
The contact angle of the first antireflection film on the first uneven surface and on the second uneven surface of the second antireflection film with respect to water may be 20 ° or less.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１凹凸構造層及び前記第２凹凸構造層の前記微小突起は、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔で設けられ、
前記微小突起の高さは、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっていてもよい。
In the information display system according to the present invention
The first concavo-convex structure layer and the microprojections of the second concavo-convex structure layer are provided at intervals of 70 nm or more and 180 nm or less.
The height of the microprojections may be 100 nm or more and 250 nm or less.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸面上、及び、前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸面上での５０°正反射による反射率が１．０％以下であってもよい。
In the information display system according to the present invention
The reflectance due to 50 ° specular reflection on the first uneven surface of the first antireflection film and on the second uneven surface of the second antireflection film may be 1.0% or less.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１凹凸構造層及び前記第２凹凸構造層をなす樹脂材料の水に対する接触角が１０°以上９０°以下であってもよい。
In the information display system according to the present invention
The contact angle of the resin material forming the first concavo-convex structure layer and the second concavo-convex structure layer with water may be 10 ° or more and 90 ° or less.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記第１凹凸構造層及び前記第２凹凸構造層をなす樹脂材料の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、前記貯蔵弾性率（Ｅ１’）に対する、前記第１凹凸構造層及び前記第２凹凸構造層をなす樹脂材料の２５℃における損失弾性率（Ｅ１”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ１”／Ｅ１’））が０．２以下であり、且つ、前記第１凹凸構造層及び前記第２凹凸構造層をなす樹脂材料の表面における、ｎ−ヘキサデカンの接触角が３０°以下またはオレイン酸の接触角が２５°以下であってもよい。
In the information display system according to the present invention
The storage elastic modulus (E1') of the first uneven structure layer and the resin material forming the second uneven structure layer at 25 ° C. is 300 MPa or less, and the first unevenness with respect to the storage elastic modulus (E1'). The ratio (tan δ (= E1 ″ / E1 ′)) of the elastic modulus (E1 ″) of the structural layer and the resin material forming the second uneven structural layer at 25 ° C. is 0.2 or less, and the first The contact angle of n-hexadecane on the surface of the concavo-convex structure layer and the resin material forming the second concavo-convex structure layer may be 30 ° or less or the contact angle of oleic acid may be 25 ° or less.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記微小突起は、頂点が複数の多峰性微小突起と、頂点が一つの単峰性微小突起と、を含み、
前記微小突起の高さの度数分布が一つの頂部からなる分布であり、
前記多峰性微小突起は、前記分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布していてもよい。
In the information display system according to the present invention
The microprojection includes a multimodal microprojection having a plurality of vertices and a monomodal microprojection having one apex.
The frequency distribution of the height of the microprojections is a distribution consisting of one top.
The multimodal microprojections may be distributed more near the apex than at the base of the distribution.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記微小突起は、頂点が複数の多峰性微小突起と、頂点が一つの単峰性微小突起と、を含み、
前記微小突起の高さＨの度数分布における高さＨの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、
Ｈ＜ｍ−σの領域を低高度領域とし、
ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、
ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、
各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍと、前記度数分布全体における前記微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔとの関係を満たしてもよい。
In the information display system according to the present invention
The microprojection includes a multimodal microprojection having a plurality of vertices and a monomodal microprojection having one apex.
Let m be the mean value of height H in the frequency distribution of height H of the microprojections, and let σ be the standard deviation.
The region of H <m-σ is defined as the low altitude region.
The region of m-σ≤H≤m + σ is defined as the medium altitude region.
When the region of m + σ <H is the high altitude region,
The ratio of the number Nm of the multimodal microprojections in each region to the total number Nt of the microprojections in the entire frequency distribution is
Nm / Nt in the middle altitude region> Nm / Nt in the low altitude region,
The relationship of Nm / Nt in the medium altitude region> Nm / Nt in the high altitude region may be satisfied.
本発明による情報表示システムにおいて、
前記微小突起の高さｈの度数分布が高さの高い側と低い側とに各々分布の峰を有する双峰性であり、該２つの峰の境界となる高さ、即ち境界高さｈｓを境として、該度数分布は境界高さｈｓ未満の微小突起の分布と境界高さｈｓ以上の微小突起の分布との２つの分布から構成され、
該境界高さｈｓ未満の分布における前記微小突起の高さｈの平均値をｍ１とし、標準偏差をσ１とし、
ｈ＜ｍ１−σ１の領域を低高度領域とし、
ｍ１−σ１≦ｈ≦ｍ１＋σ１の領域を中高度領域とし、
ｍ１＋σ１＜ｈ＜ｈｓの領域を高高度領域とした場合に、
該境界高さｈｓ未満の分布における各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍ１と、前記度数分布全体における前記微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ１／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ１／Ｎｔとの関係を満たし、
該境界高さｈｓ以上の分布における前記微小突起の高さｈの平均値をｍ２とし、標準偏差をσ２とし、
ｈｓ＜ｈ＜ｍ２−σ２の領域を低高度領域とし、
ｍ２−σ２≦ｈ≦ｍ２＋σ２の領域を中高度領域とし、
ｍ２＋σ２＜ｈの領域を高高度領域とした場合に、
該境界高さｈｓ以上の分布における各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍ２と、前記度数分布全体における前記多峰性微小突起及び単峰性微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ２／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ２／Ｎｔとの関係を満たすようにしてもよい。
In the information display system according to the present invention
The frequency distribution of the height h of the microprojections is bimodal with peaks of distribution on the high side and the low side, respectively, and the height serving as the boundary between the two peaks, that is, the boundary height hs is defined. As a boundary, the frequency distribution is composed of two distributions, a distribution of microprojections having a boundary height of less than hs and a distribution of microprojections having a boundary height of hs or more.
The average value of the height h of the microprojections in the distribution less than the boundary height hs is m1, and the standard deviation is σ1.
The region of h <m1-σ1 is defined as the low altitude region.
The region of m1-σ1 ≦ h ≦ m1 + σ1 is defined as the medium altitude region.
When the region of m1 + σ1 <h <hs is a high altitude region,
The ratio of the number Nm1 of the multimodal microprojections in each region in the distribution having a boundary height less than hs to the total number Nt of the microprojections in the entire frequency distribution is
Nm1 / Nt in the middle altitude region> Nm1 / Nt in the low altitude region,
Satisfy the relationship of Nm1 / Nt in the medium altitude region> Nm1 / Nt in the high altitude region,
The average value of the height h of the microprojections in the distribution having the boundary height hs or more is m2, and the standard deviation is σ2.
The region of hs <h <m2-σ2 is defined as the low altitude region.
The region of m2-σ2≤h≤m2 + σ2 is defined as the medium altitude region.
When the region of m2 + σ2 <h is the high altitude region,
The ratio of the number Nm2 of the multimodal microprojections in each region in the distribution having the boundary height hs or more to the total number Nt of the multimodal microprojections and the monomodal microprojections in the entire frequency distribution is
Nm2 / Nt in the middle altitude region> Nm2 / Nt in the low altitude region,
The relationship of Nm2 / Nt in the medium altitude region> Nm2 / Nt in the high altitude region may be satisfied.
本発明によれば、情報表示装置を保護した上で、情報伝達効果を向上できる。 According to the present invention, the information transmission effect can be improved while protecting the information display device.
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する写真以外の図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings other than the photographs attached to the present specification, the scale and the aspect ratio of the aspect ratio are appropriately changed and exaggerated for the convenience of illustration and comprehension.
なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「フィルム」は板やシートと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、「反射防止フィルム」は、「反射防止板」や「反射防止シート」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。 In addition, in this specification, the terms "board", "sheet", and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in designation. For example, "film" is a concept that includes members that can be called plates and sheets, so "anti-reflective film" is only different from members called "anti-reflective plates" and "anti-reflective sheets". Indistinguishable in.
また、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。 Further, the "film surface (plate surface, sheet surface)" is a film-like member (plate-like) that is a target when the target film-like (plate-like, sheet-like) member is viewed as a whole and from a broad perspective. It refers to the surface that coincides with the plane direction of the member (member, sheet-like member).
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 Furthermore, as used in the present specification, the terms such as "parallel", "orthogonal", and "identical" and the values of length and angle, etc., which specify the shape and geometric conditions and their degrees, are strictly referred to. Without being bound by meaning, we will interpret it including the range in which similar functions can be expected.
＜＜＜情報表示システム＞＞＞
図１は、一実施形態に係る店舗用の情報表示システム４０を備える店舗９０の入口９１付近を概略的に示す正面図である。図２は、図１の店舗９０の側断面図である。図１及び図２に示された例では、例えばコンビニエンスストアなどの店舗９０に対して、情報表示システム４０が適用されている。
<<< Information display system >>
FIG. 1 is a front view schematically showing the vicinity of the entrance 91 of the store 90 including the information display system 40 for the store according to the embodiment. FIG. 2 is a side sectional view of the store 90 of FIG. In the examples shown in FIGS. 1 and 2, the information display system 40 is applied to a store 90 such as a convenience store.
情報表示システム４０は、店舗９０の内部Ｓｉと外部Ｓｏとを区画する透明な区画部材１０と、店舗９０の内部Ｓｉに配置された情報表示装置８０と、を備える。 The information display system 40 includes a transparent partition member 10 for partitioning the internal Si and the external So of the store 90, and an information display device 80 arranged in the internal Si of the store 90.
区画部材１０は、領域を区画する透明な部材である。区画部材１０は、店舗９０の内部Ｓｉと外部Ｓｏとの間の可視光透過性を確保しながら、すなわち店舗９０の内部Ｓｉと外部Ｓｏとの間での視認性を確保しながら、店舗９０の内部Ｓｉを外部Ｓｏから区画する。とりわけ、ここで説明する区画部材１０は、当該区画部材１０を介した二つの区域間での良好な視界を確保することを可能にする。 The partition member 10 is a transparent member that partitions the area. The partition member 10 secures visible light transmission between the internal Si and the external So of the store 90, that is, secures visibility between the internal Si and the external So of the store 90, while ensuring the visibility of the store 90. The inner Si is partitioned from the outer So. In particular, the partition member 10 described herein makes it possible to ensure a good field of view between the two areas via the partition member 10.
ここで、本件明細書において、「透明」とは、その部材を通して向こうの状態を良好に視認できることを意味する。区画部材１０が全体的に着色していたり全体的に曇っていたりしていても視認性を確保することは可能であるが、外光の映り込みは視認性を著しく低下させるため、透過率を高くすることよりは映り込みを防ぐことが必要である。 Here, in the present specification, "transparent" means that the state of the other side can be satisfactorily visually recognized through the member. It is possible to ensure visibility even if the partition member 10 is totally colored or totally cloudy, but the reflection of external light significantly reduces the visibility, so the transmittance is reduced. It is necessary to prevent reflection rather than raising it.
図１及び図２に示すように、区画部材１０は、店舗９０の内部Ｓｉと外部Ｓｏとを区画する透明板１５と、透明板１５の一側の表面（第１表面）１５ａに貼り付けられた第１反射防止フィルム２０ａと、第１反射防止フィルム２０ａに対向するように透明板１５の他側の表面（第２表面）１５ｂに貼り付けられた第２反射防止フィルム２０ｂと、を有する。図２に示すように、第１反射防止フィルム２０ａは、第１接合層１８ａを介して、透明板１５の第１表面１５ａに貼合されている。また、第２反射防止フィルム２０ｂは、第２接合層１８ｂを介して、透明板１５の第２表面１５ｂに貼合されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the partition member 10 is attached to a transparent plate 15 that partitions the internal Si and the external So of the store 90, and a surface (first surface) 15a on one side of the transparent plate 15. It also has a first antireflection film 20a and a second antireflection film 20b attached to the other surface (second surface) 15b of the transparent plate 15 so as to face the first antireflection film 20a. As shown in FIG. 2, the first antireflection film 20a is attached to the first surface 15a of the transparent plate 15 via the first bonding layer 18a. Further, the second antireflection film 20b is attached to the second surface 15b of the transparent plate 15 via the second bonding layer 18b.
店舗９０の内部Ｓｉは、透明な側壁としても機能する透明板１５、自動ドア等の入口９１、天井９２及び床９３によって、店舗の外部Ｓｏから区画されている。 The internal Si of the store 90 is partitioned from the external So of the store by a transparent plate 15 that also functions as a transparent side wall, an entrance 91 such as an automatic door, a ceiling 92, and a floor 93.
透明板１５、第１反射防止フィルム２０ａ、第２反射防止フィルム２０ｂ、及び、情報表示装置４０は、店舗９０の入口９１の上方に設けられている。ここでは、透明板１５は、入口９１の上方のみでなく、入口９１の側方にも設けられている。床９３から第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂの底部までの高さは、客Ｃの手が第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂに届かない程度の高さであり、例えば、２ｍ程度であってもよい。
高さが普通の目の高さ程度に低い場合でも視認性向上効果は変わらないが、その場合は人が手で触ったりする機会が増え、表面を清掃する頻度が増えるため、なるべく人の手が届きにくい高さにあるのが好ましい。
The transparent plate 15, the first antireflection film 20a, the second antireflection film 20b, and the information display device 40 are provided above the entrance 91 of the store 90. Here, the transparent plate 15 is provided not only above the entrance 91 but also on the side of the entrance 91. The height from the floor 93 to the bottoms of the first and second antireflection films 20a and 20b is such that the hand of the customer C does not reach the first and second antireflection films 20a and 20b, for example. It may be about 2 m.
Even if the height is as low as normal eye height, the visibility improvement effect does not change, but in that case, there are more opportunities for people to touch it with their hands, and the frequency of cleaning the surface increases, so it is possible for human hands to do so. It is preferable that the height is hard to reach.
図１及び図２に示された例において、第１反射防止フィルム２０ａは、透明板１５の第１表面１５ａの一部分上のみに張り合わされている。同様に、第２反射防止フィルム２０ｂは、透明板１５の第２表面１５ｂの一部分上のみに張り合わされている。また図１及び図２に示された例では、板状の透明板１５の板面への法線方向に沿って、第１反射防止フィルム２０ａの外輪郭と第２反射防止フィルム２０ｂの外輪郭とが重なるようにして配置されている。すなわち、平面視において同一形状に形成された二枚の反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが、透明板１５を挟んで向かい合う位置に配置されている。 In the examples shown in FIGS. 1 and 2, the first antireflection film 20a is attached only on a part of the first surface 15a of the transparent plate 15. Similarly, the second antireflection film 20b is attached only on a part of the second surface 15b of the transparent plate 15. Further, in the examples shown in FIGS. 1 and 2, the outer contour of the first antireflection film 20a and the outer contour of the second antireflection film 20b are along the normal direction to the plate surface of the plate-shaped transparent plate 15. And are arranged so as to overlap. That is, two antireflection films 20a and 20b formed in the same shape in a plan view are arranged at positions facing each other with the transparent plate 15 interposed therebetween.
情報表示装置８０は、表示面８１に、文字、数字、図形、画像等を用いて情報を表示する。図１に示す例では、表示面８１は床９３とほぼ平行な長辺を有する長方形である。表示される情報は、例えばインターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納されて、電子データとして情報表示装置８０に供給される。従って、必要に応じて、表示される情報を迅速且つ容易に変更することができる。表示される情報は、例えば、キャンペーンの告知や商品の告知などの宣伝のための情報である。但し、表示される情報はこれに限らず、例えば、非常時には避難情報等であってもよい。表示面８１の形状も任意の形状でよい。 The information display device 80 displays information on the display surface 81 using characters, numbers, figures, images, and the like. In the example shown in FIG. 1, the display surface 81 is a rectangle having a long side substantially parallel to the floor 93. The displayed information is supplied to the information display device 80 as electronic data, for example, via a wired line such as the Internet or a wireless line, or stored in a recording medium. Therefore, the displayed information can be changed quickly and easily as needed. The displayed information is, for example, information for promotion such as a campaign announcement or a product announcement. However, the displayed information is not limited to this, and may be, for example, evacuation information in an emergency. The shape of the display surface 81 may be any shape.
情報表示装置８０の表示面８１は、店舗９０の外部Ｓｏを向いている。そして、情報表示装置８０は、第１反射防止フィルム２０ａ、透明板１５及び第２反射防止フィルム２０ｂを介して店舗９０の外部Ｓｏから表示面８１の情報を視認可能な位置に配置されている。図示する例では、情報表示装置８０は、支持手段８２によって店舗９０の天井９２に取り付けられている。情報表示装置８０は、表示面８１が区画部材１０に向かい合うように、区画部材１０の近傍に配置されている。表示面８１と区画部材１０との間の距離は、店舗９０の外部Ｓｏからの情報の視認性が低下しない限り特に限定されないが、例えば１０ｃｍ〜５０ｃｍであってもよい。 The display surface 81 of the information display device 80 faces the external So of the store 90. The information display device 80 is arranged at a position where the information on the display surface 81 can be visually recognized from the external So of the store 90 via the first antireflection film 20a, the transparent plate 15, and the second antireflection film 20b. In the illustrated example, the information display device 80 is attached to the ceiling 92 of the store 90 by the support means 82. The information display device 80 is arranged in the vicinity of the partition member 10 so that the display surface 81 faces the partition member 10. The distance between the display surface 81 and the partition member 10 is not particularly limited as long as the visibility of the information from the external So of the store 90 is not reduced, but may be, for example, 10 cm to 50 cm.
このような情報表示システム４０によれば、情報表示装置８０は店舗９０の内部Ｓｉに配置されているので、比較的高価な精密機器である情報表示装置８０を、汚れ、破損、故障、盗難等から保護できる。 According to such an information display system 40, since the information display device 80 is arranged in the internal Si of the store 90, the information display device 80, which is a relatively expensive precision device, is soiled, damaged, broken, stolen, etc. Can be protected from.
また、情報表示装置８０は、第１反射防止フィルム２０ａ、透明板１５及び第２反射防止フィルム２０ｂを介して店舗９０の外部Ｓｏから情報を視認可能な位置に配置されている。即ち、店舗９０の外部Ｓｏに位置する客Ｃは、区画部材１０を介して店舗の外部Ｓｏから内部Ｓｉの情報表示装置８０の表示面８１を観察できる。詳細には後述するが、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂは、反射防止機能および防曇機能の両方を発揮する。このため、例えば外光が区画部材１０に写り込んでしまうことが効果的に防止され、同時に、湿度等の環境条件に依存して区画部材１０が結露で曇ってしまうことが効果的に防止される。これにより、外光が存在する店舗９０の外部Ｓｏからであっても、情報表示装置８０が表示する情報を区画部材１０越しに明瞭に視認しやすくなるため、店舗９０の外部Ｓｏの客Ｃ等に対する情報伝達効果を向上できる。このように、情報表示装置８０を保護した上で、情報伝達効果を向上できる。 Further, the information display device 80 is arranged at a position where information can be visually recognized from the external So of the store 90 via the first antireflection film 20a, the transparent plate 15, and the second antireflection film 20b. That is, the customer C located at the external So of the store 90 can observe the display surface 81 of the information display device 80 of the internal Si from the external So of the store via the partition member 10. As will be described in detail later, the first and second antireflection films 20a and 20b exhibit both an antireflection function and an antifogging function. For this reason, for example, it is effectively prevented that external light is reflected on the partition member 10, and at the same time, it is effectively prevented that the partition member 10 becomes cloudy due to dew condensation depending on environmental conditions such as humidity. To. As a result, the information displayed by the information display device 80 can be clearly seen through the partition member 10 even from the external So of the store 90 in which the outside light exists, so that the customer C and the like of the external So of the store 90 can be easily seen. The effect of transmitting information to the user can be improved. In this way, the information transmission effect can be improved while protecting the information display device 80.
また、第１反射防止フィルム２０ａ、第２反射防止フィルム２０ｂ及び情報表示装置８０は店舗９０の入口９１の上方に設けられているため、客Ｃ等の手が第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂに触れ難い。これにより、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂを汚れ難くできる。加えて、情報表示装置８０の表示面８１は客Ｃ等の視点に近いので、情報を視認しやすくできる。従って、情報伝達効果をさらに向上できる。 Further, since the first antireflection film 20a, the second antireflection film 20b, and the information display device 80 are provided above the entrance 91 of the store 90, the hands of the customer C and the like are the hands of the first and second antireflection films 20a. , 20b is hard to touch. As a result, the first and second antireflection films 20a and 20b can be prevented from becoming dirty. In addition, since the display surface 81 of the information display device 80 is close to the viewpoint of the customer C or the like, the information can be easily visually recognized. Therefore, the information transmission effect can be further improved.
さらに、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが透明板１５の第１表面１５ａ及び第２表面１５ｂの一部分上に張り合わされ、全面上に張り合わされていないので、透明板１５の一部分について外光等の反射が殆どなく、一方、透明板１５が露出している領域では外光等が容易に反射する。これにより、店舗９０の外部Ｓｏに位置する客Ｃは、入口９１の側方に位置する第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが設けられていない領域の透明板１５の存在を容易に把握できる。従って、安全性を高めることができる。その上、透明板１５のうちの、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが設けられている領域が、開口しているようにも視認される。これにより、開口しているように視認された領域中で情報表示装置８０の情報が視認されるため、情報が目立ち、客Ｃ等の興味を引く。従って、情報伝達効果をより高くできる。 Further, since the first and second antireflection films 20a and 20b are laminated on a part of the first surface 15a and the second surface 15b of the transparent plate 15 and not on the entire surface, the part of the transparent plate 15 is outside. There is almost no reflection of light or the like, while outside light or the like is easily reflected in the region where the transparent plate 15 is exposed. As a result, the customer C located on the outside So of the store 90 can easily grasp the existence of the transparent plate 15 in the region where the first and second antireflection films 20a and 20b located on the side of the entrance 91 are not provided. it can. Therefore, safety can be enhanced. In addition, the regions of the transparent plate 15 where the first and second antireflection films 20a and 20b are provided are visually recognized as being open. As a result, the information of the information display device 80 is visually recognized in the area visually recognized as being open, so that the information is conspicuous and attracts the interest of the customer C and the like. Therefore, the information transmission effect can be further enhanced.
また、店舗９０の内部Ｓｉ側において、第２反射防止フィルム２０ｂの結露を防止することができるので、店舗９０内を除湿する必要も省ける。この点においても、省エネルギーを実現し更にはＣＯ２の削減を図ることができる。 Further, since dew condensation on the second antireflection film 20b can be prevented on the Si side inside the store 90, it is not necessary to dehumidify the inside of the store 90. In this respect as well, energy saving can be realized and CO 2 can be reduced.
情報表示システム４０は、図１及び図２に示された例に限られず、一例として、ショッピングセンター等の店舗に適用してもよい。 The information display system 40 is not limited to the examples shown in FIGS. 1 and 2, and may be applied to a store such as a shopping center as an example.
以下、区画部材１０の構成要素である、透明板、接合層および反射防止フィルムについて順に説明していく。なお、第１反射防止フィルム２０ａ及び第２反射防止フィルム２０ｂは、同一に構成することができる。第１反射防止フィルム２０ａ及び第２反射防止フィルム２０ｂを区別して説明する必要がない場合には、反射防止フィルムに対して符号「２０」を用いて説明する。同様に、第１接合層１８ａ及び第２接合層１８ｂは、同一に構成することができる。そして、第１接合層１８ａ及び第２接合層１８ｂを区別して説明する必要がない場合には、接合層に対して符号「１８」を用いて説明する。 Hereinafter, the transparent plate, the bonding layer, and the antireflection film, which are the constituent elements of the partition member 10, will be described in order. The first antireflection film 20a and the second antireflection film 20b can be configured in the same manner. When it is not necessary to distinguish between the first antireflection film 20a and the second antireflection film 20b, the antireflection film will be described by using the reference numeral "20". Similarly, the first bonding layer 18a and the second bonding layer 18b can be configured in the same manner. When it is not necessary to distinguish between the first bonding layer 18a and the second bonding layer 18b, the bonding layer will be described using the reference numeral "18".
＜＜透明板＞＞
透明板１５は、例えば店舗９０の天井９２及び床９３に取り付け固定され、区画部材１０の本体部分を形成する。
<< Transparent plate >>
The transparent plate 15 is attached and fixed to, for example, the ceiling 92 and the floor 93 of the store 90 to form the main body portion of the partition member 10.
透明板１５としては、既知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。透明板１５に用いられる材料としては、例えば、透明無機材料や透明樹脂を例示することができる。透明無機材料としては、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等を例示することができる。一方、透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマ一等を挙げることができる。 As the transparent plate 15, a known transparent base material can be appropriately selected and used, and is not particularly limited. Examples of the material used for the transparent plate 15 include a transparent inorganic material and a transparent resin. Examples of the transparent inorganic material include soda glass, potash glass, glass such as lead glass, ceramics such as PLZT, quartz, and fluorite. On the other hand, examples of the transparent resin include acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, olefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, acrylic resins and polyurethane resins. Examples thereof include polyether sulfone, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyether ketone, acronitrile, methacrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolyma and the like.
区画部材１０を介した良好な視認性を確保する観点から、透明板１５の可視光透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。 From the viewpoint of ensuring good visibility through the partition member 10, the visible light transmittance of the transparent plate 15 is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.
透明板１５は、単層で形成されていてもよいし、多層で形成されていてもよい。ただし、多層で形成されている場合には、隣接する層間での反射を抑制する観点から、隣接する層の屈折率差が０．０３以下となっていることが好ましく、０．０１以下となっていることがより好ましい。 The transparent plate 15 may be formed of a single layer or may be formed of multiple layers. However, when it is formed in multiple layers, the difference in refractive index between adjacent layers is preferably 0.03 or less, preferably 0.01 or less, from the viewpoint of suppressing reflection between adjacent layers. Is more preferable.
＜＜接合層＞＞
接合層１８は、反射防止フィルム２０を透明板１５に貼合するための層である。接合層１８は、接着剤からなる接着層として形成されていてもよいし、或いは、リワーク性を有した、すなわち、剥離して再貼合可能な粘着層として形成されていてもよい。接合層１８は、既知の種々の接着材料や粘着材料を用いて形成され得る。ただし、区画部材１０の設置場所に依っては、接合層１８が耐水性を有した材料から形成されていることが好ましい。また、区画部材１０を介した良好な視認性を確保する観点から、接合層１８の可視光透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。同様に、区画部材１０を介した良好な視認性を確保する観点から、接合層１８にオレンジピール（ゆず肌状の厚みムラ）が生じていないことが好ましい。さらに、接合層１８と透明板１５との界面における反射を抑制する観点から、接合層１８と透明板１５との屈折率差が０．０３以下となっていることが好ましく、０．０１以下となっていることがより好ましい。
<< Bonding layer >>
The bonding layer 18 is a layer for bonding the antireflection film 20 to the transparent plate 15. The bonding layer 18 may be formed as an adhesive layer made of an adhesive, or may be formed as a reworkable, that is, an adhesive layer that can be peeled off and reattached. The bonding layer 18 can be formed using various known adhesive materials and adhesive materials. However, depending on the installation location of the partition member 10, it is preferable that the bonding layer 18 is made of a water-resistant material. Further, from the viewpoint of ensuring good visibility through the partition member 10, the visible light transmittance of the bonding layer 18 is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Similarly, from the viewpoint of ensuring good visibility through the partition member 10, it is preferable that the joint layer 18 does not have orange peel (yuzu skin-like thickness unevenness). Further, from the viewpoint of suppressing reflection at the interface between the bonding layer 18 and the transparent plate 15, the difference in refractive index between the bonding layer 18 and the transparent plate 15 is preferably 0.03 or less, preferably 0.01 or less. It is more preferable that it is.
＜＜反射防止フィルム＞＞
図３及び図４に示すように、第１反射防止フィルム２０ａは、第１凹凸面３１ａを有する第１凹凸構造層３０ａを含んでいる。第１凹凸構造層３０ａの第１凹凸面３１ａは、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列された微小突起３２によって形成されている。同様に、第２反射防止フィルム２０ｂは、第２凹凸面３１ｂを有する第２凹凸構造層３０ｂを含んでいる。第２凹凸構造層３０ｂの第２凹凸面３１ｂは、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列された微小突起３２によって形成されている。以下、第１凹凸構造層３０ａ及び第２凹凸構造層３０ｂを区別して説明する必要がない場合には、凹凸構造層に対して符号「３０」を用いて説明する。第１凹凸面３１ａ及び第２凹凸面３１ｂを区別して説明する必要がない場合には、凹凸面に対して符号「３１」を用いて説明する。
<< Anti-reflection film >>
As shown in FIGS. 3 and 4, the first antireflection film 20a includes a first uneven structure layer 30a having a first uneven surface 31a. The first uneven surface 31a of the first uneven structure layer 30a is formed by microprojections 32 arranged at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. Similarly, the second antireflection film 20b includes a second concavo-convex structure layer 30b having a second concavo-convex surface 31b. The second uneven surface 31b of the second uneven structure layer 30b is formed by microprojections 32 arranged at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. Hereinafter, when it is not necessary to distinguish between the first concavo-convex structure layer 30a and the second concavo-convex structure layer 30b, the concavo-convex structure layer will be described with reference to the reference numeral “30”. When it is not necessary to distinguish between the first uneven surface 31a and the second uneven surface 31b, reference numeral "31" will be used for the uneven surface.
また、図３及び図４に示された反射防止フィルム２０は、凹凸構造層３０を支持する透明基材２５を、さらに有している。反射防止フィルム２０は、凹凸面３１が透明板１５とは反対側を向くように配置されている。したがって、第１反射防止フィルム２０ａが設けられている領域において、区画部材１０の表面は、第１反射防止フィルム２０ａの凹凸面３１によって形成されている。同様に、第２反射防止フィルム２０ｂが設けられている領域において、区画部材１０の表面は、第２反射防止フィルム２０ｂの凹凸面３１によって形成されている。 Further, the antireflection film 20 shown in FIGS. 3 and 4 further has a transparent base material 25 that supports the uneven structure layer 30. The antireflection film 20 is arranged so that the uneven surface 31 faces the side opposite to the transparent plate 15. Therefore, in the region where the first antireflection film 20a is provided, the surface of the partition member 10 is formed by the uneven surface 31 of the first antireflection film 20a. Similarly, in the region where the second antireflection film 20b is provided, the surface of the partition member 10 is formed by the uneven surface 31 of the second antireflection film 20b.
この反射防止フィルム２０では、凹凸構造層３０が、いわゆるモスアイ構造体として機能する。結果として、反射防止フィルム２０は、凹凸構造層３０の凹凸面３１において、極めて優れた反射防止機能を発揮することができる。加えて、反射防止フィルム２０は、凹凸構造層３０が親水性の材料で形成されることにより、極めて優れた防曇機能を発現することができる。反射防止フィルム２０の防曇機能は、凹凸面３１が超親水性を示すことに起因して発現されている。より具体的には、凹凸面３１に結露等により付着した水滴が、超親水性の凹凸面３１上で広く延び広がり、その後、凹凸面３１上にて均一且つ迅速な蒸発が促進されることから、防曇が実現される。このようにして反射防止フィルム２０の凹凸面３１上で、反射防止機能および防曇機能の両方が発現される。 In the antireflection film 20, the uneven structure layer 30 functions as a so-called moth-eye structure. As a result, the antireflection film 20 can exhibit an extremely excellent antireflection function on the uneven surface 31 of the uneven structure layer 30. In addition, the antireflection film 20 can exhibit an extremely excellent antifogging function by forming the uneven structure layer 30 from a hydrophilic material. The antifogging function of the antireflection film 20 is exhibited because the uneven surface 31 exhibits superhydrophilicity. More specifically, the water droplets adhering to the uneven surface 31 due to dew condensation or the like spread widely on the superhydrophilic uneven surface 31, and then uniform and rapid evaporation is promoted on the uneven surface 31. , Anti-fog is realized. In this way, both the antireflection function and the antifogging function are exhibited on the uneven surface 31 of the antireflection film 20.
なお、凹凸構造層３０に用いられる材料自体の親水性と比較し、当該親水性材料を用いて形成された凹凸構造層３０の凹凸面３１は、予想を超える超親水性を示すようになる。具体的には、水に対する接触角が５０°以上９０°以下となる材料を用いて凹凸構造層３０を形成した場合、凹凸面３１の水に対する接触角を２０°以下にまでも低下させることが可能となる。凹凸構造層３０の凹凸面３１が超親水性を発現するのは、凹凸構造層３０をなす材料自体の親水性が、凹凸構造層３０の微小突起３２によって形成された比表面積が大きい凹凸面３１によって、大幅に増強されること、に起因していると考えられる。そして、反射防止機能および防曇機能の両方を極めて高いレベルで発現し得る凹凸面３１を、区画部材１０の表面に適用したことにより、後述するように、透明な区画部材１０に対する固有の要求、すなわち、視界を確保しながら領域の区画を行うといった要求に好適な優れた作用効果を奏することができる。 Compared with the hydrophilicity of the material itself used for the concavo-convex structure layer 30, the concavo-convex surface 31 of the concavo-convex structure layer 30 formed by using the hydrophilic material exhibits superhydrophilicity exceeding expectations. Specifically, when the uneven structure layer 30 is formed using a material having a contact angle with water of 50 ° or more and 90 ° or less, the contact angle of the uneven surface 31 with water can be reduced to 20 ° or less. It will be possible. The concavo-convex surface 31 of the concavo-convex structure layer 30 exhibits superhydrophilicity because the hydrophilicity of the material itself forming the concavo-convex structure layer 30 is formed by the microprojections 32 of the concavo-convex structure layer 30 and has a large specific surface area. It is considered that this is due to the fact that it is significantly enhanced. Then, by applying the uneven surface 31 capable of exhibiting both the antireflection function and the antifogging function at an extremely high level to the surface of the partition member 10, as will be described later, a unique requirement for the transparent partition member 10 That is, it is possible to obtain an excellent effect suitable for the requirement of partitioning the region while ensuring the visibility.
したがって、このような背景からすれば、親水性材料を用いて形成された凹凸構造層３０を区画部材１０へ適用することによって奏される作用効果は、技術水準から予測される範囲を超えた顕著なものと言える。或いは、親水性材料を用いて形成された凹凸構造層３０の区画部材１０への適用は、モスアイ構造体としての凹凸構造層３０の反射防止機能とは異質または際だった作用効果であり且つ凹凸構造層３０をなす材料自体の親水性と比較して際だって優れた作用効果を奏することを可能にしていると言える。 Therefore, from such a background, the action and effect produced by applying the concavo-convex structure layer 30 formed by using the hydrophilic material to the partition member 10 is remarkable beyond the range predicted from the technical level. It can be said that it is. Alternatively, the application of the concavo-convex structure layer 30 formed by using the hydrophilic material to the partition member 10 has an action effect different from or outstanding from the antireflection function of the concavo-convex structure layer 30 as the moth-eye structure, and the unevenness. It can be said that it is possible to exert an outstandingly excellent action and effect as compared with the hydrophilicity of the material itself forming the structural layer 30.
なお、本件明細書において、「親水性」とは、水に対する接触角が９０°未満となることを意味している。また、本明細書で言及する接触角は、ＪＩＳＲ３２５７（１９９９）に準拠して測定された値とする。すなわち、明細書で言及する接触角は、θ／２法で測定される静的接触角のことであり、例えば協和界面科学社製 接触角計ＤＭ ５００を用いて測定され得る。また、材料自体の水に対する接触角は、実際の測定対象となる部位の表面の影響を排除するため、当該材料を用いて厚さ１０μｍの膜を形成して、当該膜の水に対する接触角をＪＩＳＲ３２５７（１９９９）に準拠して測定した値とする。 In the present specification, "hydrophilic" means that the contact angle with water is less than 90 °. Further, the contact angle referred to in the present specification is a value measured in accordance with JIS R3257 (1999). That is, the contact angle referred to in the specification is a static contact angle measured by the θ / 2 method, and can be measured using, for example, a contact angle meter DM 500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. Further, the contact angle of the material itself with water is determined by forming a film having a thickness of 10 μm using the material in order to eliminate the influence of the surface of the actual measurement target portion. The value is measured in accordance with JIS R3257 (1999).
また、区画部材１０を介した良好な視認性を確保する観点から、反射防止フィルム２０の可視光透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。 Further, from the viewpoint of ensuring good visibility through the partition member 10, the visible light transmittance of the antireflection film 20 is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.
以下、反射防止フィルム２０の透明基材２５及び凹凸構造層３０について順に説明していく。 Hereinafter, the transparent base material 25 and the uneven structure layer 30 of the antireflection film 20 will be described in order.
＜透明基材＞
透明基材２５としては、既知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。例えば、透明板１５に用いられる材料として例示した材料を、透明基材２５に適用することができる。透明基材２５がポリエチレンテレフタレートで構成されている場合には、ポリエチレンテレフタレートは切断され難いので、何らかの原因により透明板１５が割れた時に、透明板１５の破片が飛散され難くできる。よって、安全性を高めることができる。また、反射防止フィルム２０を水貼りする際には、ポリエチレンテレフタレートは湾曲し難いので、容易に貼り付けることができる。
<Transparent substrate>
As the transparent base material 25, a known transparent base material can be appropriately selected and used, and is not particularly limited. For example, the material exemplified as the material used for the transparent plate 15 can be applied to the transparent base material 25. When the transparent base material 25 is made of polyethylene terephthalate, the polyethylene terephthalate is difficult to cut, so that when the transparent plate 15 is cracked for some reason, the fragments of the transparent plate 15 are less likely to be scattered. Therefore, safety can be enhanced. Further, when the antireflection film 20 is water-coated, the polyethylene terephthalate is difficult to bend, so that it can be easily attached.
ただし、区画部材１０を介した良好な視認性を確保する観点から、透明基材２５の可視光透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。また、透明基材２５と接合層１８との界面における反射を抑制する観点から、透明基材２５と接合層１８との屈折率差が０．０３以下となっていることが好ましく、０．０１以下となっていることがより好ましい。 However, from the viewpoint of ensuring good visibility through the partition member 10, the visible light transmittance of the transparent base material 25 is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. Further, from the viewpoint of suppressing reflection at the interface between the transparent base material 25 and the bonding layer 18, the difference in refractive index between the transparent base material 25 and the bonding layer 18 is preferably 0.03 or less, preferably 0.01. It is more preferable that it is as follows.
透明基材２５の厚みは、反射防止フィルム２０の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、透明基材２５は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。ただし、接合層１８がリワーク性を有している場合には、透明板１５からの反射防止フィルム２０の剥離を容易に行うことができるよう、透明基材２５は後述する凹凸構造層３０とともに湾曲可能な厚みとなっていることが好ましい。 The thickness of the transparent base material 25 can be appropriately set according to the use of the antireflection film 20, and is not particularly limited, but is usually 20 to 5000 μm, and the transparent base material 25 is supplied in the form of a roll. It may be either one that does not bend enough to be wound but bends when a load is applied, or one that does not bend completely. However, when the bonding layer 18 has reworkability, the transparent base material 25 is curved together with the uneven structure layer 30, which will be described later, so that the antireflection film 20 can be easily peeled off from the transparent plate 15. It is preferably as thick as possible.
透明基材２５の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有していてもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。また、透明基材２５と凹凸構造層３０とが別の材料から形成される場合には、透明基材２５と凹凸構造層３０との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性を向上させるためのプライマー層を透明基材２５上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材２５および凹凸構造層３０との双方に密着性を有し、透明であることが好ましい。プライマー層の材料としては、電離放射線硬化樹脂や熱硬化樹脂などを用いることが出来る。 The structure of the transparent base material 25 is not limited to a structure composed of a single layer, and may have a structure in which a plurality of layers are laminated. When a plurality of layers are laminated, layers having the same composition may be laminated, or a plurality of layers having different compositions may be laminated. Further, when the transparent base material 25 and the uneven structure layer 30 are formed of different materials, the adhesion between the transparent base material 25 and the uneven structure layer 30 is improved, and thus the wear resistance is improved. The primer layer may be formed on the transparent base material 25. This primer layer has adhesiveness to both the transparent base material 25 and the uneven structure layer 30, and is preferably transparent. As the material of the primer layer, an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, or the like can be used.
＜凹凸構造層＞
図３〜図５に示すように、凹凸構造層３０は、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列された微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有している。そして、ここで、微小突起３２の「微小」とは、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列される程度に微小であることを意味している。また、可視光線帯域の最短波長は、反射防止フィルム２０を含む区画部材１０が使用される環境下における可視光線帯域の最短波長を指している。したがって、区画部材１０が使用される環境下に制限された光源からの光のみが存在する場合には、当該光源から射出される可視光の最短波長が、ここでいう可視光線帯域の最短波長となり、それ以外の場合には、一般的な可視光線帯域の最短波長として３８０ｎｍを、ここでいう可視光線帯域の最短波長として採用する。
<Concave and convex structure layer>
As shown in FIGS. 3 to 5, the concave-convex structure layer 30 has an uneven surface 31 formed by micro-projections 32 arranged at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. And here, "micro" of the microprojection 32 means that it is so small that it is arranged at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. Further, the shortest wavelength of the visible light band refers to the shortest wavelength of the visible light band in an environment in which the partition member 10 including the antireflection film 20 is used. Therefore, when only the light from the limited light source exists in the environment where the partition member 10 is used, the shortest wavelength of the visible light emitted from the light source becomes the shortest wavelength of the visible light band referred to here. In other cases, 380 nm is adopted as the shortest wavelength of the general visible light band as the shortest wavelength of the visible light band referred to here.
凹凸構造層３０の凹凸面３１は、反射防止機能および防曇機能の両方を発揮し、区画部材１０に対して、店舗９０の外部Ｓｏから内部Ｓｉを観察した際における良好な視認性を付与する。この観点から、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での５°正反射による反射率が、０％以上０．３％以下となっていることが好ましく、０．１％以下となっていることがより好ましい。同時に、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での水に対する接触角が、０°より大きく３０°以下となっていることが好ましく、２０°以下となっていることがより好ましく、９°以下となっていることが更に好ましく、６°以下であることが更により好ましい。そして、以下に説明するようにして凹凸構造層３０を形成すれば、このような特性を実現することができる。 The uneven surface 31 of the uneven structure layer 30 exerts both an antireflection function and an antifogging function, and imparts good visibility to the partition member 10 when observing the internal Si from the external So of the store 90. .. From this point of view, the reflectance of the concave-convex structure layer 30 due to 5 ° specular reflection on the concave-convex surface 31 is preferably 0% or more and 0.3% or less, and preferably 0.1% or less. Is more preferable. At the same time, the contact angle of the concave-convex structure layer 30 with water on the concave-convex surface 31 is preferably larger than 0 ° and 30 ° or less, more preferably 20 ° or less, and 9 ° or less. It is more preferably 6 ° or less, and even more preferably 6 ° or less. Then, if the concave-convex structure layer 30 is formed as described below, such characteristics can be realized.
なお、本明細書で言及する正反射の反射率は、(株)島津製作所製のUV-3100を用いてＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定された値とする。 The specular reflectance referred to in this specification is a value measured in accordance with JIS R3106 using UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation.
凹凸構造層３０は、樹脂を含有してなる層とすることができ、更に、樹脂組成物の硬化物からなる層とすることができる。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂組成物は、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。凹凸構造層３０と透明基材２５との界面における反射を抑制する観点から、凹凸構造層３０と透明基材２５との屈折率差が０．０３以下となっていることが好ましく、０．０１以下となっていることがより好ましい。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、上述したように、親水性を有する材料であれば特に限定されない。例えば、アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を、凹凸構造層３０の形成に用いることができる。 The uneven structure layer 30 can be a layer containing a resin, and can be a layer made of a cured product of the resin composition. The resin composition used for forming the concavo-convex structure layer 30 contains at least a resin and, if necessary, contains other components such as a polymerization initiator. From the viewpoint of suppressing reflection at the interface between the concave-convex structure layer 30 and the transparent base material 25, the difference in refractive index between the uneven structure layer 30 and the transparent base material 25 is preferably 0.03 or less, preferably 0.01. It is more preferable that it is as follows. As described above, the resin used for forming the concavo-convex structure layer 30 is not particularly limited as long as it is a hydrophilic material. For example, ionizing radiation curable resins such as acrylate-based, epoxy-based and polyester-based, thermosetting resins such as acrylate-based, urethane-based, epoxy-based and polysiloxane-based, acrylate-based, polyester-based, polycarbonate-based, polyethylene-based and polypropylene. Various materials such as thermoplastic resins such as systems and various cured forms of shaping resins can be used for forming the concave-convex structure layer 30.
なお、凹凸構造層３０に高い親水性を付与する観点からは、親水性の高い構造を持った樹脂、例えばエチレンオキシド基（ＥＯ基）やヒドロキシル基、カルボキシル基等を有する化合物を含む組成物を用いて、凹凸構造層３０が形成されていることが好ましい。凹凸構造層３０をなす樹脂材料自体の水に対する接触角度は、９０°以下となっていれば十分であり、６０°以下となっていればより好ましい。 From the viewpoint of imparting high hydrophilicity to the concave-convex structure layer 30, a composition containing a resin having a highly hydrophilic structure, for example, a compound having an ethylene oxide group (EO group), a hydroxyl group, a carboxyl group, or the like is used. Therefore, it is preferable that the uneven structure layer 30 is formed. The contact angle of the resin material itself forming the concavo-convex structure layer 30 with water is sufficient if it is 90 ° or less, and more preferably 60 ° or less.
凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、微小突起３２の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。 As the resin used for forming the concave-convex structure layer 30, an ionizing radiation curable resin is preferable from the viewpoint of excellent moldability and mechanical strength of the microprojections 32. The ionizing radiation curable resin is a mixture of a monomer having a radically polymerizable and / or a cationically polymerizable bond in the molecule, a polymer having a low degree of polymerization, and a reactive polymer, and is prepared by using a polymerization initiator. It is to be cured. In addition, a non-reactive polymer may be contained. The ionizing radiation means an electromagnetic wave or a charged particle having an energy capable of polymerizing and curing a molecule, and for example, all ultraviolet rays (UV, UV-B, UV-C), visible light, gamma ray, X-ray. Examples include ultraviolet rays and electron beams.
樹脂組成物は、さらに必要に応じて、界面活性剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。とりわけ、樹脂組成物が、上述した親水性基を含む界面活性剤を含有するようにしてもよいが、樹脂組成物の主な親水性が界面活性剤により担持される場合には、経年での界面活性剤溶出による防曇性能低下が懸念されるため、樹脂骨格自体が親水性であることがより好ましい。 The resin composition further comprises a surfactant, a polymerization initiator, a mold release agent, a photosensitizer, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a cross-linking agent, an infrared absorber, an antistatic agent, and a viscosity modifier, if necessary. , Adhesion improver and the like can also be contained. In particular, the resin composition may contain a surfactant containing the above-mentioned hydrophilic group, but when the main hydrophilicity of the resin composition is supported by the surfactant, it may be aged. It is more preferable that the resin skeleton itself is hydrophilic because there is a concern that the antifogging performance may be deteriorated due to the elution of the surfactant.
次に、凹凸構造層３０の寸法について説明する。モスアイ構造による反射防止機能では、モスアイ構造体とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものである。このため、凹凸構造層３０の凹凸面３１は、凹凸構造層３０のシート面に沿って可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄで配列された微小突起３２によって形成されている。優れた反射防止機能を確保する観点から、隣接する微小突起３２の間隔ｄの最大値ｄｍａｘが、可視光線帯域の最短波長以下となっていることがより好ましい。ここで、この間隔ｄに係る隣接する微小突起３２とは、いわゆる隣り合う微小突起３２であり、透明基材２５側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している二つの突起である。凹凸構造層３０では微小突起３２が密接して配置されることにより、微小突起３２間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起３２は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。また、間隔ｄは、図４に示すように、反射防止フィルム２０のフィルム面に沿った、隣接する二つの微小突起３２の頂部３３間の距離とすることができる。以下において、隣接する微小突起３２の間隔ｄを隣接突起間距離とも呼ぶ。 Next, the dimensions of the concave-convex structure layer 30 will be described. In the antireflection function by the moth-eye structure, the effective refractive index at the interface between the moth-eye structure and the medium adjacent thereto is continuously changed in the thickness direction to prevent reflection. Therefore, the concavo-convex surface 31 of the concavo-convex structure layer 30 is formed by microprojections 32 arranged along the sheet surface of the concavo-convex structure layer 30 at intervals d equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. From the viewpoint of ensuring an excellent antireflection function, it is more preferable that the maximum value d max of the interval d of the adjacent microprojections 32 is equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. Here, the adjacent microprojections 32 related to the interval d are so-called adjacent microprojections 32, and are two protrusions in which the hem portion of the microprojections, which is the base portion on the transparent substrate 25 side, is in contact with each other. .. Since the microprojections 32 are closely arranged in the concave-convex structure layer 30, when a line segment is created by sequentially tracing the valleys between the microprojections 32, a polygonal region surrounding each microprojection is formed in a plan view. A mesh-like pattern formed by connecting a large number of them will be produced. The adjacent microprojections 32 related to the interval d are projections that share a part of the line segments constituting this mesh-like pattern. Further, as shown in FIG. 4, the distance d can be the distance between the tops 33 of the two adjacent microprojections 32 along the film surface of the antireflection film 20. In the following, the distance d between adjacent microprojections 32 is also referred to as the distance between adjacent projections.
ただし、凹凸構造層３０に対して優れた反射防止機能および防曇機能を付与する観点からは、凹凸構造層３０をなす微小突起３２が次のように形成されていることがより好ましい。まず、凹凸構造層３０の微小突起３２は、反射防止フィルム２０のフィルム面に沿って、７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の間隔ｄで設けられていることが好ましく、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔ｄで設けられていることがより好ましい。また、反射防止フィルム２０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿った微小突起３２の高さＨは、５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下となっていることが好ましく、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっていることがより好ましい。 However, from the viewpoint of imparting an excellent antireflection function and antifogging function to the uneven structure layer 30, it is more preferable that the microprojections 32 forming the uneven structure layer 30 are formed as follows. First, the microprojections 32 of the concave-convex structure layer 30 are preferably provided along the film surface of the antireflection film 20 at intervals d of 70 nm or more and 300 nm or less, and are provided at intervals d of 70 nm or more and 180 nm or less. It is more preferable to have. Further, the height H of the microprojections 32 along the normal direction nd of the antireflection film 20 to the film surface is preferably 50 nm or more and 300 nm or less, and more preferably 100 nm or more and 250 nm or less. preferable.
また、凹凸構造層３０の凹凸面３１上における超親水性は、親水性の材料と凹凸面３１との組み合わせによって得られ、微小突起３２のアスペクト比および凹凸面３１の比表面積の影響を受ける。同様に、凹凸面３１での反射防止機能も、微小突起３２のアスペクト比の影響を受ける。アスペクト比は、微小突起３２の幅に対する微小突起３２の高さＨの比であり、凹凸構造層３０においては、微小突起３２の幅を微小突起３２間の間隔ｄと置き換えて取り扱うことが可能な指標である。凹凸構造層３０に対して優れた反射防止機能および防曇機能を付与する観点から、微小突起３２のアスペクト比は、０．１７以上４．２３以下となっていることが好ましく、１．８以上３．５７以下となっていることがより好ましい。一方、比表面積は、単位面積あたりの実効表面積である。上記微細突起構造により、比表面積が増大すると、凹凸構造を形成する材料の親水性が、より親水側に強調される。 Further, the superhydrophilicity of the uneven structure layer 30 on the uneven surface 31 is obtained by combining the hydrophilic material and the uneven surface 31, and is affected by the aspect ratio of the microprojections 32 and the specific surface area of the uneven surface 31. Similarly, the antireflection function on the uneven surface 31 is also affected by the aspect ratio of the microprojections 32. The aspect ratio is the ratio of the height H of the microprojections 32 to the width of the microprojections 32, and in the concave-convex structure layer 30, the width of the microprojections 32 can be replaced with the distance d between the microprojections 32. It is an index. From the viewpoint of imparting an excellent anti-reflection function and anti-fog function to the uneven structure layer 30, the aspect ratio of the microprojections 32 is preferably 0.17 or more and 4.23 or less, and 1.8 or more. It is more preferably 3.57 or less. On the other hand, the specific surface area is the effective surface area per unit area. When the specific surface area is increased by the fine protrusion structure, the hydrophilicity of the material forming the uneven structure is emphasized on the hydrophilic side.
なお、凹凸構造層３０の凹凸面３１及び微小突起３２に関する各種寸法及び形状は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて、特定することができる。 The various dimensions and shapes of the uneven surface 31 and the microprojections 32 of the concave-convex structure layer 30 are specified by using an atomic force microscope (AFM) or a scanning electron microscope (SEM). be able to.
凹凸構造層３０の厚みは、特に限定されないが、一例として５〜３００μｍとすることができる。なお、この場合の凹凸構造層３０の厚みとは、図３に示すように、凹凸構造層３０の透明基材２５側の界面から、当該凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微小突起３２の頂部３３までの反射防止フィルム２０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿った高さｔ１を意味する。 The thickness of the uneven structure layer 30 is not particularly limited, but can be 5 to 300 μm as an example. In this case, the thickness of the concave-convex structure layer 30 is, as shown in FIG. 3, the microprojections 32 forming the concave-convex surface 31 of the concave-convex structure layer 30 from the interface of the concave-convex structure layer 30 on the transparent base material 25 side. It means the height t 1 along the normal direction nd of the antireflection film 20 up to the top 33 to the film surface.
また、凹凸構造層３０をその法線方向ｎｄに対して傾斜した方向から観察した場合、凹凸構造層３０の凹凸面３１が白く濁ったように観察されることがあるが、これは凹凸のピッチが可視光の下限波長に近い場合に散乱が発生するという現象に基づく。これを回避するにはピッチを小さくしていけばよいが、斜めから見たときに見えにくくしたいという用途の場合にはあえてピッチを広くするという設計も可能である。 Further, when the concave-convex structure layer 30 is observed from a direction inclined with respect to its normal direction nd, the uneven surface 31 of the concave-convex structure layer 30 may be observed as white and muddy, but this is the pitch of the unevenness. Is based on the phenomenon that scattering occurs when is close to the lower limit wavelength of visible light. To avoid this, the pitch should be reduced, but if the application is to make it difficult to see when viewed from an angle, it is possible to design the pitch to be wide.
白い濁りが観察されるようになるメカニズムは、以下のことが要因であると推察される。まず、光の波長に対して小さく形成した微小突起３２を斜めから観察することにより、当該観察方向に沿った微小突起３２の断面形状が変化する。そして、凹凸構造層３０の法線方向から傾斜したある観察方向から観察する際、当該観察方向と平行になる断面での微小突起３２の外周長が、概ね、可視光の波長と等しくなることがある。この際、微小突起３２によってミー散乱が生じ、観察者はミー散乱した光を白く濁った光として観察しているものと推察される。ただし、本発明は、この推定に拘束されるものではない。 The mechanism by which white turbidity is observed is presumed to be due to the following factors. First, by observing the microprojections 32 formed small with respect to the wavelength of light from an angle, the cross-sectional shape of the microprojections 32 along the observation direction changes. Then, when observing from a certain observation direction inclined from the normal direction of the concave-convex structure layer 30, the outer peripheral length of the microprojections 32 in the cross section parallel to the observation direction may be substantially equal to the wavelength of visible light. is there. At this time, Mie scattering occurs due to the minute protrusions 32, and it is presumed that the observer observes the Mie scattered light as white and muddy light. However, the present invention is not bound by this estimation.
以上のような凹凸構造層３０では、区画部材１０を介した良好な視認性を確保することを考慮すると、当該凹凸構造層３０単体での可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。 In the concavo-convex structure layer 30 as described above, the visible light transmittance of the concavo-convex structure layer 30 alone is preferably 90% or more in consideration of ensuring good visibility through the partition member 10. More preferably, it is 95% or more.
ところで、図５に示された凹凸構造層３０において、微小突起３２は不規則的に配置されているが、微小突起３２の配列は、不規則的でも規則的でもよい。ただし、干渉模様の発生を防止する観点からは、微小突起３２の配列が不規則的であることが好ましい。したがって、図１及び図２に示すように、二枚の反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが少なくとも部分的に重なるように配置されている場合には、二枚の反射防止フィルム２０ａ，２０ｂの間で微小突起３２の配列に起因した干渉模様が生じてしまうことのないよう、少なくとも一方の反射防止フィルム２０の微小突起３２の配列が不規則となっていることが好ましい。 By the way, in the concave-convex structure layer 30 shown in FIG. 5, the microprojections 32 are irregularly arranged, but the arrangement of the microprojections 32 may be irregular or regular. However, from the viewpoint of preventing the occurrence of interference patterns, it is preferable that the arrangement of the microprojections 32 is irregular. Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, when the two antireflection films 20a and 20b are arranged so as to at least partially overlap each other, a minute amount is formed between the two antireflection films 20a and 20b. It is preferable that the arrangement of the minute protrusions 32 of at least one of the antireflection films 20 is irregular so that the interference pattern caused by the arrangement of the protrusions 32 does not occur.
＜反射防止フィルムの製造方法＞
反射防止フィルム２０は、透明基材２５上に凹凸構造層３０を形成する従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、まず透明基材２５上に、凹凸構造層３０を構成するようになる凹凸構造層形成用樹脂組成物を塗布し、所望の微小突起形状と相補的な微細穴を有する凹凸構造層形成用原版を用いて、凹凸構造層形成用樹脂組成物の塗膜に賦型した後、該凹凸構造層形成用樹脂組成物を硬化させることにより凹凸構造層を形成し、凹凸構造層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。凹凸構造層形成用樹脂組成物を硬化させる方法は、該凹凸構造層形成用樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。
<Manufacturing method of antireflection film>
The antireflection film 20 may be appropriately selected from conventionally known methods for forming the concave-convex structure layer 30 on the transparent base material 25. For example, first, a resin composition for forming a concavo-convex structure layer 30 that constitutes the concavo-convex structure layer 30 is applied onto the transparent base material 25, and the resin composition for forming the concavo-convex structure layer having fine holes complementary to the desired microprojection shape is formed. After shaping the coating film of the resin composition for forming the uneven structure layer using the original plate, the uneven structure layer is formed by curing the resin composition for forming the uneven structure layer, and from the original plate for forming the uneven structure layer. Examples include a method of peeling. The method for curing the resin composition for forming the uneven structure layer can be appropriately selected depending on the type of the resin composition for forming the uneven structure layer and the like.
凹凸構造層形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。凹凸構造層形成用原版の微細穴を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。凹凸構造層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は各種の中間層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に微細穴を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。 The original plate for forming the concave-convex structure layer is not particularly limited as long as it is not deformed and worn when repeatedly used, and may be made of metal or resin, but is usually made of resin. Metal is preferably used. This is because it has excellent deformation resistance and wear resistance. The surface of the original plate for forming the concavo-convex structure layer having fine holes is not particularly limited, but is preferably made of aluminum because it is easily oxidized and can be easily processed by anodizing. Specifically, the original plate for forming a concavo-convex structure layer is a high-purity aluminum layer formed by sputtering or the like directly on the surface of a metal base material such as stainless steel, copper, or aluminum, or through various intermediate layers. Is provided, and fine holes are formed in the aluminum layer. Before the aluminum layer is provided, the surface of the base material may be super-mirrored by an electrolytic composite polishing method in which an electrolytic elution action and an abrasion action by abrasive grains are combined.
凹凸構造層形成用原版に微細穴を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によってアルミニウム層の表面に複数の微細な穴を形成する陽極酸化工程と、アルミニウム層をエッチングすることにより微細穴の開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程と、アルミニウム層を第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより微細穴の穴径を拡大する第２エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。 As a method of forming fine holes in the original plate for forming a concavo-convex structure layer, for example, an anodization step of forming a plurality of fine holes on the surface of the aluminum layer by an anodic oxidation method and an etching of the aluminum layer are performed to form the fine holes. The first etching step of forming a tapered shape in the opening and the second etching step of expanding the hole diameter of the fine hole by etching the aluminum layer at an etching rate higher than the etching rate of the first etching step are sequentially repeated. It can be formed by performing. When forming a fine uneven shape, the desired shape can be obtained by appropriately adjusting the purity (impurity amount) of the aluminum layer, the crystal grain size, and various conditions of the anodizing treatment and / or the etching treatment. .. In the anodic oxidation treatment, more specifically, by controlling the liquid temperature, the applied voltage, the time required for anodic oxidation, etc., the fine pores are prepared into a shape corresponding to the desired depth and the shape of the fine protrusions, respectively. Can be done.
このようにして、凹凸構造層形成用原版は、深さ方向に徐々に穴径が小さくなる多数の微細穴が密に作製される。当該凹凸構造層形成用原版を用いて製造される凹凸構造層３０には、凹凸構造層形成用原版の微細穴に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる複数の微小突起３２が密接して配置された凹凸構造層３０が形成され、すなわち、当該微小突起３２の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起３２を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細突起３２の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微小突起形状が形成される。 In this way, in the original plate for forming the concave-convex structure layer, a large number of fine holes whose hole diameters gradually decrease in the depth direction are densely formed. The concavo-convex structure layer 30 manufactured by using the concavo-convex structure layer forming original plate has a plurality of microprojections 32 whose diameters gradually decrease as they approach the top, corresponding to the fine holes of the concavo-convex structure layer forming original plate. The material portion of the material portion forming the microprojections 32 in the horizontal cross section where the closely arranged concavo-convex structure layer 30 is formed, that is, it is assumed that the microprojections 32 are cut in a horizontal plane orthogonal to the depth direction. A microprojection shape is formed in which the cross-sectional area occupancy rate continuously and gradually increases as it approaches the deepest portion from the top of the microprojection 32.
また、凹凸構造層形成用原版の形状としては、所望の形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、平板状であっても良く、ロール状であっても良いが、凹凸構造層形成用原版は、生産性向上の観点からは、ロール状の金型（以下、「ロール金型」と称する場合がある。）を用いることが好ましい。ロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。 Further, the shape of the original plate for forming the uneven structure layer is not particularly limited as long as it can form a desired shape, and may be, for example, a flat plate shape or a roll shape. However, from the viewpoint of improving productivity, it is preferable to use a roll-shaped mold (hereinafter, may be referred to as a “roll mold”) as the original plate for forming the uneven structure layer. As the roll mold, for example, a cylindrical metal material is used as the base material, and as described above, an aluminum layer provided on the peripheral side surface of the base material directly or via various intermediate layers. Examples thereof include those in which fine uneven shapes are produced by repeating anodization treatment and etching treatment.
図５に、凹凸構造層形成用樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を用い、凹凸構造層形成用原版としてロール金型を用いた場合に、透明基材２５上に凹凸構造層３０を形成する方法の一例を示す。図５に示す方法では、樹脂供給工程において、ダイ３６により帯状フィルム形態の透明基材２５に、未硬化で液状の光硬化性樹脂組成物を塗布し、微小突起形状の受容層３５を形成する。なお光硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ３６による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ３８ａにより、第一の凹凸構造層形成用原版であるロール金型３７の周側面に透明基材２５を加圧押圧し、これにより透明基材２５に受容層３５を密着させると共に、ロール金型３７の周側面に作製された微細な凹凸形状の穴に、受容層３５を構成する光硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により光硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより透明基材２５の表面に凹凸構造層３０を作製する。続いて剥離ローラ３８ｂを介してロール金型３７から、硬化した凹凸構造層３０と一体に透明基材２５を剥離する。必要に応じてこの透明基材２５に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止フィルム２０を作製する。これにより反射防止フィルム２０は、ロール材による長尺の透明基材２５に、凹凸構造層形成用原版であるロール金型３７の周側面に作製された微小突起形状３２を順次賦型して、効率良く大量生産される。 In FIG. 5, when a photocurable resin composition is used as the resin composition for forming the uneven structure layer and a roll mold is used as the original plate for forming the uneven structure layer, the uneven structure layer 30 is formed on the transparent base material 25. An example of how to do this is shown. In the method shown in FIG. 5, in the resin supply step, the uncured and liquid photocurable resin composition is applied to the transparent base material 25 in the form of a strip film by the die 36 to form the microprojection-shaped receiving layer 35. .. Regarding the application of the photocurable resin composition, various methods can be applied, not limited to the case of using the die 36. Subsequently, the pressing roller 38a presses the transparent base material 25 against the peripheral side surface of the roll mold 37, which is the original plate for forming the first uneven structure layer, thereby bringing the receiving layer 35 into close contact with the transparent base material 25. At the same time, the photocurable resin composition constituting the receiving layer 35 is sufficiently filled in the fine uneven holes formed on the peripheral side surface of the roll mold 37. In this state, the photocurable resin composition is cured by irradiation with ultraviolet rays, whereby the uneven structure layer 30 is formed on the surface of the transparent base material 25. Subsequently, the transparent base material 25 is peeled from the roll mold 37 via the peeling roller 38b integrally with the cured uneven structure layer 30. If necessary, an adhesive layer or the like is formed on the transparent base material 25, and then cut into a desired size to prepare an antireflection film 20. As a result, the antireflection film 20 is formed by sequentially molding the microprojection shape 32 formed on the peripheral side surface of the roll mold 37, which is the original plate for forming the uneven structure layer, onto the long transparent base material 25 made of the roll material. Efficiently mass-produced.
また上述の実施形態では、ロール金型３７を使用した賦型処理によりフィルム形状の反射防止フィルム２０を生産する場合について述べたが、この例に限らず、反射防止フィルム２０の形状に係る透明基材２５の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止フィルム２０を作成する場合等、賦型処理に係る工程、凹凸構造層形成用原版は、反射防止フィルム２０の形状に係る透明基材２５の形状に応じて適宜変更することができる。 Further, in the above-described embodiment, the case where the film-shaped antireflection film 20 is produced by the shaping process using the roll mold 37 has been described, but the present invention is not limited to this example, and the transparent group according to the shape of the antireflection film 20 is not limited to this example. Depending on the shape of the material 25, for example, when the antireflection film 20 is produced by a sheet-fed treatment using a flat plate or a molding die having a specific curved shape, a process related to the molding process, forming an uneven structure layer. The original plate can be appropriately changed according to the shape of the transparent base material 25 related to the shape of the antireflection film 20.
＜＜区画部材の反射防止機能および防曇機能＞＞
次に、以上のような区画部材１０の反射防止機能および防曇機能について詳しく説明する。上述のように、区画部材１０は、透明板１５と、透明板１５の両面に貼り付けられた反射防止フィルム２０と、を有している。反射防止フィルム２０は、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔ｄで設けられた微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有する凹凸構造層３０を有している。この反射防止フィルム２０は、凹凸面３１が透明板１５とは反対側を向くように配置されている。
<< Anti-reflection function and anti-fog function of partition members >>
Next, the antireflection function and the antifogging function of the partition member 10 as described above will be described in detail. As described above, the partition member 10 has a transparent plate 15 and an antireflection film 20 attached to both sides of the transparent plate 15. The antireflection film 20 has a concavo-convex structure layer 30 having an concavo-convex surface 31 formed by microprojections 32 provided at intervals d that are equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band. The antireflection film 20 is arranged so that the uneven surface 31 faces the side opposite to the transparent plate 15.
そして、反射防止フィルム２０の凹凸面３１上での５°正反射による反射率が０．３％以下となっており、反射防止フィルム２０の凹凸面３１上での水に対する接触角が２０°以下となっている。すなわち、反射防止フィルム２０の凹凸面３１は、従来の低屈折率層からなる反射防止層と比較して格段に優れた反射防止機能を発現することができる。同時に、反射防止フィルム２０の凹凸面３１が、超親水性を有するため、凹凸面３１が水滴で曇ってしまうことを効果的に防止することができる。具体的には、凹凸面３１上に結露等によって水滴が付着したとしても、水滴は凹凸面３１上を薄く延び広がる。この結果、凹凸面３１上での水滴粒子による光の散乱が抑制され、防曇機能が発現される。また、表面に薄い水の膜ができることから、汚れが付着しにくく、自己クリーニング性も発現する。この防曇性能は界面活性剤等の添加による親水性付与によるものではなく、親水性樹脂材料と表面微細構造の相乗効果で発現するものであるため、経年で防曇性能が劣化しにくいという特徴もある。 The reflectance of the antireflection film 20 due to 5 ° specular reflection on the uneven surface 31 is 0.3% or less, and the contact angle of the antireflection film 20 with water on the uneven surface 31 is 20 ° or less. It has become. That is, the uneven surface 31 of the antireflection film 20 can exhibit a remarkably excellent antireflection function as compared with the conventional antireflection layer made of a low refractive index layer. At the same time, since the uneven surface 31 of the antireflection film 20 has superhydrophilicity, it is possible to effectively prevent the uneven surface 31 from becoming cloudy with water droplets. Specifically, even if water droplets adhere to the uneven surface 31 due to dew condensation or the like, the water droplets spread thinly on the uneven surface 31. As a result, the scattering of light by the water droplet particles on the uneven surface 31 is suppressed, and the anti-fog function is exhibited. In addition, since a thin film of water is formed on the surface, dirt is less likely to adhere and self-cleaning property is exhibited. This anti-fog performance is not due to the addition of a surfactant or the like to impart hydrophilicity, but is expressed by the synergistic effect of the hydrophilic resin material and the surface microstructure, so that the anti-fog performance does not easily deteriorate over time. There is also.
このような区画部材１０によれば、反射防止フィルム２０が設けられた領域における表面反射が極めて効果的に防止される。したがって、単に高い可視光透過率にて、区画部材１０越しに情報表示装置８０の表示面８１の観察が可能となるだけでなく、区画部材１０の表面への写り込みを防止しながら、区画部材１０越しに情報表示装置８０の表示面８１の観察が可能となる。加えて、梅雨等の湿度が高い時期や、空調等によって店舗９０の外部Ｓｏと内部Ｓｉとの間で環境条件が相違しているような場合においても、区画部材１０の反射防止フィルム２０が設けられた領域の表面が水滴で曇ってしまうことを効果的に防止することができる。この結果、たとえ店舗９０の外部Ｓｏが内部Ｓｉより明るくなっており、明るい外部Ｓｏ側から暗い内部Ｓｉ側を観察したとしても、区画部材１０越しに暗い内部Ｓｉの表示面８１を比較的明瞭に確認することができる。 According to such a partition member 10, surface reflection in the region where the antireflection film 20 is provided is extremely effectively prevented. Therefore, not only is it possible to observe the display surface 81 of the information display device 80 through the partition member 10 with a high visible light transmittance, but also the partition member 10 is prevented from being reflected on the surface of the partition member 10. It is possible to observe the display surface 81 of the information display device 80 through 10. In addition, the antireflection film 20 of the partition member 10 is provided even when the humidity is high such as the rainy season or when the environmental conditions are different between the external So and the internal Si of the store 90 due to air conditioning or the like. It is possible to effectively prevent the surface of the designated area from becoming cloudy with water droplets. As a result, even if the outer So of the store 90 is brighter than the inner Si and the dark inner Si side is observed from the bright outer So side, the display surface 81 of the dark inner Si is relatively clear through the partition member 10. You can check.
とりわけ、透明板１５の両面に反射防止フィルム２０が形成されているため、区画部材１０の対向する一対の表面の両方であって、反射防止フィルム２０が設けられた領域において、反射防止機能および防曇機能が十分に発揮される。したがって、区画部材１０の反射防止フィルム２０が設けられた領域越しに極めて良好な視界を確保することができる。これにより、前述のように、情報表示装置８０が表示する情報を視認しやすくなり、情報伝達効果を向上できる。 In particular, since the antireflection film 20 is formed on both sides of the transparent plate 15, the antireflection function and the antireflection function and the prevention are performed in the region where the antireflection film 20 is provided on both of the pair of facing surfaces of the partition member 10. The clouding function is fully exhibited. Therefore, it is possible to secure an extremely good field of view through the region where the antireflection film 20 of the partition member 10 is provided. As a result, as described above, the information displayed by the information display device 80 can be easily visually recognized, and the information transmission effect can be improved.
さらに、凹凸構造層３０の凹凸面３１が超親水性を有していることから、水性クリーナーを用いて、凹凸面３１の汚れを十分に洗浄することができる。すなわち、クリーナーが水分とともに凹凸面３１上を延び広がり、微小突起３２間にも入り込むことができる。これにより、微小突起３２間に入り込んだ異物の除去をクリーナーによって促進することが可能となり、凹凸構造層３０が反射防止機能および防曇機能を十分に発揮し続けることができる。この点において、反射防止フィルム２０及び区画部材１０は、除染性においても優れていると言える。 Further, since the uneven surface 31 of the uneven structure layer 30 has superhydrophilicity, the dirt on the uneven surface 31 can be sufficiently cleaned by using an aqueous cleaner. That is, the cleaner extends and spreads on the uneven surface 31 together with the water, and can enter between the minute protrusions 32. As a result, the removal of foreign matter that has entered between the minute protrusions 32 can be promoted by the cleaner, and the uneven structure layer 30 can continue to sufficiently exert the antireflection function and the antifogging function. In this respect, it can be said that the antireflection film 20 and the partition member 10 are also excellent in decontamination.
さらに、低屈折率層として形成された反射防止膜での反射率は、スペクトル分布を持つ。具体的には、低屈折率層からなる反射防止膜は、低屈折率層の厚み及び観察方向に応じた特定波長の光に対して、他の波長域の光に対してよりも、優れた反射防止機能を及ぼす。結果として、観察方向に応じて低屈折率層に色味がついてしまい、区画部材１０に適用した場合には、不都合が生じることも予想される。一方、低屈折率層からなる反射防止層とは異なり、凹凸構造層３０により反射防止機能を発現する区画部材１０においては、区画部材１０を観察した際に、観察方向に応じて変化する色味が生じることはない。 Further, the reflectance of the antireflection film formed as the low refractive index layer has a spectral distribution. Specifically, the antireflection film composed of the low refractive index layer is superior to the light of a specific wavelength according to the thickness and the observation direction of the low refractive index layer and to the light of other wavelength ranges. It has an anti-reflection function. As a result, the low refractive index layer is colored according to the observation direction, and it is expected that inconvenience will occur when it is applied to the partition member 10. On the other hand, unlike the antireflection layer made of a low refractive index layer, in the partition member 10 that exhibits the antireflection function by the concave-convex structure layer 30, when the partition member 10 is observed, the color changes according to the observation direction. Will not occur.
さらに、反射防止フィルム２０は、透明基材２５上に、電離放射線硬化型樹脂を賦型してなる凹凸構造層３０を形成することにより作製され得る。そして、樹脂組成物の硬化物からなる凹凸構造層３０は、安定性の面で優れ、長期間安定して予定した機能を発揮し続けることができる。この点、化学的な手法によりロータス効果（はす効果）を発現するような構造と比較して、凹凸構造層３０の寿命は長く、しかも、安価で簡易に形成することができる。 Further, the antireflection film 20 can be produced by forming a concavo-convex structure layer 30 formed by molding an ionizing radiation curable resin on a transparent base material 25. The concave-convex structure layer 30 made of a cured product of the resin composition is excellent in terms of stability, and can continue to stably exhibit the planned function for a long period of time. In this respect, the concavo-convex structure layer 30 has a longer life, is cheaper, and can be easily formed as compared with a structure that exhibits the Lotus effect (skinning effect) by a chemical method.
＜＜凹凸構造層をなす樹脂材料＞＞
上述したように、凹凸構造層３０は、樹脂材料を用いて形成され得る。より具体的には、凹凸構造層３０は、樹脂組成物の硬化物からなり得る。ここでは、本件発明者らが、反射部材１０に組み込まれる凹凸構造層３０をなす樹脂材料について検討を行った結果について説明する。
<< Resin material forming the uneven structure layer >>
As described above, the concave-convex structure layer 30 can be formed by using a resin material. More specifically, the concave-convex structure layer 30 may consist of a cured product of the resin composition. Here, the present inventors will explain the result of examining the resin material forming the concave-convex structure layer 30 incorporated in the reflective member 10.
本件発明者らが、鋭意検討を重ねた結果として、反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０が樹脂材料、とりわけ樹脂組成物の硬化物からなる場合、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）が、次の物性を有することが好ましいことを知見した。まず、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）が３００ＭＰａ以下であることが好ましい。次に、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）に対する損失弾性率（Ｅ１”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ１”／Ｅ１’））が０．２以下であることが好ましい。さらに、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の表面における、ｎ−ヘキサデカンの接触角（θ／２法による静的接触角）が３０°以下であること、或いは、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の表面における、オレイン酸の接触角（θ／２法による静的接触角）が、２５°以下であることが好ましい。これらの場合、乾拭きで汚れが拭取りやすく、仮に表面に付着した指紋汚れ等の油性の汚れが完全に拭取れなかった場合であっても、微細凹凸層の表面に薄く広がるため、当該汚れが目立たなくなり、拭取り後の視認性が良好になる。そのため、当該反射防止フィルム２０を透明板１５に積層した場合、反射防止フィルム２０を介した透明板１５の視認性を向上させることができる。 As a result of diligent studies by the present inventors, when the concave-convex structure layer 30 of the antireflection film 20 is made of a resin material, particularly a cured product of the resin composition, the resin material (cured product of the resin composition) is , It was found that it is preferable to have the following physical properties. First, the storage elastic modulus (E1') of the resin material (cured product of the resin composition) at 25 ° C. is preferably 300 MPa or less. Next, the ratio (tan δ (= E1 ″ / E1 ′)) of the loss elastic modulus (E1 ″) to the storage elastic modulus (E1 ′) of the resin material (cured product of the resin composition) at 25 ° C. is 0.2. The following is preferable. Further, the contact angle of n-hexadecane (static contact angle by the θ / 2 method) on the surface of the resin material (cured product of the resin composition) is 30 ° or less, or the resin material (resin composition). The contact angle of oleic acid (static contact angle by the θ / 2 method) on the surface of the cured product of the object is preferably 25 ° or less. In these cases, the stains can be easily wiped off with a dry wipe, and even if oily stains such as fingerprint stains adhering to the surface cannot be completely wiped off, the stains spread thinly on the surface of the fine uneven layer, so that the stains are removed. It becomes less noticeable and the visibility after wiping is improved. Therefore, when the antireflection film 20 is laminated on the transparent plate 15, the visibility of the transparent plate 15 via the antireflection film 20 can be improved.
従来のモスアイ構造体は、耐擦傷性の点から、微小突起３２の硬度が高いものが広く用いられてきた。硬度の高い微小突起は、拭取り時に圧力がかかってもほとんど変形しないため、乾拭きで汚れを拭き取ることは困難であった。一方、圧力により容易に変形可能な微小突起３２は、圧力により当該突起３２が潰れやすく、また隣り合う微小突起が接触した状態に維持される現象であるスティッキングが生じやすく、さらに拭いた箇所に拭き痕が残ってしまいやすかった。 As the conventional moth-eye structure, a structure having high hardness of the microprojections 32 has been widely used from the viewpoint of scratch resistance. It was difficult to wipe off dirt with a dry wipe because the microprojections with high hardness hardly deform even when pressure is applied during wiping. On the other hand, the microprojections 32 that can be easily deformed by pressure are liable to be crushed by pressure, and sticking, which is a phenomenon in which adjacent microprojections are maintained in contact with each other, is likely to occur. It was easy for marks to remain.
その一方で、凹凸構造層３０をなす樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の貯蔵弾性率（Ｅ１’）が３００ＭＰａ以下、且つ、損失正接（ｔａｎδ）が０．２以下である場合、当該樹脂材料からなる凹凸構造層３０の微小突起３２は、拭取る程度の圧力で変形し、且つ、優れた弾性復元性を備えるようになる。そのため、乾拭きで汚れを拭取る際には、その圧力により微小突起３２が変形して、微小突起３２間に付着した汚れを機械的に掻き出し易くなり、その後、圧力が取り除かれると、塑性変形を生じることなく元の微小突起３２の形状に復元する。このようなことから、上記物性を有する凹凸構造層３０によれば、乾拭きであっても、反射防止性能を低下させることなく、汚れを拭取ることが可能となる。なお、拭取り時の圧力の大きさは、特に限定されるものではないが、通常、およそ２〜５ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力である。 On the other hand, when the storage elastic modulus (E1') of the resin material (cured product of the resin composition) forming the concave-convex structure layer 30 is 300 MPa or less and the loss tangent (tan δ) is 0.2 or less, the resin is concerned. The microprojections 32 of the concave-convex structure layer 30 made of a material are deformed by a pressure sufficient to be wiped off, and have excellent elastic restoration properties. Therefore, when wiping dirt with a dry wipe, the microprojections 32 are deformed by the pressure, and it becomes easy to mechanically scrape out the dirt adhering between the microprojections 32. After that, when the pressure is removed, plastic deformation occurs. It restores the original shape of the microprojections 32 without occurring. Therefore, according to the uneven structure layer 30 having the above physical characteristics, it is possible to wipe off dirt without deteriorating the antireflection performance even by dry wiping. The magnitude of the pressure at the time of wiping is not particularly limited, but is usually about 2 to 5 kg / cm 2 .
以下、凹凸構造層３０が樹脂組成物の硬化物として形成される例において、凹凸構造層の形成に用いられる凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の好適な物性を説明し、次いで、この物性を実現するための凹凸構造層形成用樹脂組成物の好適な組成について説明する。 Hereinafter, in an example in which the concavo-convex structure layer 30 is formed as a cured product of the resin composition, suitable physical properties of the cured product of the resin composition for forming the concavo-convex structure layer used for forming the concavo-convex structure layer will be described. A suitable composition of the resin composition for forming the uneven structure layer for realizing the physical properties will be described.
上述したように、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）は３００ＭＰａ以下であることが好ましい。Ｅ１’を３００ＭＰａ以下とすることにより、拭取り時の圧力によって微小突起が変形し、微小突起間の隙間に入り込んだ汚れを、乾拭きで除去することが可能となる。この観点から、中でも貯蔵弾性率（Ｅ１’）が、１〜２５０ＭＰａであることが好ましく、１〜１００ＭＰａであることがより好ましい。 As described above, the storage elastic modulus (E1') of the cured product of the resin composition for forming a concave-convex structure layer at 25 ° C. is preferably 300 MPa or less. By setting E1'to 300 MPa or less, the microprojections are deformed by the pressure at the time of wiping, and dirt that has entered the gaps between the microprojections can be removed by dry wiping. From this point of view, the storage elastic modulus (E1') is preferably 1 to 250 MPa, more preferably 1 to 100 MPa.
同様に上述したように、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）に対する損失弾性率（Ｅ１”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ１”／Ｅ１’）損失正接）が０．２以下であることが好ましい。損失正接を０．２以下とすることにより、拭取り時に変形した微小突起が、弾性復元され、元の形状に戻りやすい。これにより、突起の塑性変形やスティッキングが抑制され、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭取ることが可能になる。中でも、ｔａｎδが０．１８以下であることが好ましい。 Similarly, as described above, the ratio (tan δ (= E1 ″ / E1 ′) loss of the loss elastic modulus (E1 ″) to the storage elastic modulus (E1 ′) of the cured product of the resin composition for forming the uneven structure layer at 25 ° C. The tangent) is preferably 0.2 or less. By setting the loss tangent to 0.2 or less, the minute protrusions deformed at the time of wiping are elastically restored and easily return to the original shape. As a result, plastic deformation and sticking of the protrusions are suppressed, and dirt can be wiped off with a dry wipe without deteriorating the antireflection performance. Above all, it is preferable that tan δ is 0.18 or less.
なお、本明細書で言及する貯蔵弾性率及び損失弾性率は、ＪＩＳ Ｋ７２４４に準拠して、以下の方法により測定される。まず、凹凸構造層形成用樹脂組成物を、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微小突起形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜とする。次いで、２５℃下、上記凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、Ｅ’、Ｅ”が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ製 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いることができる。 The storage elastic modulus and the loss elastic modulus referred to in the present specification are measured by the following methods in accordance with JIS K7244. First, the resin composition for forming a concavo-convex structure layer is sufficiently cured by irradiating it with ultraviolet rays having an energy of 2000 mJ / cm 2 for 1 minute or more, and has no base material and microprojection shape, and has a thickness of 1 mm and a width of 5 mm. , A single film having a length of 30 mm. Next, at 25 ° C., a periodic external force of 25 g was applied at 10 Hz in the length direction of the cured product of the resin composition for forming the uneven structure layer, and the dynamic viscoelasticity was measured. E ”is required. As the measuring device, for example, UBM's Rheogel E400 can be used.
また、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物は、当該硬化物の表面において、ｎ−ヘキサデカンの接触角（θ／２法での静的接触角）が３０°以下であるか、或いは、オレイン酸の接触角（θ／２法での静的接触角）が、２５°以下となることが好ましい。凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の表面が上記のような親油性を有することにより、凹凸構造層３０の表面をなす凹凸面３１に付着した油性の汚れが完全に拭取れなかった場合であっても、凹凸構造層３０の凹凸面３１に薄く広がるため、当該汚れが目立たなくなり、拭取り後の視認性が良好になる。 Further, in the cured product of the resin composition for forming the concave-convex structure layer, the contact angle of n-hexadecane (static contact angle in the θ / 2 method) is 30 ° or less on the surface of the cured product, or The contact angle of oleic acid (static contact angle by the θ / 2 method) is preferably 25 ° or less. When the surface of the cured product of the resin composition for forming the uneven structure layer has lipophilicity as described above, so that the oily stains adhering to the uneven surface 31 forming the surface of the uneven structure layer 30 cannot be completely wiped off. Even if it is, since it spreads thinly on the uneven surface 31 of the uneven structure layer 30, the dirt becomes inconspicuous and the visibility after wiping becomes good.
なお、本件明細書で言及する凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の接触角（すなわち、θ／２法での静的接触角）は、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での接触角とは異なる。凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の接触角は、基材上に凹凸構造層形成用樹脂組成物を塗布して硬化させることによって形成された硬化物の、微小突起形状３２を有しない平坦な面上に、測定される接触角である。ここで平坦な面とは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９４）に準拠して測定される十点平均粗さＲｚが１０ｎｍ以下となる面である。又、本明細書で言及する樹脂材料の或いは樹脂材料自体の接触角についても同樣に測定される平坦面上の接触角を意味する。具体的な方法として、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の平坦な表面に接触角を測定しようとする溶剤（ｎ−ヘキサデカン、オレイン酸、又は純水）の１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１秒後に、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出するθ／２法に従って測定した値を、接触角の値とすることができる。測定装置としては、例えば、協和界面科学社製 接触角計ＤＭ ５００を用いることができる。 The contact angle of the cured product of the resin composition for forming the concave-convex structure layer referred to in the present specification (that is, the static contact angle by the θ / 2 method) is the contact angle of the concave-convex structure layer 30 on the uneven surface 31. Different from horns. The contact angle of the cured product of the resin composition for forming the concave-convex structure layer does not have the microprojection shape 32 of the cured product formed by applying the resin composition for forming the concave-convex structure layer on the substrate and curing the cured product. The contact angle measured on a flat surface. Here, the flat surface is a surface having a ten-point average roughness Rz of 10 nm or less measured in accordance with JIS B 0601 (1994). Further, the contact angle of the resin material or the resin material itself referred to in the present specification also means the contact angle on a flat surface measured in the same manner. As a specific method, 1.0 μL droplets of a solvent (n-hexadecane, oleic acid, or pure water) for measuring the contact angle are applied to the flat surface of the cured product of the resin composition for forming an uneven structure layer. One second after dropping, the value measured according to the θ / 2 method, which calculates the contact angle from the angle of the straight line connecting the left and right end points and the apex of the dropped droplet with respect to the solid surface, shall be the value of the contact angle. Can be done. As the measuring device, for example, a contact angle meter DM 500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. can be used.
反射防止フィルム２０において、凹凸構造層３０の凹凸面３１の弾性率は、柔軟性に優れる点から、２００〜５００ＭＰａであることが好ましく、２２０〜４００ＭＰａであることが好ましい。凹凸構造層３０の凹凸面３１の最大押し込み深さは、変形し易く、拭取り性に優れる点から、１．０〜２．０μｍであることが好ましく、１．２〜１．８μｍであることがより好ましい。また、凹凸構造層凹凸構造層３０の凹凸面３１の弾性復元率は、塑性変形が少なく、拭き痕が生じにくい点から、８０％以上であることが好ましく、８５〜９８％であることがより好ましい。 In the antireflection film 20, the elastic modulus of the concave-convex surface 31 of the concave-convex structure layer 30 is preferably 200 to 500 MPa, preferably 220 to 400 MPa from the viewpoint of excellent flexibility. The maximum pushing depth of the concave-convex surface 31 of the concave-convex structure layer 30 is preferably 1.0 to 2.0 μm, preferably 1.2 to 1.8 μm, from the viewpoint of being easily deformed and excellent in wiping property. Is more preferable. Further, the elastic restoration rate of the concave-convex surface 31 of the concave-convex structure layer 30 is preferably 80% or more, more preferably 85 to 98%, from the viewpoint that plastic deformation is small and wiping marks are unlikely to occur. preferable.
本明細書で言及する弾性率、最大押し込み深さ、及び弾性復元率は、以下のようにして測定される。すなわち、反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の凹凸面３１に、次の特定の条件で圧子を押し込んで、フィルム表面の弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率を測定することができる。測定装置は、例えば、フィッシャーインストルメンツ社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＥＲ ＨＭ−５００を用いることができる。
＜測定条件＞
・荷重速度 １ｍＮ／１０秒
・保持時間 １０秒
・荷重除荷速度 １ｍＮ／１０秒
・圧子 ビッカース
・測定温度 ２５℃
The modulus of elasticity, maximum indentation depth, and elastic modulus referred to herein are measured as follows. That is, the elastic modulus, the maximum pushing depth, and the elastic restoration rate of the film surface can be measured by pushing the indenter into the uneven surface 31 of the concave-convex structure layer 30 of the antireflection film 20 under the following specific conditions. As the measuring device, for example, PICODETER HM-500 manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd. can be used.
<Measurement conditions>
・ Load speed 1mN / 10 seconds ・ Holding time 10 seconds ・ Load unloading speed 1mN / 10 seconds ・ Indenter Vickers ・ Measurement temperature 25 ℃
次に、凹凸構造層３０の形成凹凸構造層形成用樹脂組成物の組成について説明する。 Next, the composition of the resin composition for forming the uneven structure layer 30 will be described.
凹凸構造層形成用樹脂組成物は、熱硬化性成分及び／又は光硬化性成分を含み、硬化後に上記物性が得られるものが用いられる。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。また、上記凹凸構造層形成用樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。以下、光硬化性成分として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。 As the resin composition for forming an uneven structure layer, a resin composition containing a thermosetting component and / or a photocurable component and having the above physical properties after curing is used. Above all, a photocurable resin composition containing a photocurable component is preferable. As the photocurable component, a composition containing a compound having an ethylenically unsaturated bond is preferable, and a composition containing (meth) acrylate is more preferable. The photocurable resin composition may contain at least the above-mentioned photocurable component, and may further contain other components if necessary. Further, the resin composition for forming a concave-convex structure layer may contain a compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms because the lipophilicity of the surface of the cured product is improved and the microprojections are excellent in flexibility. preferable. Hereinafter, each component in the composition containing the (meth) acrylate preferably used as the photocurable component will be described in order.
（１）（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能（メタ）アクリレートであっても、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。中でも、硬化物が上記物性を満たし、微小突起が柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。
(1) (Meta) Acrylate The (meth) acrylate is a monofunctional (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group in one molecule, but has two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. It may be a polyfunctional acrylate having, or may be a combination of a monofunctional (meth) acrylate and a polyfunctional (meth) acrylate. Above all, it is preferable to use monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate in combination from the viewpoint that the cured product satisfies the above physical characteristics and the microprojections have both flexibility and elastic resilience.
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートが好ましく、中でも、炭素数１２以上であることがより好ましく、トリデシル（メタ）アクリレート、及びドデシル（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。これらの単官能（メタ）アクリル酸エステルは、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートを用いる場合、後述する炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。 Specific examples of the monofunctional (meth) acrylate include, for example, methyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and butoxyethyl (meth) acrylate. , Butoxyethylene glycol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, isodexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) ) Acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, biphenyloxyethyl acrylate, bisphenol A diglycidyl (meth) acrylate, biphenylyloxyethyl (meth) acrylate, Examples thereof include ethylene oxide-modified biphenylyloxyethyl (meth) acrylate and bisphenol A epoxy (meth) acrylate. Of these, monofunctional (meth) acrylates having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms are preferable, and 12 or more carbon atoms are particularly preferable, because the lipophilicity of the surface of the cured product is improved and the microprojections are excellent in flexibility. It is more preferable, and it is even more preferable to contain at least one of tridecyl (meth) acrylate and dodecyl (meth) acrylate. These monofunctional (meth) acrylic acid esters can be used alone or in combination of two or more. When a monofunctional (meth) acrylate having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms is used, it also has the characteristics of a compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms, which will be described later.
単官能（メタ）アクリレートの含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。 The content of the monofunctional (meth) acrylate is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, based on the total solid content of the photocurable resin composition.
また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、エステルトリ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、微小突起が柔軟性及び復元性に優れる点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。 Specific examples of the polyfunctional acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate. , Bisphenol A di (meth) acrylate, tetrabromo bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol S di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, phthalic acid di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di ( Meta) Acrylate, Trimethylol Propanetri (Meta) Acrylate, Pentaerythritol Tri (Meta) Acrylate, Pentaerythritol Tetra (Meta) Acrylate, Tris (Acryloxyethyl) Isocyanurate, Pentaerythritol Tetra (Meta) Acrylate, Dipentaerythritol Hexa Examples thereof include (meth) acrylate, urethane tri (meth) acrylate, ester tri (meth) acrylate, urethane hexa (meth) acrylate, and ethylene oxide-modified trimethylol propantri (meth) acrylate. Among them, it is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate containing an alkylene oxide, more preferably an ethylene oxide-modified polyfunctional (meth) acrylate, and an ethylene oxide-modified from the viewpoint that the microprojections are excellent in flexibility and restorability. It is even more preferable to contain at least one of bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate.
上記多官能（メタ）アクリレートの含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９５質量％であることが好ましく、１５〜９０質量％であることがより好ましい。 The content of the polyfunctional (meth) acrylate is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 15 to 90% by mass, based on the total solid content of the photocurable resin composition.
（２）炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物
凹凸構造層形成用樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましく、炭素数１２以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、光硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましい。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物が（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記（メタ）アクリレートにも該当し得る。
(2) A compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms The resin composition for forming a concavo-convex structure layer has 10 or more carbon atoms because the lipophilicity on the surface of the cured product is improved and the microprojections are excellent in flexibility. It is preferable to contain a compound having a long-chain alkyl group, and more preferably to contain a compound having a long-chain alkyl group having 12 or more carbon atoms. Specific examples of the compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms include a compound having a decane, a dodecane, a tridecane, a tetradecane, a pentadecane, and a hexadecane. Further, it may further have a substituent as long as the effect of the present invention is not impaired. Specific examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, hydroxyl groups, carboxy groups, amino groups and sulfo groups, as well as ethylenically unsaturated double bonds such as vinyl groups and (meth) acryloyl groups. The group etc. can be mentioned. Among them, it is preferable to have an ethylenically unsaturated double bond, and more preferably to have a (meth) acryloyl group from the viewpoint of having photocurability. When the compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms has a (meth) acryloyl group, the compound may also correspond to the (meth) acrylate.
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。 When a compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms is used, the content of the compound is preferably 5 to 30% by mass, preferably 10 to 30% by mass, based on the total solid content of the photocurable resin composition. More preferably, it is 20% by mass.
凹凸構造層形成用樹脂組成物として好ましく用いられる光硬化性樹脂組成物は、硬化物の貯蔵弾性率、損失正接を上記所定の範囲に調整しやすく、且つ親油性に調整しやすく、優れた乾拭き取り性を得ることができる点から、少なくとも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートと、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートとを含有することが特に好ましい。中でも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートの含有割合が、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレート１００質量部に対して、５〜３０質量部であることが好ましく、１０〜１５質量部であることがより好ましい。 The photocurable resin composition preferably used as a resin composition for forming an uneven structure layer is easy to adjust the storage elastic modulus and loss tangent of the cured product within the above-mentioned predetermined ranges, and is easy to adjust to lipophilicity, and is excellent in drying. It is particularly preferable to contain at least a (meth) acrylate having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms and an ethylene oxide-modified polyfunctional (meth) acrylate from the viewpoint of obtaining wiping property. Above all, the content ratio of the (meth) acrylate having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms is preferably 5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ethylene oxide-modified polyfunctional (meth) acrylate. More preferably, it is ~ 15 parts by mass.
（３）光重合開始剤
上記（メタ）アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
(3) Photopolymerization Initiator In order to initiate or accelerate the curing reaction of the (meth) acrylate, a photopolymerization initiator may be appropriately selected and used as necessary. Specific examples of the photopolymerization initiator include bisacylphosphinoxide, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 2,2-dimethoxy-1. , 2-Diphenylethane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 2-methyl-1- [4-] (Methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl -Propane-1-ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide, phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphinic acid Ethyl and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤の含有量は、通常、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。 When a photopolymerization initiator is used, the content of the photopolymerization initiator is usually 0.8 to 20% by mass and 0.9 to 10% by mass with respect to the total solid content of the photocurable resin composition. Is preferable.
（４）帯電防止剤
凹凸構造層形成用樹脂組成物中に帯電防止剤を含有することが好ましい。帯電防止剤を含有することにより、凹凸構造層３０の凹凸面３１に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、１級〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、３級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
(4) Antistatic agent It is preferable that the antistatic agent is contained in the resin composition for forming the uneven structure layer. By containing the antistatic agent, it is possible to prevent dirt from adhering to the uneven surface 31 of the uneven structure layer 30, and the dirt is easily removed during wiping. The antistatic agent can be appropriately selected and used from conventionally known ones. Specific examples of the antistatic agent include, for example, various cationic compounds having a cationic group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, and a primary to tertiary amino group, a sulfonic acid base, a sulfate ester base, and a phosphoric acid ester. Anionic compounds having anionic groups such as bases and phosphonic acid bases, amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters, nonionic compounds such as aminoalcohols, glycerins and polyethylene glycols, and alkoxides of tin and titanium. Examples thereof include organic metal compounds such as, and metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof. Of these, a cationic compound is preferable, a cationic compound having a tertiary amino group is more preferable, and a trialkylamine such as N, N-dioctyl-1-octaneamine is even more preferable.
帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して１〜２０質量％であり、２〜１０質量％であることが好ましい。 When an antistatic agent is used, the content of the antistatic agent is usually 1 to 20% by mass and preferably 2 to 10% by mass with respect to the total solid content of the photocurable resin composition.
（５）溶剤
凹凸構造層形成用樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、凹凸構造層形成用樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
(5) Solvent As the resin composition for forming the uneven structure layer, a solvent may be used from the viewpoint of imparting coatability and the like. When a solvent is used, the solvent does not react with each component in the composition, and each component can be appropriately selected and used from a solvent capable of dissolving or dispersing the component. Specific examples of such a solvent include hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane and propylene glycol monoethyl ether (). Ether solvents such as PGME), alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate, and amide solvents such as N, N-dimethylformamide. , And sulfoxide-based solvents such as dimethyl sulfoxide, anone-based solvents such as cyclohexane, and alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, and propanol, but are not limited thereto. Further, the solvent used in the resin composition for forming the concave-convex structure layer may be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds of solvents.
凹凸構造層形成用樹脂組成物全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお、本明細書で言及する固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。 The ratio of the solid content to the total amount of the resin composition for forming the uneven structure layer is preferably 20 to 70% by mass, more preferably 30 to 60% by mass. The solid content referred to in the present specification represents all components other than the solvent in the resin composition.
（６）その他の成分
反射防止フィルム２０に用いられる凹凸構造層形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤、離型剤等が挙げられる。
(6) Other Components The resin composition for forming an uneven structure layer used in the antireflection film 20 may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components include, for example, a surfactant for adjusting wettability, a silane coupling agent for improving adhesion, a stabilizer, an antifoaming agent, an anti-repellent agent, an antioxidant, an antioxidant, and a viscosity. Examples thereof include preparation agents and mold release agents.
ここで、本件発明者らが実際に反射防止フィルム２０を作製し、作製された反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の指紋拭き取り性および耐擦傷性について調査した結果を説明する。 Here, the present inventors actually produced the antireflection film 20, and describe the results of investigating the fingerprint wiping property and the scratch resistance of the uneven structure layer 30 of the produced antireflection film 20.
（製造例１−１：反射防止フィルム用金型１−１の製造）
純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、十点平均粗さＲｚ３０ｎｍ、且つ周期１μｍの凹凸形状となるように研磨後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、反射防止フィルム用金型１−１を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離が１００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
(Manufacturing Example 1-1: Manufacture of mold 1-1 for antireflection film)
A rolled aluminum plate having a purity of 99.50% is polished so that its surface has an uneven shape with a ten-point average roughness Rz of 30 nm and a period of 1 μm, and then chemically formed in an electrolytic solution of a 0.02 M oxalic acid aqueous solution. Anodization was carried out for 120 seconds under the conditions of a voltage of 40 V and 20 ° C. Next, as the first etching treatment, an etching treatment was performed for 60 seconds with the electrolytic solution after anodizing. Subsequently, as the second etching treatment, the pore size treatment was performed for 150 seconds with a 1.0 M aqueous phosphoric acid solution. Further, the above treatment was repeated, and these were additionally carried out a total of 5 times. As a result, an anodized aluminum layer in which a fine uneven shape was formed was formed on the aluminum substrate. Finally, a fluorine-based mold release agent was applied and the excess mold release agent was washed to obtain a mold 1-1 for an antireflection film. The fine uneven shape formed on the aluminum layer has an average distance between adjacent micropores of 100 nm and an average depth of 200 nm, and a large number of micropores whose pore diameter gradually decreases in the depth direction are densely formed. It was a shape.
（製造例１−２：凹凸構造層用樹脂組成物Ａの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の凹凸構造層用樹脂組成物Ａを調製した。
＜樹脂組成物Ａの組成＞
・エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）ビスフェノールＡジアクリレート ５５質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３５質量部
・トリデシルアクリレート ５質量部
・ドデシルアクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
(Production Example 1-2: Production of Resin Composition A for Concavo-convex Structural Layer)
Each of the following components was mixed, and methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone were used as diluting solvents to prepare a resin composition A for an uneven structure layer having a solid content of 45% by mass.
<Composition of resin composition A>
・ Ethylene oxide-modified (EO-modified) bisphenol A diacrylate 55 parts by mass ・ EO-modified trimethylolpropane triacrylate 35 parts by mass ・ Tridecyl acrylate 5 parts by mass ・ Dodecyl acrylate 5 parts by mass ・ Diphenyl (2,4,6-trimethoxy) Benzoyl) Phosphine oxide (Lucillin TPO) 1 part by mass
（製造例１−３：凹凸構造層用樹脂組成物Ｂの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の凹凸構造層用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜樹脂組成物Ｂの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート ５０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３０質量部
・トリデシルアクリレート ５質量部
・ドデシルアクリレート ５質量部
・メチルメタクリレート ５質量部
・ヘキシルメタクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
(Production Example 1-3: Production of Resin Composition B for Concavo-convex Structural Layer)
Each of the following components was mixed, and methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone were used as diluting solvents to prepare a resin composition B for an uneven structure layer having a solid content of 45% by mass.
<Composition of resin composition B>
・ EO-modified bisphenol A diacrylate 50 parts by mass ・ EO-modified trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass ・ Tridecyl acrylate 5 parts by mass ・ Dodecyl acrylate 5 parts by mass ・ Methyl methacrylate 5 parts by mass ・ Hexyl methacrylate 5 parts by mass ・ Diphenyl (2) , 4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (lucillin TPO) 1 part by mass
（比較製造例１−４：比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｃの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｃを調製した。
＜樹脂組成物Ｃの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート ３０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ２０質量部
・ドデシルアクリレート ５０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
(Comparative Production Example 1-4: Production of Resin Composition C for Comparative Concavo-convex Structural Layer)
Each of the following components was mixed, and methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone were used as diluting solvents to prepare a resin composition C for a comparative uneven structure layer having a solid content of 45% by mass.
<Composition of resin composition C>
・ EO-modified bisphenol A diacrylate 30 parts by mass ・ EO-modified trimethylolpropane triacrylate 20 parts by mass ・ Dodecyl acrylate 50 parts by mass ・ Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (lucirin TPO) 1 part by mass
（比較製造例１−５：比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｄの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｄを調製した。
＜樹脂組成物Ｄの組成＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １５質量部
・２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート １５質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート ７０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
(Comparative Production Example 1-5: Production of Resin Composition D for Comparative Concavo-convex Structural Layer)
Each of the following components was mixed, and methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone were used as diluting solvents to prepare a resin composition D for a comparative uneven structure layer having a solid content of 45% by mass.
<Composition of resin composition D>
・ Pentaerythritol triacrylate 15 parts by mass ・ 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate 15 parts by mass ・ Polyethylene glycol diacrylate 70 parts by mass ・ Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (lucillin TPO) 1 Mass part
（製造例１−６：反射防止フィルムＡの製造）
製造例１−２で得られた凹凸構造層用樹脂組成物Ａを、製造例１−１で得られた反射防止フィルム用金型１−１の微細凹凸面が覆われ、硬化後の凹凸構造層の厚さが２０μｍとなるように塗布、充填し、その上に透明基材として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。金型全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して凹凸構造層用樹脂組成物Ａを硬化させた。その後、金型より剥離し、反射防止フィルムＡを得た。
(Manufacturing Example 1-6: Production of Antireflection Film A)
The resin composition A for the concavo-convex structure layer obtained in Production Example 1-2 is covered with the fine concavo-convex surface of the antireflection film mold 1-1 obtained in Production Example 1-1, and the concavo-convex structure after curing. It is applied and filled so that the thickness of the layer is 20 μm, and a triacetyl cellulose film (TAC) (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm as a transparent base material is bonded obliquely and then bonded. The bonded body was crimped with a rubber roller under a load of 10 N / cm 2. After confirming that the uniform composition was applied to the entire mold, the resin composition A for the uneven structure layer was cured by irradiating ultraviolet rays with an energy of 2000 mJ / cm 2 from the transparent substrate side. Then, it was peeled off from the mold to obtain an antireflection film A.
（製造例１−７：反射防止フィルムＢの製造）
製造例１−６において、凹凸構造層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例１−３で得られた凹凸構造層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、製造例１−６と同様にして反射防止フィルムＢを得た。
(Manufacturing Example 1-7: Production of Antireflection Film B)
In Production Example 1-6, the same as in Production Example 1-6 except that the resin composition B for uneven structure layer obtained in Production Example 1-3 was used instead of the resin composition A for uneven structure layer. The antireflection film B was obtained.
（比較製造例１−８：比較反射防止フィルムＣの製造）
製造例１−６において、凹凸構造層用樹脂組成物Ａの代わりに、比較製造例１−４で得られた比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｃを用いた以外は、製造例１−６と同様にして比較反射防止フィルムＣを得た。
(Comparative Production Example 1-8: Production of Comparative Antireflection Film C)
In Production Examples 1-6, the resin composition C for the comparative concavo-convex structure layer obtained in Comparative Production Example 1-4 was used instead of the resin composition A for the concavo-convex structure layer. A comparative antireflection film C was obtained in the same manner.
（比較製造例１−９：比較反射防止フィルムＤの製造）
製造例１−６において、凹凸構造層用樹脂組成物Ａの代わりに、比較製造例１−５で得られた比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｄを用いた以外は、製造例１−６と同様にして比較反射防止フィルムＤを得た。
(Comparative Production Example 1-9: Production of Comparative Antireflection Film D)
In Production Example 1-6, the resin composition D for the comparative concavo-convex structure layer obtained in Comparative Production Example 1-5 was used instead of the resin composition A for the concavo-convex structure layer. A comparative antireflection film D was obtained in the same manner.
＜凹凸構造層用樹脂組成物及び反射防止フィルムの物性＞
（貯蔵弾性率（Ｅ’）及びｔａｎδの測定）
製造例１−２〜１−５で得られた凹凸構造層用樹脂組成物Ａ〜Ｄをそれぞれ２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分間照射することにより十分に硬化させて、基材及び微小突起を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの試験用単膜Ａ〜Ｄをそれぞれ得た。次いで、ＪＩＳ Ｋ７２４４に準拠し、２５℃下、上記試験用単膜Ａ〜Ｄの長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、貯蔵弾性率Ｅ’、及び損失弾性率Ｅ”を求めた。また、当該Ｅ’及びＥ”の結果からｔａｎδを算出した。測定装置はＵＢＭ製 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いた。結果を表１に示す。
<Physical properties of resin composition for uneven structure layer and antireflection film>
(Measurement of storage elastic modulus (E') and tan δ)
The resin compositions A to D for the concavo-convex structure layer obtained in Production Examples 1-2 to 1-5 are sufficiently cured by irradiating them with ultraviolet rays having an energy of 2000 mJ / cm 2 for 1 minute, respectively, to form a base material and fine particles. Test single films A to D having a thickness of 1 mm, a width of 5 mm, and a length of 30 mm having no protrusions were obtained, respectively. Then, according to JIS K7244, a periodic external force of 25 g was applied at 10 Hz in the length direction of the test single membranes A to D at 25 ° C., and the dynamic viscoelasticity was measured for storage at 25 ° C. The elastic modulus E'and the loss elastic modulus E'were determined. Further, tan δ was calculated from the results of the E'and E'. A UBM Rheogel E400 was used as the measuring device. The results are shown in Table 1.
（接触角の測定）
トリアセチルセルロースフィルム上に凹凸構造層用樹脂組成物Ａ〜Ｄを塗布して硬化させて、微細凹凸形状を有しない塗膜を形成した。当該塗膜側表面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けたものの上に、水１．０μＬの液滴を滴下し、着滴５秒後の水の接触角を計測した。水の代わりに、ｎ−ヘキサデカン及びオレイン酸をそれぞれ用いて、各溶媒の接触角をそれぞれ計測した。結果を表１に示す。測定装置は協和界面科学社製 接触角計ＤＭ ５００を用いた。
(Measurement of contact angle)
The resin compositions A to D for the uneven structure layer were applied onto the triacetyl cellulose film and cured to form a coating film having no fine uneven shape. A droplet of 1.0 μL of water was dropped onto a black acrylic plate with an adhesive layer with the surface on the coating film side facing up, and the contact angle of water 5 seconds after the drip was measured. The contact angle of each solvent was measured using n-hexadecane and oleic acid instead of water. The results are shown in Table 1. A contact angle meter DM 500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used as the measuring device.
（弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率の測定）
製造例１−６〜１−９で得られた反射防止フィルムＡ〜Ｂ及び比較反射防止フィルムＣ〜Ｄの凹凸構造層の凹凸面に、下記特定の条件で圧子を押し込んで、凹凸構造層の凹凸面の弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率を測定した。測定装置は、フィッシャーインストルメンツ社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＥＲ ＨＭ−５００を用いた。結果を表２に示す。
○測定条件
・荷重速度 １ｍＮ／１０秒
・保持時間 １０秒
・荷重除荷速度 １ｍＮ／１０秒
・圧子 ビッカース
・測定温度 ２５℃
(Measurement of elastic modulus, maximum indentation depth, elastic recovery rate)
An indenter is pushed into the uneven surface of the uneven structure layer of the antireflection films A to B and the comparative antireflection films C to D obtained in Production Examples 1-6 to 1-9 under the following specific conditions to form the uneven structure layer. The elastic modulus, maximum indentation depth, and elastic restoration rate of the uneven surface were measured. As the measuring device, PICODETER HM-500 manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd. was used. The results are shown in Table 2.
○ Measurement conditions ・ Load speed 1mN / 10 seconds ・ Holding time 10 seconds ・ Load unloading speed 1mN / 10 seconds ・ Indenter Vickers ・ Measurement temperature 25 ℃
反射防止フィルムの凹凸面に、純水（液クロマトグラフィー用蒸留水（純正化学（株）製））１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１秒後、協和界面科学社製 接触角計ＤＭ ５００を用いて接触角を測定した。接触角は、測定装置は協和界面科学社製 接触角計ＤＭ ５００を用いて測定した。結果を表２に示す。 Droplets of 1.0 μL of pure water (distilled water for liquid chromatography (manufactured by Genuine Chemical Co., Ltd.)) are dropped on the uneven surface of the antireflection film, and 1 second after the drops are applied, a contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. The contact angle was measured using DM 500. The contact angle was measured using a contact angle meter DM 500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. as a measuring device. The results are shown in Table 2.
＜指紋拭き取り試験評価＞
製造例１−６〜１−９で得られた反射防止フィルムＡ〜Ｂ及び比較反射防止フィルムＣ〜Ｄの凹凸構造層の凹凸面に、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて指紋を乾拭きした。乾拭きは３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復行い、拭取り後の外観を評価した。結果を表３に示す。
（指紋拭き取り試験評価基準）
Ａ：指紋汚れが視認できない。
Ｂ：指紋付着跡に若干の色味の変化が視認される。
Ｃ：指紋がほぼ拭取られない。
<Fingerprint wiping test evaluation>
Fingerprints were attached to the uneven surfaces of the uneven structure layers of the antireflection films A to B and the comparative antireflection films C to D obtained in Production Examples 1-6 to 1-9 by pressing a finger. After that, the fingerprint was wiped dry with Zavina Minimax (manufactured by Fuji Chemical). The dry wiping was performed 10 times back and forth with a force of about 3 kg / cm 2, and the appearance after wiping was evaluated. The results are shown in Table 3.
(Fingerprint wiping test evaluation criteria)
A: Fingerprint stains are not visible.
B: A slight change in color is visually recognized in the fingerprint adhesion mark.
C: Fingerprints are hardly wiped off.
＜耐擦傷性試験＞
製造例１−６〜１−９で得られた反射防止フィルムＡ〜Ｂ及び比較反射防止フィルムＣ〜Ｄの凹凸構造層の凹凸面に、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復擦った。擦過１分後の視認性の評価を下記基準で行った。結果を表３に示す。
（摺動性試験評価基準）
Ａ：擦り痕が視認されない。
Ｂ：擦り痕に若干色味の変化がある。
Ｃ：擦り痕が明らかに白濁する。
<Scratch resistance test>
3 kg / cm with Zavina Minimax (manufactured by Fuji Chemical Co., Ltd.) on the uneven surface of the uneven structure layer of the antireflection films A to B and the comparative antireflection films C to D obtained in Production Examples 1-6 to 1-9. I rubbed it 10 times with a force of about 2. The visibility after 1 minute of rubbing was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
(Sliding test evaluation standard)
A: No scratches are visible.
B: There is a slight change in color on the scratches.
C: The scratches are clearly cloudy.
２５℃において、貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、ｔａｎδが０．２以下である凹凸構造層用樹脂組成物の硬化物を用いて形成された凹凸構造層を有する反射防止フィルムＡ及びＢは、乾拭きであっても指紋を拭取ることが可能で、拭取り跡が確認されなかった。ｔａｎδが０．６９の比較反射防止フィルムＣは、拭取り時の圧力により微細突起が塑性変形を生じたり、スティッキングが発生したものと推定される。貯蔵弾性率Ｅ’が３３０ＭＰａの比較反射防止フィルムＤは、微小突起が変形しにくく、乾拭きでは十分に指紋汚れを落とすことができなかった。 Anti-reflection having a concavo-convex structure layer formed by using a cured product of a resin composition for a concavo-convex structure layer having a storage elastic modulus (E') of 300 MPa or less and a tan δ of 0.2 or less at 25 ° C. Fingerprints could be wiped off from the films A and B even if they were wiped dry, and no wiping marks were confirmed. In the comparative antireflection film C having a tan δ of 0.69, it is presumed that the fine protrusions were plastically deformed or sticking occurred due to the pressure at the time of wiping. In the comparative antireflection film D having a storage elastic modulus E'of 330 MPa, the microprojections were not easily deformed, and fingerprint stains could not be sufficiently removed by dry wiping.
＜＜微小突起の構成＞＞
本件発明者らは、凹凸構造層３０の耐擦傷性をさらに向上させるための検討を行った。そして、本件発明者らは、上述した凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の物性や凹凸面３１での接触角特性とは別途に、凹凸面３１をなす微小突起３２の構成に工夫を加えることによっても、凹凸構造層３０の耐擦傷性を向上させ得ることを知見した。
<< Composition of microprojections >>
The present inventors have conducted a study for further improving the scratch resistance of the concave-convex structure layer 30. Then, the inventors of the present invention devised a structure of the microprojections 32 forming the uneven surface 31 in addition to the physical characteristics of the cured product of the resin composition for forming the uneven structure layer and the contact angle characteristics on the uneven surface 31 described above. It was found that the scratch resistance of the concave-convex structure layer 30 can be improved by adding it.
すなわち、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果として、頂点を複数有する微小突起（多峰性の微小突起と呼ぶ）３２を所定の分布で設けることにより、凹凸構造層３０の耐擦傷性を向上させ得ることを知見した。なお以下において、多峰性の微小突起との対比により、頂点が１つのみの微小突起を単峰性の微小突起と呼ぶ。また多峰性の微小突起、単峰性の微小突起に係る各頂点を形成する各凸部を、適宜、峰と呼ぶ。 That is, as a result of intensive research, the present inventors have provided the microprojections having a plurality of vertices (referred to as multimodal microprojections) 32 in a predetermined distribution, whereby the scratch resistance of the concave-convex structure layer 30 is achieved. It was found that can be improved. In the following, a microprojection having only one apex will be referred to as a monomodal microprojection in comparison with a multimodal microprojection. Further, each convex portion forming each vertex related to the multimodal microprojection and the monomodal microprojection is appropriately referred to as a peak.
本件発明者らが検討を重ねたところ、次の構成（ａ）を有する反射防止フィルム２０が、優れた耐擦傷性を発揮した。また、構成（ａ）をより具体化した構成（ｂ１）、（ｂ２）を有する反射防止フィルム２０は、優れた耐擦傷性をより安定して有するようになる。 As a result of repeated studies by the present inventors, the antireflection film 20 having the following configuration (a) exhibited excellent scratch resistance. Further, the antireflection film 20 having the configurations (b1) and (b2), which are more specific configurations (a), has excellent scratch resistance more stably.
構成（ａ）：微小突起３２は、頂点が複数の多峰性微小突起と、頂点が一つの単峰性微小突起とから構成され、微小突起の高さの度数分布が一つ又は二つの頂部からなる分布であり、多峰性微小突起は、各分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布している。 Configuration (a): The microprojection 32 is composed of a multimodal microprojection having a plurality of vertices and a monomodal microprojection having one apex, and the frequency distribution of the height of the microprojection is one or two tops. The distribution consists of, and the multimodal microprojections are distributed more near the apex than at the base of each distribution.
構成（ａ）によれば、凹凸構造層３０は、微小突起（単に微小突起と呼稱する場合は単峰性微小突起及び多峰性微小突起の両方を包含する）３２の高さの度数分布が一つ又は二つの頂部からなる一つ又は二つの分布から構成され、多峰性微小突起が各分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布しているので、反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０による反射防止機能の広帯域化を図るとともに、斜め方向からの光学特性を限定して視野角特性を制限することができる。このような形状による多峰性微小突起は、賦型処理後の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起とは異なり、対応する形状を備えている賦型処理用の金型により作製されることにより、設計通りの高さの分布を設定して均一かつ高い量産性を確保することができる。またさらに、充填不良による場合に比して突起間の間隔を広く設定することにより、十分に耐擦傷性を向上することができ、さらには光学特性を向上することができる。 According to the configuration (a), the concavo-convex structure layer 30 has a frequency distribution of the heights of the microprojections (including both monomodal microprojections and multimodal microprojections when simply called microprojections) 32. Is composed of one or two distributions consisting of one or two tops, and more multimodal microprojections are distributed near the tops than at the bases of each distribution, so that the uneven structure layer of the antireflection film 20 In addition to widening the band of the antireflection function according to 30, the viewing angle characteristics can be limited by limiting the optical characteristics from the oblique direction. The multimodal microprojections having such a shape are produced by a molding mold having a corresponding shape, unlike the multimodal microprojections caused by poor filling of the resin after the shaping treatment. As a result, it is possible to set the height distribution as designed and ensure uniform and high mass productivity. Furthermore, by setting the distance between the protrusions wider than in the case of poor filling, the scratch resistance can be sufficiently improved, and the optical characteristics can be further improved.
また、単峰性の微小突起に比して機械的強度が優れた微小突起３２が設けられることにより、衝撃力が加わった場合、単峰性の微小突起のみの場合に比して、突起が損傷しないようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができ、これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。 Further, by providing the microprojection 32 having superior mechanical strength as compared with the monomodal microprojection, when an impact force is applied, the projection is formed as compared with the case of only the monomodal microprojection. It can be prevented from being damaged, thereby reducing the local deterioration of the antireflection function and further reducing the occurrence of poor appearance. Further, even if the microprojections are damaged, the area of the damaged portion can be reduced, which also reduces the local deterioration of the antireflection function and further reduces the occurrence of appearance defects.
構成（ｂ１）：微小突起３２の高さＨの度数分布における高さＨの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、Ｈ＜ｍ−σの領域を低高度領域とし、ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、各領域内の多峰性微小突起の数Ｎｍと、度数分布全体における多峰性微小突起及び単峰性微小突起３２の総数Ｎｔ（単に微小突起の総数、或いは度数分布全体に於ける微小突起の総数とも呼稱する）との比率が、中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔと、中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔとの関係を満たす。 Configuration (b1): The average value of the height H in the frequency distribution of the height H of the microprojection 32 is m, the standard deviation is σ, the region of H <m-σ is the low altitude region, and m−σ ≦ H. When the region of ≤m + σ is the medium altitude region and the region of m + σ <H is the high altitude region, the number of multimodal microprojections in each region is Nm, and the multimodal microprojections and single peaks in the entire frequency distribution. The ratio of the total number of sex microprojections 32 to Nt (simply called the total number of microprojections or the total number of microprojections in the entire frequency distribution) is Nm / Nt in the middle altitude region> Nm / Nt in the low altitude region. And Nm / Nt in the medium altitude region> Nm / Nt in the high altitude region.
構成（ｂ１）によれば、反射防止フィルム２０は、中高度領域の多峰性の微小突起の数（Ｎｍ）と、度数分布全体における微小突起の総数（Ｎｔ）との比（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域や高高度領域の多峰性の微小突起の数と、度数分布全体における微小突起の総数（Ｎｔ）との比（Ｎｍ／Ｎｔ）よりも大きいので、反射防止機能の広帯域化及び視野角特性の制限をより具体的に図ることができる。 According to the configuration (b1), the antireflection film 20 has a ratio (Nm / Nt) of the number of multimodal microprojections (Nm) in the middle altitude region to the total number of microprojections (Nt) in the entire frequency distribution. However, since it is larger than the ratio (Nm / Nt) of the number of multimodal microprojections in the low altitude region and high altitude region to the total number of microprojections (Nt) in the entire frequency distribution, the bandwidth of the antireflection function is widened. And the limitation of the viewing angle characteristic can be made more concretely.
構成（ｂ２）：微小突起３２の高さｈの度数分布が、突起高さの度数分布に於いて、高さの高い側と低い側とに分布の峰を有する双峰性であり、２つの峰の境界となる高さ、即ち境界高さｈｓを境として、該度数分布は境界高さｈｓ未満の微小突起の分布と境界高さｈｓ以上の微小突起の分布との２つの分布から構成され、
該境界高さｈｓ未満の分布における微小突起３２の高さｈの平均値をｍ１とし、標準偏差をσ１とし、ｈ＜ｍ１−σ１の領域を低高度領域とし、ｍ１−σ１≦ｈ≦ｍ１＋σ１の領域を中高度領域とし、ｍ１＋σ１＜ｈ＜ｈｓの領域を高高度領域とした場合に、ｈｓ未満の分布における各領域内の多峰性微小突起の数Ｎｍ１と、度数分布全体における微小突起の総数Ｎｔとの比率が、中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ１／Ｎｔと、中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ１／Ｎｔとの関係を満たし、
該境界高さｈｓ以上の分布における微小突起３２の高さｈの平均値をｍ２とし、標準偏差をσ２とし、ｈｓ＜ｈ＜ｍ２−σ２の領域を低高度領域とし、ｍ２−σ２≦ｈ≦ｍ２＋σ２の領域を中高度領域とし、ｍ２＋σ２＜ｈの領域を高高度領域とした場合に、ｈｓ以上の分布における各領域内の多峰性微小突起の数Ｎｍ２と、度数分布全体における微小突起の総数Ｎｔとの比率が、中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ２／Ｎｔと、中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ２／Ｎｔとの関係を満たす。
Configuration (b2): The frequency distribution of the height h of the microprojection 32 is bimodal with two peaks of distribution on the high side and the low side in the frequency distribution of the protrusion height. The frequency distribution is composed of two distributions, that is, the distribution of microprojections with a boundary height of less than hs and the distribution of microprojections with a boundary height of hs or more, with the height at the boundary of the peak, that is, the boundary height hs as the boundary. ,
The average value of the height h of the microprojections 32 in the distribution less than the boundary height hs is m1, the standard deviation is σ1, the region of h <m1-σ1 is the low altitude region, and m1-σ1 ≦ h ≦ m1 + σ1. When the region is the medium altitude region and the region of m1 + σ1 <h <hs is the high altitude region, the number of multimodal microprojections in each region in the distribution less than hs is Nm1, and the total number of microprojections in the entire frequency distribution. The ratio with Nt satisfies the relationship between Nm1 / Nt in the medium altitude region> Nm1 / Nt in the low altitude region and Nm1 / Nt in the medium altitude region> Nm1 / Nt in the high altitude region.
The average value of the height h of the microprojections 32 in the distribution having the boundary height hs or more is m2, the standard deviation is σ2, the region of hs <h <m2-σ2 is the low altitude region, and m2-σ2 ≦ h ≦. When the region of m2 + σ2 is the medium altitude region and the region of m2 + σ2 <h is the high altitude region, the number of multimodal microprojections in each region in the distribution of hs or more is Nm2, and the total number of microprojections in the entire frequency distribution. The ratio with Nt satisfies the relationship between Nm2 / Nt in the medium altitude region> Nm2 / Nt in the low altitude region and Nm2 / Nt in the medium altitude region> Nm2 / Nt in the high altitude region.
構成（ｂ２）によれば、反射防止フィルム２０は、各頂部を形成する二つの分布の各々において、中高度領域の多峰性の微小突起の数と、度数分布全体における微小突起の総数との比が、低高度領域や高高度領域の多峰性の微小突起の数と、度数分布全体における微小突起の総数との比よりも大きいので、反射防止機能の広帯域化及び視野角特性の制限をより具体的に図ることができる。とりわけ、構成（ｂ２）によれば、反射防止機能の大幅な広帯域化を実現することができる。 According to the configuration (b2), the antireflection film 20 has the number of multimodal microprojections in the mid-high region and the total number of microprojections in the entire frequency distribution in each of the two distributions forming each apex. Since the ratio is larger than the ratio of the number of multimodal microprojections in the low altitude region and the high altitude region to the total number of microprojections in the entire frequency distribution, widening the antireflection function and limiting the viewing angle characteristics. It can be planned more concretely. In particular, according to the configuration (b2), it is possible to realize a significantly widened band of the antireflection function.
尚、此処で、各分布の境界高さｈｓは以下のようにして求める。 Here, the boundary height hs of each distribution is obtained as follows.
〔方法１〕
先ず、度数分布の高さのデータを図１６の如きヒストグラム（柱状グラフ）として表示し、次いで該柱状グラフの頂部の中点を結ぶ折線を最小二乗法により平滑化した曲線（これを平滑化度数分布曲線と呼稱する）を求め、該平滑化度数分布曲線について、２つの度数分布の峰間に位置する極小点に於ける高さを求め、これを以って２つの峰間の（乃至２つの分布間の）境界高さｈｓとする。
[Method 1]
First, the height data of the frequency distribution is displayed as a histogram (columnar graph) as shown in FIG. 16, and then a curve in which the fold line connecting the middle points at the top of the columnar graph is smoothed by the minimum square method (this is the smoothing frequency). Find the height at the minimum point located between the peaks of the two frequency distributions for the smoothing frequency distribution curve (called the distribution curve), and use this to find the height between the two peaks (or Let the boundary height hs (between the two distributions).
尚、２つの分布の峰が共に正規分布で近似し得る場合は、以下の方法によることも出来、上記最小二乗法による方法１と許容誤差の範囲内で同等の数値を得る。尚、許容誤差の範囲内で同等とは、２つの方法で求めた境界高さｈｓの値に差異が有っても、上記関係不等式（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、及び（ｆ）が同様に成立することを意味する。 If the peaks of the two distributions can be approximated by a normal distribution, the following method can be used, and a value equivalent to that of the method 1 by the least squares method can be obtained within the margin of error. It should be noted that the equivalent within the margin of error means that even if there is a difference in the value of the boundary height hs obtained by the two methods, the above relational inequalities (c), (d), (e), and (f). ) Means that it holds in the same way.
〔方法２〕
この方法では、以下の処理手順の実行により計測結果を統計的に処理し、双峰性に係る２つの分布がそれぞれ正規分布によるものとし、この正規分布に係る２つの分布曲線の交点を境界高さｈｓに設定する。
[Method 2]
In this method, the measurement results are statistically processed by executing the following processing procedure, assuming that the two distributions related to bimodality are each based on the normal distribution, and the intersection of the two distribution curves related to this normal distribution is the boundary height. Set to hs.
即ち、先ず始めに、図１６の如きヒストグラムから、オペレータの目視確認により境界と推察される高さを検出し、此の高さを境界高さに仮設定する、即ち、仮設定境界高さｈｓＩＮＩＴとする（工程１）。又、この仮設定境界高さｈｓＩＮＩＴＩＡＬにより、高さの高い側と高さの低い側とに分布を分け、それぞれ平均値、標準偏差、サンプル数を検出し、これにより境界の上下の分布について、正規分布による分布曲線を検出する（工程２）。続いてこの２つの分布曲線の交点に於ける高さを計算して計算境界高さｈｓＣＡＬＩを検出する（工程３）。尚、この分布曲線は、各突起高さにおけるサンプル数を示す曲線であり、正規分布による分布確率を示す曲線を、各分布のサンプル総数により重み付けして作成したものである。交点は、２つの分布曲線において、サンプル数が等しくなる高さである。この処理手順では、この求めた計算境界高さｈｓＣＡＬＩと仮設定境界高さｈｓＩＮＩＴＩＡＬとの差分値が予め定めた一定値以下（例えば図１６のヒストグラフの分解能以下）か否か判断し（工程４）、一定値以下の場合、計算により求めた計算境界高さｈｓＣＡＬＩを境界高さｈｓに設定する。又、差分値が一定値より大きい場合、分布曲線より求めた境界を仮設定の境界に設定し直し、改めて分布曲線を計算して境界を計算する（工程５）。尚、この境界を再計算する際に、境界にサンプルが分布している場合、この境界の上下のサンプル総数により、この境界に分布するサンプル数を比例配分して標準偏差、平均値、サンプル数を再計算する。次いで、再度工程４に戻り、該差分値が一定値以下に收束するまで工程４及び工程５を繰り返す。 That is, first, from the histogram as shown in FIG. 16, the height estimated to be the boundary is detected by visual confirmation by the operator, and this height is temporarily set as the boundary height, that is, the temporarily set boundary height hs. Let it be INIT (step 1). In addition, this temporary setting boundary height hs INITIAL divides the distribution into the high side and the low height side, and detects the mean value, standard deviation, and number of samples, respectively, and thereby the distribution above and below the boundary. , Detect a distribution curve with a normal distribution (step 2). Subsequently, the height at the intersection of these two distribution curves is calculated to detect the calculated boundary height hs CALI (step 3). It should be noted that this distribution curve is a curve showing the number of samples at each protrusion height, and is created by weighting a curve showing the distribution probability by a normal distribution with the total number of samples of each distribution. The intersection is the height at which the number of samples is equal on the two distribution curves. In this processing procedure, it is determined whether or not the difference value between the calculated calculated boundary height hs CALI and the provisionally set boundary height hs INITIAL is equal to or less than a predetermined constant value (for example, the resolution of the hist graph of FIG. 16 or less) (step). 4) If it is less than a certain value, the calculated boundary height hs CALI obtained by calculation is set to the boundary height hs. If the difference value is larger than a constant value, the boundary obtained from the distribution curve is reset to the tentatively set boundary, and the distribution curve is calculated again to calculate the boundary (step 5). When recalculating this boundary, if samples are distributed on the boundary, the standard deviation, mean value, and number of samples are proportionally distributed according to the total number of samples above and below this boundary. To recalculate. Then, the process returns to step 4 again, and steps 4 and 5 are repeated until the difference value is bundled below a certain value.
以下、以上の点の詳細について説明する。 The details of the above points will be described below.
上述したように、凹凸構造層３０の凹凸面３１及び微小突起３２に関する各種寸法及び形状は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて、特定することができる。すなわち、隣接する微小突起３２の間隔（隣接突起間隔）ｄおよび微小突起３２の高さＨは、原子間力顕微鏡や走査型電子顕微鏡を用いて測定することができる。まず、微小突起３２に関する各種寸法及び形状の特定方法について詳述する。 As described above, various dimensions and shapes of the concave-convex structure layer 30 with respect to the concave-convex surface 31 and the microprojections 32 can be determined by using an atomic force microscope (AFM) or a scanning electron microscope (SEM). , Can be identified. That is, the spacing between adjacent microprojections 32 (adjacent projection spacing) d and the height H of the microprojections 32 can be measured using an atomic force microscope or a scanning electron microscope. First, a method for specifying various dimensions and shapes of the microprojection 32 will be described in detail.
（１）すなわち先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope（以下、AFMと呼ぶ））又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope（以下、SEMと呼ぶ））を用いて微小突起３２の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。なお図６〜図８は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。ＡＦＭのデータには微小突起群の高さの面内分布データを付随する為、此の写真は輝度により高さの面内分布を示す写真であると言える。図６〜図８において、単峰性の微小突起は符号３２Ａで示され、多峰性の微小突起は符号３２Ｂで示されている。 (1) That is, first, an in-plane arrangement of microprojections 32 (hereinafter referred to as SEM) using an atomic force microscope (Atomic Force Microscope (hereinafter referred to as AFM)) or a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope (hereinafter referred to as SEM)). The plan view shape of the protrusion arrangement) is detected. 6 to 8 are magnified photographs actually obtained by an atomic force microscope. Since the AFM data is accompanied by the in-plane distribution data of the height of the microprojection group, it can be said that this photograph shows the in-plane distribution of the height according to the brightness. In FIGS. 6-8, the monomodal microprojections are indicated by reference numeral 32A and the multimodal microprojections are indicated by reference numeral 32B.
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と呼ぶ）を検出する。極大点とは、高さが、其の近傍周辺の何れの点と比べても大（極大値）となる点を意味する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図７は、図６に示した拡大写真に係る画像データの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では４．５×４．５画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また８画素×８画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより１ｎｍ（＝１画素）単位で極大点を求めた。 (2) Subsequently, the maximum point of the height of each protrusion (hereinafter, simply referred to as the maximum point) is detected from the obtained in-plane arrangement. The maximum point means a point whose height is large (maximum value) compared to any point in the vicinity thereof. As a method of obtaining the maximum point, various methods such as a method of sequentially comparing a plan view shape and an enlarged photograph of a corresponding cross-sectional shape to obtain a maximum point, a method of obtaining a maximum point by image processing of a plan view enlarged photograph, and the like. Can be applied. FIG. 7 is a diagram showing the detection result of the maximum point by processing the image data related to the enlarged photograph shown in FIG. 6, and the portion indicated by the black dot in this figure is the maximum point of each protrusion. In this processing, image data was processed in advance by a low-pass filter having a Gaussian characteristic of 4.5 × 4.5 pixels, thereby preventing erroneous detection of a maximum point due to noise. Further, the maximum point was obtained in units of 1 nm (= 1 pixel) by sequentially scanning a filter for detecting the maximum value with 8 pixels × 8 pixels.
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図８は、図７から求められるドロネー図（白色の線分により表される図である）を図７による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。 (3) Next, a Delaunay diagram (Delaunay Diagram) with the detected maximum point as the mother point is created. Here, the Delaunay diagram is obtained by defining the Voronoi regions adjacent to each other as adjacent matrix points and connecting the adjacent matrix points with a line segment when the Voronoi division is performed with each maximum point as the matrix point. It is a net-like figure composed of an aggregate of triangles. Each triangle is called a Dronay triangle, and the sides of each triangle (the line segment connecting adjacent mother points) are called the Dronay line. FIG. 8 is a diagram in which the Delaunay diagram (a diagram represented by a white line segment) obtained from FIG. 7 is superimposed on the original image according to FIG. 7. The Delaunay diagram has a dual relationship with the Voronoi diagram. Voronoi division refers to dividing a plane by a network figure consisting of a collection of closed polygons defined by perpendicular bisectors of line segments (Dronoi lines) connecting adjacent mother points. The network figure obtained by Voronoi division is a Voronoi diagram, and each closed region is a Voronoi region.
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と呼ぶ）の度数分布を求める。図９は、図８のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお図６、図１７に示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に***している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に***している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。 (4) Next, the frequency distribution of the line segment length of each Dronay line, that is, the frequency distribution of the distance between adjacent maximum points (hereinafter referred to as the distance between adjacent protrusions) is obtained. FIG. 9 is a histogram of the frequency distribution created from the Delaunay diagram of FIG. As shown in FIGS. 6 and 17, when a groove-like recess is present at the top of the protrusion, or the top is divided into a plurality of peaks, the frequency distribution obtained shows that such a protrusion Data due to the microstructure with a recess on the top and the microstructure with the top split into multiple peaks are removed, and only the data on the protrusion body itself is selected to create a frequency distribution.
具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に***している多峰性の微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない単峰性の微小突起の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図６に示すような微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに小さい方向に外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図９の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図９は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。 Specifically, in the microstructure in which a recess exists at the top of the protrusion, and in the microstructure related to the multimodal microprojection in which the top is divided into a plurality of peaks, a single peak does not have such a microstructure. From the numerical range in the case of sexual microprojections, the distance between adjacent maximal points is clearly significantly different. As a result, by utilizing this feature and removing the corresponding data, only the data of the protrusion body itself is selected and the frequency distribution is detected. More specifically, for example, from a magnified photograph of the microprojections (groups) shown in FIG. 6 in a plan view, about 5 to 20 unimodal microprojections adjacent to each other are selected, and the distance between the adjacent maximum points is selected. The value of is sampled, and the value clearly deviates from the numerical range obtained by sampling (usually, the value is 1/2 or less of the mean value of the distance between adjacent maximum points obtained by sampling). The frequency distribution is detected by excluding the data). In the example of FIG. 9, data having a distance between adjacent maximum points of 56 nm or less (the leftmost hill indicated by arrow A) is excluded. Note that FIG. 9 shows the frequency distribution before such exclusion processing is performed. Incidentally, such an exclusion process may be executed by setting the filter for the maximum inspection described above.
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図９の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとすることができる。 (5) The mean value d AVG and the standard deviation σ are obtained from the frequency distribution of the distance d between adjacent protrusions thus obtained. Here, when the frequency distribution thus obtained is regarded as a normal distribution and the mean value d AVG and the standard deviation σ are obtained, in the example of FIG. 9, the mean value d AVG = 158 nm and the standard deviation σ = 38 nm. As a result, the maximum value of the distance d between adjacent protrusions can be set to dmax = d AVG + 2σ, and in this example, dmax = 234 nm.
なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図１０は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図１０の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図１０に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性の微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。 The height of the protrusion is defined by applying the same method. In this case, the difference in relative height of each maximum point position from a specific reference position is acquired from the maximum point obtained in (2) above and made into a histogram. FIG. 10 is a diagram showing a histogram of the frequency distribution of the protrusion height H with the protrusion root position obtained in this way as a reference (height 0). From the frequency distribution based on this histogram, the average value HAVG of the protrusion height and the standard deviation σ are obtained. Here in the example of FIG. 10, the mean value H AVG = 178 nm, the standard deviation sigma = 30 nm. Thus in this example, the height of the projections is an average value H AVG = 178 nm. In the histogram of the protrusion height H shown in FIG. 10, in the case of a multimodal microprojection, since the plurality of vertices are provided, these plurality of data are mixed for one projection. Therefore, in this case, the highest apex among the plurality of vertices belonging to the same microprojection at the foot is adopted as the protrusion height of the microprojection to obtain the frequency distribution.
なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合（例えば、図２１について後述するように、谷底の高さが微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合等）は、（１）先ず、基材２の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを持ち、基材２の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。 As the reference position when measuring the height of the above-mentioned protrusions, the valley bottom (minimum point of height) between the adjacent minute protrusions is used as the reference for the height of 0. However, when the height of the valley bottom itself differs depending on the location (for example, when the height of the valley bottom has a swell in a period larger than the distance between adjacent protrusions of the minute protrusions, as will be described later in FIG. 21), (1) First, the average value of the heights of each valley bottom measured from the front surface or the back surface of the base material 2 is calculated in an area sufficient for the average value to be bundled. (2) Next, a surface having a height of the average value and parallel to the front surface or the back surface of the base material 2 is considered as a reference surface. (3) After that, the height of each microprojection from the reference plane is calculated by setting the reference plane to the height of 0 again.
突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σ、突起の高さの平均値ＨＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することがより好ましいことが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとなることが好ましい。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最短限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、ｄｍａｘ≦λｍａｘとなることが好ましく、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、ｄｍａｘ≦λｍｉｎとなることが好ましい。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦１８０ｎｍである。しかしながら実用上十分な程度に反射防止機能を確保する観点からは、平均突起間距離ｄａｖｅを、ｄａｖｅ≦λｍｉｎとしても良い。 When the protrusions are arranged irregularly, the maximum value dmax = d AVG + 2σ of the distance between adjacent protrusions obtained in this way and the average value H AVG of the heights of the protrusions are regularly arranged. It has been found that it is more preferable to satisfy the above conditions. Specifically, the condition of the distance between the microprojections that exhibits the antireflection effect is preferably dmax ≦ Λmin. At a minimum, the minimum necessary condition that can exert the antireflection effect at the longest wavelength of the visible light band is Λmin = λmax, so it is preferable that dmax ≤ λmax, and antireflection is applied to all wavelengths of the visible light band. Since the necessary and sufficient condition for achieving the effect is Λmin = λmin, it is preferable that dmax ≦ λmin. A preferable condition for more reliably achieving the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is dmax ≦ 300 nm, and a more preferable condition is dmax ≦ 180 nm. However, from the viewpoint of ensuring the antireflection function to a practically sufficient level, the average inter-projection distance dave may be set to dave ≦ λmin.
因みに、図６〜図１０の例により説明するとｄｍａｘ＝２３４ｎｍ≦λｍａｘ＝７８０ｎｍとなり、ｄｍａｘ≦λｍａｘの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λｍｉｎが３８０ｎｍであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件ｄｍａｘ≦λｍｉｎも満たすことが判る。またｄａｖｅ≦ｄｍａｘであることから、ｄａｖｅ≦λｍｉｎの条件も満足していることが判る。また平均突起高さＨＡＶＧ＝１７８ｎｍであることにより、平均突起高さＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとなり（可視光波長帯域の最長波長λｍax＝７８０ｎｍとして）、十分な反射防止効果を実現するための突起の高さに関する条件（ＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ）も満足していることが判る。なお標準偏差σ＝３０ｎｍであることから、ＨＡＶＧ−σ＝１４８ｎｍ＜０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の５０％以上、８４％以下が、突起の高さに係る条件（１７８ｎｍ以上）の条件を満足していることが判る。なおＡＦＭ及びＳＥＭによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、多峰性の微小突起は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にあることが判明した。 Incidentally, when described by the examples of FIGS. 6 to 10, dmax = 234 nm ≦ λmax = 780 nm, and it can be seen that the antireflection effect can be sufficiently exhibited by satisfying the condition of dmax ≦ λmax. Further, since the shortest wavelength λmin in the visible light band is 380 nm, it can be seen that the sufficient condition dmax ≦ λmin for exhibiting the antireflection effect in the entire wavelength band of visible light is also satisfied. Further, since dave ≦ dmax, it can be seen that the condition of dave ≦ λmin is also satisfied. Further, since the average protrusion height H AVG = 178 nm, the average protrusion height H AVG ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming the longest wavelength λmax = 780 nm in the visible light wavelength band), and a sufficient antireflection effect is realized. It can be seen that the condition regarding the height of the protrusions ( HAVG ≧ 0.2 × λmax) is also satisfied. Note since the standard deviation sigma = 30 nm, since the relationship between the H AVG -σ = 148nm <0.2 × λmax = 156nm is satisfied, statistically, more than 50% of the total protrusions, 84% or less It can be seen that the condition relating to the height of the protrusion (178 nm or more) is satisfied. From the observation results by AFM and SEM and the analysis result of the height distribution of the microprojections, the multimodal microprojections tend to occur more in the microprojections with higher height than the microprojections with relatively low height. It turned out to be.
このように単峰性の微小突起３２Ａと多峰性の微小突起３２Ｂとを混在させる場合には、アスペクト比の異なる単峰性の微小突起を混在させた場合と同様に、広い波長帯域で低い反射率を確保することができる。尚、アスペクト比とは、微小突起の高さＨを谷底に於ける径Ｗ（幅乃至太さと言う事も出来る）で除した比、Ｈ／Ｗとして定義される。此処で、谷底に於ける径とは、微小突起の谷底近傍の形状が円柱であれば、該円柱の（底面の）直径と一致する。微小突起の谷底近傍形状が円柱では無く、谷底を連ねた仮想的平面と微小突起とが交叉して得られる底面の径の大きさが面内方向によって異なる場合は、其の最大値を該微小突起の径とする。例えば、微小突起の底面形状が楕円の場合は、径は其の長径となる。又、微小突起の底面形状が多角形の場合は、径は其の最大の対角線長となる。又、谷底部（高さの極小点からなる領域）の幅が径に比べて小さく２割以下の場合には、各微小突起のアスペクト比Ｈ／Ｗの平均値（Ｈ／Ｗ）ａｖｅは、設計上は実質、Ｈａｖｅ／ｄａｖｅと見做すことが出來る。 In this way, when the monomodal microprojections 32A and the multimodal microprojections 32B are mixed, it is low in a wide wavelength band as in the case where the monomodal microprojections having different aspect ratios are mixed. The reflectance can be secured. The aspect ratio is defined as H / W, which is the ratio obtained by dividing the height H of the minute protrusions by the diameter W (which can also be called width or thickness) at the valley bottom. Here, the diameter at the valley bottom coincides with the diameter (of the bottom surface) of the cylinder if the shape of the microprojection near the valley bottom is a cylinder. If the shape near the valley bottom of the microprojection is not a cylinder and the diameter of the bottom surface obtained by crossing the virtual plane connecting the valley bottoms and the microprojection differs depending on the in-plane direction, the maximum value is set to the minute. The diameter of the protrusion. For example, when the bottom surface shape of the microprojection is elliptical, the diameter is the major axis thereof. When the bottom surface shape of the microprojection is polygonal, the diameter is the maximum diagonal length thereof. When the width of the valley bottom (the region consisting of the minimum points of the height) is smaller than the diameter and is 20% or less, the average value (H / W) ave of the aspect ratio H / W of each microprojection is In terms of design, it can be regarded as Have / Dave.
反射防止フィルム２０の反射防止機能は、微小突起の間隔だけでなく、アスペクト比にも依存し、アスペクト比が一定である場合、例えば可視光域では十分に小さな反射率を確保できる場合でも、紫外線域では可視光域に比して反射率が増大して反射防止機能が不足する。なお隣接突起間距離を一段と小さくして紫外線域で十分な反射防止機能を確保できるように設定すると、今度は、赤外線域で反射防止機能が低下することになる。 The antireflection function of the antireflection film 20 depends not only on the spacing of minute protrusions but also on the aspect ratio, and even when the aspect ratio is constant, for example, even when a sufficiently small reflectance can be secured in the visible light region, ultraviolet rays are emitted. In the region, the reflectance increases compared to the visible light region, and the antireflection function is insufficient. If the distance between the adjacent protrusions is further reduced so that a sufficient antireflection function can be secured in the ultraviolet region, the antireflection function is lowered in the infrared region.
しかしながら多峰性の微小突起を含む微小突起群では、同一微小突起の頂部近傍に存在する峰間距離が隣接突起間距離（通常１００〜２００ｎｍ程度）よりも小さい（通常１０〜５０ｎｍ程度）。斯かる峰間距離の寄与によって、同一隣接突起間距離の単峰性微小突起のみからなる微小突起群に比べて、実効的な隣接突起間間隔を低下させた反射防止機能を確保することができ、これにより多峰性微小突起と単峰性微小突起との混在により広い波長帯域で低い反射率を確保することができる。なお可視光域を中心にした広い波長帯域で十分に小さな反射率を確保する場合、可視光域に係る波長４８０〜６６０ｎｍ帯域の光に対応する反射防止性能に寄与する隣接突起間間隔、即ち、ｄ≦４００ｎｍ、好ましくはｄ≦３００ｎｍとなる微小突起において、多峰性の微小突起と単峰性の微小突起とを混在させることが望ましい。 However, in the microprojection group including multimodal microprojections, the interpeak distance existing near the top of the same microprojection is smaller than the distance between adjacent projections (usually about 100 to 200 nm) (usually about 10 to 50 nm). Due to the contribution of such inter-peak distance, it is possible to secure an antireflection function in which the effective inter-peak distance is reduced as compared with the micro-projection group consisting of only unimodal micro-projects having the same distance between adjacent projections. As a result, low reflectance can be ensured in a wide wavelength band by mixing multimodal microprojections and monomodal microprojections. When a sufficiently small reflectance is secured in a wide wavelength band centered on the visible light region, the distance between adjacent protrusions that contributes to the antireflection performance corresponding to the light in the wavelength 480 to 660 nm band related to the visible light region, that is, It is desirable to mix multimodal microprojections and monomodal microprojections in the microprojections with d ≦ 400 nm, preferably d ≦ 300 nm.
なお、上述したように、凹凸構造層３０の微小突起３２が、単峰性の微小突起とともに多峰性の微小突起を有する場合には、耐擦傷性を向上させる観点から、上述した構成（ａ）、または、構成（ａ）及び（ｂ）の両方を有することが好ましい。なお、図１１は、凹凸構造層３０に形成される微小突起の高さＨの度数分布の例を示す図である。この度数分布で、頂部（極大値）が一つだけ存在している。 As described above, when the microprojections 32 of the concave-convex structure layer 30 have multimodal microprojections together with monomodal microprojections, the above-described configuration (a) is used from the viewpoint of improving scratch resistance. ), Or both of the configurations (a) and (b). Note that FIG. 11 is a diagram showing an example of the frequency distribution of the height H of the microprojections formed on the concave-convex structure layer 30. In this frequency distribution, there is only one top (maximum value).
上述したように、反射防止フィルム２０は、ロール版３７を用いて透明基材２５上に凹凸構造層３０を賦型することにより作製され得る。また、ロール版３７は、陽極酸化処理及びエッチングにより、微小突起３２を形成するための微細孔を作製され得る。次にここでは、単峰性の微小突起３２Ａに加えて多峰性の微小突起３２Ｂを有する凹凸構造層３０を賦型するためのロール版３７の製造方法について説明する。 As described above, the antireflection film 20 can be produced by imposing the uneven structure layer 30 on the transparent base material 25 using the roll plate 37. Further, the roll plate 37 can be formed with micropores for forming the microprotrusions 32 by anodizing and etching. Next, a method for manufacturing the roll plate 37 for shaping the concave-convex structure layer 30 having the multimodal microprojections 32B in addition to the monomodal microprojections 32A will be described.
〔陽極酸化処理、エッチング処理〕
図１２は、ロール版３７の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。続いてこの工程は、アルミニウム層形成工程において、母材の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する。続いてこの工程は、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、ロール版３７を作製する。
[Anodizing treatment, etching treatment]
FIG. 12 is a diagram showing a manufacturing process of the roll plate 37. In this manufacturing process, the peripheral side surface of the base metal is made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method that combines an electrolytic elution action and an abrasion action by abrasive grains (electropolishing). Subsequently, in this step, in the aluminum layer forming step, aluminum is sputtered on the peripheral side surface of the base metal to prepare a high-purity aluminum layer. Subsequently, in this step, the base metal is processed by alternately repeating the anodizing steps A1, ..., AN, the etching steps E1, ..., EN to prepare the roll plate 37.
この製造工程において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ（蓚）酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。 In this manufacturing process, in the anodizing steps A1, ..., AN, fine holes are formed on the peripheral side surface of the base metal by the anodizing method, and the prepared fine holes are further dug. Here, in the anodic oxidation step, various methods applied to anodic oxidation of aluminum can be widely applied, for example, when a carbon rod, a stainless plate material, or the like is used for the negative electrode. As the solution, various neutral and acidic solutions can be used, and more specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, a oxalic acid aqueous solution, and a phosphoric acid aqueous solution can be used. In the manufacturing steps A1, ..., AN, by controlling the liquid temperature, the applied voltage, the time for anodizing, etc., the fine holes are made into the desired depth and the shape corresponding to the fine protrusion shape, respectively.
続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、金型をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。なお陽極酸化処理に用いる溶解液と同じ液を、電圧印加無しで用いることにより、溶解液をエッチング液としても兼用してもよい。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。 In the subsequent etching steps E1, ..., EN, the mold is immersed in an etching solution, and the hole diameters of the fine holes produced and dug by the anodization steps A1, ..., AN are enlarged by etching and directed toward the depth direction. These fine holes are shaped so that they are smooth and the hole diameter gradually decreases. As the etching solution, various etching solutions applied to this kind of treatment can be widely applied, and more specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, a phosphoric acid aqueous solution and the like can be used. By using the same solution as the solution used for the anodic oxidation treatment without applying a voltage, the solution may also be used as the etching solution. As a result, in this manufacturing process, the anodizing treatment and the etching treatment are alternately executed a plurality of times to prepare fine holes to be used for shaping on the peripheral side surface of the base material.
〔微小突起を形成する微細穴の形成過程〕
次に、多峰性の微小突起３２Ｂを形成し、また、微小突起３２の高さＨの分布が制御された微細な穴が形成される方法について説明する。上述したように、賦型用金型（ロール版）に形成される微細穴は、陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しによって形成されるが、この繰り返しの陽極酸化処理における印加電圧を可変することによって、微細穴の深さ（微小突起の高さ分布）を制御することができる。ここで、陽極酸化処理における印加電圧と、形成される微細穴の間隔（ピッチ）とは、比例する関係にあるため、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにおいて、陽極酸化処理の印加電圧を可変すれば、深さ方向に掘り進める時間が相違する微細穴を混在させてその比率を制御することができる。
[Process of forming micropores to form microprojections]
Next, a method of forming the multimodal microprojections 32B and forming fine holes in which the distribution of the height H of the microprojections 32 is controlled will be described. As described above, the fine holes formed in the molding die (roll plate) are formed by alternately repeating the anodizing treatment and the etching treatment, and the applied voltage in this repeated anodizing treatment is variable. Thereby, the depth of the fine holes (height distribution of the fine protrusions) can be controlled. Here, since the applied voltage in the anodic oxidation treatment and the interval (pitch) of the formed fine holes are in a proportional relationship, the applied voltage of the anodic oxidation treatment can be changed in the repetition of the anodic oxidation treatment and the etching treatment. For example, it is possible to control the ratio by mixing fine holes having different digging times in the depth direction.
また、このように陽極酸化処理における印加電圧を可変する場合にあっては、太さ（径）の太い微細穴の底面に、複数の微細穴を作成して多峰性の微小突起３２Ｂに係る微細穴とすることができる。この太さの太い微細穴の高さの制御等により、多峰性の微小突起３２Ｂについても、高さ分布を制御することができる。 Further, in the case of varying the applied voltage in the anodization treatment in this way, a plurality of fine holes are created on the bottom surface of the fine holes having a large thickness (diameter) to relate to the multimodal microprojections 32B. It can be a fine hole. By controlling the height of the fine holes having a large thickness, the height distribution of the multimodal microprojections 32B can also be controlled.
図１３は、このような高さの分布の制御の説明に供する模式図であり、賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細穴を示す図である。上述したように、陽極酸化処理における印加電圧と、微細穴のピッチとの関係は比例関係であるが、実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細穴のピッチにはばらつきが生じる。しかし、図１３においては、このばらつきが存在しないものとして、微細穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお、図１３（ａ）〜図１３（ｅ）において、左側の図は、ロール版３７の表面の拡大図を示し、右側の図は、左側の図におけるａ−ａ断面図を示す。 FIG. 13 is a schematic view provided for explaining the control of such height distribution, and is a diagram showing micropores produced by the anodization step and the etching step in the molding die manufacturing step. As described above, the relationship between the applied voltage in the anodic oxidation treatment and the pitch of the fine holes is proportional, but in practice, the pitch of the fine holes varies depending on the grain boundaries of aluminum used for the treatment and the like. However, in FIG. 13, it is assumed that this variation does not exist, and that the fine holes are produced in a regular arrangement. In FIGS. 13 (a) to 13 (e), the left side view shows an enlarged view of the surface of the roll plate 37, and the right side view shows a cross-sectional view taken along the left side.
（第１の工程）
図１３（ａ）に示すように、まず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
(First step)
As shown in FIG. 13A, first, a voltage V1 is applied to the aluminum layer on the surface of the molding die to execute the anodizing step A1, and then the etching step E1 is executed to form the fine holes f1. Form. Here, the anodizing step A1 creates a trigger for anodizing treatment that follows the flat surface of aluminum. In this case, the etching step may be omitted as appropriate.
（第２の工程）
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図１３（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細穴ｆ１を更に掘り下げる。図示された例では、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細穴ｆ１を二つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、二つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細穴ｆ２が形成され、ロール版３７の表面には、微細穴ｆ１と微細穴ｆ２とが混在する状態となる。
(Second step)
Next, after applying a voltage V2 (V2> V1) higher than the voltage V1 to execute the anodizing step A2, the etching step E2 is executed. As a result, in the anodizing step A2, as shown in FIG. 13B, among the fine holes f1 formed in the previous anodizing step A1, the fine holes f1 at intervals corresponding to the anodizing step A2 are further dug down. .. In the illustrated example, the anodizing step A2 performs a process of digging every two fine holes f1 formed in the previous anodizing step A1. Therefore, on the surface of the molding die, fine holes f2 that are deeply dug wide and deep are formed every two, and on the surface of the roll plate 37, the fine holes f1 and the fine holes f2 are mixed. Become.
（第３の工程）
続いて、電圧Ｖ２よりも高い電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ２から電圧Ｖ３へ徐々に上昇させ、この印加電圧の上昇を離散的（段階的）に実行すると、微小突起３２の高さ分布（微細穴の深さ分布）を離散的に作製することができ、この印加電圧の上昇を連続的に実行すると、微小突起３２の高さ分布を正規分布に設定することができる。そのため、本実施形態では、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程、第２の工程よりも長く設定することにより、図１３（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細穴ｆ１が二つ、一つに纏まるように広くかつ深く掘り進められ、また、その一つに纏められた微細穴ｆ３の底面が略平坦に形成される（平坦微細穴形成工程）。ここで、略平坦とは、微細穴の底面が平坦な状態だけでなく、その底面が大きい曲率半径で湾曲している状態をも含む状態をいう。
(Third step)
Subsequently, a voltage V3 (V3> V2) higher than the voltage V2 is applied to execute the anodizing step A3, and then the etching step E3 is executed. In this step, fine holes having different pitches are produced. Specifically, when the applied voltage is gradually increased from the voltage V2 to the voltage V3 and the applied voltage is increased discretely (stepwise), the height distribution of the microprojections 32 (depth of the microholes) Distribution) can be created discretely, and the height distribution of the microprojections 32 can be set to a normal distribution by continuously increasing the applied voltage. Therefore, in the present embodiment, the application time of the applied voltage in the anodizing step A3 and the processing time of the etching step are set longer than those of the first step and the second step described above, and are shown in FIG. 13 (c). As described above, the fine holes f1 formed in the first anodizing step A1 are widely and deeply dug so as to be gathered into one, and the bottom surface of the fine holes f3 formed into one is substantially flat. (Flat microhole forming step). Here, the term “substantially flat” refers to a state in which the bottom surface of the fine hole is not only flat but also includes a state in which the bottom surface is curved with a large radius of curvature.
（第４の工程）
続いて、電圧Ｖ３よりも高い電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）を印加して陽極酸化工程Ａ４を実行した後に、エッチング工程Ｅ４を実行する。この工程では、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細穴を作成する。この陽極酸化工程Ａ４においても、印加電圧は、電圧Ｖ３から電圧Ｖ４へ徐々に上昇させる。これにより、上記第３の工程により掘り進められた微細穴ｆ３の一部が更に掘り進められ、その結果、図１３（ｄ）に示すように、微細穴ｆ４となり、この微細穴ｆ４が高さの高い単峰性の微小突起を形成する。
(4th step)
Subsequently, a voltage V4 (V4> V3) higher than the voltage V3 is applied to execute the anodizing step A4, and then the etching step E4 is executed. In this step, fine holes are created by the pitch according to the target inter-projection spacing. Also in this anodic oxidation step A4, the applied voltage is gradually increased from the voltage V3 to the voltage V4. As a result, a part of the fine hole f3 dug up in the third step is further dug up, and as a result, as shown in FIG. 13D, the fine hole f4 is formed, and the fine hole f4 has a height. It forms highly monomodal microprojections.
（第５の工程）
続いて、印加電圧を上記第１の工程における電圧Ｖ１に変更して陽極酸化工程Ａ５を実行した後に、エッチング工程Ｅ５を実行する。この工程では、陽極酸化工程Ａ３において形成された微細穴ｆ３であって、第４の工程の陽極酸化工程Ａ４の影響を受けていない微細穴ｆ３の底面に、図１３（ｅ）に示すように、微細穴を複数個形成し、多峰性の微小突起に対応する微細穴ｆ５を形成する（多峰突起用微細穴形成工程）。ここで、印加する電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、微細穴ｆ５の底面に形成される微細穴の数を増減したり、その微細穴の間隔を調整したりすることができる。
(Fifth step)
Subsequently, the applied voltage is changed to the voltage V1 in the first step, the anodizing step A5 is executed, and then the etching step E5 is executed. In this step, as shown in FIG. 13 (e), the microholes f3 formed in the anodizing step A3 are formed on the bottom surface of the microholes f3 which are not affected by the anodizing step A4 in the fourth step. , A plurality of fine holes are formed, and fine holes f5 corresponding to the multimodal microprojections are formed (microhole forming step for multimodal protrusions). Here, by adjusting the magnitude of the applied voltage V1, the number of fine holes formed on the bottom surface of the fine holes f5 can be increased or decreased, and the intervals between the fine holes can be adjusted.
以上より、賦型用金型の表面には、高さの異なる微小突起を形成する微細穴ｆ１、ｆ２、ｆ４や、多峰性の微小突起を形成する微細穴ｆ５が形成される。ここで、この一連の工程では、第１の工程及び第２の工程により作製された深さの異なる微細穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微細穴ｆ３を作製し、第４の工程において、この微細穴ｆ３を掘り進めて単峰性の微小突起に係る微細穴ｆ４を作製し、また、第５の工程において、この微細穴ｆ３の底面を加工して多峰性の微小突起に係る微細穴ｆ５を作製している。ここで、第１の工程から第４の工程に係る陽極酸化工程の印加時間、処理時間、エッチング工程の処理時間等を制御して、各工程で作製される微細穴の深さを制御することにより、微小突起の高さの分布や、多峰性の微小突起の高さの分布を制御することができる。なお、上述の第１の工程〜第５の工程は、必要に応じて回数を省略したり、繰り返したり、工程を一体化したりすることができる。 From the above, on the surface of the molding die, microholes f1, f2, f4 for forming microprojections having different heights and microholes f5 for forming multimodal microprojections are formed. Here, in this series of steps, the microholes f1 and f2 having different depths created in the first step and the second step are dug in the third step to form a substantially flat microhole f3 on the bottom surface. In the fourth step, the microhole f3 is dug to produce a microhole f4 related to a monomodal microprojection, and in the fifth step, the bottom surface of the microhole f3 is processed. A microhole f5 related to a multimodal microprojection is produced. Here, the depth of the fine holes produced in each step is controlled by controlling the application time, the treatment time, the treatment time of the etching step, etc. of the anodizing step according to the first step to the fourth step. Therefore, the height distribution of the microprojections and the height distribution of the multimodal microprojections can be controlled. The above-mentioned first to fifth steps can be omitted in number, repeated, or integrated as needed.
図１４は、図１３との対比により、微小突起の高さ分布の制御に係る深さの異なる微細穴が形成される過程の説明に供する図である。 FIG. 14 is a diagram for explaining the process of forming microholes having different depths related to the control of the height distribution of the microprotrusions in comparison with FIG.
（第１の工程）
ここで図１４（ａ）に示すように、第１の工程において、先ず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細な穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
(First step)
Here, as shown in FIG. 14A, in the first step, first, a voltage V1 is applied to the aluminum layer on the surface of the molding die to execute the anodic oxidation step A1, and then the etching step E1. Is executed to form a fine hole f1. Here, the anodizing step A1 creates a trigger for anodizing treatment that follows the flat surface of aluminum. In this case, the etching step may be omitted as appropriate.
（第２の工程）
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図１４（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細な穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細な穴ｆ１を更に掘り下げる。
(Second step)
Next, after applying a voltage V2 (V2> V1) higher than the voltage V1 to execute the anodizing step A2, the etching step E2 is executed. As a result, in the anodizing step A2, as shown in FIG. 14B, among the fine holes f1 formed in the previous anodizing step A1, the fine holes f1 at intervals corresponding to the anodizing step A2 are formed. Dig further.
ここで印加電圧Ｖ２をＶ２＝２×Ｖ１に設定すると、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細な穴ｆ１を一つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、一つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細な穴ｆ２が形成され、成形型の表面には、微細な穴ｆ１と微細な穴２とが混在する状態となる。 Here, when the applied voltage V2 is set to V2 = 2 × V1, the anodic oxidation step A2 performs a process of digging every other minute hole f1 formed in the previous anodic oxidation step A1. Therefore, every other minute hole f2 is formed on the surface of the molding die, and fine holes f1 and 2 are mixed on the surface of the molding die. It becomes a state.
（第３の工程）
続いて、電圧Ｖ１と電圧Ｖ２の間の電圧Ｖ３（Ｖ２＞Ｖ３＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細な穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ３として、縦横に面内に配列した微細な穴ｆ２の間に存在する図示の如くの特定の微細な穴ｆ１を一つ置きに広く且つ深く掘り下げる。ここで印加電圧Ｖ３をＶ３＝（Ｖ１）１／２に設定すると、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程よりも長く設定することにより、図１３（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細な穴ｆ１のうち、４個の微細な穴ｆ２で囲まれる最小の四角形の中心に位置する微細な穴ｆ１が選択的に深く掘り下げられる。且つ同時に、第２の陽極酸化工程Ａ２形成された微細な穴ｆ２のうちで図１４（ｃ）で図示される位置関係に有る一部のものが更に掘り下げられ、微細な穴ｆ３となる。
(Third step)
Subsequently, the voltage V3 (V2>V3> V1) between the voltages V1 and the voltage V2 is applied to execute the anodic oxidation step A3, and then the etching step E3 is executed. In this step, fine holes having different pitches are produced. Specifically, the applied voltage is set to the voltage V3, and every other specific fine hole f1 as shown in the figure existing between the fine holes f2 arranged vertically and horizontally in the plane is dug wide and deep. Here, when the applied voltage V3 is set to V3 = (V1) 1/2 , the application time of the applied voltage in the anodic oxidation step A3 and the processing time of the etching step are set longer than those in the first step described above. As shown in 13 (c), among the fine holes f1 formed in the first anodic oxidation step A1, the fine hole f1 located at the center of the smallest square surrounded by the four fine holes f2 is selected. It can be dug deeply. At the same time, among the fine holes f2 formed in the second anodizing step A2, some of the fine holes f2 having the positional relationship shown in FIG. 14C are further dug down to become fine holes f3.
その結果、図１４（ｃ）に示すように、微細な穴ｆ１（これが最も高さの低い微小突起に対応する穴となる）の周囲をｆ１よりも深い微細な穴ｆ２及びｆ３（それぞれ中程度及び高程度の高さの微小突起に対応する穴となる）によって周囲を包囲された穴群が面内に配列した表面構造を有する成形型が得られる。 As a result, as shown in FIG. 14C, fine holes f2 and f3 deeper than f1 (medium, respectively) around the fine hole f1 (which is the hole corresponding to the lowest height microprojection). A molding die having a surface structure in which a group of holes surrounded by (a hole corresponding to a microprojection having a high degree of height) is arranged in a plane is obtained.
このように複数回の陽極酸化処理における印加電圧の切り替えにより掘り進める微細穴が異なることにより、微細穴の深さを大きく異ならせることができ、これにより意図する分布により微小突起の高さを制御することができる。 By switching the applied voltage in the anodic oxidation treatment multiple times in this way, the microholes to be dug differ, so that the depth of the microholes can be greatly different, and the height of the microprojections can be controlled by the intended distribution. can do.
次に、上述の方法により作製された賦型用金型によって、実際に、凹凸構造層３０を作製した例について説明する。 Next, an example in which the concavo-convex structure layer 30 is actually produced by the molding die produced by the above method will be described.
〔実施例１〕
図１５は、実施例１の反射防止フィルム２０の微小突起の高さＨの度数分布を示す図である。実施例１の反射防止フィルム２０を製造する賦型用金型は、上述の第２工程、第３工程、第４工程で陽極酸化処理の印加電圧を連続的に変化させたものであり、また第４工程では、第３工程の印加電圧から電圧を低下させたものである。より具体的にこの図１５の例では、第１工程における印加電圧Ｖ１に対して第２工程における印加電圧Ｖ２をＶ２＝３×Ｖ１に設定し、また第３工程における印加電圧Ｖ３をＶ３＝４×Ｖ１に設定し、第４工程の印加電圧Ｖ４をＶ４＜Ｖ３とした例である。
[Example 1]
FIG. 15 is a diagram showing a frequency distribution of height H of microprojections of the antireflection film 20 of Example 1. The mold for forming the antireflection film 20 of Example 1 is obtained by continuously changing the applied voltage of the anodization treatment in the second step, the third step, and the fourth step described above. In the fourth step, the voltage is lowered from the applied voltage in the third step. More specifically, in the example of FIG. 15, the applied voltage V2 in the second step is set to V2 = 3 × V1 with respect to the applied voltage V1 in the first step, and the applied voltage V3 in the third step is set to V3 = 4. This is an example in which × V1 is set and the applied voltage V4 in the fourth step is V4 <V3.
また、図１５の例は、陽極酸化工程とエッチング工程とを５回繰り返した場合であり、第１回目の陽極酸化工程の印加電圧をＶ１（１５Ｖ〜３５Ｖの範囲の一定電圧である）とした場合に、第２回目、第３回目、第４回目、第５回目の陽極酸化工程の印加電圧をそれぞれ２Ｖ１、３．５Ｖ１、５Ｖ１、Ｖ１とした例である。なお陽極酸化処理は、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を使用して１００秒実施した。エッチング工程は、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を使用して４５秒間エッチング処理した後、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液を使用して１１０秒間エッチング処理した。 Further, the example of FIG. 15 is a case where the anodic oxidation step and the etching step are repeated 5 times, and the applied voltage of the first anodic oxidation step is V1 (a constant voltage in the range of 15V to 35V). This is an example in which the applied voltages of the second, third, fourth, and fifth anodic oxidation steps are set to 2V1, 3.5V1, 5V1, and V1, respectively. The anodizing treatment was carried out for 100 seconds using an aqueous oxalic acid solution having a concentration of 0.02 M. In the etching step, an etching treatment was performed for 45 seconds using an aqueous oxalic acid solution having a concentration of 0.02 M, and then an etching treatment was performed for 110 seconds using an aqueous phosphoric acid solution having a concentration of 1.0 M.
この賦型用金型によって製造された反射防止フィルム２０は、微小突起の高さ分布が一つの頂部からなる分布である正規分布を示しており、微小突起が作製されてなる面の鉛直線を中心とした比較的狭い範囲で、良好な反射防止機能を確保することができる。またこのときこのような高さ分布において、多峰性の微小突起（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができ、これにより効率良く多峰性の微小突起の耐擦傷性の機能、光学特性の向上機能を発揮させることができる。 The antireflection film 20 manufactured by this molding die shows a normal distribution in which the height distribution of the microprojections is a distribution consisting of one top, and the vertical line of the surface on which the microprojections are produced is formed. A good antireflection function can be ensured in a relatively narrow range centered on the center. At this time, in such a height distribution, even for multimodal microprojections (those with two and three vertices are indicated by two peaks and three peaks, respectively), a normal distribution in which the average values of heights are almost the same. This makes it possible to efficiently exert the scratch resistance function of the multimodal microprojections and the function of improving the optical characteristics.
上述の方法により製造された実施例１の反射防止フィルム２０は、図１５に示すように、微小突起の高さの平均値がｍ＝１４５．７ｎｍであり、その標準偏差がσ＝２２．１ｎｍである。ここで、微小突起の高さＨの度数分布において、低高度領域は、Ｈ＜ｍ−σ＝１２３．６ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ−σ＝１２３．６ｎｍ≦Ｈ≦ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなり、高高度領域は、Ｈ＞ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなる。度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔは、２６３個である。また、中高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、２３個であるので、中高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０８７となる。低高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、２個であるので、低高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．００８となる。高高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、５個であるので、高高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０１９となる。 In the antireflection film 20 of Example 1 manufactured by the above method, as shown in FIG. 15, the average value of the heights of the microprojections is m = 145.7 nm, and the standard deviation thereof is σ = 22.1 nm. Is. Here, in the frequency distribution of the height H of the microprojections, the low altitude region has H <m-σ = 123.6 nm, and the medium altitude region has m-σ = 123.6 nm ≦ H ≦ m + σ = 167.8 nm. Therefore, the high altitude region is H> m + σ = 167.8 nm. The total number Nt of microprojections in the entire frequency distribution is 263. Further, since the number Nm of the multimodal microprojections in the medium altitude region is 23, the Nm / Nt in the medium altitude region is 0.087. Since the number Nm of the multimodal microprojections in the low altitude region is 2, the Nm / Nt in the low altitude region is 0.008. Since the number Nm of the multimodal microprojections in the high altitude region is 5, the Nm / Nt in the high altitude region is 0.019.
従って、実施例１の反射防止フィルム２０は、次の（ｉ）、（ｉｉ）の関係、すなわち、
（ｉ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．００８
（ｉｉ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０１９
を満足する。
Therefore, the antireflection film 20 of Example 1 has the following relationship (i) and (ii), that is,
(I) Nm / Nt = 0.087 in the medium altitude region> Nm / Nt = 0.008 in the low altitude region
(Ii) Nm / Nt = 0.087 in the medium altitude region> Nm / Nt = 0.019 in the high altitude region
To be satisfied.
以上より、実施例１の反射防止フィルム２０は、中高度領域における多峰性の微小突起の数（Ｎｍ）と度数分布における微小突起の総数（Ｎｔ）との比率（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域及び高高度領域の比率よりも大きくなるように多峰性の微小突起が形成されているので、可視光域に係る入射光に対する反射率を低減することができ、反射防止フィルム２０の反射防止機能の広帯域化を図ることができる。 From the above, in the antireflection film 20 of Example 1, the ratio (Nm / Nt) of the number of multimodal microprojections (Nm) in the middle altitude region to the total number of microprojections (Nt) in the frequency distribution is low. Since the multimodal microprojections are formed so as to be larger than the ratio of the high altitude region and the high altitude region, the reflectance to the incident light in the visible light region can be reduced, and the reflection of the antireflection film 20 can be reduced. The bandwidth of the prevention function can be widened.
また、この２０は、このような高さ分布において、多峰性の微小突起（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができるので、視野角特性を制限することができる。また、効率良く多峰性の微小突起の耐擦傷性を向上させることができる。 In addition, in this height distribution, the average heights of the multimodal microprojections (two and three vertices are indicated by two and three vertices, respectively) are almost the same. Since the normal distribution can be obtained, the viewing angle characteristics can be limited. In addition, the scratch resistance of the multimodal microprojections can be efficiently improved.
更に、上述の構成にすることによって、反射防止フィルム２０は、高さが高い（１８０ｎｍ以上）微小突起に分布する多峰性の微小突起の比率が小さく、単峰性の微小突起の比率が多いので、他の物体が微小突起に摩擦接触したとしても、高さの高い単峰性の微小突起が先に接触することとなり、反射防止機能を主に向上させる多峰性の微小突起に接触してしまうのを抑制することができる。 Further, by adopting the above configuration, the antireflection film 20 has a small ratio of multimodal microprojections distributed in microprojections having a high height (180 nm or more) and a large proportion of monomodal microprojections. Therefore, even if another object makes frictional contact with the microprojections, the high monomodal microprojections will come into contact first, and will come into contact with the multimodal microprojections that mainly improve the antireflection function. It can be suppressed.
〔実施例２〕
図１６は、実施例２の反射防止フィルム２０の微小突起３２の高さｈの度数分布の他の例を示す図である。実施例２の反射防止フィルム２０を製造する賦型用金型は、上述の第１〜第５の工程のうちで、第２工程では段階的に電圧を上昇させて第３工程及び第４工程の処理を併せて実行し、第４工程では、図１５の例による最高電圧に比して一段とより高い電圧により陽極酸化処理を実行し、またさらにこの第４工程に対応して第５工程を実行したものである。
[Example 2]
FIG. 16 is a diagram showing another example of the frequency distribution of the height h of the microprojection 32 of the antireflection film 20 of the second embodiment. In the molding die for producing the antireflection film 20 of the second embodiment, among the above-mentioned first to fifth steps, the voltage is gradually increased in the second step to perform the third step and the fourth step. In the 4th step, the anodization treatment is carried out at a voltage higher than the maximum voltage according to the example of FIG. 15, and further, the 5th step is carried out corresponding to the 4th step. It was executed.
より具体的に図１６の例は、図１５の例と同一の繰り返し回数、溶液及び処理時間により陽極酸化工程、エッチング工程を実行した。この図１６の例では、第１回目の陽極酸化工程の印加電圧をＶ１（１５Ｖ〜３５Ｖの範囲の一定電圧である）とした場合に、第２回目、第３回目、第４回目、第５回目の陽極酸化工程の印加電圧をそれぞれ２．５Ｖ１、４Ｖ１、６Ｖ１、Ｖ１１／２〜Ｖ１とした例である。２回目から４回目の陽極酸化工程では、２回目の陽極酸化処理の開始電圧及び４回目の陽極酸化処理の終了電圧がそれぞれ２．５Ｖ１及び６Ｖ１となるように設定して、徐々に印加電圧を増大させた。 More specifically, in the example of FIG. 16, the anodizing step and the etching step were executed with the same number of repetitions, solution and treatment time as in the example of FIG. In the example of FIG. 16, when the applied voltage of the first anodic oxidation step is V1 (a constant voltage in the range of 15V to 35V), the second, third, fourth, and fifth steps are taken. This is an example in which the applied voltages in the second anodic oxidation step are 2.5V1, 4V1, 6V1, and V1 1/2 to V1, respectively. In the second to fourth anodizing steps, the start voltage of the second anodizing treatment and the ending voltage of the fourth anodizing treatment are set to 2.5V1 and 6V1, respectively, and the applied voltage is gradually increased. Increased.
この図１６の例では、高さの高い側と低い側とに分布のピークを有する、微小突起３２の高さ分布が離散的、すなわち、双峰性を持つ分布を示しており、各分布の峰に対応して多峰性微小突起の分布が形成される。 In the example of FIG. 16, the height distribution of the microprojections 32, which has distribution peaks on the high side and the low side, shows a discrete distribution, that is, a bimodal distribution. A distribution of multimodal microprojections is formed corresponding to the peaks.
実施例２の反射防止フィルム２０は、高さの度数分布が双峰性の分布となり、この度数分布全体の微小突起の高さの平均値がｍ＝１９５．７ｎｍであり、標準偏差がσ＝５７．２ｎｍである。 In the antireflection film 20 of Example 2, the frequency distribution of the height has a bimodal distribution, the average value of the heights of the microprojections in the entire frequency distribution is m = 195.7 nm, and the standard deviation is σ =. It is 57.2 nm.
ここで、微小突起の高さｈの度数分布において、低高度領域は、ｈ＜ｍ−σ＝１３８．５ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ−σ＝１３８．５ｎｍ≦ｈ≦ｍ＋σ＝２５４．７ｎｍとなり、高高度領域は、ｈ＞ｍ＋σ＝２５４．７ｎｍとなる。度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔは、１３１個である。また、中高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍは、２１個であるので、中高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．１６０となる。低高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍは、３個であるので、低高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０２３となる。高高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍは、０個であるので、高高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０となる。 Here, in the frequency distribution of the height h of the microprojections, the low altitude region has h <m-σ = 138.5 nm, and the medium altitude region has m-σ = 138.5 nm ≦ h ≦ m + σ = 254.7 nm. Therefore, the high altitude region is h> m + σ = 254.7 nm. The total number Nt of microprojections in the entire frequency distribution is 131. Further, since the number Nm of the multimodal microprojections in the medium altitude region is 21, the Nm / Nt in the medium altitude region is 0.160. Since the number Nm of the multimodal microprojections in the low altitude region is 3, the Nm / Nt in the low altitude region is 0.023. Since the number Nm of the multimodal microprojections in the high altitude region is 0, the Nm / Nt in the high altitude region is 0.
従って、実施例２の反射防止物品は、次の（ｉ）、（ｉｉ）の関係、すなわち、
（ｉ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．１６０＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０２３
（ｉｉ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．１６０＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０
を満足する。
Therefore, the antireflection article of Example 2 has the following relationship (i) and (ii), that is,
(I) Nm / Nt = 0.160 in the medium altitude region> Nm / Nt = 0.023 in the low altitude region
(Ii) Nm / Nt = 0.160 in the medium altitude region> Nm / Nt = 0 in the high altitude region
To be satisfied.
また、上述したように、実施例２の反射防止フィルム２０の微小突起３２の高さｈの度数分布は、双峰性、すなわち２つの分布の峰が存在する。この場合、各分布の峰についても、低高度領域、中高度領域、高高度領域を定め、それぞれの峰の各領域の多峰性微小突起の数と、度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔとの比の大小を評価する必要がある。 Further, as described above, the frequency distribution of the height h of the microprojections 32 of the antireflection film 20 of Example 2 is bimodal, that is, there are two peaks of distribution. In this case, for the peaks of each distribution, a low altitude region, a medium altitude region, and a high altitude region are defined, and the number of multimodal microprojections in each region of each peak and the total number of microprojections in the entire frequency distribution Nt. It is necessary to evaluate the magnitude of the ratio of.
具体的には、各峰間の境界となる高さをｈｓとしたとき、ｈｓ未満の分布の峰（高さが低い側の分布の峰）については、高さｈの平均値をｍ１とし、標準偏差をσ１とし、ｈ＜ｍ１−σ１の領域を低高度領域とし、ｍ１−σ１≦ｈ≦ｍ１＋σ１の領域を中高度領域とし、ｍ１＋σ１＜ｈ＜ｈｓの領域を高高度領域とした場合に、ｈｓ未満の分布の峰における各領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ１と、度数分布全体における微小突起の総数Ｎｔとの比率が、以下の（ｉｉｉ）、（ｉｖ）の関係を満たすことが好ましい。
（ｉｉｉ） 中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ１／Ｎｔ
（ｉｖ） 中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ１／Ｎｔ
Specifically, when the height that is the boundary between each peak is hs, the average value of the height h is m1 for the peaks with a distribution less than hs (the peaks with a distribution on the lower side). When the standard deviation is σ1, the region of h <m1-σ1 is the low altitude region, the region of m1-σ1 ≦ h ≦ m1 + σ1 is the medium altitude region, and the region of m1 + σ1 <h <hs is the high altitude region. It is preferable that the ratio of the number Nm1 of multimodal microprojections in each region to the total number Nt of microprojections in the entire frequency distribution satisfies the following relationships (iii) and (iv) in the peaks with a distribution of less than hs. ..
(Iii) Nm1 / Nt in the middle altitude region> Nm1 / Nt in the low altitude region
(Iv) Nm1 / Nt in the medium altitude region> Nm1 / Nt in the high altitude region
また、ｈｓ以上の分布（高さが高い側の分布）については、高さｈの平均値をｍ２とし、標準偏差をσ２とし、ｈｓ＜ｈ＜ｍ２−σ２の領域を低高度領域とし、ｍ２−σ２≦ｈ≦ｍ２＋σ２の領域を中高度領域とし、ｍ２＋σ２＜ｈの領域を高高度領域とした場合に、ｈｓ以上の分布における各領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ２と、度数分布全体における微小突起の総数Ｎｔとの比率が、以下の（ｖ）、（ｖｉ）の関係を満たすことが好ましい。
（ｖ） 中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ２／Ｎｔ
（ｖｉ） 中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ２／Ｎｔ
For distributions above hs (distribution on the higher height side), the average value of height h is m2, the standard deviation is σ2, the region of hs <h <m2-σ2 is the low altitude region, and m2. When the region of −σ2 ≦ h ≦ m2 + σ2 is defined as the medium altitude region and the region of m2 + σ2 <h is defined as the high altitude region, the number Nm2 of multimodal microprojections in each region in the distribution of hs or more and the entire frequency distribution. It is preferable that the ratio of the total number of microprojections to Nt satisfies the following relationships (v) and (vi).
(V) Nm2 / Nt in the middle altitude region> Nm2 / Nt in the low altitude region
(Vi) Nm2 / Nt in the medium altitude region> Nm2 / Nt in the high altitude region
ここで、ｈｓ未満（高さが低い側）の分布における微小突起の高さｈの平均値がｍ１＝５２．９ｎｍであり、標準偏差がσ１＝２４．８ｎｍである。各分布の境界は、度数分布の高さのデータを統計的に処理することによってｈｓ＝１００ｎｍと求められる。そのため、ｈｓ未満の分布の低高度領域は、ｈ＜ｍ１−σ１＝２８．１ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ１−σ１＝２８．１ｎｍ≦ｈ≦ｍ１＋σ１＝７７．７ｎｍとなり、高高度領域は、ｍ１＋σ１＝７７．７ｎｍ＜ｈ＜ｈｓ＝１００ｎｍとなる。また、中高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ１は、２個であるので、中高度領域のＮｍ１／Ｎｔは、０．０１５となる。低高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ１は、０個であるので、低高度領域のＮｍ１／Ｎｔは、０となる。高高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ１は、０個であるので、高高度領域のＮｍ１／Ｎｔは、０となる。 Here, the average value of the height h of the microprojections in the distribution less than hs (the side with the lower height) is m1 = 52.9 nm, and the standard deviation is σ1 = 24.8 nm. The boundary of each distribution is determined as hs = 100 nm by statistically processing the height data of the frequency distribution. Therefore, the low altitude region with a distribution of less than hs is h <m1-σ1 = 28.1 nm, the medium altitude region is m1-σ1 = 28.1 nm ≦ h ≦ m1 + σ1 = 77.7 nm, and the high altitude region is m1 + σ1 = 77.7 nm <h <hs = 100 nm. Further, since the number Nm1 of the multimodal microprojections in the medium altitude region is 2, the Nm1 / Nt in the medium altitude region is 0.015. Since the number Nm1 of the multimodal microprojections in the low altitude region is 0, Nm1 / Nt in the low altitude region is 0. Since the number Nm1 of the multimodal microprojections in the high altitude region is 0, Nm1 / Nt in the high altitude region is 0.
従って、実施例２の反射防止物品は、ｈｓ未満の分布において、上記（ｉｉｉ）、（ｉｖ）の関係、すなわち、
（ｉｉｉ） 中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＝０．０１５＞低高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＝０
（ｉｖ） 中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＝０．０１５＞高高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＝０
の関係を満たす。
Therefore, the antireflection article of Example 2 has the relationship of (iii) and (iv) above, that is, in a distribution of less than hs.
(Iii) Nm1 / Nt = 0.015 in the middle altitude region> Nm1 / Nt = 0 in the low altitude region
(Iv) Nm1 / Nt = 0.015 in the medium altitude region> Nm1 / Nt = 0 in the high altitude region
Satisfy the relationship.
また、ｈｓ以上（高さが高い側）の分布の微小突起については、高さｈの平均値がｍ２＝２０９．２ｎｍであり、標準偏差がσ２＝３９．４ｎｍである。そのため、ｈｓ以上の分布の低高度領域は、ｈｓ＝１００ｎｍ≦ｈ＜ｍ２−σ２＝１６９．９ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ２−σ２＝１６９．９ｎｍ≦ｈ≦ｍ２＋σ２＝２４８．７ｎｍとなり、高高度領域は、ｍ＋σ＝２４８．７ｎｍ＜ｈとなる。また、中高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ２は、１９個であるので、中高度領域のＮｍ２／Ｎｔは、０．１４５となる。低高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ２は、３個であるので、低高度領域のＮｍ２／Ｎｔは、０．０２３となる。高高度領域の多峰性微小突起の数Ｎｍ２は、０個であるので、高高度領域のＮｍ２／Ｎｔは、０となる。 Further, for the microprojections having a distribution of hs or more (higher height side), the average value of the height h is m2 = 209.2 nm, and the standard deviation is σ2 = 39.4 nm. Therefore, the low altitude region with a distribution of hs or more is hs = 100 nm ≦ h <m2-σ2 = 169.9 nm, and the medium altitude region is m2-σ2 = 169.9 nm ≦ h ≦ m2 + σ2 = 248.7 nm, which is high. The altitude region is m + σ = 248.7 nm <h. Further, since the number Nm2 of the multimodal microprojections in the medium altitude region is 19, the Nm2 / Nt in the medium altitude region is 0.145. Since the number Nm2 of the multimodal microprojections in the low altitude region is 3, the Nm2 / Nt in the low altitude region is 0.023. Since the number Nm2 of the multimodal microprojections in the high altitude region is 0, the Nm2 / Nt in the high altitude region is 0.
従って、実施例２の反射防止物品は、ｈｓ以上の分布においても、上記（ｖ）、（ｖｉ）の関係、すなわち、
（ｖ） 中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＝０．１４５＞低高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＝０．０２３
（ｖｉ） 中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＝０．１４５＞高高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＝０
の関係を満たす。
Therefore, the antireflection article of Example 2 has a relationship of (v) and (vi), that is, even in a distribution of hs or more.
(V) Nm2 / Nt = 0.145 in the medium altitude region> Nm2 / Nt = 0.023 in the low altitude region
(Vi) Nm2 / Nt = 0.145 in the medium altitude region> Nm2 / Nt = 0 in the high altitude region
Satisfy the relationship.
以上より、実施例２の反射防止フィルム２０は、中高度領域の多峰性微小突起の数（Ｎｍ）と度数分布における微小突起の総数（Ｎｔ）との比率（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域及び高高度領域の比率よりも大きくなるように多峰性微小突起が形成されているので、可視光域に係る入射光に対する反射率を低減することができ、反射防止物品の反射防止機能の広帯域化を図ることができる。 From the above, in the antireflection film 20 of Example 2, the ratio (Nm / Nt) of the number of multimodal microprojections (Nm) in the medium altitude region to the total number of microprojections (Nt) in the frequency distribution is low altitude. Since the multimodal microprojections are formed so as to be larger than the ratio of the region and the high altitude region, the reflectance to the incident light in the visible light region can be reduced, and the antireflection function of the antireflection article can be reduced. Wider bandwidth can be achieved.
また、実施例２の反射防止フィルム２０は、度数分布が双峰性であり、上述の（ｉｉｉ）〜（ｖｉ）の関係を満たすので、各分布における多峰性微小突起の分布を、各分布の頂部近傍に集中させることができる。これにより、斜め方向からの光学特性を向上して広い視野角特性を向上することができる。また、低い側の分布の多峰性微小突起によって、紫外線域の反射防止機能を向上させ、高い側の分布に存在する多峰性微小突起によって、可視光域の反射防止機能を向上させているため、広帯域化された反射防止機能を更に向上することができる。 Further, since the antireflection film 20 of Example 2 has a bimodal frequency distribution and satisfies the above-mentioned relationship (iii) to (vi), the distribution of the multimodal microprojections in each distribution can be changed to each distribution. Can be concentrated near the top of the film. As a result, the optical characteristics from the oblique direction can be improved and the wide viewing angle characteristics can be improved. In addition, the multimodal microprojections on the lower side improve the antireflection function in the ultraviolet region, and the multimodal microprojections on the higher side improve the antireflection function in the visible light region. Therefore, the widened antireflection function can be further improved.
また、赤外線域に対しては、反射防止機能の確保のために配置間隔（ピッチ）が広く、高さが高い単峰性微小突起が形成される必要があるが、実施例２の反射防止フィルム２０は、高さが高い微小突起に分布する多峰性微小突起の比率が小さいので、多峰性微小突起が存在することによる赤外線域の反射防止機能の低下を防ぐことができる。また、このような構成により、他の物体が微小突起に摩擦接触したとしても高さの高い単峰性微小突起が先に接触することとなり、多峰性微小突起に接触してしまうのを抑制することができる。 Further, in the infrared region, in order to secure the antireflection function, it is necessary to form unpeaked microprojections having a wide arrangement interval (pitch) and a high height. However, the antireflection film of Example 2 In No. 20, since the ratio of the multimodal microprojections distributed in the microprojections having a high height is small, it is possible to prevent the deterioration of the antireflection function in the infrared region due to the presence of the multimodal microprojections. Further, with such a configuration, even if another object makes frictional contact with the microprojections, the high monomodal microprojections come into contact first, and the multimodal microprojections are prevented from coming into contact with each other. can do.
なお、実施例１及び実施例２に関連して説明した多峰性の微小突起３２Ｂの特徴は、賦型用金型の対応する形状を備えた微細穴により作製される多峰性の微小突起の固有の特徴であり、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起によっては得ることができない特徴である。すなわち樹脂の充填不良による多峰性の微小突起は、本来、単峰性の微小突起として作製される微細穴に十分に樹脂が充填されないことにより作製されるものであるので、頂点間の間隔が極めて微小であり、これにより耐擦傷性を十分に向上することが困難であり、また上述したような光学特性の向上も困難である。 The feature of the multimodal microprojection 32B described in connection with Example 1 and Example 2 is the multimodal microprojection formed by the microhole having the corresponding shape of the molding die. This is a unique feature of the above, which cannot be obtained by the multimodal microprojections caused by poor filling of the resin disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-307670. That is, the multimodal microprojections due to poor resin filling are produced by not sufficiently filling the micropores originally produced as monomodal microprojections with resin, so that the distance between the vertices is large. It is extremely minute, and it is difficult to sufficiently improve the scratch resistance, and it is also difficult to improve the optical characteristics as described above.
また、充填不良による多峰性の微小突起にあっては、再現性が乏しく、これにより均一な製品を量産できない欠点もあり、これに対して、この実施形態に係る多峰性の微小突起は、いわゆる金型により高い再現性を確保することができる。また、上述の実施例１及び実施例２について詳述するように、多峰性の微小突起の高さ分布について制御できるのに対し、充填不良の多峰性の微小突起については、このような制御が困難である。 In addition, the multimodal microprojections due to poor filling have poor reproducibility, which makes it impossible to mass-produce uniform products. On the other hand, the multimodal microprojections according to this embodiment have a drawback. High reproducibility can be ensured by the so-called mold. Further, as described in detail in Examples 1 and 2 described above, the height distribution of the multimodal microprojections can be controlled, whereas such multimodal microprojections with poor filling can be controlled. Difficult to control.
〔耐擦傷性の向上〕
単峰性の微小突起３２Ａだけでなく多峰性の微小突起３２Ｂを含む凹凸構造層３０は、上述したように、耐擦傷性に優れる。このように耐擦傷性が改善された反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の表面形状をＡＦＭ（Atomic Force Microscope：原子間力顕微鏡）及びＳＥＭ（Scanning Electron Microscope：走査型電子顕微鏡）により観察したところ、多峰性微小突起３２Ｂは、単に頂点を複数有するだけでなく、微小突起を先端側より平面視覚した場合に、ほぼ中央より外方に向かって形成された溝により複数の領域に分割され、この複数の領域の各領域が、それぞれ各頂点に係る峰であるように形成されていた。またこの多峰性の微小突起は、対応する形状を備えた微細穴の賦型処理により作製され、このような多峰性の微小突起に係る微細穴は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにおいて、極めて近接して作製された微細穴が、エッチング処理により、一体化して作製される。これにより多峰性の微小突起は、微小突起を先端側より平面視覚した場合の周囲長が、単峰性の微小突起に比して長く形成されている。この点については、後述する図１８により見て取ることができる。なおこれら多峰性微小突起の形状は、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の賦型処理時の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起とは異なる特徴である。
[Improved scratch resistance]
As described above, the concave-convex structure layer 30 including not only the monomodal microprojections 32A but also the multimodal microprojections 32B is excellent in scratch resistance. The surface shape of the concavo-convex structure layer 30 of the antireflection film 20 with improved scratch resistance was observed by AFM (Atomic Force Microscope) and SEM (Scanning Electron Microscope). The multimodal microprojection 32B not only has a plurality of vertices, but is divided into a plurality of regions by a groove formed from the center to the outside when the microprojection is viewed in a plane from the tip side. Each region of the plurality of regions was formed so as to be a peak related to each vertex. Further, the multimodal microprojections are produced by a shaping process of micropores having a corresponding shape, and the micropores related to such multimodal microprojections are repeatedly anodized and etched. In, the fine holes produced in close proximity to each other are integrally produced by an etching process. As a result, the multimodal microprojections are formed to have a longer peripheral length when the microprojections are viewed in a plane from the tip side than the monomodal microprojections. This point can be seen in FIG. 18, which will be described later. The shape of these multimodal microprojections is different from that of the multimodal microprojections caused by poor filling of the resin during the shaping process disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-307670.
このような頂点を複数有する多峰性の微小突起３２Ｂは、単峰性の微小突起３２Ａに比して、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太くなる。これにより、多峰性の微小突起３２Ｂは、単峰性の微小突起３２Ａに比して機械的強度が優れていると言える。これにより頂点を複数有する多峰性の微小突起３２Ｂが存在する場合、反射防止フィルム２０では、単峰性の微小突起３２Ａのみによる場合に比して耐擦傷性が向上するものと考えられる。さらに、具体的に反射防止フィルム２０に外力が加わった場合、単峰性の微小突起３２Ａのみの場合に比して、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起３２が損傷し難いようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起３２が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性の微小突起３２Ｂの半分程度は、最高峰高さ（麓が同じ微小突起に属する最も高い峰の高さ）が突起高さの平均値ＨＡＶＧ以上の微小突起に生じる為、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性の微小突起よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐ。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。上述した図１５に示す度数分布では、隣接突起間距離ｄ（横軸の値）について、１４６ｎｍに１つの極大値が存在しており、このような損耗防止機能がより効果的に発揮され得る。 The multimodal microprojection 32B having a plurality of such vertices has a relatively thicker hem portion with respect to the dimension near the apex, as compared with the monomodal microprojection 32A. Therefore, it can be said that the multimodal microprojection 32B is superior in mechanical strength to the monomodal microprojection 32A. As a result, when there are multimodal microprojections 32B having a plurality of vertices, it is considered that the antireflection film 20 has improved scratch resistance as compared with the case where only monomodal microprojections 32A are used. Further, specifically, when an external force is applied to the antireflection film 20, the external force is dispersed and received at more vertices than in the case of only the monomodal microprojection 32A, so that the external force applied to each vertex is applied. It can be reduced so that the microprojections 32 are less likely to be damaged, thereby reducing the local deterioration of the antireflection function and further reducing the occurrence of appearance defects. Further, even if the microprojection 32 is damaged, the area of the damaged portion can be reduced. Furthermore, about half of the multimodal microprojections 32B have the highest peak height (the height of the highest peak belonging to the same microprojection at the base) in the microprojections with an average protrusion height of HAVG or more. By first receiving the external force and sacrificingly damaging each peak portion, the wear of the main body portion lower than the peak of the microprojection and the microprojection lower than the multimodal microprojection is prevented. This also reduces the local deterioration of the antireflection function and further reduces the occurrence of poor appearance. In the frequency distribution shown in FIG. 15 described above, one maximum value exists at 146 nm for the distance d between adjacent protrusions (value on the horizontal axis), and such a wear prevention function can be more effectively exhibited.
なお多峰性の微小突起３２Ｂは、その存在により耐擦傷性を向上できるものの、充分に存在しない場合には、この耐擦傷性を向上する効果を十分に発揮できないことは言うまでもない。係る観点より、全微小突起中における多峰性の微小突起の個数の比率は１０％以上であることが好ましい。特に多峰性の微小突起３２Ｂによる耐擦傷性を向上する効果を十分に奏する為には、該多峰性の微小突起の比率は３０％以上、好ましくは５０％以上とする。又、多峰性微小突起の比率を増やすに伴い製造工程の管理の難度が増す為、当該比率は好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下とすることが好ましい。 It is needless to say that the multimodal microprojection 32B can improve the scratch resistance due to its presence, but if it is not sufficiently present, the effect of improving the scratch resistance cannot be sufficiently exhibited. From this point of view, the ratio of the number of multimodal microprojections in all microprojections is preferably 10% or more. In particular, in order to sufficiently exert the effect of improving the scratch resistance of the multimodal microprojections 32B, the ratio of the multimodal microprojections is 30% or more, preferably 50% or more. Further, since the difficulty of controlling the manufacturing process increases as the ratio of the multimodal microprojections increases, the ratio is preferably 90% or less, more preferably 80% or less.
さらにこのような多峰性の微小突起３２Ｂを含む微小突起群を有する反射防止フィルム２０には、上述したように高さが制御された微小突起３２が形成され、また、高さの異なる微小突起３２が分布している。なおここで各微小突起３２の高さＨとは、上述したように、麓（付け根）部を共有するある特定の微小突起について、その頂部に存在する最高高さを有する峰（最高峰）の高さを言う。図１７（ａ）の微小突起３２Ａの如くの単峰性の微小突起の場合は、頂部における唯一の峰（極大点）の高さが該微小突起の突起高さＨとなる。また図１７（ａ）の微小突起３２Ｂのような多峰性の微小突起の場合は、頂部に在る麓部を共有する複数の峰のうちの最高峰の高さをもって該微小突起の高さとする（麓部を共有する全峰が同一高さの場合は、其の同一の高さを以って該微小突起の高さとする）。このように微小突起３２の高さＨが種々に異なる場合には、例えば物体の接触により高さの高い微小突起の形状が損なわれた場合でも、高さの低い微小突起においては、形状が維持されることになる。これによっても反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０では、反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらには外観不良の発生を低減することができ、その結果、耐擦傷性を向上することができる。 Further, in the antireflection film 20 having a microprojection group including such multimodal microprojections 32B, the microprojections 32 whose height is controlled as described above are formed, and the microprojections having different heights are formed. 32 are distributed. Here, the height H of each microprojection 32 is, as described above, the peak (highest peak) having the highest height existing at the top of a specific microprojection that shares the foot (root) portion. Say height. In the case of a monomodal microprojection such as the microprojection 32A in FIG. 17A, the height of the only peak (maximum point) at the top is the projection height H of the microprojection. Further, in the case of a multimodal microprojection such as the microprojection 32B in FIG. 17A, the height of the highest peak among a plurality of peaks sharing the foot at the top is taken as the height of the microprojection. (If all the peaks sharing the foot of the mountain have the same height, the same height shall be used as the height of the microprojection). When the heights H of the microprojections 32 are variously different in this way, even if the shape of the microprojections with a high height is impaired by contact with an object, the shape is maintained in the microprojections with a low height. Will be done. As a result, the uneven structure layer 30 of the antireflection film 20 can reduce the local deterioration of the antireflection function and further reduce the occurrence of poor appearance, and as a result, the scratch resistance can be improved. it can.
また反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の微小突起群と物体との間に塵埃が付着すると、当該物品が凹凸構造層３０に対して相対的に摺動した際に、該塵埃が研磨剤として機能して微小突起（群）の磨耗、損傷が促進されることになる。この場合に、微小突起群を構成する各微小突起間に高低差が有ると、塵埃は高さの高い微小突起に強く接触し、これを損傷させる。一方で低高さの微小突起との接触は弱まり、高さの低い微小突起については損傷が軽減され、無傷ないしは軽微な傷で残存した高さの低い微小突起によって反射防止性能が維持される。 Further, when dust adheres between the microprojection group of the concave-convex structure layer 30 of the antireflection film 20 and the object, the dust acts as an abrasive when the article slides relative to the concave-convex structure layer 30. It functions to promote wear and damage of microprojections (groups). In this case, if there is a height difference between the microprojections constituting the microprojection group, the dust strongly contacts the high microprojections and damages them. On the other hand, the contact with the low-height microprojections is weakened, the damage is reduced for the low-height microprojections, and the antireflection performance is maintained by the low-height microprojections remaining with no damage or slight scratches.
またこれに加えて、各微小突起の高さに分布（高低差）の有る微小突起群は、反射防止性能が広帯域化され、白色光のような多波長の混在する光、あるいは広帯域スペクトルを持つ光に対して、全スペクトル帯域で低反射率を実現するのに有利である。これは、かかる微小突起群によって良好な反射防止性能を発現し得る波長帯域が、隣接突起間距離ｄの他に、突起高さＨにも依存する為である。 In addition to this, the microprojection group having a distribution (height difference) in the height of each microprojection has a wide band of antireflection performance, and has a mixed light of multiple wavelengths such as white light or a wide band spectrum. It is advantageous for achieving low reflectance in the entire spectrum band with respect to light. This is because the wavelength band in which good antireflection performance can be exhibited by the microprojection group depends on the projection height H in addition to the distance d between adjacent projections.
またこの場合には、多数の微小突起のうちの高さの高い微小突起３２のみが、例えば反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０と対向するように配置された各種の部材表面と接触することになる。これにより高さが同一の微小突起のみによる場合に比して格段的に滑りを良くすることができ、製造工程等における反射防止フィルム２０の取り扱いを容易とすることができる。なおこのように滑りを良くする観点から、ばらつきは、標準偏差により規定した場合に、１０ｎｍ以上必要であるものの、５０ｎｍより大きくなると、このばらつきによる表面のざらつき感が感じられるようになる。従ってこの高さのばらつきは、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることが好ましい。 Further, in this case, only the high-height micro-projections 32 among the large number of micro-projections come into contact with the surfaces of various members arranged so as to face the concave-convex structure layer 30 of the antireflection film 20, for example. Become. As a result, the slippage can be remarkably improved as compared with the case where only the microprojections having the same height are used, and the antireflection film 20 can be easily handled in the manufacturing process or the like. From the viewpoint of improving the slip, the variation is required to be 10 nm or more when defined by the standard deviation, but when it is larger than 50 nm, a feeling of surface roughness due to the variation is felt. Therefore, this height variation is preferably 10 nm or more and 50 nm or less.
またこのように多峰性の微小突起３２Ｂが混在する場合には、単峰性の微小突起のみによる場合に比して反射防止の性能を向上することができる。すなわち図６、図１７、及び図１８等に示すような多峰性の微小突起３２Ｂ等は、隣接突起間距離が同じ場合であっても、また突起高さが同じ場合であっても、単峰性の微小突起と比べて、より光の反射率が低減することになる。その理由は、多峰性の微小突起３２Ｂは、頂部より下（中腹及び麓）の形状が同じ単峰性の微小突起よりも、頂部近傍における有効屈折率の高さ方向の変化率が小さくなる為である。 Further, when the multimodal microprojections 32B are mixed in this way, the antireflection performance can be improved as compared with the case where only the monomodal microprojections are used. That is, the multimodal microprojections 32B and the like as shown in FIGS. 6, 17, and 18, etc., are simple regardless of whether the distance between adjacent projections is the same or the projection heights are the same. The reflectance of light will be further reduced as compared with the peaked microprojections. The reason is that the multimodal microprojection 32B has a smaller rate of change in the effective refractive index in the vicinity of the apex than the monomodal microprojection having the same shape below the apex (middle and foot). Because.
すなわち図１７において、ｚ＝０を高さＨ＝０とおき、高さ方向（Ｚ軸方向）に直交する仮想的切断面Ｚ＝ｚで微小突起３２Ｂを切断したと仮定した場合の面Ｚ＝ｚにおける微小突起と周辺の媒質（通常は空気）との屈折率の平均値として得られる有効屈折率ｎｅｆは、切断面Ｚ＝ｚにおける周辺媒質（ここでは空気とする）の屈折率をｎＡ＝１、微小突起３２Ｂの構成材料の屈折率をｎＭ＞１とし、又周辺媒質（空気）の断面積の合計値をＳＡ（ｚ）、微小突起３２Ｂの断面積の合計値をＳＭ（ｚ）としたとき、
ｎｅｆ（ｚ）＝１×ＳＡ(z)／(ＳＡ(z)＋ＳＭ(z))＋ｎＡ×ＳＭ(z)／(ＳＡ(z)＋ＳＭ(z))（式１）
で表される。これは、周辺媒質の屈折率ｎＡ及び微小突起構成材料の屈折率ｎＭを、各々周辺媒質の合計断面積ＳＡ（ｚ）及び微小突起の合計断面積の合計値ＳＭ（ｚ）の比で比例配分した値となる。
That is, in FIG. 17, it is assumed that z = 0 is set to height H = 0 and the microprojection 32B is cut at a virtual cutting surface Z = z orthogonal to the height direction (Z-axis direction). The effective refractive index nef obtained as the average value of the refractive indexes of the microprojections and the surrounding medium (usually air) at z is the refractive index of the peripheral medium (here, air) at the cut surface Z = z. a = 1, the refractive index of the material of the fine protrusions 32B and n M> 1, also the sum of the cross-sectional area of the peripheral medium (air) S a (z), the sum of the cross-sectional area of the microprojection 32B S When set to M (z)
n ef (z) = 1 × S A (z) / (S A (z) + S M (z)) + n A × S M (z) / (S A (z) + S M (z)) ( Equation 1 )
It is represented by. This refractive index n M a refractive index n A and microprojection constituent material surrounding medium, the total cross-sectional area of each peripheral medium S A (z) and a total value S M of the total cross-sectional area of the micro-projections (z) The value is proportionally distributed by ratio.
ここで、単峰性の微小突起３２を基準にして考えたときに、多峰性の微小突起３２Ｂは、頂部近傍が複数の峰に***している。そのため、頂部近傍を切断する仮想的切断面Ｚ＝ｚにおいて、多峰性の微小突起３２Ｂは、単峰性の微小突起３２Ａに比べて相対的に低屈折率である周辺媒質の合計断面積ＳＡ（ｚ）の比率が、相対的に高屈折率である微小突起の合計断面積ＳＭ（ｚ）の比率に比べて、より増大することになる。 Here, when considering with reference to the monomodal microprojection 32, the multimodal microprojection 32B is divided into a plurality of peaks in the vicinity of the apex. Therefore, in the virtual cut surface Z = z that cuts the vicinity of the top, the multimodal microprojection 32B has a relatively low refractive index as compared with the monomodal microprojection 32A, and the total cross-sectional area S of the peripheral medium is relatively low. The ratio of A (z) will be further increased as compared with the ratio of the total cross-sectional area SM (z) of the microprojections having a relatively high refractive index.
その結果、仮想的切断面Ｚ＝ｚにおける有効屈折率ｎｅｆ（ｚ）は、多峰性の微小突起３２Ｂの方が単峰性の微小突起３２Ａに比べて、より周辺媒質の屈折率ｎＡに近くなる。面Ｚ＝ｚにおける多峰性の微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｕｌｔｉ、単峰性の微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｏｎｏとすると、
｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｕｌｔｉ＜｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｏｎｏ（式２）
となる。ここでｎＡ（ｚ）＝１とすると、
｜ｎｅｆ（ｚ）−１｜ｍｕｌｔｉ＜｜ｎｅｆ（ｚ）−１｜ｍｏｎｏ（式２Ａ）
となる。
As a result, the effective refractive index n ef (z) at the virtual cut surface Z = z is that the multimodal microprojection 32B has a higher refractive index n A of the peripheral medium than the monomodal microprojection 32A. Become closer to. The difference between the effective refractive index of the multimodal microprojection and the refractive index of the peripheral medium on the surface Z = z is | nef (z) -n A (z) | multi , the effective refractive index of the monomodal microprojection. If the difference between the index of refraction and the refractive index of the peripheral medium is | n ef (z) -n A (z) | mono , then
| N ef (z) -n A (z) | multi << | n ef (z) -n A (z) | mono (Equation 2)
Will be. Here, assuming that n A (z) = 1,
| N ef (z) -1 | multi << | n ef (z) -1 | mono (Equation 2A)
Will be.
これにより頂部近傍において、多峰性の微小突起３２Ｂを含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性の微小突起３２Ａのみからなる突起群に比べて、その有効屈折率と周辺媒質（空気）の屈折率との差、より詳細に言えば、微小突起の高さ方向の単位距離当たりの屈折率の変化率をより低減化すること、換言すれば、屈折率の高さ方向変化の連続性をより高めること）が可能になることが判る。 As a result, in the vicinity of the apex, the microprojection group containing the multimodal microprojections 32B (including the peripheral medium between the microprojections) is more effective than the projection group consisting of only the monomodal microprojections 32A. To further reduce the difference between the refractive index and the refractive index of the peripheral medium (air), more specifically, the rate of change of the refractive index per unit distance in the height direction of the microprojections, in other words, the refractive index. It can be seen that it is possible to increase the continuity of changes in the height direction of.
一般に、隣接する屈折率ｎ０の媒質と屈折率ｎ１の媒質との界面に光が入射する場合に、該界面における光の反射率Ｒは、入射角＝０として、
Ｒ＝（ｎ１−ｎ０）２／（ｎ１＋ｎ０）２（式３）
となる。この式より界面両側の媒質の屈折率差ｎ１−ｎ０が小さいほど界面での光の反射率Ｒは減少し、（ｎ１−ｎ０）が値０に近づけばＲも値０に近づくことになる。
Generally, when light is incident on an interface between an adjacent medium having a refractive index n 0 and a medium having a refractive index n 1 , the light reflectance R at the interface is set to an incident angle = 0.
R = (n 1 −n 0 ) 2 / (n 1 + n 0 ) 2 (Equation 3)
Will be. From this equation, the smaller the refractive index difference n 1 − n 0 of the medium on both sides of the interface, the smaller the reflectance R of light at the interface, and as (n 1 − n 0 ) approaches the value 0, R also approaches the value 0. It will be.
（式２）、（式２Ａ）及び（式３）より、多峰性の微小突起３２Ｂを含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性の微小突起３２Ａのみからなる突起群に比べて光の反射率が低減する。 From (Equation 2), (Equation 2A) and (Equation 3), for the microprojection group including the multimodal microprojections 32B (including the peripheral medium between each microprojection), only the monomodal microprojections 32A The reflectance of light is reduced as compared with the protrusion group consisting of.
なお単峰性の微小突起３２Ａのみからなる微小突起群を用いても、隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘを反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長λｍｉｎ以下の十分小さな値にすることによって、十分な反射防止効果を発現することは可能である。但し、その場合、隣接峰間の距離と隣接微小突起間距離とが同一となる為、隣接微小突起間が接触、一体複合化する現象（いわゆるスティッキング）が発生し易くなる。スティッキングを生じると、実質上の隣接突起間距離ｄは一体複合化した微小突起数の分だけ増加する。 Even if a group of microprojections consisting of only unimodal microprojections 32A is used, the maximum value dmax of the distance between adjacent projections is set to a sufficiently small value of λmin or less, which is the shortest wavelength of the electromagnetic wave wavelength band for preventing reflection. It is possible to exhibit a sufficient antireflection effect. However, in that case, since the distance between adjacent peaks and the distance between adjacent microprojections are the same, a phenomenon (so-called sticking) in which adjacent microprojections come into contact with each other and become integrally composite is likely to occur. When sticking occurs, the practical distance d between adjacent protrusions increases by the number of integrally composited minute protrusions.
例えば、ｄ＝２００ｎｍの微小突起が４個スティッキングすると、実質上、スティッキングして一体化した突起の大きさは、ｄ＝４×２００ｎｍ＝８００ｎｍ＞可視光線帯域の最長波長（７８０ｎｍ）となり、これにより局所的に反射防止効果を損なうことになる。 For example, when four microprojections with d = 200 nm are stuck, the size of the protrusions that are effectively stuck and integrated becomes d = 4 × 200 nm = 800 nm> the longest wavelength in the visible light band (780 nm). The antireflection effect will be locally impaired.
一方、多峰性の微小突起３２Ｂからなる微小突起群の場合、頂部近傍の各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫは、麓から中腹にかけての微小突起本体部の隣接突起間距離ｄＢＡＳＥよりも小さくなり（ｄＰＥＡＫ＜ｄＢＡＳＥ）、通常、ｄＰＥＡＫ＝ｄＢＡＳＥ／４〜ｄＢＡＳＥ／２程度である。その為、各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫ≪λｍｉｎとすることで十分な反射防止性能を得ることができる。但し、多峰性の微小突起３２Ｂの各峰部は、麓部の幅に対する峰部の高さの比が小さく、単峰性の微小突起３２Ａの麓部の幅に対する頂点の高さの比の１／２〜１／１０程度である。従って、同じ外力に対して、多峰性微小突起の峰部は単峰性の微小突起に比べての変形し難い。且つ、多峰性微小突起の本体部自体は峰部よりも隣接突起間距離は大であり、且つ強度も大である。その為、結局、多峰性の微小突起からなる微小突起群は、単峰性の微小突起からなる突起群に比べて、スティッキングの生じ難さと低反射率とを容易に両立させることができる。 On the other hand, in the case of a microprojection group consisting of multimodal microprojections 32B, the distance between adjacent projections d PEAK between each peak near the apex is larger than the distance between adjacent projections d BASE of the microprojection body from the base to the middle abdomen. It becomes smaller (d PEAK <d BASE ), and is usually about d PEAK = d BASE / 4 to d BASE / 2. Therefore, sufficient antireflection performance can be obtained by setting the distance between adjacent protrusions d PEAK << λmin between each peak. However, in each peak of the multimodal microprojection 32B, the ratio of the height of the peak to the width of the foot is small, and the ratio of the height of the apex to the width of the base of the monomodal microprojection 32A is small. It is about 1/2 to 1/10. Therefore, for the same external force, the peak portion of the multimodal microprojection is less likely to be deformed than the monomodal microprojection. Moreover, the main body of the multimodal microprojection itself has a larger distance between adjacent projections than the ridge, and the strength is also greater. Therefore, in the end, the microprojection group composed of multimodal microprojections can easily achieve both the difficulty of sticking and the low reflectance as compared with the projection group composed of monomodal microprojections.
なお可視光の反射防止用途の他の用途であっても、又は可視光環境下であっても、当該反射防止材料が設置、使用される環境条件に応じて、想定する反射防止波長に応じたモスアイ構造を形成し、高さ分布を持たせる事により、前記の通り、従来のものより耐擦性があり、かつ、プロセス要件などで低硬度の材料を使用した場合においても互いのスティッキングを防止し、光学的必要性能を合わせ持つ反射防止材料を作製する事が可能となる。例えば、３８０ｎｍ前後の紫外領域について反射防止性能を得たい場合はモスアイの高さが約５０ｎｍでも可能であり、同様に７００ｎｍ前後の赤外領域については約１５０ｎｍ〜実用上を考慮し４００ｎｍであれば可能である。なお、前記の通りモスアイの配置ピッチについては高さについて飽和するような製作条件を見出し、モスアイの反射率を効果的に操作する事が可能である。さらに、モスアイの頂部構造についても、従来の単峰から改良を加える事で高さと反射率を両立し、かつ物理的にスティッキングを起こしにくく、効果的に反射率を低減する事が可能となっている。 In addition, even if it is used for other purposes of antireflection of visible light, or even in a visible light environment, it corresponds to the assumed antireflection wavelength according to the environmental conditions in which the antireflection material is installed and used. By forming a moth-eye structure and giving it a height distribution, as mentioned above, it is more scratch-resistant than conventional ones and prevents sticking to each other even when low-hardness materials are used due to process requirements, etc. However, it is possible to manufacture an antireflection material that also has the required optical performance. For example, if it is desired to obtain antireflection performance in the ultraviolet region of about 380 nm, the height of the moth eye can be about 50 nm. Similarly, in the infrared region of about 700 nm, it is about 150 nm to 400 nm in consideration of practical use. It is possible. As described above, it is possible to find a manufacturing condition that saturates the height of the moss eye arrangement pitch and effectively control the reflectance of the moss eye. Furthermore, the top structure of the moth eye has been improved from the conventional single peak to achieve both height and reflectance, and it is difficult for physical sticking to occur, making it possible to effectively reduce the reflectance. There is.
図１８は、頂点が複数の微小突起を示す写真であり、図１８（ａ）は本実施形態のものとは異なる微小突起の例ではあるが、ＡＦＭによるものであり、図１８（ｂ）及び（ｃ）は本実施形態の微小突起の例で、ＳＥＭによるものである。図１８（ａ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図１８（ｂ）では、溝ｇ及び４つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図１８（ｃ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができる。なおこの図１８（ｂ）及び（ｃ）は、第１工程において水温２０℃、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を適用し、印加電圧４０Ｖにより１２０秒、陽極酸化処理を実行したものである。またエッチング処理には、第１工程に同上陽極酸化液、第２工程に水温２０℃、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液を適用した。そして、陽極酸化処理においては、上述したように、前記第１工程から第４工程まで印加電圧を漸次連続的に増加し、第５工程において再び第１工程と同様の印加電圧で実施したものである。陽極酸化処理とエッチング処理との回数は、それぞれ５回である。 FIG. 18 is a photograph showing a plurality of microprojections having a plurality of vertices, and FIG. 18 (a) is an example of microprojections different from those of the present embodiment, but is based on AFM. (C) is an example of the microprojection of the present embodiment, which is based on SEM. In FIG. 18 (a), a groove g and a microprojection having three vertices, and a groove g and a microprojection having two vertices can be seen, and in FIG. 18 (b), a groove g and a microprojection having four vertices can be seen. Microprojections and microprojections with groove g and two vertices can be seen, and in FIG. 18C, microprojections with groove g and three vertices, groove g and microprojections with two vertices can be seen. be able to. In FIGS. 18 (b) and 18 (c), an aqueous oxalic acid solution having a water temperature of 20 ° C. and a concentration of 0.02 M was applied in the first step, and an anodic oxidation treatment was performed at an applied voltage of 40 V for 120 seconds. Further, for the etching treatment, the same anodic oxide solution was applied to the first step, and a phosphoric acid aqueous solution having a water temperature of 20 ° C. and a concentration of 1.0 M was applied to the second step. Then, in the anodic oxidation treatment, as described above, the applied voltage is gradually and continuously increased from the first step to the fourth step, and the applied voltage is again carried out in the fifth step at the same applied voltage as in the first step. is there. The number of times of the anodizing treatment and the etching treatment is 5 times each.
図１９及び図２０は、図１２〜図１４を参照して説明した製造方法にて作製されたロール版３７を用いて実際に作製された反射防止フィルム２０の微小突起３２の形状を示す斜視図（図１９）、平面図（図２０（ａ））、正面図（図２０（ｂ））及び側面図（図２０（ｃ））である。これら図１９及び図２０は、等高線図である。上述したように、複数回の陽極酸化処理における印加電圧を切り替えることにより、この図１９及び図２０による微小突起においては、高さの大きく異なる３つの峰が合体して１つの微小突起が形成されており、ほぼ中央より外方に向かって形成された３本の放射状の溝（沢状の極小部）によりこの３つの峰に係る領域に分割されて微小突起が作製されていることが判る。なおこの図１９及び図２０は、ＡＦＭによる計測結果によるデータを部分的に選択して詳細に示したものである。またこの図１９及び図２０における数字の単位は〔ｎｍ〕である。Ｘ座標及びＹ座標は、所定の基準位置からの座標値である。 19 and 20 are perspective views showing the shape of the microprojections 32 of the antireflection film 20 actually manufactured by using the roll plate 37 manufactured by the manufacturing method described with reference to FIGS. 12 to 14. (FIG. 19), plan view (FIG. 20 (a)), front view (FIG. 20 (b)), and side view (FIG. 20 (c)). 19 and 20 are contour diagrams. As described above, by switching the applied voltage in the anodic oxidation treatment a plurality of times, in the microprojections according to FIGS. 19 and 20, three peaks having significantly different heights are united to form one microprojection. It can be seen that the microprojections are formed by being divided into the regions related to these three peaks by the three radial grooves (sawa-shaped minimum parts) formed from the center to the outside. Note that FIGS. 19 and 20 show in detail the data based on the measurement results by AFM by partially selecting them. The unit of the numbers in FIGS. 19 and 20 is [nm]. The X coordinate and the Y coordinate are coordinate values from a predetermined reference position.
〔耐擦傷性の評価〕
表４は、耐擦傷性の評価結果を示している。図１５の例による反射防止フィルム２０を、単峰性微小突起のみによる同様の突起高さ分布による反射防止フィルムとの比較によるものである。なお単峰性微小突起３２Ａのみの反射防止フィルムは、繰り返しの陽極酸化処理の印加電圧を第２の工程以下に於いても第１の工程と同一定電圧として作製した。
[Evaluation of scratch resistance]
Table 4 shows the evaluation results of scratch resistance. This is a comparison of the antireflection film 20 according to the example of FIG. 15 with an antireflection film having a similar protrusion height distribution with only unimodal microprojections. The antireflection film containing only the unimodal microprojections 32A was produced by setting the applied voltage of the repeated anodization treatment to the same constant voltage as in the first step even in the second step and below.
この表４において、スチールウールの欄は、押し付け力１００ｇ及び２００ｇによりスチールウールを押し付けて往復させた後の表面の変化を目視により確認した結果である。二重丸の印は、目視上傷、濁りは見られないとの評価が得られたものであり、×の印は、目視上、６本以上の傷が観察されるものである。なお評価の範囲は、１辺５ｃｍの矩形の領域である。これにより多峰性微小突起により充分に耐擦傷性が向上していることが判る。 In Table 4, the column of steel wool is the result of visually confirming the change in the surface after the steel wool is pressed and reciprocated by the pressing force of 100 g and 200 g. The double circle mark is evaluated as having no visual scratches or turbidity, and the x mark is visually observing 6 or more scratches. The evaluation range is a rectangular area with a side of 5 cm. From this, it can be seen that the scratch resistance is sufficiently improved by the multimodal microprojections.
また乾拭きの欄は、指紋を付着させた後、不織布を用いて溶剤を含まない乾いた状態での拭きを５０往復させた時の、５°正反射率ΔＹ（％）である。指紋を付着させた状態で、５°正反射率が４％となるように設定した。なお不織布は、ＫＢセーレン社製、ザヴィーナミニマックス（登録商標）１５０ｍｍ□を使用した。また何ら指紋による汚れを付着させない状態における５°正反射率の初期値は、０．５％であった。この検討結果によれば、多峰性微小突起により付着した汚れがふき取り易くなって反射防止性能を指紋付着前に近い状態にまで回復していることが判り、このことは多峰性微小突起を設けた場合には、微小突起の付け根側に汚れが深くもぐり込まないことによるものと考えられる。 The column for dry wiping is the 5 ° specular reflectance ΔY (%) when the fingerprint is attached and then the wiping in a dry state containing no solvent is reciprocated 50 times using a non-woven fabric. The 5 ° specular reflectance was set to 4% with the fingerprint attached. As the non-woven fabric, Zavina Minimax (registered trademark) 150 mm □ manufactured by KB Seiren Co., Ltd. was used. The initial value of the 5 ° specular reflectance in a state where no fingerprint stains were attached was 0.5%. According to the results of this study, it was found that the dirt attached by the multimodal microprojections was easily wiped off and the antireflection performance was restored to a state close to that before the fingerprints were attached. If it is provided, it is considered that the dirt does not penetrate deeply into the base side of the microprojections.
以上の構成によれば、頂点が複数からなる多峰性の微小突起と頂点が１つの単峰性の微小突起とを混在させることにより、従来に比して耐擦傷性を向上することができる。また指紋に対する耐汚染性（易拭取り性）にも向上が見られる。 According to the above configuration, the scratch resistance can be improved as compared with the conventional case by mixing the multimodal microprojections having a plurality of vertices and the monomodal microprojections having one apex. .. In addition, the stain resistance (easy wiping property) against fingerprints is also improved.
またさらに微小突起の高さに分布を持たせることにより、滑り性を向上することができる。 Further, the slipperiness can be improved by providing a distribution in the height of the microprojections.
ところで、上述の説明では、図１７（ａ）に示すように、各隣接微小突起間の谷底（高さの極小点）を連ねた面は高さが一定な平面であったが、この例に限らず、図２１に示すように、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、可視光線帯域の最長波長λｍａｘ以上の周期Ｄ（すなわちＤ＞λｍａｘである）でうねった構成としてもよい。又該周期的なうねりは、透明基材２５の表裏面に平行なＸＹ平面（図１７、図２１参照）における１方向（例えばＸ方向）のみでこれと直交する方向（例えばＹ方向）には一定高さであっても良いし、或いはＸＹ平面における２方向（Ｘ方向及びＹ方向）共にうねりを有していても良い。Ｄ＞λｍａｘを満たす周期Ｄでうねった凹凸谷底面３３が多数の微小突起からなる微小突起群に重畳することによって、微小突起群で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱し、殘留反射光、とくに鏡面反射光を更に視認し難くし、以って、反射防止効果を一段と向上させることができる。 By the way, in the above description, as shown in FIG. 17A, the surface connecting the valley bottoms (minimum points of height) between the adjacent microprojections was a plane having a constant height. Not limited to this, as shown in FIG. 21, the envelope surface connecting the valley bottoms between the microprojections may have a undulating configuration with a period D (that is, D> λmax) having a maximum wavelength of λmax or more in the visible light band. Further, the periodic swell occurs in only one direction (for example, the X direction) in the XY plane parallel to the front and back surfaces of the transparent base material 25 (see FIGS. 17 and 21) and in a direction orthogonal to the direction (for example, the Y direction). It may have a constant height, or may have undulations in both directions (X direction and Y direction) in the XY plane. By superimposing the uneven valley bottom surface 33, which has a period D satisfying D> λmax, on the micro-projection group consisting of a large number of micro-projections, the reflected light that cannot be completely prevented from being completely reflected by the micro-projection group is scattered. The residual reflected light, particularly the specular reflected light, is made more difficult to see, and thus the antireflection effect can be further improved.
尚、係る凹凸谷底面３３の周期Ｄが全面に亙って一定では無く分布を有する場合は、該凹凸谷底面３３について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をＤＡＶＧ、標準偏差をΣとしたときの、
ＤＭＩＮ＝ＤＡＶＧ―２Σ
として定義する最小隣接突起間距離を以って周期Ｄの代わりとして設計する。即ち、微小突起群の殘留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
ＤＭＩＮ＞λｍａｘ
又、該凹凸の高低差に相当するＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４年）規定のＲｚ値（１０点平均粗さ）は、
Ｒｚ≧λｍｉｎ
である。通常、Ｄ又はＤＭＩＮは１〜６００μｍ、好ましくは１０〜３１１００μｍとされる。又、通常、Ｒｚは０．４〜５μｍとされる。各微小突起の谷底を連ねた包絡面形が、Ｄ（又はＤＭＩＮ）＞λｍａｘ、なる凹凸谷底面３３を呈する樣な微小突起群を形成する具体的な製造方法の一例を挙げると以下の通りである。即ち、ロール版３７の製造工程において、円筒（又は円柱）形状の母材の表面にサンドブラスト又はマット（つや消し）メッキによって凹凸谷底面３３の凹凸形状に対応する凹凸形状を賦形する。次いで、該凹凸形状の面上に、直接或いは必要に応じて適宜の中間層を形成した後、アルミニウム層を積層する。その後、該凹凸形状表面に対応した表面形状を賦形されたアルミニウム層に上述の実施形態と同様にして陽極酸化処理及びエッチング処理を施して微小突起３２を含む微小突起群を形成する。
Note that if the period D of the unevenness valley bottom 33 of the having no distribution constant over the entire surface, obtains the frequency distribution of the inter-protrusion distance for concave Totsutani bottom 33, the average value D AVG, standard deviation When is Σ,
D MIN = D AVG- 2Σ
Designed as an alternative to period D with the minimum distance between adjacent protrusions defined as. That is, the condition for sufficiently exerting the scattering effect of the residual reflected light of the microprojection group is
D MIN > λmax
Further, the Rz value (10-point average roughness) specified by JIS B0601 (1994) corresponding to the height difference of the unevenness is
Rz ≧ λmin
Is. Usually, D or D MIN is 1 to 600 μm, preferably 10 to 31100 μm. In addition, Rz is usually set to 0.4 to 5 μm. The following is an example of a specific manufacturing method for forming a group of fine microprojections in which the envelope surface shape in which the valley bottoms of each microprojection are connected has D (or D MIN)> λmax. Is. That is, in the manufacturing process of the roll plate 37, a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the concavo-convex valley bottom surface 33 is formed on the surface of the cylindrical (or columnar) -shaped base material by sandblasting or matte (matte) plating. Next, an appropriate intermediate layer is formed directly or if necessary on the uneven surface, and then an aluminum layer is laminated. After that, the aluminum layer having a surface shape corresponding to the uneven surface is subjected to anodizing treatment and etching treatment in the same manner as in the above-described embodiment to form a micro-projection group including the micro-projection 32.
＜＜追加、変形、その他＞＞
なお、上述した例に対して様々な追加や変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。
<< Addition, transformation, etc. >>
It is possible to make various additions and changes to the above-mentioned example. Hereinafter, an example of modification will be described.
第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂは、疎水性材料により形成された周知のモスアイ構造体から構成されてもよい。第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが少なくとも反射防止機能を発揮すれば、外光等が区画部材１０に写り込んでしまうことを防止できるので、情報伝達効果を向上できる。 The first and second antireflection films 20a and 20b may be composed of a well-known moth-eye structure formed of a hydrophobic material. If the first and second antireflection films 20a and 20b at least exhibit an antireflection function, it is possible to prevent external light and the like from being reflected on the partition member 10, so that the information transmission effect can be improved.
また、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂの一方のみを疎水性材料により形成された周知のモスアイ構造体としてもよい。例えば、反射防止機能及び防曇機能の両方を有した前述の反射防止フィルム２０が、店舗９０の内部Ｓｉ側に位置し、防曇機能を持たない単なるモスアイ構造体からなる反射防止フィルムが、店舗９０の外部Ｓｏ側に位置するようにしてもよい。 Further, only one of the first and second antireflection films 20a and 20b may be a well-known moth-eye structure formed of a hydrophobic material. For example, the antireflection film 20 having both an antireflection function and an antifogging function is located on the Si side inside the store 90, and an antireflection film made of a simple moth-eye structure having no antifogging function is available in a store. It may be located on the outer So side of 90.
また、情報表示システム４０は、情報表示装置８０の情報の表示面８１に張り付けられた第３反射防止フィルムをさらに備えてもよい。第３反射防止フィルムは、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層を有し、凹凸面が表示面８１とは反対側を向くように配置されている。第３反射防止フィルムは、上述の反射防止フィルム２０と同様に構成されてもよく、周知のモスアイ構造体から構成されてもよい。これにより、情報表示装置８０の表示面８１においても光の反射が極めて効果的に防止されるので、さらに情報を見やすくできる。 Further, the information display system 40 may further include a third antireflection film attached to the information display surface 81 of the information display device 80. The third antireflection film has an uneven structure layer having an uneven surface formed by microprojections provided at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band, and the uneven surface faces the side opposite to the display surface 81. It is arranged like this. The third antireflection film may be configured in the same manner as the antireflection film 20 described above, or may be composed of a well-known moth-eye structure. As a result, the reflection of light is extremely effectively prevented even on the display surface 81 of the information display device 80, so that the information can be further viewed.
さらに、第１反射防止フィルム２０ａ、第２反射防止フィルム２０ｂ及び情報表示装置８０は、店舗９０の入口９１の側方等の客Ｃが手を触れることができる位置に設けられていてもよい。この場合、情報表示装置８０の表示面８１は、床９３とほぼ垂直な長辺を有する長方形であってもよく、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂも、床９３とほぼ垂直な長辺を有する長方形であってもよい。つまり、表示面８１、第１及び第２反射防止フィルム２０ａ，２０ｂを、垂直方向に細長く延びるようにしてもよい。 Further, the first antireflection film 20a, the second antireflection film 20b, and the information display device 80 may be provided at positions where the customer C can touch, such as the side of the entrance 91 of the store 90. In this case, the display surface 81 of the information display device 80 may be a rectangle having a long side substantially perpendicular to the floor 93, and the first and second antireflection films 20a and 20b also have a length substantially perpendicular to the floor 93. It may be a rectangle with sides. That is, the display surfaces 81, the first and second antireflection films 20a and 20b may be elongated in the vertical direction.
また、透明板１５、第１反射防止フィルム２０ａ、第２反射防止フィルム２０ｂ、及び、情報表示装置４０は、店舗９０の入口９１付近に限らず、店舗９０の窓部分等に設けられてもよい。 Further, the transparent plate 15, the first antireflection film 20a, the second antireflection film 20b, and the information display device 40 are not limited to the vicinity of the entrance 91 of the store 90, but may be provided in the window portion of the store 90 or the like. ..
また、上述した例では、反射防止フィルム２０が、透明基材２５と凹凸構造層３０との二層を含むように形成されていた。このような反射防止フィルム２０は、透明基材２５上に、電離放射線硬化型樹脂を賦型してなる凹凸構造層３０を形成することにより作製され得る。その一方で、反射防止フィルム２０が、三層の積層構造であってもよいし、或いは、単層品でもよい。また、反射防止フィルム２０は、熱可塑性樹脂を押し出し成型することによっても作製され得る。 Further, in the above-mentioned example, the antireflection film 20 was formed so as to include two layers of the transparent base material 25 and the uneven structure layer 30. Such an antireflection film 20 can be produced by forming a concavo-convex structure layer 30 formed by molding an ionizing radiation curable resin on a transparent base material 25. On the other hand, the antireflection film 20 may have a three-layer laminated structure or a single-layer product. The antireflection film 20 can also be produced by extruding a thermoplastic resin.
また、上述した例においては、透明板１５の第１表面１５ａの一部分上のみに反射防止フィルム２０ａが配置されているが、これに限られず、透明板１５の第１表面１５ａの全面を、反射防止フィルム２０ａが覆うようにしてもよい。また、上述した例においては、透明板１５の第２表面１５ｂの一部分上のみに反射防止フィルム２０ｂが配置されているが、これに限られず、透明板１５の第２表面１５ｂの全面を、反射防止フィルム２０ｂが覆うようにしてもよい。このような場合の一例として、透明板１５の大きさが情報表示装置８０の表示面８１の大きさと同程度である場合が挙げられる。 Further, in the above-described example, the antireflection film 20a is arranged only on a part of the first surface 15a of the transparent plate 15, but the present invention is not limited to this, and the entire surface of the first surface 15a of the transparent plate 15 is reflected. The prevention film 20a may be covered. Further, in the above-described example, the antireflection film 20b is arranged only on a part of the second surface 15b of the transparent plate 15, but the present invention is not limited to this, and the entire surface of the second surface 15b of the transparent plate 15 is reflected. The prevention film 20b may be covered. As an example of such a case, there is a case where the size of the transparent plate 15 is about the same as the size of the display surface 81 of the information display device 80.
さらに、上述した例においては、板状の透明板１５の板面への法線方向に沿って、透明板１５の第１表面１５ａ上の一方の反射防止フィルム２０ａの外輪郭と、第２表面１５ｂ上の他方の反射防止フィルム２０ｂの外輪郭とが、重なるようにして配置されている例を示したが、これに限られず、透明板１５の第１表面１５ａ上の一方の反射防止フィルム２０ａ及び他方の反射防止フィルム２０ｂが、透明板１５の法線方向に沿って少なくとも一部分において重なるように、配置されていてもよい。 Further, in the above-described example, the outer contour of one of the antireflection films 20a on the first surface 15a of the transparent plate 15 and the second surface along the normal direction to the plate surface of the plate-shaped transparent plate 15. An example is shown in which the outer contours of the other antireflection film 20b on the 15b are arranged so as to overlap each other, but the present invention is not limited to this, and the one antireflection film 20a on the first surface 15a of the transparent plate 15 is not limited to this. And the other antireflection film 20b may be arranged so as to overlap at least a part along the normal direction of the transparent plate 15.
また、上述した例において、透明板１５の第１表面１５ａ上の一方の反射防止フィルム及び第２表面１５ｂ上の他方の反射防止フィルムが同一に構成されている例を示したが、これに限られない。例えば、透明板１５の第１表面１５ａ上の一方の反射防止フィルムと、第２表面１５ｂ上の他方の反射防止フィルムとの間で、凹凸面３１上での５°正反射による反射率および凹凸面３１上での水に対する接触角の少なくとも一方の特性が互いに異なるようにしてもよい。 Further, in the above-mentioned example, an example in which one antireflection film on the first surface 15a and the other antireflection film on the second surface 15b of the transparent plate 15 are configured in the same manner is shown, but this is limited to this. I can't. For example, the reflectance and unevenness due to 5 ° specular reflection on the uneven surface 31 between one antireflection film on the first surface 15a of the transparent plate 15 and the other antireflection film on the second surface 15b. At least one of the properties of the contact angle with water on the surface 31 may be different from each other.
さらに、互いに対向する二つの反射防止フィルムの一方の反射防止フィルムの凹凸構造層３０の凹凸面３１が、耐擦傷性を向上させるためのハードコート層として形成されていてもよい。このハードコート層は、薄膜として形成されていてもよい。或いは、耐擦傷性の改善を図る観点から、凹凸構造層３０が、スリップ剤を含有するようにしてもよい。さらに、紫外線による劣化を防止する観点から、区画部材または区画部材のいずれかの部位が、紫外線吸収剤を含有するようにしてもよい。 Further, the uneven surface 31 of the uneven structure layer 30 of one of the two antireflection films facing each other may be formed as a hard coat layer for improving scratch resistance. This hard coat layer may be formed as a thin film. Alternatively, from the viewpoint of improving scratch resistance, the concave-convex structure layer 30 may contain a slip agent. Further, from the viewpoint of preventing deterioration due to ultraviolet rays, either the partition member or the portion of the partition member may contain an ultraviolet absorber.
なお、以上において上述した例に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although some modifications to the above-mentioned examples have been described above, it is naturally possible to apply a plurality of modifications in combination as appropriate.
１０ 区画部材
１５ 透明板
１８ 接合層
１８ａ 第１接合層
１８ｂ 第２接合層
２０ 反射防止フィルム
２０ａ 第１反射防止フィルム
２０ｂ 第２反射防止フィルム
２５ 透明基材
３０ 凹凸構造層
３０ａ 第１凹凸構造層
３０ｂ 第２凹凸構造層
３１ 凹凸面
３１ａ 第１凹凸面
３１ｂ 第２凹凸面
３２ 微小突起
３３ 頂部
４０ 情報表示システム
８０ 情報表示装置
８１ 表示面
８２ 支持手段
９０ 店舗
９１ 入口
９２ 天井
９３ 床
10 Section member 15 Transparent plate 18 Joint layer 18a First joint layer 18b Second joint layer 20 Antireflection film 20a First antireflection film 20b Second antireflection film 25 Transparent base material 30 Concavo-convex structure layer 30a First concavo-convex structure layer 30b Second concavo-convex structure layer 31 Concavo-convex surface 31a First concavo-convex surface 31b Second concavo-convex surface 32 Micro-projection 33 Top 40 Information display system 80 Information display device 81 Display surface 82 Support means 90 Store 91 Entrance 92 Ceiling 93 Floor
Claims (12)
前記店舗の内部と外部とを区画し、前記店舗の入口を画成する透明板と、
前記透明板の一側の表面に貼り付けられた第１反射防止フィルムと、
前記第１反射防止フィルムに対向するように前記透明板の他側の表面に貼り付けられた第２反射防止フィルムと、
前記透明板から離間して前記店舗の内部に配置された、情報を表示する情報表示装置と、を備え、
前記第１反射防止フィルムは、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第１凹凸面を有する第１凹凸構造層を有し、前記第１凹凸面が前記透明板とは反対側を向くように配置され、
前記第２反射防止フィルムは、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第２凹凸面を有する第２凹凸構造層を有し、前記第２凹凸面が前記透明板とは反対側を向くように配置され、
前記情報表示装置は、前記第１反射防止フィルム、前記透明板及び前記第２反射防止フィルムを介して前記店舗の外部から前記情報を視認可能な位置に配置され、
前記透明板は、前記店舗の前記入口の上方および側方に設けられ、
前記第１反射防止フィルム、前記第２反射防止フィルム、及び、前記情報表示装置は、前記店舗の入口よりも上方に設けられ、
前記第１反射防止フィルムは、前記透明板の前記一側の表面の一部分上に張り合わされ、
前記第２反射防止フィルムは、前記透明板の前記他側の表面の一部分上に張り合わされ、
前記透明板は、前記第１反射防止フィルムを周囲から取り囲むようにして前記第１反射防止フィルムが貼り付けられていない領域を有し、且つ、前記第２反射防止フィルムを周囲から取り囲むようにして前記第２反射防止フィルムが貼り付けられていない領域を有する、情報表示システム。 An information display system for stores
A transparent plate that separates the inside and outside of the store and defines the entrance of the store,
The first antireflection film attached to the surface of one side of the transparent plate and
A second antireflection film attached to the surface of the other side of the transparent plate so as to face the first antireflection film.
An information display device for displaying information, which is arranged inside the store apart from the transparent plate, is provided.
The first antireflection film has a first concavo-convex structure layer having a first concavo-convex surface formed by microprojections provided at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band, and the first concavo-convex surface is the said. Arranged so that it faces the opposite side of the transparent plate,
The second antireflection film has a second concavo-convex structure layer having a second concavo-convex surface formed by microprojections provided at intervals equal to or less than the shortest wavelength in the visible light band, and the second concavo-convex surface is the said. Arranged so that it faces the opposite side of the transparent plate,
The information display device is arranged at a position where the information can be visually recognized from the outside of the store via the first antireflection film, the transparent plate, and the second antireflection film.
The transparent plate is provided above and to the side of the entrance of the store.
The first antireflection film, the second antireflection film, and the information display device are provided above the entrance of the store.
The first antireflection film is laminated on a part of the surface of the transparent plate on the one side.
The second antireflection film is laminated on a part of the other side surface of the transparent plate.
The transparent plate has a region to which the first antireflection film is not attached so as to surround the first antireflection film from the surroundings, and surrounds the second antireflection film from the surroundings. An information display system having an area to which the second antireflection film is not attached.
前記第２反射防止フィルムは、前記第２凹凸構造層を支持する透明基材を有し、
前記第１反射防止フィルム及び前記第２反射防止フィルムの前記透明基材の両方または片方は、ポリエチレンテレフタレートで構成されている、請求項１から請求項３の何れかに記載の情報表示システム。 The first antireflection film has a transparent base material that supports the first uneven structure layer, and has a transparent base material.
The second antireflection film has a transparent base material that supports the second uneven structure layer, and has a transparent base material.
The information display system according to any one of claims 1 to 3 , wherein both or one of the first antireflection film and the transparent base material of the second antireflection film is made of polyethylene terephthalate.
前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸面上、及び、前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸面上での水に対する接触角が２０°以下である、請求項１から請求項４の何れかに記載の情報表示システム。 The reflectance due to 5 ° specular reflection on the first uneven surface of the first antireflection film and on the second uneven surface of the second antireflection film is 0.3% or less.
On the first concave-convex surface of the first antireflection film, and the contact angle with water on the second concave-convex surface of the second antireflection film is 20 ° or less, of claims 1 to 4 The information display system described in any of them.
前記微小突起の高さは、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっている、請求項１から請求項５の何れかに記載の情報表示システム。 The first concavo-convex structure layer and the microprojections of the second concavo-convex structure layer are provided at intervals of 70 nm or more and 180 nm or less.
The information display system according to any one of claims 1 to 5 , wherein the height of the microprojections is 100 nm or more and 250 nm or less.
前記微小突起の高さの度数分布が一つの頂部からなる分布であり、
前記多峰性微小突起は、前記分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布している、請求項１から請求項９の何れかに記載の情報表示システム。 The microprojection includes a multimodal microprojection having a plurality of vertices and a monomodal microprojection having one apex.
The frequency distribution of the height of the microprojections is a distribution consisting of one top.
The information display system according to any one of claims 1 to 9 , wherein the multimodal microprojections are distributed more in the vicinity of the apex than in the base of the distribution.
前記微小突起の高さＨの度数分布における高さＨの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、
Ｈ＜ｍ−σの領域を低高度領域とし、
ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、
ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、
各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍと、前記度数分布全体における前記微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔとの関係を満たす、請求項１から請求項１０の何れかに記載の情報表示システム。 The microprojection includes a multimodal microprojection having a plurality of vertices and a monomodal microprojection having one apex.
Let m be the mean value of height H in the frequency distribution of height H of the microprojections, and let σ be the standard deviation.
The region of H <m-σ is defined as the low altitude region.
The region of m-σ≤H≤m + σ is defined as the medium altitude region.
When the region of m + σ <H is the high altitude region,
The ratio of the number Nm of the multimodal microprojections in each region to the total number Nt of the microprojections in the entire frequency distribution is
Nm / Nt in the middle altitude region> Nm / Nt in the low altitude region,
The information display system according to any one of claims 1 to 10 , which satisfies the relationship of Nm / Nt in the medium altitude region> Nm / Nt in the high altitude region.
該境界高さｈｓ未満の分布における前記微小突起の高さｈの平均値をｍ１とし、標準偏差をσ１とし、
ｈ＜ｍ１−σ１の領域を低高度領域とし、
ｍ１−σ１≦ｈ≦ｍ１＋σ１の領域を中高度領域とし、
ｍ１＋σ１＜ｈ＜ｈｓの領域を高高度領域とした場合に、
該境界高さｈｓ未満の分布における各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍ１と、前記度数分布全体における前記多峰性微小突起及び単峰性微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ１／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ１／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ１／Ｎｔとの関係を満たし、
該境界高さｈｓ以上の分布における前記微小突起の高さｈの平均値をｍ２とし、標準偏差をσ２とし、
ｈｓ＜ｈ＜ｍ２−σ２の領域を低高度領域とし、
ｍ２−σ２≦ｈ≦ｍ２＋σ２の領域を中高度領域とし、
ｍ２＋σ２＜ｈの領域を高高度領域とした場合に、
該境界高さｈｓ以上の分布における各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍ２と、前記度数分布全体における前記多峰性微小突起及び単峰性微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ２／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ２／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ２／Ｎｔとの関係を満たすこと、
を特徴とする請求項１１に記載の情報表示システム。 The frequency distribution of the height h of the microprojections is bimodal with peaks of distribution on the high side and the low side, respectively, and the height serving as the boundary between the two peaks, that is, the boundary height hs is defined. As a boundary, the frequency distribution is composed of two distributions, a distribution of microprojections having a boundary height of less than hs and a distribution of microprojections having a boundary height of hs or more.
The average value of the height h of the microprojections in the distribution less than the boundary height hs is m1, and the standard deviation is σ1.
The region of h <m1-σ1 is defined as the low altitude region.
The region of m1-σ1 ≦ h ≦ m1 + σ1 is defined as the medium altitude region.
When the region of m1 + σ1 <h <hs is a high altitude region,
The ratio of the number Nm1 of the multimodal microprojections in each region in the distribution having a boundary height less than hs to the total number Nt of the multimodal microprojections and the monomodal microprojections in the entire frequency distribution is
Nm1 / Nt in the middle altitude region> Nm1 / Nt in the low altitude region,
Satisfy the relationship of Nm1 / Nt in the medium altitude region> Nm1 / Nt in the high altitude region,
The average value of the height h of the microprojections in the distribution having the boundary height hs or more is m2, and the standard deviation is σ2.
The region of hs <h <m2-σ2 is defined as the low altitude region.
The region of m2-σ2≤h≤m2 + σ2 is defined as the medium altitude region.
When the region of m2 + σ2 <h is the high altitude region,
The ratio of the number Nm2 of the multimodal microprojections in each region in the distribution having the boundary height hs or more to the total number Nt of the multimodal microprojections and the monomodal microprojections in the entire frequency distribution is
Nm2 / Nt in the middle altitude region> Nm2 / Nt in the low altitude region,
Satisfying the relationship with Nm2 / Nt in the medium altitude region> Nm2 / Nt in the high altitude region,
11. The information display system according to claim 11.
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