JP6808928B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6808928B2 JP6808928B2 JP2015219205A JP2015219205A JP6808928B2 JP 6808928 B2 JP6808928 B2 JP 6808928B2 JP 2015219205 A JP2015219205 A JP 2015219205A JP 2015219205 A JP2015219205 A JP 2015219205A JP 6808928 B2 JP6808928 B2 JP 6808928B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- group
- general formula
- acid
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 Cc(cc1)cc(NC(c2ccc(*c(cc3)ccc3C(Nc(cc(C)cc3)c3O)=O)cc2)=O)c1O Chemical compound Cc(cc1)cc(NC(c2ccc(*c(cc3)ccc3C(Nc(cc(C)cc3)c3O)=O)cc2)=O)c1O 0.000 description 2
- DKFHQPZGMALGBL-LPWWCAIVSA-N CC/C(/C(Nc(cc(C)c(O)c1)c1O)=O)=C\C=C/CC(Nc(cc(C)c(O)c1)c1O)=O Chemical compound CC/C(/C(Nc(cc(C)c(O)c1)c1O)=O)=C\C=C/CC(Nc(cc(C)c(O)c1)c1O)=O DKFHQPZGMALGBL-LPWWCAIVSA-N 0.000 description 1
- YUNJVNIMTRIQMB-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)cc(NC(c(cc2)ccc2Oc(cc2)ccc2C(Nc(cc(C)cc2)c2O)=O)=O)c1O Chemical compound Cc(cc1)cc(NC(c(cc2)ccc2Oc(cc2)ccc2C(Nc(cc(C)cc2)c2O)=O)=O)c1O YUNJVNIMTRIQMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNHDLNXZBZAPO-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)cc(NC(c2ccc(C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)c(cc3)ccc3C(Nc(cc(C)cc3)c3O)=O)cc2)=O)c1O Chemical compound Cc(cc1)cc(NC(c2ccc(C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)c(cc3)ccc3C(Nc(cc(C)cc3)c3O)=O)cc2)=O)c1O VDNHDLNXZBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMFOHXKEDHJXSF-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)cc(NC(c2cccc(C(Nc(cc(C)cc3)c3O)=O)c2)=O)c1O Chemical compound Cc(cc1)cc(NC(c2cccc(C(Nc(cc(C)cc3)c3O)=O)c2)=O)c1O LMFOHXKEDHJXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。
前記(b)化合物の含有量が(a)ポリマー100質量部に対して、0.01質量部以上0.1質量部以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物である。
一般式(1)中のR1は、耐熱性の面から芳香族環を含有し、炭素数6〜30の3価または4価の有機基であることが好ましい。
得られるポリマーの耐熱性の点から、R10およびR12は芳香族環を含むものが好ましく、特に好ましい構造としてトリメリット酸、トリメシン酸、ナフタレントリカルボン酸などの残基が挙げられる。
ジアミンは単独でも2種以上併用しても構わない。ジアミンの具体的な例として以下に挙げるがこれに限定されない。
これらの中で、アルカリ現像液に対する溶解性や感光性の観点から、水酸基を有するジアミン成分を60モル%以上用いることが好ましい。
一般式(1)または(2)で表される構造を主成分とするポリマーは、例えば次の方法により重合液を得ることができる。
本発明において、一般式(9)で表される熱架橋剤は、未置換のものや多量化したものなどが混入すると、樹脂組成物の架橋反応が十分進まない場合がある。このため、一般式(9)で表される化合物の純度は、80%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましい。純度が80%以上であれば、樹脂組成物の架橋反応を十分に行い、吸水性基となる未反応基を少なくすることができるため、樹脂組成物の吸水性を小さくすることができる。高純度の熱架橋剤を得るためには、再結晶、蒸留などを行い、目的物だけを集める方法などがある。熱架橋剤の純度は液体クロマトグラフィー法により求めることができる。
(i)感光性樹脂膜の作製
6インチシリコンウエハー上に、各実施例および比較例で得られたワニスをプリベーク後の膜厚T1=1.5μmとなるように塗布し、ついでホットプレート(東京エレクトロン(株)製の塗布現像装置Mark−7)を用いて、120℃で2分プリベークすることにより、感光性樹脂膜を得た。膜厚は大日本スクリーン製造(株)製ラムダエースSTM−602を使用し屈折率1.629で測定した。
得られた感光性樹脂膜を用いてパターンの切られたレチクルを複数作製した。次に露光機(GCA社製i線ステッパーDSW−8570i)に、上記レチクルの1つをセットし、365nmの強度で所定の露光時間で感光性樹脂膜をi線で露光した。
上記露光後の感光性樹脂膜を露光後すぐに、東京エレクトロン(株)製Mark−7の現像装置を用いて、50回転で水酸化テトラメチルアンモニウムの2.38%水溶液を10秒間噴霧した。この後0回転で20秒間静置し、400回転で水にてリンス処理、3000回転で10秒振り切り乾燥させた。
得られた感光性樹脂膜の露光部の膜厚が0μmであった場合は、上記露光時間がより短い条件で、膜厚が0μmより厚い場合は上記露光時間がより長い条件で、上記測定を繰り返し、現像後に露光部の膜厚が0μmとなる露光量のうち、最小のものを感度として評価した。
(i)キュア膜の作製
ガラス基板corning 1737(コーニング(株)製)上に、表面にスパッタリング蒸着法によって厚さ130nmのITO透明電極膜が形成した後、各ワニスを使用しT1=1.5μmとなるようにプリベーク膜を作製し、光洋サーモシステム(株)製イナートオーブンINH−21CDを用いて、230℃で30分間、窒素雰囲気中で熱処理を行った。
キュア膜に2mm間隔で10行10列(100マス)の碁盤目状の切り込みを入れ、ハストチャンバー EHS−211MD(エスペック(株)製)を用いて121℃、2気圧の飽和条件でプレッシャークッカーテスト(PCT)処理を行った。セロハンテープ(登録商標)による引き剥がしによって100マスのうち、1マス以上剥がれたPCT処理時間を測定した。
PCT処理時間を比較し、良い順に、100時間以上剥離のなかったものを◎、50時間以上剥離がなかったものを○、50時間未満で剥離をしたものを×と評価した。
(i)有機EL素子の作製
ガラス基板corning 1737(コーニング(株)製)上に、表面にスパッタリング蒸着法によって厚さ130nmのITO透明電極膜が形成した後、ITO膜を長さ90 mm、幅80μm のストライプ形状にパターニングした。このストライプ状第一電極は100μmピッチとした。
含む薄膜層は、抵抗線加熱方式による真空蒸着法によって形成した。基板有効エリア全面
に蒸着して正孔輸送層を形成し、シャドーマスクを用いて発光層、第二電極のアルミニウ
ムを形成した。
キシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。このようにしてITOストライプ状第一電極上に、パターニングされた発光層が形成され、第一電極と直交するようにストライプ状第二電極が配置された単純マトリクス型カラー有機電界発光表示装置を作製し、耐久性試験前の有効発光領域面積を測定しS1とした。
この有機電界発光表示装置について、85℃で250時間保持する耐久性試験を実施した。耐久性試験後の発光領域面積をS2とし、次式により有効発光面積率S(%)を求め、これを耐久性評価とした。
S(%)=(S2/S1)×100
耐久性評価結果を比較し良い順に、99%以上を◎、90%以上を○、80%以上を△、80%未満を×として評価した。
乾燥窒素気流下、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BAHF)183g(0.5モル)とアリルグリシジルエーテル342g(3モル)をガンマブチロラクトン(GBL)1000gに溶解させ、−15℃に冷却した。ここにGBL500gに溶解させた無水トリメリット酸クロリド221g(1.1モル)を反応液の温度が0℃を越えないように滴下した。滴下終了後、0℃で4時間反応させた。この溶液をロータリーエバポレーターで濃縮して、トルエン10Lに投入して、下記式で表されるヒドロキシル基含有酸無水物(a)を得た。
BAHF183g(0.5モル)をアセトン1L、プロピレンオキシド174g(3モル)に溶解させ、−15℃に冷却した。ここに3−ニトロベンゾイルクロリド204g(1.1モル)をアセトン1Lに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、−15℃で4時間反応させ、その後室温に戻した。析出した白色固体をろ別し、50℃で真空乾燥した。
2−アミノ−4−ニトロフェノール154g(1モル)をアセトン500mL、プロピレンオキシド300g(3.4モル)に溶解させ、−15℃に冷却した。ここにイソフタル酸クロリド112g(0.55モル)をアセトン600mLに溶解させた溶液を徐々に滴下した。滴下終了後、−15℃で4時間反応させた。その後、室温に戻して生成している沈殿をろ過で集めた。
乾燥窒素気流下、TrisP−HAP(商品名、本州化学工業(株)製)、15.31g(0.05モル)と5−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド40.28g(0.15モル)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.18gを系内が35℃以上にならないように滴下した。滴下後30℃で2時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、ろ液を水に投入させた。その後、析出した沈殿をろ過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記式で表されるキノンジアジド化合物(d)を得た。
乾燥窒素気流下、TrisP−PA(商品名、本州化学工業(株)製)、21.22g(0.05モル)と4−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド32.23g(0.12モル)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.18gの代わりに、1,4−ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン12.65gを用いた以外は、合成例4と同様にして下記式で表されるキノンジアジド化合物(e)を得た。
乾燥窒素気流下、4,4’−ジアミノフェニルエーテル(DAE)50.1g(0.25モル)、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(SiDA)12.4g(0.05モル)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)500gに溶解させた。ここに合成例1で得られたヒドロキシ基含有酸無水物(a)214g(0.30モル)をNMP140gとともに加えて、20℃で1時間反応させ、次いで50℃で4時間反応させた。その後、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール71.4g(0.6モル)をNMP50gで希釈した溶液を10分かけて滴下した。滴下後、50℃で3時間攪拌し重合液を得た。この重合液を水5Lに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、5Lの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を2回繰り返した。この後、80℃の真空乾燥機で20時間乾燥し、ポリイミド前駆体Aを得た。
乾燥窒素気流下、合成例2で得られたヒドロキシル基含有ジアミン(b)136g(0.225モル)をNMP500gに溶解させた。ここに合成例1で得られた3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸無水物(ODPA)77.6g(0.25モル)をピリジン300gとともに加えて、40℃で2時間反応させた。その後、末端封止剤として、3−エチニルアニリン5.8g(0.05モル)を加え、さらに40℃で1時間反応させた。その後、N、N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール73.5g(0.5モル)をNMP50gで希釈した溶液を10分かけて滴下した。滴下後、40℃で2時間攪拌し重合液を得た。この重合液を水5Lに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、5Lの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を2回繰り返した。この後、80℃の真空乾燥機で72時間乾燥し、ポリイミド前駆体Bを得た。
乾燥窒素気流下、合成例3で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(c)151g(0.40モル)、SiDA12.4g(0.05モル)をNMP500gに溶解させた。ここにODPA155g(0.5モル)をNMP210gとともに加えて、20℃で1時間反応させ、次いで50℃で1時間反応させた。その後、末端封止剤として、4−アリルアニリン9.5g(0.08モル)を加え、さらに50℃で1時間反応させた。その後、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール132g(0.9モル)をNMP150gで希釈した溶液を10分かけて滴下した。滴下後、40℃で3時間攪拌し重合液を得た。この重合液を水5Lに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、5Lの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を2回繰り返した。この後、80℃の真空乾燥機で20時間乾燥し、ポリイミド前駆体Cを得た。
乾燥窒素気流下、ジフェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸ジクロライド(DEDC)1モルと1−ヒドロキシベンゾトリアゾール2モルとを反応させて得られたジカルボン酸誘導体197g(0.40モル)とBAHF183g(0.50モル)をNMP500gに溶解させ、75℃で12時間攪拌した。次に、末端封止剤として、NMP300gに溶解させた3−アリルベンゼンジカルボン酸無水物37.6g(0.20モル)を加え、さらに75℃で12時間攪拌し、重合液を得た。この重合液を水5Lに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、5Lの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を2回繰り返した。この後、80℃の真空乾燥機で36時間乾燥し、ポリベンゾオキサゾール前駆体Dを得た。
乾燥窒素気流下、BAHF49.6g(0.135モル)とSiDA3.7g(0.015モル)をNMP200gに溶解させ、ODPA46.7g(0.15モル)を加えて撹拌し、室温で5時間反応させた。その後、200℃まで加熱し2時間イミド化させ、重合液を得た。
ポリマーAを10g、合成例4で得られたキノンジアジド化合物(d)2.0g1−ヒドロキシベンゾトリアゾール 1mg MX−280 2.0gをγ―ブチルラクトン60g、乳酸エチル40gに溶解させてワニスを得た。
ポリマー、キノンジアジド化合、含窒素化合物および架橋材を表1に記載のとおりとした以外は実施例1と同様にして、ワニスを得た。ここで、実施例3、4、5、7は参考例1〜4と読み替えるものとする。
Claims (3)
- (a)一般式(1)または(2)で表される構造のうち少なくともいずれかを有する重量平均分子量2,000以上100,000以下のポリマー並びに(b)1−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび1−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾールのうち少なくともいずれか並びに(c)キノンジアジド化合物を含有し、
前記(b)化合物の含有量が(a)ポリマー100質量部に対して、0.01質量部以上0.1質量部以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
- さらに、一般式(9)で表される(d)熱架橋剤を含有する請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 請求項1または2に記載のポジ型感光性樹脂組成物を用いた電子部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015219205A JP6808928B2 (ja) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015219205A JP6808928B2 (ja) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017090619A JP2017090619A (ja) | 2017-05-25 |
JP2017090619A5 JP2017090619A5 (ja) | 2018-12-13 |
JP6808928B2 true JP6808928B2 (ja) | 2021-01-06 |
Family
ID=58768300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015219205A Active JP6808928B2 (ja) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6808928B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102149966B1 (ko) * | 2018-03-09 | 2020-08-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 전자 소자 |
JP7252020B2 (ja) * | 2018-04-16 | 2023-04-04 | 旭化成株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物及び硬化レリーフパターンの製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5421585B2 (ja) * | 2008-12-24 | 2014-02-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
KR101910220B1 (ko) * | 2011-06-15 | 2018-10-19 | 히다치 가세이듀퐁 마이쿠로시스데무즈 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 그 수지 조성물을 사용한 패턴 경화막의 제조 방법 및 전자 부품 |
-
2015
- 2015-11-09 JP JP2015219205A patent/JP6808928B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017090619A (ja) | 2017-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4735778B1 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
TW574620B (en) | Precursor composition of positive photosensitive resin and display device using it | |
JP4935272B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
WO2016035593A1 (ja) | 樹脂および感光性樹脂組成物 | |
JP4082041B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物及びそれを用いた電子部品ならびに表示装置 | |
KR101781702B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR101012569B1 (ko) | 감광성 수지 전구체 조성물 | |
JP6939553B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2019077871A (ja) | 耐熱性樹脂膜およびその製造方法、加熱炉ならびに画像表示装置の製造方法 | |
JP2011202059A (ja) | 樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP5381491B2 (ja) | 樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物 | |
EP2902846B1 (en) | Positive photosensitive resin composition | |
JP2009258634A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
JPWO2015137281A1 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2013205553A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP6808928B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2008257210A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP4292765B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物およびそれを用いた半導体用電子部品ならびに有機電界発光素子用表示装置 | |
JP2006047627A (ja) | 感光性樹脂前駆体組成物 | |
JP2014178400A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP2007212602A (ja) | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物 | |
JP4396161B2 (ja) | 感光性樹脂前駆体組成物 | |
JP2003076007A (ja) | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物 | |
JP4449119B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂前駆体組成物 | |
JP2011133615A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181031 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181031 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190925 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191015 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200617 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201123 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6808928 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |