JP6805018B2 - 塗布装置、および塗布方法 - Google Patents
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Description
基板における機能液の液滴の着弾位置を主走査方向および副走査方向に移動させて、前記基板に前記機能液の描画パターンを描く塗布装置であって、
前記基板をガスの風圧で所定の高さに浮かせるステージ部と、
前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板に、上方から前記機能液の液滴を滴下する液滴吐出部と、
前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を、前記主走査方向に移動させて前記液滴吐出部の下を通過させる主走査方向移動部と、
前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を、前記主走査方向移動部から受け取って前記副走査方向に移動させ、前記主走査方向移動部に再び受け渡す副走査方向移動部とを備え、
前記ステージ部は前記副走査方向に複数の分割ステージ部に分割されており、複数の前記分割ステージ部の間に前記主走査方向移動部が設けられる、塗布装置が提供される。
図1は、一実施形態による有機ELディスプレイを示す平面図である。図1において、一の単位回路11の回路を拡大して示す。
図3は、一実施形態による有機発光ダイオードの製造方法を示すフローチャートである。
図6は、一実施形態による基板処理システムを示す平面図である。基板処理システム100は、図3のステップS103〜S105に相当する各処理を行い、陽極21上に正孔注入層24、正孔輸送層25および発光層26を形成する。基板処理システム100は、搬入ステーション110と、処理ステーション120と、搬出ステーション130と、制御装置140とを有する。
次に、発光層形成ブロック123の塗布装置123aについて、主に図7〜図13を参照して説明する。図7は、一実施形態による塗布装置を示す平面図である。図7において、基板10の搬入位置を破線で示す。図8〜図13は一実施形態による塗布装置を示す側面図であって、図8はY方向移動部による基板のヨーイング時の状態を示す側面図、図9はY方向移動部からX方向移動部への基板の受渡時の状態を示す側面図、図10はX方向移動部による基板の移動開始時の状態を示す側面図、図11はX方向移動部による基板の移動終了時の状態を示す側面図、図12はX方向移動部からY方向移動部への基板の受渡時の状態を示す側面図、図13はY方向移動部による基板の移動時の状態を示す側面図である。以下の図面において、X方向は主走査方向、Y方向は副走査方向、Z方向は鉛直方向である。X方向およびY方向は、互いに直交する水平方向である。尚、X方向とY方向とは、交差していればよく、直交していなくてもよい。また、図7〜図13において、液滴吐出部160のX方向片側を「左側」とも呼び、液滴吐出部160のX方向反対側を「右側」とも呼ぶ。
以上説明したように、本実施形態によれば、塗布装置123aは、ガスの風圧によってステージ部150から所定の高さに基板10を浮かせながら基板10に機能液の描画パターンを描くため、基板10を移動させる駆動力を低下できる。よって、基板10の位置制御性を向上でき、また、基板10の移動速度を高速化できる。これを可能とするため、塗布装置123aは、ガスの風圧によってステージ部150から所定の高さに浮かせている基板10をX方向に移動させるX方向移動部170と、ステージ部150から所定の高さに浮かせている基板10をY方向に移動させるY方向移動部180とを備える。Y方向移動部180は、ステージ部150から所定の高さに浮かせている基板10を、X方向移動部170から受け取ってY方向に移動させ、X方向移動部170に再び受け渡す。ステージ部150は図7に示すようにY方向に複数の分割ステージ部155〜157に分割されており、Y方向に隣り合う分割ステージ部155、156の間、およびY方向に隣り合う分割ステージ部156、157の間にX方向移動部170が設けられる。よって、X方向移動部170で基板10のY方向中央部を下方から支持でき、基板10の撓みを抑制できる。
以上、塗布装置などの実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
13 有機発光ダイオード
100 基板処理システム
123a 塗布装置
140 制御装置
150 ステージ部
160 液滴吐出部
170 X方向移動部(主走査方向移動部)
180 Y方向移動部(副走査方向移動部)
181 Y軸ガイド部(副走査方向ガイド部)
182 Y軸スライダ部(副走査方向スライダ部)
183 基板保持部
184 水平度補正部
190 ヨーイング補正部
Claims (10)
- 基板における機能液の液滴の着弾位置を主走査方向および副走査方向に移動させて、前記基板に前記機能液の描画パターンを描く塗布装置であって、
前記基板をガスの風圧で所定の高さに浮かせるステージ部と、
前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板に、上方から前記機能液の液滴を滴下する液滴吐出部と、
前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を、前記主走査方向に移動させて前記液滴吐出部の下を通過させる主走査方向移動部と、
前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を、前記主走査方向移動部から受け取って前記副走査方向に移動させ、前記主走査方向移動部に再び受け渡す副走査方向移動部とを備え、
前記ステージ部は前記副走査方向に複数の分割ステージ部に分割されており、複数の前記分割ステージ部の間に前記主走査方向移動部が設けられる、塗布装置。 - 前記副走査方向移動部は、前記液滴吐出部を基準として前記主走査方向片側において、前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を上方から保持して前記副走査方向に移動させる、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記副走査方向移動部は、前記液滴吐出部を基準として前記主走査方向片側において、前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を下方から保持して前記副走査方向に移動させる、請求項1または2に記載の塗布装置。
- 前記副走査方向移動部は、前記液滴吐出部を基準として前記主走査方向両側に設けられる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 前記副走査方向移動部は、前記副走査方向に延びる副走査方向ガイド部と、前記副走査方向ガイド部に沿って移動させられる副走査方向スライダ部と、前記基板を保持する基板保持部とを有し、
少なくとも1つの前記基板保持部は、前記副走査方向スライダ部と共に移動しながら前記基板を保持する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 前記副走査方向移動部は、鉛直方向視で、前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を回転移動させるヨーイング補正部を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 前記主走査方向移動部は、鉛直方向視で、前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板を回転移動させるヨーイング補正部を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 前記主走査方向移動部は、前記ステージ部から所定の高さに浮かせている前記基板の水平度を補正する水平度補正部を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の塗布装置を用いて、前記基板に前記機能液の描画パターンを描く、塗布方法。
- 前記機能液は、有機発光ダイオードの製造に用いられるものである、請求項9に記載の塗布方法。
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