JP6802761B2 - 光パルス発生器 - Google Patents
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Description
連続光を出射する可変波長光源と、
低速光変調器を駆動するための信号を前記低速光変調器に送信する低速電気波形発生装置と、
前記連続光を変調し、低速な入力光パルスを発する前記低速光変調器と、
前記低速な入力光パルスが伝達する入力側のシリコン細線導波路と、
前記低速な入力光パルスを高速な光パルスに変換するリング共振器と、
前記高速な光パルスが伝達する出力側のシリコン細線導波路と、を有し、
前記低速な入力光パルスの波長は、前記リング共振器の通過波長よりも短波側に設定されていることを特徴とする。
基板と、
前記基板上に形成されたアンダークラッドとを有し、
前記入力側のシリコン細線導波路、前記出力側のシリコン細線導波路、及び前記リング共振器は、ノンドープ半導体領域を含み、
前記入力側のシリコン細線導波路のノンドープ半導体領域の一方の側面は、p型半導体領域と接し、前記p型半導体領域は、p型電極と接続し、
前記入力側のシリコン細線導波路のノンドープ半導体領域の他方の側面は、n型半導体領域と接続することを特徴とする。
光分岐素子と、
光合波素子と、
を有し、
前記光分岐素子は、前記連続光を二つの導波路を導波する光に分岐する素子であり、
前記光合波素子は、前記二つの導波路を導波する光を合波する素子であることを特徴とする。
前記ノンドープ半導体領域の一方の側面は、p型半導体領域と接し、前記p型半導体領域は、p型電極と接続し、
前記ノンドープ半導体領域の他方の側面は、n型半導体領域と接続し、前記n型半導体領域は、n型電極と接続することを特徴とする。
図2は本発明に係る第1の実施の形態であり、光パルス発生器の構成である。本発明の光パルス発生器は、連続光を出射する可変波長光源23と、入射される連続光を変調し、低速な入力光パルスを発する低速光変調器24(低速電気波形発生装置25からの信号で駆動される)と、低速な入力光パルスを伝送する入力側のシリコン細線導波路211と、低速な入力光パルスを高速な光パルスに変換するリング共振器22と、高速な光パルスが伝達する出力側のシリコン細線導波路212とで構成される。低速光変調器24で変調された入力光パルスの波長は、前記リング共振器の通過波長よりも短波側に設定されている。
図3は、本発明に係る第2の実施の形態である。図3(a)は、具体的な光パルス発生器の一部300の構成例を示したものである。
図4は本発明に係る第3の実施の形態であり、光パルス発生器の一部400の一部において、第2の実施の形態における電流注入型pin構造光変調器301の代わりに、マッハツェンダ干渉計型光変調器401を用いた例である。マッハツェンダ干渉計型光変調器401は、図1の低速光変調器24に対応する。
図5は本発明に係る第3の実施の形態であり、光パルス発生器の一部500の一部において、第2の実施の形態におけるリング共振器302の代わりに、キャリア引き抜き型リング共振器303を用いた例である。
12 光導波路
13, 22 リング共振器
14 光強度
23 可変波長光源
24 低速光変調器
25 低速電気波形発生装置
26 光電気変換器
27 電気波形表示装置
28 入力光波形
29 出力波形
33 p側電極パッド
34 n側電極パッド
211 入力側のシリコン細線導波路
212 出力側のシリコン細線導波路
300 光パルス発生器の一部
301 電流注入型pin構造光変調器
302 リング共振器
303 キャリア引き抜き型リング共振器
311 基板
312 アンダークラッド
313 ノンドープ半導体領域
314 p型半導体領域
315 n型半導体領域
316 オーバクラッド
317 p型電極
318 n型電極
319 リブ型導波路
320 チャネル型導波路
400 光パルス発生器の一部
401 マッハツェンダ干渉計型光変調器
402 光分岐素子
403, 404 光導波路
405 光合波素子
500 光パルス発生器の一部
510 リブ型導波路
512 p型電極
511 n型電極
Claims (8)
- 連続光を出射する可変波長光源と、
低速光変調器を駆動するための信号を前記低速光変調器に送信する低速電気波形発生装置と、
前記連続光を変調し、低速な入力光パルスを発する前記低速光変調器と、
前記低速な入力光パルスが伝達する入力側のシリコン細線導波路と、
前記低速な入力光パルスを高速な光パルスに変換するリング共振器と、
前記高速な光パルスが伝達する出力側のシリコン細線導波路と、
を有し、
前記低速な入力光パルスの波長は、前記リング共振器の通過波長よりも短波側に設定されていることを特徴とする光パルス発生器。 - 請求項1に記載の光パルス発生器において、
前記低速な入力光パルス波形のパルス幅は、前記高速な光パルスのパルス幅よりも大きいことを特徴とする光パルス発生器。 - 請求項1に記載の光パルス発生器において、
基板と、
前記基板上に形成されたアンダークラッドとを有し、
前記入力側のシリコン細線導波路、前記出力側のシリコン細線導波路、及び前記リング共振器は、ノンドープ半導体領域を含み、
前記入力側のシリコン細線導波路のノンドープ半導体領域の一方の側面は、p型半導体領域と接し、前記p型半導体領域は、p型電極と接続し、
前記入力側のシリコン細線導波路のノンドープ半導体領域の他方の側面は、n型半導体領域と接続することを特徴とする光パルス発生器。 - 請求項3に記載の光パルス発生器において、
前記ノンドープ半導体領域は、ノンドープのシリコンを含むことを特徴とする光パルス発生器。 - 請求項3に記載の光パルス発生器において、
前記アンダークラッドは、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、又はシリコン酸窒化膜であることを特徴とする光パルス発生器。 - 請求項1に記載の光パルス発生器において、
前記低速光変調器は、
光分岐素子と、
光合波素子と、
を有し、
前記光分岐素子は、前記連続光を二つの導波路を導波する光に分岐する素子であり、
前記光合波素子は、前記二つの導波路を導波する光を合波する素子であることを特徴と
する光パルス発生器。 - 請求項1に記載の光パルス発生器において、
前記リング共振器は、ノンドープ半導体領域を含み、
前記ノンドープ半導体領域の一方の側面は、p型半導体領域と接し、前記p型半導体領域は、p型電極と接続し、
前記ノンドープ半導体領域の他方の側面は、n型半導体領域と接続し、前記n型半導体領域は、n型電極と接続することを特徴とする光パルス発生器。 - 請求項3又は請求項7に記載の光パルス発生器において、
前記p型半導体領域はホウ素をドープしたシリコンを含み、前記n型半導体領域はリンをドープしたシリコンを含むことを特徴とする光パルス発生器。
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JP2017124599A JP6802761B2 (ja) | 2017-06-26 | 2017-06-26 | 光パルス発生器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017124599A JP6802761B2 (ja) | 2017-06-26 | 2017-06-26 | 光パルス発生器 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2019008180A JP2019008180A (ja) | 2019-01-17 |
JP6802761B2 true JP6802761B2 (ja) | 2020-12-16 |
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ID=65029551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2017124599A Active JP6802761B2 (ja) | 2017-06-26 | 2017-06-26 | 光パルス発生器 |
Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5910186B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2016-04-27 | 富士通株式会社 | 波長合分波素子およびそれを用いた光学装置 |
-
2017
- 2017-06-26 JP JP2017124599A patent/JP6802761B2/ja active Active
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