JP6802179B2 - ゴム組成物の製造方法およびタイヤ - Google Patents

Description

本発明は、ゴム組成物の製造方法およびタイヤに関する。

低転がり抵抗とウェットグリップ性を両立する技術として、充填剤にシリカを用いることが有効である。シリカを用いる場合、シランカップリング剤をシリカと併用すると、さらにｔａｎδを低くすることができる利点がある。

しかし、シランカップリング剤を用いた場合にはゴム中に未反応成分が残ってしまい、混練り中にゴムやけを起こすことがあった。

この問題に対して、例えば、天然ゴムおよび合成ジエン系ゴムから選ばれる少なくとも１種からなるゴム成分（Ａ）、無機充填材（Ｂ）を含む充填材およびシランカップリング剤（Ｃ）を含むゴム組成物においてチオウレアを配合するゴム組成物の製造法が提案されている（例えば、特許文献１）。

国際公開第２０１３／０９９８２２号パンフレット

チオウレアは、充填剤の分散を向上することができるため、ｔａｎδ曲線を全体的に下げることができる。そのため、低ヒステリシスロス性（以下、「低ロス性」という）に優れるが、本発明者がさらに検討したところ、わずかにウェットグリップ性が低下してしまうことが分かった。

そこで、本発明は、低ロス性およびウェットグリップ性を両立することができるゴム組成物の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、低ロス性およびウェットグリップ性を両立させたタイヤを提供することである。

本発明に係るゴム組成物の製造方法は、ゴム組成物を混練する混練工程を含む、ゴム組成物の製造方法であって、ゴム組成物が、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０℃以下である変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴム（以下、単に「変性ＳＢＲ」ということがある）を２０質量％以上含む、ゴム成分（Ａ）；シリカを含む充填剤（Ｃ）をゴム成分１００質量部に対して２０〜１２０質量部；グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チオウレアおよびジエチルチオウレアの中から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）；シランカップリング剤（Ｅ）；ならびに加硫剤（Ｆ）；を含み、混練工程が、ゴム成分（Ａ）、充填剤（Ｃ）、化合物（Ｄ）の一部または全部、ゴム成分１００質量部に対して２質量部以上のシランカップリング剤（Ｅ）、を混練する第１の混練段階と、第１の混練段階の後に、第１の混練段階における混練によって調製された混練物と加硫剤（Ｆ）とを混練する第２の混練段階を含むことを特徴とする。本発明のゴム組成物の製造方法によれば、低ロス性およびウェットグリップ性を両立することができるゴム組成物を製造することができる。

ゴム成分中の変性ＳＢＲおよび第２のポリマーなどのポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、ｔａｎδの温度分散曲線により測定することができ、例えば、ＴＡインスツルメント社製の示差走査熱量計を用いて、５〜１０℃／ｍｉｎの掃引速度の条件で測定することができる。本発明において、｜Ｔｇ_１−Ｔｇ_２｜は、Ｔｇ_１とＴｇ_２の差の絶対値を意味する。

本発明において、２種以上のポリマーが相分離していることは、２種以上のポリマーが非相溶であることと互いに言い換えることができる。本発明において、サブミクロンオーダーで相分離しているとは、例えば、ＦＩＢ／ＳＥＭを用いて、ゴム組成物の４μｍ×４μｍの領域を観察し、染色具合の違いがあることを意味する。この場合、サブミクロンオーダーで相分離していればよく、肉眼での観察で相溶していてもよい。

変性ＳＢＲの相に存在する充填剤の存在率は、例えば、ミクロトームにより切削した試料の平滑面を原子力間顕微鏡（ＡＦＭ）、例えば、ＡＳＹＬＵＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ社製ＭＦＰ−３Ｄを用いて、測定範囲２μｍ×２μｍで測定することができる。例えば、変性ＳＢＲと第２のポリマーが２相に分かれた系を測定する場合には、得られたＡＦＭ画像をヒストグラムにより２種のポリマーと充填剤部分に３値化像に変換して得られた３値化像に基づき、２種の各ポリマー成分の相に含まれる充填剤面積を求め、測定面積内の充填剤総量から変性ＳＢＲの相に存在する充填剤の割合を算出する。充填剤が２種のポリマーの境界面にある場合は、各ポリマーと充填剤の３つが接している２点を結び、充填剤の面積を分割する。

本発明において、変性ＳＢＲの相のドメイン幅（領域幅）は、ＡＦＭより得られた画像を３値化後、充填剤に相当する部分を抜き出し、ドメインが円形の場合は、円の直径を意味し、ドメインがまだら模様などの不定形の場合は、各ドメインの長手方向（一つのドメイン中の端間の直線距離が最も長い方向）と直交する方向の当該ドメインの最大の長さを意味する。一つのポリマー相に充填剤が入っている場合は抜けた部分を埋め、充填剤が２種のポリマーのドメインの境界上にある場合は抜けた状態のままで算出する。

充填剤の平均凝集塊面積は、例えば、ＦＩＢ／ＳＥＭより、測定範囲４μｍ×４μｍで得られた画像より充填剤部分の凝集塊面積を求め、充填剤部分の全凝集塊表面積と凝集塊の個数から、平均凝集塊面積を数平均（相加平均）により算出することができる。算出に当たり、画像の端（辺）に接している粒子はカウントせず、２０ピクセル以下の粒子は、ノイズと見做しカウントしない。

本発明において、サブミクロンオーダーは、１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ未満の範囲を意味する。

本発明において、（共）重合体は、重合体または共重合体を意味する。変性前（未変性）の（共）重合体をベースポリマーということがある。変性ＳＢＲなどの変性ポリマーにおける変性率は、例えば、変性官能基がアミノ基の場合、以下の方法により測定することができる。変性ポリマーをトルエンに溶解した後、大量のメタノール中で沈殿させることにより変性ポリマーに結合していないアミノ基含有化合物をゴムから分離した後、乾燥する。この処理を施したポリマーを試料として、ＪＩＳ Ｋ７２３７に記載された「全アミン価試験方法」により全アミノ基含有量を定量する。続けて、上記試料に対して、「アセチルアセトンブロックド法」により第２アミノ基および第３アミノ基の含有量を定量する。試料を溶解させる溶媒にはｏ−ニトロトルエンを使用し、アセチルアセトンを添加し、過塩素酸酢酸溶液で電位差滴定を行う。全アミノ基含有量から第２アミノ基および第３アミノ基の含有量を引いて第１アミノ基含有量を求め、分析に使用したポリマー質量を割ることでポリマーに結合した第１アミノ基含有量を求める。第３アミノ基含有量は、該ポリマーをトルエンに溶解した後、大量のメタノール中で沈殿させることにより変性ポリマーに結合していないアミノ基含有化合物をゴムから分離した後、乾燥する。この処理を施したポリマーを試料として、「アセチル化法」により第３アミノ基含有量を定量する。試料を溶解させる溶媒として、ｏ−ニトロトルエン＋酢酸を使用し、ギ酸無水酢酸混合溶液を添加し、過塩素酸酢酸溶液で電位差滴定を行う。第３アミノ基含有量を分析に使用したポリマー質量を割り返すことによりポリマーに結合した第３アミノ基含有量を求める。

本発明において、「充填剤に対して相互作用性を有する変性官能基」とは、変性官能基と充填剤（例えば、シリカ）表面との間で、例えば、共有結合；分子間力（イオン−双極子相互作用、双極子−双極子相互作用、水素結合、ファンデルワールス力などの分子間力）を形成することが可能な官能基を意味する。

ポリマー成分の重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって標準ポリスチレン換算値として算出することができる。

本発明において、加水分解性基は、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基；−Ｏ（トリアルキルシリル）基；−Ｓ（トリアルキルシリル）基；−ＣＯＯ（トリアルキルシリル）基；−Ｎ（トリアルキルシリル）基などを含む。

本発明において、（チオ）イソシアナート基は、イソシアナート基またはチオイソシアナート基を意味する。（チオ）エポキシ基は、エポキシ基またはチオエポキシ基を意味する。（チオ）ケトン基は、ケトン基またはチオケトン基を意味する。（チオ）アルデヒド基は、アルデヒド基またはチオアルデヒド基を意味する。（チオ）カルボン酸エステル基は、カルボン酸エステル基またはチオカルボン酸エステル基を意味する。

本発明において、「炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基」とは、「炭素数１〜２０の一価の脂肪族炭化水素基もしくは炭素数３〜２０の一価の脂環式炭化水素基」をいう。二価の炭化水素基の場合も同様である。

本発明において、ハロゲン原子は、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。

本発明において、ＴＭＳは、トリメチルシリル基を意味する。

本発明によれば、低ロス性およびウェットグリップ性を両立することができるゴム組成物の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、低ロス性およびウェットグリップ性を両立させたタイヤを提供することができる。

以下、本発明の実施形態について説明する。これらの記載は、本発明の例示を目的とするものであり、本発明を何ら限定するものではない。

（ゴム組成物の製造方法）
本発明に係るゴム組成物の製造方法は、ゴム組成物を混練する混練工程を含む、ゴム組成物の製造方法であって、ゴム組成物が、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０℃以下である変性ＳＢＲを２０質量％以上含む、ゴム成分（Ａ）；シリカを含む充填剤（Ｃ）をゴム成分１００質量部に対して２０〜１２０質量部；グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チオウレアおよびジエチルチオウレアの中から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）；シランカップリング剤（Ｅ）；ならびに加硫剤（Ｆ）；を含み、混練工程が、ゴム成分（Ａ）、充填剤（Ｃ）、化合物（Ｄ）の一部または全部、ゴム成分１００質量部に対して２質量部以上のシランカップリング剤（Ｅ）、を混練する第１の混練段階と、第１の混練段階の後に、第１の混練段階における混練によって調製された混練物と加硫剤（Ｆ）とを混練する第２の混練段階を含むことを特徴とする。これにより、低ロス性およびウェットグリップ性を両立することができるゴム組成物を製造することができる。

＜混練工程＞
混練工程は、少なくとも、第１の混練段階と、第２の混練段階とを含み、さらに必要に応じて第３の混練段階を第１の混練段階と第２の混練段階との間に含む。すなわち、第３の混練段階を行う場合、混練段階の順序は、第１、第３、第２の混練段階の順である。

＜第１の混練段階＞
第１の混練段階では、ゴム成分（Ａ）、充填剤（Ｃ）、化合物（Ｄ）の一部または全部、ゴム成分１００質量部に対して２質量部以上のシランカップリング剤（Ｅ）を含む混合物を混練する。この混練により、混練物（予備組成物）を調製する。第１の混練段階で調製される混練物（予備組成物）は、加硫剤（Ｆ）を含まない。

第１の混練段階での混練は、シランカップリング剤（Ｅ）のカップリング機能の活性をより好適に高める観点から、混合物の最高温度を１２０〜１９０℃とするのが好ましく、１３０〜１７５℃とするのがより好ましく、１４０〜１７０℃とするのが特に好ましい。

第１の混練段階では、初めに、ゴム成分（Ａ）、充填剤（Ｃ）およびシランカップリング剤（Ｅ）を混練し、これに化合物（Ｄ）を加えてさらに混練することが好ましい。

第２の混練段階では、ゴム成分１００質量部に対して、Ｃ₅系樹脂、Ｃ₅〜Ｃ₉系樹脂、Ｃ₉系樹脂、テルペン系樹脂、テルペン−芳香族化合物系樹脂、ロジン系樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂およびアルキルフェノール系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂（Ｂ）を５〜５０質量部含むことが好ましい。これにより、低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができる。

＜第２の混練段階＞
第２の混練段階は、第１の混練段階の後に、第１の混練段階における混練によって調製された混練物（予備組成物）と加硫剤（Ｆ）とを混練する段階である。この混練により、ゴム組成物を調製する。前記第２の混練段階において、化合物（Ｄ）をさらに添加してもよい。

第２の混練段階での混練は、混合物の最高温度を６０〜１４０℃とするのが好ましく、８０〜１２０℃とするのがより好ましく、１００〜１２０℃とするのが特に好ましい。

（ｉ）第１の混練段階から第２の混練段階に移行する際、または（ｉｉ）後述する第３の混練段階から第２の混練段階に移行する際には、混練物（予備組成物）の温度を、第１の混練段階または第３の混練段階における混練が終了した直後の温度から１０℃以上低下させた後に、第２の混練段階に移行することが好ましい。

＜第３の混練段階＞
第１の混練段階と、第２の混練段階との間に、必要に応じて、第３の混練段階を更に含んでもよい。第３の混練段階では、第１の混練段階で調製された混練物（予備組成物）を更に混練する段階である。第３の混練段階は、複数回行ってもよい。ただし、第３の混練段階では、加硫剤（Ｆ）を添加しない。

第３の混練段階での混練は、シランカップリング剤（Ｅ）のカップリング機能の活性をより好適に高める観点から、混合物の最高温度を１２０〜１９０℃とするのが好ましく、１３０〜１７５℃とするのがより好ましく、１４０〜１７０℃とするのが特に好ましい。

混練工程において、混練に用いられる混練装置としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の混練装置から適宜選択して使用することができる。混練装置としては、例えば、単軸混練押出機；多軸混練押出機（連続式混練装置）；バンバリミキサー、インターミックス、ニーダー等の噛合い式または非噛合い式回転ローターを有する混練機；ロール（バッチ式混練装置）；などが挙げられる。混練における、ローターの回転速度、ラム圧、混練温度、混練装置の種類等の条件は、適宜選択することができる。

＜ゴム組成物＞
本発明に係るゴム組成物の製造方法によって製造されるゴム組成物は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０℃以下である変性ＳＢＲを２０質量％以上含む、ゴム成分（Ａ）；シリカを含む充填剤（Ｃ）をゴム成分１００質量部に対して２０〜１２０質量部；グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チオウレアおよびジエチルチオウレアの中から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）；シランカップリング剤（Ｅ）；ならびに加硫剤（Ｆ）；を含む。

＜ゴム成分（Ａ）＞
ゴム組成物に含まれるゴム成分（Ａ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０℃以下である変性ＳＢＲをゴム成分（Ａ）の総量に対して２０質量％以上含み、必要に応じて、第２のポリマーなどその他のゴム成分を含む。

＜変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴム＞
変性ＳＢＲを用いることにより、後述する化合物（Ｄ）を使用してもゴム組成物の０℃のｔａｎδの低下を抑制し、低ロス性およびウェットグリップ性を両立することができるゴム組成物を製造することができる。

変性ＳＢＲを用いて、さらにマスターバッチ化する場合、より高度な低ロス性およびウェットグリップ性の両立効果が期待される。

変性ＳＢＲにおける変性官能基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。変性官能基としては、例えば、後述する充填剤に対して相互作用性を有する変性官能基などが好適に挙げられる。充填剤に対する相互作用性を高めて、低ロス性およびウェットグリップ性を高度に両立することができる。充填剤（例えば、シリカ）との相互作用性の高い変性官能基としては、特に制限はなく、例えば、含窒素官能基、含ケイ素官能基、含酸素官能基などが好適に挙げられる。

変性ＳＢＲのベースポリマーは、変性ＳＢＲの全単量体成分に対し、５０〜８０質量％の１，３−ブタジエンと、２０〜５０質量％のスチレンとを重合してなる共重合体であることが好ましい。ゴム組成物の低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができるためである。

ベースポリマーを得るための重合方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。このような重合方法として、例えば、アニオン重合、配位重合および乳化重合などが挙げられる。

変性ＳＢＲを得るための変性剤は、公知の変性剤から適宜選択して用いることができる。変性剤としては、例えば、アニオン重合または配位重合の重合活性末端と反応する変性剤であってもよいし、重合開始剤として用いられるリチウムアミド化合物のアミド部分等であってもよい。変性剤は、上述した変性官能基を有する公知の変性剤から適宜選択して用いることができる。

変性剤は、ケイ素原子、窒素原子および酸素原子から選ばれる少なくとも１つの原子を有する変性剤であることが好ましい。

充填剤（例えば、シリカ）に対して高い相互作用性を有するため、変性剤は、アルコキシシラン化合物、ヒドロカルビルオキシシラン化合物およびこれらの組み合わせからなる群より選択される１種以上であることが好ましい。

上記アルコキシシラン化合物は、特に限定されないが、下記一般式（Ｉ）で表されるアルコキシシラン化合物であることがより好ましい。
Ｒ^１ _ａ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ａ ・・・ （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に炭素数１〜２０の一価の脂肪族炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基を示し、ａは０〜２の整数であり、ＯＲ^２が複数ある場合、各ＯＲ^２は互いに同一でも異なっていてもよく、また分子中には活性プロトンは含まれない。

一般式（Ｉ）で表されるアルコキシシラン化合物の具体例としては、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−トリエトキシシリル−１−プロパンアミン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルトリイソプロポキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメトリジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビニルジエトキシシランなどが挙げられる。これらの中でも、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好適である。アルコキシシラン化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記ヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。

一般式（ＩＩ）中、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４＝４（但し、ｎ２は１〜４の整数であり、ｎ１、ｎ３およびｎ４は０〜３の整数である）であり、Ａ^１は、飽和環状３級アミン化合物残基、不飽和環状３級アミン化合物残基、ケチミン残基、ニトリル基、（チオ）イソシアナート基、（チオ）エポキシ基、イソシアヌル酸トリヒドロカルビルエステル基、炭酸ジヒドロカルビルエステル基、ニトリル基、ピリジン基、（チオ）ケトン基、（チオ）アルデヒド基、アミド基、（チオ）カルボン酸エステル基、（チオ）カルボン酸エステルの金属塩、カルボン酸無水物残基、カルボン酸ハロゲン化合物残基、ならびに加水分解性基を有する第一もしくは第二アミノ基またはメルカプト基の中から選択される少なくとも１種の官能基であり、ｎ４が２以上の場合には同一でも異なっていてもよく、Ａ^１は、Ｓｉと結合して環状構造を形成する二価の基であってもよく、Ｒ^２１は、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｎ１が２以上の場合には同一でも異なっていてもよく、Ｒ^２３は、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基またはハロゲン原子であり、ｎ３が２以上の場合には同一でも異なっていてもよく、Ｒ^２２は、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、いずれも窒素原子および／またはケイ素原子を含有していてもよく、ｎ２が２以上の場合には、互いに同一もしくは異なっていてもよく、あるいは、一緒になって環を形成しており、Ｒ^２４は、炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、ｎ４が２以上の場合には同一でも異なっていてもよい。

加水分解性基を有する第一もしくは第二アミノ基または加水分解性基を有するメルカプト基における加水分解性基として、トリメチルシリル基またはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基が特に好ましい。

一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。

一般式（ＩＩＩ）中、ｐ１＋ｐ２＋ｐ３＝２（但し、ｐ２は１〜２の整数であり、ｐ１およびｐ３は０〜１の整数である）であり、Ａ^２は、ＮＲａ（Ｒａは、一価の炭化水素基、加水分解性基または含窒素有機基である）、あるいは、硫黄であり、Ｒ^２５は、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^２７は、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基またはハロゲン原子であり、Ｒ^２６は、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基または含窒素有機基であり、いずれも窒素原子および／またはケイ素原子を含有していてもよく、ｐ２が２の場合には、互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは、一緒になって環を形成しており、Ｒ^２８は、炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基である。加水分解性基として、トリメチルシリル基またはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基が特に好ましい。

一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（ＩＶ）または（Ｖ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。これにより低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができる。

一般式（ＩＶ）中、ｑ１＋ｑ２＝３（但し、ｑ１は０〜２の整数であり、ｑ２は１〜３の整数である）であり、Ｒ^３１は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^３２およびＲ^３３はそれぞれ独立して加水分解性基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^３４は炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｑ１が２の場合には同一でも異なっていてもよく、Ｒ^３５は炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｑ２が２以上の場合には同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｖ）中、ｒ１＋ｒ２＝３（但し、ｒ１は１〜３の整数であり、ｒ２は０〜２の整数である）であり、Ｒ^３６は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^３７はジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノメチル基、ジエチルアミノエチル基、メチルシリル（メチル）アミノメチル基、メチルシリル（メチル）アミノエチル基、メチルシリル（エチル）アミノメチル基、メチルシリル（エチル）アミノエチル基、ジメチルシリルアミノメチル基、ジメチルシリルアミノエチル基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｒ１が２以上の場合には同一でも異なっていてもよく、Ｒ^３８は炭素数１〜２０のヒドロカルビルオキシ基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｒ２が２の場合には同一でも異なっていてもよい。

一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（ＶＩ）または（ＶＩＩ）で表される２つ以上の窒素原子を有するヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。これにより低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができる。

一般式（ＶＩ）中、Ｒ^４０はトリメチルシリル基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^４１は炭素数１〜２０のヒドロカルビルオキシ基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^４２は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基である。

一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ^４３およびＲ^４４はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^４５は炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、各Ｒ^４５は、同一でも異なっていてもよい。

一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。

一般式（ＶＩＩＩ）中、ｒ１＋ｒ２＝３（但し、ｒ１は０〜２の整数であり、ｒ２は１〜３の整数である）であり、Ｒ^４６は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^４７およびＲ^４８はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基である。複数のＲ^４７またはＲ^４８は、同一でも異なっていてもよい。

一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（ＩＸ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。

一般式（ＩＸ）中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ^４９は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^５０およびＲ^５１はそれぞれ独立して加水分解性基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、または、炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であるか、あるいは、Ｒ^５０およびＲ^５１は結合して二価の有機基を形成しており、Ｒ^５２およびＲ^５３はそれぞれ独立してハロゲン原子、ヒドロカルビルオキシ基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基である。Ｒ^５０およびＲ^５１としては、加水分解性基であることが好ましく、加水分解性基として、トリメチルシリル基またはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基が特に好ましい。

一般式（ＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式（Ｘ）〜（ＸＩＩＩ）で表される構造を有するヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。

一般式（Ｘ）〜（ＸＩＩＩ）中、記号Ｕ、Ｖはそれぞれ０〜２かつＵ＋Ｖ＝２を満たす整数である。一般式（Ｘ）〜（ＸＩＩＩ）中のＲ^５４〜^９２は同一でも異なっていても良く、炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基である。一般式（ＸＩＩＩ）中のαおよびβは０〜５の整数である。

一般式（Ｘ）〜（ＸＩＩ）の化合物の中でも、Ｎ１，Ｎ１，Ｎ７−テトラメチル−４−（（トリメトキシシリル）メチル）−１，７へプタン、２−（（ヘキシル−ジメトキシシリル）メチル）−Ｎ１，Ｎ１，Ｎ３，Ｎ３−２−ペンタメチルプロパン−１，３−ジアミン、Ｎ１−（３−（ジメチルアミノ）プロピル−Ｎ３，Ｎ３−ジメチル−Ｎ１−（３−（トリメトキシシリル）プロピル）プロパン−１，３−ジアミン、４−（３−（ジメチルアミノ）プロピル）−Ｎ１，Ｎ１，Ｎ７，Ｎ７−テトラメチル−４−（（トリメトキシシリル）メチル）へプタン−１，７−ジアミンが好ましい。

一般式（ＸＩＩＩ）の化合物の中でも、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−（３−（ジメトキシメチルシリル）プロポキシ）エタンアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）−２−（３−（トリメトキシシリル）プロポキシ）エタンアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−（３−（トリメトキシシリル）プロポキシ）エタンアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（３−（トリメトキシシリル）プロポキシ）プロパン−１−アミンが好ましい。

一般式（ＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、変性ＳＢＲの変性剤として用いることが好ましいが、第２のポリマーおよび任意のその他のゴム成分の変性剤として用いてもよい。

一般式（ＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、アルコキシシラン化合物であることが好ましい。

変性共重合体をアニオン重合によって得る場合に好適な変性剤としては、例えば、３，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−１−ビニルベンゼン、３，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ベンズアルデヒド、３，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ベンズアルデヒド、２−シアノピリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンおよび１−メチル−２−ピロリドンから選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。

上記変性剤は、アニオン重合における重合開始剤として用いられるリチウムアミド化合物のアミド部分であることが好ましい。このようなリチウムアミド化合物としては、例えば、リチウムヘキサメチレンイミド、リチウムピロリジド、リチウムピペリジド、リチウムへプタメチレンイミド、リチウムドデカメチレンイミド、リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジブチルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチウムジへプチルアミド、リチウムジへキシルアミド、リチウムジオクチルアミド、リチウムジ−２−エチルへキシルアミド、リチウムジデシルアミド、リチウム−Ｎ−メチルピベラジド、リチウムエチルプロピルアミド、リチウムエチルブチルアミド、リチウムエチルベンジルアミド、リチウムメチルフェネチルアミドおよびこれらの組み合わせが挙げられる。例えば、リチウムヘキサメチレンイミドのアミド部分となる変性剤はヘキサメチレンイミンであり、リチウムピロリジドのアミド部分となる変性剤はピロリジンであり、リチウムピペリジドのアミド部分となる変性剤はピペリジンである。

変性共重合体を配位重合によって得る場合に好適な変性剤としては、例えば、２−シアノピリジンおよび３，４−ジトリメチルシリルオキシベンズアルデヒドから選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。

変性共重合体を乳化重合によって得る場合に好適な変性剤としては、例えば、３，４−ジトリメチルシリルオキシベンズアルデヒドおよび４−ヘキサメチレンイミノアルキルスチレンから選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。乳化重合において好ましく用いられるこれらの変性剤は、窒素原子および／またはケイ素原子を含むモノマーとして、乳化重合時に共重合されることが好ましい。

変性ＳＢＲの変性率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜調整することができる。変性率は、例えば、３０％以上が好ましく、３５％以上がより好ましく、７０％以上が特に好ましい。これにより、シリカを含む充填剤が変性ＳＢＲの相により選択的に存在するようになり、低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができる。

変性ＳＢＲのガラス転移温度（Ｔｇ_１）は、−５０℃以下であればよく、−６０℃以下であることが好ましい

後述する第２のポリマーを用いる場合は、変性ＳＢＲのガラス転移温度Ｔｇ_１と、第２のポリマーのガラス転移温度Ｔｇ_２が、０＜｜Ｔｇ_１−Ｔｇ_２｜≦２０の関係を満たし、変性ＳＢＲと第２のポリマーは、互いにサブミクロンオーダーで相分離していることが好ましい。これにより、低ロス性およびウェットグリップ性を高度に両立することができる。

変性ＳＢＲと第２のポリマーが互いにサブミクロンオーダーで相分離している場合、変性ＳＢＲの相に存在する充填剤（Ｃ）の平均凝集塊面積が、２１００ｎｍ^２以下であることが好ましい。これにより、低ロス性およびウェットグリップ性を高度に両立することができる。

変性ＳＢＲの一例を説明する。まず、スチレンと１，３−ブタジエンとの共重合体（ミクロ構造：スチレン１０質量％／１，３−ブタジエン由来のビニル結合量４０質量％、ベース分子量（ポリスチレン換算）：１８０，０００）であるベースポリマーを作製し、末端をアニオンとした状態で、Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）−３−［ジエトキシ（メチル）シリル］プロピルアミンを用いて変性して、変性ＳＢＲ（変性率：７０％、重量平均分子量（Ｍｗ）：２００，０００）を得る。

第２のポリマーを用いる場合、０＜｜Ｔｇ_１−Ｔｇ_２｜≦２０の関係を満たし、変性ＳＢＲと第２のポリマーを互いにサブミクロンオーダーで相分離するためには、例えば、変性ＳＢＲのＳＰ値（ＳＰ_１）と第２のポリマーのＳＰ値（ＳＰ_２）が異なり、０．１５＜｜ＳＰ_１−ＳＰ_２｜であることが好ましい。これにより、互いにサブミクロンオーダーで相分離しやすい。

ゴム成分（Ａ）は、ゴム成分（Ａ）の総量に対して、変性ＳＢＲを２０質量％以上含めばよく、変性ＳＢＲの含有量は目的に応じて適宜調整することができる。ゴム成分（Ａ）は、ゴム成分（Ａ）の総量に対して、変性ＳＢＲを３０質量％以上含むことが好ましい。

第２のポリマーを用いて、変性ＳＢＲと第２のポリマーが上述したように相分離している場合、変性ＳＢＲの相のドメイン幅は、特に限定されないが、２００ｎｍ以下であることが好ましい。これにより耐摩耗性および耐破壊特性が高まる。

＜第２のポリマー＞
第２のポリマーは、特に限定されず、公知のゴムポリマーから適宜選択することができる。

第２のポリマーは、例えば、ジエン系共重合体であってもよい。その中でも、ジエン系単量体と芳香族ビニル化合物との共重合体が好ましく、第２のポリマーの全単量体成分に対し、５０〜８０質量％のジエン系単量体と、２０〜５０質量％の芳香族ビニル化合物との共重合体であることがより好ましい。

ジエン系単量体としては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチルブタジエン、２−フェニル−１，３−ブタジエン、１，３−ヘキサジエン等の共役ジエン化合物が挙げられる。これらの中でも、第２のポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ_２）の調整が容易なため、１，３−ブタジエンが好ましい。共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、１−ビニルナフタレン、３−ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、ジビニルベンゼン、４−シクロヘキシルスチレン、２，４，６−トリメチルスチレンなどが挙げられる。これらの中でも、第２のポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ_２）の調整が容易なため、スチレンが好ましい。芳香族ビニル化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

第２のポリマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、クロロプレンゴムなどが挙げられる。

第２のポリマーを得るための重合方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。このような重合方法として、例えば、アニオン重合、配位重合および乳化重合などが挙げられる。

第２のポリマーの分子量は、特に限定はされず、ピーク分子量を５０，０００以上とすることで良好な耐破壊特性および耐摩耗性が得られ、７００，０００以下とすることで良好な加工性が得られる。さらに、高度に耐破壊特性および耐摩耗性と加工性を両立するためには、１００，０００〜３５０，０００のピーク分子量であることが好ましい。

＜その他のゴム成分＞
ゴム成分（Ａ）は、変性ＳＢＲ、第２のポリマーの他、さらに変性ＳＢＲおよび第２のポリマーとは異なるその他のゴム成分を含んでいてもよい。その他のゴム成分としては、例えば、第２のポリマーで挙げたものを用いることができる。その他のゴム成分のポリマーは、未変性（共）重合体でもよいし、変性（共）重合体でもよい。

本発明に係るゴム組成物の製造方法では、ゴム成分（Ａ）に含まれる全ての成分のガラス転移温度が、−５０℃以下であることが好ましい。これにより、低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができる。

＜熱可塑性樹脂（Ｂ）＞
熱可塑性樹脂（Ｂ）は、Ｃ_５系樹脂、Ｃ_５〜Ｃ_９系樹脂、Ｃ_９系樹脂、テルペン系樹脂、テルペン−芳香族化合物系樹脂、ロジン系樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂およびアルキルフェノール系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種である。ゴム組成物が一定量の熱可塑性樹脂（Ｂ）を含むことで、ゴムのＴｇが高くなり、０℃での損失正接（ｔａｎδ）が向上するため、タイヤのウェットグリップ性を向上させることができる。

熱可塑性樹脂（Ｂ）は、天然ゴムとの相溶性が高いため、第２のポリマーなどとして天然ゴムを用いる場合、熱可塑性樹脂（Ｂ）の相溶性が高くなる点で有利となる。

熱可塑性樹脂（Ｂ）の配合量としては、特に限定されず、適宜調整することができる。熱可塑性樹脂（Ｂ）の配合量は、例えば、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して５〜５０質量部が好ましく、１０〜３０質量部であることがより好ましい。熱可塑性樹脂（Ｂ）の配合量が、５〜５０質量部であることにより、低ロス性およびウェットグリップ性をより高度に両立することができる。

＜Ｃ_５系樹脂＞
Ｃ_５系樹脂は、Ｃ_５系合成石油樹脂を指し、Ｃ_５留分を、ＡｌＣｌ_３やＢＦ_３などのフリーデルクラフツ型触媒を用いて重合して得られる樹脂を意味する。例えば、イソプレン、シクロペンタジエン、１，３−ペンタジエンおよび１−ペンテンなどを主成分とする共重合体、２−ペンテンとジシクロペンタジエンとの共重合体、１，３−ペンタジエンを主体とする重合体などが挙げられる。

＜Ｃ_５〜Ｃ_９系樹脂＞
Ｃ_５〜Ｃ_９系樹脂は、Ｃ_５〜Ｃ_９系合成石油樹脂を指し、Ｃ_５〜Ｃ_１１留分を、ＡｌＣｌ_３やＢＦ_３などのフリーデルクラフツ型触媒を用いて重合して得られる樹脂を意味する。例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、インデン等を主成分とする共重合体などが挙げられる。これらの中でも、Ｃ_９以上の成分の少ないＣ_５〜Ｃ_９系樹脂は、ゴム成分（Ａ）との相溶性が優れる点で好ましい。具体的には、Ｃ_５〜Ｃ_９系樹脂におけるＣ_９以上の成分の割合が５０質量％未満の樹脂が好ましく、４０質量％以下の樹脂がより好ましい。

＜Ｃ_９系樹脂＞
Ｃ_９系樹脂は、Ｃ_９系合成石油樹脂を指し、Ｃ_９留分をＡｌＣｌ_３やＢＦ_３などのフリーデルクラフツ型触媒を用いて重合して得られる樹脂を意味する。例えば、インデン、メチルインデン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等を主成分とする共重合体などが挙げられる。

＜テルペン系樹脂＞
テルペン系樹脂は、松属の木からロジンを得る際に同時に得られるテレビン油またはこれから分離した重合成分を配合し、フリーデルクラフツ型触媒を用いて重合して得ることができる。例えば、β−ピネン樹脂、α−ピネン樹脂などが挙げられる。

＜テルペン−芳香族化合物系樹脂＞
テルペン−芳香族化合物系樹脂は、テルペン類と種々のフェノール類とを、フリーデルクラフツ型触媒を用いて反応させる、あるいはさらにホルマリンで縮合することで得ることができる。例えば、テルペン−フェノール樹脂などが挙げられる。テルペン−フェノール樹脂のなかでも、テルペン−フェノール樹脂中のフェノール成分が５０質量％未満の樹脂が好ましく、４０質量％以下の樹脂がより好ましい。原料のテルペン類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、α−ピネン、リモネン等のモノテルペン炭化水素などが挙げられる。これらの中でも、α−ピネンを含むものが好ましく、α−ピネンがより好ましい。

＜ロジン系樹脂＞
ロジン系樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。ロジン系樹脂としては、例えば、生松ヤニやトール油に含まれるガムロジン、トール油レジン、ウッドロジン等の天然樹脂ロジン；変性ロジン；ロジン誘導体などが挙げられる。変性ロジン誘導体は、例えば、重合ロジン、その部分水添ロジン；グリセリンエステルロジン、その部分水添ロジンや完全水添ロジン；ペンタエリスリトールエステルロジン、その部分水添ロジンや完全水添ロジンなどが挙げられる。

＜ジシクロペンタジエン樹脂＞
ジシクロペンタジエン樹脂は、ジシクロペンタジエンを、ＡｌＣｌ_３やＢＦ_３などのフリーデルクラフツ型触媒等を用いて重合して得ることができる。ジシクロペンタジエン樹脂の市販品の具体例としては、クイントン１９２０（日本ゼオン株式会社製）、クイントン１１０５（日本ゼオン株式会社製）、マルカレッツＭ−８９０Ａ（丸善石油化学社製）などが挙げられる。

＜アルキルフェノール系樹脂＞
アルキルフェノール系樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。アルキルフェノール系樹脂としては、例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール−アセチレン樹脂等のアルキルフェノール−アセチレン樹脂、低重合度のアルキルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。

＜充填剤（Ｃ）＞
本発明において、充填剤（Ｃ）は、少なくともシリカを含み、必要に応じて、カーボンブラック、酸化アルミニウム、クレー、アルミナ、タルク、マイカ、カオリン、ガラスバルーン、ガラスビーズ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、チタン酸カリウム、硫酸バリウム等の成分を含む。充填剤（Ｃ）にシリカが含まれると、補強性と低ロス性とを付与することができる。

充填剤（Ｃ）の配合量としては、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して２０〜１２０質量部であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜調整することができる。充填剤（Ｃ）の配合量が、２０〜１２０質量部であると、ゴム成分の柔軟性等の特性を損ねることなく、その補強効果を発揮することができる。充填剤（Ｃ）の配合量は、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して５０〜１００質量部であることが好ましい。この範囲内であると、低ロス性およびウェットグリップ性に加えて、ゴム成分の柔軟性を保持できる点で有利である。

＜シリカ＞
充填剤（Ｃ）に含まれるシリカとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。シリカとしては、例えば、湿式シリカ（含水ケイ酸）、乾式シリカ（無水ケイ酸）、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウムなどが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、湿式シリカは、ウェットグリップ性能を向上させることができる点で有利である。

シリカの配合量は、上記充填剤（Ｃ）の配合量の範囲内であればよく、目的に応じて適宜調整することができる。充填剤（Ｃ）の総量の５０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることがより好ましく、９０〜１００質量％であることが特に好ましい。充填剤（Ｃ）は、シリカがカーボンブラックとシリカの合計に対して９０質量％以上であることが好ましい。

＜化合物（Ｄ）＞
化合物（Ｄ）は、グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チオウレアおよびジエチルチオウレアの中から選ばれる少なくとも１種の化合物である。

化合物（Ｄ）の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜調整することができる。化合物（Ｄ）の配合量は、例えば、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して０．１〜２０質量部であることが好ましい。この範囲であることにより、加硫が適度となる。

＜グアニジン類＞
化合物（Ｄ）としてグアニジン類を用いると、シランカップリング剤（Ｅ）の活性を高めることができる点で有利である。グアニジン類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。グアニジン類としては、例えば、１，３−ジフェニルグアニジン、１，３−ジ−ｏ−トリルグアニジン、１−ｏ−トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ−ｏ−トリルグアニジン塩、１，３−ジ−ｏ−クメニルグアニジン、１，３−ジ−ｏ−ビフェニルグアニジン、１，３−ジ−ｏ−クメニル−２−プロピオニルグアニジンなどが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、反応性が高い点で、１，３−ジフェニルグアニジン、１，３−ジ−ｏ−トリルグアニジン、１−ｏ−トリルビグアニドが好ましく、１，３−ジフェニルグアニジンがより好ましい。

＜スルフェンアミド類＞
化合物（Ｄ）としてスルフェンアミド類を用いると、シランカップリング剤（Ｅ）の活性を高めることができる点で有利である。スルフェンアミド類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。スルフェンアミド類としては、例えば、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−オキシジエチレン−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−メチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−エチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−プロピル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ブチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ペンチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−オクチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−２−エチルヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−デシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ドデシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ステアリル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジペンチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−エチルヘキシルベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジドデシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジステアリル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミドなどが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、反応性が高い点で、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミドが好ましい。

＜チアゾール類＞
化合物（Ｄ）としてチアゾール類を用いると、シランカップリング剤（Ｅ）の活性を高めることができる点で有利である。チアゾール類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。チアゾール類としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、２−（４^´−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール、４−メチル−２−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−（４−メチル−２−ベンゾチアゾリル）ジスルフィド、５−クロロ−２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾールナトリウム、２−メルカプト−６−ニトロベンゾチアゾール、２−メルカプト−ナフト［１，２−ｄ］チアゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール、６−アミノ−２−メルカプトベンゾチアゾールなどが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、反応性が高い点で、２−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィドが好ましい。

＜チオウレア＞
チオウレアは、ＮＨ_２ＣＳＮＨ_２で表される化合物である。化合物（Ｄ）としてチオウレアを用いると、充填剤（Ｃ）の分散性を高めることができる点で有利である。

＜ジエチルチオウレア＞
ジエチルチオウレアは、Ｃ_２Ｈ_５ＮＨＣＳＮＨＣ_２Ｈ_５で表される化合物である。化合物（Ｄ）としてジエチルチオウレアを用いると、充填剤（Ｃ）の分散性を高めることができる点で有利である。

＜シランカップリング剤（Ｅ）＞
シランカップリング剤（Ｅ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。シランカップリング剤（Ｅ）としては、例えば、下記の一般式（Ｅ１）で表わされる化合物、下記の一般式（Ｅ２）で表わされる化合物などが挙げられる。シランカップリング剤（Ｅ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。シランカップリング剤（Ｅ）を用いることによって、ゴム加工時の作業性が更に優れると共に、耐摩耗性がより良好な空気入りタイヤを得ることができる。
（Ｒ^１０１Ｏ）_３−ｐ（Ｒ^１０２）_ｐＳｉ−Ｒ^１０３−Ｓ_ａ−Ｒ^１０３−Ｓｉ（ＯＲ^１０１）_３−ｒ（Ｒ^１０２）_ｒ ・・・（Ｅ１）
（一般式（Ｅ１）中、Ｒ^１０１は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数１〜８の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、炭素数２〜８の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基または水素原子であり、Ｒ^１０２は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数１〜８の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、Ｒ^１０３は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数１〜８の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。ａは平均値として２〜６であり、ｐおよびｒは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として０〜３である。但し、ｐおよびｒの両方が３であることはない）
（Ｒ^１０４Ｏ）_３−ｓ（Ｒ^１０５）_ｓＳｉ−Ｒ^１０６−Ｓ_ｋ−Ｒ^１０７−Ｓ_ｋ−Ｒ^１０６−Ｓｉ（ＯＲ^１０４）_３−ｔ（Ｒ^１０５）_ｔ ・・・（Ｅ２）
（一般式（Ｅ２）中、Ｒ^１０４は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数１〜８の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基、炭素数２〜８の直鎖もしくは分枝のアルコキシアルキル基または水素原子であり、Ｒ^１０５は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数１〜８の直鎖、環状もしくは分枝のアルキル基であり、Ｒ^１０６は複数ある場合には同一でも異なっていてもよく、各々炭素数１〜８の直鎖もしくは分枝のアルキレン基である。Ｒ^１０７は一般式（−Ｓ−Ｒ^１０８−Ｓ−）、（−Ｒ^１０９−Ｓ_ｍ１−Ｒ^１１０−）および（−Ｒ^１１１−Ｓ_ｍ２−Ｒ^１１２−Ｓ_ｍ３−Ｒ^１１３−）からなる群より選択される二価の基（Ｒ^１０８〜Ｒ^１１３は各々炭素数１〜２０の二価の炭化水素基、二価の芳香族基、または硫黄および酸素以外のヘテロ原子を含む二価の有機基であり、ｍ１、ｍ２およびｍ３は同一でも異なっていてもよく、各々平均値として１以上４未満である）であり、複数あるｋは同一でも異なっていてもよく、各々平均値として１〜６であり、ｓおよびｔは各々平均値として０〜３である。但し、ｓおよびｔの両方が３であることはない）

一般式（Ｅ１）の化合物としては、例えば、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（３−トリメトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（３−メチルジメトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（２−トリエトキシシリルエチル）テトラスルフィド、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（３−トリメトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（３−メチルジメトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（２−トリエトキシシリルエチル）ジスルフィド、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）トリスルフィド、ビス（３−トリメトキシシリルプロピル）トリスルフィド、ビス（３−メチルジメトキシシリルプロピル）トリスルフィド、ビス（２−トリエトキシシリルエチル）トリスルフィド、ビス（３−モノエトキシジメチルシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（３−モノエトキシジメチルシリルプロピル）トリスルフィド、ビス（３−モノエトキシジメチルシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（３−モノメトキシジメチルシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（３−モノメトキシジメチルシリルプロピル）トリスルフィド、ビス（３−モノメトキシジメチルシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（２−モノエトキシジメチルシリルエチル）テトラスルフィド、ビス（２−モノエトキシジメチルシリルエチル）トリスルフィド、ビス（２−モノエトキシジメチルシリルエチル）ジスルフィドなどが挙げられる。

一般式（Ｅ２）の化合物としては、例えば、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_１０−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ_３−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ_４−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_４−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_６−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２．５−（ＣＨ_２）_６−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_３−（ＣＨ_２）_６−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_４−（ＣＨ_２）_６−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−（ＣＨ_２）_１０−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_１０−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ_４−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_４−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_４−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、平均組成式（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_６−Ｓ_２−（ＣＨ_２）_６−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３などが挙げられる。

シランカップリング剤（Ｅ）の配合量としては、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して２質量部以上であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜調整することができる。シランカップリング剤（Ｅ）の配合量は、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して２〜２０質量部であることが好ましく、４〜１２質量部であることがより好ましい。この範囲であると、シリカとの反応性が向上する点で有利である。

充填剤（Ｃ）の配合量（質量）に対するシランカップリング剤（Ｅ）の配合量（質量）の割合（シランカップリング剤（Ｅ）の配合量／充填材（Ｃ）の配合量）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜調整することができる。シランカップリング剤（Ｅ）の配合量／充填材（Ｃ）の配合量としては、０．０１〜０．２０が好ましく、０．０３〜０．２０がより好ましく、０．０４〜０．１０が特に好ましい。この範囲であると、低ロス性を向上させながら、ゴム組成物の製造コストを低減することができる。

＜加硫剤（Ｆ）＞
加硫剤（Ｆ）としては、特に制限はなく、公知の加硫剤から目的に応じて適宜選択することができる。加硫剤（Ｆ）としては、例えば、硫黄などが挙げられる。

加硫剤（Ｆ）の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜調整することができる。加硫剤（Ｆ）の配合量は、ゴム成分（Ａ）１００質量部に対して、０．１〜２．０質量部が好ましく、１．０〜２．０質量部がより好ましく、１．２〜１．８質量部が特に好ましい。

＜その他の成分＞
ゴム組成物に含まれるその他の成分としては、上述した成分の他に、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、加硫促進助剤、有機酸化合物等を適宜選択して配合することができる。これら配合剤としては、市販品を好適に使用することができる。

（タイヤ）
本発明に係るタイヤは、上述した製造方法によって得られたゴム組成物をトレッドゴムに用いたことを特徴とする。本発明のタイヤは、低ロス性およびウェットグリップ性を両立させたタイヤである。

本発明に係るタイヤの製造方法は、上述した製造方法によって得られたゴム組成物をトレッドゴムに用いること以外は、特に限定されず、公知のタイヤの製造法を用いることができる。例えば、上述した製造方法によって得られたゴム組成物をトレッドゴムに用いて生タイヤを成形し、その生タイヤを加硫することで製造することができる。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、これらの実施例は、本発明の例示を目的とするものであり、本発明を何ら限定するものではない。

実施例で用いた材料の詳細は以下のとおりである。
（ゴム成分Ａ）
第２のポリマー：天然ゴム（ＮＲ）、ＲＳＳ＃３、Ｔｇ_２＝−７３℃
変性剤：Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）−３−［ジエトキシ（メチル）シリル］プロピルアミン、一般式（ＩＶ）のヒドロカルビルオキシシラン化合物に相当
（熱可塑性樹脂Ｂ）
Ｃ_９系樹脂：ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社製の商品名日石ネオポリマー１４０
ジシクロペンタジエン樹脂（ＤＣＰＤ）：日本ゼオン株式会社製の商品名クイントン１１０５
Ｃ_５〜Ｃ_９系樹脂：エクソンモービルケミカル社製の商品名ＥＣＲ２１３
Ｃ_５系樹脂：エクソンモービルケミカル社製の商品名エスコレッツ（登録商標）１１０２Ｂ
（充填剤Ｃ）
シリカ：東ソー・シリカ株式会社製の商品名ＮｉｐＳｉｌ ＡＱ
（化合物Ｄ）
グアニジン：１，３−ジフェニルグアニジン（ＤＰＧ）、三新化学工業株式会社製の商品名サンセラーＤ
スルフェンアミド：Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、三新化学工業株式会社製の商品名サンセラーＮＳ−Ｇ
チアゾール：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド、大内新興化学工業株式会社製の商品名ノクセラーＤＭ
（シランカップリング剤Ｅ）
シランカップリング剤：ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、エボニックデグッサ社製の商品名Ｓｉ７５

（変性ＳＢＲの調製）
乾燥し、窒素置換した８００ｍＬの耐圧ガラス容器に、１，３−ブタジエンのシクロヘキサン溶液およびスチレンのシクロヘキサン溶液を、１，３−ブタジエン６７．５ｇおよびスチレン７．５ｇになるように加え、２，２−ジテトラヒドロフリルプロパン０．６ｍｍｏｌを加え、０．８ｍｍｏｌのｎ−ブチルリチウムを加えた後、５０℃で１．５時間重合を行った。この際の重合転化率がほぼ１００％となった重合反応系に対し、変性剤を０．７２ｍｍｏｌ添加し、５０℃で３０分間変性反応を行った。その後、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）のイソプロパノール５質量％溶液２ｍＬを加えて反応を停止させ、常法に従い乾燥して変性ＳＢＲを得た。得られた変性ＳＢＲのミクロ構造を測定した結果、結合スチレン量が１０質量％、ブタジエン部分のビニル結合量が４０％、ピーク分子量が２００，０００であった。

（比較未変性ＳＢＲの調製）
重合反応までを行い、変性反応を行わなかったこと以外は、変性ＳＢＲの重合反応と同様にして、未変性ＳＢＲを得た。得られた未変性ＳＢＲのミクロ構造を測定した結果、結合スチレン量が１０質量％、ブタジエン部分のビニル結合量が４０％、ピーク分子量が２００，０００であった。

（実施例１〜１３および比較例１〜２）
表１に示す配合および混練方法により、ゴム組成物を調製した。第１の混練段階における混合物の最高温度は、いずれも１５０℃となるように調整した。第１の混練段階の後に第２の混練段階を行った。混練りは、バンバリミキサーを用いて混練した。

得られた各ゴム組成物について、後述する方法により以下の（１）および（２）の評価を行った。（１）および（２）については、後述する方法により測定した。評価結果を表１に合わせて示す。
（１）低ロス性（ｔａｎδ）
（２）ウェットグリップ性

＜性能評価＞
（１）低ロス性（６０℃ｔａｎδ指数）
各ゴム組成物について、損失正接（ｔａｎδ）を、粘弾性測定装置（レオメトリックス社製）を用いて、温度５０℃、歪み５％、周波数１５Ｈｚの条件で測定した。得られたｔａｎδの値は、比較例１の値を１００として、指数表示した。指数値が大きいほど低ロス性に優れる。

（２）ウェットグリップ性
得られたゴム組成物を１４５℃で３３分間加硫して得られた加硫ゴムを用いて、ブリティッシュ・ポータブル・スキッド・テスターを用いて、湿潤コンクリート路面に対する試験片（加硫ゴム）の抵抗値を測定した。評価結果は、比較例１の値を１００として、指数表示した。数値が大きいほど、ウェットグリップ性に優れる。

比較例１に対して、第１混練段階でチオウレア（化合物（Ｄ））を混練した比較例２では、ウェットグリップ性が僅かに低下した。これに対して、変性ＳＢＲを使用した実施例１では、低ロス性とウェットグリップ性を両立していた。さらに、第２の混練段階で熱可塑性樹脂（Ｂ）を混練した実施例４〜１３では、低ロス性とウェットグリップ性を高度に両立していた。

本発明によれば、低ロス性およびウェットグリップ性を両立することができるゴム組成物の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、低ロス性およびウェットグリップ性を両立させたタイヤを提供することができる。

Claims (7)

1. ゴム組成物を混練する混練工程を含む、ゴム組成物の製造方法であって、
   前記ゴム組成物が、ゴム成分（Ａ）；シリカを含む充填剤（Ｃ）を前記ゴム成分１００質量部に対して２０〜１２０質量部；グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チオウレアおよびジエチルチオウレアの中から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）；シランカップリング剤（Ｅ）；ならびに加硫剤（Ｆ）；を含み、
   前記ゴム成分（Ａ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０℃以下である変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムと、当該変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムと異なる第２のポリマーとからなり、
   前記ゴム成分（Ａ）は、ゴム成分（Ａ）の総量に対して、前記変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムを３０〜６０質量％、前記第２のポリマーを７０〜４０質量％含み、
   前記第２のポリマーが、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴムまたはブタジエンゴムであり、
   前記ゴム成分（Ａ）に含まれる全ての成分のガラス転移温度が、−５０℃以下であり、
   前記充填剤（Ｃ）中のシリカの含有量が９０質量％以上であり、
   前記混練工程が、
   前記ゴム成分（Ａ）、前記充填剤（Ｃ）、前記化合物（Ｄ）の一部または全部、前記ゴム成分１００質量部に対して２質量部以上の前記シランカップリング剤（Ｅ）、を混練する第１の混練段階と、
   前記第１の混練段階の後に、前記第１の混練段階における混練によって調製された混練物と前記加硫剤（Ｆ）とを混練する第２の混練段階とからなることを特徴とする、ゴム組成物の製造方法。
2. 前記第２の混練段階において、前記ゴム成分１００質量部に対して、Ｃ₅系樹脂、Ｃ₅〜Ｃ₉系樹脂、Ｃ₉系樹脂、テルペン系樹脂、テルペン−芳香族化合物系樹脂、ロジン系樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂およびアルキルフェノール系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂（Ｂ）を１５〜５０質量部含む、請求項１に記載のゴム組成物の製造方法。
3. 前記変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムのガラス転移温度Ｔｇ_１と、前記第２のポリマーのガラス転移温度Ｔｇ_２が、０＜｜Ｔｇ_１−Ｔｇ_２｜≦２０の関係を満たし、前記変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムと第２のポリマーは、互いにサブミクロンオーダーで相分離している、請求項１または２に記載のゴム組成物の製造方法。
4. 前記変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムの相のドメイン幅が、２００ｎｍ以下である、請求項３に記載のゴム組成物の製造方法。
5. 前記変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムの相に存在する充填剤（Ｃ）の平均凝集塊面積が、２１００ｎｍ^２以下である、請求項３または４に記載のゴム組成物の製造方法。
6. 前記変性スチレン−ブタジエン共重合体ゴムが、下記一般式（ＩＶ）：
   

   

   （一般式（ＩＶ）中、ｑ１＋ｑ２＝３（但し、ｑ１は０〜２の整数であり、ｑ２は１〜３の整数である）であり、Ｒ^３１は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^３２およびＲ^３３はそれぞれ独立して加水分解性基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^３４は炭素数１〜２０の一価の脂
   肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｑ１が２の場合には同一でも異なっていてもよく、Ｒ^３５は炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｑ２が２以上の場合には同一でも異なっていてもよい）；または
   下記一般式（Ｖ）：
   

   

   （一般式（Ｖ）中、ｒ１＋ｒ２＝３（但し、ｒ１は１〜３の整数であり、ｒ２は０〜２の整数である）であり、Ｒ^３６は炭素数１〜２０の二価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の二価の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^３７はジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノメチル基、ジエチルアミノエチル基、メチルシリル（メチル）アミノメチル基、メチルシリル（メチル）アミノエチル基、メチルシリル（エチル）アミノメチル基、メチルシリル（エチル）アミノエチル基、ジメチルシリルアミノメチル基、ジメチルシリルアミノエチル基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｒ１が２以上の場合には同一でも異なっていてもよく、Ｒ^３８は炭素数１〜２０のヒドロカルビルオキシ基、炭素数１〜２０の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の一価の芳香族炭化水素基であり、ｒ２が２の場合には同一でも異なっていてもよい）で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物で変性されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載のゴム組成物の製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法によって得られたゴム組成物をトレッドゴムに用いて生タイヤを成形し、当該生タイヤを加硫することを特徴とする、タイヤの製造方法。