JP6799790B2 - 接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法 - Google Patents

接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6799790B2
JP6799790B2 JP2016237027A JP2016237027A JP6799790B2 JP 6799790 B2 JP6799790 B2 JP 6799790B2 JP 2016237027 A JP2016237027 A JP 2016237027A JP 2016237027 A JP2016237027 A JP 2016237027A JP 6799790 B2 JP6799790 B2 JP 6799790B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
bonding material
joining
joint
carbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016237027A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018090460A (ja
Inventor
秀敏 北浦
秀敏 北浦
坂口 茂樹
茂樹 坂口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2016237027A priority Critical patent/JP6799790B2/ja
Priority to EP17201231.2A priority patent/EP3335828A1/en
Priority to US15/817,344 priority patent/US20180154612A1/en
Priority to CN201711258638.5A priority patent/CN108155161B/zh
Publication of JP2018090460A publication Critical patent/JP2018090460A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6799790B2 publication Critical patent/JP6799790B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/10Interconnection of layers at least one layer having inter-reactive properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B1/00Layered products having a non-planar shape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/043Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/005Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
    • B32B9/007Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile comprising carbon, e.g. graphite, composite carbon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B9/041Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/08Non-ferrous metals or alloys
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/033 layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/302Conductive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/54Yield strength; Tensile strength
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/546Flexural strength; Flexion stiffness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/708Isotropic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/732Dimensional properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4871Bases, plates or heatsinks
    • H01L21/4882Assembly of heatsink parts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、高熱伝導を必要とするヒートスプレッダーやヒートシンク等に使用可能な接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法に関する。
炭素材と他の部材との接合のための接合材としては、例えば、複数の炭素粒子と、セラミックス部とを有するセラミックス−炭素複合材が知られている(特許文献1)。セラミックス−炭素複合材のセラミックス部には、具体的には窒化アルミニウム、炭化ケイ素が用いられている。このセラミックス−炭素複合材は、例えば、1700〜2100℃に加熱、加圧することによって焼成させることにより、金属材と接合することができるものである。また、銀、銅およびチタンから構成されているインサート材を用いて銅板などと接合される、グラファイトから構成される接合体もまた知られている(引用文献2)。引用文献2に記載される接合体は、グラフェンシートを積層することによって得られるプレート状の接合体であり、接合する部材と接合体との間にインサート材を介在させた状態で加圧することにより部材と接合することができるものである。
特開2012−246172号公報 特許第5930604号
しかしながら、特許文献1に記載の接合材によって接合される炭素は、接合材の中に粒子状で含まれている必要があるため、例えば板状に形成された炭素材を特許文献1に記載の接合材によって他の部材に接合させることは難しい。さらに、炭素粒子とセラミックス部とを高温で焼成することによって金属材と炭素粒子とを接合させているため、焼成後(すなわち接合後)のセラミックス−炭素複合材が柔軟性に乏しいという問題がある。
また、特許文献2の接合体を用いた接合構造体は、銀、銅およびチタンから構成されているインサート材のヤング率(銀:100GPa、銅:136GPa)が高く変形しにくいために、製造工程における冷却時の熱収縮により、高い応力が接合部に発生しクラックが発生するおそれがある。
本発明は前記課題を解決するためになされたものであり、任意の形状の部材同士を固定することができ、特に炭素材と強固に接合する、柔軟性を有する接合部を形成することができる接合材を提供することを目的とする。
前記課題を解決するため、本発明の接合材は、スズおよび炭素と化合物を形成し得る少なくとも1種の元素(化合物形成性元素)を0.1wt%以上5wt%以下含み、残部にSnを主成分として含む。
本明細書において「スズおよび炭素と化合物を形成し得る少なくとも1種の元素(化合物形成性元素)」とは、スズおよび炭素と化合物を形成する任意の元素をいう。化合物形成性元素が2種類以上あるとき、接合材における化合物形成性元素の含有率(wt%)とは、接合材の総重量に対する、接合材に含まれる2種類以上の化合物形成性元素の重量の和の割合を示している。
本明細書において「主成分」とは、接合材に含まれる元素の中で最も存在比率が高い元素を意味する。
また、一実施形態の接合材において、化合物形成性元素はチタン、ジルコニウム、バナジウムの少なくとも1つを含む。
また、一実施形態の接合体の製造方法において、上述した実施形態の接合材を用いて第一部材と第二部材とを接合することにより、接合体が提供される。
本明細書において「第一部材」および「第二部材」とは、接合材によって互いに固定される接合部材をいう。
また、一実施形態の接合体の製造方法において、前記第一部材と前記第二部材の少なくとも一方が炭素材であり、前記接合材と炭素材との界面に、前記化合物形成性元素とスズと炭素の化合物から成る化合物層を形成する工程が含まれる。
本明細書において「炭素材」とは、接合材によって固定される、任意の形状を有する炭素でできた接合部材をいう。
また、一実施形態の接合体の製造方法において、前記第一部材と前記第二部材はいずれも炭素材であり、前記接合材と炭素材との界面に、前記化合物形成性元素とスズと炭素の化合物から成る化合物層を形成する工程が含まれる。
また、一実施形態の接合体は、第一部材と、第二部材と、第一部材と第二部材との間に存在する接合部とから成る接合体であって、第一部材と第二部材の少なくとも一方が炭素材であり、炭素材と接合部の界面に化合物形成性元素を含む化合物層が存在する。
また、一実施形態の接合体は、第一部材と、第二部材と、第一部材と第二部材との間に存在する接合部とから成る接合体であって、第一部材と第二部材はいずれも炭素材であり、炭素材と接合部の界面に化合物形成性元素を含む化合物層が存在する。
また、一実施形態の接合体において、化合物形成性元素がチタン、ジルコニウム、バナジウムの少なくとも1つを含む。
本発明によれば、任意の形状の部材同士を固定することができ、特に炭素材と強固に接合する、柔軟性を有する接合部を形成することができる接合材が提供される。加えて、部材同士が柔軟性を有する接合部により固定され、特に炭素材が存在する場合には、接合部が炭素材と強固に接合した接合体が提供される。さらに、部材同士を固定することができ、特に炭素材が存在する場合には、炭素材と強固に接合することができる、柔軟性を有する接合部を有する接合体の製造方法が提供される。
接合体の製造方法の説明図である。 接合体の製造方法の説明図である。 接合体の断面の電子顕微鏡画像である。 接合体の断面の電子顕微鏡画像の上に、各層が広がる方向に対して垂直な方向における位置の変化に伴う各元素濃度の推移を示した図である。 熱伝導性と柔軟性の評価試験のための装置の模式図である。
以下、本発明の実施の形態である接合材について図面を参照しながら説明する。
<接合材>
本発明における接合材は、化合物形成性元素を0.1wt%以上5%以下含有し、残部にスズを主成分として含む合金である。
化合物形成性元素は、スズおよび炭素の両方と化合物を形成することができる元素であれば特に限定されないが、例えば、チタン、ジルコニウム、バナジウム等を使用することができる。
接合材の化合物形成性元素の含有量が0.1wt%以上であることにより、接合部材が炭素材である場合に、接合部と接合部材(第一部材および第二部材)との界面に十分な量の化合物が形成され、接合部と接合部材との界面に引っ張り強度の高い良好な接合を形成することができる。また、接合材における化合物形成性元素の含有量が5wt%以下であることにより、接合材を用いて形成される接合部の熱伝導性の低下を防ぐことができると同時に、接合部材が炭素材である場合に接合部と接合部材との間に形成される化合物層においてクラックが発生することを防ぐことができる。
接合材の残部はスズのみから成るものであってよく、このとき、接合材に含まれる化合物形成性元素が1種類であるならば、接合材は1種類の化合物形成性元素と主成分であるスズとから成る二元系合金である。また、接合材の残部は主成分であるスズを含む複数の元素から成るものであってもよく、このとき接合材は化合物形成性元素と主成分であるスズを含む複数の元素とから成る多元系合金である。
以下、本発明の実施の形態である接合体とその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
はじめに、図1Aに示すように、第一部材101と第二部材102と接合材103とを準備する。
第一部材101および第二部材102は、接合材によって互いに固定される炭素材である。図示した実施の形態において第一部材101および第二部材102は炭素材であるが、接合材によって固定される部材は、銅、ニッケルおよびアルミ等でできた部材であってもよい。接合部材の種類がこのように様々であり得るのは、上述したように、接合材103の主成分であるスズが、様々な金属と界面反応を生じ得るためである。第一部材101および第二部材102は任意の炭素材であってよく、例えば高配向性グラファイトシート、膨張黒鉛シート、等方黒鉛等を用いることができるが、これに限定されない。
第一部材101および第二部材102は、400W/m・K以上の熱伝導率を有することが好ましい。第一部材101および第二部材102がこのような熱伝導率を有することにより、形成された接合体をヒートスプレッダーとして利用することができる。
第一部材101および第二部材102は、製造の容易性に関して、縦の長さが200mm以下であり、横の長さが200mm以下であり、かつ、0.5mm以下の厚みを有することが好ましいが、これに限定されず、様々な寸法を有し得る。
接合材103の形状は特に限定されず、例えばフィルム状であってもよく、転写することができるペースト状であってもよい。接合材103の厚みは0.01mm以上であることが好ましい。接合材がこのような厚みを有することにより、第一部材101と第二部材102とを隙間なく接合することが可能になる。
次に、図1Aに示される第一部材101と第二部材102と接合材103とに対して、得られる接合部107が所望の厚みになるように圧力を掛けながら、任意の時間に亘って窒素雰囲気下でホットプレスを行い、続いて冷却することによって、図1Bに示すように、第一部材101と第二部材102と、接合材層106および化合物層105から成る接合部107とを有する接合体104を形成する。
ホットプレスを行う温度は、接合材に含有される元素の種類と割合によってさまざまであり得るが、接合材103の融点以上であればよく、例えば250℃以上1500℃以下であってよい。ホットプレスを行う時間は、接合材に含有される元素の種類と割合によってさまざまであり得るが、例えば10分間であってよい。
接合部107は、接合材103をホットプレスすることにより形成され、接合材層106と化合物層105とから成る。
化合物層105は、接合部107の一部であり、第一部材101および第二部材102と、接合部107との界面に存在する。化合物層105は、化合物形成性元素とスズと炭素の化合物から成る。このような化合物層105が接合部107に存在することにより、第一部材101と第二部材102とは、接合部107によって原子レベルで非常に強固に接合されるようになり、接合体104の強度を高めることができる。
化合物層105における化合物形成性元素の濃度は、接合材103における化合物形成性元素の濃度よりも高い。これは、接合材103に含有されていた化合物形成性元素が、接合体104形成時に化合物層105へ濃化するためである。化合物層105の組成は、接合材103に含有される元素の種類と割合によって様々であり得るが、概ね50wt%以上80wt%以下の化合物形成性元素と、1wt%以上15wt%以下のスズと、5wt%以上49wt%以下の炭素とを含むことが好ましい。
化合物層105の厚さは0.1μm以上10μm以下であり、より好ましくは0.1μm以上6μm以下である。化合物層105の厚さが0.1μm以上であることによって接合部材と接合部とが十分な量の化合物形成性元素とスズと炭素の化合物により接合されるため、接合体104は引っ張り強度の高い良好な接合を有するようになる。化合物層105の厚さが10μm以下であることにより、化合物層105は接合体104の変形に追従するため、接合体104が破損しにくくなる。
接合材層106は、接合部107の一部であり、接合体104の形成に際して、第一部材101および第二部材102に含まれる元素の接合材103への拡散が生じなかった部分である。接合材103に含有されていた化合物形成性元素は、接合体104形成時に化合物層105へ濃化する。このため、接合材層106におけるスズの濃度は、スズを主成分とする接合材103におけるスズの濃度よりもさらに高い。上述したとおり、接合材層106はヤング率が61GPaである金属のスズが主成分であるために、一般的なセラミックスに比べて非常に軟らかい。このような接合材層106が接合部107に存在することにより、第一部材101と第二部材102とが柔軟な接合部107によって接合されるようになり、接合体104におけるクラックなどの破損を効果的に低減することができる。
本発明の接合体を以下の実施例1〜12で示すように作製した。
第一部材101および第二部材102には、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.1mmの厚みを有する高配向性グラファイトを使用した。接合材103には化合物形成性元素であるチタンを0.1wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用した。
はじめに、2枚の接合部材101、102の間に接合材103を設置した。次に、加熱炉において接合部107の厚みが0.01mmになるようにプレス圧を制御しながら、550℃において10分間ホットプレスを行った。最後に、自然冷却を行って接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるチタンを2wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
第一部材101および第二部材102は、実施例1と同じものを使用した。接合材103には、化合物形成性元素であるチタンを5wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.015mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用した。
はじめに、2枚の接合部材101、102の間に接合材103を設置した。次に、加熱炉において接合部107の厚みが0.015mmになるようにプレス圧を制御しながら、550℃において10分間ホットプレスを行った。最後に、自然冷却を行って接合体104を作製した。
第一部材101および第二部材102に、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.5mmの厚みを有する高配向性グラファイトを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるチタンを1wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例4と同じにして、接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるチタンを5wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例4と同じにして、接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるジルコニウムを0.1wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
第一部材101および第二部材102は、実施例4と同じものを使用した。接合材103に、化合物形成性元素であるバナジウムを5wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.015mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用した。
はじめに、2枚の接合部材101、102の間に接合材103を設置した。次に、加熱炉において接合部107の厚みが0.015mmになるようにプレス圧を制御しながら、550℃において10分間ホットプレスを行った。最後に、自然冷却を行って接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるチタンを0.5wt%、ジルコニウムを0.5wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるチタンを0.05wt%、バナジウムを0.05wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるジルコニウムを2.5wt%、バナジウムを2.5wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.015mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例3と同じにして、接合体104を作製した。
接合材103に、化合物形成性元素であるチタンを1wt%、ジルコニウムを1wt%、バナジウムを1wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
(比較例1)
比較例として、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.2mmの厚みを有する高配向性グラファイトを準備した。
(比較例2)
比較例として、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、1mmの厚みを有する高配向性グラファイトを準備した。
(比較例3)
接合材103に、チタンを0.05wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.01mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例1と同じにして、接合体104を作製した。
(比較例4)
接合材103に、チタンを5.5wt%含有し、残部がスズである合金を、縦の長さが200mmであり、横の長さが200mmであり、かつ、0.015mmの厚みを有するフィルム状に加工したものを使用し、それ以外の条件を実施例3と同じにして、接合体104を作製した。
実施例1〜12および比較例3〜4で作成した接合体104を、断面を電子顕微鏡で観察することによって評価した。図2Aは、本発明の実施例1において作製した接合体の断面の電子顕微鏡画像である。第一部材101と接合材層106との界面には化合物層105がほぼ均一に一層形成されているため、第一部材101と接合材層106とは、確実に接合されていることが分かる。
さらに、電子顕微鏡で観察した断面の一部に対して元素分析を行い、各層が広がる方向に対して垂直な方向における位置の変化に伴う各元素濃度の推移を調べた。図2Bは図2AのLの破線ライン部の元素分析結果を電子顕微鏡画像にプロットした図である。接合材層106ではスズ(Sn)が最も高い割合で検出された。接合体104の化合物層105は厚みが0.4μmであり、その組成比は、チタン/スズ/炭素=55wt%/10wt%/35wt%であった。これにより、化合物層105において3つの元素を含む化合物が形成されていることが確認された。
次に、実施例1〜12および比較例3〜4で作成した接合体104の熱伝導性および柔軟性と、比較例1〜2で準備した高配向性グラファイトの熱伝導性とを、図3に示す試験装置を用いて評価した。はじめに、実施例および比較例で作製したサンプルを、縦40mm、横10mmの長方形の形状に切断した。これは、ヒートスプレッダーとして基板に配置される際の形状を模擬したものである。平面板301に固定冶具302にて固定した接合体サンプル303を押さえ冶具304で平面板301に押し当てて評価を行った。固定冶具302の上部には発熱体305があり発熱体305と接合体サンプル303の界面の入力温度測定用熱伝対306にて入力温度を測定している。今回の評価では、入力温度測定用熱伝対306の入力温度が55℃になるように発熱体の温度制御を行った。発熱体305からの熱が伝わり上昇した接合体サンプル303の温度を、伝達温度測定用熱伝対307で測定し、これを伝達温度とした。伝達温度と入力温度の差を計算することによって熱伝導性を評価した。試験は、押さえ冶具304を25℃の水を用いて毎分1リットルの流量で水冷しながら行った。
固定冶具302には幅wが10mm、奥行きが10mm、高さhが2mmのものを用いた。押さえ冶具304には幅Wが10mm、奥行きが10mm、高さが15mmのものを用いた。固定冶具302の端部と押さえ冶具304の端部との距離Lは15mmであった。発熱体305は幅5mm、奥行き5mm、高さ3mmのものを用い、これを上部の固定冶具302の下面中央に設置した。入力温度測定用熱伝対306は発熱体305の下面の中央表面に設置した。伝達温度測定用熱伝対307は、押さえ冶具304の下面の中央と伝達温度測定用熱伝対307とで接合体サンプル303を挟むように設置した。
以下の表1に、上記試験および観察によって得られた実施例1〜12、比較例1〜4の化合物層の厚さと、化合物層の組成比と、熱伝導性および柔軟性の試験結果および評価結果とを示した。
熱伝導性の判定は、接合材を用いていない比較例1および2の高配向性グラファイトに対して上記試験を行うことにより測定された温度差と、各実施例における試験結果の温度差とから計算される熱伝導性の低下率に基づいて行う。熱伝導性の低下率は、実施例1を例に説明すると、実施例1の接合部材101、102の厚みの合計と同じ厚みを有する、比較例1の高配向性グラファイトの温度差に対する、実施例1の温度差と比較例1の温度差との差の割合であって、(12.7−12)/12×100=5.8%と計算される。
低下率が10%以下の場合は◎、10%より大きく16%より小さい場合は○、16%以上の場合は×とした。判定が◎である場合、放熱部材として製品に用いたとしても十分な放熱性を有し、CPUの性能の低下がない。判定が○である場合、CPUの性能低下がないが、温度上昇が生じる。判定が×である場合、発熱を逃がすことができないため、CPUが動かなくなる。
柔軟性の判定基準は、熱伝導性評価後に断面観察を行い、接合材層や化合物層にクラックがなければ○、クラックがあれば×とした。
実施例1〜3の接合体は、接合部材の厚みがそれぞれ0.1mmであり、接合材のチタン含有量が0.1wt以上5wt%以下であった。このような接合体の温度差は12.7℃以上13.5℃以下であり、低下率が5.8%以上12.5%以下であった。これは比較例1の接合材を用いていない炭素材だけの温度差12℃とほぼ同等であり、良好な熱伝達性が得られた。断面観察の結果においても接合材層や化合物層にクラックは見られなかった。
実施例4〜6の接合体は、接合部材の厚みがそれぞれ0.5mmであり、接合材のチタン含有量が0.1wt以上5wt%以下であった。このような接合体の温度差は3.2℃以上3.4℃以下であり、低下率が6.7%以上13.3%以下であった。これは比較例2の接合材を用いていない炭素材だけの温度差3℃とほぼ同等であり、良好な熱伝達性が得られた。断面観察の結果においても接合材層や化合物層にクラックは見られなかった。
一方で、比較例3〜4の接合体は、接合部材の厚みがそれぞれ0.1mmであり、接合材のチタン含有量は比較例3が0.05wt%、比較例4が5.5wt%であった。接合体の温度差は比較例3が17℃、比較例4が16℃であり、低下率は比較例3が41.7%、比較例4が33.3%であった。また、断面観察の結果、比較例3では、接合材が炭素材に濡れ拡がらず空隙が多数存在していた。これにより、比較例3の熱伝導性は比較例1と比較して大きく低下したものと考えられる。また、比較例4では、断面観察の結果クラックが発見された。電子顕微鏡で観察したところ、化合物層105が11μmに亘って形成されていたため、Snを多く含む接合材層が少なくなり、接合部107の柔軟性が失われ、クラックが発生したものと考えられる。そしてクラックが生じたために、熱伝導性が大きく損なわれたものと考えられる。
実施例7の接合体は、化合物形成性元素であるジルコニウムを0.1wt%用いており、接合部材の厚みはそれぞれ0.1mmであった。このような接合体の温度差は12.9℃であり、低下率は7.5%であった。これは比較例1の接合材を用いていない炭素材だけの温度差12℃とほぼ同等であり、良好な熱伝達性が得られている。断面観察の結果からも接合材や接合層にクラックは見られなかった。
実施例8の接合体は、化合物形成性元素であるバナジウムを5wt%用いており、接合材の厚みはそれぞれ0.5mmであった。このような接合体の温度差は3.4℃であり、低下率は13.3%であった。これは比較例2の接合材を用いていない炭素材だけの温度差3℃とほぼ同等であり、良好な熱伝達性が得られている。断面観察の結果からも接合材や接合層にクラックは見られなかった。
実施例9〜12の接合体は、スズおよび炭素と化合物を形成する複数の化合物形成性元素を、その合計が0.1wt%以上5wt%以下になるように用いており、接合材の厚みはそれぞれ0.1mmであった。このような接合体の温度差は12.8℃以上13.6℃以下であり、低下率が6.7%以上13%以下であり、放熱部材として製品に用いたとしても、CPUの性能を低下させない良好な熱伝達性が得られた。断面観察の結果においても接合材層や化合物層にクラックは見られなかった。
本発明の接合材により提供される接合部は、強固であり、放熱性を有しかつ柔軟性を有するため、半導体や産業機器等の発熱部においても使用することができる。
101 第一部材
102 第二部材
103 接合材
104 接合体
105 化合物層
106 接合材層
107 接合部
301 平面板
302 固定冶具
303 接合体サンプル
304 押さえ冶具
305 発熱体
306 入力温度測定用熱伝対
307 伝達温度測定用熱伝対

Claims (3)

  1. 第一部材と、第二部材と、第一部材と第二部材との間に存在する接合部とから成る接合
    体であって、
    前記第一部材と前記第二部材の少なくとも一方が炭素材であり、
    前記炭素材と前記接合部の界面にチタン、ジルコニウム及びバナジウムの少なくとも1種の元素を含む化合物層が存在し、
    前記化合物層の厚さは、0.1μm以上6μm以下である、接合体。
  2. 前記第一部材と前記第二部材がいずれも炭素材である、請求項1に記載の接合体。
  3. 前記化合物層の組成は、50wt%以上68wt%以下のチタン、ジルコニウム及びバナジウムの少なくとも1種の元素と、5wt%以上15wt%以下のスズと、27wt%以上35wt%以下の炭素とを含む、請求項1または2に記載の接合体
JP2016237027A 2016-12-06 2016-12-06 接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法 Active JP6799790B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016237027A JP6799790B2 (ja) 2016-12-06 2016-12-06 接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法
EP17201231.2A EP3335828A1 (en) 2016-12-06 2017-11-13 Bonding material, bonded body obtained by the same, and manufacturing method of bonded body
US15/817,344 US20180154612A1 (en) 2016-12-06 2017-11-20 Bonding material, bonded body obtained by the same, and manufacturing method of bonded body
CN201711258638.5A CN108155161B (zh) 2016-12-06 2017-12-04 接合材料、由接合材料获得的接合体和接合体的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016237027A JP6799790B2 (ja) 2016-12-06 2016-12-06 接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018090460A JP2018090460A (ja) 2018-06-14
JP6799790B2 true JP6799790B2 (ja) 2020-12-16

Family

ID=60569558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016237027A Active JP6799790B2 (ja) 2016-12-06 2016-12-06 接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20180154612A1 (ja)
EP (1) EP3335828A1 (ja)
JP (1) JP6799790B2 (ja)
CN (1) CN108155161B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018093119A (ja) * 2016-12-06 2018-06-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 ヒートシンク
US11476399B2 (en) * 2017-11-29 2022-10-18 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Jointing material, fabrication method for semiconductor device using the jointing material, and semiconductor device
EP4026819A4 (en) * 2019-09-02 2023-12-06 Kabushiki Kaisha Toshiba ASSEMBLED BODY, CIRCUIT BOARD AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3484210A (en) * 1964-10-19 1969-12-16 Henry J Pinter Alloy coated carbon and graphite members having conductors soldered thereto
US3361561A (en) * 1964-10-19 1968-01-02 George E Schick Alloys for soldering conductors to carbon and graphite
JPS5930604B2 (ja) 1974-10-24 1984-07-27 石川島播磨重工業株式会社 都市ごみ空気輸送システムにおける圧力検出制御方法
EP0235546B1 (de) * 1986-02-19 1991-07-24 Degussa Aktiengesellschaft Verwendung einer Weichlotlegierung zum Verbinden von Keramikteilen
JPH0195893A (ja) * 1987-10-08 1989-04-13 Seiko Instr & Electron Ltd ろう材
DE19526822C2 (de) * 1995-07-15 1998-07-02 Euromat Gmbh Lotlegierung, Verwendung der Lotlegierung und Verfahren zum Verbinden von Werkstücken durch Löten
JP4151859B2 (ja) * 1998-10-09 2008-09-17 第一高周波工業株式会社 スパッタリング用ターゲット板の接合方法
JP2000326088A (ja) * 1999-03-16 2000-11-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd 無鉛ハンダ
JP2001058287A (ja) * 1999-06-11 2001-03-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd 無鉛ハンダ
EP1106301A1 (en) * 1999-06-11 2001-06-13 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Lead-free solder
JP2012246172A (ja) 2011-05-27 2012-12-13 Toyo Tanso Kk 金属材とセラミックス−炭素複合材との接合体及びその製造方法
CN103596905A (zh) * 2011-05-27 2014-02-19 东洋炭素株式会社 金属材料与陶瓷-碳复合材料的接合体、其制造方法、碳材料接合体、碳材料接合体用接合材料和碳材料接合体的制造方法
GB201312388D0 (en) * 2013-07-10 2013-08-21 Cambridge Entpr Ltd Materials and methods for soldering and soldered products
US20150118514A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Teledyne Scientific & Imaging, Llc. High Performance Thermal Interface System With Improved Heat Spreading and CTE Compliance

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018090460A (ja) 2018-06-14
US20180154612A1 (en) 2018-06-07
CN108155161A (zh) 2018-06-12
CN108155161B (zh) 2023-03-28
EP3335828A1 (en) 2018-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7155372B2 (ja) 接合体の製造方法および回路基板の製造方法
JP6799790B2 (ja) 接合材とそれにより得られる接合体と接合体の製造方法
JP2015043392A (ja) 接合体及びパワーモジュール用基板
JP5720839B2 (ja) 接合体及びパワーモジュール用基板
JP5991103B2 (ja) ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール、及びヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法
WO2021124923A1 (ja) 銅/セラミックス接合体、及び、絶縁回路基板
JP6455056B2 (ja) ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法及び加圧装置
JP6621068B2 (ja) 実装構造体
KR102422070B1 (ko) 히트 싱크가 부착된 절연 회로 기판의 제조 방법
TW201943030A (zh) 附散熱片的絕緣電路基板
JP2019081690A (ja) 接合体、及び、絶縁回路基板
JP5786569B2 (ja) パワーモジュール用基板の製造方法
JP6754973B2 (ja) グラファイト放熱板
JP6939973B2 (ja) 銅/セラミックス接合体、及び、絶縁回路基板
JP5904257B2 (ja) パワーモジュール用基板の製造方法
JP2017228693A (ja) 接合体、パワーモジュール用基板、接合体の製造方法、及び、パワーモジュール用基板の製造方法
WO2021193528A1 (ja) 接合体の製造方法及び絶縁回路基板の製造方法
JP5732814B2 (ja) セラミックス材と金属材との接合方法
JP2018157115A (ja) 絶縁回路基板の製造方法、及び、ヒートシンク付き絶縁回路基板の製造方法
JP6413230B2 (ja) 抵抗器及び抵抗器の製造方法
JP7039933B2 (ja) 接合体、絶縁回路基板、ヒートシンク付絶縁回路基板、ヒートシンク、及び、接合体の製造方法、絶縁回路基板の製造方法、ヒートシンク付絶縁回路基板の製造方法、ヒートシンクの製造方法
JP2017174853A (ja) 保持装置の製造方法
JP6769169B2 (ja) セラミックス基板とアルミニウム含浸炭化珪素多孔質体との接合体の製造方法
JP2019202331A (ja) 異種材料の接合方法および異種材料の接合体
JP5477223B2 (ja) セラミックス材と金属材との接合体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190627

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200522

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200623

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200819

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20201020

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201105

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6799790

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151