JP6797722B2 - Infrared sensor - Google Patents

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Description

この発明は、赤外線センサに関する。 The present invention relates to an infrared sensor.

従来、赤外線センサは、第一基板と、赤外線検出素子と、絶縁膜と、第二基板とを備える(例えば特許文献1参照)。赤外線検出素子は第一基板の上面に設けられており、赤外線を検出する。絶縁膜は、第一基板の上面に設けられている。第二基板は蓋状に形成されている。第二基板は、赤外線検出素子を覆った状態で絶縁膜の上面に接合されている。第二基板は、赤外線を透過可能に形成されている。 Conventionally, an infrared sensor includes a first substrate, an infrared detection element, an insulating film, and a second substrate (see, for example, Patent Document 1). The infrared detection element is provided on the upper surface of the first substrate and detects infrared rays. The insulating film is provided on the upper surface of the first substrate. The second substrate is formed in a lid shape. The second substrate is bonded to the upper surface of the insulating film while covering the infrared detection element. The second substrate is formed so as to be able to transmit infrared rays.

さらに、赤外線センサは、信号線と、出力端子とを備える。信号線は、第一基板に埋設されている。信号線は、赤外線検出素子に電気的に接続されている。出力端子は、絶縁膜の上面で第二基板よりも外側に設けられている。出力端子は、信号線に電気的に接続されている。次に、赤外線センサによる赤外線の検出にかかる処理を説明する。赤外線検出素子は、第二基板を透過した赤外線を検出すると検出信号を出力する。赤外線検出素子から出力された検出信号は、信号線を通り出力端子から出力される。 Further, the infrared sensor includes a signal line and an output terminal. The signal line is embedded in the first substrate. The signal line is electrically connected to the infrared detection element. The output terminal is provided on the upper surface of the insulating film and outside the second substrate. The output terminal is electrically connected to the signal line. Next, the process for detecting infrared rays by the infrared sensor will be described. The infrared detection element outputs a detection signal when it detects infrared rays transmitted through the second substrate. The detection signal output from the infrared detection element passes through the signal line and is output from the output terminal.

特開2007−139655号公報JP-A-2007-139655

しかしながら、一般に、赤外線センサでは、赤外線検出素子から出力される検出信号は極めて微弱である。さらに、外部から赤外線センサに入ってきた電磁ノイズ等のノイズが信号線に入ると、ノイズは信号線を通って出力端子から出力される。ここで、ノイズは極めて微弱であるため、検出信号との区別がつかない。このため、出力端子に外部機器が接続していると、外部機器は、出力端子から出力された信号がノイズであっても、その信号を検出信号であると判断して誤動作してしまう。そこで、赤外線センサにおいては、外部機器の誤動作を防ぐために、電磁ノイズ等のノイズによる赤外線センサへの影響を防ぐことが要求されている。 However, in general, in an infrared sensor, the detection signal output from the infrared detection element is extremely weak. Further, when noise such as electromagnetic noise that has entered the infrared sensor from the outside enters the signal line, the noise is output from the output terminal through the signal line. Here, since the noise is extremely weak, it cannot be distinguished from the detection signal. Therefore, when an external device is connected to the output terminal, even if the signal output from the output terminal is noise, the external device determines that the signal is a detection signal and malfunctions. Therefore, in the infrared sensor, in order to prevent malfunction of the external device, it is required to prevent the influence of noise such as electromagnetic noise on the infrared sensor.

そこで、本発明は、上記事情に鑑みたものであって、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサを提供することを目的とする。 Therefore, in view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise.

上記の課題を解決するため、本発明の赤外線センサは、第一基板と、前記第一基板の上面に設けられ、赤外線を検出する赤外線検出素子と、前記第一基板の、前記赤外線検出素子を有する領域を除く領域に設けられた絶縁層と、前記赤外線検出素子を覆った状態で前記絶縁層の上面に、接合膜を介して接合され、赤外線を透過可能な第二基板と、前記絶縁層に埋設され前記赤外線検出素子に電気的に接続されている信号線と、前記第二基板より外側に設けられ、前記信号線に電気的に接続される出力端子と、前記信号線の側方において、前記信号線と並び前記絶縁層に埋設されている複数のダミー線と、前記複数のダミー線のうち、少なくとも一本が、グラウンドと電気的に接続されて形成されたシールド部と、を備えることを特徴としている。 In order to solve the above problems, the infrared sensor of the present invention includes a first substrate, an infrared detection element provided on the upper surface of the first substrate to detect infrared rays, and the infrared detection element of the first substrate. A second substrate that is bonded to the upper surface of the insulating layer while covering the infrared detection element and is provided in a region other than the region to which the infrared ray is transmitted through a bonding film, and the insulating layer. On the side of the signal line, a signal line embedded in the infrared detection element and electrically connected to the infrared detection element, an output terminal provided outside the second substrate and electrically connected to the signal line, and A plurality of dummy wires embedded in the insulating layer along with the signal wire, and at least one of the plurality of dummy wires is provided with a shield portion formed by being electrically connected to the ground. It is characterized by that.

この構成によれば、赤外線センサの外部からのノイズは、信号線の側方から信号線に入ることなく、少なくとも一本のダミー線により形成されたシールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのを抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサを提供することができる。 According to this configuration, noise from the outside of the infrared sensor enters the shield portion formed by at least one dummy line and is sent to the ground without entering the signal line from the side of the signal line. Therefore, the infrared sensor of the present invention can suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, so that it is possible to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise.

また、前記シールド部は、前記信号線を側方から挟むように一対配置されていることを特徴としている。 Further, the shield portions are characterized in that they are arranged in pairs so as to sandwich the signal lines from the side.

この構成によれば、シールド部は、信号線を側方から挟むように一対配置されているので、赤外線センサの外部からのノイズは、信号線の両側方から信号線に入ることなく、シールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。 According to this configuration, a pair of shield portions are arranged so as to sandwich the signal line from the side, so that noise from the outside of the infrared sensor does not enter the signal line from both sides of the signal line, and the shield portion Enter and be sent to the ground. Therefore, the infrared sensor of the present invention can further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, so that it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to the influence of noise.

また、一対の前記シールド部は、他の前記ダミー線よりも前記出力端子に近接して配置されていることを特徴としている。 Further, the pair of shield portions are characterized in that they are arranged closer to the output terminal than the other dummy wires.

この構成によれば、一対のシールド部は、他のダミー線よりも出力端子に近接して配置されているので、より広い範囲にわたって信号線の周辺を覆うことができる。これにより、ノイズは、信号線の両側方から信号線に入ることなく、一対のシールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサによれば、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。 According to this configuration, since the pair of shield portions are arranged closer to the output terminal than the other dummy wires, the periphery of the signal line can be covered over a wider range. As a result, the noise enters the pair of shields and is sent to the ground without entering the signal lines from both sides of the signal lines. Therefore, according to the infrared sensor of the present invention, it is possible to further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, so that it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to the influence of noise.

また、前記第二基板は、前記赤外線検出素子を囲む前記接合膜で前記絶縁層の上面に接合されており、前記接合膜は、前記グラウンドに電気的に接続されており、前記シールド部は、前記接合膜に電気的に接続されていることを特徴としている。 Further, the second substrate is bonded to the upper surface of the insulating layer by the bonding film surrounding the infrared detection element, the bonding film is electrically connected to the ground, and the shield portion is formed. It is characterized in that it is electrically connected to the bonding membrane.

この構成によれば、赤外線検出素子を囲む接合膜がグラウンドに電気的に接続されており、シールド部が接合膜に電気的に接続されているので、ノイズは、信号線の側方から信号線に入ることなく、シールド部および接合膜を通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、第二基板および接合膜を通ってグラウンドに送られる。したがって、本発明の赤外線センサによれば、ノイズが信号線に入るのを赤外線センサ全体で抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。 According to this configuration, the bonding film surrounding the infrared detection element is electrically connected to the ground, and the shield portion is electrically connected to the bonding film, so that noise is transmitted from the side of the signal line. It is sent to the ground through the shield and the bonding membrane without entering. The noise is also sent to the ground through the second substrate and the bonding membrane. Therefore, according to the infrared sensor of the present invention, it is possible to suppress noise from entering the signal line in the entire infrared sensor. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, so that it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to the influence of noise.

また、前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記シールド部と対向して配置された対向部を有していることを特徴としている。 Further, the bonding film is characterized in that it has a facing portion arranged on the upper surface of the insulating layer so as to face the shield portion.

この構成によれば、シールド部と対向して配置された対向部を有しているので、対向部以外の領域に他の配線を配索することができる。よって、本発明によれば、ノイズの影響を受けにくいとともに、配線の設置の自由度を高めることができる赤外線センサを提供することができる。 According to this configuration, since the facing portion is arranged to face the shield portion, other wiring can be arranged in a region other than the facing portion. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise and can increase the degree of freedom in wiring installation.

また、前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記信号線を覆って配置された信号線被覆部を有していることを特徴としている。 Further, the bonding film is characterized in that it has a signal line covering portion arranged on the upper surface of the insulating layer so as to cover the signal line.

この構成によれば、接合膜は、絶縁層の上面に信号線を覆って配置された信号線被覆部を有しているので、ノイズが信号線の上方から信号線に入ろうとしても接合膜に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサを提供することができる。 According to this configuration, since the bonding film has a signal line covering portion arranged on the upper surface of the insulating layer so as to cover the signal line, even if noise enters the signal line from above the signal line, the bonding film becomes Enter and be sent to the ground. Therefore, the infrared sensor of the present invention can further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, so that it is possible to provide an infrared sensor that is less susceptible to the influence of noise.

本発明によれば、赤外線センサの外部からのノイズは、信号線の側方から信号線に入ることなく、少なくとも一本のダミー線により形成されたシールド部に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサは、ノイズが信号線に入るのを抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサを提供することができる。 According to the present invention, noise from the outside of the infrared sensor enters the shield portion formed by at least one dummy line and is sent to the ground without entering the signal line from the side of the signal line. Therefore, the infrared sensor of the present invention can suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal, so that it is possible to provide an infrared sensor that is not easily affected by noise.

本発明の第一の実施形態の赤外線の平面図である。It is a top view of the infrared ray of the 1st Embodiment of this invention. 図1のII−II断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG. 図1のA部の拡大図である。It is an enlarged view of the part A of FIG. 図3のIV−IV断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line IV-IV of FIG. 図3のV−V断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line VV of FIG. 本発明の第二実施形態の赤外線センサの断面図である。It is sectional drawing of the infrared sensor of the 2nd Embodiment of this invention. 第二実施形態の赤外線センサの出力端子および出力端子の周囲の平面図である。It is a top view of the output terminal of the infrared sensor of the second embodiment, and the periphery of the output terminal. 図7のVIII−VIII断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line VIII-VIII of FIG.

(第一実施形態)
以下、図1から図5を参照し、本発明の第一実施形態の赤外線センサ1について説明する。
図1は、第一実施形態の赤外線センサの平面図である。
図1に示すように赤外線センサ1は、第一基板3(ベース基板)と、赤外線検出素子5と、絶縁層7と、第二基板9(リッド基板)とを備える。
(First Embodiment)
Hereinafter, the infrared sensor 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.
FIG. 1 is a plan view of the infrared sensor of the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the infrared sensor 1 includes a first substrate 3 (base substrate), an infrared detection element 5, an insulating layer 7, and a second substrate 9 (lid substrate).

第一基板3は、シリコンにより矩形状に形成されている。赤外線検出素子5は、矩形状に形成されている。赤外線検出素子5は、第一基板3の上面13(内面)の中央部分に設けられている。赤外線検出素子5は、赤外線を検出して検出信号を出力する。
絶縁層7は、第一基板3の、赤外線検出素子5を有する領域を除く領域に設けられている。具体的に絶縁層7は、第一基板3の上面13のうち、赤外線検出素子5よりも外側の領域に設けられている。絶縁層7は、絶縁性を有する材料により形成されている。絶縁層7としては、例えば二酸化ケイ素(SiO2)等のシリコン酸化膜やシリコン窒化膜(SiNx)等が挙げられる。
The first substrate 3 is formed of silicon in a rectangular shape. The infrared detection element 5 is formed in a rectangular shape. The infrared detection element 5 is provided in the central portion of the upper surface 13 (inner surface) of the first substrate 3. The infrared detection element 5 detects infrared rays and outputs a detection signal.
The insulating layer 7 is provided in a region of the first substrate 3 excluding the region having the infrared detection element 5. Specifically, the insulating layer 7 is provided in a region of the upper surface 13 of the first substrate 3 outside the infrared detection element 5. The insulating layer 7 is formed of a material having an insulating property. Examples of the insulating layer 7 include a silicon oxide film such as silicon dioxide (SiO2) and a silicon nitride film (SiNx).

第二基板9は、縁部に凸部41を有する蓋状に形成されている。後述する通り、凸部41の内側は、第一基板3の上面13と第二基板9とを対向させて接合した際に、キャビティCを形成する。
第二基板9は、シリコンにより形成されている。これにより第二基板9は、赤外線を透過することが可能になっている。
第二基板9は、赤外線検出素子5を覆った状態で絶縁層7の上面11に接合膜15を介して接合されている。これにより第二基板9は、接合膜15を介して第一基板3に接合されている。接合膜15は、導電性を有している。接合膜15は、第一接合膜17と、第二接合膜19とを備える。
The second substrate 9 is formed in a lid shape having a convex portion 41 at the edge portion. As will be described later, the inside of the convex portion 41 forms a cavity C when the upper surface 13 of the first substrate 3 and the second substrate 9 are opposed to each other and joined.
The second substrate 9 is made of silicon. This makes it possible for the second substrate 9 to transmit infrared rays.
The second substrate 9 is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 via the bonding film 15 while covering the infrared detection element 5. As a result, the second substrate 9 is bonded to the first substrate 3 via the bonding film 15. The bonding film 15 has conductivity. The bonding film 15 includes a first bonding film 17 and a second bonding film 19.

第一接合膜17は、第一接合膜本体部17aと、信号線被覆部17bとを有している。
第一接合膜本体部17aは、絶縁層7の上面11において赤外線検出素子5の外周側に設けられている。具体的に第一接合膜本体部17aは、赤外線検出素子5を囲む矩形の枠状に設けられている。
複数の信号線被覆部17bは、赤外線検出素子5を挟んで両側(図1中では左右側)において、第一接合膜本体部17aと直交するように設けられている。信号線被覆部17bは、絶縁層7の上面11の内外方向(図1中では左右方向)に長く延びるように形成されている。
The first bonding film 17 has a first bonding film main body portion 17a and a signal line covering portion 17b.
The first bonding film main body 17a is provided on the upper surface 11 of the insulating layer 7 on the outer peripheral side of the infrared detection element 5. Specifically, the first bonding film main body 17a is provided in a rectangular frame shape surrounding the infrared detection element 5.
The plurality of signal line covering portions 17b are provided so as to be orthogonal to the first bonding film main body portion 17a on both sides (left and right sides in FIG. 1) with the infrared detection element 5 interposed therebetween. The signal line covering portion 17b is formed so as to extend long in the inner / outer direction (left-right direction in FIG. 1) of the upper surface 11 of the insulating layer 7.

第一接合膜17は、金属材料により薄膜状に形成されている。第一接合膜17としては、タンタル層(Ta層)の上に金層(Au層)を重ねてなる薄膜、窒化チタン層(TiN層)の上にアルミ層(Al層)を重ねてなる薄膜等が挙げられる。第一接合膜17は、グラウンド(図示せず)に接続されている。グラウンドは、第一基板3の下面(外面)に設けられている。グラウンドは、第一基板3の上面11に設けられても良い。 The first bonding film 17 is formed into a thin film by a metal material. The first bonding film 17 is a thin film formed by superimposing a gold layer (Au layer) on a tantalum layer (Ta layer) and a thin film formed by superimposing an aluminum layer (Al layer) on a titanium nitride layer (TiN layer). And so on. The first bonding membrane 17 is connected to the ground (not shown). The ground is provided on the lower surface (outer surface) of the first substrate 3. The ground may be provided on the upper surface 11 of the first substrate 3.

第二接合膜19は、第二基板9の下面(内面)に設けられている。具体的に第二接合膜19は、第一接合膜本体部17aと対向するように、赤外線検出素子5を囲んで設けられている。第二接合膜19は、赤外線検出素子5を囲む矩形の枠状に形成されている。第二接合膜19の両側部23,23(図1中では左右側部)は、複数の信号線被覆部17bと直交して配置されている。第二接合膜19の一方の両側部23,23は、この状態で第一接合膜本体部17aと接合されている。第二接合膜19の他方の両側部25,25(図1中では上下側部)は、絶縁層7の上面11の第一接合膜本体部17aに接合されている。 The second bonding film 19 is provided on the lower surface (inner surface) of the second substrate 9. Specifically, the second bonding film 19 is provided so as to surround the infrared detection element 5 so as to face the first bonding film main body 17a. The second bonding film 19 is formed in a rectangular frame shape surrounding the infrared detection element 5. Both side portions 23 and 23 (left and right side portions in FIG. 1) of the second bonding film 19 are arranged orthogonal to the plurality of signal line covering portions 17b. One side 23, 23 of the second bonding film 19 is bonded to the first bonding film main body 17a in this state. The other side portions 25, 25 (upper and lower side portions in FIG. 1) of the second bonding film 19 are bonded to the first bonding film main body portion 17a on the upper surface 11 of the insulating layer 7.

第二接合膜19は、金属材料により薄膜状に形成されている。第二接合膜19は、第一接合膜17と同じ材料により形成されている。
第一接合膜17がタンタル層および金層から成る場合には、第二接合膜19もタンタル層および金層から成る。この場合には、第一接合膜17の金層と第二接合膜19の金層とが接合する。第一接合膜17が窒化チタン層およびアルミ層から成る場合には、第二接合膜19も窒化チタン層およびアルミ層から成る。この場合には、第一接合膜17のアルミ層と第二接合膜19のアルミ層とが接合する。
The second bonding film 19 is formed into a thin film by a metal material. The second bonding film 19 is made of the same material as the first bonding film 17.
When the first bonding film 17 is composed of the tantalum layer and the gold layer, the second bonding film 19 is also composed of the tantalum layer and the gold layer. In this case, the gold layer of the first bonding film 17 and the gold layer of the second bonding film 19 are bonded. When the first bonding film 17 is composed of the titanium nitride layer and the aluminum layer, the second bonding film 19 is also composed of the titanium nitride layer and the aluminum layer. In this case, the aluminum layer of the first bonding film 17 and the aluminum layer of the second bonding film 19 are bonded.

図1に示すように、絶縁層7の上面11には、複数の接続端子31および複数の出力端子33が設けられている。各接続端子31は、絶縁層7の上面11において、信号線被覆部17bの内端(赤外線検出素子5側の端)に近接して設けられている。各接続端子31は、赤外線検出素子5に対して例えばワイヤボンディング等により電気的に接続されている。また、各接続端子31は、後述の信号線51(図2参照)の一端に電気的に接続されている。 As shown in FIG. 1, a plurality of connection terminals 31 and a plurality of output terminals 33 are provided on the upper surface 11 of the insulating layer 7. Each connection terminal 31 is provided on the upper surface 11 of the insulating layer 7 in the vicinity of the inner end (end on the infrared detection element 5 side) of the signal line covering portion 17b. Each connection terminal 31 is electrically connected to the infrared detection element 5 by, for example, wire bonding. Further, each connection terminal 31 is electrically connected to one end of a signal line 51 (see FIG. 2) described later.

各出力端子33は、絶縁層7の上面11において信号線被覆部17bの外端(赤外線検出素子5側と反対側の端)に近接して設けられている。各出力端子33は、第二基板9よりも外側に設けられている。各出力端子33の入力側は、後述の信号線51(図2参照)の他端に電気的に接続されている。各出力端子33は、例えば外部機器に対して電気的に接続されている。 Each output terminal 33 is provided close to the outer end (the end opposite to the infrared detection element 5 side) of the signal line covering portion 17b on the upper surface 11 of the insulating layer 7. Each output terminal 33 is provided outside the second substrate 9. The input side of each output terminal 33 is electrically connected to the other end of the signal line 51 (see FIG. 2) described later. Each output terminal 33 is electrically connected to, for example, an external device.

図2は、図1のII−II断面図である。
図2に示すように第二基板9の下面39には、凸部41が下方に突出して設けられている。具体的に凸部41は、第二基板9の下面39において赤外線検出素子5を囲むように設けられている。凸部41は、赤外線検出素子5を囲む矩形の枠状に形成されている。凸部41の下面43には、上述の第二接合膜19が設けられている。第二基板9は、凸部41により第二接合膜19を介して絶縁層7の上面11に接合されている。第二基板9と絶縁層7との間にはキャビティCが形成されている。キャビティCの雰囲気は、減圧雰囲気にされている。キャビティCには、上述の赤外線検出素子5が配置されている。
FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.
As shown in FIG. 2, a convex portion 41 is provided on the lower surface 39 of the second substrate 9 so as to project downward. Specifically, the convex portion 41 is provided on the lower surface 39 of the second substrate 9 so as to surround the infrared detection element 5. The convex portion 41 is formed in a rectangular frame shape surrounding the infrared detection element 5. The second bonding film 19 described above is provided on the lower surface 43 of the convex portion 41. The second substrate 9 is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 via the second bonding film 19 by the convex portion 41. A cavity C is formed between the second substrate 9 and the insulating layer 7. The atmosphere of the cavity C is a reduced pressure atmosphere. The infrared detection element 5 described above is arranged in the cavity C.

図2に示すように絶縁層7には、複数の信号線51が埋設されている。具体的に複数の信号線51は、第一基板3の厚さ方向において、中央部よりも上方に埋設されている。各信号線51は、接続端子31、第一接合膜17および出力端子33の下方にわたって配置されている。各信号線51は、窒化チタン(TiN)、アルミシリコン合金(AlSi)、窒化チタン(TiN)の順に合金属をスパッタリング等により積層して成膜することで形成されている。 As shown in FIG. 2, a plurality of signal lines 51 are embedded in the insulating layer 7. Specifically, the plurality of signal lines 51 are embedded above the central portion in the thickness direction of the first substrate 3. Each signal line 51 is arranged below the connection terminal 31, the first bonding film 17, and the output terminal 33. Each signal line 51 is formed by laminating titanium nitride (TiN), an aluminum silicon alloy (AlSi), and titanium nitride (TiN) in this order by sputtering or the like to form a film.

図2に示すように、絶縁層7には、各信号線51の一端と接続端子31とを繋ぐ部分に第一ビア55が設けられている。各信号線51の一端は、第一ビア55を介して接続端子31に電気的に接続されている。
また、第一基板3には、各信号線51の他端と出力端子33とを繋ぐ部分に第二ビア57が設けられている。各信号線51の他端は、第二ビア57を介して出力端子33に電気的に接続されている。
これにより赤外線検出素子5は、複数の配線、複数の接続端子31、複数の第一ビア55、複数の信号線51、複数の第二ビア57を介して複数の出力端子33に電気的に接続されている。
As shown in FIG. 2, the insulating layer 7 is provided with a first via 55 at a portion connecting one end of each signal line 51 and a connection terminal 31. One end of each signal line 51 is electrically connected to the connection terminal 31 via the first via 55.
Further, the first substrate 3 is provided with a second via 57 at a portion connecting the other end of each signal line 51 and the output terminal 33. The other end of each signal line 51 is electrically connected to the output terminal 33 via the second via 57.
As a result, the infrared detection element 5 is electrically connected to the plurality of output terminals 33 via the plurality of wirings, the plurality of connection terminals 31, the plurality of first vias 55, the plurality of signal lines 51, and the plurality of second vias 57. Has been done.

図3は、図1のA部の拡大図である。
図4は、図3のIV−IV断面図である。
図3および図4に示すように、絶縁層7には、複数のダミー線61が各信号線51と並んで埋設されている。具体的に複数のダミー線61は、信号線51の両側方(信号線51の長さ方向と直交する方向)に配置されている。各ダミー線61は、信号線51の長さ方向に沿って長く形成されている。
FIG. 3 is an enlarged view of part A in FIG.
FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV of FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of dummy wires 61 are embedded in the insulating layer 7 along with each signal line 51. Specifically, the plurality of dummy lines 61 are arranged on both sides of the signal line 51 (direction orthogonal to the length direction of the signal line 51). Each dummy line 61 is formed long along the length direction of the signal line 51.

図3に示すように、複数のダミー線61のうち、信号線51を側方から挟むように配置されている一対のダミー線61は、出力端子33に近接している。一対のダミー線61は、信号線51とともに第一接合膜17の信号線被覆部17bに覆われている。
ここで、第一基板3の絶縁層7において各信号線51の両側方にダミー線61を並べて配置していることにより、信号線51,51間の段差をダミー線61によって小さくでき、より平坦にすることができる。よって、赤外線センサ1は、絶縁層7に信号線51を埋設しても、信号線51近傍における第一基板3の絶縁層7の上面11をより平坦に形成することができる。この結果、第一基板3と第二基板9とが接合膜15を介して接合されるので、キャビティCの気密性を確保することができる。
As shown in FIG. 3, of the plurality of dummy wires 61, a pair of dummy wires 61 arranged so as to sandwich the signal line 51 from the side are close to the output terminal 33. The pair of dummy wires 61 are covered with the signal line covering portion 17b of the first bonding film 17 together with the signal line 51.
Here, by arranging the dummy wires 61 side by side on both sides of each signal line 51 in the insulating layer 7 of the first substrate 3, the step between the signal lines 51 and 51 can be reduced by the dummy wire 61 and is flatter. Can be. Therefore, in the infrared sensor 1, even if the signal line 51 is embedded in the insulating layer 7, the upper surface 11 of the insulating layer 7 of the first substrate 3 in the vicinity of the signal line 51 can be formed more flat. As a result, since the first substrate 3 and the second substrate 9 are bonded via the bonding film 15, the airtightness of the cavity C can be ensured.

図5は、図3のV−V断面図である。
図5に示すように、第一基板3の絶縁層7には、一対のダミー線61と第一接合膜17の信号線被覆部17bとを繋ぐ部分に第三ビア71が設けられている。これにより、一対のダミー線61は、第三ビア71および信号線被覆部17bを介して第一接合膜17に電気的に接続されている。第一接合膜17は、上述のようにグラウンドに電気的に接続されている。これにより、信号線51を側方から挟むように配置されている一対のダミー線61は、第一接合膜17を介してグラウンドに電気的に接続されることで、シールド部63として機能する。
FIG. 5 is a sectional view taken along line VV of FIG.
As shown in FIG. 5, the insulating layer 7 of the first substrate 3 is provided with a third via 71 at a portion connecting the pair of dummy wires 61 and the signal line covering portion 17b of the first bonding film 17. As a result, the pair of dummy wires 61 are electrically connected to the first bonding film 17 via the third via 71 and the signal line covering portion 17b. The first bonding membrane 17 is electrically connected to the ground as described above. As a result, the pair of dummy wires 61 arranged so as to sandwich the signal line 51 from the side functions as a shield portion 63 by being electrically connected to the ground via the first bonding film 17.

次に、以上のように構成されている赤外線センサ1において、赤外線の検出にかかる処理を説明する。
赤外線が第二基板9を透過すると、赤外線検出素子5は、その赤外線を検出して検出信号を出力する。赤外線検出素子5から出力された検出信号は、複数の配線や複数の接続端子31、複数の第一ビア55、複数の信号線51、複数の第二ビア57を通り、複数の出力端子33から出力される。複数の出力端子33から出力された検出信号は、外部機器に送られて所定の動作が行われる。
Next, in the infrared sensor 1 configured as described above, the process for detecting infrared rays will be described.
When the infrared rays pass through the second substrate 9, the infrared detection element 5 detects the infrared rays and outputs a detection signal. The detection signal output from the infrared detection element 5 passes through a plurality of wirings, a plurality of connection terminals 31, a plurality of first vias 55, a plurality of signal lines 51, and a plurality of second vias 57, and is transmitted from the plurality of output terminals 33. It is output. The detection signals output from the plurality of output terminals 33 are sent to an external device to perform a predetermined operation.

次に、赤外線センサ1の耐ノイズ性について説明する。
外部から赤外線センサ1に入ってくる例えば電磁ノイズ等のノイズは、信号線51の両側方に隣接しているシールド部63に入ると、第三ビア71、第一接合膜17の順に通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、第二接合膜19に入った場合には、第二接合膜19、第一接合膜17の順に通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、信号線51を覆う第一接合膜17の信号線被覆部17bに入った場合には、第一接合膜17を通ってグラウンドに送られる。さらに、ノイズは、第一基板3または第二基板9に入った場合には、第一基板3または第二基板9、接合膜15の順に通ってグラウンドに送られる。
Next, the noise resistance of the infrared sensor 1 will be described.
Noise such as electromagnetic noise that enters the infrared sensor 1 from the outside passes through the third via 71 and the first bonding film 17 in this order when entering the shield portion 63 adjacent to both sides of the signal line 51 and grounds. Will be sent to. Further, when the noise enters the second bonding film 19, the noise is sent to the ground through the second bonding film 19 and the first bonding film 17 in this order. Further, when the noise enters the signal line covering portion 17b of the first bonding film 17 covering the signal line 51, the noise is sent to the ground through the first bonding film 17. Further, when the noise enters the first substrate 3 or the second substrate 9, the noise is sent to the ground through the first substrate 3 or the second substrate 9 and the bonding film 15 in this order.

次に、第一実施形態の赤外線センサ1の作用効果を説明する。 Next, the action and effect of the infrared sensor 1 of the first embodiment will be described.

第一実施形態の赤外線センサ1は、第一基板3と、第一基板3の上面13に設けられ、赤外線を検出する赤外線検出素子5と、第一基板3の、赤外線検出素子5を有する領域を除く領域に設けられた絶縁層7と、赤外線検出素子5を覆った状態で絶縁層7の上面11に、接合膜15を介して接合され、赤外線を透過可能な第二基板9と、を備える。また、第一実施形態の赤外線センサ1は、絶縁層7に埋設されて赤外線検出素子5に電気的に接続されている信号線51と、第二基板9よりも外側に設けられて信号線51に電気的に接続される出力端子33と、信号線51の側方において、信号線51と並び絶縁層7に埋設されている複数のダミー線61と、を備える。さらに、第一実施形態の赤外線センサ1は、複数のダミー線61のうち、少なくとも一本(本実施形態では一対)のダミー線61がグラウンドと電気的に接続されて形成されたシールド部63を備える。 The infrared sensor 1 of the first embodiment is provided on the first substrate 3 and the upper surface 13 of the first substrate 3, and has an infrared detection element 5 for detecting infrared rays and an infrared detection element 5 of the first substrate 3. An insulating layer 7 provided in a region other than the above, and a second substrate 9 which is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 while covering the infrared detection element 5 via a bonding film 15 and can transmit infrared rays. Be prepared. Further, the infrared sensor 1 of the first embodiment has a signal line 51 embedded in the insulating layer 7 and electrically connected to the infrared detection element 5, and a signal line 51 provided outside the second substrate 9. An output terminal 33 electrically connected to the signal line 51, and a plurality of dummy wires 61 embedded in the insulating layer 7 along with the signal line 51 on the side of the signal line 51 are provided. Further, the infrared sensor 1 of the first embodiment has a shield portion 63 formed by electrically connecting at least one (a pair of dummy wires 61 in the present embodiment) of the plurality of dummy wires 61 to the ground. Be prepared.

この構成によれば、赤外線センサ1の外部からのノイズは、信号線51の側方から信号線51に入ることなく、少なくとも一本(本実施形態では一対)のダミー線61により形成されたシールド部63に入ってグラウンドに送られる。したがって本発明の赤外線センサ1は、ノイズが信号線51に入るのを抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響を受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。 According to this configuration, noise from the outside of the infrared sensor 1 does not enter the signal line 51 from the side of the signal line 51, and is a shield formed by at least one (a pair in this embodiment) dummy lines 61. It enters part 63 and is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor 1 of the present invention can suppress noise from entering the signal line 51. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, so that it is possible to provide the infrared sensor 1 that is not easily affected by noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、シールド部63が信号線51を側方から挟むように一対配置されている。 Further, in the infrared sensor 1 of the first embodiment, a pair of shield portions 63 are arranged so as to sandwich the signal line 51 from the side.

この構成によれば、シールド部63は、信号線51を側方から挟むように一対配置されているので、赤外線センサ1の外部からのノイズは、信号線51の両側方から信号線51に入ることなく、シールド部63に入ってグラウンドに送られる。したがって本実施形態の赤外線センサ1は、ノイズが信号線に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。 According to this configuration, since the shield portions 63 are arranged in pairs so as to sandwich the signal lines 51 from the side, noise from the outside of the infrared sensor 1 enters the signal lines 51 from both sides of the signal lines 51. Without having to enter the shield unit 63, it is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor 1 of the present embodiment can further suppress noise from entering the signal line. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, so that it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to the influence of noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、一対のシールド部63が他のダミー線61よりも出力端子33に近接して配置されている。 Further, in the infrared sensor 1 of the first embodiment, the pair of shield portions 63 are arranged closer to the output terminal 33 than the other dummy wires 61.

この構成によれば、一対のシールド部63は、他のダミー線61よりも出力端子33に近接して配置されているので、より広い範囲にわたって信号線51の周辺を覆うことができる。これにより、ノイズは、信号線51の両側方から信号線51に入ることなく、一対のシールド部63に入ってグラウンドに送られる。したがって本実施形態の赤外線センサ1によれば、ノイズが信号線51に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。 According to this configuration, since the pair of shield portions 63 are arranged closer to the output terminal 33 than the other dummy wires 61, the periphery of the signal line 51 can be covered over a wider range. As a result, the noise enters the pair of shield portions 63 and is sent to the ground without entering the signal lines 51 from both sides of the signal lines 51. Therefore, according to the infrared sensor 1 of the present embodiment, it is possible to further suppress noise from entering the signal line 51. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, so that it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to the influence of noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、第二基板9が赤外線検出素子5を囲む接合膜15で絶縁層7の上面11に接合されており、接合膜15は、グラウンドに電気的に接続されており、シールド部63は、接合膜15に電気的に接続されている。 Further, in the infrared sensor 1 of the first embodiment, the second substrate 9 is bonded to the upper surface 11 of the insulating layer 7 by a bonding film 15 surrounding the infrared detecting element 5, and the bonding film 15 is electrically connected to the ground. The shield portion 63 is electrically connected to the bonding film 15.

この構成によれば、赤外線検出素子5を囲む接合膜15がグラウンドに電気的に接続されており、シールド部63が接合膜15に電気的に接続されているので、ノイズは、信号線51の側方から信号線51に入ることなく、シールド部63および接合膜15を通ってグラウンドに送られる。また、ノイズは、第二基板9および接合膜15を通ってグラウンドに送られる。したがって、本実施形態の赤外線センサ1によれば、ノイズが信号線51に入るのを赤外線センサ1全体で抑制することが可能になる。よって、本発明によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。 According to this configuration, the bonding film 15 surrounding the infrared detection element 5 is electrically connected to the ground, and the shield portion 63 is electrically connected to the bonding film 15, so that the noise is generated by the signal line 51. It is sent to the ground through the shield portion 63 and the bonding film 15 without entering the signal line 51 from the side. Further, the noise is sent to the ground through the second substrate 9 and the bonding film 15. Therefore, according to the infrared sensor 1 of the present embodiment, it is possible to suppress noise from entering the signal line 51 by the entire infrared sensor 1. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, so that it is possible to provide an infrared sensor 1 that is less susceptible to noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1は、接合膜15が絶縁層7の上面11に信号線51を覆って配置された信号線被覆部17bを有していることを特徴としている。 Further, the infrared sensor 1 of the first embodiment is characterized in that the bonding film 15 has a signal line covering portion 17b arranged on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to cover the signal line 51.

この構成によれば、接合膜15は、絶縁層7の上面11に信号線51を覆って配置された信号線被覆部17bを有しているので、ノイズが信号線51の上方から信号線51に入ろうとしても接合膜15に入ってグラウンドに送られる。したがって本実施形態の赤外線センサ1は、ノイズが信号線51に入るのをさらに抑制することが可能になる。よって、本実施形態によれば、出力端子33からノイズが出力されるのを防ぐことができるので、ノイズの影響をさらに受けにくい赤外線センサ1を提供することができる。 According to this configuration, since the bonding film 15 has a signal line covering portion 17b arranged on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to cover the signal line 51, noise is generated from above the signal line 51. Even if it tries to enter, it enters the bonding film 15 and is sent to the ground. Therefore, the infrared sensor 1 of the present embodiment can further suppress noise from entering the signal line 51. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to prevent noise from being output from the output terminal 33, so that it is possible to provide the infrared sensor 1 that is less susceptible to the influence of noise.

また、第一実施形態の赤外線センサ1では、第一基板3の絶縁層7において各信号線51の両側方にダミー線61を並べて配置している。これにより、信号線51,51間の段差が小さくなる。よって、第一実施形態の赤外線センサ1は、第一基板3の絶縁層7に信号線51を埋設しても、信号線51近傍における第一基板3の絶縁層7の上面11を平坦に形成することができる。この結果、第一基板3と第二基板9とが接合膜15を介して接合されるので、キャビティCの気密性を確保することができる。 Further, in the infrared sensor 1 of the first embodiment, dummy wires 61 are arranged side by side on both sides of each signal line 51 in the insulating layer 7 of the first substrate 3. As a result, the step between the signal lines 51 and 51 becomes smaller. Therefore, in the infrared sensor 1 of the first embodiment, even if the signal line 51 is embedded in the insulating layer 7 of the first substrate 3, the upper surface 11 of the insulating layer 7 of the first substrate 3 is formed flat in the vicinity of the signal line 51. can do. As a result, since the first substrate 3 and the second substrate 9 are bonded via the bonding film 15, the airtightness of the cavity C can be ensured.

(第二実施形態)
続いて、図6から図8を参照し、本発明の第二実施形態の赤外線センサ101について説明する。
図6は、第二実施形態の赤外線センサの断面図である。なお、図6は、第一実施形態の図1におけるII−II断面に相当する断面図である。
図6に示すように第二実施形態の赤外線センサ101では、第一接合膜17は、第一接合膜本体部17aと、一対の対向部113とを備える。第一接合膜17は、第二接合膜19と接合している。一対の対向部113は、第一接合膜本体部17aの内端から赤外線検出素子5に向けて延びて形成されている。
(Second Embodiment)
Subsequently, the infrared sensor 101 of the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 to 8.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the infrared sensor of the second embodiment. Note that FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to the II-II cross section in FIG. 1 of the first embodiment.
As shown in FIG. 6, in the infrared sensor 101 of the second embodiment, the first bonding film 17 includes a first bonding film main body portion 17a and a pair of facing portions 113. The first bonding film 17 is bonded to the second bonding film 19. The pair of facing portions 113 are formed so as to extend from the inner end of the first bonding film main body portion 17a toward the infrared detection element 5.

図7は、第二実施形態に係る赤外線センサの出力端子および出力端子の周囲の平面図である。
図8は、図7のVIII−VIII断面図である。
図7および図8に示すように、対向部113は、絶縁層7の上面11にシールド部63と対向して配置されている。
図8に示すように第一基板3の絶縁層7には、シールド部63と対向部113とを繋ぐ部分に第四ビア115が設けられている。シールド部63は、第四ビア115を介して対向部113に電気的に接続されている。これにより二本のシールド部63は、第一接合膜17(接合膜15)を介してグラウンドに電気的に接続されている。
FIG. 7 is a plan view of the output terminal of the infrared sensor according to the second embodiment and the periphery of the output terminal.
FIG. 8 is a sectional view taken along line VIII-VIII of FIG.
As shown in FIGS. 7 and 8, the facing portion 113 is arranged on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to face the shield portion 63.
As shown in FIG. 8, the insulating layer 7 of the first substrate 3 is provided with a fourth via 115 at a portion connecting the shield portion 63 and the facing portion 113. The shield portion 63 is electrically connected to the facing portion 113 via the fourth via 115. As a result, the two shield portions 63 are electrically connected to the ground via the first bonding film 17 (bonding film 15).

次に、第二実施形態の赤外線センサ101の作用効果を説明する。
第二実施形態の赤外線センサ101では、接合膜15は、絶縁層7の上面11に二本のシールド部63と対向して配置された二本の対向部113を有している。
これにより第一基板3の上面13には、対向部113以外の領域に他の配線を配索することができる。よって、第二実施形態によれば、ノイズの影響を受けにくいとともに、配線の設置の自由度を高めることができる赤外線センサ101を提供することができる。その他の作用効果は、第一実施形態で説明した通りである。
Next, the action and effect of the infrared sensor 101 of the second embodiment will be described.
In the infrared sensor 101 of the second embodiment, the bonding film 15 has two facing portions 113 arranged on the upper surface 11 of the insulating layer 7 so as to face the two shield portions 63.
As a result, other wiring can be arranged on the upper surface 13 of the first substrate 3 in a region other than the facing portion 113. Therefore, according to the second embodiment, it is possible to provide the infrared sensor 101 which is not easily affected by noise and can increase the degree of freedom in wiring installation. Other effects are as described in the first embodiment.

なお、本発明の技術範囲は上記の実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。 The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

上述の各実施形態では、第一基板3の第一接合膜17と第二基板9の第二接合膜19との接合方法については特に限定されることはない。したがって、第一基板3の第一接合膜17と第二基板9の第二接合膜19との接合方法としては、例えば熱圧着でもよいし金属拡散接合でもよい。また、第一基板3の第一接合膜17と第二基板9の第二接合膜19とをそれぞれ金錫合金(AuSn)で形成し、共晶温度まで加熱および溶融することで接合する、いわゆる共晶接合で接合してもよい。 In each of the above-described embodiments, the method of joining the first bonding film 17 of the first substrate 3 and the second bonding film 19 of the second substrate 9 is not particularly limited. Therefore, the bonding method between the first bonding film 17 of the first substrate 3 and the second bonding film 19 of the second substrate 9 may be, for example, thermocompression bonding or metal diffusion bonding. Further, the first bonding film 17 of the first substrate 3 and the second bonding film 19 of the second substrate 9 are each formed of a gold-tin alloy (AuSn), and are bonded by heating and melting to a eutectic temperature, so-called. It may be joined by eutectic joining.

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能である。 In addition, it is possible to replace the components in the above-described embodiment with well-known components as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

1,101・・・赤外線センサ 3・・・第一基板 4・・・赤外線検出素子 7・・・絶縁層 9・・・第二基板 11・・・絶縁層の上面 13・・・第一基板の上面 15・・・接合膜 17・・・第一接合膜(接合膜) 17b・・・信号線被覆部 上面 19・・・第二接合膜(接合膜) 33・・・出力端子 51・・・信号線 61・・・ダミー線 63・・・シールド部 113・・・対向部 1,101 ... Infrared sensor 3 ... First substrate 4 ... Infrared detection element 7 ... Insulation layer 9 ... Second substrate 11 ... Upper surface of insulation layer 13 ... First substrate Top surface 15 ... Bonding film 17 ... First bonding film (bonding film) 17b ... Signal line coating Top surface 19 ... Second bonding film (bonding film) 33 ... Output terminal 51 ...・ Signal line 61 ・ ・ ・ Dummy line 63 ・ ・ ・ Shield part 113 ・ ・ ・ Opposing part

Claims (6)

第一基板と、
前記第一基板の上面に設けられ、赤外線を検出する赤外線検出素子と、
前記第一基板の、前記赤外線検出素子を有する領域を除く領域に設けられた絶縁層と、
前記赤外線検出素子を覆った状態で前記絶縁層の上面に、接合膜を介して接合され、赤外線を透過可能な第二基板と、
前記絶縁層に埋設され前記赤外線検出素子に電気的に接続されている信号線と、
前記第二基板より外側に設けられ、前記信号線に電気的に接続される出力端子と、
前記信号線の側方において、前記信号線と並び前記絶縁層に埋設されている複数のダミー線と、
前記複数のダミー線のうち、少なくとも一本が、グラウンドと電気的に接続されて形成されたシールド部と、
を備えることを特徴とする赤外線センサ。
With the first board
An infrared detection element provided on the upper surface of the first substrate to detect infrared rays,
An insulating layer provided in a region of the first substrate other than the region having the infrared detection element,
A second substrate that is bonded to the upper surface of the insulating layer with the infrared detection element covered via a bonding film and is capable of transmitting infrared rays.
A signal line embedded in the insulating layer and electrically connected to the infrared detection element,
An output terminal provided outside the second substrate and electrically connected to the signal line,
On the side of the signal line, a plurality of dummy lines embedded in the insulating layer along with the signal line,
At least one of the plurality of dummy wires is a shield portion formed by being electrically connected to the ground.
An infrared sensor characterized by being equipped with.
前記シールド部は、前記信号線を側方から挟むように一対配置されていることを特徴とする請求項1に記載の赤外線センサ。 The infrared sensor according to claim 1, wherein the shield portions are arranged in pairs so as to sandwich the signal lines from the side. 一対の前記シールド部は、他の前記ダミー線よりも前記出力端子に近接して配置されていることを特徴とする請求項2に記載の赤外線センサ。 The infrared sensor according to claim 2, wherein the pair of shield portions are arranged closer to the output terminal than the other dummy wires. 前記第二基板は、前記赤外線検出素子を囲む前記接合膜で前記絶縁層の上面に接合されており、
前記接合膜は、前記グラウンドに電気的に接続されており、
前記シールド部は、前記接合膜に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の赤外線センサ。
The second substrate is bonded to the upper surface of the insulating layer by the bonding film surrounding the infrared detection element.
The bonding membrane is electrically connected to the ground and is
The infrared sensor according to any one of claims 1 to 3, wherein the shield portion is electrically connected to the bonding film.
前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記シールド部と対向して配置された対向部を有していることを特徴とする請求項4に記載の赤外線センサ。 The infrared sensor according to claim 4, wherein the bonding film has a facing portion arranged on the upper surface of the insulating layer so as to face the shield portion. 前記接合膜は、前記絶縁層の上面に前記信号線を覆って配置された信号線被覆部を有していることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の赤外線センサ。 The infrared sensor according to claim 4 or 5, wherein the bonding film has a signal line covering portion arranged on the upper surface of the insulating layer so as to cover the signal line.
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