JP6782199B2 - Spark plug - Google Patents

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Description

本発明はスパークプラグに関し、特に耐電圧性能を向上できるスパークプラグに関するものである。 The present invention relates to a spark plug, and more particularly to a spark plug capable of improving withstand voltage performance.

内燃機関に使用されるスパークプラグは、例えば、アルミナを主成分とするアルミナ基焼結体からなる絶縁体を備えている。アルミナ基焼結体は、一般に、SiO等を含む焼結助剤を含有する混合粉末の焼結により形成される(例えば特許文献1)。特許文献1に開示される技術では、結晶相の粒径を制御することにより、高温環境下における耐電圧性能の改善を図っている。 Spark plugs used in internal combustion engines include, for example, an insulator made of an alumina-based sintered body containing alumina as a main component. The alumina-based sintered body is generally formed by sintering a mixed powder containing a sintering aid containing SiO 2 or the like (for example, Patent Document 1). In the technique disclosed in Patent Document 1, the withstand voltage performance in a high temperature environment is improved by controlling the particle size of the crystal phase.

国際公開第2013/128525号明細書International Publication No. 2013/128525

ところが、上記技術に対して、高温環境下でのさらなる耐電圧性能の向上が求められている。 However, the above technology is required to further improve the withstand voltage performance in a high temperature environment.

本発明はこの要求に応えるためになされたものであり、高温環境下での耐電圧性能を向上できる絶縁体を有するスパークプラグを提供することを目的としている。 The present invention has been made in order to meet this demand, and an object of the present invention is to provide a spark plug having an insulator capable of improving withstand voltage performance in a high temperature environment.

この目的を達成するために本発明のスパークプラグは、アルミナ基焼結体からなる絶縁体を備え、絶縁体はSi,Ba及び希土類元素を含有する。絶縁体は、電子線のプローブ径が1nmの走査透過型電子顕微鏡を用いた分析において、Baが検出される部分の中の任意の10点のうちの8点以上の電子線回折図形に回折斑点が存在する。 In order to achieve this object, the spark plug of the present invention includes an insulator made of an alumina-based sintered body, and the insulator contains Si, Ba and a rare earth element. The insulator has diffraction spots on 8 or more electron beam diffraction patterns out of any 10 points in the portion where Ba is detected in the analysis using a scanning transmission electron microscope having an electron beam probe diameter of 1 nm. Exists.

請求項1記載のスパークプラグによれば、絶縁体は、Baが検出される部分の中の任意の10点の測定点のうちの8点以上が結晶化している。Baによりアルミナ基焼結体の緻密化を促進させることができ、さらにBaが存在する部分の高温環境下における脆化を抑制できる。よって、高温環境下での耐電圧性能を向上できる。 According to the spark plug according to claim 1, the insulator has 8 or more of any 10 measurement points in the portion where Ba is detected crystallized. By Ba, the densification of the alumina-based sintered body can be promoted, and further, the embrittlement of the portion where Ba exists in a high temperature environment can be suppressed. Therefore, the withstand voltage performance in a high temperature environment can be improved.

請求項2記載のスパークプラグによれば、絶縁体は、厚さ15nm以下の結晶粒界にSi及び希土類元素が検出され、その結晶粒界におけるBa等のアルカリ土類金属は検出限界未満である。よって、請求項1の効果に加え、高温環境下における結晶粒界の脆化を抑制し、高温環境下における耐電圧性能を向上できる。 According to the spark plug according to claim 2, Si and rare earth elements are detected at the grain boundaries of the insulator having a thickness of 15 nm or less, and alkaline earth metals such as Ba at the grain boundaries are below the detection limit. .. Therefore, in addition to the effect of claim 1, it is possible to suppress the embrittlement of the crystal grain boundaries in a high temperature environment and improve the withstand voltage performance in a high temperature environment.

請求項3記載のスパークプラグによれば、絶縁体は平均粒径が0.3〜1.0μmなので、請求項1又は2の効果に加え、機械的強度を向上できる。 According to the spark plug according to claim 3, since the insulator has an average particle size of 0.3 to 1.0 μm, in addition to the effect of claim 1 or 2, the mechanical strength can be improved.

請求項4記載のスパークプラグによれば、絶縁体は、回折角および相対強度で特定されるX線回折図形において、BaAl 12 19のピーク強度(II)に対するBaAlSiのピーク強度(I)の比率(I/II)が0.5以上である。その結果、Baを含みSiを含まない結晶相に比べて、Alとの密着性が高いBa及びSiを含む結晶相の比率を多くできる。結晶相の界面を破壊され難くできるので、請求項1から3のいずれかの効果に加え、耐電圧性能を向上できる。 According to the spark plug according to claim 4, the insulator has the peak intensity of BaAl 2 Si 2 O 8 with respect to the peak intensity (II) of BaAl 12 O 19 in the X-ray diffraction pattern specified by the diffraction angle and the relative intensity. The ratio (I / II) of (I) is 0.5 or more. As a result, the ratio of the crystal phase containing Ba and Si, which has high adhesion to Al 2 O 3 , can be increased as compared with the crystal phase containing Ba and not containing Si. Since the interface of the crystal phase can be made hard to be broken, in addition to the effect of any one of claims 1 to 3, the withstand voltage performance can be improved.

請求項5記載のスパークプラグによれば、絶縁体は、希土類元素が検出される部分の中の任意の10点の測定点のうちの5点以下の電子線回折図形に回折斑点が存在する。焼結時にアルミナの粒成長を促進する希土類成分の結晶化を抑制することにより、アルミナの異常粒成長を抑制できる。よって、請求項1から4のいずれかの効果に加え、絶縁体の機械的強度を確保できる。 According to the spark plug according to claim 5, the insulator has diffraction spots on the electron diffraction pattern of 5 or less of any 10 measurement points in the portion where the rare earth element is detected. By suppressing the crystallization of rare earth components that promote the grain growth of alumina during sintering, the abnormal grain growth of alumina can be suppressed. Therefore, in addition to the effect of any one of claims 1 to 4, the mechanical strength of the insulator can be ensured.

請求項6記載のスパークプラグによれば、絶縁体は、表面の算術平均粗さが1μm以下なので、表面の凹凸を絶縁体の破断の起点になり難くすることができる。よって、請求項1から5のいずれかの効果に加え、絶縁体の機械的強度を確保できる。 According to the spark plug according to claim 6, since the arithmetic average roughness of the surface of the insulator is 1 μm or less, it is possible to make the unevenness of the surface less likely to be the starting point of the breakage of the insulator. Therefore, in addition to the effect of any one of claims 1 to 5, the mechanical strength of the insulator can be ensured.

本発明の一実施の形態におけるスパークプラグの片側断面図である。It is one side sectional view of the spark plug in one Embodiment of this invention. 絶縁体の組織の模式図である。It is a schematic diagram of the structure of an insulator. (a)は絶縁体のSTEM像であり、(b)はSTEM−EDSによるAlの分布を示す図であり、(c)はLaの分布を示す図であり、(d)はBaの分布を示す図であり、(e)はMgの分布を示す図であり、(f)は酸素の分布を示す図である。(A) is a STEM image of an insulator, (b) is a diagram showing the distribution of Al by STEM-EDS, (c) is a diagram showing the distribution of La, and (d) is a diagram showing the distribution of Ba. It is a figure which shows, (e) is a figure which shows the distribution of Mg, (f) is a figure which shows the distribution of oxygen. 測定点1〜6の位置を示す絶縁体のSTEM像である。6 is a STEM image of an insulator showing the positions of measurement points 1 to 6. (a)は測定点1における電子線回折図形であり、(b)は測定点2における電子線回折図形であり、(c)は測定点3における電子線回折図形であり、(d)は測定点4における電子線回折図形であり、(e)は測定点5における電子線回折図形であり、(f)は測定点6における電子線回折図形である。(A) is an electron diffraction pattern at the measurement point 1, (b) is an electron diffraction pattern at the measurement point 2, (c) is an electron diffraction pattern at the measurement point 3, and (d) is a measurement. It is an electron diffraction figure at a point 4, (e) is an electron diffraction figure at a measurement point 5, and (f) is an electron diffraction figure at a measurement point 6. 耐電圧試験装置の断面図である。It is sectional drawing of the withstand voltage test apparatus.

以下、本発明の好ましい実施形態について添付図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施におけるスパークプラグ10の軸線Oを境にした片側断面図である。図1では、紙面下側をスパークプラグ10の先端側、紙面上側をスパークプラグ10の後端側という。図1に示すようにスパークプラグ10は、絶縁体11、中心電極13、主体金具15及び接地電極16を備えている。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view on one side of the spark plug 10 in one embodiment of the present invention with the axis O as a boundary. In FIG. 1, the lower side of the paper surface is referred to as the front end side of the spark plug 10, and the upper side of the paper surface is referred to as the rear end side of the spark plug 10. As shown in FIG. 1, the spark plug 10 includes an insulator 11, a center electrode 13, a main metal fitting 15, and a ground electrode 16.

絶縁体11は、機械的特性や高温下の絶縁性に優れるアルミナ基焼結体からなる略円筒状の部材である。絶縁体11は、軸線Oに沿って貫通する軸孔12が形成されている。中心電極13は、軸孔12に挿入されると共に絶縁体11の先端側に保持される金属製(例えばニッケル基合金製)の棒状の電極である。 The insulator 11 is a substantially cylindrical member made of an alumina-based sintered body having excellent mechanical properties and insulating properties at high temperatures. The insulator 11 is formed with a shaft hole 12 penetrating along the axis O. The center electrode 13 is a metal (for example, nickel-based alloy) rod-shaped electrode that is inserted into the shaft hole 12 and held on the tip end side of the insulator 11.

端子金具14は、高圧ケーブル(図示せず)が接続される棒状の部材であり、導電性を有する金属材料(例えば低炭素鋼等)によって形成されている。端子金具14は絶縁体11に取り付けられ、端子金具14の先端側は軸孔12内に配置される。端子金具14は中心電極13と軸孔12内で電気的に接続される。 The terminal fitting 14 is a rod-shaped member to which a high-voltage cable (not shown) is connected, and is made of a conductive metal material (for example, low carbon steel). The terminal fitting 14 is attached to the insulator 11, and the tip end side of the terminal fitting 14 is arranged in the shaft hole 12. The terminal fitting 14 is electrically connected to the center electrode 13 in the shaft hole 12.

主体金具15は、内燃機関のねじ穴(図示せず)に固定される略円筒状の部材であり、導電性を有する金属材料(例えば低炭素鋼等)によって形成されている。接地電極16は主体金具15に接合される金属製(例えばニッケル基合金製)の棒状の部材である。接地電極16は、中心電極13と火花ギャップを介して対向する。 The main metal fitting 15 is a substantially cylindrical member fixed to a screw hole (not shown) of an internal combustion engine, and is made of a conductive metal material (for example, low carbon steel). The ground electrode 16 is a metal (for example, nickel-based alloy) rod-shaped member joined to the main metal fitting 15. The ground electrode 16 faces the center electrode 13 via a spark gap.

図2は絶縁体11の組織の模式図である。図2は、絶縁体11の組織のごく一部を拡大したものが図示されている。アルミナ基焼結体からなる絶縁体11は、アルミナ(Al)を主体とする結晶粒20と、結晶粒20の境界である結晶粒界21と、を備えている。結晶粒界21には、2つの結晶粒20の境界である二結晶粒界22と、3つ以上の結晶粒20の境界である多結晶粒界23と、がある。 FIG. 2 is a schematic view of the structure of the insulator 11. FIG. 2 shows an enlarged view of a small part of the structure of the insulator 11. The insulator 11 made of an alumina-based sintered body includes crystal grains 20 mainly composed of alumina (Al 2 O 3 ) and crystal grain boundaries 21 which are boundaries of the crystal grains 20. The crystal grain boundary 21 includes a two crystal grain boundary 22 which is a boundary between two crystal grains 20 and a polycrystalline grain boundary 23 which is a boundary between three or more crystal grains 20.

絶縁体11を構成するアルミナ基焼結体は、Al,Si,Ba及び希土類元素を含有する。アルミナ基焼結体は、Alに換算して、Al成分を90〜98wt%含有する。これにより、焼結性を確保すると共に良好な耐電圧性能を得ることができる。Al成分はAl,BaAl 12 19,BaAlSi等の結晶相を形成して結晶粒20に存在し、結晶粒界21にも存在する。 The alumina-based sintered body constituting the insulator 11 contains Al, Si, Ba and a rare earth element. The alumina-based sintered body contains 90 to 98 wt% of the Al component in terms of Al 2 O 3 . As a result, sinterability can be ensured and good withstand voltage performance can be obtained. The Al component forms a crystal phase such as Al 2 O 3 , BaAl 12 O 19 , BaAl 2 Si 2 O 8, and is present in the crystal grain 20, and is also present in the crystal grain boundary 21.

Si成分は焼結助剤由来の成分であり、酸化物、イオン等としてアルミナ基焼結体に存在する。Si成分は、通常、焼結時には溶融して液相を形成し、焼結体の緻密化を促進する焼結助剤として機能する。焼結後は、BaAl 12 Si等の結晶相を形成して結晶粒20に存在し、ガラスの骨格の一部となって結晶粒界21にも存在する。アルミナ基焼結体は、SiOに換算して、Si成分を1〜5wt%、好ましくは1〜2.7wt%含有する。これにより、焼結体の緻密化を促進させる一方、低融点のガラス相が結晶粒界21に過剰に形成されないようにできる。また、Si成分はAl成分およびBa成分と共に、Alと密着性の高いBaAlSiを形成して耐電圧特性および機械的特性を向上させる。 The Si component is a component derived from the sintering aid and is present in the alumina-based sintered body as an oxide, an ion, or the like. The Si component usually melts during sintering to form a liquid phase, and functions as a sintering aid that promotes densification of the sintered body. After sintering, it forms a crystal phase such as BaAl 12 Si 2 O 8 and exists in the crystal grains 20, becomes a part of the skeleton of the glass, and also exists in the crystal grain boundaries 21. The alumina-based sintered body contains 1 to 5 wt%, preferably 1 to 2.7 wt% of the Si component in terms of SiO 2 . As a result, while promoting the densification of the sintered body, it is possible to prevent the glass phase having a low melting point from being excessively formed at the grain boundaries 21. Further, the Si component, together with the Al component and the Ba component, forms BaAl 2 Si 2 O 8 having high adhesion to Al 2 O 3 to improve the withstand voltage characteristic and the mechanical characteristic.

Ba成分は焼結助剤由来の成分であり、酸化物、イオン等としてアルミナ基焼結体に存在する。Ba成分は、通常、焼結時には溶融して液相を形成し、焼結体の緻密化を促進する焼結助剤として機能する。焼結後は、BaAl 12 19,BaAlSi等の結晶相を形成して結晶粒20に存在し、結晶粒界21にも存在する。 The Ba component is a component derived from a sintering aid and is present in an alumina-based sintered body as an oxide, an ion, or the like. The Ba component usually melts at the time of sintering to form a liquid phase, and functions as a sintering aid that promotes densification of the sintered body. After sintering, a crystal phase such as BaAl 12 O 19 , BaAl 2 Si 2 O 8 or the like is formed and exists in the crystal grain 20, and also exists in the crystal grain boundary 21.

アルミナ基焼結体は、BaOに換算して、Ba成分を0.3〜6wt%、好ましくは1〜6wt%含有する。これにより、焼結体の緻密化を促進させる一方、低融点のガラス相が結晶粒界21に過剰に形成されないようにできる。さらに、低融点のガラスを形成し易いSiと共にBaAlSi等の結晶相を形成することにより、Siを含むガラス相の形成を抑制して耐電圧特性および機械的強度を向上させる。 The alumina-based sintered body contains 0.3 to 6 wt%, preferably 1 to 6 wt% of the Ba component in terms of BaO. As a result, while promoting the densification of the sintered body, it is possible to prevent the glass phase having a low melting point from being excessively formed at the grain boundaries 21. Further, by forming a crystal phase such as BaAl 2 Si 2 O 8 together with Si which easily forms a glass having a low melting point, the formation of a glass phase containing Si is suppressed and the withstand voltage characteristics and mechanical strength are improved.

アルミナ基焼結体は、Ba以外のMg,Ca等のアルカリ土類金属を含有することができる。Mg成分およびCa成分は、Ba成分と同様に焼結助剤として機能する。焼結後は、酸化物、イオン等として結晶粒20や結晶粒界21に存在する。アルミナ基焼結体は、MgOに換算して、Mg成分を0.1〜1wt%含有する。また、CaOに換算して、Ca成分を2wt%以下、好ましくは0.3wt%以下含有する。これにより、焼結体の緻密化を促進させる一方、低融点のガラス相が結晶粒界21に過剰に形成されないようにできる。 The alumina-based sintered body can contain an alkaline earth metal such as Mg and Ca other than Ba. The Mg component and the Ca component function as a sintering aid in the same manner as the Ba component. After sintering, it exists as oxides, ions, etc. in the crystal grains 20 and the crystal grain boundaries 21. The alumina-based sintered body contains 0.1 to 1 wt% of Mg component in terms of MgO. Further, in terms of CaO, the Ca component is contained in an amount of 2 wt% or less, preferably 0.3 wt% or less. As a result, while promoting the densification of the sintered body, it is possible to prevent the glass phase having a low melting point from being excessively formed at the grain boundaries 21.

希土類成分は焼結助剤由来の成分であり、Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb及びLuを含む。希土類成分は、酸化物、イオン等として結晶粒20や結晶粒界21に存在する。希土類成分は、焼結時にアルミナの異常粒成長を抑制し、絶縁体の機械的強度を確保する。希土類成分は、Y,La,Pr,Nd及びYbを含む成分が、取り扱いが容易なため好適である。アルミナ基焼結体は、酸化物換算で、希土類成分を0.11〜5wt%含有する。これにより、焼結時のアルミナの異常粒成長を抑制する一方、低融点のガラス相が結晶粒界21に過剰に形成されないようにできる。 The rare earth component is a component derived from a sintering aid and includes Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu. The rare earth component exists in the crystal grains 20 and the crystal grain boundaries 21 as oxides, ions, and the like. The rare earth component suppresses abnormal grain growth of alumina during sintering and secures the mechanical strength of the insulator. As the rare earth component, a component containing Y, La, Pr, Nd and Yb is suitable because it is easy to handle. The alumina-based sintered body contains 0.11 to 5 wt% of a rare earth component in terms of oxide. As a result, it is possible to suppress the abnormal grain growth of alumina during sintering, while preventing the glass phase having a low melting point from being excessively formed at the grain boundaries 21.

アルミナ基焼結体は、この発明の目的を損なわない範囲で、不可避不純物などの他の元素を含有しても良い。他の元素としては、Na,S,N,B,Ti,Mn,Ni等が挙げられる。Na成分を含有する場合、NaOに換算して、100〜2000ppmが好ましい。アルミナ基焼結体を緻密化できると共に、Naの結晶粒界への析出を抑制して高温環境下における耐電圧性能を確保するためである。 The alumina-based sintered body may contain other elements such as unavoidable impurities as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of other elements include Na, S, N, B, Ti, Mn, Ni and the like. When the Na component is contained, it is preferably 100 to 2000 ppm in terms of Na 2 O. This is because the alumina-based sintered body can be densified and the precipitation of Na at the grain boundaries is suppressed to ensure the withstand voltage performance in a high temperature environment.

次に、絶縁体11及びスパークプラグ10の製造方法について具体的に説明する。絶縁体11の原料粉末として、主成分としてのAl化合物粉末、Si化合物粉末、Ba化合物粉末および希土類化合物粉末と、バインダーと、溶媒とを混合して、スラリーを調製する。必要に応じて、可塑剤、消泡剤、分散剤等の添加物を添加してもよい。各原料粉末の混合は、原料粉末の混合状態を均一にし、かつ得られる焼結体を高度に緻密化することができるように、8時間以上にわたって行われるのが好ましい。 Next, a method for manufacturing the insulator 11 and the spark plug 10 will be specifically described. As the raw material powder of the insulator 11, an Al compound powder, a Si compound powder, a Ba compound powder and a rare earth compound powder as main components, a binder and a solvent are mixed to prepare a slurry. If necessary, additives such as a plasticizer, an antifoaming agent, and a dispersant may be added. The mixing of the raw material powders is preferably carried out for 8 hours or more so that the mixed state of the raw material powders can be made uniform and the obtained sintered body can be highly densified.

Al化合物粉末は、焼成によりアルミナに転化する化合物であれば特に制限はなく、通常、アルミナ粉末が用いられる。Al化合物粉末は、現実的に不可避不純物としてNa成分を含有していることがあるので、高純度のものを用いるのが好ましく、例えば、Al化合物粉末における純度は99.5%以上であるのが好ましい。 The Al compound powder is not particularly limited as long as it is a compound that is converted to alumina by firing, and alumina powder is usually used. Since the Al compound powder may actually contain a Na component as an unavoidable impurity, it is preferable to use a high-purity powder. For example, the purity of the Al compound powder is 99.5% or more. preferable.

Al化合物粉末は、緻密なアルミナ基焼結体を得るには、通常、その平均粒径が0.1〜5.0μmの粉末を使用するのがよい。この平均粒径は、レーザー回折法(日機装株式会社製、マイクロトラック粒度分布測定装置(MT−3000))により測定した値である。 As the Al compound powder, in order to obtain a dense alumina-based sintered body, it is usually preferable to use a powder having an average particle size of 0.1 to 5.0 μm. This average particle size is a value measured by a laser diffraction method (Microtrack particle size distribution measuring device (MT-3000) manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

Al化合物粉末は、焼成後のアルミナ基焼結体の質量(酸化物換算)を100質量%としたときに、酸化物換算で90質量%以上98質量%以下となるように調製されることが、良好な耐電圧性能を得る上で好ましい。 The Al compound powder may be prepared so as to be 90% by mass or more and 98% by mass or less in terms of oxide when the mass (oxide equivalent) of the alumina-based sintered body after firing is 100% by mass. , Preferred for obtaining good withstand voltage performance.

Si化合物粉末、Ba等のアルカリ土類金属の化合物粉末および希土類化合物粉末は、焼成によりSi、アルカリ土類金属および希土類の酸化物に転化できる化合物であれば特に制限はなく、例えば、各元素の酸化物、その複合酸化物、水酸化物、炭酸塩、塩化物、硫酸塩、硝酸塩等の各種無機系粉末、又は天然鉱物の粉末等を挙げることができる。なお、Si化合物粉末等として酸化物以外の粉末を使用する場合には、その使用量は酸化物に換算したときの質量%で把握する。Si化合物粉末等の純度および平均粒径はAl化合物粉末の場合と基本的に同様である。 The compound powder of an alkaline earth metal such as Si compound powder and Ba and the rare earth compound powder are not particularly limited as long as they are compounds that can be converted into oxides of Si, alkaline earth metal and rare earth by firing. For example, of each element. Examples thereof include various inorganic powders such as oxides, composite oxides thereof, hydroxides, carbonates, chlorides, sulfates and nitrates, and powders of natural minerals. When a powder other than an oxide is used as the Si compound powder or the like, the amount used is grasped by the mass% when converted into an oxide. The purity and average particle size of the Si compound powder and the like are basically the same as those of the Al compound powder.

バインダーは、原料粉末の成形性を良好にすることができればよく、そのようなバインダーとして親水性結合剤を挙げることができる。親水性結合剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、水溶性アクリル樹脂、アラビアゴム、デキストリン等を挙げることができる。これらのバインダーは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 The binder only needs to be able to improve the moldability of the raw material powder, and a hydrophilic binder can be mentioned as such a binder. Examples of the hydrophilic binder include polyvinyl alcohol, water-soluble acrylic resin, gum arabic, dextrin and the like. These binders may be used alone or in combination of two or more.

バインダーとしては、結晶化を阻害しないように、Na成分およびK成分の少ないものを使用するのが好ましい。バインダーは、原料粉末100質量部に対して、0.1〜7質量部の割合で配合されるのが好ましく、1〜5質量部の割合で配合されるのが特に好ましい。 As the binder, it is preferable to use a binder having a small amount of Na component and K component so as not to inhibit crystallization. The binder is preferably blended in a proportion of 0.1 to 7 parts by mass, particularly preferably 1 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the raw material powder.

溶媒は、原料粉末を分散させることができればよく、そのような溶媒として水、アルコール等を挙げることができる。これらの溶媒は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。溶媒は、原料粉末100質量部に対して、40〜120質量部であるのが好ましく、50〜100質量部であるのが特に好ましい。 The solvent may be any solvent as long as the raw material powder can be dispersed, and examples of such a solvent include water and alcohol. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The solvent is preferably 40 to 120 parts by mass and particularly preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the raw material powder.

原料粉末、バインダー、溶媒等を混合して得られたスラリーは、スプレードライ法等により噴霧乾燥されて球状の造粒物に調製される。この造粒物の平均粒径は、30〜200μmが好ましく、50〜150μmが特に好ましい。この平均粒径は、レーザー回折法(日機装株式会社製、マイクロトラック粒度分布測定装置(MT−3000))により測定した値である。 The slurry obtained by mixing the raw material powder, the binder, the solvent and the like is spray-dried by a spray-drying method or the like to prepare a spherical granule. The average particle size of this granulated product is preferably 30 to 200 μm, particularly preferably 50 to 150 μm. This average particle size is a value measured by a laser diffraction method (Microtrack particle size distribution measuring device (MT-3000) manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

次に、この造粒物を例えばラバープレス又は金型プレス等でプレス成形して成形体を得る。得られた成形体は、その外面がレジノイド砥石等で研削されることにより形状が整えられる。なお、成形体の成形方法はプレス成形に限られるものではなく、射出成形等の他の成形方法を採用することは当然可能である。 Next, this granulated product is press-molded with, for example, a rubber press or a die press to obtain a molded product. The shape of the obtained molded product is adjusted by grinding the outer surface thereof with a resinoid grindstone or the like. The molding method of the molded product is not limited to press molding, and it is naturally possible to adopt other molding methods such as injection molding.

所望の形状に整形された成形体を、大気雰囲気下、1450℃以上の最高温度まで4時間以内に昇温し、最高温度で1〜1.5時間焼成した後、冷却することにより、アルミナ基焼結体が得られる。アルミナの異常粒成長を抑制して、得られるアルミナ基焼結体(絶縁体11)の耐電圧性能および機械的強度を確保する。 The molded product shaped into a desired shape is heated to a maximum temperature of 1450 ° C. or higher within 4 hours in an air atmosphere, fired at the maximum temperature for 1 to 1.5 hours, and then cooled to form an alumina group. A sintered body is obtained. Abnormal grain growth of alumina is suppressed, and the withstand voltage performance and mechanical strength of the obtained alumina-based sintered body (insulator 11) are ensured.

一方、Ni基合金等の電極材料を所定の形状および寸法に加工して中心電極13及び接地電極16を作製する。所定の形状および寸法に塑性加工等によって形成した主体金具15に接地電極16を抵抗溶接等によって接合する。絶縁体11に中心電極13及び端子金具14を公知の方法により組み付け、接地電極16が接合された主体金具15に絶縁体11を組み付ける。接地電極16の先端部を中心電極13側に折り曲げて、接地電極16の先端が中心電極13の先端と対向するようにして、スパークプラグ10が製造される。 On the other hand, an electrode material such as a Ni-based alloy is processed into a predetermined shape and dimensions to produce a center electrode 13 and a ground electrode 16. The ground electrode 16 is joined to the main metal fitting 15 formed by plastic working or the like into a predetermined shape and size by resistance welding or the like. The center electrode 13 and the terminal metal fitting 14 are assembled to the insulator 11 by a known method, and the insulator 11 is assembled to the main metal fitting 15 to which the ground electrode 16 is joined. The spark plug 10 is manufactured by bending the tip of the ground electrode 16 toward the center electrode 13 so that the tip of the ground electrode 16 faces the tip of the center electrode 13.

絶縁体11は、酸化物換算で、Si成分を1〜5wt%、Mg成分を0.1〜1wt%、Ca成分を2wt%以下、Ba成分を0.3〜6wt%、希土類成分を0.11〜5wt%含有する。これにより、低融点のガラス相が焼成時に適度に形成されるので、アルミナ基焼結体を緻密化できる。なお、元素の定量分析は、例えばICP発光分光分析やICP質量分析等によって行われる。 In the insulator 11, the Si component is 1 to 5 wt%, the Mg component is 0.1 to 1 wt%, the Ca component is 2 wt% or less, the Ba component is 0.3 to 6 wt%, and the rare earth component is 0. Contains 11-5 wt%. As a result, a glass phase having a low melting point is appropriately formed at the time of firing, so that the alumina-based sintered body can be densified. Quantitative analysis of elements is performed by, for example, ICP emission spectroscopic analysis or ICP mass spectrometry.

次に図3から図5を参照して、エネルギー分散型X線分析装置が付いた走査透過型電子顕微鏡(STEM−EDS)を用いて絶縁体11を分析した結果を説明する。図3(a)は絶縁体11のSTEM像である。図3(b)はSTEM−EDSによるAlの分布を示す図であり、図3(c)はLaの分布を示す図であり、図3(d)はBaの分布を示す図であり、図3(e)はMgの分布を示す図であり、図3(f)は酸素の分布を示す図である。 Next, with reference to FIGS. 3 to 5, the results of analyzing the insulator 11 using a scanning transmission electron microscope (STEM-EDS) equipped with an energy dispersive X-ray analyzer will be described. FIG. 3A is a STEM image of the insulator 11. FIG. 3B is a diagram showing the distribution of Al by STEM-EDS, FIG. 3C is a diagram showing the distribution of La, and FIG. 3D is a diagram showing the distribution of Ba. 3 (e) is a diagram showing the distribution of Mg, and FIG. 3 (f) is a diagram showing the distribution of oxygen.

図4は電子線回折図形の測定点1〜6の位置を示す絶縁体11のSTEM像である。なお、図4で示す測定点1〜6は全て粒界三重点(多結晶粒界23、図2参照)である。図5(a)は測定点1における電子線回折図形であり、図5(b)は測定点2における電子線回折図形であり、図5(c)は測定点3における電子線回折図形であり、図5(d)は測定点4における電子線回折図形であり、図5(e)は測定点5における電子線回折図形であり、図5(f)は測定点6における電子線回折図形である。図3から図5は、STEM−EDSを用いて電子線のプローブ径が1.0nmの条件下で絶縁体11を50,000倍の倍率で分析した結果である。図4に付したバーの一目盛は60nmを示している。 FIG. 4 is a STEM image of the insulator 11 showing the positions of the measurement points 1 to 6 of the electron diffraction pattern. The measurement points 1 to 6 shown in FIG. 4 are all grain boundary triple points (see polycrystalline grain boundaries 23 and FIG. 2). FIG. 5A is an electron diffraction pattern at the measurement point 1, FIG. 5B is an electron diffraction pattern at the measurement point 2, and FIG. 5C is an electron diffraction pattern at the measurement point 3. 5 (d) is an electron diffraction pattern at the measurement point 4, FIG. 5 (e) is an electron diffraction pattern at the measurement point 5, and FIG. 5 (f) is an electron diffraction pattern at the measurement point 6. is there. 3 to 5 are the results of analyzing the insulator 11 at a magnification of 50,000 times under the condition that the probe diameter of the electron beam is 1.0 nm using STEM-EDS. One scale of the bar attached to FIG. 4 indicates 60 nm.

なお、絶縁体11は、STEM−EDSを用いて電子線のプローブ径が1.0nmの条件下で200,000倍の倍率で分析したときに、結晶粒界21(図2参照)のうち厚さ15nm以下の部分を無作為に選択した測定点において、Si及び希土類が検出される。Si及び希土類が検出された測定点において、Ba,Mg,Ca,Sr等のアルカリ土類金属は検出限界未満であり、検出されない。二結晶粒界22にアルカリ土類金属が検出されないように絶縁体11を調製することにより、高温環境下における二結晶粒界22の脆化を抑制できる。その結果、絶縁体11の高温環境下における耐電圧性能を向上できる。 The insulator 11 is thicker than the grain boundaries 21 (see FIG. 2) when analyzed using STEM-EDS at a magnification of 200,000 times under the condition that the probe diameter of the electron beam is 1.0 nm. Si and rare earths are detected at measurement points where a portion of 15 nm or less is randomly selected. At the measurement points where Si and rare earths were detected, alkaline earth metals such as Ba, Mg, Ca and Sr were below the detection limit and were not detected. By preparing the insulator 11 so that the alkaline earth metal is not detected at the two grain boundaries 22, the embrittlement of the two crystal grain boundaries 22 can be suppressed in a high temperature environment. As a result, the withstand voltage performance of the insulator 11 in a high temperature environment can be improved.

図3(c)及び図3(d)と図4とを照合すると、測定点1〜4ではBaが存在し、測定点5,6ではLaが存在していることが確認できる。また、図5(a)から図5(d)に示すように、測定点1〜4の電子線回折図形には回折斑点が存在し、ブロードな円環状のハローパターンがみられない。これにより、測定点1〜4は結晶化していることがわかる。絶縁体11は、Baが検出される部分が結晶化しているので、多結晶粒界23等のBaが検出される部分の高温環境下における脆化を抑制できる。よって、絶縁体11の高温環境下での耐電圧性能を向上できる。さらに、強度が劣るSiO−BaO−La系のガラス相の生成を抑制できるので、絶縁体11の強度を向上できる。 By collating FIGS. 3 (c) and 3 (d) with FIG. 4, it can be confirmed that Ba exists at the measurement points 1 to 4 and La exists at the measurement points 5 and 6. Further, as shown in FIGS. 5A to 5D, diffraction spots are present in the electron diffraction figures of the measurement points 1 to 4, and a broad annular halo pattern is not observed. From this, it can be seen that the measurement points 1 to 4 are crystallized. Since the portion where Ba is detected is crystallized in the insulator 11, embrittlement of the portion where Ba is detected such as the polycrystalline grain boundary 23 can be suppressed in a high temperature environment. Therefore, the withstand voltage performance of the insulator 11 in a high temperature environment can be improved. Furthermore, it is possible to suppress the formation of SiO 2 -BaO-La 2 O 3 based glass phase strength is inferior, it is possible to improve the strength of the insulator 11.

絶縁体11は、図3(d)で確認された、Baが検出される部分の中の中央付近の任意の10点の測定点のうち、電子線回折図形にハローパターンがみられる測定点が3点以上となるように調製されるのが好ましい。この条件を満たす場合には、Baによりアルミナ基焼結体の緻密化を促進させることができ、さらに多結晶粒界23等のBaが存在する部分の高温環境下における脆化を抑制できる。よって、絶縁体11の高温環境下での耐電圧性能を向上できる。 In the insulator 11, among the arbitrary 10 measurement points near the center in the portion where Ba is detected, which is confirmed in FIG. 3D, the measurement point in which the halo pattern is observed in the electron diffraction pattern is the measurement point. It is preferable that the score is 3 or more. When this condition is satisfied, the densification of the alumina-based sintered body can be promoted by Ba, and the embrittlement of the portion where Ba exists, such as the polycrystalline grain boundary 23, can be suppressed in a high temperature environment. Therefore, the withstand voltage performance of the insulator 11 in a high temperature environment can be improved.

一方、図5(e)及び図5(f)に示すように、La(希土類元素)が検出される測定点5,6の電子線回折図形はブロードな円環状のハローパターンがみられる。これにより、測定点5,6は非晶質(ガラス相)であることがわかる。絶縁体11は、希土類元素が検出される部分の中の任意の10点の測定点のうち、ハローパターンがみられ、非晶質であることがわかる測定点が5点以上あるように調製されるのが好ましい。この場合には、焼結時にアルミナの粒成長を促進する希土類成分の結晶化を抑制することにより、アルミナの異常粒成長を抑制できる。よって、絶縁体11の機械的強度を確保できる。 On the other hand, as shown in FIGS. 5 (e) and 5 (f), the electron diffraction pattern at the measurement points 5 and 6 where La (rare earth element) is detected has a broad annular halo pattern. From this, it can be seen that the measurement points 5 and 6 are amorphous (glass phase). The insulator 11 is prepared so that there are 5 or more measurement points that show a halo pattern and are found to be amorphous, out of any 10 measurement points in the portion where the rare earth element is detected. Is preferable. In this case, by suppressing the crystallization of the rare earth component that promotes the grain growth of alumina during sintering, the abnormal grain growth of alumina can be suppressed. Therefore, the mechanical strength of the insulator 11 can be ensured.

絶縁体11は、回折角および相対強度で特定されるX線回折図形において、BaAl 12 19の回折強度II(2θ:35.74°)に対するBaAlSiの回折強度I(2θ:22.50°)の比率(I/II)が0.5以上に設定されるのが好ましい。これにより、Baを含みSiを含まないBaAl 12 19等の結晶相に比べて、Alとの密着性が高いBa及びSiを含むBaAlSi等の結晶相の比率を多くできる。Ba系の結晶相とアルミナの結晶相との間の界面を破壊され難くできるので、絶縁体11の耐電圧性能を向上できる。 In the X-ray diffraction pattern specified by the diffraction angle and the relative intensity, the insulator 11 has the diffraction intensity I (2θ :) of the BaAl 2 Si 2 O 8 with respect to the diffraction intensity II (2θ: 35.74 °) of the BaAl 12 O 19. The ratio (I / II) of 22.50 °) is preferably set to 0.5 or more. As a result, the ratio of the crystal phase such as BaAl 2 Si 2 O 8 containing Ba and Si, which has high adhesion to Al 2 O 3 , is increased as compared with the crystal phase such as Ba Al 12 O 19 containing Ba and not containing Si. You can do a lot. Since the interface between the Ba-based crystal phase and the alumina crystal phase can be made less likely to be broken, the withstand voltage performance of the insulator 11 can be improved.

絶縁体11は、結晶粒20(図2参照)の平均粒径が0.3〜1.0μmに調製されるのが好ましい。平均粒径はインターセプト法により求める。インターセプト法では、軸線Oを含む絶縁体11の研磨断面に、既知の長さの試験線(直線)を引き、試験線が通過または捕捉した結晶粒20の数を求め、この数から平均粒径を得る。結晶粒20の平均粒径を0.3〜1.0μmとすることにより、絶縁体11の機械的強度を向上できる。 The insulator 11 is preferably prepared so that the average particle size of the crystal grains 20 (see FIG. 2) is 0.3 to 1.0 μm. The average particle size is determined by the intercept method. In the intercept method, a test line (straight line) of a known length is drawn on the polished cross section of the insulator 11 including the axis O, and the number of crystal grains 20 that the test line has passed or captured is obtained, and the average particle size is obtained from this number. To get. By setting the average particle size of the crystal grains 20 to 0.3 to 1.0 μm, the mechanical strength of the insulator 11 can be improved.

絶縁体11は、表面の算術平均粗さ(Ra)が1μm以下に調製されると好ましい。表面の凹凸を絶縁体11の破断の起点になり難くするためである。絶縁体11が射出成形によって成形されると、絶縁体11のRaをこの範囲に調製できる。これにより、絶縁体11の機械的強度を確保できる。 The insulator 11 is preferably prepared so that the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface is 1 μm or less. This is to make it difficult for the unevenness of the surface to become the starting point of the breakage of the insulator 11. When the insulator 11 is molded by injection molding, Ra of the insulator 11 can be adjusted in this range. As a result, the mechanical strength of the insulator 11 can be ensured.

算術平均粗さは、JIS B0601:1994年に準拠して測定される。算術平均粗さRaの測定は、非接触式の形状測定レーザマイクロスコープVK−X110/X100(キーエンス社製)や、SEM等の顕微鏡やマイクロスコープ等で得られた画像を解析する画像解析ソフトWinROOF(三谷商事製)を用いて行われる。 Arithmetic mean roughness is measured according to JIS B0601: 1994. Arithmetic mean roughness Ra is measured by the non-contact shape measurement laser microscope VK-X110 / X100 (manufactured by KEYENCE) and the image analysis software WinROOF that analyzes images obtained with a microscope such as SEM or a microscope. (Mitani Shoji) is used.

絶縁体11の相対密度は94〜99%であると好ましい。耐電圧特性と機械的強度とを確保するためである。相対密度は、実験(アルキメデス法)により求めた密度を理論密度で除した値である。理論密度は、ICP発光分光分析およびICP質量分析により、アルミナ基焼結体(絶縁体11)のうちAl以外に0.1wt%以上含まれる元素を定量分析し、その他をAlとして算出する。 The relative density of the insulator 11 is preferably 94 to 99%. This is to ensure withstand voltage characteristics and mechanical strength. The relative density is the value obtained by dividing the density obtained by the experiment (Archimedes method) by the theoretical density. The theoretical density is calculated by quantitatively analyzing the elements contained in the alumina-based sintered body (insulator 11) in addition to Al by 0.1 wt% or more by ICP emission spectroscopic analysis and ICP mass analysis, and calculating the other elements as Al 2 O 3. To do.

さらに、絶縁体11の任意の断面を鏡面研磨した面内に存在する気孔のうち1μm以上の大きさの気孔の割合が1%以下であると好ましい。気孔への応力集中を抑制するためである。これにより、絶縁体11の高温環境下における耐電圧特性と機械的強度とを向上できる。 Further, it is preferable that the proportion of pores having a size of 1 μm or more among the pores existing in the surface obtained by mirror-polishing an arbitrary cross section of the insulator 11 is 1% or less. This is to suppress stress concentration in the pores. As a result, the withstand voltage characteristics and mechanical strength of the insulator 11 in a high temperature environment can be improved.

本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

(アルミナ基焼結体の製造)
原料粉末として、平均粒径が0.2〜2.1μmのアルミナ粉末、SiO粉末、及び、Ba,Ca,Mg,Laの炭酸塩粉末を準備した。これらの粉末を種々の割合で混合した原料粉末と、バインダーとしてのポリビニルアルコールと、溶媒としての水とを混合して種々のスラリーを調製した。
(Manufacturing of alumina-based sintered body)
As raw material powders, alumina powder having an average particle size of 0.2 to 2.1 μm, SiO 2 powder, and carbonate powders of Ba, Ca, Mg, and La were prepared. Various slurries were prepared by mixing raw material powders obtained by mixing these powders in various ratios, polyvinyl alcohol as a binder, and water as a solvent.

得られたスラリーをスプレードライ法等により噴霧乾燥し、平均粒径が約100μmの球状の造粒物に調製した。得られた造粒物に熱可塑性樹脂を混練した後、射出成形することにより、種々の成形体を得た。この成形体を大気雰囲気下において、温度1450℃〜1650℃の範囲内の焼成時間を1〜8時間に設定して、サンプル1〜29における種々の焼結体(絶縁体11の形状に焼成した試料を含む)を得た。以下、サンプル(焼結体)の評価方法について説明する。 The obtained slurry was spray-dried by a spray-drying method or the like to prepare a spherical granule having an average particle size of about 100 μm. After kneading the obtained granulated product with a thermoplastic resin, injection molding was performed to obtain various molded products. This molded product was fired in various sintered bodies (insulator 11 shape) in Samples 1-29 in an air atmosphere with a firing time in the temperature range of 1450 ° C. to 1650 ° C. set to 1 to 8 hours. (Including sample) was obtained. Hereinafter, a method for evaluating a sample (sintered body) will be described.

(成分分析)
サンプル1〜12における焼結体の組成、即ち各成分の含有率を、ICP発光分光分析により検出した。検出された各成分の酸化物換算の質量の合計を100wt%としたときの質量割合(%)として、各成分の含有率を算出した。
(Principal component analysis)
The composition of the sintered body in Samples 1 to 12, that is, the content of each component was detected by ICP emission spectroscopic analysis. The content rate of each component was calculated as the mass ratio (%) when the total of the detected oxide-equivalent masses of each component was 100 wt%.

(STEM−EDS)
サンプル1〜23,27〜29における焼結体について、STEM−EDS(日立製作所製HD−2000)を用いて組成に関する情報を得た。加速電圧は200kV、電子線のプローブ径は1.0nmとし、EDSによる元素分析、元素マッピング、電子線回折を50,000倍の倍率で行った。
(STEM-EDS)
Information on the composition of the sintered bodies in Samples 1 to 23 and 27 to 29 was obtained using STEM-EDS (HD-2000 manufactured by Hitachi, Ltd.). The accelerating voltage was 200 kV, the probe diameter of the electron beam was 1.0 nm, and elemental analysis, element mapping, and electron diffraction by EDS were performed at a magnification of 50,000 times.

EDSによる元素分析は、結晶粒界21(図2参照)のうち厚さ15nm以下の部分に電子を3分間照射してデータを取得した。その部分におけるアルカリ土類金属の分析は薄膜近似法により行い、Si−K線の強度に対するBa−L線またはCa−K線の強度から算出した濃度比が10.0%以下の場合は、ノイズによる影響と判断して、その部分にアルカリ土類金属は存在しない(検出限界未満)とした。 In the elemental analysis by EDS, data was obtained by irradiating a portion of the grain boundary 21 (see FIG. 2) having a thickness of 15 nm or less with an electron for 3 minutes. The analysis of alkaline earth metals in that part is performed by the thin film approximation method, and when the concentration ratio calculated from the intensity of Ba-L line or Ca-K line to the intensity of Si-K line is 10.0% or less, noise It was judged that there was no alkaline earth metal in that part (less than the detection limit).

また、元素マッピングによってBaが検出された部分の中の中央付近の任意の10点の測定点について電子線回折を行った。また、Laが検出された粒界三重点の中の任意の10点の測定点について電子線回折を行った。各測定点の電子線回折図形がハローパターンかどうかを調べた。 In addition, electron diffraction was performed at any 10 measurement points near the center in the portion where Ba was detected by element mapping. In addition, electron diffraction was performed on any 10 measurement points in the triple point of the grain boundary where La was detected. It was examined whether the electron diffraction pattern of each measurement point was a halo pattern.

(平均粒径)
サンプル1〜29における焼結体(絶縁体11)について、軸線O(図1参照)を含む断面を鏡面研磨した後、熱エッチング処理を行った。熱エッチング処理の代わりに化学エッチング処理を行っても良い。SEMを用いて、エッチング処理を行った断面を観察した。SEMの加速電圧は15kV、作動距離は10〜12mmとした。1視野の大きさを200μm×200μmとする矩形領域のSEM画像を、無作為に10視野撮影した。
(Average particle size)
The sintered body (insulator 11) in Samples 1 to 29 was subjected to thermal etching treatment after mirror polishing the cross section including the axis O (see FIG. 1). A chemical etching process may be performed instead of the thermal etching process. The cross section subjected to the etching treatment was observed using SEM. The acceleration voltage of the SEM was 15 kV, and the working distance was 10 to 12 mm. SEM images of a rectangular region having a size of one field of view of 200 μm × 200 μm were randomly photographed in 10 fields of view.

次いで、インターセプト法によって平均粒径を求めた。まず、得られたSEM画像の矩形領域の2つの対角線の少なくとも一方と交差する結晶粒を選択し、選択された個々の結晶粒について、その最大径を求めてこれを長径D1とした。最大径は、その結晶粒の外径をあらゆる方向から測定したときの最大値である。そして、長径D1の中点を通り長径D1と直交する直線上における結晶粒の外径を短径D2とした。長径D1と短径D2の平均値を、その結晶粒のみなし粒径とした。対角線の少なくとも一方と交差するn個の結晶粒のみなし粒径の平均値を、その視野における平均粒径とした。平均粒径はSEM画像の視野ごとに多少の差が発生するので、10視野の平均値を平均粒径とした。 Then, the average particle size was determined by the intercept method. First, crystal grains intersecting at least one of the two diagonal lines in the rectangular region of the obtained SEM image were selected, and the maximum diameter of the selected individual crystal grains was obtained and designated as the major diameter D1. The maximum diameter is the maximum value when the outer diameter of the crystal grain is measured from all directions. Then, the outer diameter of the crystal grains on the straight line passing through the midpoint of the major axis D1 and orthogonal to the major axis D1 was defined as the minor axis D2. The average value of the major axis D1 and the minor axis D2 was taken as the deemed particle size of the crystal grains. The average value of the deemed particle sizes of n crystal grains intersecting at least one of the diagonal lines was taken as the average particle size in the field of view. Since the average particle size varies slightly depending on the field of view of the SEM image, the average value of 10 fields of view was used as the average particle size.

(耐電圧試験)
図6に示す耐電圧試験装置30を用いて、サンプル1〜20,24〜26における有底筒状の試料41(アルミナ基焼結体)の800℃における高温耐電圧試験を行った。図6は耐電圧試験装置30の断面図である。
(anti-voltage test)
Using the withstand voltage test device 30 shown in FIG. 6, a high temperature withstand voltage test at 800 ° C. was performed on the bottomed tubular sample 41 (alumina-based sintered body) of Samples 1 to 20, 24 to 26. FIG. 6 is a cross-sectional view of the withstand voltage test device 30.

図6に示すように、試料41は軸線方向の中心に軸孔42が形成されている。軸孔42は先端が塞がれている。試料41は、軸孔42の先端の開口が塞がれた円筒状の小径部43と、小径部43よりも外径が大きい円筒状の大径部44とを備えている。小径部43及び大径部44は軸線方向に連接されている。耐電圧試験装置30は、金属製の環状部材31と、環状部材31を加熱するヒータ32と、環状部材31との間に高電圧が印加される棒状の電極33とを備えている。電極33はNi合金製である。 As shown in FIG. 6, the sample 41 has a shaft hole 42 formed at the center in the axial direction. The tip of the shaft hole 42 is closed. The sample 41 includes a cylindrical small-diameter portion 43 in which the opening at the tip of the shaft hole 42 is closed, and a cylindrical large-diameter portion 44 having an outer diameter larger than that of the small-diameter portion 43. The small diameter portion 43 and the large diameter portion 44 are connected in the axial direction. The withstand voltage test device 30 includes a metal annular member 31, a heater 32 for heating the annular member 31, and a rod-shaped electrode 33 to which a high voltage is applied between the annular member 31. The electrode 33 is made of Ni alloy.

試料41の軸孔42の開口から軸孔42の先端まで電極33を挿入し、試料41の小径部43と大径部44との境界付近の外周面に環状部材31の内周面が接するように環状部材31を配置した状態で、試料41の耐電圧を測定した。 The electrode 33 is inserted from the opening of the shaft hole 42 of the sample 41 to the tip of the shaft hole 42 so that the inner peripheral surface of the annular member 31 comes into contact with the outer peripheral surface near the boundary between the small diameter portion 43 and the large diameter portion 44 of the sample 41. The withstand voltage of the sample 41 was measured with the annular member 31 arranged in the sample 41.

具体的には、試料41の周囲が800℃になるまでヒータ32で加熱した状態で、環状部材31と電極33との間に電圧を印加した。電圧は1.5kV/秒の割合で昇圧し、試料41に絶縁破壊が発生したとき、即ち試料41が貫通して昇圧できなくなったときの電圧値を測定した。 Specifically, a voltage was applied between the annular member 31 and the electrode 33 while the sample 41 was heated by the heater 32 until the circumference of the sample 41 reached 800 ° C. The voltage was boosted at a rate of 1.5 kV / sec, and the voltage value was measured when dielectric breakdown occurred in the sample 41, that is, when the sample 41 penetrated and could not be boosted.

絶縁破壊した試料41を耐電圧試験装置30から取り出し、絶縁破壊して貫通した部分の試料41の外周面から軸孔42までの厚さを測定した。絶縁破壊が発生したときの電圧値を厚さで除した値(kV/mm)を耐電圧とした。 The dielectric-broken sample 41 was taken out from the withstand voltage test device 30, and the thickness from the outer peripheral surface of the sample 41 to the shaft hole 42 of the portion through which the dielectric breakdown was broken was measured. The value (kV / mm) obtained by dividing the voltage value at the time of dielectric breakdown by the thickness was defined as the withstand voltage.

(曲げ強度)
JIS R1601:2008年に基づいて、室温(5〜35℃)における3点曲げ強さを測定した。
(Bending strength)
Based on JIS R1601: 2008, the three-point bending strength at room temperature (5-35 ° C.) was measured.

(算術平均粗さ)
サンプル21〜23における焼結体(絶縁体11)について、形状測定レーザマイクロスコープVK−X110/X100(キーエンス社製)を用いて、絶縁体11の先端部の軸線O方向における算術平均粗さを測定した。
(Arithmetic mean roughness)
For the sintered body (insulator 11) in samples 21 to 23, the shape measurement laser microscope VK-X110 / X100 (manufactured by KEYENCE CORPORATION) was used to determine the arithmetic mean roughness of the tip of the insulator 11 in the axis O direction. It was measured.

(ベンディング試験)
サンプル21〜23における焼結体(絶縁体11)について、材料試験機を用いて、周方向における異なる3方向から絶縁体11(図1参照)の先端部に対して軸線Oと直交する向きの荷重を加え、絶縁体11に破壊が生じたときの荷重(破壊荷重)を測定した。
(Bending test)
Regarding the sintered body (insulator 11) in the samples 21 to 23, using a material tester, the directions are orthogonal to the axis O with respect to the tip of the insulator 11 (see FIG. 1) from three different directions in the circumferential direction. A load was applied, and the load (breaking load) when the insulator 11 was broken was measured.

(X線回折)
サンプル24〜26における焼結体に研磨処理を施した後、株式会社リガク製のX線回折装置(型式:Smart Lab)を用いて、X線:CuKα(λ1.54Å)、X線出力:40kV−30mA、スキャンスピード(計数時間):20.0、サンプリング幅:0.02deg、入射スリット:1/2deg、受光スリット(1):15.000mm、受光スリット(2):20.000mmの測定条件でX線回折分析をした。
(X-ray diffraction)
After polishing the slits in Samples 24 to 26, X-ray: CuKα (λ1.54Å), X-ray output: 40 kV using an X-ray diffractometer (model: Smart Lab) manufactured by Rigaku Co., Ltd. Measurement conditions of -30 mA, scan speed (counting time): 20.0, sampling width: 0.02 deg, incident slit: 1/2 deg, light receiving slit (1): 15.000 mm, light receiving slit (2): 20.000 mm X-ray diffraction analysis was performed at.

得られたX線回折図形から、BaAl 12 19の回折強度II(2θ:35.74°)に対するBaAlSiの回折強度I(2θ:22.50°)の比率(I/II)を算出した。X線回折図形における各ピークの回折強度は、株式会社リガク製のデータ解析ソフト「ピークサーチ」を用い、平滑化:加重平均(平滑化点数11)、バックグラウンド除去(ピーク幅閾値0.10、強度閾値0.01)の条件でデータ処理することにより求めた。 From the obtained X-ray diffraction pattern, the ratio (I / II) of the diffraction intensity I (2θ: 22.50 °) of BaAl 2 Si 2 O 8 to the diffraction intensity II (2θ: 35.74 °) of BaAl 12 O 19 ) Was calculated. For the diffraction intensity of each peak in the X-ray diffraction pattern, use the data analysis software "Peak Search" manufactured by Rigaku Co., Ltd., smoothing: weighted average (smoothing points 11), background removal (peak width threshold 0.10, It was obtained by data processing under the condition of intensity threshold 0.01).

なお、サンプル1〜29における焼結体の相対密度は94〜99%であり、焼結体の任意の断面を鏡面研磨した面内に存在する気孔のうち1μm以上の大きさの気孔の割合は1%未満であった。また、サンプル1〜29における焼結体は、Na成分の含有率が、酸化物(NaO)換算で100〜2000ppmであった。 The relative density of the sintered body in Samples 1 to 29 is 94 to 99%, and the proportion of pores having a size of 1 μm or more among the pores existing in the surface obtained by mirror-polishing an arbitrary cross section of the sintered body is It was less than 1%. Further, the sintered body in Samples 1 to 29 had a Na component content of 100 to 2000 ppm in terms of oxide (Na 2 O).

表1は、サンプル1〜12の組成、15nm以下の厚さの結晶粒界に検出された元素、平均粒径、800℃における耐電圧および曲げ強度の測定結果である。 Table 1 shows the measurement results of the compositions of Samples 1 to 12, the elements detected at the grain boundaries having a thickness of 15 nm or less, the average particle size, the withstand voltage at 800 ° C., and the bending strength.

サンプル1〜10は結晶粒界にSi及びLaが検出されたのに対し、サンプル11,12は、Si及びLaに加えてBa又はCaが結晶粒界に検出された。サンプル1〜10の耐電圧は、結晶粒界にBa又はCaが検出されたサンプル11,12の耐電圧に比べて著しく高いことがわかった。サンプル1〜10は、高温環境下における結晶粒界の脆化を抑制できるので、サンプル11,12に比べて、高温環境下における耐電圧性能を向上できたと推察される。 In Samples 1 to 10, Si and La were detected at the grain boundaries, whereas in Samples 11 and 12, Ba or Ca was detected at the grain boundaries in addition to Si and La. It was found that the withstand voltage of Samples 1 to 10 was significantly higher than that of Samples 11 and 12 in which Ba or Ca was detected at the grain boundaries. Since the samples 1 to 10 can suppress the embrittlement of the crystal grain boundaries in a high temperature environment, it is presumed that the withstand voltage performance in a high temperature environment can be improved as compared with the samples 11 and 12.

なお、サンプル12の結晶粒界にCaが検出されたのは、Ca成分の含有率が2wt%よりも高かったからであると推察される。また、サンプル11の結晶粒界にBaが検出されたのは、他のサンプルよりも焼成時間が長かったからであると推察される。 It is presumed that Ca was detected at the grain boundaries of sample 12 because the content of Ca component was higher than 2 wt%. Further, it is presumed that Ba was detected at the grain boundaries of the sample 11 because the firing time was longer than that of the other samples.

Ba成分の含有率が1wt%よりも低いサンプル2,10は、他のサンプルに比べて曲げ強度が低いことがわかった。サンプル2,10は、Ba成分の含有率が低く、BaAlSi等のSiを含む結晶相が形成され難いため、Siを含むガラス相の形成を抑制する効果が乏しくなり、結晶粒界の強度が低下したと推察される。 It was found that the samples 2 and 10 having a Ba component content of less than 1 wt% had lower bending strength than the other samples. Samples 2 and 10 have a low content of Ba component, and it is difficult to form a crystal phase containing Si such as BaAl 2 Si 2 O 8, so that the effect of suppressing the formation of a glass phase containing Si is poor, and crystal grains. It is presumed that the strength of the field has decreased.

Ca成分の含有率が0.3wt%よりも高いサンプル8は、サンプル1,3〜7,9に比べて曲げ強度が低いことがわかった。サンプル8は、Ca成分によって強度の低いガラス相が結晶粒界に形成されたので、強度が低下したと推察される。 It was found that the sample 8 having a Ca component content of more than 0.3 wt% had a lower bending strength than the samples 1, 3 to 7, 9. It is presumed that the strength of Sample 8 was lowered because a low-strength glass phase was formed at the grain boundaries by the Ca component.

Si成分の含有率が2.7wt%以下のサンプル5,7は、曲げ強度が710MPa以上あることがわかった。サンプル5,7は、Si成分の含有率が低く、強度の低いガラス相の生成を抑制できたので、強度が向上したと推察される。 It was found that the samples 5 and 7 having a Si component content of 2.7 wt% or less had a bending strength of 710 MPa or more. It is presumed that the strength of Samples 5 and 7 was improved because the content of the Si component was low and the formation of a low-strength glass phase could be suppressed.

表2は、サンプル13〜20の15nm以下の厚さの結晶粒界に検出された元素、Baが検出された部分の中の中央付近の任意の10点の測定点のうち、電子線回折図形がハローパターンだった測定点の数、平均粒径、800℃における耐電圧および曲げ強度の測定結果である。 Table 2 shows an electron diffraction pattern among any 10 measurement points near the center of the portion where Ba, an element detected at a grain boundary having a thickness of 15 nm or less in samples 13 to 20, was detected. Is the number of measurement points in the halo pattern, the average particle size, the withstand voltage at 800 ° C., and the bending strength.

サンプル19,20は、Baが検出された部分の中の任意の10点の測定点のうちハローパターンが3点または5点みられたサンプルであり、サンプル1〜18に比べて、Baが検出された部分の結晶化が進行していないことを示している。サンプル19,20は、サンプル1〜18に比べて、耐電圧が低いことがわかった。さらに、ハローパターンがみられる測定点が5点のサンプル20は、ハローパターンがみられる測定点が3点のサンプル19に比べて耐電圧が低いことがわかった。これにより、高温環境下での耐電圧を向上させるため、Baが検出された部分(主に多結晶粒界23)の結晶化を進行させ、高温環境下における多結晶粒界23(図2参照)等の脆化を抑制することが有効であると推察される。 Samples 19 and 20 are samples in which 3 or 5 halo patterns are found out of any 10 measurement points in the portion where Ba is detected, and Ba is detected as compared with Samples 1 to 18. It indicates that the crystallization of the portion that has been formed has not progressed. It was found that the samples 19 and 20 had a lower withstand voltage than the samples 1 to 18. Further, it was found that the sample 20 having 5 measurement points where the halo pattern was observed had a lower withstand voltage than the sample 19 which had 3 measurement points where the halo pattern was observed. As a result, in order to improve the withstand voltage in the high temperature environment, the crystallization of the portion where Ba is detected (mainly the polycrystalline grain boundary 23) is promoted, and the polycrystalline grain boundary 23 in the high temperature environment (see FIG. 2). It is presumed that it is effective to suppress embrittlement such as).

サンプル13〜17は結晶粒界(主に二結晶粒界22)にSi及びLaが検出されたのに対し、サンプル18はSi及びLaに加えてBaが結晶粒界に検出された。サンプル13〜17の耐電圧は、サンプル18の耐電圧に比べて高いことがわかった。サンプル13〜17は、高温環境下における二結晶粒界22(図2参照)の脆化を抑制できるので、サンプル18に比べて、高温環境下における耐電圧性能を向上できたと推察される。従って、高温環境下における耐電圧性能を向上させるには、サンプル13〜17のように、15nm以下の厚さの結晶粒界にSi及びLa(希土類元素)を存在させ、Baが検出された部分の電子線回折図形に回折斑点を存在させるのが良いことがわかった。 In Samples 13 to 17, Si and La were detected at the grain boundaries (mainly the two grain boundaries 22), whereas in Sample 18, Ba was detected at the grain boundaries in addition to Si and La. It was found that the withstand voltage of the samples 13 to 17 was higher than the withstand voltage of the sample 18. Since the samples 13 to 17 can suppress the embrittlement of the double grain boundaries 22 (see FIG. 2) in a high temperature environment, it is presumed that the withstand voltage performance in a high temperature environment can be improved as compared with the sample 18. Therefore, in order to improve the withstand voltage performance in a high temperature environment, Si and La (rare earth element) are present at the grain boundaries having a thickness of 15 nm or less, as in Samples 13 to 17, and Ba is detected. It was found that it is good to have diffraction spots on the electron beam diffraction pattern of.

サンプル16は平均粒径が0.3μm未満のサンプルであり、サンプル17は平均粒径が1.0μmより大きいサンプルである。平均粒径が0.3〜1.0μmのサンプル13〜15は、サンプル16,17に比べて、曲げ強度が大きいことがわかった。サンプル16は焼成時の粒成長が不十分のため強度が低く、サンプル17は粗大粒子が存在して強度が低下したと推察される。 Sample 16 is a sample having an average particle size of less than 0.3 μm, and sample 17 is a sample having an average particle size of more than 1.0 μm. It was found that the samples 13 to 15 having an average particle size of 0.3 to 1.0 μm had higher bending strength than the samples 16 and 17. It is presumed that the strength of the sample 16 was low due to insufficient grain growth during firing, and that the strength of the sample 17 was lowered due to the presence of coarse particles.

表3は、サンプル21〜23の15nm以下の厚さの結晶粒界に検出された元素、Baが検出された部分の中の中央付近の任意の10点の測定点のうち電子線回折図形がハローパターンだった測定点の数、平均粒径、絶縁体11の先端部の算術平均粗さ及びベンディング試験における破壊荷重の測定結果である。 Table 3 shows the electron diffraction pattern of any 10 measurement points near the center of the part where Ba was detected, which is an element detected at the grain boundaries of samples 21 to 23 having a thickness of 15 nm or less. It is the measurement result of the number of measurement points which was a halo pattern, the average grain size, the arithmetic mean roughness of the tip of the insulator 11, and the breaking load in the bending test.

サンプル23は、算術平均粗さが1.0μmより大きいサンプルである。算術平均粗さが1.0μm以下のサンプル21,22は、サンプル23に比べて、ベンディング試験の破壊荷重が大きいことがわかった。サンプル23は、絶縁体11の先端部の表面の凹凸が破壊の起点となり、破壊荷重が小さくなったと推察される。 Sample 23 is a sample having an arithmetic mean roughness larger than 1.0 μm. It was found that the samples 21 and 22 having an arithmetic mean roughness of 1.0 μm or less had a larger breaking load in the bending test than the sample 23. In sample 23, it is presumed that the unevenness of the surface of the tip of the insulator 11 became the starting point of fracture, and the fracture load became smaller.

表4は、サンプル24〜26の15nm以下の厚さの結晶粒界に検出された元素、X線回折図形から算出したBaAl 12 19の回折強度II(2θ:35.74°)に対するBaAlSiの回折強度I(2θ:22.50°)の比率(I/II)、平均粒径および800℃における耐電圧の測定結果である。 Table 4 shows BaAl 2 with respect to the diffraction intensity II (2θ: 35.74 °) of BaAl 12 O 19 calculated from the X-ray diffraction pattern, which is an element detected at the grain boundaries of samples 24 to 26 having a thickness of 15 nm or less. It is the measurement result of the ratio (I / II) of the diffraction intensity I (2θ: 22.50 °) of Si 2 O 8 , the average particle size, and the withstand voltage at 800 ° C.

サンプル26はI/IIが0.5未満のサンプルである。I/IIが0.5以上のサンプル24,25は、サンプル26に比べて、耐電圧が大きいことがわかった。サンプル26は、サンプル24,25に比べてBaAl 12 19の量が多く、Alの結晶相とBaAl 12 19の結晶相との界面の接合強度は、Alの結晶相とBaAlSiの結晶相との界面の接合強度よりも小さいので、サンプル26は、Alの結晶相とBaAl 12 19の結晶相との界面で絶縁破壊したと推察される。 Sample 26 is a sample having an I / II of less than 0.5. It was found that the samples 24 and 25 having an I / II of 0.5 or more had a larger withstand voltage than the samples 26. Sample 26 has a larger amount of BaAl 12 O 19 than samples 24 and 25, and the bonding strength at the interface between the crystal phase of Al 2 O 3 and the crystal phase of Ba Al 12 O 19 is the crystal phase of Al 2 O 3 . Since it is smaller than the bonding strength at the interface between and the crystal phase of BaAl 2 Si 2 O 8 , it is presumed that the sample 26 was insulated and fractured at the interface between the crystal phase of Al 2 O 3 and the crystal phase of Ba Al 12 O 19. To.

表5は、サンプル27〜29の15nm以下の厚さの結晶粒界に検出された元素、Laが検出された部分の中の任意の10点の測定点のうち電子線回折図形がハローパターンだった測定点の数、平均粒径および曲げ強度の測定結果である。 In Table 5, the electron diffraction pattern is a halo pattern among any 10 measurement points in the portion where La, an element detected at a grain boundary having a thickness of 15 nm or less in samples 27 to 29, is detected. It is the measurement result of the number of measurement points, the average particle size and the bending strength.

サンプル27は、Laが検出された粒界三重点の中の任意の10点の測定点のうち10点の電子線解析図形がハローパターンであった。サンプル29は、Laが検出された部分の中の任意の10点の測定点のうち10点の電子線解析図形に回折斑点が確認され、ハローパターンがみられなかった。サンプル27は、サンプル29に比べて、Laが検出された部分の結晶化が進行していないことを示している。サンプル28の結晶化の度合いは、サンプル27,29の結晶化の度合いの中間である。 In the sample 27, the electron beam analysis figure of 10 out of 10 arbitrary measurement points in the grain boundary triple point where La was detected was a halo pattern. In the sample 29, diffraction spots were confirmed on the electron beam analysis figures of 10 of the arbitrary 10 measurement points in the portion where La was detected, and no halo pattern was observed. Sample 27 shows that the crystallization of the portion where La was detected has not progressed as compared with Sample 29. The degree of crystallization of Sample 28 is in the middle of the degree of crystallization of Samples 27 and 29.

サンプル27,28,29は平均粒径が同じだが、サンプル29,28,27の順に曲げ強度が高くなることがわかった。サンプル29,28,27の順に、焼結時にアルミナの粒成長を促進する希土類成分の結晶化を抑制できたので、サンプルの強度が向上したと推察される。 It was found that the samples 27, 28, and 29 had the same average particle size, but the bending strength increased in the order of the samples 29, 28, and 27. It is presumed that the strength of the samples was improved because the crystallization of the rare earth component that promotes the grain growth of alumina during sintering could be suppressed in the order of samples 29, 28, and 27.

なお、この実施例では、希土類元素としてLaを配合した場合について説明したが、Y,Pr,Nd,Yb等の他の希土類元素を配合した場合にも、同様の結果が得られる。 In this example, the case where La is blended as a rare earth element has been described, but the same result can be obtained when other rare earth elements such as Y, Pr, Nd, and Yb are blended.

以上、実施の形態に基づき本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。 Although the present invention has been described above based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. It can be easily inferred.

上記実施の形態では、主体金具15に接合された接地電極16と中心電極13との間に火花放電を生じさせるスパークプラグ10の場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではない。実施の形態で説明したアルミナ基焼結体を、他のスパークプラグの絶縁体に適用することは当然可能である。他のスパークプラグとしては、例えば、中心電極13を内包する絶縁体の周囲にバリア放電を生じさせるスパークプラグ、絶縁体を貫通する中心電極の先端にコロナ放電を生じさせるスパークプラグ等が挙げられる。 In the above embodiment, the case of the spark plug 10 that generates a spark discharge between the ground electrode 16 and the center electrode 13 joined to the main metal fitting 15 has been described, but the present invention is not necessarily limited to this. Of course, it is possible to apply the alumina-based sintered body described in the embodiment to the insulator of another spark plug. Examples of other spark plugs include a spark plug that causes a barrier discharge around an insulator containing the center electrode 13, a spark plug that causes a corona discharge at the tip of the center electrode penetrating the insulator, and the like.

10 スパークプラグ
11 絶縁体
21 結晶粒界
10 Spark plug 11 Insulator 21 Grain boundary

Claims (6)

アルミナ基焼結体からなる絶縁体を備え、
前記絶縁体は、Si,Ba及び希土類元素を含有するスパークプラグであって、
前記絶縁体は、電子線のプローブ径が1nmの走査透過型電子顕微鏡を用いた分析において、Baが検出される部分の中の任意の10点の測定点のうちの8点以上の電子線回折図形に回折斑点が存在するスパークプラグ。
Equipped with an insulator made of an alumina-based sintered body
The insulator is a spark plug containing Si, Ba and a rare earth element.
The insulator is diffracted by 8 or more of any 10 measurement points in the portion where Ba is detected in the analysis using a scanning transmission electron microscope having an electron beam probe diameter of 1 nm. A spark plug with diffraction spots on the figure.
前記絶縁体は、前記分析において、厚さ15nm以下の結晶粒界にSi及び希土類元素が検出され、前記結晶粒界におけるアルカリ土類金属は検出限界未満である請求項1記載のスパークプラグ。 The spark plug according to claim 1, wherein Si and rare earth elements are detected at grain boundaries having a thickness of 15 nm or less in the analysis, and alkaline earth metals at the grain boundaries are below the detection limit. 前記絶縁体は、平均粒径が0.3〜1.0μmである請求項1又は2記載のスパークプラグ。 The spark plug according to claim 1 or 2, wherein the insulator has an average particle size of 0.3 to 1.0 μm. 前記絶縁体は、回折角および相対強度で特定されるX線回折図形において、BaAl 12 19のピーク強度(II)に対するBaAlSiのピーク強度(I)の比率(I/II)が0.5以上である請求項1から3のいずれかに記載のスパークプラグ。 The insulator is the ratio (I / II) of the peak intensity (I) of BaAl 2 Si 2 O 8 to the peak intensity (II) of BaAl 12 O 19 in the X-ray diffraction pattern specified by the diffraction angle and the relative intensity. The spark plug according to any one of claims 1 to 3, wherein the spark plug is 0.5 or more. 前記絶縁体は、前記分析において、希土類元素が検出される部分の中の任意の10点の測定点のうちの5点以下の電子線回折図形に回折斑点が存在する請求項1から4のいずれかに記載のスパークプラグ。 The insulator is any of claims 1 to 4 in which diffraction spots are present in an electron diffraction pattern of 5 or less of any 10 measurement points in the portion where a rare earth element is detected in the analysis. Spark plug described in Crab. 前記絶縁体は、表面の算術平均粗さが1μm以下である請求項1から5のいずれかに記載のスパークプラグ。 The spark plug according to any one of claims 1 to 5, wherein the insulator has an arithmetic mean roughness of the surface of 1 μm or less.
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