JP6782005B2 - Screen mask and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、スクリーンマスクおよびその製造方法に関する。詳しくは、簡単で安価な構造でありながら耐久性に優れ、高精度な印刷を確実に実現可能とするスクリーンマスクと、現像作業中における印刷パターン孔の閉塞を確実に防止可能なスクリーンマスクの製造方法に係わるものである。 The present invention relates to a screen mask and a method for manufacturing the same. Specifically, we manufacture screen masks that have a simple and inexpensive structure but have excellent durability and can reliably realize high-precision printing, and screen masks that can reliably prevent blockage of print pattern holes during development work. It concerns the method.

印刷手法の一つに、スクリーン印刷が用いられている。スクリーン印刷とは、スクリーンメッシュに所定の印刷パターンを形成したスクリーンマスクに、印刷ペーストをスキージという押付け部材で押し付けながら印刷パターン孔を通過させることにより、被印刷物上に、印刷パターンに応じた印刷を行うものである。 Screen printing is used as one of the printing methods. Screen printing is printing according to the printing pattern on the printed matter by passing the printing paste through the printing pattern holes while pressing the printing paste against the screen mask in which a predetermined printing pattern is formed on the screen mesh with a pressing member called a squeegee. It is what you do.

ここで、スクリーンマスクは、枠体に前述のスクリーンメッシュを接着剤で固定し、このスクリーンメッシュの表面に、感光すると硬化する感光性乳剤を塗布して層を形成し、この層に、フィルムやガラスに印刷パターンが形成されたフォトマスクを重ね、紫外線ランプや紫外線ＬＥＤ等で光線を照射して感光させ、所定部分を硬化させた後、水等の現像液で未硬化領域を洗い流して印刷パターン孔を形成することによって、製造される。 Here, in the screen mask, the above-mentioned screen mesh is fixed to a frame body with an adhesive, and a photosensitive emulsion that cures when exposed to light is applied to the surface of the screen mesh to form a layer, and a film or a film or the like is formed on this layer. A photo mask on which a print pattern is formed is superimposed on glass, and the film is exposed to light by irradiating it with ultraviolet rays such as an ultraviolet lamp or an ultraviolet LED to cure a predetermined portion. Manufactured by forming holes.

このようなスクリーン印刷は、幅広い対象物、例えば、紙、布、プラスチック、金属、ガラス等にも印刷が可能であることから、近年は、電子部品の製造への用途が拡大し、チップ部品の配線形成やフラットパネルディスプレイの電極形成、結晶シリコン太陽電池の製造等、高精度な印刷が求められる分野で幅広く使用されている。 Since such screen printing can print on a wide range of objects such as paper, cloth, plastic, metal, glass, etc., in recent years, the application to the manufacture of electronic parts has expanded, and chip parts have expanded. It is widely used in fields where high-precision printing is required, such as wiring formation, electrode formation for flat panel displays, and manufacturing of crystalline silicon solar cells.

そして、近年、電子部品の小型化、高品質化が進むにつれ、スクリーン印刷に使用するスクリーンマスクの高精度化が求められている。これに対し、スクリーンマスクの弾性率の分布を適正化することにより、スキージからスクリーンマスクにかかる圧力を均一にし、印刷パターン孔の幅が狭くても、この印刷パターン孔から被印刷物上に印刷ペーストを押し出してできる印刷層の膜厚（以下、「印刷膜厚」とする）を均一化する技術が公知となっている（例えば、特許文献１参照）。 In recent years, as electronic components have become smaller and of higher quality, higher precision of screen masks used for screen printing has been required. On the other hand, by optimizing the distribution of the elastic modulus of the screen mask, the pressure applied from the squeegee to the screen mask is made uniform, and even if the width of the print pattern hole is narrow, the print paste is printed on the printed matter from the print pattern hole. A technique for equalizing the film thickness of a printed layer (hereinafter referred to as "printed film film") formed by extruding is known (see, for example, Patent Document 1).

特開２０１３−１６９７８３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-1697883

しかしながら、前記技術では、スクリーンマスクの弾性率を、例えば、感光性乳剤のエマルジョン厚みを変えることで設定するようにしている。このため、感光性乳剤の調整や塗布が難しい上、必ずしも所望の弾性率が精度良く得られるわけではなく、実際上、印刷膜厚を確実には均一化できない。 However, in the above technique, the elastic modulus of the screen mask is set by changing the emulsion thickness of the photosensitive emulsion, for example. Therefore, it is difficult to adjust and apply the photosensitive emulsion, and the desired elastic modulus cannot always be obtained with high accuracy, and in practice, the print film thickness cannot be reliably made uniform.

また、感光性乳剤による層が、スクリーンメッシュで被印刷物側の面に感光性乳剤を塗布して印刷パターン孔が形成された層（以下、「印刷パターン層」とする）と、この印刷パターン層で被印刷物と対向する面とは反対側の面に設けられ、内部にスクリーンメッシュの少なくとも一部が張設されると共に、印刷パターン孔に対応する位置に設けられたメッシュ側パターン孔が形成された層（以下、「メッシュ側パターン層」とする）との二層構造である場合、印刷パターン孔を狭くする際は、印刷パターン孔、メッシュ側パターン孔の両孔は、平面視でほぼ重なる形状に形成されると共に、これらが形成された印刷パターン層、メッシュ側パターン層の両層とも、できるだけ薄く形成されている。これは、メッシュ側パターン孔から印刷パターン孔にかけて形成される印刷ペーストの流路長をできるだけ短くして、スキージによる押出し力が作用しやすくし、印刷ペーストの押出し量を増加させて充分な印刷膜厚を確保するためである。 Further, the layer made of the photosensitive emulsion is a layer in which the photosensitive emulsion is applied to the surface on the printed matter side with a screen mesh to form print pattern holes (hereinafter referred to as "print pattern layer"), and the print pattern layer. It is provided on the surface opposite to the surface facing the printed matter, and at least a part of the screen mesh is stretched inside, and the mesh side pattern hole provided at a position corresponding to the print pattern hole is formed. In the case of a two-layer structure with a layer (hereinafter referred to as "mesh side pattern layer"), when narrowing the print pattern hole, both the print pattern hole and the mesh side pattern hole substantially overlap in a plan view. In addition to being formed into a shape, both the printed pattern layer and the mesh-side pattern layer on which these are formed are formed as thin as possible. This makes the flow path length of the print paste formed from the pattern holes on the mesh side to the print pattern holes as short as possible, facilitates the action of the extrusion force by the squeegee, and increases the extrusion amount of the print paste to provide a sufficient print film. This is to secure the thickness.

しかしながら、印刷パターン層が薄いと、スクリーンメッシュから、印刷パターン孔で印刷ペーストが押し出される開口部（以下、「押出し口」とする）までの距離が短くなり、スクリーンメッシュを構成する経糸や緯糸によって印刷ペーストの流れが乱れる等し、印刷ペーストの押出し量にばらつきが生じやすい。このため、印刷膜厚が不均一となって印刷精度が低下する。 However, when the print pattern layer is thin, the distance from the screen mesh to the opening (hereinafter referred to as “extrusion port”) from which the print paste is extruded through the print pattern holes becomes short, and the warp or weft that constitutes the screen mesh reduces the distance. The flow of the print paste is disturbed, and the amount of the print paste extruded tends to vary. Therefore, the printing film thickness becomes non-uniform and the printing accuracy is lowered.

更に、メッシュ側パターン層が薄いと、スクリーンメッシュの細線化が避けられない。このため、スクリーンメッシュが破損しやすくなり、スクリーンマスクの寿命が悪化すると共に、スクリーンメッシュの目が細かくなって高価となり、製造コストが増加する。 Further, if the pattern layer on the mesh side is thin, thinning of the screen mesh is unavoidable. For this reason, the screen mesh is easily damaged, the life of the screen mask is deteriorated, the screen mesh is finely grained and expensive, and the manufacturing cost is increased.

加えて、印刷パターン孔の幅が狭いと、スクリーンマスク製造時の現像作業において、現像液で未硬化領域を洗い流して印刷パターン孔を形成する際、未硬化領域に近接するために硬化が不充分な孔内壁が、現像液を吸って膨潤して孔内に膨出し、膨出部が互いに当接して接着する場合があった。このため、印刷パターン孔で閉塞される部分が発生し、印刷精度が低下する。 In addition, if the width of the print pattern hole is narrow, the curing is insufficient because it is close to the uncured area when the uncured area is washed away with a developing solution to form the print pattern hole in the developing work at the time of manufacturing the screen mask. The inner wall of the hole may absorb the developing solution and swell and swell into the hole, and the bulging portions may come into contact with each other and adhere to each other. For this reason, a portion blocked by the print pattern hole is generated, and the printing accuracy is lowered.

本発明は、以上の点に鑑みて創案されたものであり、簡単で安価な構造でありながら耐久性に優れ、高精度な印刷を確実に実現可能とするスクリーンマスクと、現像作業中における印刷パターン孔の閉塞を確実に防止可能なスクリーンマスクの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was devised in view of the above points, and is a screen mask having a simple and inexpensive structure, excellent durability, and surely realizing high-precision printing, and printing during development work. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a screen mask capable of reliably preventing blockage of pattern holes.

上記の目的を達成するために、本発明のスクリーンマスクは、被印刷物に転写する印刷パターン孔が形成された印刷パターン層と、印刷パターン層で被印刷物と対向する面とは反対側の面に設けられ、内部にスクリーンメッシュの少なくとも一部が張設されると共に、印刷パターン孔に対応する位置で印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔が形成されたメッシュ側パターン層とを備えている。 In order to achieve the above object, the screen mask of the present invention has a print pattern layer on which print pattern holes to be transferred to a printed matter are formed, and a surface of the print pattern layer opposite to the surface facing the printed matter. It is provided, and at least a part of the screen mesh is stretched inside, and a mesh side pattern layer in which a mesh side pattern hole wider than the print pattern hole is formed at a position corresponding to the print pattern hole is provided. ..

そして、被印刷物に転写する印刷パターン孔が形成された印刷パターン層を備えることによって、印刷パターン孔に従った印刷パターンを被印刷物上に印刷することが可能となる。すなわち、印刷ペーストが印刷パターン孔を通ってそのまま被印刷物上に導かれるため、印刷パターンに応じて、印刷ペーストを被印刷物上の所定位置に所定の形状で定着させることができる。 Then, by providing the print pattern layer in which the print pattern holes to be transferred to the printed matter are formed, it becomes possible to print the print pattern according to the print pattern holes on the printed matter. That is, since the print paste is guided directly onto the printed matter through the print pattern holes, the print paste can be fixed at a predetermined position on the printed matter in a predetermined shape according to the print pattern.

更に、メッシュ側パターン層が、印刷パターン層で被印刷物と対向する面とは反対側の面に設けられ、内部にスクリーンメッシュの少なくとも一部が張設されることによって、印刷精度を向上させることができる。すなわち、メッシュ側パターン層は、内部に張り巡らされたスクリーンメッシュによって強固に支持され、これにより、印刷パターン層も安定して支持されるため、印刷時に、印刷ペーストがメッシュ側パターン孔から印刷パターン孔を通って被印刷物上に導かれる際に、印刷パターン孔の位置ずれが起こりにくい。 Further, the mesh side pattern layer is provided on the surface of the print pattern layer opposite to the surface facing the printed matter, and at least a part of the screen mesh is stretched inside to improve the printing accuracy. Can be done. That is, the mesh-side pattern layer is firmly supported by the screen mesh stretched inside, whereby the print pattern layer is also stably supported, so that the print paste can be printed from the mesh-side pattern holes during printing. When the print pattern holes are guided onto the printed matter through the holes, the position of the print pattern holes is unlikely to shift.

加えて、メッシュ側パターン層に、印刷パターン孔に対応する位置で印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔が形成されることによって、印刷精度、耐久性の向上、製造コストの低減を図ることができる。すなわち、印刷ペーストの流路が、断面積が被印刷物に向かって減少する先絞り形状に形成されるため、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速が大きくなり、たとえ印刷ペーストの流路長が長くても、印刷ペーストの押出し量を充分に確保することができる。 In addition, the mesh-side pattern layer is formed with mesh-side pattern holes wider than the print pattern holes at positions corresponding to the print pattern holes, thereby improving printing accuracy, durability, and reducing manufacturing costs. Can be done. That is, since the flow path of the print paste is formed in a pre-drawn shape in which the cross-sectional area decreases toward the printed matter, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port becomes large, and even if the flow path length of the print paste is long. However, a sufficient amount of the printed paste to be extruded can be secured.

これにより、印刷パターン層、メッシュ側パターン層を薄くする必要がなくなる。そこで、印刷パターン層を厚くすることが可能となり、スクリーンメッシュから印刷パターン孔の押出し口までの距離を長くして、スクリーンメッシュの影響を軽減することができ、印刷ペーストの押出し量が安定化して印刷膜厚が均一となる。更に、メッシュ側パターン層を厚くすることが可能となり、スクリーンメッシュの太線化を行うことができ、破損しにくくなってスクリーンマスクの寿命が延びると共に、太線化により、安価な目が粗いスクリーンメッシュを使用することができ、部品コストが低下する。 This eliminates the need to thin the print pattern layer and the mesh side pattern layer. Therefore, it is possible to make the print pattern layer thicker, increase the distance from the screen mesh to the extrusion port of the print pattern hole, reduce the influence of the screen mesh, and stabilize the extrusion amount of the print paste. The print film thickness becomes uniform. Furthermore, the pattern layer on the mesh side can be made thicker, the screen mesh can be thickened, the screen mask is less likely to be damaged, the life of the screen mask is extended, and the thickened line makes an inexpensive coarse screen mesh. It can be used and the cost of parts is reduced.

また、メッシュ側パターン孔の幅を、印刷パターン孔の２倍以上に設定する場合は、メッシュ側パターン孔で印刷ペーストが押し込まれる開口部（以下、「押込み口」とする）の幅を、印刷パターン孔の押出し口の幅に比べて充分に拡大することができる。これにより、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速を充分に大きくし、印刷ペーストの押出し量を更に充分な量確保することができ、印刷精度、耐久性の向上、製造コストの低減を確実に図ることができる。 When the width of the pattern hole on the mesh side is set to be twice or more the width of the pattern hole on the mesh side, the width of the opening (hereinafter referred to as "push-in port") into which the print paste is pushed in the pattern hole on the mesh side is printed. It can be sufficiently enlarged as compared with the width of the extrusion port of the pattern hole. As a result, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port can be sufficiently increased, and a further sufficient amount of the print paste can be secured, thereby improving printing accuracy, durability, and reducing manufacturing costs. be able to.

そして、メッシュ側パターン孔の幅が印刷パターン孔の２倍未満では、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速が充分には大きくできず、印刷ペーストの粘性等の特性や印刷パターン孔、メッシュ側パターン孔の形状によっては流速が低くなりすぎ、印刷ペーストの安定した押出し量を確保するのが難しくなる。 If the width of the pattern hole on the mesh side is less than twice that of the print pattern hole, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port cannot be sufficiently increased, and the characteristics such as the viscosity of the print paste, the print pattern hole, and the mesh side pattern Depending on the shape of the holes, the flow velocity becomes too low, and it becomes difficult to secure a stable extrusion amount of the print paste.

また、メッシュ側パターン孔が、印刷パターン層側に向かって縮幅するテーパ部を有する場合は、印刷ペーストを、テーパ部に沿うようにして、メッシュ側パターン孔の押込み口から流路内に緩やかに流入させることができる。これにより、流路内への印刷ペーストの流入時における空気の混入を抑制すると共に、メッシュ側パターン孔内への印刷ペーストの残留を抑制して劣化した印刷ペーストの使用等を防ぐことができ、印刷品質の向上や更なる印刷膜厚の均一化を図ることができる。 When the pattern hole on the mesh side has a tapered portion that narrows toward the print pattern layer side, the print paste is gently applied along the tapered portion into the flow path from the insertion port of the pattern hole on the mesh side. Can be made to flow into. As a result, it is possible to suppress the mixing of air when the print paste flows into the flow path and to prevent the print paste from remaining in the pattern holes on the mesh side to prevent the use of deteriorated print paste. It is possible to improve the print quality and further make the print film thickness uniform.

また、印刷パターン孔の幅を３０〜８０μｍで、スクリーンメッシュの線径を２０μｍ以上に設定する場合は、スクリーンメッシュの太線化の影響を最小限に抑えた上で、印刷ペーストの安定した押出し量を確保することができる。これにより、印刷精度を高く維持しつつ、スクリーンメッシュが破損しにくくなってスクリーンマスクの寿命を延ばすと共に、安価な目が粗いスクリーンメッシュを使用して部品コストを低下させることができる。 When the width of the print pattern hole is set to 30 to 80 μm and the wire diameter of the screen mesh is set to 20 μm or more, the effect of thickening the screen mesh is minimized, and the stable extrusion amount of the print paste is minimized. Can be secured. As a result, while maintaining high printing accuracy, the screen mesh is less likely to be damaged, the life of the screen mask is extended, and the cost of parts can be reduced by using an inexpensive coarse screen mesh.

そして、印刷パターン孔の幅が３０μｍ未満では、線径２０μｍ以上の太いスクリーンメッシュによる影響で印刷ペーストの流れが大きく乱れ、印刷ペーストの押出し量がばらついて断線等のトラブルが発生する。印刷パターン孔の幅が８０μｍ超えでは、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速を充分には大きくできず、印刷ペーストの粘性等の特性や印刷パターン孔、メッシュ側パターン孔の形状によっては流速が低くなりすぎ、印刷ペーストの安定した押出し量を確保するのが難しくなる。 If the width of the print pattern hole is less than 30 μm, the flow of the print paste is greatly disturbed due to the influence of the thick screen mesh having a wire diameter of 20 μm or more, and the extrusion amount of the print paste varies, causing troubles such as disconnection. If the width of the print pattern hole exceeds 80 μm, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port cannot be sufficiently increased, and the flow velocity is low depending on the characteristics such as the viscosity of the print paste and the shape of the print pattern hole and the pattern hole on the mesh side. It becomes too much, and it becomes difficult to secure a stable extrusion amount of the print paste.

更に、スクリーンメッシュの線径が２０μｍ未満では、スクリーンメッシュの寿命はそれほど改善されず、スクリーンメッシュの太線化の効果が充分には得られないからである。 Further, if the wire diameter of the screen mesh is less than 20 μm, the life of the screen mesh is not improved so much, and the effect of thickening the screen mesh cannot be sufficiently obtained.

また、印刷パターン層の厚みを、印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の０．５倍以上に設定する場合は、スクリーンメッシュから印刷パターン孔の押出し口までの距離を充分に長くすることができる。これにより、スクリーンメッシュの影響を軽減することができ、印刷ペーストの押出し量が安定化して印刷膜厚が均一となる。なお、最小幅とは、設けられた複数の印刷パターン孔の幅が異なる場合には、その中で最も小さい幅を示す。 When the thickness of the print pattern layer is set to 0.5 times or more the minimum width of the print pattern holes, the distance from the screen mesh to the output port of the print pattern holes may be sufficiently long. it can. As a result, the influence of the screen mesh can be reduced, the extrusion amount of the print paste is stabilized, and the print film thickness becomes uniform. When the widths of the plurality of print pattern holes provided are different, the minimum width indicates the smallest width among them.

そして、印刷パターン層の厚みが、印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の０．５倍未満では、スクリーンメッシュから印刷パターン孔の押出し口までの距離が不充分であり、印刷ペーストがスクリーンメッシュの影響を受けて押出し量が安定化しない。 If the thickness of the print pattern layer is less than 0.5 times the minimum width of the print pattern holes, the distance from the screen mesh to the extrusion port of the print pattern holes is insufficient, and the print paste is printed on the screen mesh. The extrusion amount is not stabilized due to the influence of.

また、印刷パターン層が、メッシュ側パターン層よりも軟質である場合は、印刷パターン層の一面をメッシュ側パターン層によって支持しつつ、印刷パターン層の他面を被印刷物に接触させることができる。これにより、印刷パターン層が被印刷物の表面形状に沿って変形するようになり、スクリーンマスクの被印刷物への追従性が高まり、印刷精度を更に向上させることができる。 When the print pattern layer is softer than the mesh-side pattern layer, one side of the print pattern layer can be supported by the mesh-side pattern layer, and the other side of the print pattern layer can be brought into contact with the printed matter. As a result, the print pattern layer is deformed along the surface shape of the printed matter, the followability of the screen mask to the printed matter is improved, and the printing accuracy can be further improved.

また、印刷パターン層が、被印刷物側に、シリコン系乳剤から成る硬質層を有する場合は、印刷時に、印刷パターン層と被印刷物との間に硬い保護層を介設することができ、被印刷物上やその周辺に存在する異物、被印刷物自体の凸部等が印刷パターン層に接触しても損傷されにくくなると共に、スクリーンマスクの洗浄時に、洗浄液や手拭きとの間にも硬い保護層を介設することができ、洗浄液や手拭きによる機械的な損傷も防ぐことができる。これにより、スクリーンマスクの寿命が延びて耐久性を更に向上させることができる。 Further, when the printed pattern layer has a hard layer made of a silicon emulsion on the printed matter side, a hard protective layer can be interposed between the printed pattern layer and the printed matter at the time of printing, and the printed matter can be printed. Foreign matter existing on or around the printed matter, convex parts of the printed matter itself, etc. are less likely to be damaged even if they come into contact with the printed pattern layer, and when cleaning the screen mask, a hard protective layer is also inserted between the cleaning liquid and the hand wipe. It can be installed, and mechanical damage due to cleaning liquid or hand wiping can be prevented. As a result, the life of the screen mask can be extended and the durability can be further improved.

また、印刷パターン層が、被印刷物側に、印刷パターン層のアセタール化合物から成る硬質域を有する場合は、印刷時に、印刷パターン層で被印刷物と対向する面（以下、「対向面」とする）の近傍に、硬い保護域を設けることができ、被印刷物上やその周辺に存在する異物、被印刷物自体の凸部等が印刷パターン層に接触しても損傷されにくくなると共に、スクリーンマスクの洗浄時に、洗浄液や手拭きとの間にも硬い保護域を介設することができ、洗浄液や手拭きによる機械的な損傷も防ぐことができる。これにより、スクリーンマスクの寿命が延びて耐久性を更に向上させることができる。更に、この硬質域は簡単な改質操作によって形成することができる。これにより、新たな乳剤を準備する必要がなく、スクリーンマスクの製造時間の短縮や製造コストの低減を図ることができる。 When the printed pattern layer has a hard region made of an acetal compound of the printed pattern layer on the printed matter side, the surface of the printed pattern layer facing the printed matter (hereinafter referred to as "opposing surface") is used during printing. A hard protective area can be provided in the vicinity of the printed matter, so that foreign matter existing on or around the printed matter, convex portions of the printed matter itself, etc. are less likely to be damaged even if they come into contact with the printed pattern layer, and the screen mask is cleaned. Occasionally, a hard protective area can be provided between the cleaning liquid and the hand wipe, and mechanical damage due to the cleaning liquid and the hand wipe can be prevented. As a result, the life of the screen mask can be extended and the durability can be further improved. Furthermore, this hard region can be formed by a simple modification operation. As a result, it is not necessary to prepare a new emulsion, and it is possible to shorten the production time of the screen mask and reduce the production cost.

上記の目的を達成するために、本発明のスクリーンマスクの製造方法は、枠体内にスクリーンメッシュを張設する第１工程と、スクリーンメッシュに、メッシュ側パターン層となる感光性乳剤から成る第１乳剤層を設け、メッシュ側パターン層に、印刷パターン層となる感光性乳剤から成る第２乳剤層を設け、所定の露光作業によって、第１乳剤層を、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域を有するメッシュ側パターン層に形成し、第２乳剤層を、メッシュ側パターン孔に対応する印刷パターン孔となる未硬化領域を有する印刷パターン層に形成する第２工程と、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域が印刷パターン孔となる未硬化領域よりも幅広に形成された状態で、メッシュ側パターン層、印刷パターン層を洗浄して両未硬化領域を洗い流すことにより、印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔を形成する第３工程とを備えている。 In order to achieve the above object, the method for producing a screen mask of the present invention comprises a first step of stretching a screen mesh inside a frame and a first step of a photosensitive emulsion serving as a mesh-side pattern layer on the screen mesh. An emulsion layer is provided, a second emulsion layer made of a photosensitive emulsion to be a print pattern layer is provided on the mesh side pattern layer, and the first emulsion layer is formed into an uncured region to be a mesh side pattern hole by a predetermined exposure operation. The second step of forming the second emulsion layer on the print pattern layer having the uncured region which becomes the print pattern hole corresponding to the mesh side pattern hole, and the uncured part which becomes the mesh side pattern hole. With the cured region formed wider than the uncured region that becomes the print pattern hole, the mesh side pattern layer and the print pattern layer are washed to wash away both uncured regions, so that the mesh is wider than the print pattern hole. It includes a third step of forming a side pattern hole.

そして、枠体内にスクリーンメッシュを張設する第１工程によって、スクリーンマスクの基礎部を形成することができる。 Then, the base portion of the screen mask can be formed by the first step of stretching the screen mesh in the frame.

更に、スクリーンメッシュに、メッシュ側パターン層となる感光性乳剤から成る第１乳剤層を設け、メッシュ側パターン層に、印刷パターン層となる感光性乳剤から成る第２乳剤層を設け、所定の露光作業によって、第１乳剤層を、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域を有するメッシュ側パターン層に形成し、第２乳剤層を、メッシュ側パターン孔に対応する印刷パターン孔となる未硬化領域を有する印刷パターン層に形成する第２工程によって、メッシュ側パターン孔に従ったメッシュ側パターンをメッシュ側パターン層に形成することができ、印刷パターン孔に従った印刷パターンを被印刷物に転写可能な印刷パターン層に形成することができる。 Further, the screen mesh is provided with a first emulsion layer made of a photosensitive emulsion to be a mesh-side pattern layer, and the mesh-side pattern layer is provided with a second emulsion layer made of a photosensitive emulsion to be a print pattern layer. By the work, the first emulsion layer is formed in the mesh side pattern layer having the uncured area to be the mesh side pattern hole, and the second emulsion layer is formed into the uncured area to be the print pattern hole corresponding to the mesh side pattern hole. By the second step of forming on the printed pattern layer having the print pattern layer, the mesh side pattern according to the mesh side pattern hole can be formed on the mesh side pattern layer, and the print pattern according to the print pattern hole can be transferred to the printed matter. It can be formed in a pattern layer.

加えて、第３工程において、メッシュ側パターン層、印刷パターン層を洗浄して両未硬化領域を洗い流すことにより、印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔を形成することによって、印刷精度、耐久性の向上、製造コストの低減が可能なスクリーンマスクを形成することができる。すなわち、印刷パターン孔と幅広のメッシュ側パターン孔によって、断面積が被印刷物に向かって減少する先絞り形状の流路が形成され、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速が大きくなり、たとえ印刷ペーストの流路長が長くても、印刷ペーストの押出し量を充分に確保することができる。これにより、印刷パターン層、メッシュ側パターン層を薄くする必要がなくなる。そこで、印刷パターン層を厚くすることが可能となり、スクリーンメッシュから印刷パターン孔の押出し口までの距離を長くして、スクリーンメッシュの影響を軽減することができ、印刷ペーストの押出し量が安定化して印刷膜厚が均一となる。更に、メッシュ側パターン層を厚くすることが可能となり、スクリーンメッシュの太線化を行うことができ、破損しにくくなってスクリーンマスクの寿命が延びると共に、安価な目が粗いスクリーンメッシュを使用することができ、部品コストが低下する。 In addition, in the third step, the mesh-side pattern layer and the print pattern layer are washed to wash away both uncured regions to form mesh-side pattern holes wider than the print pattern holes, thereby achieving printing accuracy and durability. It is possible to form a screen mask that can improve the properties and reduce the manufacturing cost. That is, the print pattern hole and the wide mesh side pattern hole form a pre-throttled flow path in which the cross-sectional area decreases toward the printed matter, and the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port increases, even if the print paste Even if the flow path length of the print paste is long, a sufficient amount of the printed paste to be extruded can be secured. This eliminates the need to thin the print pattern layer and the mesh side pattern layer. Therefore, it is possible to make the print pattern layer thicker, increase the distance from the screen mesh to the extrusion port of the print pattern hole, reduce the influence of the screen mesh, and stabilize the extrusion amount of the print paste. The print film thickness becomes uniform. Furthermore, the pattern layer on the mesh side can be thickened, the screen mesh can be thickened, the screen mask is less likely to be damaged, the life of the screen mask is extended, and an inexpensive coarse screen mesh can be used. It can reduce the cost of parts.

更に、第３工程において、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域が印刷パターン孔となる未硬化領域よりも幅広に形成された状態で、メッシュ側パターン層、印刷パターン層を洗浄して両未硬化領域を洗い流すことにより、印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔を形成することによって、洗浄液の吸液に伴う孔内壁の孔内方への膨出により印刷パターン孔が閉塞するのを確実に防止し、印刷精度の更なる向上を図ることができる。すなわち、幅狭の印刷パターン孔の未硬化領域と幅広のメッシュ側パターン孔の未硬化領域とが連設されているため、洗浄中に、印刷パターン孔を形成する硬化済みの孔内壁がたとえ洗浄液を吸液して膨潤しても、その膨潤による体積増加分は、印刷パターン層からメッシュ側パターン孔内に突き出た自由端部分に集中し、印刷パターン孔の孔内方への膨出を軽減することができる。 Further, in the third step, the mesh side pattern layer and the print pattern layer are washed to form both uncured areas in a state where the uncured area to be the mesh side pattern hole is formed wider than the uncured area to be the print pattern hole. By flushing the area, a pattern hole on the mesh side wider than the print pattern hole is formed, so that the print pattern hole is surely blocked by the swelling of the hole inner wall inward due to the absorption of the cleaning liquid. This can be prevented and the printing accuracy can be further improved. That is, since the uncured region of the narrow print pattern hole and the uncured region of the wide mesh side pattern hole are connected in succession, the hardened hole inner wall forming the print pattern hole is even a cleaning liquid during cleaning. Even if the liquid is absorbed and swelled, the volume increase due to the swelling is concentrated on the free end portion protruding from the print pattern layer into the mesh side pattern hole, and the swelling of the print pattern hole inward is reduced. can do.

また、スクリーンマスクの製造方法において、メッシュ側パターン孔の幅を、印刷パターン孔の２倍以上に設定する場合は、押込み口の幅を、印刷パターン孔の押出し口の幅に比べて充分に拡大することができる。これにより、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速を充分に大きくし、印刷ペーストの押出し量を更に充分な量確保することができ、印刷精度、耐久性の向上、製造コストの低減を確実に図ることができる。 Further, in the screen mask manufacturing method, when the width of the pattern hole on the mesh side is set to be twice or more the width of the print pattern hole, the width of the push-in port is sufficiently enlarged as compared with the width of the extrusion port of the print pattern hole. can do. As a result, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port can be sufficiently increased, and a further sufficient amount of the print paste can be secured, thereby improving printing accuracy, durability, and reducing manufacturing costs. be able to.

そして、メッシュ側パターン孔の幅が印刷パターン孔の２倍未満では、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速が充分には大きくできず、印刷ペーストの粘性等の特性や印刷パターン孔、メッシュ側パターン孔の形状によっては流速が低くなりすぎ、印刷ペーストの安定した押出し量を確保するのが難しくなる。 If the width of the pattern hole on the mesh side is less than twice that of the print pattern hole, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port cannot be sufficiently increased, and the characteristics such as the viscosity of the print paste, the print pattern hole, and the mesh side pattern Depending on the shape of the holes, the flow velocity becomes too low, and it becomes difficult to secure a stable extrusion amount of the print paste.

また、スクリーンマスクの製造方法において、メッシュ側パターン孔が、印刷パターン層側に向かって縮幅するテーパ部を有する場合は、印刷ペーストを、テーパ部に沿うようにして、メッシュ側パターン孔の押込み口から流路内に緩やかに流入させることができる。これにより、流路内への印刷ペーストの流入時における空気の混入を抑制すると共に、メッシュ側パターン孔内への印刷ペーストの残留を抑制して劣化した印刷ペーストの使用等を防ぐことができ、印刷品質の向上や更なる印刷膜厚の均一化を図ることができる。 Further, in the screen mask manufacturing method, when the mesh side pattern hole has a tapered portion that narrows toward the print pattern layer side, the print paste is pressed along the tapered portion and the mesh side pattern hole is pressed. It can be gently flowed from the mouth into the flow path. As a result, it is possible to suppress the mixing of air when the print paste flows into the flow path and to prevent the print paste from remaining in the pattern holes on the mesh side to prevent the use of deteriorated print paste. It is possible to improve the print quality and further make the print film thickness uniform.

また、スクリーンマスクの製造方法において、印刷パターン孔の幅を３０〜８０μｍで、スクリーンメッシュの線径を２０μｍ以上に設定する場合は、スクリーンメッシュの太線化の影響を最小限に抑えた上で、印刷ペーストの安定した押出し量を確保することができる。これにより、印刷精度を高く維持しつつ、スクリーンメッシュが破損しにくくなってスクリーンマスクの寿命を延ばすと共に、安価な目が粗いスクリーンメッシュを使用して部品コストを低下させることができる。 Further, in the screen mask manufacturing method, when the width of the print pattern hole is set to 30 to 80 μm and the wire diameter of the screen mesh is set to 20 μm or more, the influence of thickening of the screen mesh is minimized, and then the effect is minimized. It is possible to secure a stable extrusion amount of the print paste. As a result, while maintaining high printing accuracy, the screen mesh is less likely to be damaged, the life of the screen mask is extended, and the cost of parts can be reduced by using an inexpensive coarse screen mesh.

そして、印刷パターン孔の幅が３０μｍ未満では、線径２０μｍ以上の太いスクリーンメッシュによる影響で印刷ペーストの流れが大きく乱れ、印刷ペーストの押出し量がばらついて断線等のトラブルが発生する。印刷パターン孔の幅が８０μｍ超えでは、押出し口から押し出される印刷ペーストの流速を充分には大きくできず、印刷ペーストの粘性等の特性や印刷パターン孔、メッシュ側パターン孔の形状によっては流速が低くなりすぎ、印刷ペーストの安定した押出し量を確保するのが難しくなる。 If the width of the print pattern hole is less than 30 μm, the flow of the print paste is greatly disturbed due to the influence of the thick screen mesh having a wire diameter of 20 μm or more, and the extrusion amount of the print paste varies, causing troubles such as disconnection. If the width of the print pattern hole exceeds 80 μm, the flow velocity of the print paste extruded from the extrusion port cannot be sufficiently increased, and the flow velocity is low depending on the characteristics such as the viscosity of the print paste and the shape of the print pattern hole and the pattern hole on the mesh side. It becomes too much, and it becomes difficult to secure a stable extrusion amount of the print paste.

更に、スクリーンメッシュの線径が２０μｍ未満では、スクリーンメッシュの寿命はそれほど改善されず、スクリーンメッシュの太線化の効果が充分には得られないからである。 Further, if the wire diameter of the screen mesh is less than 20 μm, the life of the screen mesh is not improved so much, and the effect of thickening the screen mesh cannot be sufficiently obtained.

また、スクリーンマスクの製造方法において、印刷パターン層の厚みを、印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の０．５倍以上に設定する場合は、スクリーンメッシュから印刷パターン孔の押出し口までの距離を充分に長くすることができる。これにより、スクリーンメッシュの影響を軽減することができ、印刷ペーストの押出し量が安定化して印刷膜厚が均一となる。 Further, in the screen mask manufacturing method, when the thickness of the print pattern layer is set to 0.5 times or more the minimum width of the print pattern hole width, the distance from the screen mesh to the print pattern hole extrusion port. Can be long enough. As a result, the influence of the screen mesh can be reduced, the extrusion amount of the print paste is stabilized, and the print film thickness becomes uniform.

そして、印刷パターン層の厚みが印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の０．５倍未満では、スクリーンメッシュから印刷パターン孔の押出し口までの距離が不充分であり、印刷ペーストがスクリーンメッシュの影響を受けて押出し量が安定化しない。 If the thickness of the print pattern layer is less than 0.5 times the minimum width of the print pattern holes, the distance from the screen mesh to the extrusion port of the print pattern holes is insufficient, and the print paste is the screen mesh. The extrusion amount is not stabilized due to the influence.

本発明に係わるスクリーンマスクは、簡単で安価な構造でありながら耐久性に優れ、高精度な印刷を確実に実現可能とするものであり、スクリーンマスクの製造方法は、現像作業中における印刷パターン孔の閉塞を確実に防止可能なものとなっている。 The screen mask according to the present invention has a simple and inexpensive structure, yet has excellent durability, and enables high-precision printing to be reliably realized. The screen mask manufacturing method is a printing pattern hole during development work. It is possible to reliably prevent the blockage of.

本発明に係わるスクリーンマスクの全体構成を示す側面一部断面図である。It is a side partial cross-sectional view which shows the whole structure of the screen mask which concerns on this invention. 各パターン孔の構造を示すパターン孔周囲の側面一部断面図である。It is a side partial cross-sectional view around the pattern hole which shows the structure of each pattern hole. 印刷パターン層の別形態を示すパターン孔周囲の側面一部断面図であって、図３（ａ）はシリコン系乳剤から成る硬質層を有する印刷パターン層を示すパターン孔周囲の側面一部断面図、図３（ｂ）はアセタール化合物から成る硬質域を有する印刷パターン層を示すパターン孔周囲の側面一部断面図である。FIG. 3A is a partial cross-sectional view of the side surface around the pattern hole showing another form of the print pattern layer, and FIG. 3A is a partial cross-sectional view of the side surface around the pattern hole showing the print pattern layer having a hard layer made of a silicon-based emulsion. FIG. 3B is a partial cross-sectional view of a side surface around a pattern hole showing a printed pattern layer having a hard region made of an acetal compound. 本発明に係わるスクリーンマスクの製造工程を示す説明図であって、図４（ａ）は第１工程の張設作業を示す模式図、図４（ｂ）は第２工程における塗布過程Ｓ２ａの塗布開始時の模式図、図４（ｃ）は塗布過程Ｓ２ａの塗布完了時の模式図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of the screen mask which concerns on this invention, FIG. 4A is a schematic diagram which shows the erection work of the 1st step, and FIG. 4B is the coating of the coating process S2a in the 2nd step. The schematic diagram at the start, FIG. 4C is a schematic diagram at the completion of coating of the coating process S2a. スクリーンマスクの製造工程を示す説明図であって、図５（ａ）は第２工程における露光過程Ｓ２ｂの露光中を示す模式図、図５（ｂ）は露光過程Ｓ２ｂの露光後のスクリーンマスクの構造を示す模式図、図５（ｃ）は第２工程における塗布過程Ｓ２ｃの塗布開始時の模式図、図５（ｄ）は塗布過程Ｓ２ｃの塗布完了時の模式図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of a screen mask, FIG. 5A is a schematic diagram which shows during the exposure of the exposure process S2b in the 2nd step, and FIG. 5B is the screen mask after the exposure of the exposure process S2b. A schematic diagram showing the structure, FIG. 5C is a schematic diagram at the start of coating of the coating process S2c in the second step, and FIG. 5D is a schematic diagram at the completion of coating of the coating process S2c. スクリーンマスクの製造工程を示す説明図であって、図６（ａ）は第２工程における露光過程Ｓ２ｄの露光中を示す模式図、図６（ｂ）は露光過程Ｓ２ｄの露光後のスクリーンマスクの構造を示す模式図、図６（ｃ）は第３工程の現像前のスクリーンマスクの構造を示す模式図、図６（ｄ）は第３工程の現像後のスクリーンマスクの構造を示す模式図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of a screen mask, FIG. 6A is a schematic diagram which shows during the exposure of the exposure process S2d in the 2nd step, and FIG. 6B is the screen mask after the exposure of the exposure process S2d. A schematic diagram showing the structure, FIG. 6 (c) is a schematic diagram showing the structure of the screen mask before development in the third step, and FIG. 6 (d) is a schematic diagram showing the structure of the screen mask after development in the third step. is there. 第３工程における各パターン孔の変化を示すパターン孔周囲の側面一部断面図であって、図７（ａ）は現像前のパターン孔周囲の側面一部断面図、図７（ｂ）は現像中のパターン孔周囲の側面一部断面図、図７（ｃ）は現像後のパターン孔周囲の側面一部断面図である。FIG. 7A is a partial cross-sectional view of the side surface around the pattern hole showing the change of each pattern hole in the third step, FIG. 7A is a partial cross-sectional view of the side surface around the pattern hole before development, and FIG. 7B is development. A partial cross-sectional view of the side surface around the pattern hole inside, and FIG. 7 (c) is a partial cross-sectional view of the side surface around the pattern hole after development.

以下、スクリーンマスクおよびその製造方法に関する本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明し、本発明の理解に供する。
なお、図１の矢印Ｕで示す方向を上方とし、矢印Ｒで示す方向を右方とし、以下で述べる各部の位置や方向等はこの上方と右方を基準とするものである。 Hereinafter, embodiments of the present invention relating to the screen mask and the method for manufacturing the same will be described with reference to the drawings for the purpose of understanding the present invention.
The direction indicated by the arrow U in FIG. 1 is upward, the direction indicated by the arrow R is to the right, and the positions and directions of the parts described below are based on the upper and right sides.

まず、本発明を適用したスクリーンマスクの一例であるスクリーンマスク１の全体構成について、図１、図２により説明する。なお、スクリーンマスク１において印刷時に被印刷物６と対向する側を印刷側、その反対側であって印刷ペースト１０が供給される側を反印刷側とする。 First, the overall configuration of the screen mask 1, which is an example of the screen mask to which the present invention is applied, will be described with reference to FIGS. 1 and 2. In the screen mask 1, the side facing the printed matter 6 at the time of printing is the printing side, and the side opposite to the screen mask 1 to which the printing paste 10 is supplied is the non-printing side.

図１に示すように、スクリーンマスク１は、フレーム２と、このフレーム２内に張設されたスクリーンメッシュ３と、このスクリーンメッシュ３に形成された印刷パターン層４、メッシュ側パターン層５とを備えている。そして、印刷時には、スクリーンマスク１において、被印刷物６が印刷パターン層４に対向して配置される一方、所定量の印刷ペースト１０が、印刷パターン層４の対向面４ａとは反対側の面（以下、「反対面」とする）４ｂ上に設けられたメッシュ側パターン層５の上に供給される。 As shown in FIG. 1, the screen mask 1 comprises a frame 2, a screen mesh 3 stretched in the frame 2, a print pattern layer 4 formed on the screen mesh 3, and a mesh side pattern layer 5. I have. Then, at the time of printing, the printed matter 6 is arranged to face the print pattern layer 4 on the screen mask 1, while a predetermined amount of the print paste 10 is placed on the surface of the print pattern layer 4 opposite to the facing surface 4a. Hereinafter, it is supplied onto the mesh side pattern layer 5 provided on 4b (hereinafter referred to as “opposite surface”).

この状態で、前述したスキージ１１を、メッシュ側パターン層５の反印刷側の面（以下、「ペースト面」とする）５ａに当接させながら、矢印１２に示す方向に移動させることにより、メッシュ側パターン層５から印刷パターン層４にかけて形成された流路７を通って印刷ペースト１０が被印刷物６上に導かれ、定着されて印刷が行われる。 In this state, the squeegee 11 described above is moved in the direction indicated by the arrow 12 while being in contact with the anti-printing side surface (hereinafter referred to as “paste surface”) 5a of the mesh side pattern layer 5, thereby forming the mesh. The print paste 10 is guided onto the printed matter 6 through the flow path 7 formed from the side pattern layer 5 to the print pattern layer 4, and is fixed and printed.

このうちのフレーム２は、所望の大きさの矩形状の開口２ａが形成された枠体として形成され、アルミダイキャストによるものやアルミパイプ製のものが使用される。 Of these, the frame 2 is formed as a frame body in which a rectangular opening 2a having a desired size is formed, and an aluminum die-cast frame or an aluminum pipe is used.

そして、このフレーム２には、スクリーンメッシュ３の外周縁３ａが合成ゴム等の図示せぬ接着剤により張設状態で固定されると共に、フレーム２は、所定量の印刷ペースト１０をスクリーンマスク１の反印刷側に保持するための枠としても機能する。なお、このフレーム２の形状や大きさは、対象となる被印刷物６や、スクリーンマスク１を設置する印刷機械の種類により適宜変更される。 Then, the outer peripheral edge 3a of the screen mesh 3 is fixed to the frame 2 in a stretched state by an adhesive (not shown) such as synthetic rubber, and the frame 2 applies a predetermined amount of printing paste 10 to the screen mask 1. It also functions as a frame for holding on the non-printing side. The shape and size of the frame 2 are appropriately changed depending on the target printed matter 6 and the type of printing machine on which the screen mask 1 is installed.

また、スクリーンメッシュ３は、後述する所定のパターン孔が形成された印刷パターン層４、メッシュ側パターン層５をフレーム２に支持する部材であって、ステンレス鋼、タングステン等の金属繊維、ポリエステル等の合成繊維を編んで形成される。 Further, the screen mesh 3 is a member that supports the printed pattern layer 4 and the mesh side pattern layer 5 on which a predetermined pattern hole is formed, which will be described later, on the frame 2, and is made of stainless steel, metal fibers such as tungsten, polyester, or the like. Formed by knitting synthetic fibers.

そして、このスクリーンメッシュ３は、平面視で印刷ペースト１０が通過可能な孔部が多数開口されたメッシュ状に形成されている。 The screen mesh 3 is formed in a mesh shape in which a large number of holes through which the print paste 10 can pass are opened in a plan view.

以上のような構成のフレーム２とスクリーンメッシュ３とによって、スクリーンマスク１の基体が形成される。 The base of the screen mask 1 is formed by the frame 2 and the screen mesh 3 having the above configuration.

また、印刷パターン層４は、スクリーンメッシュ３の印刷側に塗布された感光性乳剤が、感光して硬化し板状に形成されたものであって、前述の被印刷物６に転写するための印刷パターン孔８が、印刷側に向かって貫通するように形成されている。 Further, the print pattern layer 4 is a print in which a photosensitive emulsion applied to the print side of the screen mesh 3 is photosensitive and cured to form a plate shape, and is printed for transfer to the above-mentioned printed matter 6. The pattern hole 8 is formed so as to penetrate toward the printing side.

これにより、印刷ペースト１０が印刷パターン孔８を通ってそのまま被印刷物６上に導かれるため、印刷パターンに応じて、印刷ペースト１０を被印刷物６上の所定位置に所定の形状で定着させることができ、印刷パターン孔８に従った印刷パターンを被印刷物６上に印刷することが可能となる。 As a result, the print paste 10 is guided directly onto the printed matter 6 through the print pattern hole 8, so that the print paste 10 can be fixed in a predetermined position on the printed matter 6 in a predetermined shape according to the print pattern. It is possible to print a print pattern according to the print pattern hole 8 on the printed matter 6.

なお、印刷パターン孔８とは、前述の流路７の反印刷側の開口部である押込み口７ａから流入した印刷ペースト１０が、下半部を通過して押出し口７ｂから流出して被印刷物６の表面に導かれ、回路や基板のパターン等を描画させる部分となっている。このため、印刷パターン孔８は複数あって孔形状や溝形状に形成されており、貫通するものであればよく、その数、形状、大きさ等は特に限定されるものではない。 The printed pattern hole 8 is a printed matter in which the printing paste 10 that has flowed in from the push-in port 7a, which is the opening on the non-printing side of the flow path 7, passes through the lower half and flows out from the extrusion port 7b. It is a part that is guided to the surface of No. 6 and draws a pattern of a circuit or a substrate. For this reason, there are a plurality of print pattern holes 8 and they are formed in a hole shape or a groove shape, and may be penetrating, and the number, shape, size, and the like are not particularly limited.

そして、この印刷パターン層４を構成する感光性乳剤は、ランプやレーザー照射等による露光作業によって硬化する性質を有しており、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、シリコン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の光硬化性の樹脂組成物が用いられる。この露光作業によって硬化した硬化領域が、印刷ペースト１０が通過できずに被印刷物６の表面に定着しない部分となる。 The photosensitive emulsion constituting the print pattern layer 4 has a property of being cured by exposure work such as lamp or laser irradiation, and is made of polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl acetate (PVAc), silicon resin, acrylic. A photocurable resin composition such as a resin or an epoxy resin is used. The cured region cured by this exposure operation becomes a portion where the print paste 10 cannot pass and is not fixed on the surface of the printed matter 6.

また、メッシュ側パターン層５は、前述の印刷パターン層４の反対面４ｂ上に設けられ、内部にスクリーンメッシュ３の少なくとも一部が張設されると共に、印刷パターン層４と同様、感光性乳剤が感光して硬化し板状に形成されたものである。更に、印刷ペースト１０を流路７内に押し込むと共に、印刷パターン層４をフレーム２に支持するためのメッシュ側パターン孔９が、印刷パターン孔８と連通するように形成されている。 Further, the mesh side pattern layer 5 is provided on the opposite surface 4b of the above-mentioned print pattern layer 4, at least a part of the screen mesh 3 is stretched inside, and a photosensitive emulsion like the print pattern layer 4 is provided. Is exposed to light and hardened to form a plate. Further, the print paste 10 is pushed into the flow path 7, and the mesh-side pattern holes 9 for supporting the print pattern layer 4 on the frame 2 are formed so as to communicate with the print pattern holes 8.

これにより、メッシュ側パターン層５は、内部に張り巡らされたスクリーンメッシュ３によって強固に支持され、これにより、印刷パターン層４も安定して支持されるため、印刷時に、印刷ペースト１０がメッシュ側パターン孔９から印刷パターン孔８を通って被印刷物６上に導かれる際に、印刷パターン孔８の位置ずれが起こりにくく、印刷精度が向上する。 As a result, the mesh side pattern layer 5 is firmly supported by the screen mesh 3 stretched inside, whereby the print pattern layer 4 is also stably supported, so that the print paste 10 is on the mesh side during printing. When the pattern hole 9 is guided onto the printed matter 6 through the print pattern hole 8, the print pattern hole 8 is less likely to be misaligned, and the printing accuracy is improved.

なお、印刷パターン層４とメッシュ側パターン層５が重なった状態で、反印刷側からの平面視で、印刷パターン孔８とメッシュ側パターン孔９の中心位置が略一致するように形成されており、これら印刷パターン孔８とメッシュ側パターン孔９より、前述した印刷ペースト１０の通る流路７が形成されている。 In a state where the print pattern layer 4 and the mesh side pattern layer 5 are overlapped with each other, the center positions of the print pattern hole 8 and the mesh side pattern hole 9 are formed so as to substantially coincide with each other in a plan view from the anti-print side. From these print pattern holes 8 and mesh side pattern holes 9, a flow path 7 through which the above-mentioned print paste 10 passes is formed.

そして、このメッシュ側パターン層５を構成する感光性乳剤も、印刷パターン層４と同様、ランプやレーザー照射等による露光作業によって硬化する性質を有しており、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、シリコン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の光硬化性の樹脂組成物が用いられる。 The photosensitive emulsion constituting the mesh-side pattern layer 5 also has the property of being cured by exposure work such as lamp or laser irradiation, like the print pattern layer 4, and is made of polyvinyl alcohol (PVA) or polyvinyl acetate. A photocurable resin composition such as (PVAc), silicon resin, acrylic resin, or epoxy resin is used.

次に、前述した印刷パターン層４、メッシュ側パターン層５の詳細構成について、図１乃至図３により説明する。 Next, the detailed configurations of the print pattern layer 4 and the mesh-side pattern layer 5 described above will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

図１、図２に示すように、メッシュ側パターン層５のメッシュ側パターン孔９は、印刷パターン層４の印刷パターン孔８よりも幅広に形成され、これにより、前述の印刷ペースト１０の流路７は、その断面積が被印刷物６に向かって減少する先絞り形状に構成されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the mesh-side pattern hole 9 of the mesh-side pattern layer 5 is formed wider than the print pattern hole 8 of the print pattern layer 4, whereby the flow path of the print paste 10 described above is formed. No. 7 is configured in a pre-squeezed shape whose cross-sectional area decreases toward the printed matter 6.

すると、押込み口７ａから流入した印刷ペースト１０は、押出し口７ｂから押し出される際に流速が大きくなり、たとえ印刷ペースト１０の流路長１３が長くなっても、印刷ペースト１０の押出し量が確保可能となるため、印刷パターン層４、メッシュ側パターン層５を薄くする必要がなくなる。 Then, the flow velocity of the print paste 10 flowing in from the push-in port 7a increases when it is extruded from the extrusion port 7b, and even if the flow path length 13 of the print paste 10 becomes long, the extrusion amount of the print paste 10 can be secured. Therefore, it is not necessary to thin the print pattern layer 4 and the mesh side pattern layer 5.

従って、本実施例のスクリーンマスク１のように、印刷パターン層４を厚くすることができ、スクリーンメッシュ３から押出し口７ｂまでの距離１４が長くなって、スクリーンメッシュ３の影響が軽減され、印刷ペースト１０の押出し量が安定化して印刷膜厚を均一にすることができる。 Therefore, like the screen mask 1 of this embodiment, the print pattern layer 4 can be made thicker, the distance 14 from the screen mesh 3 to the extrusion port 7b becomes longer, the influence of the screen mesh 3 is reduced, and printing is performed. The extrusion amount of the paste 10 can be stabilized and the print film thickness can be made uniform.

同様に、メッシュ側パターン層５も厚くすることができ、スクリーンメッシュ３の太線化が可能となって、破損しにくくスクリーンマスク１の寿命が延びると共に、太線化により、安価な目が粗いスクリーンメッシュ３を使用することができ、部品コストが低下する。 Similarly, the mesh-side pattern layer 5 can also be thickened, and the screen mesh 3 can be thickened to prevent damage and extend the life of the screen mask 1, and the thickened line makes the screen mesh inexpensive and coarse-grained. 3 can be used, and the component cost is reduced.

この際、メッシュ側パターン孔９の幅１５は、印刷パターン孔の幅１６の２倍以上に設定するのが好ましい。ここで、メッシュ側パターン孔９の幅１５とは、押込み口７ａの幅であり、印刷パターン孔８の幅１６とは、押出し口７ｂの幅である。 At this time, the width 15 of the mesh-side pattern hole 9 is preferably set to be at least twice the width 16 of the print pattern hole. Here, the width 15 of the mesh-side pattern hole 9 is the width of the push-in port 7a, and the width 16 of the print pattern hole 8 is the width of the extrusion port 7b.

これにより、押出し口７ｂから押し出される印刷ペースト１０の流速を充分に大きくし、印刷ペースト１０の押出し量を更に充分な量確保することができる。この際、メッシュ側パターン孔の幅１５が印刷パターン孔の２倍未満になると、押出し口７ｂから押し出される印刷ペースト１０の流速が充分ではなく、印刷ペースト１０の粘性等の特性や印刷パターン孔８、メッシュ側パターン孔９の形状によっては流速が低くなりすぎ、印刷ペースト１０の安定した押出し量を確保するのが難しくなる。 As a result, the flow velocity of the print paste 10 extruded from the extrusion port 7b can be sufficiently increased, and a further sufficient amount of the print paste 10 can be secured. At this time, if the width 15 of the pattern hole on the mesh side is less than twice the width of the print pattern hole, the flow velocity of the print paste 10 extruded from the extrusion port 7b is not sufficient, and the characteristics such as the viscosity of the print paste 10 and the print pattern hole 8 Depending on the shape of the pattern hole 9 on the mesh side, the flow velocity becomes too low, and it becomes difficult to secure a stable extrusion amount of the print paste 10.

更に、メッシュ側パターン孔９には、印刷パターン層４側に向かって縮幅するテーパ部９ａ１、９ａ２を設けるのが好ましい。上テーパ部９ａ１は、メッシュ側パターン孔９の孔内壁９ａで、押込み口７ａから印刷側に向かって狭まるように形成されると共に、下テーパ部９ａ２は、この上テーパ部９ａ１の下端から印刷パターン孔８との連通縁９ｂに向かって、上テーパ部９ａ１よりも緩やかな傾斜で狭まるように形成されている。 Further, it is preferable that the mesh side pattern hole 9 is provided with tapered portions 9a1 and 9a2 that narrow the width toward the print pattern layer 4 side. The upper taper portion 9a1 is formed on the inner wall 9a of the mesh side pattern hole 9 so as to narrow from the push-in port 7a toward the print side, and the lower taper portion 9a2 has a print pattern from the lower end of the upper taper portion 9a1. It is formed so as to be narrowed with a gentler inclination than the upper tapered portion 9a1 toward the communication edge 9b with the hole 8.

これにより、印刷ペースト１０を、上テーパ部９ａ１から下テーパ部９ａ２に沿うようにして、メッシュ側パターン孔９の押込み口７ａから流路７内に緩やかに流入させることができ、流路７内への印刷ペースト１０の流入時における空気の混入を抑制することができる。しかも、メッシュ側パターン孔９内には、液が留まりやすい隅部が形成されにくくなり、メッシュ側パターン孔９内への印刷ペースト１０の残留を抑制し、劣化した印刷ペースト１０の使用等を防ぐことができ、印刷品質の向上や更なる印刷膜厚の均一化を図ることができる。 As a result, the print paste 10 can be gently flowed into the flow path 7 from the push-in port 7a of the mesh side pattern hole 9 along the upper taper portion 9a1 to the lower taper portion 9a2, and is inside the flow path 7. It is possible to suppress the mixing of air when the printing paste 10 flows into the printing paste 10. Moreover, it becomes difficult to form a corner where the liquid easily stays in the mesh-side pattern hole 9, and the print paste 10 is suppressed from remaining in the mesh-side pattern hole 9 to prevent the use of the deteriorated print paste 10. This makes it possible to improve the print quality and further make the print film thickness uniform.

また、図１、図２に示すように、印刷パターン層４は、その厚み１７を、印刷パターン孔８の幅１６のうちの最小幅の０．５倍以上に設定するのが好ましい。 Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the thickness 17 of the print pattern layer 4 is preferably set to 0.5 times or more the minimum width of the width 16 of the print pattern hole 8.

これにより、スクリーンメッシュ３から印刷パターン孔８の押出し口７ｂまでの距離１４を充分に長くすることができ、スクリーンメッシュ３の影響が軽減され、印刷ペースト１０の押出し量が安定化して印刷膜厚を均一にすることができる。この際、印刷パターン層４の厚み１７が印刷パターン孔８の幅１６のうちの最小幅の０．５倍未満では、スクリーンメッシュ３から印刷パターン孔８の押出し口７ｂまでの距離１４が不充分であり、印刷ペースト１０がスクリーンメッシュ３の影響を受けて押出し量が安定化しない。なお、できれば、印刷パターン層４の厚み１７を、印刷パターン孔８の幅１６のうちの最小幅の１倍以上に設定するのがより好ましい。これは、前述の距離１４が更に充分に長くなるため、スクリーンメッシュ３の影響が軽減されるのに加え、印刷パターン孔８内での印刷ペースト１０の流れの整流化が進み、印刷ペースト１０の押出し量が一層安定化するからである。 As a result, the distance 14 from the screen mesh 3 to the extrusion port 7b of the print pattern hole 8 can be sufficiently lengthened, the influence of the screen mesh 3 is reduced, the extrusion amount of the print paste 10 is stabilized, and the print thickness is stable. Can be made uniform. At this time, if the thickness 17 of the print pattern layer 4 is less than 0.5 times the minimum width of the width 16 of the print pattern hole 8, the distance 14 from the screen mesh 3 to the extrusion port 7b of the print pattern hole 8 is insufficient. Therefore, the print paste 10 is affected by the screen mesh 3 and the extrusion amount is not stabilized. If possible, it is more preferable to set the thickness 17 of the print pattern layer 4 to be one or more times the minimum width of the width 16 of the print pattern holes 8. This is because the distance 14 described above is further sufficiently long, so that the influence of the screen mesh 3 is reduced, and the flow of the print paste 10 in the print pattern hole 8 is rectified, so that the print paste 10 is affected. This is because the amount of extrusion is further stabilized.

更に、印刷パターン孔の幅を３０〜８０μｍで、スクリーンメッシュの線径３ｂを２０μｍ以上に設定するのが好ましい。 Further, it is preferable to set the width of the print pattern hole to 30 to 80 μm and the wire diameter 3b of the screen mesh to 20 μm or more.

これにより、スクリーンメッシュ３の太線化の影響を最小限に抑えた上で、印刷ペースト１０の安定した押出し量を確保することができるため、印刷精度を高く維持しつつ、スクリーンメッシュ３が破損しにくくなってスクリーンマスク１の寿命を延ばすと共に、安価な目が粗いスクリーンメッシュ３を使用して部品コストを低下させることができる。 As a result, the effect of thickening the screen mesh 3 can be minimized, and a stable extrusion amount of the print paste 10 can be secured. Therefore, the screen mesh 3 is damaged while maintaining high printing accuracy. It becomes difficult to extend the life of the screen mask 1, and the cost of parts can be reduced by using the inexpensive coarse screen mesh 3.

この際、印刷パターン孔８の幅１６が３０μｍ未満では、線径２０μｍ以上の太いスクリーンメッシュ３による影響で印刷ペースト１０の流れが大きく乱れ、印刷ペースト１０の押出し量がばらついて断線等のトラブルが発生する。印刷パターン孔８の幅１６が８０μｍ超えでは、押出し口７ｂから押し出される印刷ペースト１０の流速を充分には大きくできず、印刷ペースト１０の粘性等の特性や印刷パターン孔８、メッシュ側パターン孔９の形状によっては流速が低くなりすぎ、印刷ペースト１０の安定した押出し量を確保するのが難しくなる。スクリーンメッシュ３の線径が２０μｍ未満では、スクリーンメッシュ３の寿命はそれほど改善されず、スクリーンメッシュ３の太線化の効果が充分には得られない。 At this time, if the width 16 of the print pattern hole 8 is less than 30 μm, the flow of the print paste 10 is greatly disturbed due to the influence of the thick screen mesh 3 having a wire diameter of 20 μm or more, and the extrusion amount of the print paste 10 varies, causing troubles such as disconnection. Occur. If the width 16 of the print pattern hole 8 exceeds 80 μm, the flow velocity of the print paste 10 extruded from the extrusion port 7b cannot be sufficiently increased, and the characteristics such as the viscosity of the print paste 10 and the print pattern hole 8 and the mesh side pattern hole 9 Depending on the shape of the print paste 10, the flow velocity becomes too low, and it becomes difficult to secure a stable extrusion amount of the print paste 10. If the wire diameter of the screen mesh 3 is less than 20 μm, the life of the screen mesh 3 is not so improved, and the effect of thickening the screen mesh 3 cannot be sufficiently obtained.

加えて、印刷パターン層４は、メッシュ側パターン層５よりも軟質であるのが好ましい。 In addition, the print pattern layer 4 is preferably softer than the mesh-side pattern layer 5.

これにより、印刷パターン層４の一面である前述の反対面４ｂを、より硬質のメッシュ側パターン層５によって支持しつつ、印刷パターン層４の他面である対向面４ａを被印刷物６に接触させることができ、印刷パターン層４が被印刷物６の表面形状に沿って変形するようになり、スクリーンマスク１の被印刷物６への追従性が高まり、印刷精度を更に向上させることができる。 As a result, the opposite surface 4b, which is one surface of the print pattern layer 4, is supported by the harder mesh-side pattern layer 5, and the opposite surface 4a, which is the other surface of the print pattern layer 4, is brought into contact with the printed matter 6. Therefore, the print pattern layer 4 is deformed along the surface shape of the printed matter 6, the followability of the screen mask 1 to the printed matter 6 is improved, and the printing accuracy can be further improved.

なお、本実施例では、印刷パターン層４、メッシュ側パターン層５の硬軟は、感光によって硬化した感光性乳剤から幅５０ｍｍ、平行部の長さ２００ｍｍのサンプルを作製し、張り試験を行って応力ひずみ線図を求め、同一応力におけるひずみ量で比較した。これ以外に、引っかき硬度（ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４）で測定しても良く、測定方法としては両層間の硬軟を相対比較できる方法であればよく、特に限定されるものではない。 In this example, the hardness of the print pattern layer 4 and the mesh side pattern layer 5 is stressed by preparing a sample having a width of 50 mm and a parallel portion length of 200 mm from a photosensitive emulsion cured by photosensitivity. A strain diagram was obtained and compared by the amount of strain at the same stress. In addition to this, the measurement may be performed by scratch hardness (JIS K 5600-5-4), and the measuring method is not particularly limited as long as it can relatively compare the hardness between the two layers.

また、以上のような構成の印刷パターン層４の別形態について説明する。
図３（ａ）に示す印刷パターン層４Ａは、前述の印刷パターン層４の被印刷物６側の表面に、シリコン系乳剤から成る硬質層１８を設けて構成されるものであり、スクリーンマスク１Ａの耐久性向上を図ったものである。 Further, another form of the print pattern layer 4 having the above configuration will be described.
The print pattern layer 4A shown in FIG. 3A is formed by providing a hard layer 18 made of a silicon-based emulsion on the surface of the print pattern layer 4 on the side to be printed 6 side, and is a screen mask 1A. It is intended to improve durability.

ここで、シリコン系乳剤は通常の感光性乳剤よりも硬質に硬化するため、層厚が薄くても高い下地保護性を有する。具体的には、液状のシリコン系乳剤を印刷パターン層４の対向面４ａに塗布し、前述の如く露光、現像する等して、硬質層１８が設けられる。 Here, since the silicon-based emulsion cures harder than the ordinary photosensitive emulsion, it has high substrate protection even if the layer thickness is thin. Specifically, the hard layer 18 is provided by applying a liquid silicon-based emulsion to the facing surface 4a of the print pattern layer 4, exposing and developing as described above.

これにより、印刷時に、従来の印刷パターン層４と被印刷物６との間に、硬質層１８を硬い保護層として介設することができ、たとえ、被印刷物６上やその周辺に存在する異物、被印刷物６自体の凸部等が印刷パターン層４Ａに接触しても、印刷パターン層４Ａが損傷されにくくなる。更に、スクリーンマスク１Ａの洗浄時に、洗浄液や手拭きとの間にも、硬質層１８を硬い保護層として介設することができ、洗浄液や手拭きによる機械的な損傷を防ぐことができる。従って、スクリーンマスク１Ａの寿命が延びて耐久性を更に向上させることができる。 As a result, at the time of printing, the hard layer 18 can be interposed between the conventional print pattern layer 4 and the printed matter 6 as a hard protective layer, for example, foreign matter existing on or around the printed matter 6. Even if the convex portion of the printed matter 6 itself comes into contact with the printed pattern layer 4A, the printed pattern layer 4A is less likely to be damaged. Further, when cleaning the screen mask 1A, the hard layer 18 can be interposed between the cleaning liquid and the hand wipe as a hard protective layer, and mechanical damage due to the cleaning liquid or the hand wipe can be prevented. Therefore, the life of the screen mask 1A can be extended and the durability can be further improved.

図３（ｂ）に示す印刷パターン層４Ｂは、前述の印刷パターン層４の被印刷物６側に、印刷パターン層４のアセタール化合物から成る硬質域１９を設けて構成されるものであり、スクリーンマスク１Ｂの耐久性向上等を図ったものである。 The print pattern layer 4B shown in FIG. 3B is configured by providing a hard region 19 made of an acetal compound of the print pattern layer 4 on the printed matter 6 side of the print pattern layer 4 described above, and is a screen mask. This is intended to improve the durability of 1B.

ここで、アセタール化合物とは、ＯＨ基を有する感光性乳剤にグルタルアルデヒド等を加え、脱水反応を起こさせたものであり、脱水前の印刷パターン層４よりも硬質となって、高い下地保護性を有する。具体的には、グルタルアルデヒド、塩酸から成る処理液を印刷パターン層４の対向面４ａに塗布し表層部で反応させるようにして、硬質域１９が形成される。なお、このアセタール化反応は無触媒でも進行するものの、反応を促進すべく、本実施例では塩酸を酸触媒として用いた。なお、このような酸触媒としては、塩酸を含め、例えば、硫酸、燐酸、硝酸、塩酸、ホウ酸等の無機酸およびその塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム等の有機酸およびその塩、陽イオン交換樹脂、シリカアルミナ、ゼオライト、活性白土等の固体酸などが挙げられるが、その種類は特に限定されるものではない。 Here, the acetal compound is a photosensitive emulsion having an OH group to which glutaraldehyde or the like is added to cause a dehydration reaction, which is harder than the print pattern layer 4 before dehydration and has high substrate protection. Has. Specifically, a treatment liquid composed of glutaraldehyde and hydrochloric acid is applied to the facing surface 4a of the print pattern layer 4 and reacted on the surface layer portion to form a hard region 19. Although this acetalization reaction proceeds without a catalyst, hydrochloric acid was used as an acid catalyst in this example in order to promote the reaction. In addition, such an acid catalyst includes hydrochloric acid, for example, inorganic acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitrate, hydrochloric acid, boric acid and salts thereof, formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, paratoluene. Examples thereof include organic acids such as sulfonic acid and pyridinium paratoluene sulfonate and salts thereof, solid acids such as cation exchange resin, silica alumina, zeolite and active white clay, but the types thereof are not particularly limited.

これにより、印刷時に、従来の印刷パターン層４の対向面４ａの近傍に、硬い保護域を設けることができ、たとえ、被印刷物６上やその周辺に存在する異物、被印刷物６自体の凸部等が印刷パターン層４Ｂに接触しても、印刷パターン層４Ｂが損傷されにくくなる。更に、スクリーンマスク１Ｂの洗浄時に、洗浄液や手拭きとの間にも、硬質域１９を硬い保護域として介設することができ、洗浄液や手拭きによる機械的な損傷を防ぐことができる。従って、スクリーンマスク１Ｂの寿命が延びて耐久性を更に向上させることができる。加えて、この硬質域１９は、上述したような簡単な改質操作によって形成することができ、新たな乳剤を準備する必要がなく、スクリーンマスク１Ｂの製造時間の短縮や製造コストの低減を図ることができる。 As a result, at the time of printing, a hard protective area can be provided in the vicinity of the facing surface 4a of the conventional print pattern layer 4, and even if foreign matter existing on or around the printed matter 6, the convex portion of the printed matter 6 itself. Even if the printed pattern layer 4B or the like comes into contact with the printed pattern layer 4B, the printed pattern layer 4B is less likely to be damaged. Further, when cleaning the screen mask 1B, a hard region 19 can be provided as a hard protective region between the cleaning liquid and the hand wipe, and mechanical damage due to the cleaning liquid or the hand wipe can be prevented. Therefore, the life of the screen mask 1B can be extended and the durability can be further improved. In addition, the hard region 19 can be formed by a simple modification operation as described above, and it is not necessary to prepare a new emulsion, thereby shortening the production time of the screen mask 1B and reducing the production cost. be able to.

次に、以上のような構成のスクリーンマスク１の製造方法について、図４乃至図７により説明する。なお、本発明を適用したスクリーンマスク１の製造方法は、以下に記載する内容に限定されるものではなく、適宜変更しうるものである。 Next, a method of manufacturing the screen mask 1 having the above configuration will be described with reference to FIGS. 4 to 7. The method for manufacturing the screen mask 1 to which the present invention is applied is not limited to the contents described below, and can be appropriately changed.

［第１工程Ｓ１（張設作業）］
まず、図４（ａ）に示すように、フレーム２を枠平面が略水平となるように設置して洗浄した後、スクリーンメッシュ３の外周縁３ａを、所定の張力をかけながら接着剤によりフレーム２に固定する。これにより、スクリーンメッシュ３をフレーム２内に張設し、スクリーンマスク１の基礎部を形成することができる。 [First step S1 (extension work)]
First, as shown in FIG. 4A, the frame 2 is installed so that the frame plane is substantially horizontal and washed, and then the outer peripheral edge 3a of the screen mesh 3 is applied to the frame with an adhesive while applying a predetermined tension. Fix to 2. As a result, the screen mesh 3 can be stretched in the frame 2 to form the base portion of the screen mask 1.

［第２工程Ｓ２における塗布過程Ｓ２ａ（感光性乳剤の塗布作業）］
続いて、図４（ｂ）に示すように、スクリーンメッシュ３をメッシュ面が略鉛直となるように立設した上で、液状の感光性乳剤２１を入れたバケット２０の先部２０ａを、スクリーンメッシュ３の印刷側下端に当接し、その後、図４（ｃ）に示すように、バケット２０を下方から上方に向かって移動させる。これにより、スクリーンメッシュ３に、メッシュ側パターン層５となる感光性乳剤２１から成る第１乳剤層２１ａを設ける。 [Coating process S2a in the second step S2 (coating work of photosensitive emulsion)]
Subsequently, as shown in FIG. 4B, the screen mesh 3 is erected so that the mesh surface is substantially vertical, and then the front portion 20a of the bucket 20 containing the liquid photosensitive emulsion 21 is placed on the screen. The mesh 3 comes into contact with the lower end on the printing side, and then the bucket 20 is moved from the bottom to the top as shown in FIG. 4 (c). As a result, the screen mesh 3 is provided with the first emulsion layer 21a made of the photosensitive emulsion 21 that serves as the mesh-side pattern layer 5.

そして、この感光性乳剤２１の塗布と乾燥を何度も繰り返すことにより、感光性乳剤２１の膜厚（以下、「乳剤膜厚」とする）を所定の厚さに設定する。この塗布作業は、塗布用の機械による自動の塗布作業、人の手を介した手動の塗布作業のいずれであってもよい。 Then, by repeating the application and drying of the photosensitive emulsion 21 many times, the film thickness of the photosensitive emulsion 21 (hereinafter referred to as "emulsion film thickness") is set to a predetermined thickness. This coating operation may be either an automatic coating operation by a coating machine or a manual coating operation using a human hand.

この際、バケット２０の上方移動時に、バケット２０の先部２０ａで感光性乳剤２１の表面を平らに均しながら塗布するようにしている。これにより、第１乳剤層２１ａを均一な乳剤膜厚を有する平板状に形成することができる。 At this time, when the bucket 20 is moved upward, the surface of the photosensitive emulsion 21 is evenly applied by the tip portion 20a of the bucket 20. As a result, the first emulsion layer 21a can be formed into a flat plate having a uniform emulsion film thickness.

なお、本実施例では、液状の感光性乳剤２１をスクリーンメッシュ３に塗布して第１乳剤層２１ａを形成しているが、所望の乳剤膜厚を有するシート状の感光性乳剤をスクリーンメッシュ３に貼付するようにしてもよい。これにより、できあがったメッシュ側パターン層５の層厚のばらつきを低減することができる。 In this embodiment, the liquid photosensitive emulsion 21 is applied to the screen mesh 3 to form the first emulsion layer 21a, but the screen mesh 3 is a sheet-shaped photosensitive emulsion having a desired emulsion film thickness. It may be attached to. As a result, it is possible to reduce variations in the layer thickness of the completed mesh-side pattern layer 5.

そして、このシート状の感光性乳剤の貼付は、鉛直に立設したスクリーンメッシュ３に液状の感光性乳剤２１を薄く塗布した後、その塗布面に下方から感光性乳剤のシートを貼り付けるようにして行う。 Then, in order to attach the sheet-shaped photosensitive emulsion, the liquid photosensitive emulsion 21 is thinly applied to the vertically erected screen mesh 3, and then the photosensitive emulsion sheet is attached to the coated surface from below. To do.

［第２工程Ｓ２における露光過程Ｓ２ｂ（第１乳剤層の露光作業）］
その後、図５（ａ）に示すように、塗布過程Ｓ２ａで設けた感光性乳剤２１から成る第１乳剤層２１ａに、メッシュ側パターン層５用の第１フォトマスク２２を重ね、その上方に配置した照明２３から光線を照射することにより、メッシュ側パターン孔９となる未硬化領域２４を有するメッシュ側パターン層５を設ける。これにより、メッシュ側パターン孔９に従ったメッシュ側パターンを、メッシュ側パターン層５に形成することができる。なお、光線とは、紫外線のみならず可視光も含む。 [Exposure process S2b in the second step S2 (exposure work of the first emulsion layer)]
After that, as shown in FIG. 5A, the first photomask 22 for the mesh side pattern layer 5 is superposed on the first emulsion layer 21a made of the photosensitive emulsion 21 provided in the coating process S2a and arranged above the first emulsion layer 21a. By irradiating light rays from the illuminated illumination 23, a mesh-side pattern layer 5 having an uncured region 24 serving as a mesh-side pattern hole 9 is provided. As a result, the mesh side pattern according to the mesh side pattern hole 9 can be formed in the mesh side pattern layer 5. The light beam includes not only ultraviolet light but also visible light.

詳しくは、第１フォトマスク２２では、ガラス、ＰＥＴフィルム等の光線が透過する部材の中でメッシュ側パターン孔９に対応する位置に、光線が透過しないフォトマスクパターン部２２ａが形成されている。 Specifically, in the first photomask 22, a photomask pattern portion 22a that does not transmit light rays is formed at a position corresponding to the mesh side pattern hole 9 in a member such as glass or PET film that transmits light rays.

そこで、照明２３から光線を照射すると、フォトマスクパターン部２２ａでは光線が透過せず、第１乳剤層２１ａでこのフォトマスクパターン部２２ａの下方に位置する部分には、光線が照射されずに、図５（ｂ）に示すように、そのまま前述の未硬化領域２４となる。それ以外の領域では、光線が第１フォトマスク２２を透過し、第１乳剤層２１ａに光線が照射され、光線が照射された感光性乳剤２１が硬化して硬化領域２５となる。 Therefore, when light rays are irradiated from the illumination 23, the light rays do not pass through the photomask pattern portion 22a, and the portion of the first emulsion layer 21a located below the photomask pattern portion 22a is not irradiated with the light rays. As shown in FIG. 5B, the above-mentioned uncured region 24 is used as it is. In the other regions, the light rays pass through the first photomask 22, the first emulsion layer 21a is irradiated with the light rays, and the photosensitive emulsion 21 irradiated with the light rays is cured to become the cured region 25.

［第２工程Ｓ２における塗布過程Ｓ２ｃ（感光性乳剤の塗布作業）］
続いて、塗布過程Ｓ２ａと同様、図５（ｃ）に示すように、露光過程Ｓ２ｂでメッシュ側パターン層５を設けたスクリーンメッシュ３を略鉛直となるように立設した上で、液状の感光性乳剤２６を入れたバケット２０の先部２０ａを、メッシュ側パターン層５の印刷側下端に当接し、その後、図５（ｄ）に示すように、バケット２０を下方から上方に向かって移動させる。これにより、メッシュ側パターン層５に、印刷パターン層４となる感光性乳剤２６による第２乳剤層２６ａを設ける。 [Coating process S2c in the second step S2 (coating work of photosensitive emulsion)]
Subsequently, as in the coating process S2a, as shown in FIG. 5C, the screen mesh 3 provided with the mesh side pattern layer 5 was erected in the exposure process S2b so as to be substantially vertical, and then the liquid photosensitive was exposed. The tip 20a of the bucket 20 containing the sex emulsion 26 is brought into contact with the lower end of the mesh side pattern layer 5 on the printing side, and then the bucket 20 is moved from the bottom to the top as shown in FIG. 5 (d). .. As a result, the mesh side pattern layer 5 is provided with the second emulsion layer 26a made of the photosensitive emulsion 26 which is the print pattern layer 4.

なお、ここで使用する感光性乳剤２６は、第１乳剤層２１ａを形成するのに使用した感光性乳剤２１と同一のものであっても、異なるものであってもよい。ただし、前述の如く、印刷パターン層４をメッシュ側パターン層５よりも軟質とするような場合は、両パターン層４、５の機械的特性に大きな差異を設やすいように、異なる種類のものが好ましい。 The photosensitive emulsion 26 used here may be the same as or different from the photosensitive emulsion 21 used to form the first emulsion layer 21a. However, as described above, when the print pattern layer 4 is made softer than the mesh side pattern layer 5, different types are used so as to easily make a large difference in the mechanical properties of the two pattern layers 4 and 5. preferable.

そして、この塗布過程Ｓ２ｃにおいても、感光性乳剤２６の塗布と乾燥を何度も繰り返すことにより、感光性乳剤２６の乳剤膜厚を所定の厚さに設定すると共に、この塗布作業は、塗布用の機械による自動の塗布作業、人の手を介した手動の塗布作業のいずれであってもよい。更に、所望の乳剤膜厚を有するシート状の感光性乳剤をメッシュ側パターン層５に貼付してもよい。 Then, also in this coating process S2c, the emulsion film thickness of the photosensitive emulsion 26 is set to a predetermined thickness by repeating the coating and drying of the photosensitive emulsion 26 many times, and this coating operation is for coating. It may be either an automatic coating operation by the machine or a manual coating operation by human hands. Further, a sheet-like photosensitive emulsion having a desired emulsion film thickness may be attached to the mesh-side pattern layer 5.

［第２工程Ｓ２における露光過程Ｓ２ｄ（第２乳剤層の露光作業）］
その後、露光過程Ｓ２ｂと同様、図６（ａ）に示すように、塗布過程Ｓ２ｃで設けた感光性乳剤２６による第２乳剤層２６ａに、印刷パターン層４用の第２フォトマスク２７を重ね、その上方に配置した照明２３から光線を照射することにより、メッシュ側パターン孔９に対応する印刷パターン孔８となる未硬化領域２８を有する印刷パターン層４を設ける。これにより、印刷パターン孔８に従った印刷パターンを、被印刷物６に転写可能な印刷パターン層４に形成することができる。 [Exposure process S2d in the second step S2 (exposure work of the second emulsion layer)]
After that, as shown in FIG. 6A, as in the exposure process S2b, the second photomask 27 for the print pattern layer 4 was superimposed on the second emulsion layer 26a made of the photosensitive emulsion 26 provided in the coating process S2c. By irradiating light rays from the illumination 23 arranged above the illumination 23, the print pattern layer 4 having the uncured region 28 which becomes the print pattern hole 8 corresponding to the mesh side pattern hole 9 is provided. As a result, the print pattern according to the print pattern hole 8 can be formed on the print pattern layer 4 that can be transferred to the printed matter 6.

詳しくは、露光過程Ｓ２ｂと同様、第２フォトマスク２７には、印刷パターン孔８に対応する位置に、光線が透過しないフォトマスクパターン部２７ａが形成されており、照明２３から光線を照射すると、フォトマスクパターン部２７ａでは光線が透過せず、第２乳剤層２６ａでこのフォトマスクパターン部２７ａの下方に位置する部分には光線が照射されない。 Specifically, as in the exposure process S2b, the second photomask 27 is formed with a photomask pattern portion 27a that does not allow light rays to pass through at a position corresponding to the print pattern hole 8, and when the light rays are irradiated from the illumination 23, The photomask pattern portion 27a does not transmit light rays, and the portion of the second emulsion layer 26a located below the photomask pattern portion 27a is not irradiated with light rays.

このため、図６（ｂ）に示すように、そのまま未硬化領域２８となり、それ以外の領域では、光線が第２フォトマスク２７を透過して第２乳剤層２６ａに光線が照射され、光線が照射された感光性乳剤２６が硬化して硬化領域２９となる。 Therefore, as shown in FIG. 6B, the uncured region 28 is formed as it is, and in the other regions, the light rays pass through the second photomask 27 and irradiate the second emulsion layer 26a with the light rays. The irradiated photosensitive emulsion 26 is cured to form a cured region 29.

［第３工程Ｓ３（現像作業）］
続いて、露光過程Ｓ２ｄまでで形成されたメッシュ側パターン層５、印刷パターン層４を洗浄し、各層に形成された未硬化領域２４、２８を洗い流す。これにより、前述したような印刷パターン孔８よりも幅広のメッシュ側パターン孔９を形成することができる。 [Third step S3 (development work)]
Subsequently, the mesh-side pattern layer 5 and the print pattern layer 4 formed up to the exposure process S2d are washed, and the uncured regions 24 and 28 formed in each layer are washed away. As a result, the mesh-side pattern hole 9 wider than the print pattern hole 8 as described above can be formed.

詳しくは、図６（ｃ）に示すように、露光過程Ｓ２ｄで形成し未硬化領域２４、２８が残る状態のスクリーンマスク１を上下反転し、幅広の未硬化領域２４が上にくるようにしてから、洗浄液としての水をスクリーンマスク１全体にかける。 Specifically, as shown in FIG. 6C, the screen mask 1 formed in the exposure process S2d and in a state where the uncured regions 24 and 28 remain is turned upside down so that the wide uncured region 24 is on top. Then, water as a cleaning liquid is sprinkled on the entire screen mask 1.

すると、図６（ｄ）に示すように、上半部の未硬化領域２４を溶かした洗浄水が、そのまま下半部の未硬化領域２８を溶かして、両未硬化領域２４、２８が一緒に洗い流される。そして、未硬化領域２４の流出跡にメッシュ側パターン孔９が形成され、未硬化領域２８の流出跡に印刷パターン孔８が形成される。一方、硬化領域２５、２９は、そのまま層を構成する部分となる。続いて乾燥すると、メッシュ側パターン層５、印刷パターン層４となって、スクリーンマスク１が完成する。 Then, as shown in FIG. 6D, the washing water in which the uncured region 24 in the upper half is dissolved dissolves the uncured region 28 in the lower half as it is, and both the uncured regions 24 and 28 are combined. Be washed away. Then, a mesh-side pattern hole 9 is formed in the outflow trace of the uncured region 24, and a print pattern hole 8 is formed in the outflow trace of the uncured region 28. On the other hand, the cured regions 25 and 29 are portions that constitute the layer as they are. When it is subsequently dried, it becomes a mesh-side pattern layer 5 and a print pattern layer 4, and the screen mask 1 is completed.

更に、このような印刷パターン孔８よりも幅広のメッシュ側パターン孔９を形成する際は、図７（ａ）に示すように、メッシュ側パターン孔９となる未硬化領域２４の幅１５ａが、印刷パターン孔８となる未硬化領域２８の幅１６ａよりも大きく、すなわち、未硬化領域２４が未硬化領域２８よりも幅広に形成された状態で、メッシュ側パターン層５、印刷パターン層４を同時に洗浄して両未硬化領域２４、２８を洗い流すようにしている。 Further, when forming the mesh-side pattern hole 9 wider than the print pattern hole 8, as shown in FIG. 7A, the width 15a of the uncured region 24 to be the mesh-side pattern hole 9 is set. The mesh side pattern layer 5 and the print pattern layer 4 are simultaneously formed in a state where the width 16a of the uncured region 28 serving as the print pattern hole 8 is larger, that is, the uncured region 24 is formed wider than the uncured region 28. Both uncured areas 24 and 28 are washed away by washing.

この際、図７（ｂ）に示すように、上方から流れ落ちる洗浄水により、連設されている未硬化領域２４から未硬化領域２８にかけては短時間で溶解し、未硬化領域２８の下部から即座に流下排出されるが、硬化領域２５、２９で未硬化領域２４、２８に近接する境界近傍部２５ａ、２９ａは、硬化が不充分なため洗浄水を吸って著しく膨潤する。なお、この境界近傍部２５ａ、２９ａは、図７（ｂ）（ｃ）に示すように、それぞれ、最終的にはメッシュ側パターン孔９、印刷パターン孔８を構成する各孔内壁９ａ、８ａを構成する。 At this time, as shown in FIG. 7B, the continuous uncured region 24 to the uncured region 28 are dissolved in a short time by the washing water flowing down from above, and immediately from the lower part of the uncured region 28. However, the cured regions 25 and 29, which are close to the uncured regions 24 and 28, are discharged to the vicinity of the boundary 25a and 29a due to insufficient curing, so that they absorb washing water and swell significantly. As shown in FIGS. 7 (b) and 7 (c), the boundary vicinity portions 25a and 29a finally form the mesh-side pattern holes 9 and the inner walls 9a and 8a of the holes forming the print pattern holes 8, respectively. Configure.

しかし、本実施例のメッシュ側パターン層５においては、未硬化領域２４が溶け落ちた後の空間であるメッシュ側パターン孔９が充分に大きくなるため、左右の境界近傍部２５ａ、２５ａが膨出しても、互いに当接することはない。 However, in the mesh-side pattern layer 5 of the present embodiment, the mesh-side pattern holes 9, which are the spaces after the uncured region 24 is melted down, become sufficiently large, so that the left and right boundary vicinity portions 25a and 25a bulge. However, they do not come into contact with each other.

一方、印刷パターン層４においては、未硬化領域２８が溶け落ちた後の空間である印刷パターン孔８は狭いものの、左右の境界近傍部２９ａの上端角部２９ａ２、２９ａ２はメッシュ側パターン孔９内に突き出た自由端部分となっている。このため、左右の境界近傍部２９ａ、２９ａの膨出部２９ａ１、２９ａ１の大部分は、メッシュ側パターン孔９内に向かって上斜め内方に膨出し、狭い印刷パターン孔８内を内方に向かって膨出することがない。 On the other hand, in the print pattern layer 4, although the print pattern hole 8 which is the space after the uncured region 28 is melted down is narrow, the upper end corner portions 29a2 and 29a2 of the left and right boundary vicinity portions 29a are inside the mesh side pattern hole 9. It is a free end part that protrudes into. Therefore, most of the bulging portions 29a1 and 29a1 of the left and right boundary vicinity portions 29a and 29a bulge upward and diagonally inward toward the inside of the mesh side pattern hole 9, and the inside of the narrow print pattern hole 8 is inward. It does not bulge toward you.

すなわち、幅狭の印刷パターン孔８の未硬化領域２８と幅広のメッシュ側パターン孔９の未硬化領域２４とが連設されているため、水洗中に、印刷パターン孔８を形成する硬化済みの孔内壁８ａがたとえ洗浄水を吸水して膨潤しても、その膨潤による体積増加分は、印刷パターン層４からメッシュ側パターン孔９内に突き出た自由端部分である上端角部２９ａ２に集中し、印刷パターン孔８の孔内方への膨出が軽減される。 That is, since the uncured region 28 of the narrow print pattern hole 8 and the uncured region 24 of the wide mesh side pattern hole 9 are connected in series, the cured region 28 that forms the print pattern hole 8 during washing with water has been cured. Even if the hole inner wall 8a absorbs wash water and swells, the volume increase due to the swelling is concentrated on the upper end corner 29a2 which is a free end portion protruding from the print pattern layer 4 into the mesh side pattern hole 9. , The swelling of the print pattern hole 8 inward is reduced.

これに対し、従来の如く、メッシュ側パターン層５にある未硬化領域が、図７（ａ）に示す領域３０のように、印刷パターン層４にある未硬化領域２８と略同じ幅で同じ線上に形成されている場合には、メッシュ側パターン層５、印刷パターン層４のいずれにおいても、空間が小さい上に、自由端が少なくて膨潤による境界近傍部の膨出の逃げ代がほとんどない。このため、境界近傍部２５ａ、２９ａからの膨出部が狭い空間内に向かって膨出し互いに当接して接着する。すると、洗浄後に乾燥しても、左右の膨出部が空間内に橋設された状態となって、メッシュ側パターン孔、印刷パターン孔が共に閉塞される。 On the other hand, as in the conventional case, the uncured region in the mesh side pattern layer 5 has substantially the same width and the same line as the uncured region 28 in the print pattern layer 4, as shown in the region 30 shown in FIG. 7A. In any of the mesh side pattern layer 5 and the print pattern layer 4, the space is small, the free end is small, and there is almost no escape allowance for swelling in the vicinity of the boundary due to swelling. Therefore, the bulging portions from the boundary vicinity portions 25a and 29a bulge toward the narrow space and come into contact with each other and adhere to each other. Then, even if the surface is dried after cleaning, the left and right bulging portions are bridged in the space, and both the mesh side pattern hole and the print pattern hole are closed.

このようにして、洗浄水の吸水に伴う孔内壁８ａ、９ａの孔内方への膨出により印刷パターン孔８が閉塞するのを確実に防止し、印刷精度の更なる向上を図ることができる。なお、本実施例では、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域の幅１５ａ、印刷パターン孔となる未硬化領域の幅１６ａは、それぞれ、メッシュ側パターン孔の幅１５、印刷パターン孔の幅１６と略同幅としているが、異なる幅であってもよく、幅１５ａが幅１６ａよりも幅広であれば特に限定されるものではない。 In this way, it is possible to reliably prevent the print pattern hole 8 from being blocked due to the swelling of the hole inner walls 8a and 9a inward due to the absorption of the washing water, and to further improve the printing accuracy. .. In this embodiment, the width 15a of the uncured region serving as the mesh-side pattern hole and the width 16a of the uncured region serving as the print pattern hole are the width 15 of the mesh-side pattern hole and the width 16 of the print pattern hole, respectively. Although the widths are substantially the same, they may be different widths, and are not particularly limited as long as the width 15a is wider than the width 16a.

以上のように、本発明を適用したスクリーンマスクは、簡単で安価な構造でありながら耐久性に優れ、高精度な印刷を確実に実現可能とするものとなっている。
また、本発明を適用したスクリーンマスクの製造方法は、現像作業中における印刷パターン孔の閉塞を確実に防止可能なものとなっている。 As described above, the screen mask to which the present invention is applied has a simple and inexpensive structure, yet has excellent durability, and can surely realize high-precision printing.
Further, the method for manufacturing a screen mask to which the present invention is applied can reliably prevent blockage of print pattern holes during development work.

１、１Ａ、１Ｂ スクリーンマスク
２ フレーム（枠体）
３ スクリーンメッシュ
３ｂ 線径
４、４Ａ、４Ｂ 印刷パターン層
４ａ 対向面（被印刷物と対向する面）
４ｂ 反対面（反対側の面）
５ メッシュ側パターン層
６ 被印刷物
８ 印刷パターン孔
９ メッシュ側パターン孔
９ａ１ 上テーパ部（テーパ部）
９ａ２ 下テーパ部（テーパ部）
１５ 幅（メッシュ側パターン孔の幅）
１５ａ 幅（メッシュ側パターン孔の未硬化領域の幅）
１６ 幅（印刷パターン孔の幅）
１６ａ 幅（印刷パターン孔の未硬化領域の幅）
１７ 厚み（印刷パターン層の厚み）
１８ 硬質層
１９ 硬質域
２１、２６ 感光性乳剤
２１ａ 第１乳剤層
２４ 未硬化領域（メッシュ側パターン孔となる未硬化領域）
２６ａ 第２乳剤層
２８ 未硬化領域（印刷パターン孔となる未硬化領域）
Ｓ１ 第１工程
Ｓ２ 第２工程
Ｓ３ 第３工程 1,1A, 1B screen mask 2 frames (frame)
3 Screen mesh 3b Wire diameter 4, 4A, 4B Print pattern layer 4a Opposing surface (surface facing the printed matter)
4b Opposite side (opposite side)
5 Mesh side pattern layer 6 Printed matter 8 Printed pattern hole 9 Mesh side pattern hole 9a1 Upper taper part (tapered part)
9a2 Lower taper part (tapered part)
15 width (width of pattern hole on mesh side)
15a width (width of uncured area of mesh side pattern hole)
16 width (width of print pattern hole)
16a width (width of uncured area of print pattern hole)
17 Thickness (thickness of print pattern layer)
18 Hard layer 19 Hard region 21, 26 Photosensitive emulsion 21a First emulsion layer 24 Uncured region (uncured region that becomes a pattern hole on the mesh side)
26a Second emulsion layer 28 Uncured region (uncured region serving as print pattern holes)
S1 1st process S2 2nd process S3 3rd process

Claims (12)

被印刷物に転写する印刷パターン孔が形成された印刷パターン層と、
該印刷パターン層で前記被印刷物と対向する面とは反対側の面に設けられ、内部にスクリーンメッシュの少なくとも一部が張設されると共に、前記印刷パターン孔に対応する位置で該印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔が形成されたメッシュ側パターン層とを備え、
前記メッシュ側パターン孔は、
開口部に形成され、前記印刷パターン層側に向かって縮幅する第１のテーパ部と、該第１のテーパ部と前記印刷パターン孔の間に形成され、前記印刷パターン層側に向かって前記第１のテーパ部よりも緩やかに傾斜した第２のテーパ部とを有する
スクリーンマスク。 A print pattern layer having print pattern holes to be transferred to the printed matter, and
The print pattern layer is provided on the surface opposite to the surface facing the printed matter, and at least a part of the screen mesh is stretched inside, and the print pattern hole is located at a position corresponding to the print pattern hole. With a mesh-side pattern layer in which a wider mesh-side pattern hole is formed,
The mesh side pattern hole is
The first tapered portion formed in the opening and narrowing toward the print pattern layer side, and the first tapered portion formed between the first tapered portion and the print pattern hole and described toward the print pattern layer side. A screen mask having a second tapered portion that is more gently inclined than the first tapered portion . 前記メッシュ側パターン孔の幅は、
前記印刷パターン孔の２倍以上に設定する
請求項１に記載のスクリーンマスク。 The width of the mesh side pattern hole is
The screen mask according to claim 1, which is set to twice or more the print pattern hole. 前記印刷パターン孔の幅は３０〜８０μｍで、The width of the print pattern hole is 30 to 80 μm.
前記スクリーンメッシュの線径は２０μｍ以上に設定する The wire diameter of the screen mesh is set to 20 μm or more.
請求項１または請求項２に記載のスクリーンマスク。 The screen mask according to claim 1 or 2. 前記印刷パターン層の厚みは、The thickness of the print pattern layer is
前記印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の０．５倍以上に設定するSet to 0.5 times or more the minimum width of the print pattern hole width.
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。The screen mask according to any one of claims 1 to 3. 前記印刷パターン層は、The print pattern layer is
前記メッシュ側パターン層よりも軟質であるIt is softer than the mesh side pattern layer
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。The screen mask according to any one of claims 1 to 4. 前記印刷パターン層は、The print pattern layer is
前記被印刷物側に、シリコン系乳剤から成る硬質層を有するA hard layer made of a silicon-based emulsion is provided on the printed matter side.
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。The screen mask according to any one of claims 1 to 5. 前記印刷パターン層は、The print pattern layer is
前記被印刷物側に、該印刷パターン層のアセタール化合物から成る硬質域を有するThe printed matter side has a hard region made of an acetal compound of the printed pattern layer.
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のスクリーンマスク。The screen mask according to any one of claims 1 to 6. 枠体内にスクリーンメッシュを張設する第１工程と、The first step of stretching the screen mesh inside the frame and
前記スクリーンメッシュに、メッシュ側パターン層となる感光性乳剤から成る第１乳剤層を設け、該メッシュ側パターン層に、被印刷物に転写する印刷パターン孔が形成された印刷パターン層となる感光性乳剤から成る第２乳剤層を設け、所定の露光作業によって、前記第１乳剤層を、メッシュ側パターン孔となる未硬化領域を有するメッシュ側パターン層に形成し、前記第２乳剤層を、前記メッシュ側パターン孔に対応する前記印刷パターン孔となる未硬化領域を有する印刷パターン層に形成する第２工程と、The screen mesh is provided with a first emulsion layer made of a photosensitive emulsion to be a mesh-side pattern layer, and the mesh-side pattern layer is a photosensitive emulsion to be a print pattern layer in which print pattern holes to be transferred to an object to be printed are formed. A second emulsion layer composed of the above is provided, and the first emulsion layer is formed into a mesh-side pattern layer having an uncured region to be a mesh-side pattern hole by a predetermined exposure operation, and the second emulsion layer is formed into the mesh. The second step of forming the print pattern layer having the uncured region to be the print pattern hole corresponding to the side pattern hole, and
前記メッシュ側パターン孔となる未硬化領域が印刷パターン孔となる未硬化領域よりも幅広に形成された状態で、前記メッシュ側パターン層、印刷パターン層を洗浄して両未硬化領域を洗い流すことにより、前記印刷パターン孔よりも幅広のメッシュ側パターン孔を形成する第３工程とを備え、By washing the mesh-side pattern layer and the print pattern layer in a state where the uncured region to be the mesh-side pattern hole is formed wider than the uncured region to be the print pattern hole, both uncured regions are washed away. A third step of forming a mesh-side pattern hole wider than the print pattern hole is provided.
前記メッシュ側パターン孔は、The mesh side pattern hole is
開口部に形成され、前記印刷パターン層側に向かって縮幅する第１のテーパ部と、該第１のテーパ部と前記印刷パターン孔の間に形成され、前記印刷パターン層側に向かって前記第１のテーパ部よりも緩やかに傾斜した第２のテーパ部とを有するThe first tapered portion formed in the opening and narrowing toward the print pattern layer side, and the first tapered portion formed between the first tapered portion and the print pattern hole and described toward the print pattern layer side. It has a second tapered portion that is more gently inclined than the first tapered portion.
スクリーンマスクの製造方法。How to make a screen mask. 前記メッシュ側パターン孔の幅は、The width of the mesh side pattern hole is
前記印刷パターン孔の２倍以上に設定するSet to at least twice the print pattern hole
請求項８に記載のスクリーンマスクの製造方法。The method for manufacturing a screen mask according to claim 8. 前記メッシュ側パターン孔は、The mesh side pattern hole is
前記印刷パターン層側に向かって縮幅するテーパ部を有するIt has a tapered portion that narrows toward the print pattern layer side.
請求項８または請求項９に記載のスクリーンマスクの製造方法。The method for manufacturing a screen mask according to claim 8 or 9. 前記印刷パターン孔の幅は３０〜８０μｍで、The width of the print pattern hole is 30 to 80 μm.
前記スクリーンメッシュの線径は２０μｍ以上に設定するThe wire diameter of the screen mesh is set to 20 μm or more.
請求項８から請求項１０のいずれか一項に記載のスクリーンマスクの製造方法。The method for manufacturing a screen mask according to any one of claims 8 to 10. 前記印刷パターン層の厚みは、
前記印刷パターン孔の幅のうちの最小幅の０．５倍以上に設定する
請求項８から請求項１１のいずれか一項に記載のスクリーンマスクの製造方法。 The thickness of the print pattern layer is
Set to 0.5 times or more the minimum width of the print pattern hole width.
The method for manufacturing a screen mask according to any one of claims 8 to 11 .
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