JP6780389B2 - 撮像制御装置および撮像制御方法 - Google Patents

Description

本開示は、撮像制御装置および撮像制御方法に関する。

従来から自動的に焦点を検出する様々な方式（オートフォーカスの方式）が提案されている。例えば、下記特許文献１には、専用のセンサにより構成される焦点検出手段と、撮像素子を構成する画素の一部を使用した焦点検出手段とを選択的に切り替えて使用して焦点調節を行う撮像装置が記載されている。

特開２００７−２３３０３４号公報

このような分野では、オートフォーカスの精度を向上させることが望まれている。

本開示は、オートフォーカスの精度を向上させることが可能な撮像制御装置および撮像制御方法を提供することを目的の一つとする。

上述の課題を解決するために、本開示は、例えば、
撮像部の撮影範囲において設定される設定エリアに、第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、撮像素子にある第２の位相差検出センサによる測距エリアについて異なる測距エリアを設定する焦点検出制御部を備える
撮像制御装置である。

また、本開示は、例えば、
焦点検出制御部が、撮像部の撮影範囲において設定される設定エリアに、第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、撮像素子にある第２の位相差検出センサについて異なる測距エリアを設定する
撮像制御方法である。

本開示の少なくとも一の実施形態によれば、オートフォーカスの精度を向上させることができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。また、例示された効果により本開示の内容が限定して解釈されるものではない。

図１は、本開示の一実施形態に係る撮像装置の概略構成を示す断面模式図である。 図２は、本開示の一実施形態に係る撮像装置の構成例を示すブロック図である。 図３は、位相差検出用画素の配置例を説明するための図である。 図４は、一対の位相差検出用画素の構成例を説明するための図である。 図５は、像面ＡＦエリアの構成について説明するための図である。 図６は、像面ＡＦエリアの構成について説明するための図である。 図７Ａ乃至図７Ｃは、位相差検出用画素とＡＦエリアとの関係を説明するための図である。 図８は、撮影範囲における像面ＡＦエリアと専用ＡＦエリアの配置例を示す図である。 図９は、設定エリアの一例を説明するための図である。 図１０は、設定エリアに像面ＡＦエリアを集中して配置することを説明するための図である。 図１１は、設定エリアに像面ＡＦエリアを集中して配置することを説明するための図である。 図１２は、設定エリアに像面ＡＦエリアを集中して配置することを説明するための図である。 図１３は、設定エリアにおける像面ＡＦエリアの配置例を説明するための図である。 図１４は、他の設定エリアにおける像面ＡＦエリアの配置例を説明するための図である。 図１５は、他の設定エリアにおける像面ＡＦエリアの配置例を説明するための図である。 図１６は、ＡＦエリアを調整する処理の流れを説明するためのフローチャートである。 図１７は、デフォーカス量を選択する処理を説明するための図である。 図１８は、デフォーカス量を選択する処理を説明するための図である。

以下、本開示の実施形態等について図面を参照しながら説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
＜１．一実施形態＞
＜２．変形例＞
以下に説明する実施形態等は本開示の好適な具体例であり、本開示の内容がこれらの実施形態等に限定されるものではない。

＜１．一実施形態＞
［撮像装置の構成例］
始めに、本開示の一実施形態に係る撮像装置の構成例について説明する。図１は、本開示の一実施形態に係る撮像装置１の概略構成を示す断面模式図である。

撮像装置１は、筐体（ボディ）１０、撮影レンズ２２を備える光学撮像系２０、半透過ミラー１１、撮像素子１２Ａ、像面ＡＦ(Auto Focus)センサ１２Ｂ、専用位相差ＡＦセンサ１３、電子ビューファインダ１４、ディスプレイ１５を備えている。例えば、撮像素子１２Ａと光学撮像系２０とを含む構成により撮像部が構成される。

図１に示されるように、筐体１０に対して光学撮像系２０が設けられている。光学撮像系２０は、例えば交換可能ないわゆるレンズ部であり、鏡筒２１内に撮影レンズ２２、絞り等が設けられている。撮影レンズ２２は、フォーカス駆動系（図示しない）によって駆動され、ＡＦ動作が可能とされている。なお、光学撮像系２０は、筐体１０と一体ものとして構成してもよいし、光学撮像系２０が所定のアダプタを介して筐体１０に着脱可能としてもよい。

半透過ミラー１１は、筐体１０内において、撮影レンズ２２と筐体１０内の撮像素子１２Ａとの間に設けられている。半透過ミラー１１には、撮影レンズ２２を介して被写体光が入射する。半透過ミラー１１は、撮影レンズ２２を介して入射する被写体光の一部を上方の専用位相差ＡＦセンサ１３の方向に反射させ、また、被写体光の一部を撮像素子１２Ａへと透過させる。なお、半透過ミラー１１の透過度、反射率等は、任意に設定することが可能である。また、半透過ミラー１１は、固定式、可動式のいずれであってもよい。

筐体１０内には撮影画像生成用の撮像素子１２Ａが設けられている。撮像素子１２Ａとしては、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）などが用いられる。撮像素子１２Ａは、撮影レンズ２２を介して入射する被写体光を光電変換して電荷量に変換し、画像を生成する。画像信号は、ホワイトバランス調整処理、ガンマ補正処理などの所定の信号処理が施されて最終的に画像データとして、撮像装置１内の記憶媒体や外部メモリ、撮像装置１に着脱可能とされる可搬型のメモリなどに保存される。

撮像素子１２Ａは、通常の撮像画素である例えば、Ｒ（Red）画素、Ｇ（Green）画素、Ｂ（Blue）画素を有するとともに、位相差焦点検出を行う像面ＡＦセンサ１２Ｂを有している。撮像素子を構成する各画素は被写体からの入射光を光電変換して電荷量に変換して、画素信号を出力する。

専用位相差ＡＦセンサ１３は、例えば、筐体１０内において半透過ミラー１１の上方に、且つ、撮像素子１２Ａの前方に位置するように設けられている。専用位相差ＡＦセンサ１３は、例えば、位相差検出方式のオートフォーカス専用モジュールである。撮影レンズ２２により集光された被写体光は半透過ミラー１１で反射することによって専用位相差ＡＦセンサ１３に入射する。専用位相差ＡＦセンサ１３により検出された焦点検出信号は撮像装置１内においてデフォーカス量の算出を行う処理部などに供給される。

筐体１０には電子ビューファインダ（EVF：Electronic View Finder）１４が設けられている。電子ビューファインダ１４は、例えば、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display（ＬＣＤ））、有機ＥＬ(Electroluminescence:電界発光効果) ディスプレイなどを備える。電子ビューファインダ１４には、撮像素子１２Ａから取り出された画像信号を信号処理部（図示しない）で処理することにより得られる画像データが供給され、電子ビューファインダ１４は、それらをリアルタイム画像（スルー画像）として表示する。

筐体１０には、ディスプレイ１５が設けられている。ディスプレイ１５は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のフラットディスプレイなどである。ディスプレイ１５には、撮像素子１２Ａから取り出された画像信号を信号処理部（図示しない）で処理して得られる画像データが供給され、ディスプレイ１５はそれらをリアルタイム画像（いわゆるスルー画像）として表示する。図１においては、ディスプレイ１５は、筺体の背面側に設けられているが、これに限られず、筺体上面などに設けてもよく、可動式や取り外し式としてもよい。ディスプレイ１５は筐体１０になくてもよく、この場合、撮像装置１に接続されたテレビジョン装置等がディスプレイ１５として機能してもよい。

［撮像装置の内部構成例］
次に、図２のブロック図を参照して、撮像装置１の内部構成例（主に信号処理に係る構成例）について説明する。撮像装置１は、上述した光学撮像系２０、専用位相差ＡＦセンサ１３、撮像素子１２Ａ、像面ＡＦセンサ１２Ｂ、ディスプレイ１５の他に、例えば、前処理回路３１、カメラ処理回路３２、画像メモリ３３、制御部３４、グラフィックＩ／Ｆ（Interface）３５、入力部３６、Ｒ／Ｗ（リーダ／ライタ）３７および記憶媒体３８を備えている。

光学撮像系２０は、被写体からの光を撮像素子１２Ａに集光するための撮影レンズ２２（フォーカスレンズ、ズームレンズなどを含む）、フォーカスレンズを移動させてフォーカス調整を行うレンズ駆動機構２２Ａ、シャッタ機構、アイリス機構などから構成されている。これらは制御部３４からの制御信号に基づいて駆動される。レンズ駆動機構２２Ａは、撮影レンズ２２を制御部３４から供給された制御信号に応じて光軸方向に沿って移動させることにより、ＡＦ動作を実現する。光学撮像系２０を介して得られた被写体の光画像は、撮像デバイスとしての撮像素子１２Ａ上に結像される。

専用位相差ＡＦセンサ１３は、例えば、位相差検出方式のオートフォーカス専用センサである。撮影レンズ２２により集光された被写体光は、半透過ミラー１１で反射されることによって専用位相差ＡＦセンサ１３に入射する。専用位相差ＡＦセンサ１３により検出された焦点検出信号は制御部３４に供給される。

撮像素子１２Ａは、上述したように、通常の撮像画素と位相差検出用画素とを有するものである。像面ＡＦセンサ１２Ｂは、複数の位相差検出用画素からなるオートフォーカス用センサである。像面ＡＦセンサ１２Ｂにより検出された焦点検出信号は制御部３４に供給される。

前処理回路３１は、撮像素子１２Ａから出力された撮像信号に対して、ＣＤＳ（Correlated Double Sampling）処理によりＳ／Ｎ（Signal／Noise）比を良好に保つようにサンプルホールドなどを行う。さらに、ＡＧＣ（Auto Gain Control）処理により利得を制御し、Ａ／Ｄ（Analog/Digital）変換を行ってデジタル画像信号を出力する。

カメラ処理回路３２は、前処理回路３１からの画像信号に対して、ホワイトバランス調整処理や色補正処理、ガンマ補正処理、Ｙ／Ｃ変換処理、ＡＥ（Auto Exposure）処理などの信号処理を施す。

画像メモリ３３は、揮発性メモリ、例えば、ＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）で構成されるバッファメモリであり、前処理回路３１およびカメラ処理回路３２によって所定の処理が施された画像データを一時的に蓄えておくものである。

制御部３４は、例えばＣＰＵ(Central Processing Unit)、ＲＡＭ(Random Access Memory)およびＲＯＭ(Read Only Memory)などから構成されている。ＲＯＭには、ＣＰＵにより読み込まれ動作されるプログラムなどが記憶されている。ＲＡＭは、ＣＰＵのワークメモリとして用いられる。ＣＰＵは、ＲＯＭに記憶されたプログラムに従い様々な処理を実行してコマンドの発行を行うことによって撮像装置１全体の制御を行う。

また、制御部３４は、機能ブロックとして、例えば、撮像制御装置３４Ａ、ＡＦ制御部３４Ｂ、被写体特定部３４Ｃを有している。撮像制御装置３４Ａは、機能ブロックとして、例えば、焦点検出制御部３４１、ＤＦ量選択部３４２を有している。焦点検出制御部３４１は、ディスプレイ１５に表示される撮影画面上におけるＡＦエリア（測距エリア）の配置等を制御する。ＤＦ量選択部３４２は、焦点検出制御部３４１により調整されたＡＦエリアに基づいて得られる複数のデフォーカス量のうち、１のデフォーカス量を所定の条件に応じて選択する。なお、焦点検出制御部３４１およびＤＦ量選択部３４２の具体的な動作例については後述する。

ＡＦ制御部３４Ｂは、ＤＦ量選択部３４２により選択されたデフォーカス量に基づいて光学撮像系２０のレンズ駆動機構２２Ａを制御する。レンズ駆動機構２２Ａが制御されることに応じて、レンズが光軸方向に沿って所定量移動されて、被写体に合焦するようにオートフォーカス制御が行われる。

被写体特定部３４Ｃは、公知の被写体検出技術により処理画像中における人物、物体などの被写体を検出する。被写体検出方法としては、テンプレートマッチングによる顔／物体認識技術、被写体の輝度分布情報に基づくマッチング方法、画像に含まれる肌色の部分や人間の顔の特徴量等に基づく方法などを用いることができる。また、これらの手法を組み合わせて検出精度を高めるようにしてもよい。

グラフィックＩ／Ｆ３５は、制御部３４から供給された画像信号から、ディスプレイ１５に表示させるための画像信号を生成して、この信号をディスプレイ１５に供給することにより画像を表示させる。ディスプレイ１５には、撮像中のスルー画像、記憶媒体３８に記録された画像などが表示される。

入力部３６は、例えば、電源オン／オフ切り替えのための電源ボタン、撮像画像の記録の開始を指示するためのレリーズボタン、ズーム調整用の操作子、ディスプレイ１５と一体に構成されたタッチスクリーンなどからなる。入力部３６に対して入力がなされると、当該入力に応じた制御信号が生成されて制御部３４に出力される。そして、制御部３４は当該制御信号に対応した演算処理や制御を行う。

Ｒ／Ｗ３７には、撮像により生成された画像データなどを記録する記憶媒体３８が接続されるインターフェースである。Ｒ／Ｗ３７は、制御部３４から供給されたデータを記憶媒体３８に書き込み、また、記憶媒体３８から読み出したデータを制御部３４に出力する。記憶媒体３８は、例えば、ハードディスク、メモリースティック（ソニー株式会社の登録商標）、ＳＤメモリーカードなどの大容量記憶媒体である。画像は例えばＪＰＥＧなどの規格に基づいて圧縮された状態で保存される。また、保存された画像に関する情報、撮像日時などの付加情報を含むＥＸＩＦ（Exchangeable Image File Format）データもその画像に対応付けられて保存される。

[撮像装置の基本的な動作例]
ここで、上述した撮像装置１における基本的な動作について説明する。画像の撮像前には、撮像素子１２Ａによって受光されて光電変換された信号が、順次、前処理回路３１に供給される。前処理回路３１では、入力信号に対してＣＤＳ処理、ＡＧＣ処理などが施され、さらに画像信号に変換される。

カメラ処理回路３２は、前処理回路３１から供給された画像信号を画質補正処理し、スルー画像の信号として、制御部３４を介してグラフィックＩ／Ｆ３５に供給する。これにより、スルー画像がディスプレイ１５に表示される。ユーザはディスプレイ１５に表示されるスルー画像を見て画角合わせを行うことができる。

この状態で、入力部３６のシャッタボタンが押下されると、制御部３４は、光学撮像系２０に制御信号を出力して、光学撮像系２０を構成するシャッタを動作させる。これにより撮像素子１２Ａからは、１フレーム分の画像信号が出力される。

カメラ処理回路３２は、撮像素子１２Ａから前処理回路３１を介して供給された１フレーム分の画像信号に画質補正処理を施し、処理後の画像信号を制御部３４に供給する。制御部３４は、入力された画像信号を圧縮符号化し、生成した符号化データを、Ｒ／Ｗ３７に供給する。これにより、撮像された静止画像のデータファイルがＲ／Ｗ３７を介して記憶媒体３８に記憶される。

一方、記憶媒体３８に記憶された画像ファイルを再生する場合には、制御部３４は、入力部３６からの操作入力に応じて、選択された静止画像ファイルを記憶媒体３８からＲ／Ｗ３７を介して読み込む。読み込まれた画像ファイルに対して伸張復号化処理が施される。そして、復号化された画像信号が制御部３４を介してグラフィックＩ／Ｆ３５に供給される。これにより、記憶媒体３８に記憶された静止画像がディスプレイ１５に表示される。

「位相差検出用画素について」
次に、位相差検出用画素の一例について詳細に説明する。図３に示すように、撮像素子１２Ａは、位相差検出を行う位相差検出用画素として、第１位相差検出用画素Ｐ１と第２位相差検出用画素Ｐ２とを有している。位相差検出用画素は、第１位相差検出用画素Ｐ１と第２位相差検出用画素Ｐ２とで一対となる構成となっており、撮影レンズ２２の瞳分割を行う。第１位相差検出用画素Ｐ１および第２位相差検出用画素Ｐ２は通常の撮像画素とは光学特性が異なるものである。一対の位相差検出用画素が複数設けられることにより像面ＡＦセンサ１２Ｂが構成されている。

図４は位相差検出用画素の構成を示す図である。図４Ａは第１位相差検出用画素Ｐ１を示し、図４Ｂは第２位相差検出用画素Ｐ２を示す。

第１位相差検出用画素Ｐ１は受光素子１１１を有する。また。光の入射側には、マイクロレンズ１１２が設けられている。さらに、受光素子１１１とマイクロレンズ１１２の間には、瞳分割を行うため、入射する光を遮る遮光層１１３が設けられている。遮光層１１３は、受光素子１１１の中心に対して片側方向に偏心した開口部１１４を有するように構成されている。

第１位相差検出用画素Ｐ１はこのように構成されているため、図４Ａに示されるように入射光は一部のみが受光素子１１１に入射することとなる。

第２位相差検出用画素Ｐ２は受光素子１２１を有する。また。光の入射側には、マイクロレンズ１２２が設けられている。さらに、受光素子１２１とマイクロレンズ１２２の間には、瞳分割を行うため、入射する光を遮る遮光層１２３が設けられている。遮光層１２３は、受光素子１２１の中心に対して片側方向に偏心した開口部１２４を有するように構成されている。

遮光層１２３は、第１位相差検出用画素Ｐ１において遮光層１１３が遮った方向とは逆側を遮るように構成されている。よって、第１位相差検出用画素Ｐ１と第２位相差検出用画素Ｐ２とは測距方向に対してそれぞれ逆側を遮光する構成となっている。

第２位相差検出用画素Ｐ２はこのように構成されているため、図４Ｂに示されるように入射光は一部のみが受光素子１２１に入射することとなる。

位相差検出用画素はこのように構成されており、この位相差検出用画素からの出力を用いて、いわゆる像面位相差ＡＦを行うことができるものである。なお、位相差検出用画素は、位相差検出用画素としてのみ機能し、通常画素としては機能しないものでもよいし、１つの画素が独立した２つのフォトダイオードで構成されていることにより、撮像用および位相差検出用として機能するものでもよい。このような画素は、２つのフォトダイオードがそれぞれ独立して光を取り込むことが可能であり、オートフォーカス時にはそれぞれのフォトダイオードから位相差信号を検出して位相差検出用画素として機能し、撮影時には１つの通常画素として機能して画像信号を出力する。また、撮像用センサと像面位相差ＡＦ用センサを積層した構造を有する撮像素子１２Ａなど、通常の撮影機能に加え、位相差検出を行なうことができる撮像素子１２Ａであればどのようなものでもよい。

なお、図３においては、Ｇ画素を位相差検出用画素としている。これは、Ｇ画素がＲ画素およびＢ画素に比べて倍の数存在しているためである。ただし、位相差検出用画素はＧ画素に限られるものではない。

位相差検出用画素は、例えば図５に示されるように、撮影画像に影響を与えないように、撮像素子１２Ａの間に埋め込まれている。水平方向には、位相差を検出するための部分的に開口をあけて瞳分割された１組の素子（Ｐ１とＰ２）が並んで配置されている。また、垂直方向には、この位相差検出用画素のラインが何ラインかごとに埋め込まれている。

このように配置されている位相差検出用画素に対して、複数の位相差検出用画素を一組としてＡＦエリアを設定し（例えば、図５の太線による矩形枠）、そのエリアごとに焦点検出演算を行う。したがって、ＡＦエリアの設定を図６のようにずらすことによって、不均等にＡＦエリアを配置することが可能となる。すなわち、ソフトウェアにおける処理によってＡＦエリアの配置を任意に設定することができる。

次に、デフォーカス量算出の対象となる領域であるＡＦエリアと、撮像素子１２Ａに設けられた位相差検出用画素の関係について図７を参照して説明する。図７Ａは、撮影範囲における１つのＡＦエリア４１と、それに対応する位相差検出用画素による検出に用いる領域（以下、位相差画素領域４２と称する。）を抜き出して示したものである。図７Ａに示すように、太線で示すＡＦエリア４１と、そのＡＦエリア４１に対応する細線で示す位相差画素領域４２の形状および大きさは同一ではなく、通常、位相差画素領域４２はＡＦエリア４１よりも広いものとなっている。

したがって図７Ｂに示すように、複数のＡＦエリア４１、４３が間隔を開けて疎に配置されている場合でも、それら複数のＡＦエリア４１、４３それぞれの位相差画素領域４２、４４が重なっていることがある（図７Ｂの斜線部分）。よって、複数のＡＦエリアが間隔を開けて疎に配置されている場合でも、全ての位相差検出用画素を使用している場合がある。なお、図７Ｃに示すように複数のＡＦエリア４１、４３が大きな間隔を開けて疎に配置されており、それぞれのＡＦエリア４１、４３に対応する位相差画素領域４２、４４が重なっていない場合には、検出に用いられない位相差画素領域４５（図７Ｃの破線部分）に対応する位相差検出用画素の動作を停止させる。

以上の構成により、撮像装置１は、像面位相差によるＡＦを行うことができる。また、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦを行うことができる。各ＡＦは、例えば、一連のＡＦシーケンスの中で独立してパラレルに行うことができる。したがって、当該ＡＦシーケンスの中で各ＡＦに基づく信号を得ることができる。

「各ＡＦ方式の特徴について」
次に、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦの特徴および像面位相差によるＡＦの特徴について説明する。各ＡＦ方式は、それぞれ長所、短所を有している。

専用位相差ＡＦセンサ１３は、一般に縦方向のラインセンサで構成されていることが多く被写体の横模様に対応することができる。専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦ方式の長所として例えば下記の点を挙げることができる。
・専用の光学系のため、被写体が大きくぼける場合でも検出ができる。大きなぼけから引き込みが速い。引き込みとは、例えば、ＡＦ処理における、レンズ位置を合焦位置まで駆動させるまでのレスポンスを意味する。
・大型の専用センサのため低輝度に強い。
一方で、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦ方式の短所として例えば下記の点を挙げることができる。
・ＡＦエリアに専用の光学系が必要なため、多くのエリアを縦方向および横方向のクロス測距を行おうとするとＡＦセンサのサイズが大きくなる。
・光学系の制約で周辺部にＡＦエリアを配置することが困難である。
・ＡＦセンサを撮像面とは異なる位置に取り付けるため機械的な取り付け誤差が生じ得る。
・ＡＦセンサ内の固定の絞りマスクで光束を制限するため、Ｆ値がＦ１．４等の明るいレンズを装着した時のＡＦ精度が向上しづらい。

像面位相差によるＡＦ方式の長所として例えば下記の点を挙げることができる。
・撮像素子１２Ａにおける幅広い領域に配置することができる。このため、像面位相差によるＡＦエリアを専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦエリアに重ねて配置することもできる。
・撮像素子１２Ａの撮像面で測距するので高精度である。
・レンズの開放で測距すると基線長を長くできるため高精度である。
一方で、像面位相差によるＡＦ方式の短所として例えば下記の点を挙げることができる。
・専用の光学系を持たないため大きくぼけると測距することができない。
・撮像素子１２Ａの画素を使用するため低輝度に弱い。
・撮像素子１２Ａの読み出し方向の制約により縦模様しか検出できない場合が多い。

これらの特徴のうち一部の特徴を表にして示すと下記の表１になる。

そこで、撮影範囲において、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦエリアが像面位相差によるＡＦエリアに対応付けられた構成としている。例えば、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦエリアが像面位相差によるＡＦエリアと重なっている。なお、図７を使用して説明したように、像面位相差によるＡＦエリアと、当該ＡＦエリアに対応して演算に用いられる位相差検出用画素の範囲は異なる場合がある。したがって、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦエリアが像面位相差によるＡＦに用いられる位相差検出用画素の範囲と重なるようにしてもよい。これにより、両ＡＦ方式の利点を生かしたＡＦを実現することができ、且つ、重複したエリアでは縦模様および横模様を検出可能なクロスセンサを実現できる。なお、撮影範囲とは、例えば、撮像装置１の撮影画角内に収まる範囲を意味し、画像データとして取得される被写体の範囲である。

具体的なＡＦエリアの配置例について説明する。図８は、専用位相差ＡＦセンサ１３による撮影範囲５０内におけるＡＦエリア（以下、専用ＡＦエリアと称する。）と、像面ＡＦセンサ１２Ｂによる撮影範囲５０内におけるＡＦエリア（以下、像面ＡＦエリアと称する。）を示す図である。なお、図８におけるＡＦの配置例は、初期状態（例えば、撮像装置１の起動後、撮影範囲５０の全面または所定の範囲に渡ってＡＦエリアが配置されている状態）における配置例を示している。

図８において四角い枠で示されているのが専用ＡＦエリアである。図８からわかるように、専用ＡＦエリアは像面ＡＦエリアと比較して配置されている範囲は狭くなっており、略中央付近に集中している。

図８において十字で示されているのが像面ＡＦエリアである。図８からわかるように、像面ＡＦエリアは広範囲に広がっており、広い範囲において被写体を補足することが可能となっている。

なお、図８に示されるＡＦエリアは、オートフォーカス制御を行うための演算に対応する領域であり、ユーザに対して表示されるＵＩ(User Interface)としての枠（例えば、矩形状の枠）とは異なるものである。

「ＡＦエリアのサイズについて」
次に、ＡＦエリアのサイズについて説明する。一般に、位相差ＡＦ方式では被写体が小さいと１つのＡＦエリア内に至近側の被写体と背景側の遠景が同時に入り、正しいＡＦができなくなる現象が生じる場合がある。この現象は、遠近競合と称される。

ここで、ＡＦエリアのサイズが大きい場合には、上述した遠近競合が生じるおそれがある一方で、おおきくぼけた被写体に対する検出性能が高いという利点がある。これに対して、ＡＦエリアのサイズが小さい場合にはＡＦのスポット性が高まり細かい被写体（例えば、花、瞳、小動物等）に対するＡＦの精度が良く、上述した遠近競合が生じづらい一方で、大きくぼけた被写体の検出性能が低くなってしまう。これらのＡＦエリアのサイズとサイズに応じた特性を表にして示すと下記の表２になる。

「一実施形態におけるＡＦエリアの設定例」
ＡＦの方式やＡＦエリアのサイズに基づく特性を考慮した一実施形態に係るＡＦエリアの設定例について説明する。

図９は、ディスプレイ１５に表示される撮影範囲において設定された設定エリアを示している。図９では、設定エリアの一例として、専用ＡＦエリアが存在しない設定エリアＡＲ１と、専用ＡＦエリアが存在する設定エリアとが例示されている。専用ＡＦエリアが存在する設定エリアとして、像面ＡＦエリアのみのエリアが存在しない設定エリアＡＲ２と、像面ＡＦエリアのみのエリアが存在する設定エリアＡＲ３とが例示されている。

設定エリアＡＲ１等は、例えば、ユーザによる入力操作に応じて設定されるエリアである。被写体処理により検出された被写体に対して、設定エリアＡＲ１等が自動的に規定されてもよい。なお、図９に示す設定エリアＡＲを画する矩形の太枠は、ユーザに対して表示される枠である。表示される枠に対してユーザが操作を行うことにより、当該枠のサイズ（枠サイズ）を任意に変更することができる。

（ＡＦエリアの集中配置について）
一実施形態では、例えば、設定エリアにＡＦエリアを集中配置する。この制御は、焦点検出制御部３４１により行われる。例えば、図１０に示すように、設定エリアＡＲ１に像面ＡＦエリアを密に配置する。「密に配置する」とは、設定エリア内の複数のＡＦエリアの間隔を外の領域における複数のＡＦエリアの間隔よりも狭くして密集させるように配置すること、または、外の領域にＡＦエリアを配置せず、設定エリア内にのみＡＦエリアを配置することである。例えば、撮影範囲５０の全面に渡って４００の像面ＡＦエリアが配置されている場合には、設定エリアＡＲ１内に４００の像面ＡＦエリア若しくは所定数の像面ＡＦエリアを集中的に配置する。

設定エリアＡＲ１に像面ＡＦエリアを密に配置する処理は、例えは、以下のように行われる。設定エリアＡＲ１が例えば四角形状である場合には、縦・横の像面ＡＦエリアの全個数が設定エリアＡＲ１の大きさに応じた所定の個数であり、かつ、それら像面ＡＦエリアが設定エリアＡＲ１の大きさに応じた間隔で設定エリアＡＲ１内に均等に配置されるように像面ＡＦエリアの配置を決定する。

設定エリアＡＲ１の大きさに応じた像面ＡＦエリアの数、像面ＡＦエリアの間隔は例えば、設定エリアＡＲ１の大きさと像面ＡＦエリアの数および像面ＡＦエリアの間隔を対応させておいたテーブルを焦点検出制御部３４１が保持しておき、当該テーブルを参照することにより得ることができる。また、設定エリアＡＲ１の大きさと像面ＡＦエリアの数および像面ＡＦエリアの間隔と対応関係を示す演算式から求めるようにしてもよい。

焦点検出制御部３４１は、撮影範囲５０内における設定エリアＡＲ１以外の外のエリアよりも設定エリアＡＲ１内の像面ＡＦエリア間の間隔が狭くなるように像面ＡＦエリアの配置を決定する。このように設定エリアＡＲ１内に像面ＡＦエリアを集中させて密に配置することにより、対象被写体に対するオートフォーカスの精度を向上させることができる。

図１１、図１２に示すように、このような像面ＡＦエリアの集中配置は、設定エリアＡＲ２、設定エリアＡＲ３に対しても同様に適用することができる。なお、図１０乃至図１２に示す例は、像面ＡＦエリアを集中的に配置することを説明するためのものであり、図示されている像面ＡＦエリアの数や間隔はあくまで模式的に示したものである。

なお、撮像素子の中には位相差検出用画素からの信号のみを選択し、独立して読み出すことができるものがある。そのような撮像素子を用いる場合で、被写体検出技術やユーザからの入力などに基づいて設定エリアＡＲ１（設定エリアＡＲ２や設定エリアＡＲ３でもよい）を設定した場合、当該設定エリアＡＲ１内に含まれる位相差検出用画素のみから信号を読み出すようにしてもよい。この場合、設定エリアＡＲ１内に含まれない位相差検出用画素からの読み出しは行わないため、図１０乃至図１２に示すように、設定エリアＡＲ１以外には像面ＡＦエリアを配置しないということになる。これにより、オートフォーカス用の演算リソースを設定エリアＡＲ１のみに集中させることができ、処理の負荷を軽減、検波処理の高速化、データレートの削減、消費電力の削減などを図ることができる。なお、この際、通常画素については全ての通常画素から読み出しを行なう。

（ＡＦエリアの調整について）
続いて、焦点検出制御部３４１は、ＡＦエリアを調整する。例えば、撮像部の撮影範囲５０において設定される設定エリアに、専用ＡＦエリアが存在するか否かに応じて、像面ＡＦエリアを異なるようにする。以下、具体例について説明する。

図１３は、設定エリアＡＲ１に関する具体例である。設定エリアＡＲ１は、像面ＡＦエリアのみの領域である。この場合は、小さい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ１（第１の測距エリア）を設定することによりＡＦのスポット性を向上させるとともに、ＡＦエリアＡＦＥ１より大きい枠サイズを有するＡＦエリアＡＦＥ２（第２の測距エリア）を設定する。これにより、像面ＡＦ方式が苦手とする大ＤＦに対する検出性能を高めることが可能となる。ＡＦのスポット性とは、例えば、小さい（細かい）被写体に対するＡＦの精度を意味する。このスポット性が低い場合は、被写体の周囲にある別の物体や背景に合焦してしまう。なお、図１３に示すＡＦエリアＡＦＥ１およびＡＦエリアＡＦＥ２の枠サイズや数、位置等はあくまで模式的に示したものである。他の図でも同様である。

なお、図１３に示す例では、ＡＦエリアＡＦＥ１とＡＦエリアＡＦＥ２とが重複しているが、各ＡＦエリアが互いに独立している（重複していない）配置でもよい。

図１４は、設定エリアＡＲ２に関する具体例である。設定エリアＡＲ２は、専用ＡＦエリアを有している。なお、図１４では、専用ＡＦエリアが点線の矩形により示されている。この場合には、大きくぼけた被写体の検出性能は専用位相差ＡＦセンサ１３が優れているため、像面ＡＦエリアは合焦付近でのスポット性を高めるために、小さいサイズのＡＦエリアＡＦＥ１を集中的に配置する。これにより、大ＤＦに対する検出性能を高めることが可能となり、且つ、ＡＦのスポット性も高められる。

図１５は、設定エリアＡＲ３に関する具体例である。この場合は、例えば、設定エリアＡＲ３を、専用ＡＦエリアを含まないエリア（設定エリア３ａ）と専用ＡＦエリアを含むエリア（設定エリア３ｂ）とに分割する。設定エリア３ａには、図１３の場合と同様に、小さい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ１を設定するとともに、大きい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ２を設定する。設定エリア３ｂには、図１４の場合と同様に、小さい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ１を多数、設定する。

なお、設定エリアＡＲ３を分割せずに、設定エリアに専用ＡＦエリアを一部でも含む場合には、図１４と同様の配置を行って処理を単純化してもよい。また、例えば、設定エリア内に、専用ＡＦエリアと、大きい枠サイズの像面ＡＦエリアと、小さい枠サイズの像面ＡＦエリアとが混在して配置されてもよい。この配置において、例えば、小さい枠サイズの像面ＡＦエリアの結果がローコントラストで、大きい枠サイズの像面ＡＦエリアの結果が大ＤＦで有効であり、専用ＡＦエリアの結果が大ＤＦで有効であるとする。なお、結果がローコントラストとは、例えば、被写体のコントラストが極めて低く、位相差ＡＦ処理において相関演算処理のマッチングがとれる箇所がなく（コントラストＡＦ処理ではコントラスト値が高くなるレンズの位置がなく）、ピントが合わせられない状態を意味し、有効とは、一定以上の評価値であって演算等に使用できる程度の信頼性であることを意味する。このような場合には、専用位相差ＡＦセンサ１３の方が大ＤＦに対する検出精度が高いため、専用ＡＦエリアの結果を採用する。また、小さい枠サイズの像面ＡＦエリアの結果が有効で信頼性が高く、大きい枠サイズの像面ＡＦエリアの結果が有効で信頼性が低く、専用位相差ＡＦの結果が有効であるとする。この場合には、信頼性が高く小さい被写体に有効な小さい枠サイズの像面ＡＦエリアからの出力を採用する。

図１６は、ＡＦエリア調整処理の流れの一例を説明するためのフローチャートである。以下の処理は、例えば、撮像制御装置３４Ａにおける焦点検出制御部３４１により行われる。

ステップＳＴ１では、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在するか否かが判断される。設定エリアに専用ＡＦエリアが存在しない場合（例えば、図１３に示した設定エリアＡＲ１の場合）には、処理がステップＳＴ２に進む。

ステップＳＴ２では、以下の処理が行われる。設定エリアＡＲ１には、専用ＡＦエリアが存在しないため利用できない。この場合には、設定エリアＡＲ１に、大ＤＦ検出のため大きい枠サイズのＡＦエリア（ＡＦエリアＡＦＥ２）と、ＡＦのスポット性を高めるために小さい枠サイズのＡＦエリア（ＡＦエリアＡＦＥ１）を配置する。

ステップＳＴ１の判断処理において、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在する場合には、処理がステップＳＴ３に進む。ステップＳＴ３では、設定エリアに像面ＡＦエリアのみの領域が存在するか否かが判断される。像面ＡＦエリアのみの領域が存在しない場合（例えば、図１４に示した設定エリアＡＲ２の場合）には、処理がステップＳＴ４に進む。

ステップＳＴ４では、以下の処理が行われる。専用ＡＦエリアに関しては、大ＤＦ検出のため通常の枠サイズのＡＦエリアを配置する。通常の枠サイズとは、例えば、予め決められている枠サイズを意味する。一方で、像面ＡＦエリアに関しては、ＡＦのスポット性を高めるために小さい枠サイズのＡＦエリア（ＡＦエリアＡＦＥ１）を配置する。上述した集中配置によりＡＦエリアＡＦＥ１は、密（高密度）に配置される。

ステップＳＴ３の判断処理において、像面ＡＦエリアのみの領域が存在する場合（例えば、図１５に示した設定エリアＡＲ３の場合）には、処理がステップＳＴ５に進む。

ステップＳＴ５では、専用ＡＦエリアと像面ＡＦエリアとの重なり箇所が判定される処理が行われる。そして、処理がステップＳＴ６に進む。

ステップＳＴ６では、ステップＳＴ５の処理結果に応じて、設定エリアＡＲ３を、像面ＡＦエリアと専用ＡＦエリアとが重なっていないエリア（例えば、図１５に示した設定エリアＡＲ３ａ）と、像面ＡＦエリアと専用ＡＦエリアとが重なっているエリア（例えば、図１５に示した設定エリアＡＲ３ｂ）とに分割する。そして、処理がステップＳＴ７に進む。

ステップＳＴ７では、分割後のエリアに専用ＡＦエリアが存在するか否かが判断される。分割後のエリアに専用ＡＦエリアが存在しない場合には、処理がステップＳＴ８に進む。ステップＳＴ８では、設定エリアＡＲ３ａには像面ＡＦエリアのみが存在することから、ステップＳＴ２と同様の処理（配置）が行われる。

ステップＳＴ７の判断処理において、分割後のエリアに専用ＡＦエリアが存在する場合には、処理がステップＳＴ９に進む。ステップＳＴ９では、設定エリアＡＲ３ｂには専用ＡＦエリアが存在することから、ステップＳＴ４と同様の処理（配置）が行われる。

以上のＡＦエリアの調整をまとめると下記のようになる。
焦点検出制御部３４１は、撮影範囲５０において設定される設定エリアに、専用ＡＦエリアが存在するか否かに応じて、専用ＡＦエリアが存在するエリアにおける像面ＡＦエリアの配置と、専用ＡＦエリアが存在しないエリアにおける像面ＡＦエリアの配置とを異なるようにしている。
例えば、小さい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ１と、大きい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ２とを用意し、専用ＡＦエリアが存在しないエリアにおけるＡＦエリアＡＦＥ２の数を、専用ＡＦエリアが存在するエリアにおけるＡＦエリアＡＦＥ２の数より多くする。
別の観点で言えば、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在するか否かに応じて、像面ＡＦエリアの種類が変わる。例えば、図１３に示した設定エリアＡＲ１における像面ＡＦエリアの種類は２種類なのに対して、図１４に示した設定エリアＡＲ２における像面ＡＦエリアの種類は１種類となり少なくなる。
さらに、別の観点で言えば、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在するか否かに応じて、ＡＦエリアＡＦＥ１とＡＦエリアＡＦＥ２との割合を変更してもよい。割合は、各ＡＦエリアの数や設定エリアに占めるＡＦエリアの大きさ、各ＡＦエリアに含まれる位相差検出用画素の画素数、ＡＦエリアＡＦＥ１とＡＦエリアＡＦＥ２との大きさの割合等のいずれか、若しくは、組合せにより規定することができる。
さらに、別の観点で言えば、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在しない場合には、所定枠サイズより大きい像面ＡＦエリア（例えば、ＡＦエリアＡＦＥ２）を設定すればよいことになる。

「選択処理について」
次に、各設定エリアにおけるＡＦエリアで得られるデフォーカス量を選択する処理について説明する。以下に説明する一連のデフォーカス量選択処理は、ＤＦ量選択部３４２により行われる。始めに、設定エリアが像面ＡＦエリアのみの場合（例えば、上述した設定エリアＡＲ１の場合）について説明する。

図１７は、設定エリアが設定エリアＡＲ１の場合に行われるデフォーカス量選択処理を説明するための図である。例えば、小さい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ１に含まれる位相差検出用画素から波形データＷＤ１が出力される。そして、波形データＷＤ１に対して、波形成形処理、相関演算処理等がＤＦ量選択部３４２により行われ、デフォーカス量を示すＤＦデータＤ１が出力される。

一方、大きい枠サイズのＡＦエリアＡＦＥ２に含まれる位相差検出用画素から波形データＷＤ２が出力される。そして、波形データＷＤ２に対して、波形成形処理、相関演算処理等がＤＦ量選択部３４２により行われ、デフォーカス量を示すＤＦデータＤ２が出力される。

ＤＦ量選択部３４２は、それぞれのＤＦデータＤ１、Ｄ２に対する信頼性を求め、その結果に応じて、ＤＦデータＤ１、Ｄ２のいずれかを選択する。例えば、ＤＦデータが閾値より大きい場合にはＤＦデータの信頼性が低いと判断し、ＤＦデータが閾値より小さい場合にはＤＦデータの信頼性が高いと判断する。この信頼性は、所定の演算により評価値として算出されてもよい。ＤＦ量選択部３４２により選択されたＤＦデータがＡＦ制御部３４Ｂに供給され、ＡＦ制御部３４ＢによるＡＦ制御が行われる。

次に、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在する場合（例えば、上述した設定エリアＡＲ２の場合）について説明する。図１８に示すように、設定エリアＡＲ２に存在する専用ＡＦエリアから波形データＷＤ３が出力される。そして、波形データＷＤ３に対して、波形成形処理、相関演算処理等がＤＦ量選択部３４２により行われ、デフォーカス量を示すＤＦデータＤ３が出力される。

ここで、被写体が大きくぼけている等、ＤＦデータＤ１の信頼性が低い場合には、ＤＦデータＤ３の精度が高いと判断してＤＦ量選択部３４２は、ＤＦデータＤ３を選択する。そして、ＤＦ量選択部３４２により選択されたＤＦデータＤ３がＡＦ制御部３４Ｂに供給され、ＡＦ制御部３４ＢによるＡＦ制御が行われる。一方、ＤＦデータＤ１の信頼性が高い場合には、小さい被写体に対するＡＦの精度が向上する等の理由で、ＤＦ量選択部３４２は、ＤＦデータＤ１を選択する。ＤＦ量選択部３４２により選択されたＤＦデータＤ１がＡＦ制御部３４Ｂに供給され、ＡＦ制御部３４ＢによるＡＦ制御が行われる。

なお、設定エリアが設定エリアＡＲ３の場合には、分割後のエリアに応じて、上述した処理がそれぞれ行われる。

なお、図１７、図１８に示す処理は、全ての像面ＡＦエリアおよび全ての専用ＡＦエリアについて行って、その結果に基ついてデフォーカス量を選択しても良いし、最も良好なデータ同士を比較するようにしてもよい。また、小さい枠サイズのエリア、大きい枠サイズのエリアともセンサから出力されるのは波形であるが、焦点検出制御部３４１でエリア数分のＤＦと信頼性評価値とが算出されＤＦデータを選択する処理では複数のＤＦと信頼性の評価値とを比較することで遠近競合ではないエリアの選択が行われてもよい。例えば、大きい枠サイズのＡＦエリアのＤＦが０μｍで信頼できない評価値であり、小さい枠サイズのＡＦエリア１のＤＦが１００μｍで信頼性が高く、小さい枠サイズのＡＦエリア２のＤＦが−１００μｍで信頼性が高いとする。この場合は大きい枠内で遠近競合が発生したと判断し、近い側の小さい枠サイズのＡＦエリアが選択される。この処理は像面位相差方式のＡＦ、専用位相差センサを使用したＡＦでも同様である。

＜２．変形例＞
なお、本開示は、以下のような構成も取ることができる。
（１）
撮像部の撮影範囲において設定される設定エリアに、第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、撮像素子にある第２の位相差検出センサによる測距エリアが異なるように設定する焦点検出制御部を備える
撮像制御装置。
（２）
前記焦点検出制御部は、
前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合の前記測距エリアの種類を、前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合の前記測距エリアの種類より多くする
（１）に記載の撮像制御装置。
（３）
前記第２の位相差検出センサによる測距エリアは、少なくとも、第１の測距エリアと、前記第１の測距エリアより大きい第２の測距エリアとを含み、
前記焦点検出制御部は、
前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合の前記第２の測距エリアの数を、前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合の前記第２の測距エリアの数より多くする
（１）に記載の撮像制御装置。
（４）
前記焦点検出制御部は、
前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、前記第１の測距エリアと前記第２の測距エリアとの割合を変更する
（３）に記載の撮像制御装置。
（５）
前記焦点検出制御部は、
前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合に、前記第２の位相差検出センサによる、所定サイズより大きい測距エリアを設定する
（１）に記載の撮像制御装置。
（６）
前記第１の測距エリアと前記第２の測距エリアとが重複している
（３）または（４）に記載の撮像制御装置。
（７）
前記第１の測距エリアと前記第２の測距エリアとが互いに独立している
（３）または（４）に記載の撮像制御装置。
（８）
前記焦点検出制御部は、
前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合に、当該測距エリアのサイズを変更する
（１）乃至（７）に記載の撮像制御装置。
（９）
デフォーカス量選択部をさらに備える
（１）乃至（８）に記載の撮像制御装置。
（１０）
前記デフォーカス量選択部は、
前記設定エリアに、前記第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合に、前記第１の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量、前記第１の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量および前記第２の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量のうち１のデフォーカス量を所定の条件に応じて選択する
（９）に記載の撮像制御装置。
（１１）
前記デフォーカス量選択部は、
前記設定エリアに、前記第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合に、前記第１の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量および前記第２の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量のうち１のデフォーカス量を所定の条件に応じて選択する
（９）または（１０）に記載の撮像制御装置。
（１２）
前記設定エリアは、ユーザによる入力操作に応じて設定されるエリアである
（１）乃至（１１）に記載の撮像制御装置。
（１３）
前記設定エリアは、被写体検出処理の結果に応じて設定されるエリアである
（１）乃至（１１）に記載の撮像制御装置。
（１４）
前記撮影範囲における前記第２の位相差検出センサのうち、前記設定エリアにおける前記第２の位相差検出センサのみから信号を読み出す
（１）乃至（１２）に記載の撮像制御装置。
（１５）
前記第１の位相差検出センサは、前記撮像素子とは異なる場所に設けられる
（１）乃至（１３）記載の撮像制御装置。
（１６）
前記撮像部と、
前記第１の位相差検出センサと、
前記第２の位相差検出センサと
を備える
（１）乃至（１５）に記載の撮像制御装置。
（１７）
焦点検出制御部が、撮像部の撮影範囲において設定される設定エリアに、第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、撮像素子にある第２の位相差検出センサによる測距エリアが異なるように設定する
撮像制御方法。

上述した像面ＡＦエリアの枠のサイズは、２種類に限定されることはなく、３種類以上でもよい。例えば、大、中、小の３種類の枠サイズがあってもよい。そして、例えば、設定エリアが像面ＡＦエリアのみの場合には、３種類の枠サイズの像面ＡＦエリアを配置し、設定エリアに専用ＡＦエリアが存在する場合には、中、小の２種類の枠サイズの像面ＡＦエリアを配置するようにしてもよい。また、ＡＦの演算やＵＩとしてのＡＦの枠の形状は矩形に限定されるものではなく、円、楕円、多角形状等何でもよい。

専用ＡＦエリアの枠サイズを変更してもよい。例えば、専用位相差ＡＦセンサ１３の読み出し画素の単位（演算単位）を変更することにより、専用ＡＦエリアの枠サイズを変更することができる。

デフォーカス量に応じて、ＡＦエリアの調整を再度、行うようにしてもよい。例えば、ＤＦデータの値が小さくなった場合には、専用位相差ＡＦセンサ１３によるＡＦエリア（像面ＡＦセンサ１２ＢによるＡＦエリアでもよい）の枠サイズを小さくして、よりスポット性を高めるようにしてもよい。

半透過ミラー１１および専用位相差ＡＦセンサ１３の少なくとも一方が撮像装置１の筐体１０ではなく、筐体１０に着脱可能な構成（例えば、様々なレンズを装着するためのアダプタ）に備えられる構成でもよく、撮像素子１２Ａと異なる場所にあればどこでもよい。また、専用位相差ＡＦセンサ１３は、筐体１０の下部に設けられていてもよい。

専用位相差ＡＦセンサ１３は、ラインセンサではなく２組の一対のＡＦセンサ（ラインセンサ）が十字状に配置されたクロスセンサでもよい。また、像面ＡＦセンサ１２Ｂは、横模様を検出可能な縦方向のセンサでもよい。また、像面ＡＦセンサ１２Ｂとして、縦模様および横模様を検出可能なセンサが混在していてもよい。設定エリアが像面ＡＦエリアのみの場合に、横模様を検出可能な像面ＡＦセンサ１２Ｂに加えて縦模様を検出可能な像面ＡＦセンサ１２Ｂを含むようにＡＦエリアを設定して両方向の模様を検出できるようにしてもよい。

以上、本開示の実施形態について具体的に説明したが、上述の各実施形態に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。上述した実施形態および変形例を実現するための構成が適宜、追加されてもよい。

上述した実施形態における撮像装置は、顕微鏡等の医療用の機器やスマートフォン、コンピュータ装置、ゲーム機器、ロボット、防犯カメラ、移動体（車両、電車、飛行機、ヘリコプター、小型飛行体、工事用車両、農業用車両等）に組み込まれていてもよい。

上述した撮像装置を構成する各部は、撮像装置として一体的に構成されている必要はなく、各構成の一部が独立した装置により構成されてもよい。例えば、撮像制御装置単体として本開示を実現することも可能である。また、例えば、表示部が表示装置として独立した装置であってもよい。また、上述した撮像装置１が撮像制御装置に係る構成とされてもよい。例えば、撮像制御装置が、撮像部、像面ＡＦセンサ１２Ｂ、専用位相差ＡＦセンサ１３を備える構成でもよい。各装置における制御コマンドやデータが有線または無線による通信によりやり取りされる。このように、本開示は、複数の装置からなる撮像システムとして実現することも可能である他、方法、プログラム等により実現することもできる。

１・・・撮像装置
１２Ａ・・・撮像素子
１２Ｂ・・・像面ＡＦセンサ
１３・・・専用位相差ＡＦセンサ
２０・・・光学撮像系
３４Ａ・・・撮像制御装置
３４１・・・焦点検出制御部
３４２・・・ＤＦ量選択部
ＡＲ・・・設定エリア

Claims (17)

1. 撮像部の撮影範囲において設定される設定エリアに、第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、撮像素子にある第２の位相差検出センサによる測距エリアについて異なる測距エリアを設定する焦点検出制御部を備える
   撮像制御装置。
2. 前記焦点検出制御部は、
   前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合の前記測距エリアの種類を、前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合の前記測距エリアの種類より多くする
   請求項１に記載の撮像制御装置。
3. 前記第２の位相差検出センサによる測距エリアは、少なくとも、第１の測距エリアと、前記第１の測距エリアより大きい第２の測距エリアとを含み、
   前記焦点検出制御部は、
   前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合の前記第２の測距エリアの数を、前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合の前記第２の測距エリアの数より多くする
   請求項１に記載の撮像制御装置。
4. 前記焦点検出制御部は、
   前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、前記第１の測距エリアと前記第２の測距エリアとの割合を変更する
   請求項３に記載の撮像制御装置。
5. 前記焦点検出制御部は、
   前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合に、前記第２の位相差検出センサによる、所定サイズより大きい測距エリアを設定する
   請求項１に記載の撮像制御装置。
6. 前記第１の測距エリアと前記第２の測距エリアとが重複している
   請求項３又は４に記載の撮像制御装置。
7. 前記第１の測距エリアと前記第２の測距エリアとが互いに独立している
   請求項３又は４に記載の撮像制御装置。
8. 前記焦点検出制御部は、
   前記設定エリアに第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合に、前記存在する測距エリアのサイズを変更する
   請求項１から７までの何れかに記載の撮像制御装置。
9. デフォーカス量選択部をさらに備える
   請求項３、４、６または７に記載の撮像制御装置。
10. 前記デフォーカス量選択部は、
    前記設定エリアに、前記第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在する場合に、前記第１の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量、前記第１の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量および前記第２の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量のうち１のデフォーカス量を所定の条件に応じて選択する
    請求項９に記載の撮像制御装置。
11. 前記デフォーカス量選択部は、
    前記設定エリアに、前記第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在しない場合に、前記第１の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量および前記第２の測距エリアに対応する第２の位相差検出センサにより得られるデフォーカス量のうち１のデフォーカス量を所定の条件に応じて選択する
    請求項９又は１０に記載の撮像制御装置。
12. 前記設定エリアは、ユーザによる入力操作に応じて設定されるエリアである
    請求項１から１１までの何れかに記載の撮像制御装置。
13. 前記設定エリアは、被写体検出処理の結果に応じて設定されるエリアである
    請求項１から１１までの何れかに記載の撮像制御装置。
14. 前記撮影範囲における前記第２の位相差検出センサのうち、前記設定エリアにおける前記第２の位相差検出センサのみから信号を読み出す
    請求項１から１２までの何れかに記載の撮像制御装置。
15. 前記第１の位相差検出センサは、前記撮像素子とは異なる場所に設けられる
    請求項１から１３までの何れか記載の撮像制御装置。
16. 前記撮像部と、
    前記第１の位相差検出センサと、
    前記第２の位相差検出センサと
    を備える
    請求項１から１５までの何れかに記載の撮像制御装置。
17. 焦点検出制御部が、撮像部の撮影範囲において設定される設定エリアに、第１の位相差検出センサによる測距エリアが存在するか否かに応じて、撮像素子にある第２の位相差検出センサについて異なる測距エリアを設定する
    撮像制御方法。

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