JP6761896B2 - 構造体および光センサ - Google Patents

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Description

本発明は、構造体および光センサに関する。
近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）等の固体撮像素子の需要が大きく伸びている。ディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されている。
特許文献１には、透明基板上に光散乱層を形成し、この光散乱層上にインクジェット方式により硬化型インクを付与して着色画素を形成してカラーフィルタを製造することが記載されている。特許文献１によれば、隔壁で囲まれた画素領域内にインクを付与する際に、隣接する画素間での混色を防止し、且つ領域内での白抜け、色ムラのない画素が形成されたカラーフィルタを提供できるとされている。
一方、特許文献２には、電子ペーパー用のカラーフィルタであって、透明基材と、透明基材上に設けられた着色層と、着色層の透明基材と反対側に設けられた散乱層と、を備え、着色層は、マトリクス状に配置された複数の単位画素を有し、各単位画素は、３色の着色エリアを含み、散乱層は、各色の着色エリアに対応する複数の散乱層エリアを有し、３色のうち少なくとも２色の着色エリアに対応する散乱層エリアは、互いに異なる散乱特性を有し、これにより３色の着色エリアの散乱強度が互いに近づけられているカラーフィルタが記載されている。そして、特許文献２によれば、視野角特性を改善すると共に、観察方向に応じた色の変化を抑制できるとされている。
特開２０１５−３４９６１号公報 特開２０１６−１７０３１３号公報
近年において、可視光、紫外線、近赤外線などの光（以下、これらを合わせて環境光ともいう）を用いて各種センシングやイメージングなどを行う光センサの開発が検討されている。例えば、環境光を検出することで周囲の明るさを検出し、ディスプレイや照明器具などの光量を調整するなどの試みがなされている。
また、近年では、一つの電子機器において、複数の光センサを組み込んで、複数のセンサ機能を付与することも検討されている。しかしながら、このような電子機器は、センサ機能を増やすに伴い、それに用いられる光センサの数も増加することになるので、電子機器が大型になり易い傾向にあった。
よって、本発明の目的は、光センサの多機能化を実現できる構造体および、光センサを提供することにある。
かかる状況のもと、本発明者らが鋭意検討を行った結果、後述する構造体とすることで上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞ 支持体と、
支持体上に設けられた第１の光学フィルタ層と、
第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた光散乱層と、
支持体上であって、第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に設けられた第２の光学フィルタ層とを有し、
第２の光学フィルタ層の光路上には、光散乱層が設けられていない構造体。
＜２＞ 第１の光学フィルタ層および第２の光学フィルタ層は、それぞれ独立して、着色層、透明層、紫外線カット層、近赤外線カット層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、＜１＞に記載の構造体。
＜３＞ 第２の光学フィルタ層は、着色層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の構造体。
＜４＞ 第１の光学フィルタ層は、着色層、透明層および近赤外線カット層から選ばれる少なくとも１種を含み、
第２の光学フィルタ層は、着色層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、＜１＞に記載の構造体。
＜５＞ 第１の光学フィルタ層は、近赤外線カット層を含み、
第２の光学フィルタ層は、着色層を含む、＜１＞に記載の構造体。
＜６＞ 着色層は、緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる着色層である、＜２＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜７＞ 光散乱層は、第１の光学フィルタ層への光入射側に設けられている、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜８＞ 光散乱層は、ＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−２０〜２０、ｂ＊の値が−４０〜３０である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜９＞ 光散乱層は、ＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−１０〜０、ｂ＊の値が−３５〜０である、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜１０＞ 光散乱層は、白色顔料を含む、＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜１１＞ 白色顔料は、平均一次粒子径５０〜１５０ｎｍの粒子である、＜１０＞に記載の構造体。
＜１２＞ 白色顔料が酸化チタンである、＜１０＞または＜１１＞に記載の構造体。
＜１３＞ 光散乱層は、平均一次粒子径５０〜１５０ｎｍの粒子を光散乱層の全固形分に対して３０〜６０質量％含有する、＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜１４＞ 第１の光学フィルタ層の光路上に、波長８００〜１５００ｎｍの範囲の光の少なくとも一部をカットする近赤外線カット層を更に有する、＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜１５＞ 近赤外線カット層は、波長８００〜１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物を含む、＜１４＞に記載の構造体。
＜１６＞ 近赤外線カット層は、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物、スクアリリウム化合物および銅錯体から選ばれる少なくとも１種を含有する、＜１４＞または＜１５＞に記載の構造体。
＜１７＞ 近赤外線カット層は、ピロロピロール化合物を含有する、＜１４＞または＜１５＞に記載の構造体。
＜１８＞ 支持体上に、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層とが二次元配置されている、＜１＞〜＜１７＞のいずれか１つに記載の構造体。
＜１９＞ ＜１＞〜＜１８＞のいずれか１つに記載の構造体を含む光センサ。
本発明によれば、光センサの多機能化を実現できる構造体および、光センサを提供することができる。
本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す概略図である。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）を包含する。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ表す。
本明細書において、「近赤外線」は、波長７００〜２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−ＨとＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００とＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とを連結したカラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いることによって求めることができる。
＜構造体＞
本発明の構造体は、支持体と、支持体上に設けられた第１の光学フィルタ層と、第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた光散乱層と、支持体上であって、第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に設けられた第２の光学フィルタ層とを有し、第２の光学フィルタ層の光路上には、光散乱層が設けられていないことを特徴とする。
本発明の構造体によれば、第１の光学フィルタ層の光路上に光散乱層が設けられているので、第１の光学フィルタ層に対して斜めから光が照射されても、光散乱層によって斜め方向の光を散乱させて、第１の光学フィルタ層に対して斜めからの光も効率よく光センサの受光部で検出できる。このため、本発明の構造体を光センサに組み込んだ場合において、第１の光学フィルタ層が設けられた領域は、第２の光学フィルタ層が設けられた領域よりも入射角範囲が広いセンサ部として機能させることができる。
例えば、第１の光学フィルタ層が設けられた領域については、環境光センサなどとして用い、第２の光学フィルタ層が設けられた領域については、第２の光学フィルタ層の種類に応じて種々の用途に用いることができる。例えば、第２の光学フィルタ層として着色層を用いた場合においては、第２の光学フィルタ層を透過した光を検出することでカラーの画像などを取り込むことなどができる。また、第２の光学フィルタ層として近赤外線透過層を用いた場合においては、第２の光学フィルタ層を透過した光を検出することで近赤外線を検出でき、距離計測、ジェスチャー認識、バイタル認識などを行うことができる。
このように、本発明の構造体は、第１の光学フィルタ層と、第２の光学フィルタ層とで異なる入射角特性を有しているので、光センサ機能の多機能化を図ることができる。
なお、本発明において、光学フィルタ層とは、光を透過するフィルタ層を意味する。光学フィルタ層が透過する光としては、特に限定は無く、紫外線、可視光、近赤外線などが挙げられる。本発明における光学フィルタ層は、入射光のうち少なくとも一部の波長の光を透過するものであればよい。すなわち、本発明における光学フィルタ層は、入射光のうち、特定の波長の光を選択的に透過または遮光するものであってもよく、入射光をほぼ全透過するものであってもよい。
（支持体）
本発明の構造体において、支持体としては特に限定はない。用途に応じて適宜選択できる。例えば、シリコン基板、ガラス基板、樹脂基板、ゲルマニウム基板、ヒ化ガリウム（ＧａＡｓ）基板、ガリウム砒素リン基板、窒化ガリウム（ＧａＮ）基板、炭化珪素（ＳｉＣ）基板、インジウムガリウム砒素（ＩｎＧａＡｓ）基板などが挙げられる。また、支持体上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体上には、ブラックマトリックスが形成されている場合もある。また、支持体上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。
（第１の光学フィルタ層）
本発明の構造体において、第１の光学フィルタ層は、光を透過するフィルタ層であればよく、特に限定は無い。例えば、入射光のうち、特定の波長の光を選択的に透過または遮光するフィルタ層や、入射光をほぼ全透過するフィルタ層などが挙げられる。第１の光学フィルタ層としては、波長３００〜２０００ｎｍの範囲の光において、特定の波長の光を選択的に透過または遮光するフィルタ層や、前述の範囲の光をほぼ全透過するフィルタ層などが好ましい例として挙げられる。第１の光学フィルタ層の具体例としては、着色層、透明層、紫外線カット層、近赤外線カット層および近赤外線透過層などが挙げられ、近赤外線由来のノイズが低減された光を検出し易いという理由から近赤外線カット層であることが好ましい。
なお、本発明において、紫外線カット層とは、紫外線の少なくとも一部を遮光する分光特性を有するフィルタ層である。紫外線カット層は、可視光および／または近赤外線を透過させるものであってもよく、遮光するものであってもよい。また、近赤外線カット層とは、可視光を透過させ、近赤外線の少なくとも一部を遮光する分光特性を有するフィルタ層を意味する。また、近赤外線透過層とは、可視光の少なくとも一部を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層を意味する。
着色層としては、例えば、緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層などが挙げられる。
透明層としては、波長４００〜６００ｎｍの範囲における透過率の最小値が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。
近赤外線透過層としては、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させる分光特性を有するフィルタ層であればよく、特に限定はされない。また、近赤外線透過層は、１層の膜（単層膜）で構成されていてもよく、２層以上の膜の積層体（多層膜）で構成されていてもよい。また、近赤外線透過層が多層膜で構成されている場合は、多層膜全体として上述の分光特性を有していればよく、１層の膜自体についてはそれぞれ上述の分光特性を有していなくてもよい。
近赤外線透過層の好ましい例として、例えば、以下の（１）〜（４）のいずれかの分光特性を有するフィルタ層が挙げられる。
（１）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長８００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長６７０ｎｍを超える光を透過させることができる。
（２）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜７５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
（３）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜８３０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜８３０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９４０ｎｍを超える光を透過させることができる。
（４）：厚み方向における光の透過率の、波長４００〜９５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、厚み方向における光の透過率の、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このフィルタ層によれば、波長４００〜９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０４０ｎｍを超える光を透過させることができる。
近赤外線カット層としては、可視光を透過させ、近赤外線の少なくとも一部を遮光する分光特性を有するフィルタ層であればよく、特に限定はされない。近赤外線カット層は、可視光をすべて透過するものであってもよく、可視光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。近赤外線カット層は、波長８００〜１５００ｎｍの範囲の光の少なくとも一部をカットするフィルタ層であることが好ましい。近赤外線カット層の好ましい分光特性については後述する。
紫外線カット層としては、紫外線の少なくとも一部を遮光する分光特性を有するフィルタ層であればよく、特に限定はされない。紫外線カット層は、可視光および／または近赤外線を透過させるものであってもよく、遮光するものであってもよい。紫外線カット層は、波長４００〜７００ｎｍの範囲における透過率の最小値が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、波長３００〜４００ｎｍの範囲における透過率の最小値が１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることが更に好ましい。
第１の光学フィルタ層は、１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。例えば、２色以上の着色層で構成されていてもよく、１色以上の着色層と、透明層および／または近赤外線カット層とで構成されていてもよい。
第１の光学フィルタ層の厚さとしては、特に限定はない。例えば、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。また、第１の光学フィルタ層が複数のフィルタ層で構成されている場合、各フィルタ層の厚さは同一であってもよく、異なっていてもよい。平坦性、密着性および入射角特性の観点から各フィルタ層の膜厚はほぼ同一であることが好ましい。また、隣接するフィルタ層同士の上面の高低差はほぼ同一であることが好ましい。
（光散乱層）
本発明の構造体は、第１の光学フィルタ層の光路上に光散乱層を有する。光散乱層は、第１の光学フィルタ層への光入射側、および、第１の光学フィルタ層から射出光側のいずれに設けられていてもよいが、視野角特性をより向上できるという理由から第１の光学フィルタ層への光入射側に設けられていることが好ましい。なお、光入射側とは、第１の光学フィルタ層の、支持体が設けられた面とは逆の面側を意図し、射出光側とは、第１の光学フィルタ層の、支持体が設けられた面と同じ面側を意図する。
本発明の構造体において、光散乱層は、ＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−２０〜２０、ｂ＊の値が−４０〜３０の分光特性を有することが好ましく、Ｌ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−１０〜０、ｂ＊の値が−３５〜０であることがより好ましい。このような分光特性を有する光散乱層は、白度および光散乱性に優れている。更には、このような分光特性を有する光散乱層を用いることで、環境光などの目的の光を効率よく検出することができる。光散乱層のＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値、ａ＊の値およびｂ＊の値は、分光測光器（Ｘ−ｒｉｔｅ５２８、Ｘ−ｒｉｔｅ社製）を用いて測定した。具体的には、光源としてＤ６５光源を用い、観測視野を２°とし、白色基準は分光測光器に付属のキャリブレーション基準板のホワイトパッチを用いて設定した。
光散乱層のＬ＊の値は、４０以上であることが好ましく、５０以上であることがより好ましく、６０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、白度および光散乱性に優れた光散乱層とすることができる。また、光散乱層のＬ＊の値は、９５以下が好ましく、９０以下がより好ましく、８５以下が更に好ましい。この態様によれば、適度な可視透明性を有する光散乱層とすることができ、環境光などの目的の光を効率よく検出できる。
光散乱層のａ＊の値は、−１５以上が好ましく、−１０以上がより好ましく、−５以上が更に好ましい。また、光散乱層のａ＊の値は、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、０以下が更に好ましい。この態様によれば、白度に優れた光散乱層とすることができる。
光散乱層のｂ＊の値は、−３５以上が好ましく、−３０以上がより好ましく、−２５以上が更に好ましい。また、光散乱層のｂ＊の値は、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、０以下が更に好ましい。この態様によれば、白度に優れた光散乱層とすることができる。
光散乱層の膜厚は、３〜４０μｍであることが好ましい。膜厚の上限は、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が更に好ましい。膜厚の下限は、５μｍ以上が好ましく、７μｍ以上がより好ましく、９μｍ以上が更に好ましい。光散乱層の膜厚が上記範囲であれば、センサの薄膜化、クロストーク抑制によるデバイス光学感度の向上という効果が期待できる。
光散乱層の波長４００〜７００ｎｍの範囲の光に対する平均透過率は１％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、３０％以上であることが特に好ましい。平均透過率の上限は、５０％以下であることが好ましい。
光散乱層は、白色顔料を含むことが好ましい。なお、本発明において、白色顔料は純白色の顔料のみならず、白に近い明るい灰色（例えば灰白色、薄灰色など）の顔料などを含むこととする。
光散乱層中における白色顔料の含有量は、光散乱層の全固形分に対して１〜７５質量％が好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、２５質量％以上が更に好ましく、３５質量％以上が特に好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましく、４５質量％以下が一層好ましく、４２質量％以下が特に好ましい。白色顔料の含有量が上記範囲であれば、光散乱層の白度および光散乱性が良好である。光散乱層は、白色顔料を１種類のみ含んでいてもよく、２種類以上含んでいてもよい。光散乱層が白色顔料を２種類以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
白色顔料は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が２．１０以上の粒子であることが好ましい。前述の屈折率は、２．１０〜３．００であることが好ましく、２．５０〜２．７５であることがより好ましい。粒子の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が２．１０以上であれば、光散乱層のＬ＊の値を大きくすることができ、好ましい。
白色顔料の屈折率は以下の方法で測定することができる。まず、白色顔料と、屈折率が既知である樹脂（分散剤）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとを用いて分散液を作製する。その後、作製した分散液と屈折率が既知の樹脂とを混合し、塗布液の全固形分中における白色顔料の濃度が１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％の塗布液を作製する。これらの塗布液をシリコンウエハ上に３００ｎｍの厚さで製膜した後、得られる膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ−３３００（商品名）、大日本スクリーン製造（株））を用いて測定する。その後、白色顔料濃度と屈折率をグラフ上にプロットして、白色顔料の屈折率を導出する。
光散乱層から白色顔料を以下の方法で取り出した後、上記の方法にて白色顔料の屈折率を測定することもできる。光散乱層から白色顔料を取り出す方法として、例えば、光散乱層に対し、２〜６ｍｏｌ／Ｌの塩基性溶液を光散乱層の質量の１０〜３０質量％加え、１２時間加熱還流後、ろ過および洗浄して白色顔料を取り出すことができる。
また、白色顔料の屈折率は、「産総研計量標準報告 Ｖｏｌ． ６， Ｎｏ． １（Ｐ．１１）；固体屈折率の測定技術とその標準確立に関する調査研究」に記載の方法で測定することもできる。
白色顔料の平均一次粒子径は、５０〜３００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがより好ましく、５０〜１５０ｎｍであることが更に好ましく、５０〜１３０ｎｍであることがより一層好ましく、５０〜１００ｎｍであることが特に好ましい。白色顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、白度および光散乱性が良好な光散乱層とすることができる。なかでも、白色顔料の平均一次粒子径が、５０〜１５０ｎｍ（好ましくは５０〜１３０ｎｍ、より好ましくは５０〜１００ｎｍ）であれば、可視透明性を高めつつ、白度および光散乱性の良好な光散乱層とすることができる。更には、光散乱層の形成に用いる組成物の経時安定性を高めることができる。例えば、白色顔料などの沈降などを効果的に抑制できる。白色顔料の平均一次粒子径は、白色顔料を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、白色顔料の粒子が凝集していない部分（一次粒子）を観測することで求めることができる。本発明において、白色顔料の粒度分布から算出された個数基準の算術平均径を、白色顔料の平均一次粒子径とした。本発明において、白色顔料の粒度分布は、白色顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡を用いて写真を撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で粒度分布を測定して求める。透過型電子顕微鏡としては、（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ−７０００）を用いることができる。画像処理装置としては、（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いることができる。
光散乱層における平均一次粒子径５０〜１５０ｎｍの粒子の含有量は、光散乱層の全固形分に対して３０〜６０質量％であることが好ましく、３５〜５０質量％であることがより好ましい。この態様によれば、光散乱層の可視透明性を高めることができる。更には、光散乱層の形成に用いる組成物の経時安定性を高めることができる。
白色顔料としては、例えば、酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛などが挙げられる。白色顔料は、チタン原子を有する粒子が好ましく、酸化チタンがより好ましい。酸化チタンとしては「酸化チタン 物性と応用技術 清野学著 １９９１年６月２５日発行 技報堂出版発行」に記載の酸化チタンも好適に使用できる。
酸化チタンは、二酸化チタン（ＴｉＯ２）の含有量（純度）が７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、８５質量％以上であることが更に好ましい。酸化チタンは、ＴｉｎＯ２ｎ−１（ｎは２〜４の数を表す。）で表される低次酸化チタン、酸窒化チタン等の含有量が３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることが更に好ましい。
酸化チタンは、ルチル型酸化チタンであってもよく、アナターゼ型酸化チタンでもよい。着色性、組成物の経時安定性の観点から、ルチル型酸化チタンが好ましい。特にルチル型酸化チタンは加熱しても、色差の変化が少なく、良好な着色性を有している。また、酸化チタンのルチル化率は、９５％以上が好ましく、９９％以上がより好ましい。
ルチル型酸化チタンとしては、公知のものを使用することができる。ルチル型酸化チタンの製造方法には、硫酸法と塩素法の２種類あり、本発明では、いずれの製造方法により製造された酸化チタンも好適に使用することができる。ここで、硫酸法は、イルメナイト鉱石やチタンスラグを原料とし、これを濃硫酸に溶解して鉄分を硫酸鉄として分離し、分離した溶液を加水分解して水酸化物の沈殿物を得て、これを高温で焼成してルチル型酸化チタンを取り出す製造方法をいう。また、塩素法は、合成ルチルや天然ルチルを原料とし、これを約１０００℃の高温で塩素ガスとカーボンとを反応させて四塩化チタンを合成し、これを酸化してルチル型酸化チタンを取り出す製造方法をいう。ルチル型酸化チタンは、塩素法で得られるルチル型酸化チタンが好ましい。
酸化チタンの比表面積は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）法にて測定した値が１０〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、１０〜２００ｍ２／ｇであることがより好ましく、１０〜１５０ｍ２／ｇであることが更に好ましく、１０〜４０ｍ２／ｇであることが特に好ましく、１０〜２０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
酸化チタンのｐＨは、６〜８が好ましい。
酸化チタンの吸油量は、１０〜６０（ｇ／１００ｇ）であることが好ましく、１０〜４０（ｇ／１００ｇ）であることがより好ましい。
酸化チタンは、Ｆｅ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｎａ２Ｏの合計量が、０．１質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以下であることがより好ましく、０．０２質量％以下であることがさらに好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。
酸化チタンの形状には特に制限はない。例えば、等方性形状（例えば、球状、多面体状等）、異方性形状（例えば、針状、棒状、板状等）、不定形状等の形状が挙げられる。
酸化チタンの硬度（モース硬度）は、５〜８であることが好ましく、７〜７．５であることがより好ましい。
酸化チタンの真比重（密度）は、１．０〜６．０ｇ／ｃｍ３であることが好ましく、３．９〜４．５ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。
酸化チタンの嵩比重は０．１ｇ／ｃｍ３〜１．０ｇ／ｃｍ３であることが好ましく、０．２ｇ／ｃｍ３〜０．４ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。
酸化チタンなどの白色顔料は、有機化合物などの表面処理剤により表面処理された材料であってもよい。白色顔料の表面処理に用いる表面処理剤としては、ポリオール、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、シリカ（酸化ケイ素）、含水シリカ、アルカノールアミン、ステアリン酸、オルガノシロキサン、酸化ジルコニウム、ハイドロゲンジメチコン、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。中でもシランカップリング剤が好ましい。また、酸化チタンなどの白色顔料は、表面処理剤で処理された材料であることが好ましい。表面処理は、１種類単独の表面処理剤を用いて実施してもよく、２種類以上の表面処理剤を組み合わせて実施してもよい。また、酸化チタンなどの白色顔料の表面が、酸化アルミニウム、シリカ、酸化ジルコニウムなどの酸化物により覆われていることもまた好ましい。これにより、より耐光性および分散性が向上する。
酸化チタンなどの白色顔料は、塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物により被覆されていることも好ましい。塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物として、マグネシウム、ジルコニウム、セリウム、ストロンチウム、アンチモン、バリウム又はカルシウム等を含有する金属化合物が挙げられる。
塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物により被覆された白色顔料は、例えば以下のようにして得ることができる。
水又は水を主成分とする液中に白色顔料を分散させ、スラリーを得る。必要に応じてサンドミル又はボールミル等により、白色顔料を粉砕する。次いで、スラリーのｐＨを中性又はアルカリ性、場合によっては酸性にする。その後、被覆材料の原料となる水溶性塩をスラリーに添加し、白色顔料の表面を被覆する。その後、スラリーを中和し、白色顔料を回収する。回収した白色顔料は、乾燥又は乾式粉砕してもよい。
酸化チタンなどの白色顔料は、酸性部位を有する無機粒子の表面を、酸性部位と反応可能な化合物で処理してなる材料であってもよい。酸性部位と反応可能な化合物としては、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンエトキシレートもしくはペンタエリスリトール等の多価アルコール、モノエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、トリエタノールアミンもしくはトリプロパノールアミン等のアルカノールアミン、クロロシラン又はアルコキシシラン等が挙げられる。酸性部位を有する無機粒子の表面を、酸性部位と反応可能な化合物で処理する方法としては、（１）流体エネルギー粉砕機もしくは衝撃粉砕機等の乾式粉砕機に上記化合物と無機粒子とを投入し、無機粒子を粉砕する方法、（２）ヘンシェルミキサーもしくはスーパーミキサー等の高速攪拌機を用いて、上記化合物と、乾式粉砕した無機粒子とを攪拌し、混合する方法、（３）無機粒子の水性スラリー中に上記化合物を添加し、撹拌する方法等が挙げられる。
また、酸化チタンとしては「酸化チタン 物性と応用技術 清野学著 １３〜４５ページ １９９１年６月２５日発行 技報堂出版発行」に記載の酸化チタンも好適に使用できる。
白色顔料は、市販されているものを好ましく用いることができる。市販品はそのまま使用してもよく、分級処理したものを用いてもよい。酸化チタンの市販品としては、例えば、石原産業（株）製の商品名タイペークＲ−５５０、Ｒ−５８０、Ｒ−６３０、Ｒ−６７０、Ｒ−６８０、Ｒ−７８０、Ｒ−７８０−２、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−８５０、Ｒ−８５５、Ｒ−９３０、Ｒ−９８０、ＣＲ−５０、ＣＲ−５０−２、ＣＲ−５７、ＣＲ−５８、ＣＲ−５８−２、ＣＲ−６０、ＣＲ−６０−２、ＣＲ−６３、ＣＲ−６７、ＣＲ−Ｓｕｐｅｒ７０、ＣＲ−８０、ＣＲ−８５、ＣＲ−９０、ＣＲ−９０−２、ＣＲ−９３、ＣＲ−９５、ＣＲ−９５３、ＣＲ−９７、ＰＦ−７３６、ＰＦ−７３７、ＰＦ−７４２、ＰＦ−６９０、ＰＦ−６９１、ＰＦ−７１１、ＰＦ−７３９、ＰＦ−７４０、ＰＣ−３、Ｓ−３０５、ＣＲ−ＥＬ、ＰＴ−３０１、ＰＴ−４０１Ｍ、ＰＴ−４０１Ｌ、ＰＴ−５０１Ａ、ＰＴ−５０１Ｒ、ＵＴ７７１、ＴＴＯ−５１Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−８０Ａ、ＴＴＯ−Ｓ−２、Ａ−２２０、ＭＰＴ−１３６、ＭＰＴ−１４０、ＭＰＴ−１４１；
堺化学工業（株）製の商品名Ｒ−３Ｌ、Ｒ−５Ｎ、Ｒ−７Ｅ、Ｒ−１１Ｐ、Ｒ−２１、Ｒ−２５、Ｒ−３２、Ｒ−４２、Ｒ−４４、Ｒ−４５Ｍ、Ｒ−６２Ｎ、Ｒ−３１０、Ｒ−６５０、ＳＲ−１、Ｄ−９１８、ＧＴＲ−１００、ＦＴＲ−７００、ＴＣＲ−５２、Ａ−１１０、Ａ−１９０、ＳＡ−１、ＳＡ−１Ｌ、ＳＴＲ−１００Ａ−ＬＰ、ＳＴＲ−１００Ｃ−ＬＰ、ＴＣＡ−１２３Ｅ；
テイカ（株）製の商品名ＪＲ、ＪＲＮＣ、ＪＲ−３０１、ＪＲ−４０３、ＪＲ−４０５、ＪＲ−６００Ａ、ＪＲ−６００Ｅ、ＪＲ−６０３、ＪＲ−６０５、ＪＲ−７０１、ＪＲ−８００、ＪＲ−８０５、ＪＲ−８０６、ＪＲ−１０００、ＭＴ−０１、ＭＴ−０５、ＭＴ−１０ＥＸ、ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００ＴＶ、ＭＴ−１００Ｚ、ＭＴ−１００ＡＱ、ＭＴ−１００ＷＰ、ＭＴ−１００ＳＡ、ＭＴ−１００ＨＤ、ＭＴ−１５０ＥＸ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−３００ＨＤ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−５００ＳＡ、ＭＴ−５００ＨＤ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−６００ＳＡ、ＭＴ−７００Ｂ、ＭＴ−７００ＢＳ、ＭＴ−７００ＨＤ、ＭＴ−７００Ｚ；
チタン工業（株）製の商品名ＫＲ−３１０、ＫＲ−３８０、ＫＲ−３８０Ｎ、ＳＴ−４８５ＳＡ１５；
富士チタン工業（株）製の商品名ＴＲ−６００、ＴＲ−７００、ＴＲ−７５０、ＴＲ−８４０、ＴＲ−９００；
白石カルシウム（株）製の商品名Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ１５００等が挙げられる。また、特開２０１５−６７７９４号公報の段落番号００２５〜００２７に記載の酸化チタンを用いることもできる。
チタン酸ストロンチウムの市販品としては、ＳＷ−１００（チタン工業（株）製）などが挙げられる。硫酸バリウムの市販品としては、ＢＦ−１Ｌ（堺化学工業（株）製）などが挙げられる。酸化亜鉛の市販品としては、Ｚｉｎｃｏｘ Ｓｕｐｅｒ Ｆ−１（ハクスイテック（株）製）などが挙げられる。酸化ジルコニウムの市販品としては、Ｚ−ＮＸ（太陽鉱工（株）製）などが挙げられる。
本発明において、白色顔料は、単一の無機物からなるものだけでなく、他の素材と複合させた粒子を用いてもよい。例えば、内部に空孔や他の素材を有する粒子、コア粒子に無機粒子を多数付着させた粒子、ポリマー粒子からなるコア粒子と無機ナノ微粒子からなるシェル層とからなるコアおよびシェル複合粒子を用いることが好ましい。上記ポリマー粒子からなるコア粒子と無機ナノ微粒子からなるシェル層とからなるコアおよびシェル複合粒子としては、例えば、特開２０１５−４７５２０号公報の段落番号００１２〜００４２の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、白色顔料として中空無機粒子を用いることもできる。中空無機粒子とは、内部に空洞を有する構造の無機粒子であり、外殻に包囲された空洞を有する無機粒子のことを言う。中空無機粒子としては、特開２０１１−７５７８６号公報、国際公開ＷＯ２０１３−６１６２１号公報、特開２０１５−１６４８８１号公報などに記載された中空無機粒子を用いることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
中空無機粒子の中空部の直径は特に制限はない。中空無機粒子の中空部の直径は５〜９００ｎｍであることが好ましく、２０〜８００ｎｍであることがより好ましく、５０〜５００ｎｍであることが特に好ましい。
中空無機粒子の外殻材料、すなわち中空無機粒子の中空部を取り囲む材料としては、特に限定されず、様々な無機物が用いられる。硫化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸鉛、酸化鉛、酸化アンチモン、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ランタン、及び酸化チタン等が挙げられ、酸化チタンが好ましい。
中空無機粒子の平均粒子径（好ましくは平均二次粒子径）は、１００〜１０００ｎｍであることが好ましく、１５０〜６００ｎｍであることがより好ましく、２００〜５００ｎｍであることが特に好ましい。
中空無機粒子の空隙率は５〜９０体積％であることが好ましく、１０〜８０体積％であることがより好ましく、３０〜７０体積％であることが特に好ましい。なお、中空無機粒子の空隙率は、中空無機粒子の全体の体積を１００体積％とした場合の、中空無機粒子の中空部の総体積％である。中空無機粒子の空隙率は、中空無機粒子の屈折率と、中空無機粒子の材料から計算した屈折率との理論値とを用いて、算出することができる。さらに、中空無機粒子の空隙率は、例えば、中空無機粒子を含む層（光散乱層）を切断し、切断面に現れている多数の中空無機粒子の形状並びに大きさ、および、中空無機粒子の中空部の形状ならびに大きさを観察し、中空無機粒子の総体積と、中空無機粒子の中空部の総体積とを算出することにより求めることもできる。
光散乱層が白色顔料として中空無機粒子を含有する場合、平均粒子径が１００〜１０００ｎｍの中空無機粒子を、光散乱層の全固形分に対して３５〜５０質量％の割合で含有することがより好ましい。この態様によれば、白度および光散乱性に優れた光散乱層を形成しやすい。
光散乱層は、白色顔料を含む組成物（以下、光散乱層形成用組成物ともいう）を用いて形成できる。光散乱層形成用組成物の詳細については後述する。
（第２の光学フィルタ層）
本発明の構造体は、支持体上であって、第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に第２の光学フィルタ層を有する。この第２の光学フィルタ層の光路上には、光散乱層が設けられていない。本発明の構造体において、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層は支持体上に二次元配置されていてもよく、両者が異なる平面上に配置されていてもよい。なかでも、ノイズがより低減された目的の光を検出し易いという理由から、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層は支持体上に二次元配置されていることが好ましい。また、入射角特性等の観点から、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層の上面の高低差はほぼ同一であることが好ましい。なお、本発明において、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層が支持体上に二次元配置されているとは、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層の一部が同一平面上に存在していることを意味する。
また、本発明の構造体において、第２の光学フィルタ層の少なくとも一部は、第１の光学フィルタ層と連続してつながっていてもよい。例えば、第１の光学フィルタ層に隣接する第２の光学フィルタ層の少なくとも一部が第１の光学フィルタ層と同種の光学フィルタ層である場合においては、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層における同種の光学フィルタ層同士が連続してつながっていてもよい。また、本発明の構造体において、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層は隣接していてもよく、両者の間に隔壁が設けられていてもよい。
第２の光学フィルタ層の種類としては、光を透過するフィルタ層であればよく、特に限定は無い。例えば、入射光のうち、特定の波長の光を選択的に透過または遮光するフィルタ層や、入射光をほぼ全透過するフィルタ層などが挙げられる。第２の光学フィルタ層としては、波長３００〜２０００ｎｍの範囲の光において、特定の波長の光を選択的に透過または遮光するフィルタ層や、前述の範囲の光をほぼ全透過するフィルタ層などが好ましい例として挙げられる。第２の光学フィルタ層の好ましい具体例としては、着色層、透明層、紫外線カット層、近赤外線カット層および近赤外線透過層などが挙げられる。第２の光学フィルタ層は、可視光および近赤外線の少なくとも一部を透過するフィルタ層を含むことが好ましく、着色層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種のフィルタ層を含むことがより好ましい。また、第２の光学フィルタ層は、第１の光学フィルタ層と異なる種類（分光特性）のフィルタ層を含むことが好ましい。例えば、第１の光学フィルタ層が緑色着色層の場合、第２の光学フィルタ層は緑色着色層以外の層を少なくとも含むことが好ましい。また、第２の光学フィルタ層は、着色層および近赤外線透過層の他に、透明層、近赤外線カット層、紫外線カット層等を更に含んでいてもよい。また、第２の光学フィルタ層が複数のフィルタ層で構成されている場合、平坦性、密着性および入射角特性の観点から、隣接するフィルタ層同士の上面の高低差はほぼ同一であることが好ましい。
着色層としては、緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層、イエロー色着色層が挙げられ、これらの着色層を１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、緑色着色層、赤色着色層および青色着色層から選ばれる２種を組み合わせて用いる態様、緑色着色層、赤色着色層および青色着色層を組み合わせて用いる態様、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる２種を組み合わせて用いる態様、および、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層を組み合わせて用いる態様が好ましく、緑色着色層、赤色着色層および青色着色層を組み合わせて用いる態様、および、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層を組み合わせて用いる態様がより好ましい。
透明層、近赤外線透過層、近赤外線カット層および紫外線カット層としては、上述した第１の光学フィルタ層で説明したフィルタ層が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層との組み合わせとしては、第１の光学フィルタ層が着色層、透明層および近赤外線カット層から選ばれる少なくとも１種を含み、第２の光学フィルタ層が着色層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む組み合わせが好ましく、第１の光学フィルタ層が近赤外線カット層を含み、第２の光学フィルタ層が着色層を含む組み合わせがより好ましい。第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層との具体的な組み合わせとしては、以下が挙げられる。
（１）第１の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層および青色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層および青色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層である組み合わせ。この組み合わせにおいて、第２の光学フィルタ層は、第１の光学フィルタ層とは異なる色相の着色層を含んでいることが好ましい。
（２）第１の光学フィルタ層がシアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層がシアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層である組み合わせ。この組み合わせにおいて、第２の光学フィルタ層は、第１の光学フィルタ層とは異なる色相の着色層を含んでいることが好ましい。
（３）第１の光学フィルタ層がシアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層および青色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（４）第１の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層および青色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層がシアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（５）上記（１）〜（４）において、第２の光学フィルタ層がさらに近赤外線透過層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（６）第１の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が近赤外線透過層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（７）第１の光学フィルタ層が透明層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（８）第１の光学フィルタ層が透明層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が近赤外線透過層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（９）第１の光学フィルタ層が透明層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層と、近赤外線透過層とを含むフィルタ層である組み合わせ。
（１０）第１の光学フィルタ層が近赤外線カット層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（１１）第１の光学フィルタ層が近赤外線カット層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が近赤外線透過層を含むフィルタ層である組み合わせ。
（１２）第１の光学フィルタ層が近赤外線カット層を含むフィルタ層であり、第２の光学フィルタ層が緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる１種または２種以上の着色層と、近赤外線透過層とを含むフィルタ層である組み合わせ。
（１３）上記（１）〜（１２）において、第２の光学フィルタ層がさらに透明層、近赤外線カット層および紫外線カット層から選ばれる少なくとも１種を含むフィルタ層である含む組み合わせ。
第２の光学フィルタ層の厚さとしては、特に限定はない。例えば、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。第２の光学フィルタ層が複数のフィルタ層で構成されている場合においては、各フィルタ層の厚さは同一であってもよく、異なっていてもよい。各フィルタの特性に応じて適宜調整できる。
本発明の構造体において、支持体上における第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層との面積の割合は、第１の光学フィルタ層／第２の光学フィルタ層＝１／１００〜５０／５０であることが好ましく、５／９５〜５０／５０であることがより好ましく、１０／９０〜５０／５０であることが更に好ましい。面積の割合が上記範囲であれば、各フィルタ層における目的の光の感度が良好である。
（近赤外線カット層）
本発明の構造体は、第１の光学フィルタ層の光路上に、更に、波長８００〜１５００ｎｍの範囲の光の少なくとも一部をカットする近赤外線カット層を有することが好ましい。この態様によれば、近赤外線由来のノイズが低減された光などを検出することできる。なお、第１の光学フィルタ層自体が近赤外線カット層である場合は、近赤外線カット層を設けなくても同様の効果が期待できるので、第１の光学フィルタ層の光路上に、近赤外線カット層を設ける場合、第１の光学フィルタ層は、近赤外線カット層以外のフィルタ層であることが好ましい。
本発明の構造体が近赤外線カット層を有する場合、近赤外線カット層は、第１の光学フィルタ層の光路上にのみ設けられていてもよく、第２の光学フィルタ層の光路上にも設けられていてもよい。また、第２の光学フィルタ層の光路上にのみ近赤外線カット層が設けられていてもよい。また、第１の光学フィルタ層と、光散乱層と、近赤外線カット層との積層順序は特に限定はないが、以下の（１）〜（３）が好ましく、（１）または（２）がより好ましく、（２）が更に好ましい。（１）または（２）の態様によれば、第１の光学フィルタ層における視野角特性をより向上できる。また、（２）の態様によれば、構造体の製造時において、近赤外線カット層によって、第１の光学フィルタ層と光散乱層との混色を抑制でき、ノイズがより低減された目的の光を検出し易い。
（１）入射光側から、光散乱層、近赤外線カット層、第１の光学フィルタ層の順に積層した態様。
（２）入射光側から、光散乱層、第１の光学フィルタ層、近赤外線カット層の順に積層した態様。
（３）入射光側から、近赤外線カット層、光散乱層、第１の光学フィルタ層の順に積層した態様。
近赤外線カット層は、波長８００〜１２００ｎｍの範囲の光の少なくとも一部を遮光する層であることが好ましい。また、近赤外線カット層は、波長８００〜１２００ｎｍの範囲の少なくとも一部の波長の光に対する透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
近赤外線カット層は、以下のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
（１）波長８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満の範囲の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（２）波長８５０ｎｍ以上９００ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長８５０ｎｍ以上９００ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（３）波長９００ｎｍ以上９５０ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長９００ｎｍ以上９５０ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（４）波長９５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長９５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（５）波長１０００ｎｍ以上１０５０ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長１０００ｎｍ以上１０５０ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（６）波長１０５０ｎｍ以上１１００ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長１０５０ｎｍ以上１１００ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（７）波長１１００ｎｍ以上１１５０ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長１１００ｎｍ以上１１５０ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
（８）波長１１５０ｎｍ以上１２００ｎｍ未満の範囲の少なくとも一部の波長の光の透過率が５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。また、波長１１５０ｎｍ以上１２００ｎｍ未満の光の平均透過率は、５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。
近赤外線カット層に対する波長４００〜７００ｎｍの範囲の光の平均透過率は６０〜１００％であることが好ましく、７０〜１００％であることがより好ましく、８０〜１００％であることが特に好ましい。この波長領域における平均透過率は高いことが好ましい。
本発明の構造体において、近赤外線カット層は、上述した分光特性を有する層であればいずれの層であっても好ましく用いることができる。例えば、近赤外線カット層としては、近赤外線吸収剤を含む層、誘電体多層膜などが挙げられる。また、近赤外線カット層として、近赤外線吸収剤を含む層と誘電体多層膜とを併用することもできる。以下、近赤外線吸収剤を含む層、誘電体多層膜について説明する。
［近赤外線吸収剤を含む層］
近赤外線吸収剤を含む層に用いる近赤外線吸収剤としては、７００〜１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物などが挙げられる。近赤外線吸収剤は、８００〜１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、８００〜１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましく、８００〜１２００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が更に好ましい。また、近赤外線吸収剤を含む層に用いる近赤外線吸収剤は、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物、スクアリリウム化合物および銅錯体から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物、ピロロピロール化合物および銅錯体がより好ましく、ピロロピロール化合物およびアルカリ金属を含有するタングステン酸化物が更に好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。この態様によれば、耐光性や耐熱性に優れた構造体とすることができる。
本発明において、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物（以下、タングステン酸化物ともいう）としては、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。また、タングステン酸化物は、下記式（組成式）（Ｉ）で表される化合物であることも好ましい。
ＭｘＷｙＯｚ・・・（Ｉ）
Ｍはアルカリ金属、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表す。
０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１
２．２≦ｚ／ｙ≦３．０
Ｍが表すアルカリ金属としては、ＲｂまたはＣｓが好ましく、Ｃｓがより好ましい。
ｘ／ｙの値が０．００１以上であることにより、近赤外線を十分に遮蔽することができ、１．１以下であることにより、タングステン酸化物中に不純物相が生成されることを回避することができる。ｘ／ｙの値は、０．２２以上０．５以下が好ましい。
ｚ／ｙの値が２．２以上であることにより、材料としての化学的安定性を向上させることができ、３．０以下であることにより近赤外線を十分に遮蔽することができる。ｚ／ｙの値は、２．４５以上３．００以下が好ましい。
式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、Ｃｓ０．３３ＷＯ３、Ｒｂ０．３３ＷＯ３、Ｋ０．３３ＷＯ３などが挙げられ、Ｃｓ０．３３ＷＯ３又はＲｂ０．３３ＷＯ３が好ましく、Ｃｓ０．３３ＷＯ３が更に好ましい。
タングステン酸化物の市販品は、例えば、住友金属鉱山株式会社製のＹＭＳ−０１Ａ−２（セシウム酸化タングステン粒子の分散液）などが挙げられる。
タングステン酸化物の平均二次粒子径（Ｄ９０）は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２５ｎｍ以下が更に好ましい。タングステン酸化物の平均二次粒子径がこのような範囲であることによって、可視透明性を良好にできる。光散乱を回避する観点からは、タングステン酸化物の平均粒子径は小さいほど好ましいが、製造時における取り扱い容易性などの理由から、タングステン酸化物の平均二次粒子径（Ｄ９０）は、１ｎｍ以上であることが好ましい。タングステン酸化物の平均二次粒子径は、日機装株式会社製マイクロトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０を用いて行って得られた体積基準での粒子径（粒度分布の積算値が９０％での値（Ｄ９０））のことである。
タングステン酸化物については、特開２００９−６２４１１号公報の段落番号００５０〜００７２の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明においてピロロピロール化合物としては、例えば、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００１６〜００５８に記載の化合物、特開２０１１−６８７３１号公報の段落番号００３７〜００５２に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０〜００３３に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。スクアリリウム化合物としては、例えば、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落番号００４４〜００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物としては、例えば、特開２００９−１０８２６７号公報の段落番号００４４〜００４５に記載の化合物、特開２００２−１９４０４０号公報の段落番号００２６〜００３０に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ジイモニウム化合物としては、例えば、特表２００８−５２８７０６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物およびテトラアザポルフィリン化合物としては、例えば、特開２０１２−７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６−３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３−１９５４８０号公報の段落番号００１３〜００２９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２−７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物およびスクアリリウム化合物は、特開２０１０−１１１７５０号公報の段落番号００１０〜００８１に記載の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン系化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信／松岡賢／北尾悌次郎／平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。銅錯体としては、国際公開ＷＯ２０１６／０６８０３７号公報の段落番号０００９〜００４９に記載された銅錯体、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００２２〜００４２に記載されたリン酸エステル銅錯体、特開２０１５−４３０６３号公報の段落番号００２１〜００３９に記載されたスルホン酸銅錯体などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、ピロロピロール化合物は、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。この態様によれば、耐熱性や耐光性に優れた構造体が得られやすい。

式中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３は、各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、または金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ３から選ばれる少なくとも一つと、共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、各々独立に置換基を表す。式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９−２６３６１４号公報の段落番号００１７〜００４７、特開２０１１−６８７３１号公報の段落番号００１１〜００３６、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０〜００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
式（ＰＰ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表す。
本発明において、ジイモニウム化合物としては、下記式（Ｉｍ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｉｍ）

式中、Ｒ１１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｖ１１〜Ｖ１５は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｘはアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、ｎ１〜ｎ５は、それぞれ独立に、０〜４の整数である。式（Ｉｍ）の詳細については、特表２００８−５２８７０６号公報の段落番号００３４〜００５８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
式（Ｉｍ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｂｕはブチル基を表す。
本発明において、スクアリリウム化合物としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物が好ましい。

式（ＳＱ）中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または式（Ａ−１）で表される基を表す；

式（Ａ−１）中、Ｚ１は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは、０または１を表し、波線は連結手を表す。
式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落番号００２０〜００４９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
下記式（ＳＱ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
本発明において、銅錯体としては、銅と、銅に対する配位部位を１個以上有する化合物（配位子）との錯体が好ましい。銅に対する配位部位としては、銅に対してアニオンで配位する配位部位、銅に対して非共有電子対で配位する配位原子が挙げられる。銅錯体は、配位子を２つ以上有していてもよい。配位子を２つ以上有する場合は、それぞれの配位子は同一であってもよく、異なっていてもよい。銅錯体は、４配位、５配位および６配位が例示され、４配位および５配位がより好ましく、５配位がさらに好ましい。また、銅錯体は、銅と配位子によって、５員環および／または６員環が形成されていることが好ましい。このような銅錯体は、形状が安定であり、錯体安定性に優れる。
銅錯体は、例えば銅成分（銅または銅を含む化合物）に対して、銅に対する配位部位を有する化合物（配位子）を混合・反応等させて得ることができる。銅に対する配位部位を有する化合物（配位子）は、低分子化合物であってもよく、ポリマーであってもよい。両者を併用することもできる。
銅成分は、２価の銅を含む化合物が好ましい。銅成分は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。銅成分としては、例えば、酸化銅や銅塩を用いることができる。銅塩は、例えば、カルボン酸銅（例えば、酢酸銅、エチルアセト酢酸銅、ギ酸銅、安息香酸銅、ステアリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅、２−エチルヘキサン酸銅など）、スルホン酸銅（例えば、メタンスルホン酸銅など）、リン酸銅、リン酸エステル銅、ホスホン酸銅、ホスホン酸エステル銅、ホスフィン酸銅、アミド銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、メチド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、硫酸銅、硝酸銅、過塩素酸銅、フッ化銅、塩化銅、臭化銅が好ましく、カルボン酸銅、スルホン酸銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、フッ化銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅がより好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、フェノキシ銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅が更に好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、塩化銅、硫酸銅が特に好ましい。
銅錯体としては、例えば、式（Ｃｕ−１）で表される銅錯体を用いることができる。この銅錯体は、中心金属の銅に配位子Ｌが配位した銅錯体であり、銅は、通常２価の銅である。この銅錯体は、例えば銅成分に対して、配位子Ｌとなる化合物またはその塩を反応等させて得ることができる。
Ｃｕ（Ｌ）ｎ１・（Ｘ）ｎ２ 式（Ｃｕ−１）
上記式中、Ｌは、銅に配位する配位子を表し、Ｘは、対イオンを表す。ｎ１は、１〜４の整数を表す。ｎ２は、０〜４の整数を表す。
Ｘは、対イオンを表す。銅錯体は、電荷を持たない中性錯体のほか、カチオン錯体、アニオン錯体になることもある。この場合、銅錯体の電荷を中和するよう、必要に応じて対イオンが存在する。
対イオンが負の電荷をもつ対イオン（対アニオン）の場合、対アニオンは、例えば、無機陰イオンでもよく、有機陰イオンでもよい。
また、対アニオンは、低求核性アニオンであることが好ましい。低求核性アニオンとは、一般的に超酸（ｓｕｐｅｒ ａｃｉｄ）と呼ばれるｐＫａの低い酸がプロトンを解離してなるアニオンである。超酸の定義は、文献によっても異なるがメタンスルホン酸よりｐＫａが低い酸の総称であり、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，７６，３９１−３９５ Ｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ Ａｃｉｄｉｔｉｅｓ ｏｆ Ｓｕｐｅｒ ａｃｉｄｓに記載される構造が知られている。低求核性アニオンのｐＫａは、例えば、−１１以下が好ましく、−１１〜−１８が好ましい。ｐＫａは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，７６，３９１−３９５に記載の方法により測定することができる。本明細書におけるｐＫａは、特に断りがない場合、１，２−ジクロロエタン中でのｐＫａである。対アニオンが、低求核性アニオンであると、銅錯体や樹脂の分解反応が生じにくく、耐熱性が良好である。低求核性アニオンは、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン（ハロゲン原子やフルオロアルキル基で置換されたアリールを含む）、ヘキサフルオロホスフェートイオン、イミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドを含む）がより好ましく、テトラアリールホウ酸イオン（ハロゲン原子やフルオロアルキル基で置換されたアリールを含む）、イミドイオン（スルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（スルホニル基で置換されたメチドを含む）が特に好ましい。
また、本発明において、対アニオンは、ハロゲン陰イオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、ホウ素酸イオン、スルホネートイオン、イミドイオンであることも好ましい。
対イオンが正の電荷をもつ対イオン（対カチオン）の場合、例えば、対カチオンは、無機もしくは有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラブチルアンモニウムイオンなどのテトラアルキルアンモニウムイオン、トリエチルベンジルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等）、ホスホニウムイオン（例えば、テトラブチルホスホニウムイオンなどのテトラアルキルホスホニウムイオン、アルキルトリフェニルホスホニウムイオン、トリエチルフェニルホスホニウムイオン等）、アルカリ金属イオンまたはプロトンが挙げられる。
また、対イオンは金属錯体イオン（例えば銅錯体イオンなど）であってもよい。
配位子Ｌは、銅に対する配位部位を有する化合物であり、銅に対してアニオンで配位する配位部位、および、銅に対して非共有電子対で配位する配位原子から選ばれる１種以上を有する化合物が挙げられる。銅に対してアニオンで配位する配位部位は、解離していてもよく、非解離でも良い。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）が好ましい。また、配位子Ｌは、可視透明性を向上させるために、芳香族などのπ共役系が連続して複数結合していないことが好ましい。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を１個有する化合物（単座配位子）と、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）とを併用することもできる。単座配位子としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する単座配位子が挙げられる。
上記配位子Ｌが有するアニオンは、銅原子に配位可能なものであればよく、酸素アニオン、窒素アニオンまたは硫黄アニオンが好ましい。
アニオンで配位する配位部位の例として、モノアニオン性配位部位も挙げられる。モノアニオン性配位部位は、１つの負電荷を有する官能基を介して銅原子と配位する部位を表す。例えば、酸解離定数（ｐＫａ）が１２以下の酸基が挙げられる。具体的には、リン原子を含有する酸基（リン酸ジエステル基、ホスホン酸モノエステル基、ホスフィン酸基等）、スルホ基、カルボキシ基、イミド酸基等が挙げられ、スルホ基、カルボキシ基が好ましい。
非共有電子対で配位する配位原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはリン原子が好ましく、酸素原子、窒素原子または硫黄原子がより好ましく、酸素原子、窒素原子がさらに好ましく、窒素原子が特に好ましい。非共有電子対で配位する配位原子が窒素原子である場合、窒素原子に隣接する原子が炭素原子、または、窒素原子であることが好ましく、炭素原子がより好ましい。
銅錯体は、例えば、以下の（１）〜（５）の態様が好ましい一例として挙げられ、（２）〜（５）がより好ましく、（３）〜（５）が更に好ましく、（４）または（５）が一層好ましい。
（１）２つの配位部位を有する化合物の１つまたは２つを配位子として有する銅錯体。
（２）３つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体。
（３）３つの配位部位を有する化合物と２つの配位部位を有する化合物とを配位子として有する銅錯体。
（４）４つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体。
（５）５つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体。
銅錯体の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
本発明において、銅錯体として、ポリマー側鎖に銅錯体部位を有する銅含有ポリマーを用いることができる。銅錯体部位としては、銅と、銅に対して配位する部位（配位部位）とを有するものが挙げられる。銅に対して配位する部位としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する部位が挙げられる。また、銅錯体部位は、銅に対して４座配位または５座配位する部位を有することが好ましい。配位部位の詳細については、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
銅含有ポリマーは、配位部位を含むポリマー（ポリマー（Ｂ１）ともいう）と、銅成分との反応で得られるポリマーや、ポリマー側鎖に反応性部位を有するポリマー（以下ポリマー（Ｂ２）ともいう）と、ポリマー（Ｂ２）が有する反応性部位と反応可能な官能基を有する銅錯体とを反応させて得られるポリマーが挙げられる。銅含有ポリマーの重量平均分子量は、２，０００以上が好ましく、２，０００〜２００万がより好ましく、６，０００〜２００，０００がさらに好ましい。
近赤外線吸収剤を含む層における近赤外線吸収剤の含有量は、近赤外線吸収剤の種類に応じて適宜調整することができる。例えば、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物の場合、近赤外線吸収剤を含む層の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。また、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物、スクアリリウム化合物などの有機色素の場合、近赤外線吸収剤を含む層の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。また、銅錯体の場合、近赤外線吸収剤を含む層の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。
近赤外線吸収剤を含む層の膜厚は、近赤外線吸収剤の種類に応じて適宜調整することができる。例えば、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物の場合、近赤外線吸収剤を含む層の膜厚は０．５〜１０．０μｍであることが好ましく、２．０〜５．０μｍであることがより好ましい。また、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物、スクアリリウム化合物などの有機色素の場合、近赤外線吸収剤を含む層の膜厚は０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．５〜２．０μｍであることがより好ましい。また、銅錯体の場合、近赤外線吸収剤を含む層の膜厚は１０〜３００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがより好ましい。膜厚が上記範囲であれば、近赤外線遮蔽性が良好である。更には、透過光が光散乱層に拡散されることなくフォトダイオードで検出できるという効果が期待できる。
近赤外線吸収剤を含む層は、近赤外線吸収剤を含む組成物（以下、近赤外線カット層形成用組成物ともいう）を用いて形成できる。近赤外線カット層形成用組成物の詳細については後述する。
［誘電体多層膜］
本発明において、誘電体多層膜は、光の干渉の効果を利用して近赤外線などを遮光する膜である。具体的には、屈折率の異なる誘電体層（高屈折率層と低屈折率層）を、交互に２層以上積層してなる膜である。誘電体多層膜は、例えば、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スパッタ法、真空蒸着法などの方法により、支持体上などに高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層して形成できる。また、高屈折率層形成用組成物と、低屈折率層形成用組成物とを支持体上などに交互に塗布し、乾燥することによっても得ることができる。
高屈折率層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料（好ましくは屈折率が１．７〜２．５の材料）を用いることができる。例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量含有させた材料などが挙げられる。
低屈折率層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料（好ましくは屈折率が１．２〜１．６の材料）を用いることができる。例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
高屈折率層および低屈折率層の各層の厚みは、遮断しようとする近赤外線の波長λ（ｎｍ）の０．１λ〜０．５λの厚みであることが好ましい。厚みを上記範囲とすることにより、特定波長の光の遮断および／または透過をコントロールしやすい。また、誘電体多層膜における積層数は、２〜１００層が好ましく、２〜６０層がより好ましく、２〜４０層が更に好ましい。
誘電体多層膜の膜厚（高屈折率層と低屈折率層との合計膜厚）は、高屈折率層および低屈折率層の屈折率、分光設計によって適宜設計される。
本発明の構造体は、第１の光学フィルタ層、第２の光学フィルタ層または光散乱層上に、反射防止膜、オーバコート層、レンズなどが設けられていてもよい。また、第１の光学フィルタ層と光散乱層との間に中間層が設けられていてもよい。また、反射防止膜はレンズの表面に設けられていてもよい。
本発明の構造体について、以下図面を用いて詳細に説明する。図１に示す構造体１０１においては、支持体１０上に、フィルタ層２１〜２６が設けられている。また、フィルタ層２４上に光散乱層５０が設けられている。そして、フィルタ層２１〜２３、２５、２６上にはレンズ８０が設けられている。この実施形態において、フィルタ層２４が第１の光学フィルタ層であり、フィルタ層２１〜２３、２５、２６が第２の光学フィルタ層である。フィルタ層２１〜２６は光を透過するフィルタ層であればよい。着色層、透明層、紫外線カット層、近赤外線カット層および近赤外線透過層などが挙げられる。例えば、第１の光学フィルタ層（図１においてはフィルタ層２４）が着色層であり、第２の光学フィルタ層（図１においてはフィルタ層２１、２２、２３、２５、２６）がそれぞれ独立して着色層または近赤外線透過層である態様、第１の光学フィルタ層（図１においてはフィルタ層２４）が透明層であり、第２の光学フィルタ層（図１においてはフィルタ層２１、２２、２３、２５、２６）がそれぞれ独立して着色層または近赤外線透過層である態様、第１の光学フィルタ層（図１においてはフィルタ層２４）が近赤外線カット層であり、第２の光学フィルタ層（図１においてはフィルタ層２１、２２、２３、２５、２６）がそれぞれ独立して着色層または近赤外線透過層である態様、上記各態様において、第２の光学フィルタ層が更に透明層、紫外線カット層および近赤外線カット層から選ばれる少なくとも１種を含む態様などが好ましい態様として挙げられる。
構造体１０１において、フィルタ層２１〜２３、２５、２６の少なくとも一つは、フィルタ層２４と同一種類のフィルタ層であってもよい。また、フィルタ層２１〜２３、２５、２６のそれぞれは、フィルタ層２４と異なる種類のフィルタ層であってもよい。また、フィルタ層２１〜２３、２５、２６は、同一のフィルタ層であってもよく、異なるフィルタ層であってもよい。なかでも、フィルタ層２１〜２３、２５、２６の少なくとも一つは、フィルタ層２４と異なる種類のフィルタ層であることが好ましい。
なお、図１において、フィルタ層２１〜２６の厚みは同一であるが、各フィルタ層の厚みは異なっていてもよい。また、図１において、フィルタ層２１〜２６の幅は同一であるが、各フィルタ層の幅は異なっていてもよい。また、図１において、隣接するフィルタ層同士は接しているが、隣接するフィルタ層同士は接していなくてもよい。また、隣接するフィルタ層同士の間に隔壁が設けられていてもよい。また、図１において、フィルタ層２１〜２６の上面の高低差はほぼ一致しているが、各フィルタ層の上面同士に高低差があってもよい。平坦性確保、プロセス簡易化の観点から、フィルタ層２１〜２６の上面の高低差はほぼ一致していることが好ましい。また、図１において、フィルタ層２４と光散乱層５０の積層順序を入れ替えて、フィルタ層２１〜２３、２５、２６と、光散乱層５０とを支持体１０上に二次元配置してもよい。また、支持体１０とフィルタ層２１〜２６との間に下地膜が設けられていてもよい。また、フィルタ層２１〜２３、２５、２６とレンズ８０との間、フィルタ層２４と光散乱層５０との間に中間層が設けられていてもよい。また、光散乱層５０の表面および／またはレンズ８０の表面に反射防止膜が設けられていてもよい。また、光散乱層５０上にレンズ８０が設けられていてもよい。また、光散乱層５０およびレンズ８０上にオーバコート層が設けられていてもよい。
図２に示す構造体１０２は、支持体１０上に、フィルタ層２１ａ〜２６ａが設けられている。また、フィルタ層２３ａ、２４ａ上に光散乱層５０が設けられている。そして、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａ、２６ａ上にはレンズ８０が設けられている。この実施形態において、フィルタ層２３ａ、２４ａが第１の光学フィルタ層であり、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａ、２６ａが第２の光学フィルタ層である。第１の光学フィルタ層および第２の光学フィルタ層については、図１で説明した内容と同義である。構造体１０２において、フィルタ層２３ａ、２４ａは、同一のフィルタ層であってもよく、異なるフィルタ層であってもよい。また、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａ、２６ａは、同一のフィルタ層であってもよく、異なるフィルタ層であってもよいが、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａ、２６ａの少なくとも一つは、フィルタ層２３ａおよび２４ａと異なる種類のフィルタ層であることが好ましい。また、図２において、フィルタ層２３ａ、２４ａと光散乱層５０の積層順序を入れ替えてもよい。また、図２において、フィルタ層２１ａ〜２６ａの厚みは同一であるが、各フィルタ層の厚みは異なっていてもよい。また、図２において、フィルタ層２１ａ〜２６ａの幅は同一であるが、各フィルタ層の幅は異なっていてもよい。また、図２において、隣接するフィルタ層同士は接しているが、隣接するフィルタ層同士は接していなくてもよい。また、隣接するフィルタ層同士の間に隔壁が設けられていてもよい。また、図２において、フィルタ層２１ａ〜２６ａの上面の高低差はほぼ一致しているが、各フィルタ層の上面同士に高低差があってもよい。平坦性確保、プロセス簡易化の観点から、フィルタ層２１ａ〜２６ａの上面の高低差はほぼ一致していることが好ましい。
図３に示す構造体１０３は、支持体１０上にフィルタ層２１ｂ〜２６ｂが設けられている。また、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂ上に光散乱層５０が設けられている。そして、フィルタ層２１ｂ、２５ｂ、２６ｂ上にはレンズ８０が設けられている。この実施形態において、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂが第１の光学フィルタ層であり、フィルタ層２１ｂ、２５ｂ、２６ｂが第２の光学フィルタ層である。第１の光学フィルタ層および第２の光学フィルタ層については、図１で説明した内容と同義である。構造体１０３において、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂは、同一のフィルタ層であってもよく、異なるフィルタ層であってもよい。また、フィルタ層２１ｂ、２５ｂ、２６ｂは、同一のフィルタ層であってもよく、異なるフィルタ層であってもよいが、フィルタ層２１ｂ、２５ｂ、２６ｂの少なくとも一つは、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂと異なる種類のフィルタ層であることが好ましい。また、図３において、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂと光散乱層５０の積層順序を入れ替えてもよい。また、図３において、隣接するフィルタ層同士は接しているが、隣接するフィルタ層同士は接していなくてもよい。また、隣接するフィルタ層同士の間に隔壁が設けられていてもよい。また、図３において、フィルタ層２１ｂ〜２６ｂの上面の高低差はほぼ一致しているが、各フィルタ層の上面同士に高低差があってもよい。平坦性確保、プロセス簡易化の観点から、フィルタ層２１ｂ〜２６ｂの上面の高低差はほぼ一致していることが好ましい。
図４に示す構造体１０４は、光散乱層５０とフィルタ層２４との間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図１に示す構造体１０１と同様の構成をなしている。図示しないが、光散乱層５０と近赤外線カット層６０との間、および／または、フィルタ層２４と近赤外線カット層６０との間に中間層をさらに有していてもよい。
図５に示す構造体１０５は、光散乱層５０の表面に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図１に示す構造体１０１と同様の構成をなしている。図示しないが、光散乱層５０と近赤外線カット層６０との間に中間層をさらに有していてもよい。
図６に示す構造体１０６は、支持体１０とフィルタ層２４との間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は、図１と同様の構成をなしている。図示しないが、支持体１０と近赤外線カット層６０との間、および／または、フィルタ層２４と近赤外線カット層６０との間に中間層をさらに有していてもよい。
図７に示す構造体１０７は、支持体１０とフィルタ層２１〜２６との間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図１に示す構造体１０１と同様の構成をなしている。図８に示す構造体１０８は、支持体１０とフィルタ層２１〜２５との間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図１に示す構造体１０１と同様の構成をなしている。なお、図８に示す構造体は、第２の光学フィルタ層のうち、フィルタ層２６の光射出側の光路上にのみ近赤外線カット層６０が設けられていないが、支持体１０とフィルタ層２６との間に近赤外線カット層６０を設け、フィルタ層２１〜２３、２５のいずれかのフィルタ層と支持体１０との間に近赤外線カット層６０を設けない態様とすることもできる。また、フィルタ層２１〜２３、２５、２６のうち、２個以上のフィルタ層と支持体１０との間に近赤外線カット層６０を有さない態様とすることもできる。図９に示す構造体１０９は、フィルタ層２１〜２６の表面に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図１に示す構造体１０１と同様の構成をなしている。図９に示す構造体１０９は、フィルタ層２１〜２６の表面に近赤外線カット層６０が設けられているが、第２の光学フィルタ層であるフィルタ層２１〜２３、２５、２６のうち、１個以上のフィルタ層の表面に近赤外線カット層６０を有さない態様とすることもできる。
図１０に示す構造体１１０は、光散乱層５０とフィルタ層２３ａ、２４ａとの間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図２に示す構造体１０２と同様の構成をなしている。図１０において、近赤外線カット層６０と光散乱層５０との積層順序を入れ替えて、光散乱層５０の表面に近赤外線カット層６０を設けてもよい。また、図示しないが、光散乱層５０と近赤外線カット層６０との間、および／または、フィルタ層２３ａ、２４ａと近赤外線カット層６０との間に中間層をさらに有していてもよい。
図１１に示す構造体１１１は、フィルタ層２１ａ〜２６ａの表面に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図２に示す構造体１０２と同様の構成をなしている。なお、図１１に示す構造体１１１は、第２の光学フィルタ層である、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａ、２６ａの少なくとも１つのフィルタ層の表面に近赤外線カット層６０を有さない態様とすることもできる。例えば、フィルタ層２１ａ〜２５ａの表面に近赤外線カット層６０を設け、フィルタ層２６ａの表面には近赤外線カット層６０を設けない態様とすることができる。
図１２に示す構造体１１２は、支持体１０とフィルタ層２３ａ、２４ａとの間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図２に示す構造体１０２と同様の構成をなしている。なお、図示しないが、支持体１０と近赤外線カット層６０との間、および／または、フィルタ層２３ａ、２４ａと近赤外線カット層６０との間に中間層をさらに有していてもよい。
図１３に示す構造体１１３は、支持体１０とフィルタ層２１ａ〜２６ａとの間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図２に示す構造体１０２と同様の構成をなしている。図１４に示す構造体１１４は、支持体１０とフィルタ層２１ａ〜２５ａとの間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図２に示す構造体１０２と同様の構成をなしている。なお、図１４に示す構造体１１４は、第２の光学フィルタ層のうち、フィルタ層２６ａの光射出側の光路上にのみ近赤外線カット層６０が設けられていないが、支持体１０とフィルタ層２６ａとの間に近赤外線カット層６０を設け、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａのいずれかのフィルタ層と支持体１０との間に近赤外線カット層６０を設けない態様とすることもできる。また、フィルタ層２１ａ、２２ａ、２５ａ、２６ａのうち、２個以上のフィルタ層と支持体１０との間に近赤外線カット層６０を有さない態様とすることもできる。
図１５に示す構造体１１５は、光散乱層５０と、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂとの間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図３に示す構造体１０３と同様の構成をなしている。図１５において、近赤外線カット層６０と光散乱層５０との積層順序を入れ替えて、光散乱層５０の表面に近赤外線カット層６０を設けてもよい。また、図示しないが、光散乱層５０と近赤外線カット層６０との間、および／または、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂと近赤外線カット層６０との間に中間層をさらに有していてもよい。
図１６に示す構造体１１６は、フィルタ層２１ｂ〜２６ｂ上に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図３に示す構造体１０３と同様の構成をなしている。なお、図１６に示す構造体１１６は、第２の光学フィルタ層である、フィルタ層２１ｂ、２５ｂ、２６ｂの少なくとも１つのフィルタ層上に近赤外線カット層６０を有さない態様とすることもできる。例えば、フィルタ層２１ｂ〜２５ｂ上に近赤外線カット層６０を有し、フィルタ層２６ｂ上には近赤外線カット層６０を有さない態様とすることができる。
図１７に示す構造体１１７は、支持体１０とフィルタ層２１ｂ〜２６ｂとの間に近赤外線カット層６０が設けられている以外は図３に示す構造体１０３と同様の構成をなしている。なお、図１７に示す構造体１１７において、近赤外線カット層６０は、第１の光学フィルタ層である、フィルタ層２２ｂ〜２４ｂと、支持体１０との間にのみ設けてもよい。また、第２の光学フィルタ層である、フィルタ層２１ｂ、２５ｂ、２６ｂの少なくとも１つのフィルタ層と支持体１０との間に近赤外線カット層６０を有さない態様とすることもできる。
本発明の構造体は、固体撮像素子などの各種類の光センサや、画像表示装置（例えば、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置など）に組み込んで用いることができる。例えば、本発明の構造体が組み込まれた光センサは、特に限定はないが、生体認証用途、監視用途、モバイル用途、自動車用途、農業用途、医療用途、距離計測用途、ジェスチャー認識用途などに好ましく用いることができる。
＜光センサ＞
本発明の光センサは、本発明の積層体を有する。光センサとしては、固体撮像素子などが挙げられる。
＜光散乱層形成用組成物＞
次に、本発明の構造体における光散乱層の形成に好ましく用いることができる組成物（光散乱層形成用組成物）について説明する。
＜＜白色顔料＞＞
光散乱層形成用組成物は、白色顔料を含有することが好ましい。白色顔料の詳細については、上述した光散乱層の項で説明した白色顔料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。白色顔料の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して１〜７５質量％が好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、２５質量％以上が更に好ましく、３５質量％以上が特に好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましく、４５質量％以下が一層好ましく、４２質量％以下が特に好ましい。白色顔料の含有量が上記範囲であれば、白度および光散乱性の良好な光散乱層を形成できる。更には、第１の光学フィルタ層上に光散乱層を形成した際における光散乱層の混色などを効果的に抑制できる。光散乱層形成用組成物は、白色顔料を１種類のみ含んでいてもよく、２種類以上含んでいてもよい。光散乱層形成用組成物が白色顔料を２種類以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜＜その他の着色剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、白色顔料以外の、その他の着色剤を含有してもよい。その他の着色剤を含有することで、組成物を用いて厚さ３μｍの膜を形成した場合にＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊およびｂ＊を好ましい範囲に制御しやすい。その他の着色剤としては、有彩色着色剤や黒色着色剤などが挙げられる。
（有彩色着色剤）
光散乱層形成用組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤（白色顔料を含む）および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。光散乱層形成用組成物が有彩色着色剤を含有することで、例えば経時、加熱などによる組成物の色味（ＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊、ａ＊およびｂ＊）の目視評価の変動を安定させることができる。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に極大吸収を有する着色剤であることが好ましい。
有彩色着色剤は、有彩色顔料であってもよく、染料であってもよい。有彩色顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては特に限定されず、公知の有彩色顔料を用いることができる。有機顔料として、例えば、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されない。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）。
有機顔料は、単独で用いてもよく、２つ以上を組合せて用いることができる。
染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５−０２８１４４号公報、特開２０１５−３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。また、染料は、酸性染料およびその誘導体を用いることができる。その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、および、これらの誘導体等も有用に使用することができる。以下に酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されない。例えば、以下の染料、及び、これらの染料の誘導体が挙げられる。
Ａｃｉｄ Ａｌｉｚａｒｉｎ ｖｉｏｌｅｔ Ｎ、
Ａｃｉｄ Ｂｌｕｅ １，７，９，１５，１８，２３，２５，２７，２９，４０〜４５，６２，７０，７４，８０，８３，８６，８７，９０，９２，１０３，１１２，１１３，１２０，１２９，１３８，１４７，１５８，１７１，１８２，１９２，２４３，３２４：１、
Ａｃｉｄ Ｃｈｒｏｍｅ ｖｉｏｌｅｔ Ｋ、
Ａｃｉｄ Ｆｕｃｈｓｉｎ；ａｃｉｄ ｇｒｅｅｎ １，３，５，９，１６，２５，２７，５０、
Ａｃｉｄ Ｏｒａｎｇｅ ６，７，８，１０，１２，５０，５１，５２，５６，６３，７４，９５、
Ａｃｉｄ Ｒｅｄ １，４，８，１４，１７，１８，２６，２７，２９，３１，３４，３５，３７，４２，４４，５０，５１，５２，５７，６６，７３，８０，８７，８８，９１，９２，９４，９７，１０３，１１１，１１４，１２９，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５０，１５１，１５８，１７６，１８３，１９８，２１１，２１５，２１６，２１７，２４９，２５２，２５７，２６０，２６６，２７４、
Ａｃｉｄ Ｖｉｏｌｅｔ ６Ｂ，７，９，１７，１９、
Ａｃｉｄ Ｙｅｌｌｏｗ １，３，７，９，１１，１７，２３，２５，２９，３４，３６，４２，５４，７２，７３，７６，７９，９８，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１８４，２４３、
Ｆｏｏｄ Ｙｅｌｌｏｗ ３。
また、上記以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ ４４、３８；Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ ｏｒａｎｇｅ ４５；Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ Ｂ、Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ １１０等の酸性染料及びこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
光散乱層形成用組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分中０．１〜７０質量％とすることが好ましい。下限は、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が特に好ましい。上限は、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が特に好ましい。光散乱層形成用組成物が、有彩色着色剤を２種類以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
（黒色着色剤）
光散乱層形成用組成物は、黒色着色剤を含有することができる。黒色着色剤としては、無機系黒色着色剤であってもよく、有機系黒色着色剤であってもよい。
有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ系化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０−５３４７２６号公報、特表２０１２−５１５２３３号公報、特表２０１２−５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１−１７０６０１号公報、特開平２−３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
無機系黒色着色剤としては、特に限定されず、公知の無機系黒色着色剤を用いることができる。例えば、カーボンブラック、チタンブラック、グラファイト等が挙げられ、カーボンブラック、チタンブラックが好ましく、チタンブラックがより好ましい。チタンブラックとは、チタン原子を含有する黒色粒子であり、低次酸化チタンや酸窒化チタンが好ましい。チタンブラックは、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能である。例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、又は、酸化ジルコニウムでチタンブラックの表面を被覆することが可能である。また、特開２００７−３０２８３６号公報に表されるような撥水性物質での処理も可能である。黒色顔料として、具体的には、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ １，７、チタンブラック顔料等が挙げられる。
チタンブラックは、個々の粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径のいずれもが小さいものが好ましい。具体的には、平均一次粒子径が１０〜４５ｎｍであることが好ましい。
チタンブラックの比表面積は特に制限されず、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ， Ｅｍｍｅｔｔ， Ｔｅｌｌｅｒ）法にて測定した値が５〜１５０ｍ２／ｇであることが好ましく、２０〜１２０ｍ２／ｇであることがより好ましい。チタンブラックの市販品としては、チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃ、１３Ｒ−Ｎ、１３Ｍ−Ｔ（商品名：三菱マテリアル（株）製）、ティラック（Ｔｉｌａｃｋ）Ｄ（商品名：赤穂化成（株）製）などが挙げられる。
チタンブラックは、分散物として用いることもできる。例えば、チタンブラック粒子とシリカ粒子とを含み、分散物中のＳｉ原子とＴｉ原子との含有比を０．２０〜０．５０の範囲に制御した分散物などが挙げられる。上記分散物については、特開２０１２−１６９５５６号公報の段落番号００２０〜０１０５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜＜樹脂＞＞
光散乱層形成用組成物は、樹脂を含むことが好ましい。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途、バインダーの用途で配合される。なお、主に粒子を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜２０００００が好ましく、より好ましくは２０００〜１０００００である。これらの範囲であると、相溶性と白味の観点から好ましい。
樹脂の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して５〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０〜６０質量％である。これらの範囲であるとパターン形状、耐熱性、Ｌ＊の観点から好ましい。樹脂を、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
（バインダー）
光散乱層形成用組成物は、樹脂としてバインダーを含有することが好ましい。バインダーを含有することで、膜特性が向上する。バインダーは、公知のものを任意に使用できる。例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、エポキシ樹脂としては、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｇ−０１０５ＳＡ、Ｇ−０１３０ＳＰ、Ｇ−０２５０ＳＰ、Ｇ−１００５Ｓ、Ｇ−１００５ＳＡ、Ｇ−１０１０Ｓ、Ｇ−２０５０Ｍ、Ｇ−０１１００、Ｇ−０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）を用いることもできる。樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜２０００００が好ましく、より好ましくは２０００〜１０００００である。
本発明において、バインダーとして、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５以下である樹脂を用いることも好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜を製造しやすい。このような樹脂としては、フッ素系樹脂や、ポリシロキサン系樹脂などを挙げることができ、ポリシロキサン系樹脂（ポリシロキサンが主骨格であることが好ましい）であることが好ましい。ポリシロキサン系樹脂としては、下記式（１）で示される化合物を単独で加水分解および縮合して得られるポリシロキサン系樹脂や、下記式（１）で示される化合物と他のシラン化合物と加水分解および縮合して得られるポリシロキサン系樹脂を用いることができる。ポリシロキサン系樹脂の詳細については、特開２０１４−６６９８８号公報の段落番号００１４〜００３５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Ｒ１ ２Ｓｉ（ＯＲ２）２ ・・・式（１）
式（１）におけるＲ１はそれぞれ独立してアルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ２はそれぞれ独立して水素原子又はアルキル基を表す。
本発明にいて、バインダーとしては、アルカリ可溶性樹脂を用いることもできる。アルカリ可溶性樹脂を用いることで、アルカリ現像可能な組成物とすることができる。アルカリ可溶性樹脂としては、酸基を有する樹脂が挙げられる。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性水酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
アルカリ可溶性樹脂の酸価としては、３０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
アルカリ可溶性樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。
アルカリ可溶性樹脂としては、重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。この態様によれば、得られる膜の耐溶剤性が向上する傾向にある。重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂は、重合性基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂等が有用である。重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有 ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセル・オルネクス（株）製）、アクリキュアーＲＤ−Ｆ８（日本触媒（株）製）などが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂としては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。エーテルダイマーを含むモノマー成分を重合してなるポリマーの詳細については、特開２０１５−３４９６１号公報の段落００２２〜００３１を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。

式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
アルカリ可溶性樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。

式（Ｘ）において、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。
アルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば、下記の樹脂が挙げられる。また、特開２０１５−３４９６１号公報の段落番号００３７に記載の樹脂も挙げられる。これらの樹脂の中でも、下記Ｃ−２などの重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが、耐溶剤性の観点から好ましい。
（分散剤）
光散乱層形成用組成物は、樹脂として分散剤を含有することができる。分散剤は、酸性樹脂、塩基性樹脂および両性樹脂から選ばれる１種類以上を含むことが好ましく、酸性樹脂および両性樹脂から選ばれる少なくとも１種類がより好ましい。この態様によれば、顔料の分散性が良好である。
本発明において、酸性樹脂とは、酸基を有する樹脂であって、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、アミン価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の樹脂を意味する。酸性樹脂は、塩基性基を有さないことが好ましい。酸性樹脂が有する酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、リン酸基、カルボキシ基が好ましい。酸性樹脂の酸価は、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましい。上限は、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましい。また、酸性樹脂のアミン価は、２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
本発明において、塩基性樹脂とは、塩基性基を有する樹脂であって、アミン価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の樹脂を意味する。塩基性樹脂は、酸基を有さないことが好ましい。塩基性樹脂が有する塩基性基としては、アミノ基が好ましい。塩基性樹脂のアミン価は、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、５〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。
本発明において、両性樹脂とは、酸基と塩基性基を有する樹脂であって、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上で、アミン価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂を意味する。酸基としては、前述したものが挙げられ、カルボキシ基が好ましい。塩基性基としては、アミノ基が好ましい。両性樹脂は、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上で、アミン価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましい。酸価は、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましい。アミン価は、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましい。両性樹脂の酸価とアミン価の比率は、酸価：アミン価＝１：４〜４：１が好ましく、１：３〜３：１がより好ましい。
分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、アミン基を有する樹脂（ポリアミドアミンとその塩など）、オリゴイミン系樹脂、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物〕等を挙げることができる。高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
分散剤は、顔料に対する吸着能を有する部位を有する樹脂であることが好ましい（以下、「吸着部位」と総称する）。吸着部位としては、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種類有する１価の置換基等が挙げられる。吸着部位は、酸基であることが好ましい。なかでも、吸着部位がリン原子含有基およびカルボキシ基の少なくとも一方であることが好ましい。リン原子含有基としては、リン酸エステル基、ポリリン酸エステル基、リン酸基等が挙げられる。吸着部位の詳細については、特開２０１５−３４９６１号公報の段落番号００７３〜００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、樹脂（分散剤）は、下記式（１１１）で表される樹脂が好ましい。
上記式（１１１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ２は単結合又は２価の連結基を表す。Ａ１は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種類有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ１及びＲ２は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは８以下の正の数を表し、ｎは１〜９の整数を表し、ｍ＋ｎは３〜１０の整数を満たす。Ｐ１は１価のポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
上記式（１１１）で表される樹脂は、特開２００７−２７７５１４号公報の段落番号００３９（対応する米国特許出願公開第２０１０／０２３３５９５号明細書の段落番号００５３）の記載、特開２０１５−３４９６１号公報の段落番号００８１〜０１１７の記載、特許第５９０９４６８号公報、特許第５８９４９４３号公報、および特許第５８９４９４４号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、樹脂（分散剤）は、下記式（１１）〜式（１４）のいずれかで表される繰り返し単位を含むグラフト共重合体を用いることもできる。
式（１１）〜式（１４）において、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、及びＷ４はそれぞれ独立に酸素原子、または、ＮＨを表し、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、及びＸ５はそれぞれ独立に水素原子又は１価の基を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、及びＹ４はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、及びＺ４はそれぞれ独立に１価の基を表し、Ｒ３はアルキレン基を表し、Ｒ４は水素原子又は１価の基を表し、ｎ、ｍ、ｐ、及びｑはそれぞれ独立に１〜５００の整数を表し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に２〜８の整数を表す。式（１３）において、ｐが２〜５００のとき、複数存在するＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよく、式（１４）において、ｑが２〜５００のとき、複数存在するＸ５及びＲ４は互いに同じであっても異なっていてもよい。
上記グラフト共重合体については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００２５〜００９４の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれる。上記グラフト共重合体の具体例としては、例えば、以下の樹脂が挙げられる。また、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００７２〜００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、樹脂（分散剤）は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤も好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する繰り返し単位と、原子数４０〜１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。この樹脂は、窒素原子と、部分構造Ｘが有するｐＫａ１４以下の官能基との双方で、顔料と相互作用し、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙが立体反発基として機能することにより、良好な分散性を発揮して、組成物中において顔料を均一に分散することができる。また、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙと溶剤とが相互作用することにより、白色顔料の沈降を長期間抑制することができる。
ここで、塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はなく、樹脂がｐＫｂ１４以下の窒素原子を有する構造を含有することが好ましく、ｐＫｂ１０以下の窒素原子を有する構造を含有することがより好ましい。本発明においてｐＫｂ（塩基強度）とは、水温２５℃でのｐＫｂをいい、塩基の強さを定量的に表すための指標のひとつであり、塩基性度定数と同義である。塩基強度ｐＫｂと、酸強度ｐＫａとは、ｐＫｂ＝１４−ｐＫａの関係にある。
オリゴイミン系分散剤については、特開２０１５−３４９６１号公報の段落番号０１１８〜０１９０の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれる。オリゴイミン系分散剤の具体例としては、例えば、下記の樹脂や、特開２０１５−３４９６１号公報の段落番号０１６９〜０１９０に記載の樹脂を用いることができる。
分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３６０００、４１０００（以上、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（株）製）、ライトエステルＰ−１Ｍ、ライトエステルＰ−２Ｍ（以上、共栄社化学（株）製）などが挙げられる。また、特開２０１４−１３０３３８号公報の段落番号００４１〜０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。分散剤は、１種類単独で、あるいは２種類以上を組み合わせて用いることができる。分散剤は、上述したバインダーで説明した樹脂を用いることもできる。また、分散剤は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５以下である樹脂を用いてもよい。
分散剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、１〜８０質量％であることがパターン形状および密着性の観点から好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がさらに好ましい。下限は、１．５質量％以上が好ましく、２質量％以上がさらに好ましい。
また、分散剤の含有量は、顔料１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がさらに好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。
また、分散剤の含有量は、白色顔料１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がさらに好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。
また、分散剤の含有量は、酸化チタン１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がさらに好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。
＜＜溶剤＞＞
光散乱層形成用組成物は溶剤を含有することが好ましい。溶剤は種々の有機溶剤を用いて構成することができる。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル、ブチルジグリコールアセテート、３−メトキシブチルアセテートなどが挙げられる。また、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。これらの有機溶剤は、単独にて、あるいは混合して使用することができる。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下、１０質量ｐｐｍ以下、あるいは１質量ｐｐｍ以下とすることができる）。
本発明において、溶剤は、金属含有量が少ない溶剤を用いることが好ましい。溶剤の金属含有量は、例えば、１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルのものを用いてもよく、そのような高純度溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いた濾過を挙げることができる。濾過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、ポアサイズ１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタとしては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、または、ナイロン製のフィルタが好ましい。
溶剤には、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種類のみが含まれていてもよいし、複数種類含まれていてもよい。
溶剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の固形分濃度が２５〜７０質量％となる量が好ましく、光散乱層形成用組成物の固形分濃度が３０〜６０質量％となる量がより好ましい。
＜＜硬化性化合物＞＞
光散乱層形成用組成物は、硬化性化合物を含有することが好ましい。
硬化性化合物としては、ラジカル、酸、熱により架橋（重合および縮合を含む）可能な化合物を用いることができる。本発明で用いる硬化性化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、メチロール基を有する化合物などが挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
本発明において、硬化性化合物は、ラジカル重合性化合物が好ましい。ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物などが挙げられる。以下において、特に断りが無く重合性化合物という場合は、ラジカル重合性化合物のことを言う。
硬化性化合物の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、１〜７０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。これらの範囲であるとパターン形状、耐熱性、Ｌ＊の観点から好ましい。光散乱層形成用組成物に用いられる硬化性化合物は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
硬化性化合物として重合性化合物を用いる場合、重合性化合物の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対し、１〜７０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。光散乱層形成用組成物に用いられる重合性化合物は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、重合性化合物の含有量は、硬化性化合物の全質量に対して、１０〜１００質量％が好ましく、３０〜１００質量％がより好ましい。
（重合性化合物）
重合性化合物としては、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物が好ましく、末端エチレン性不飽和結合を有する基を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物がより好ましい。また、重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基を６個以上有する化合物であるか、エチレン性不飽和結合を有する基を３〜４個有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を３〜４個有する化合物がより好ましい。
重合性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいがモノマーが好ましい。モノマータイプの重合性化合物は、分子量が１００〜３０００であることが好ましい。上限は、２０００以下が好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２５０以上が更に好ましい。
重合性化合物は、３〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましく、３〜４官能の（メタ）アクリレート化合物であることがパターン形状の観点からさらに好ましい。この態様によれば、得られる膜の耐溶剤性や、基材との密着性、パターン形状を改善できる。また、重合性化合物は、６官能以上の（メタ）アクリレート化合物であることも好ましい。
重合性化合物の具体例としては、特開２００７−２６９７７９号公報の段落番号０２４８〜０２５１に記載されている化合物が挙げられる。
また、特開平１０−６２９８６号公報に記載の、多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に（メタ）アクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。
重合性化合物は、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）が好ましく、ペンタエリスリトールテトラアクリレートがパターン形状の観点からより好ましい。また、重合性化合物は、アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ（新中村化学工業（株）製）などを用いることも好ましい。
重合性化合物は、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、例えば、東亞合成（株）製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。
また、重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する重合性化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されない。例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、特開２０１６−００６４７５号公報の段落番号００９１〜０１０７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。市販品としては、例えばサートマー（株）製のエチレンオキシ基を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、日本化薬（株）製のペンチレンオキシ基を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ−６０、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
重合性化合物は、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載のウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載の分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類も好ましい。
重合性化合物は市販品である、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ（株）製）、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−１０ＨＡ、Ｕ−１０ＰＡ、ＵＡ−１２２Ｐ、ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社化学（株）製）、ＵＡ−９０５０、ＵＡ−９０４８（ＢＡＳＦ（株）ＵＡ製）、８ＵＨ−１００６、８ＵＨ−１０１２（大成ファインケミカル（株）製）などを用いることもできる。
また、重合性化合物としては、分子内にＳｉ原子を有する重合性化合物も好ましい態様である。分子内にＳｉ原子を有する重合性化合物の市販品としては、シロキサン結合含有の多官能アクリレートであるＥＢＥＣＲＹＬ１３６０（ダイセルオルネクス（株）製）、Ｓｉ原子含有多官能ビニル化合物であるＶＩＮＹＬＴＲＩＩＳＯＰＲＯＰＥＮＯＸＹＳＩＬＡＮＥ（アズマックス株式会社製）などが挙げられる。
これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、感度の観点では、１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合は２官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高める観点では、３官能以上の化合物が好ましく、さらに、官能数および重合性基のうち少なくとも一方が異なる化合物を併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。さらに、３官能以上の化合物であって、エチレンオキサイド鎖長の異なる重合性化合物を併用することも好ましい。この態様によれば、光散乱層形成用組成物の現像性を調節することができ、優れたパターン形成が得られる。また、光散乱層形成用組成物に含まれる他の成分（例えば、光重合開始剤、樹脂等）との相溶性および分散性のうち少なくとも一方に対しても、重合性化合物の選択および使用方法のうち少なくとも一方は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や２種類以上の併用により、相溶性などを向上することができる。
（エポキシ基を有する化合物）
光散乱層形成用組成物は、硬化性化合物としてエポキシ基を有する化合物を用いることもできる。この態様によれば、得られる膜の耐溶剤性を向上できる。エポキシ基を有する化合物としては、単官能または多官能グリシジルエーテル化合物や、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物などが挙げられる。また、脂環式エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。
エポキシ基を有する化合物としては、１分子にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられる。エポキシ基は、１分子に１〜１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。
エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であることが好ましく、１００〜４００ｇ／当量であることがより好ましく、１００〜３００ｇ／当量であることがさらに好ましい。
エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。エポキシ基を有する化合物は、脂肪族エポキシ樹脂であることが、耐溶剤性の観点から好ましい。
エポキシ基を有する化合物の市販品としては、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。また、エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもでき、これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
＜＜重合開始剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％であることが耐溶剤性、着色性の観点から好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％であり、さらに好ましくは１〜２０質量％である。組成物は、重合開始剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤または熱重合開始剤が好ましく、光重合開始剤が好ましい。熱重合開始剤としては特に制限は無く、公知の化合物を用いることができる。
（光重合開始剤）
光散乱層形成用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。特に、光散乱層形成用組成物が、重合性化合物を含む場合、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤は、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物などが挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３−アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４−１３０１７３号公報の段落００６５〜０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、光重合開始剤は、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）を用いることもできる。
α−ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α−アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
オキシム化合物としては、特開２００１−２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１６−２１０１２号公報に記載の化合物などを用いることができる。本発明において好適に用いることができるオキシム化合物としては、例えば、３−ベンゾイルオキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６−１６２）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２−２３２）、特開２０００−６６３８５号公報、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ−１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２−１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）も用いることができる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ−７３０、ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
本発明において、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２、００７０〜００７９に記載されている化合物、特許第４２２３０７１号公報の段落番号０００７〜００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。

オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００〜３００，０００であることが好ましく、２,０００〜３００，０００であることがより好ましく、５,０００〜２００，０００であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
本発明において、光重合開始剤は、２種類以上併用することも好ましい。例えば、メタノール中での３６５ｎｍの吸光係数が１．０×１０３ｍＬ／ｇｃｍ以上の光重合開始剤と、メタノール中での３６５ｎｍの吸光係数が１．０×１０２ｍＬ／ｇｃｍ以下であり、２５４ｎｍの吸光係数が１．０×１０３ｍＬ／ｇｃｍ以上の光重合開始剤とを併用することも好ましい。具体例として、α−アミノケトン化合物と、オキシム化合物との併用が挙げられる。この態様によれば、低温条件下であっても、硬化性に優れた膜を製造することができる。例えば、パターン形成工程において、現像工程前および現像工程後の２段階で光散乱層形成用組成物を露光することにより、最初の露光で光散乱層形成用組成物を適度に硬化させることができ、次の露光で光散乱層形成用組成物全体をほぼ硬化させることができる。このため、低温条件でも、光散乱層形成用組成物の硬化性を向上させることができる。
＜＜着色防止剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、着色防止剤を含有することができる。本明細書に記載の着色防止剤は酸化防止剤や重合禁止剤としても使用できる。着色防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられ、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。また、着色防止剤は、フェノール化合物が好ましく、分子量５００以上のフェノール化合物がより好ましい。
フェノール化合物としては、フェノール系着色防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。
フェノール系水酸基含有化合物類としては、特に多置換フェノール系化合物が好適に用いられる。多置換フェノール系化合物には、安定なフェノキシラジカル生成に起因する捕捉するパーオキシラジカルへの反応性から、置換位置および構造の異なる３種類（下記式（Ａ）ヒンダードタイプ、式（Ｂ）セミヒンダードタイプおよび式（Ｃ）レスヒンダードタイプ）がある。

式（Ａ）〜（Ｃ）において、Ｒは水素原子または置換基である。Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基が好ましく、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基がより好ましい。
さらに好ましい形態は、上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表される着色防止機能を発現する構造が同一分子内に複数存在する複合系着色防止剤であり、具体的には上記式（Ａ）〜（Ｃ）で表される着色防止機能を発現する構造が同一分子内に２〜４個存在する化合物が好ましい。これらの中では、式（Ｂ）セミヒンダードタイプが着色性の観点からより好ましい。
フェノール系水酸基含有化合物としては、例えばパラメトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−パラクレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物などが挙げられる。
市販品として入手できる代表例には、（Ａ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ ＢＨＴ（住友化学（株）製）、Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、１２２２（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などがある。（Ｂ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ ＢＢＭ−Ｓ（住友化学（株）製）、Ｉｒｇａｎｏｘ ２４５（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ−８０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などがある。（Ｃ）としてはアデカスタブＡＯ−３０、ＡＯ−４０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などがある。
亜リン酸エステル化合物としてはトリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物が挙げられる。
市販品として入手できる亜リン酸エステル化合物の代表例には、アデカスタブ ＰＥＰ−３６Ａ（（株）ＡＤＥＫＡ製）を挙げることができる。
チオエーテル化合物としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類、および、ペンタエリスリトールテトラ（β−アルキルチオプロピオン酸）エステル類；ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等；テトラキス［メチレン−３−（ラウリルチオ）プロピオネート］メタン、ビス（メチル−４−［３−ｎ−アルキル（Ｃ１２／Ｃ１４）チオプロピオニルオキシ］５−ｔ−ブチルフェニル）スルファイド、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ラウリル／ステアリルチオジプロピオネート、４，４’−チオビス（６−ｔ−ブチル−メタクレゾール）、２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチル−パラクレゾール）、ジステアリル−ジサルファイドが好ましい。
市販品として入手できるチオエーテル化合物の代表例には、アデカスタブ ＡＯ−４１２Ｓ（ＣＡＳ：２９５９８−７６−３、（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブ ＡＯ−５０３（ＣＡＳ：１０５９５−７２−９、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＫＥＭＩＮＯＸ ＰＬＳ（ＣＡＳ：２９５９８−７６−３、ケミプロ化成（株）製）を挙げることができる。
着色防止剤の市販品としては、上述の代表例のほかに、アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ−３３０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
また、着色防止剤としては、
５，５−ジメチル−１−ピロリンＮ−オキシド、４−メチルモルホリンＮ−オキシド、ピリジンＮ−オキシド、４−ニトロピリジンＮ−オキシド、３−ヒドロキシピリジンＮ−オキシド、ピコリン酸Ｎ−オキシド、ニコチン酸Ｎ−オキシド、及びイソニコチン酸Ｎ−オキシドなどのＮ−オキシド化合物類；
ピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、４−アセトアミド−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、４−マレイミド−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、及び４−ホスホノオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカルなどのピペリジン−１−オキシルフリーラジカル化合物類；
３−カルボキシプロキシルフリーラジカル、３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジン１−オキシルフリーラジカルなどのピロリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類；
Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩及びＮ−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩などのＮ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン類；
４−ジアゾフェニルジメチルアミンの硫酸水素塩、４−ジアゾジフェニルアミンのテトラフルオロホウ酸塩、及び３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミンのヘキサフルオロリン酸塩などのジアゾニウム化合物類；
カチオン染料；
ニトロ基含有化合物類；
ＦｅＣｌ３、ＣｕＣｌ２等の遷移金属化合物類を用いることもできる。これらの詳細については、特開２０１５−３４９６１号公報の段落０２１１〜０２２３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
着色防止剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが着色性および耐溶剤性の観点から好ましく、０．１〜１５質量％がより好ましく、０．３〜５質量％が特に好ましい。着色防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン系化合物が好ましく、下記式（Ｉ）で表される化合物がより好ましい。
式（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ１とＲ２とは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、電子求引性基を表す。Ｒ３及びＲ４は、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましく、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基がより好ましい。また、Ｒ３及びＲ４は、互いに結合して環状の電子求引性基を形成してもよい。Ｒ３およびＲ４が互いに結合して形成する環状の電子求引性基としては、例えば、２個のカルボニル基を含む６員環を挙げることができる。
式（Ｉ）で示される紫外線吸収剤の置換基の説明は、ＷＯ２００９／１２３１０９号公報の段落番号００２４〜００３３（対応する米国特許出願公開第２０１１／００３９１９５号明細書の段落番号００４０〜００５９）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。式（Ｉ）で表される化合物の好ましい具体例は、ＷＯ２００９／１２３１０９号公報の段落番号００３４〜００３７（対応する米国特許出願公開第２０１１／００３９１９５号明細書の段落番号００６０）の例示化合物（１）〜（１４）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。式（Ｉ）で示される紫外線吸収剤の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
紫外線吸収剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、０．１〜１０質量％であることがパターン形状および耐溶剤性の観点から好ましく、０．１〜７質量％であることがより好ましく、０．１〜５質量％であることが特に好ましく、０．１〜３質量％であることがより特に好ましい。また、本発明においては、紫外線吸収剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
紫外線吸収剤は、ユビナールＡ（ＢＡＳＦ社製）を用いることもできる。また、紫外線吸収剤は、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、トリアジン化合物等の紫外線吸収剤を用いることができ、具体例としては特開２０１３−６８８１４号公報に記載の化合物が挙げられる。ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
＜＜密着剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、密着剤を含有することができる。密着剤としては特に制限は無く、公知の密着剤が使用できる。密着剤としては、例えば、シランカップリング剤を挙げることができる。
本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応のうち少なくとも一方によってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用するか、もしくは結合を形成して親和性を示す基を有することが好ましい。例えば、（メタ）アクリロイル基、フェニル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。即ち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基と、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基のうち少なくとも一方と、を有する化合物が好ましい。アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。アルコキシシリル基は、同一分子内に２個以上有することが好ましく、２〜３個有することがさらに好ましい。また、シランカップリング剤は、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１８〜００３６に記載の化合物、特開２００９−２４２６０４号公報の段落番号００５６〜００６６に記載の化合物、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１１〜００３７に化合物を用いることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
密着剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜７質量％がより好ましく、１〜５質量％が特に好ましい。これらの範囲であると密着性と欠陥の観点から好ましい。また、本発明においては、組成物が含有する密着剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜連鎖移動剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、連鎖移動剤を含有することができる。連鎖移動剤としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステルや、チオール化合物などが挙げられ、チオール化合物が好ましい。チオール化合物は、分子内に２個以上（好ましくは２〜８個、より好ましくは３〜６個）のメルカプト基を有する化合物が好ましい。チオール化合物の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニルメルカプトベンゾイミダゾール、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンなどの複素環を有するチオール化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどの脂肪族系のチオール化合物などが挙げられる。また、連鎖移動剤の市販品としては、ＰＥＭＰ（ＳＣ有機化学株式会社製、チオール化合物）、サンセラー Ｍ（三新化学工業（株）製、チオール化合物）、カレンズＭＴ ＢＤ１（昭和電工（株）製、チオール化合物）などが挙げられる。また、下記構造の化合物を用いることも好ましい。
連鎖移動剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して０．２〜５．０質量％であることが好ましく、０．４〜３．０質量％であることがより好ましい。また、連鎖移動剤の含有量は、重合性化合物の１００質量部に対し、１〜４０質量部であることが好ましく、２〜２０質量部であることがより好ましい。連鎖移動剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜増感剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、光重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。増感剤としては、光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。増感剤は、３００〜４５０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が挙げられる。具体的には、特開２０１０−１０６２６８号公報の段落番号０２３１〜０２５３（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落番号０２５６〜０２７３）の説明を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
増感剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１５質量％であることがより好ましい。増感剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜共増感剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。共増感剤は、光重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは、酸素の重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。共増感剤としては、具体的には、特開２０１０−１０６２６８号公報の段落番号０２５４〜０２５７（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落番号０２７７〜０２７９）の説明を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
共増感剤の含有量は、重合成長速度と硬化速度の向上の観点から、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、１．５〜２０質量％であることが更に好ましい。共増感剤は１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、塗布適性をより向上させる観点から、各種類の界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種類の界面活性剤を使用できる。
光散乱層形成用組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布適性が向上する。このため、厚さムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００６０〜００６４（対応する国際公開ＷＯ２０１４／１７６６９号パンフレットの段落００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられ、これらを用いることができる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０および段落番号０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ−３４１、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
界面活性剤は、１種類のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の含有量は、光散乱層形成用組成物の全固形分に対して、０．００１〜２．０質量％であることが好ましく、０．００５〜１．０質量％であることがより好ましい。
＜＜その他の添加剤＞＞
光散乱層形成用組成物は、可塑剤や感脂化剤等の公知の添加剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。可塑剤の含有量は、重合性化合物と樹脂との合計量に対し１０質量％以下であることが好ましい。
なお、上述した本発明に係る光散乱層形成用組成物は、本発明の構造体以外の光散乱層形成用途に用いることもできる。例えば、この光散乱層形成用組成物を用いて、光センサ（特に、紫外線、近赤外線などの可視光以外の光の検出用の光センサ）の光路上に光拡散層を形成してもよい。光センサの光路上に光拡散層を形成することで、例えば、各波長における入射角依存を減らし、どの角度においても、入射光強度を均一化することができ、より適切なセンシング性能が得られる。特に入射光の種類が多いマルチスペクトル光センサに好適に用いられる。
また、この光散乱層形成用組成物を用いて発光素子上に光拡散層を形成してもよい。発光素子上に光拡散層を形成することで、例えば、光源を強度の揃った面光源にすることが可能になり、面に対して情報入手が必要な認証等の用途に用いるセンサ光源として好適である。
本発明に関する光散乱層形成用組成物を、上記用途に使う場合は、散乱させたい波長に応じて光散乱層形成用組成物中の顔料粒子径などを適時調整することが望ましい。
＜着色層形成用組成物＞
次に、本発明の構造体における着色層の形成に好ましく用いることができる組成物（着色層形成用組成物）について説明する。着色層形成用組成物は、有彩色着色剤を含むことが好ましい。有彩色着色剤としては、顔料であってもよく、染料であってもよい。有彩色着色剤の詳細については、上述したものが挙げられる。有彩色着色剤の含有量は、着色層形成用組成物の全固形分に対して０．１〜７０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
着色層形成用組成物は、更に、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、着色防止剤、密着剤、連鎖移動剤、増感剤、共増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した光散乱層形成用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても光散乱層形成用組成物における含有量と同様である。
＜透明層形成用組成物＞
次に、本発明の構造体における透明層の形成に好ましく用いることができる組成物（透明層形成用組成物）について説明する。透明層形成用組成物は、樹脂を含有することが好ましい。樹脂としては、上述した光散乱層形成用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、樹脂の好ましい含有量についても光散乱層形成用組成物における含有量と同様である。透明層形成用組成物は、更に、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳから選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物の粒子（無機粒子ともいう）を含有することもできる。前述の無機粒子を含有する場合、無機粒子の含有量は、透明層形成用組成物の全固形分に対して、２０〜７０質量％であることが好ましい。下限は、２５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。上限は、６５質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。透明層形成用組成物は、更に、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、着色防止剤、密着剤、連鎖移動剤、増感剤、共増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した光散乱層形成用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても光散乱層形成用組成物における含有量と同様である。
＜近赤外線透過層形成用組成物＞
次に、本発明の構造体における近赤外線透過層の形成に好ましく用いることができる近赤外線透過層形成用組成物について説明する。近赤外線透過層形成用組成物は、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎと、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘとの比であるＡｍｉｎ／Ｂｍａｘが５以上であることが好ましく、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。
近赤外線透過層形成用組成物において、上記吸光度の条件は、例えば、後述する遮光材の種類およびその含有量を調整することにより、上記吸光度の条件を好適に達成できる。
ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（１）により定義される。
Ａλ＝−ｌｏｇ（Ｔλ／１００） ・・・（１）
Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。
本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように組成物を塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１２０秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。膜の厚さは、膜を有する基板について、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製 ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定することができる。
また、吸光度は、従来公知の分光光度計を用いて測定できる。吸光度の測定条件は特に限定はなく、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａが、０．１〜３．０になるように調整した条件で、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂを測定することが好ましい。このような条件で吸光度を測定することで、測定誤差をより小さくできる。波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａが、０．１〜３．０になるように調整する方法としては、特に限定はない。例えば、組成物の状態で吸光度を測定する場合は、試料セルの光路長を調整する方法が挙げられる。また、膜の状態で吸光度を測定する場合は、膜厚を調整する方法などが挙げられる。
近赤外線透過層形成用組成物は遮光材を含有することが好ましい。遮光材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、遮光材は、波長４００〜６４０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、遮光材は、波長１１００〜１３００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。遮光材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（２）：有機系黒色着色剤を含む。（２）の態様において、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。
遮光材は、例えば、波長４００〜６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長１１００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ｂとの比であるＡ／Ｂが４．５以上であることが好ましい。上記の特性は、１種類の素材で満たしていてもよく、複数の素材の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記（１）の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。また、上記（２）の態様の場合、有機系黒色着色剤が上記分光特性を満たしていてもよい。また、有機系黒色着色剤と有彩色着色剤との組み合わせで上記の分光特性を満たしていてもよい。
遮光材は、赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる２種以上を含むことが好ましい。すなわち、遮光材は、赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる２種類以上の着色剤の組み合わせで黒色を形成していることが好ましい。好ましい組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１）赤色着色剤と青色着色剤とを含有する態様。
（２）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤とを含有する態様。
（３）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
（４）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（５）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（６）赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
（７）黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
上記（１）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤との質量比は、赤色着色剤：青色着色剤＝２０〜８０：２０〜８０であることが好ましく、２０〜６０：４０〜８０であることがより好ましく、２０〜５０：５０〜８０であることが更に好ましい。
上記（２）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：１０〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：１０〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：１０〜２０であることが更に好ましい。
上記（３）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤との質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤：紫色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：５〜４０：５〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：５〜３０：５〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：５〜２０：５〜２０であることが更に好ましい。
上記（４）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤：紫色着色剤：緑色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：５〜４０：５〜４０：５〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：５〜３０：５〜３０：５〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：５〜２０：５〜２０：５〜２０であることが更に好ましい。
上記（５）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：黄色着色剤：緑色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：５〜４０：５〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：５〜３０：５〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：５〜２０：５〜２０であることが更に好ましい。
上記（６）の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤：青色着色剤：緑色着色剤＝１０〜８０：２０〜８０：１０〜４０であることが好ましく、１０〜６０：３０〜８０：１０〜３０であることがより好ましく、１０〜４０：４０〜８０：１０〜２０であることが更に好ましい。
上記（７）の態様において、黄色着色剤と紫色着色剤の質量比は、黄色着色剤：紫色着色剤＝１０〜５０：４０〜８０であることが好ましく、２０〜４０：５０〜７０であることがより好ましく、３０〜４０：６０〜７０であることが更に好ましい。
黄色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９，１５０，１８５が好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９，１５０がより好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９が更に好ましい。青色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６が好ましい。紫色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３が好ましい。赤色着色剤としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １２２，１７７，２２４，２５４が好ましく、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １２２，１７７，２５４がより好ましく、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４が更に好ましい。緑色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，３６，５８，５９が好ましい。
本発明において、遮光材として有機系黒色着色剤を用いる場合、有彩色着色剤と組み合わせて使用することが好ましい。有機系黒色着色剤と有彩色着色剤とを併用することで、優れた分光特性が得られ易い。有機系黒色着色剤と組み合わせて用いる有彩色着色剤としては、例えば、赤色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤などが挙げられ、赤色着色剤および青色着色剤が好ましい。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、有彩色着色剤と有機系黒色着色剤との混合割合は、有機系黒色着色剤１００質量部に対して、有彩色着色剤が１０〜２００質量部が好ましく、１５〜１５０質量部がより好ましい。
本発明において、遮光材における顔料の含有量は、遮光材の全量に対して９５質量％以上であることが好ましく、９７質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが更に好ましい。
近赤外線透過層形成用組成物において、遮光材の含有量は、近赤外線透過層形成用組成物の全固形分に対して５〜５０質量％であることが好ましい。下限は、９質量％以上が好ましく、１３質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
近赤外線透過層形成用組成物は、更に、近赤外線吸収剤を含有することもできる。近赤外線透過層形成用組成物において、近赤外線吸収剤は透過する光（近赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。近赤外線吸収剤としては、上述した近赤外線カット層にて説明した近赤外線吸収剤が挙げられ、好ましい範囲も同様である。赤外線透過層形成用組成物が近赤外線吸収剤を含有する場合、近赤外線吸収剤の含有量は、近赤外線透過層形成用組成物の全固形分に対して１〜３０質量％であることが好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。また、近赤外線吸収剤と遮光材との合計量は、近赤外線透過層形成用組成物の全固形分の１０〜７０質量％であることが好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましく、２５質量％以上がより好ましい。また、近赤外線吸収剤と遮光材との合計量中における、近赤外線吸収剤の含有量は、５〜４０質量％であることが好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。
近赤外線透過層形成用組成物は、更に、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、着色防止剤、密着剤、連鎖移動剤、増感剤、共増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した光散乱層形成用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても光散乱層形成用組成物における含有量と同様である。
＜近赤外線カット層形成用組成物＞
次に、本発明の構造体における近赤外線吸収剤を含む層で構成された近赤外線カット層の形成に好ましく用いることができる組成物（近赤外線カット層形成用組成物）について説明する。近赤外線カット層形成用組成物は、近赤外線吸収剤を含有する。近赤外線吸収剤としては、波長７００〜１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物などが挙げられる。近赤外線吸収剤の詳細については上述した材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。近赤外線吸収剤の含有量は、近赤外線吸収剤の種類に応じて適宜調整することができる。例えば、近赤外線カット層形成用組成物の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。また、例えば、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物の場合、近赤外線カット層形成用組成物の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。また、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物、スクアリリウム化合物などの有機色素の場合、近赤外線カット層形成用組成物の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。また、銅錯体の場合、近赤外線カット層形成用組成物の全固形分に対して１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。
近赤外線カット層形成用組成物は、更に、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、着色防止剤、密着剤、連鎖移動剤、増感剤、共増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した光散乱層形成用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても光散乱層形成用組成物における含有量と同様である。
＜紫外線カット層形成用組成物＞
次に、紫外線カット層の形成に好ましく用いることができる紫外線カット層形成用組成物について説明する。紫外線カット層形成用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。紫外線吸収剤としては、上述した材料が挙げられる。紫外線吸収剤の含有量は、紫外線カット層形成用組成物の全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。
紫外線カット層形成用組成物は、更に、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、着色防止剤、密着剤、連鎖移動剤、増感剤、共増感剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した光散乱層形成用組成物に用いられる前述の材料が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、これらの材料の好ましい含有量についても光散乱層形成用組成物における含有量と同様である。
＜組成物の収容容器＞
上述した各組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５−１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜組成物の調製方法＞
上述した各組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
＜構造体の製造方法＞
本発明の構造体は、第１の光学フィルタ層を形成する工程と、第２の光学フィルタ層を形成する工程と、光散乱層を形成する工程とを経て製造できる。各層の形成順序は特に限定は無い。例えば、第１の光学フィルタ層、第２の光学フィルタ層、光散乱層の順に各層を形成する態様、第２の光学フィルタ層、第１の光学フィルタ層、光散乱層の順に各層を形成する態様、光散乱層、第１の光学フィルタ層、第２の光学フィルタ層の順に各層を形成する態様、光散乱層、第２の光学フィルタ層、第１の光学フィルタ層の順に各層を形成する態様などが挙げられる。なかでも、塗布適性および加工適性の観点から、第１の光学フィルタ層、第２の光学フィルタ層、光散乱層の順に各層を形成する態様が好ましい。また、第１の光学フィルタ層と第２の光学フィルタ層は同時に形成してもよい。また、更に、近赤外線カット層を形成する工程を含んでいてもよい。
本発明の構造体における各層は、各層を形成する組成物を支持体などに適用して組成物層を形成する工程と、組成物層を乾燥する工程などを経て製造することができる。さらにパターンを形成する工程を有していてもよい。
組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種類の印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットを用いた適用方法としては、例えば「広がる・使えるインクジェット−特許に見る無限の可能性−、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５ページ〜１３３ページ）や、特開２００３−２６２７１６号公報、特開２００３−１８５８３１号公報、特開２００３−２６１８２７号公報、特開２０１２−１２６８３０号公報、特開２００６−１６９３２５号公報などに記載された方法が挙げられる。
組成物層を乾燥する工程において、乾燥条件は、各成分の種類や配合量等によって変化させることが好ましい。乾燥条件は、例えば、６０〜１５０℃の温度、３０秒間〜１５分間が好ましい。
乾燥後の組成物層に対し、必要に応じてさらにパターンを形成する工程を行ってもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法やドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法としては、組成物層をパターン形状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程とを含む方法などが挙げられる。また、ドライエッチング法によるパターン形成方法としては、組成物層を硬化して硬化物層を形成する工程と、硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程と、露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、レジストパターンをエッチングマスクとして硬化物層をドライエッチングしてパターンを形成する工程とを含むことが好ましい。
フォトリソグラフィ法でパターン形成をする場合、次に、組成物層をパターン形状に露光する。例えば、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して組成物層に対して露光することで、組成物層をパターン形状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく（特に好ましくはｉ線）用いられる。照射量（露光量）は、例えば、０．０３〜２．５Ｊ／ｃｍ2が好ましく、０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ2がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％以下、さらには５体積％以下、特には実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％以上、さらには３０体積％以上、特には５０体積％以上）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ2〜１０００００Ｗ／ｍ2（例えば、５０００Ｗ／ｍ2以上、さらには１５０００Ｗ／ｍ2以上、特には３５０００Ｗ／ｍ2以上）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ2、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ2などとすることができる。
次に、未露光部を現像除去してパターンを形成する。未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、アルカリ現像液が望ましい。現像液として、本明細書に記載の溶剤を用いて現像してもよい。現像液の温度は、例えば、２０〜３０℃が好ましい。現像時間は、２０〜１８０秒間が好ましく、２０〜９０秒間がより好ましい。
現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液中のアルカリ剤の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤をさらに含んでいてもよい。界面活性剤の例としては、上述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられる。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されず、例えば１．５〜１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
現像後に、更に、加熱（ポストベーク）および露光のうち少なくとも一方を行ってもよい。この態様によれば、膜の硬化をさらに進行させて、より強固に硬化した膜を製造できる。ポストベークを行う場合、加熱温度は、１００〜２６０℃が好ましい。下限は１２０℃以上がより好ましく、１６０℃以上が特に好ましい。上限は２４０℃以下がより好ましく、２２０℃以下が特に好ましい。加熱温度が上記範囲であれば、強度に優れた膜が得られやすい。加熱時間は、１〜１８０分間が好ましい。下限は３分間以上がより好ましい。上限は１２０分間以下がより好ましい。加熱装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、赤外線ヒータなどが挙げられる。
ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上の組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３−０６４９９３号公報の段落番号００１０〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
＜重量平均分子量（Ｍｗ）の測定＞
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、以下の方法で測定した。
カラムの種類：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈと、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とを連結したカラム
展開溶媒：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度：０．１質量％）
装置名：東ソー（株）製 ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
検量線ベース樹脂：ポリスチレン
＜酸価の測定方法＞
酸価は、固形分１ｇあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１（質量比）混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ−５１０、京都電子工業製）を用いて、得られた溶液を、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．５×ｆ／ｗ
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
ｗ：測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）
＜アミン価の測定＞
アミン価は、固形分１ｇあたりの塩基性成分と当量の水酸化カリウム（ＫＯＨ）の質量を表したものである。測定サンプルを酢酸に溶解し、得られた溶液を、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ−５１０、京都電子工業製）を用いて、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸／酢酸溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として次式によりアミン価を算出した。
Ｂ＝５６．１１×Ｖｓ×０．１×ｆ／ｗ
Ｂ：アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸／酢酸溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸／酢酸溶液の力価
ｗ：測定サンプルの質量（ｇ）（固形分換算）
＜白色顔料の平均一次粒子径の測定＞
白色顔料の平均一次粒子径は、白色顔料を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、白色顔料の粒子が凝集していない部分（一次粒子）を観測して求めた。具体的には、白色顔料の一次粒子を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で画像処理を行って白色顔料の粒度分布を測定した。白色顔料の平均一次粒子径は、粒度分布から算出された個数基準の算術平均径をもって平均一次粒子径とした。透過型電子顕微鏡として（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ−７０００）を用い、画像処理装置として（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いた。
＜白色顔料の屈折率の測定＞
白色顔料と、屈折率が既知である樹脂（分散剤）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を用いて分散を行った。その後、作製した分散液と屈折率が既知の樹脂とを混合し、塗布液の全固形分中における白色顔料の濃度が１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％の塗布液を作製した。これらの塗布液をシリコンウエハ上に３００ｎｍで製膜した後、得られた膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ−３３００（商品名）、大日本スクリーン製造（株））を用いて測定した。その後、白色顔料の濃度と屈折率をグラフ上にプロットして白色顔料の屈折率を導出した。
＜光散乱層形成用組成物＞
（分散液の製造）
下記の表に記載の原料を含む混合液に対し、循環型分散装置（ビーズミル）として、寿工業（株）製ウルトラアペックスミルを用いて、以下の条件で分散処理を行い、分散液を製造した。分散開始後、３０分間隔で、粒子の平均粒子径の測定を行った。粒子の平均粒子径は分散時間とともに減少していったが、次第にその変化量が少なくなっていった。粒度分布におけるｄ５０（積算値５０％）の変化量がなくなった時点で分散を終了した。
ビーズ径：直径０．２ｍｍ
ビーズ充填率：６５体積％
周速：６ｍ／秒
ポンプ供給量：１０．８ｋｇ／時
冷却水：水道水
ビーズミル環状通路内容積：０．１５Ｌ
分散処理する混合液量：０．６５ｋｇ
（白色顔料）
白色顔料として以下の白色顔料を用いた。
（分散剤）
Ｈ−１：Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３６０００ Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（株）製
Ｈ−２：Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ４１０００ Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（株）製
Ｈ−３：下記構造の樹脂（酸価＝３２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１５０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。側鎖の繰り返し部位に併記される数値は、繰り返し部位の繰り返し数を示す。
Ｈ−４：下記構造の樹脂（酸価＝３２ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価＝４５ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１５０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。側鎖の繰り返し部位に併記される数値は、繰り返し部位の繰り返し数を示す。波線結合は、シス／トランスの混合を表す。
Ｈ−５：ライトエステルＰ−１Ｍ、共栄社化学（株）製
Ｈ−６：ライトエステルＰ−２Ｍ、共栄社化学（株）製
（溶剤）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＢＤＧＡＣ：ブチルジグリコールアセテート
（光散乱層形成用組成物の調製）
下記表に記載の原料を混合して、光散乱層形成用組成物を調製した。
上記表に記載の原料は以下のとおりである。
（分散液）
分散液１〜３４：上記分散液１〜３４。
（アルカリ可溶性樹脂）
Ｃ−１：下記構造の樹脂（酸価１１３ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝３３０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。
Ｃ−２：下記構造の樹脂（酸価３２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１４０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。

（重合性化合物）
Ｄ−１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
Ｄ−２：ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製）
（光重合開始剤）
Ｅ−１：下記化合物

Ｅ−２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９（ＢＡＳＦ社製）
Ｅ−３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
Ｅ−４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９（ＢＡＳＦ社製）
（溶剤）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（着色防止剤）
Ｆ−１：アデカスタブ ＰＥＰ−３６Ａ（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
Ｆ−２：アデカスタブ ＡＯ−５０（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
Ｆ−３：アデカスタブ ＡＯ−８０（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
Ｆ−４：アデカスタブ ＡＯ−４１２Ｓ（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）

（エポキシ基を有する化合物）
Ｇ−１：ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）
Ｇ−２：ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ（株）製）
（紫外線吸収剤）
Ｊ−１：下記構造の化合物
（密着剤）
Ｉ−１：下記構造の化合物
（連鎖移動剤）
Ｋ−１：下記構造の化合物
＜近赤外線カット層形成用組成物＞
以下に示す原料を混合して、組成物Ａ〜Ｆを調製した。なお、下記ＹＭＳ−０１Ａ−２、銅錯体（Ｃｕ−１）、銅錯体（Ｃｕ−２）、ピロロピロール化合物（ｐｐ−１）、ピロロピロール化合物（ｐｐ−２）、ジイモニウム化合物（ｉｍ−１）、および、スクアリリウム化合物（ｓｑ−１）は、いずれも波長８００〜１５００ｎｍに極大吸収波長を有する。
（組成物Ａ）
ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：１．１質量部
樹脂（Ｉ）の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液：３９．５質量部
ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製）：６．８質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９（ＢＡＳＦ社製）：１．６質量部
ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）：０．６質量部
紫外線吸収剤（上記（Ｊ−１））：０．４質量部
界面活性剤（下記ポリマー（Ｍｗ＝１４，０００、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。）の０．２質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．１質量部

ＹＭＳ−０１Ａ−２（セシウム酸化タングステン分散液、住友金属鉱山（株）製）：４９．９質量部
（組成物Ｂ）
銅錯体（Ｃｕ−１）：３．３質量部
銅錯体（Ｃｕ−２）：９．８質量部
樹脂（ＩＩ）：３１質量部
ＫＢＭ−３０６６（信越シリコーン製） ：３．４質量部
アセチルアセトン酸アルミニウム（シグマ−アルドリッチ製）：０．０１質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）：２．５質量部
シクロペンタノン：５０質量部
（組成物Ｃ）
シクロヘキサノン：６４．８質量部
樹脂（Ｉ）の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液：２２．６質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ （日本化薬（株）製）：１．７質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）：１．９質量部
メガファックＲＳ−７２Ｋ（ＤＩＣ（株）製）：６．６質量部
ピロロピロール化合物（ｐｐ−１）：２．４質量部
（組成物Ｄ）
シクロヘキサノン：６４．８質量部
樹脂（Ｉ）の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液：２２．６質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）：１．７質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）：１．９質量部
メガファックＲＳ−７２Ｋ（ＤＩＣ（株）製）：６．６質量部
ピロロピロール化合物（ｐｐ−２）：２．４質量部
（組成物Ｅ）
シクロヘキサノン：６４．８質量部
樹脂（Ｉ）の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液：２２．６質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）：１．７質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）：１．９質量部
メガファックＲＳ−７２Ｋ（ＤＩＣ（株）製）：６．６質量部
ジイモニウム化合物（ｉｍ−１）：２．４質量部
（組成物Ｆ）
シクロヘキサノン：６８．７質量部
樹脂（Ｉ）の４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液：１６．１質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）：１．７ 質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）：１．９質量部
メガファックＲＳ−７２Ｋ（ＤＩＣ（株）製）：６．６質量部
スクアリリウム化合物（ｓｑ−１）：５質量部
樹脂（Ｉ）：下記構造の樹脂（酸価＝７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。

樹脂（ＩＩ）：下記構造の樹脂（Ｍｗ＝１６０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。

銅錯体（Ｃｕ−１）、銅錯体（Ｃｕ−２）、ピロロピロール化合物（ｐｐ−１）、ピロロピロール化合物（ｐｐ−２）、ジイモニウム化合物（ｉｍ−１）、スクアリリウム化合物（ｓｑ−１）：下記化合物
以下の原料を混合して、各組成物を調製した。
＜緑色着色層形成用組成物（Ｇｒｅｅｎ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：２５．４９質量部
樹脂１ ：０．２質量部
重合性化合物１ ：０．９質量部
重合性化合物２ ：０．３質量部
光重合開始剤１ ：０．７質量部
紫外線吸収剤１ ：０．４質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
Ｇｒｅｅｎ分散液 ：７２質量部
＜赤色着色層形成用組成物（Ｒｅｄ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：４７．２９質量部
樹脂１ ：０．６質量部
重合性化合物３ ：０．７質量部
光重合開始剤１ ：０．４質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
Ｒｅｄ分散液 ：５１質量部
＜青色着色層形成用組成物（Ｂｌｕｅ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：５１．１９質量部
樹脂１ ：０．８質量部
重合性化合物１ ：１．４質量部
重合性化合物３ ：０．７質量部
光重合開始剤１ ：０．９質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
Ｂｌｕｅ分散液 ：４５質量部
＜シアン色着色層形成用組成物（Ｃｙａｎ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：５８．８８質量部
樹脂２ ：５．６質量部
重合性化合物４ ：７．５質量部
光重合開始剤１ ：１．２質量部
紫外線吸収剤１ ：０．３質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
界面活性剤２ ：０．０１質量部
Ｃｙａｎ分散液 ：２６．５質量部
＜マゼンタ色着色層形成用組成物（Ｍａｇｅｎｔａ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：８０．９９質量部
樹脂１ ：７質量部
重合性化合物４ ：８．４質量部
光重合開始剤１ ：２．３質量部
紫外線吸収剤１ ：１．３質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
Ｍａｇｅｎｔａ分散液 ：２１質量部
＜イエロー着色層形成用組成物（Ｙｅｌｌｏｗ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：４５．６９質量部
樹脂２ ：５．６質量部
重合性化合物４ ：６．９質量部
光重合開始剤１ ：１．１質量部
紫外線吸収剤１ ：１質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
界面活性剤２ ：０．７質量部
Ｙｅｌｌｏｗ分散液 ：３９質量部
＜近赤外線透過層形成用組成物（ＩＲ−Ｐａｓｓ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：１４．７９質量部
樹脂２ ：１．３質量部
重合性化合物４ ：１．９質量部
光重合開始剤１ ：１質量部
界面活性剤１ ：０．０１
Ｒｅｄ分散液 ：４４質量部
Ｂｌｕｅ分散液 ：３７質量部
＜透明層形成用組成物（Ｃｌｅａｒ組成物）＞
ＰＧＭＥＡ ：７５．８９質量部
樹脂１：８．３質量部
重合性化合物５ ：１２．５質量部
光重合開始剤１ ：１．３質量部
紫外線吸収剤１ ：２質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
＜オーバコート層形成用組成物＞
ＰＧＭＥＡ ：８７．９９質量部
樹脂３ ：１２質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
＜下地層形成用組成物の調製＞
ＰＧＭＥＡ ：８７．９９質量部
樹脂３ ：１２質量部
界面活性剤１ ：０．０１質量部
上記組成物に用いた原料は以下の通りである。
Ｇｒｅｅｎ分散液、Ｒｅｄ分散液、Ｂｌｕｅ分散液、Ｍａｇｅｎｔａ分散液、Ｃｙａｎ分散液、Ｙｅｌｌｏｗ分散液：以下に記載の原料をそれぞれ下記の表の分散液の欄に記載の質量部で混合し、更に直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して製造した分散液を用いた。
（Ｇｒｅｅｎ分散液）
ＰＧＭＥＡ ：８３質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ３６ ：８質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０ ：５．５質量部
樹脂４ ：３質量部
樹脂１ ：０．５質量部
（Ｒｅｄ分散液）
ＰＧＭＥＡ ：７７．７質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４ ：８．５質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９ ：３．８質量部
顔料誘導体１ ：２質量部
樹脂５ ：６質量部
樹脂１ ：２質量部
（Ｂｌｕｅ分散液）
ＰＧＭＥＡ ：８２．７質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６ ：１１質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３ ：３質量部
樹脂６ ：２質量部
樹脂１ ：１．３質量部
（Ｃｙａｎ分散液）
ＰＧＭＥＡ ：７７．６質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７ ：１４質量部
顔料誘導体１ ：１．４質量部
樹脂４ ：７質量部
（Ｍａｇｅｎｔａ分散液）
ＰＧＭＥＡ ：６９．６質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７ ：１９質量部
顔料誘導体１ ：１．９質量部
樹脂５ ：９．５質量部
（Ｙｅｌｌｏｗ分散液）
ＰＧＭＥＡ ：７４．４質量部
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０ ：１６質量部
顔料誘導体１ ：１．６質量部
樹脂５ ：８質量部
樹脂１：下記構造の樹脂（酸価＝３２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。

樹脂２：下記構造の樹脂（酸価＝１１２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝３００００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。

樹脂３：サイクロマーＰ（ダイセル・オルネクス製）
樹脂４：下記構造の樹脂（酸価＝３６ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝２１０００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。側鎖の繰り返し部位に併記される数値は、繰り返し部位の繰り返し数を示す。

樹脂５：下記構造の樹脂（酸価＝７７ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝２００００）。各繰り返し単位に併記した数値は、各繰り返し単位のモル比を表す。側鎖の繰り返し部位に併記される数値は、繰り返し部位の繰り返し数を示す。

樹脂６：Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３６０００ Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（株）製
顔料誘導体１：下記構造の化合物

重合性化合物１：アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製）
重合性化合物２：ＮＫオリゴＵＡ−７２００（新中村化学工業（株）製）
重合性化合物３：ＮＫエステル Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ（新中村化学工業（株）製）
重合性化合物４：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
重合性化合物５：アロニックスＭ−５１０（東亞合成（株）製）
光重合開始剤１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）
紫外線吸収剤１：上述した紫外線吸収剤（Ｊ−１）
界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４，０００、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。）

界面活性剤２： パイオニンＤ６３１５（竹本油脂（株）製）
＜構造体の製造＞
シリコンウエハ上に、下地層形成用組成物を、乾燥後の膜厚が０．１μｍとなるようにスピンコータを用いて塗布し、２３０℃で１０分加熱して下地層を形成した。下地層を形成したシリコンウエハ上に各組成物を用いて第１の光学フィルタ層、第２の光学フィルタ層、光散乱層および近赤外線カット層を形成して構造体を製造した。なお、光散乱層は、組成物１−１を用いて、フォトリソグラフィ法により厚さ９μｍの光散乱層を形成した。また、実施例２１〜４４、４６、４７において、近赤外線カット層は組成物Ａを用い、フォトリソグラフィ法により厚さ１．５μｍの近赤外線カット層を形成した。また、フィルタ層２１〜２６、２１ａ〜２６ａ、２１ｂ〜２６ｂは、下記表に記載の組成物を用いてフォトリソグラフィ法により形成した。このうち、Ｇｒｅｅｎ組成物を用いて形成したフィルタ層（緑色着色層）は、膜厚が０．８μｍであった。また、Ｒｅｄ組成物を用いて形成したフィルタ層（赤色着色層）の膜厚は０．８μｍであった。また、Ｂｌｕｅ組成物を用いて形成したフィルタ層（青色着色層）の膜厚は０．８μｍであった。また、Ｙｅｌｌｏｗ組成物を用いて形成したフィルタ層（イエロー色着色層）の膜厚は０．８μｍであった。また、Ｍａｇｅｎｔａ組成物を用いて形成したフィルタ層（マゼンタ色着色層）の膜厚は０．８μｍであった。また、Ｃｙａｎ組成物を用いて形成したフィルタ層（シアン色着色層）の膜厚は０．８μｍであった。また、Ｃｌｅａｒ組成物を用いて形成したフィルタ層（透明層）の膜厚は０．８μｍであった。また、ＩＲ−Ｐａｓｓ組成物を用いて形成したフィルタ層（近赤外線透過層）の膜厚は０．８μｍであった。組成物Ａを用いて形成したフィルタ層（近赤外線カット層）の膜厚は１．５μｍであった。また、各フィルタ層（２１〜２６、２１ａ〜２６ａ、２１ｂ〜２６ｂ）の画素サイズは、１．４μｍ四方であった。


実施例の構造体を公知の方法に従い光センサに組み込んだところ、第１の光学フィルタ層が設けられた領域は、第２の光学フィルタ層が設けられた領域よりも入射角範囲が広いセンサ部として機能させることができた。また、第１の光学フィルタ層が設けられた領域は、例えば環境光センサとして好適に用いることができ、周囲の明るさなどを感度よく検出できた。また、第２の光学フィルタ層が設けられた領域については、可視光や近赤外線を利用したセンシングやイメージングを好適に行うことができた。また、各実施例において、シリコンウエハ上に下地層を形成しなかった場合においても各実施例と同様の良好な効果が得られた。また、各実施例において、構造体の表面にオーバコート層形成用組成物を用いてオーバコート層を形成した場合であっても、各実施例と同様の良好な効果が得られた。各実施例において、光散乱層として、組成物１−１のかわりに、組成物１−２〜１−４１のいずれかの組成物を用いて形成した場合であっても、各実施例と同様の効果が得られた。また、実施例２１〜４４、４６、４７において、近赤外線カット層として、組成物Ａのかわりに、組成物Ｂ〜Ｆのいずれかの組成物を用いて形成した場合であっても、各実施例と同様の効果が得られた。また、実施例４８〜５６において、組成物Ａのかわりに、組成物Ｂ〜Ｆのいずれかの組成物を用いて近赤外線カット層を形成した場合であっても、各実施例と同様の効果が得られた。
なお、組成物１−１〜１−４１を用いて形成した各光散乱層は、いずれもＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−２０〜２０、ｂ＊の値が−４０〜３０であった。
１０：支持体
２１〜２６、２１ａ〜２６ａ、２１ｂ〜２６ｂ：フィルタ層
５０：光散乱層
６０：近赤外線カット層
８０：レンズ
１０１〜１１７：構造体

Claims (21)

  1. 支持体と、
    前記支持体上に設けられた第１の光学フィルタ層と、
    前記第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた白色顔料を含む光散乱層と、
    前記支持体上であって、前記第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に設けられた第２の光学フィルタ層と、
    前記第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた、波長８００〜１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物を含み、かつ、波長８００〜１５００ｎｍの範囲の光の少なくとも一部をカットする近赤外線カット層とを有し、
    前記第２の光学フィルタ層の光路上には、前記光散乱層が設けられていない構造体。
  2. 支持体と、
    前記支持体上に設けられた第１の光学フィルタ層と、
    前記第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた光散乱層と、
    前記支持体上であって、前記第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に設けられた第２の光学フィルタ層と、
    前記第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた、波長８００〜１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物を含み、かつ、波長８００〜１５００ｎｍの範囲の光の少なくとも一部をカットする近赤外線カット層とを有し、
    前記光散乱層は、前記第１の光学フィルタ層への光入射側に設けられており、
    前記第２の光学フィルタ層の光路上には、前記光散乱層が設けられていない構造体。
  3. 前記第１の光学フィルタ層および前記第２の光学フィルタ層は、それぞれ独立して、着色層、透明層、紫外線カット層、近赤外線カット層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１または２に記載の構造体。
  4. 前記第２の光学フィルタ層は、着色層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の構造体。
  5. 前記第１の光学フィルタ層は、着色層、透明層および近赤外線カット層から選ばれる少なくとも１種を含み、
    前記第２の光学フィルタ層は、着色層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１または２に記載の構造体。
  6. 前記第１の光学フィルタ層は、近赤外線カット層を含み、
    前記第２の光学フィルタ層は、着色層を含む、請求項１または２に記載の構造体。
  7. 前記着色層は、緑色着色層、赤色着色層、青色着色層、シアン色着色層、マゼンタ色着色層およびイエロー色着色層から選ばれる着色層である、請求項３〜６のいずれか１項に記載の構造体。
  8. 前記光散乱層は、ＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−２０〜２０、ｂ＊の値が−４０〜３０である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の構造体。
  9. 前記光散乱層は、ＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値が３５〜１００、ａ＊の値が−１０〜０、ｂ＊の値が−３５〜０である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の構造体。
  10. 前記光散乱層は、白色顔料を含む、請求項２に記載の構造体。
  11. 前記白色顔料は、平均一次粒子径５０〜１５０ｎｍの粒子である、請求項１または１０に記載の構造体。
  12. 前記白色顔料が酸化チタンである、請求項１、１０または１１に記載の構造体。
  13. 前記光散乱層は、平均一次粒子径５０〜１５０ｎｍの粒子を前記光散乱層の全固形分に対して３０〜６０質量％含有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の構造体。
  14. 前記近赤外線カット層は、アルカリ金属を含有するタングステン酸化物、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、ジイモニウム化合物、スクアリリウム化合物および銅錯体から選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の構造体。
  15. 前記近赤外線カット層は、ピロロピロール化合物を含有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の構造体。
  16. 前記支持体上に、前記第１の光学フィルタ層と前記第２の光学フィルタ層とが二次元配置されている、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の構造体。
  17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の構造体を含む光センサ。
  18. 支持体と、前記支持体上に設けられた第１の光学フィルタ層と、前記第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた白色顔料を含む光散乱層と、前記支持体上であって、前記第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に設けられた第２の光学フィルタ層とを有し、前記第２の光学フィルタ層の光路上には、前記光散乱層が設けられていない構造体を含む光センサ。
  19. 支持体と、前記支持体上に設けられた第１の光学フィルタ層と、前記第１の光学フィルタ層の光路上に設けられた光散乱層と、前記支持体上であって、前記第１の光学フィルタ層が設けられた領域とは異なる領域上に設けられた第２の光学フィルタ層とを有し、前記光散乱層は、前記第１の光学フィルタ層への光入射側に設けられており、前記第２の光学フィルタ層の光路上には、前記光散乱層が設けられていない構造体を含む光センサ。
  20. 前記第１の光学フィルタ層および前記第２の光学フィルタ層は、それぞれ独立して、着色層、透明層、紫外線カット層、近赤外線カット層および近赤外線透過層から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１８または１９に記載の光センサ。
  21. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の構造体の製造方法であって、
    第１の光学フィルタ層を形成する工程と、第２の光学フィルタ層を形成する工程と、光散乱層を形成する工程と、近赤外線カット層を形成する工程とを含み、
    前記光散乱層を形成する工程は、光散乱層形成用組成物を適用して組成物層を形成する工程と、前記組成物層を乾燥する工程とを含む、
    構造体の製造方法。
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