JP6747331B2 - Negative electrode active material, negative electrode and battery - Google Patents

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Description

本発明は、負極活物質材料、負極及び電池に関する。 The present invention relates to a negative electrode active material, a negative electrode and a battery.

近年、家庭用ビデオカメラ、ノートパソコン、及び、スマートフォン等の小型電子機器が普及している。これらの小型電子機器の普及に伴い、電池の高容量化及び高サイクル特性が求められている。 In recent years, small electronic devices such as home video cameras, notebook computers, and smartphones have become widespread. With the spread of these small electronic devices, higher capacity and higher cycle characteristics of batteries are required.

リチウムイオン電池に代表される二次電池には、黒鉛系の負極活物質材料が利用されている。しかしながら、黒鉛系の負極活物質材料では、高容量化、高サイクル特性化に限界がある。 A graphite-based negative electrode active material is used for a secondary battery typified by a lithium-ion battery. However, graphite-based negative electrode active material materials have limitations in achieving high capacity and high cycle characteristics.

そこで、黒鉛系負極活物質材料よりも高容量な合金系負極活物質材料が注目されている。合金系負極活物質材料としては、シリコン(Si)系負極活物質材料、スズ(Sn)系負極活物質材料、亜鉛(Zn)系負極活物質材料が知られている。よりコンパクトで長寿命なリチウムイオン電池の実用化のために、上記合金系負極活物質材料に対して様々な検討がなされている。 Therefore, an alloy-based negative electrode active material having a higher capacity than that of a graphite-based negative electrode active material has been attracting attention. Known alloy-based negative electrode active material materials include silicon (Si)-based negative electrode active material materials, tin (Sn)-based negative electrode active material materials, and zinc (Zn)-based negative electrode active material materials. In order to put a more compact and long-life lithium-ion battery into practical use, various studies have been made on the alloy-based negative electrode active material.

しかしながら、合金系負極活物質材料は、充放電時に大きな膨張及び収縮を繰り返す。そのため、合金系負極活物質材料の容量は劣化しやすい。充電に伴う黒鉛の体積膨張収縮率は、12%程度である。これに対して、充電に伴うSi単体又はSn単体の体積膨張収縮率は400%前後である。このため、Sn単体の負極板が充放電を繰り返すと、顕著な膨張収縮が起こり、負極活物質材料を含む負極板に、き裂及び割れが発生する。この場合、負極の容量が顕著に低下する。体積膨張収縮により負極活物質材料の一部が遊離して負極板が電子伝導性を失うためである。 However, the alloy-based negative electrode active material material repeats large expansion and contraction during charge and discharge. Therefore, the capacity of the alloy-based negative electrode active material tends to deteriorate. The volume expansion/contraction rate of graphite accompanying charging is about 12%. On the other hand, the volume expansion/contraction rate of Si alone or Sn alone accompanying charging is around 400%. For this reason, when the negative electrode plate of Sn alone is repeatedly charged and discharged, significant expansion and contraction occur, and cracks and cracks occur in the negative electrode plate containing the negative electrode active material. In this case, the capacity of the negative electrode is significantly reduced. This is because a part of the negative electrode active material is released by the volume expansion and contraction and the negative electrode plate loses electron conductivity.

国際公開第2014/034104号(特許文献1)は、体積当たりの容量及び充放電サイクル特性を改善可能な非水電解質二次電池用の負極活物質材料を開示する。この負極活物質材料は、合金相を含有する。合金相は、金属イオンを放出するとき、又は、金属イオンを吸蔵するときに熱弾性型無拡散変態する。特許文献1では、充放電時に発生する膨張収縮による歪みが、熱弾性型無拡散変態によって緩和されるため、高い容量維持率を示す。 International Publication No. 2014/034104 (Patent Document 1) discloses a negative electrode active material for a non-aqueous electrolyte secondary battery, which can improve the capacity per volume and charge/discharge cycle characteristics. This negative electrode active material contains an alloy phase. The alloy phase undergoes thermoelastic diffusionless transformation when releasing metal ions or when occluding metal ions. In Patent Document 1, the strain due to expansion and contraction that occurs during charge and discharge is relaxed by the thermoelastic diffusionless transformation, and thus a high capacity retention rate is exhibited.

国際公開第2014/034104号International Publication No. 2014/034104

Booth、Acta Crystallographica、B、3、1977、30Booth, Acta Crystallographica, B, 3, 1977, 30

しかしながら、特許文献1に開示された負極活物質材料を用いても、初回充放電効率が低い場合がある。 However, even if the negative electrode active material material disclosed in Patent Document 1 is used, the initial charge/discharge efficiency may be low.

本発明の目的は、初回充放電効率及び充放電サイクル特性に優れた負極活物質材料を提供することである。 An object of the present invention is to provide a negative electrode active material which is excellent in initial charge/discharge efficiency and charge/discharge cycle characteristics.

本実施形態の負極活物質材料は、at%で、Sn:10〜25%、Si:3〜15%、及び、希土類元素:0.2〜0.6%を含有し、残部はCu及び不純物からなる化学組成を有する合金粒子を含む。合金粒子は、X線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度を有する回折線である最強回折線のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れる相を含有する。合金粒子の最強回折線の半値幅は0.15〜2.5度である。 The negative electrode active material of the present embodiment contains at 10% Sn: 10 to 25%, Si: 3 to 15%, and a rare earth element: 0.2 to 0.6%, and the balance Cu and impurities. Alloy particles having a chemical composition consisting of In the X-ray diffraction profile, the alloy particles contain a phase in which the peak of the strongest diffraction line, which is the diffraction line having the maximum integrated diffraction intensity, appears in the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ. The full width at half maximum of the strongest diffraction line of the alloy particles is 0.15 to 2.5 degrees.

本実施形態による負極活物質材料は、初回充放電効率及び充放電サイクル特性に優れる。 The negative electrode active material according to the present embodiment has excellent initial charge/discharge efficiency and charge/discharge cycle characteristics.

図1は、希土類元素含有量と不可逆反応量の変化との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the rare earth element content and the change in the irreversible reaction amount. 図2は、希土類元素含有量と初回充放電効率との関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the rare earth element content and the initial charge/discharge efficiency. 図3は、Strukturbericht表記におけるD03構造の結晶格子を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a crystal lattice of the D0 3 structure in Strukturbericht notation. 図4は、本実施形態の特定合金粒子の製造装置を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an apparatus for producing specific alloy particles according to this embodiment. 図5は、図4中の破線領域の拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of a broken line area in FIG. 図6は、図4中のタンディッシュとブレード部材との位置関係を説明するための模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the positional relationship between the tundish and the blade member in FIG. 図7は、熱力学的計算によって得られたCu−Sn−Siの3元系状態図である。FIG. 7 is a ternary phase diagram of Cu—Sn—Si obtained by thermodynamic calculation. 図8は、実施例中の試験番号8の粉砕処理による合金粒子(粉砕まま合金粒子)のX線回折プロファイル(実測プロファイル)と、リートベルト法によるフィッティング結果とを示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an X-ray diffraction profile (actually measured profile) of alloy particles (alloy particles as ground) by the grinding treatment of test number 8 in Examples and a fitting result by the Rietveld method. 図9は、実施例中の試験番号8の粉砕処理による合金粒子(粉砕まま合金粒子)に対してメカニカルグラインディング処理を実施した合金粒子(MG後合金粒子)のX線回折プロファイルであり、半値幅の解析対象とする最強回折線を持つX線回折プロファイルを示す図である。FIG. 9 is an X-ray diffraction profile of alloy particles (post-MG alloy particles) obtained by mechanically grinding the alloy particles (alloy particles as crushed) by the crushing treatment of Test No. 8 in the example. It is a figure which shows the X-ray diffraction profile which has the strongest diffraction line used as the analysis object of a value range.

本発明者らは、負極活物質材料の初回充放電効率及び充放電サイクル特性を高める方法について種々検討を行った。その結果、以下の知見を得た。 The present inventors have conducted various studies on a method of improving the initial charge/discharge efficiency and charge/discharge cycle characteristics of the negative electrode active material. As a result, the following findings were obtained.

希土類元素を含有させれば、初回充放電効率を高めることができる。図1は、希土類元素含有量と不可逆反応量の変化との関係を示す図である。図2は、希土類元素含有量と初回充放電効率との関係を示す図である。図1及び図2は後述の実施例により得られた。 When the rare earth element is contained, the initial charge/discharge efficiency can be improved. FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the rare earth element content and the change in the irreversible reaction amount. FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the rare earth element content and the initial charge/discharge efficiency. 1 and 2 were obtained by the examples described below.

図1中の縦軸は、不可逆反応量の変化を示す。不可逆反応量の変化は、希土類元素を含有しない場合を0とした場合の、希土類元素を含有しない場合の不可逆反応量と各試験番号の不可逆反応量との差とした。不可逆反応量は次のとおり算出される。
不可逆反応量=1サイクル目の充電容量−1サイクル目の放電容量
図1を参照して、希土類元素の含有量が高くなるほど、不可逆反応量の変化は低下する。
The vertical axis in FIG. 1 represents the change in the irreversible reaction amount. The change in the irreversible reaction amount was defined as the difference between the irreversible reaction amount when the rare earth element was not contained and 0 when the rare earth element was not contained and the irreversible reaction amount of each test number. The amount of irreversible reaction is calculated as follows.
Irreversible reaction amount=Charge capacity at 1st cycle−Discharge capacity at 1st cycle Referring to FIG. 1, as the content of the rare earth element increases, the change in the irreversible reaction amount decreases.

図2中の縦軸は、初回充放電効率を示す。図2を参照して、希土類元素の含有量が高くなるほど、初回充放電効率が高くなる。 The vertical axis in FIG. 2 represents the initial charge/discharge efficiency. Referring to FIG. 2, the higher the content of the rare earth element, the higher the initial charge/discharge efficiency.

つまり、希土類元素を含有させれば、不可逆反応量が低下し、その結果、初回充放電効率が高まる。 That is, when the rare earth element is contained, the amount of irreversible reaction is reduced, and as a result, the initial charge/discharge efficiency is increased.

本実施形態による負極活物質材料は、at%で、Sn:10〜25%、及び、Si:3〜15%、及び希土類元素:0.2〜0.6%を含有し、残部はCu及び不純物からなる化学組成を有する合金粒子を含む。合金粒子は、X線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度を有する回折線である最強回折線のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れる相を含有する。合金粒子の最強回折線の半値幅は0.15〜2.5度である。 The negative electrode active material according to the present embodiment contains at% Sn: 10 to 25%, Si: 3 to 15%, and a rare earth element: 0.2 to 0.6%, and the balance Cu and It includes alloy particles having a chemical composition of impurities. The alloy particles contain a phase in which the peak of the strongest diffraction line, which is the diffraction line having the maximum integrated diffraction intensity, appears in the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ in the X-ray diffraction profile. The full width at half maximum of the strongest diffraction line of the alloy particles is 0.15 to 2.5 degrees.

合金粒子のX線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度を有する回折線である最強回折線(以下、単に最強回折線という)のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れる相(以下、特定合金相ともいう)に起因した最強回折線の半値幅が0.15〜2.5度であれば、結晶子径のサイズが適切である。この場合、リチウムイオンの貯蔵サイトが適切に存在し、かつ、結晶子の境界領域でリチウムイオンが安定化しにくい。その結果、優れた放電容量及び充放電サイクル特性(容量維持率)が得られる。 In the X-ray diffraction profile of the alloy particle, the peak of the strongest diffraction line (hereinafter, simply referred to as the strongest diffraction line), which is the diffraction line having the maximum diffraction integrated intensity, falls within the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ. If the half-value width of the strongest diffraction line due to the appearing phase (hereinafter, also referred to as a specific alloy phase) is 0.15 to 2.5 degrees, the size of the crystallite diameter is appropriate. In this case, lithium ion storage sites are appropriately present, and the lithium ions are difficult to stabilize in the crystallite boundary region. As a result, excellent discharge capacity and charge/discharge cycle characteristics (capacity retention rate) can be obtained.

上述のとおり、本実施形態の負極活物質材料を用いて形成された負極は、非水電解質二次電池に使用した場合、黒鉛からなる負極よりも高い体積放電容量(体積当たりの放電容量)を有する。さらに、本実施形態の負極活物質材料を含む負極を用いた非水電解質二次電池は、従来の合金系負極を用いた場合よりも、容量維持率が高い。したがって、この負極活物質材料は、非水電解質二次電池の初回充放電効率及び充放電サイクル特性を十分に向上することができる。 As described above, the negative electrode formed using the negative electrode active material of the present embodiment has a higher volume discharge capacity (discharge capacity per volume) than the negative electrode made of graphite when used in a non-aqueous electrolyte secondary battery. Have. Furthermore, the nonaqueous electrolyte secondary battery using the negative electrode containing the negative electrode active material of the present embodiment has a higher capacity retention rate than the case of using the conventional alloy-based negative electrode. Therefore, this negative electrode active material can sufficiently improve the initial charge/discharge efficiency and charge/discharge cycle characteristics of the non-aqueous electrolyte secondary battery.

以上の知見に基づいて完成した本実施形態による負極活物質材料は、at%で、Sn:10〜25%、Si:3〜15%、及び、希土類元素:0.2〜0.6%を含有し、残部はCu及び不純物からなる化学組成を有する合金粒子を含む。合金粒子は、X線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度を有する回折線である最強回折線のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れる相を含有する。合金粒子の最強回折線の半値幅は0.15〜2.5度である。 The negative electrode active material according to the present embodiment completed on the basis of the above findings contains at% Sn: 10 to 25%, Si: 3 to 15%, and a rare earth element: 0.2 to 0.6%. The balance contains alloy particles having a chemical composition of Cu and impurities. The alloy particles contain a phase in which the peak of the strongest diffraction line, which is the diffraction line having the maximum integrated diffraction intensity, appears in the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ in the X-ray diffraction profile. The full width at half maximum of the strongest diffraction line of the alloy particles is 0.15 to 2.5 degrees.

本明細書にいう「負極活物質材料」は、好ましくは、非水電解質二次電池用の負極活物質材料である。 The "negative electrode active material" referred to in the present specification is preferably a negative electrode active material for a non-aqueous electrolyte secondary battery.

上記化学組成において、希土類元素は、La、Y、及びミッシュメタルからなる群から選択される1種又は2種以上であってもよい。 In the above chemical composition, the rare earth element may be one or more selected from the group consisting of La, Y, and misch metal.

本実施形態による負極は、上述の負極活物質材料を含有する。本実施形態の電池は、上述の負極を備える。 The negative electrode according to the present embodiment contains the above-mentioned negative electrode active material. The battery of this embodiment includes the above-mentioned negative electrode.

以下、本実施形態による負極活物質材料について詳述する。 Hereinafter, the negative electrode active material according to the present embodiment will be described in detail.

[負極活物質材料]
本実施形態の負極活物質材料は、上述の合金粒子(以下、特定合金粒子という)を含む。好ましくは、特定合金粒子は、負極活物質材料の主成分(主相)である。「主成分」とは、負極活物質材料中の特定合金粒子が、体積率で50%以上であることを意味する。特定合金粒子は、本発明の主旨を損なわない範囲で不純物を含有してもよい。しかしながら、不純物はできるだけ少ない方が好ましい。
[Negative electrode active material]
The negative electrode active material of this embodiment contains the above-mentioned alloy particles (hereinafter referred to as specific alloy particles). Preferably, the specific alloy particles are the main component (main phase) of the negative electrode active material. The “main component” means that the specific alloy particles in the negative electrode active material are 50% or more in volume ratio. The specific alloy particles may contain impurities within a range that does not impair the gist of the present invention. However, it is preferable that the amount of impurities is as small as possible.

特定合金粒子の化学組成は、Sn:10〜25at%、Si:3〜15at%、及び、希土類元素:0.2〜0.6at%を含有し、残部はCu及び不純物からなる。 The chemical composition of the specific alloy particles contains Sn: 10 to 25 at %, Si: 3 to 15 at %, and a rare earth element: 0.2 to 0.6 at %, with the balance being Cu and impurities.

特定合金粒子はさらに、X線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度を有する回折線である最強回折線のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れる相(特定合金相)を含有する。合金粒子の最強回折線の半値幅は0.15〜2.5度である。特定合金相とはたとえば、Strukturbericht表記でD03構造を有する相(以下、D03相という)、及び、F−Cell構造のδ相である。 In the X-ray diffraction profile, the specific alloy particles further have a phase in which the peak of the strongest diffraction line, which is the diffraction line having the maximum integrated diffraction intensity, appears in the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ (specific alloy phase). ) Is included. The full width at half maximum of the strongest diffraction line of the alloy particles is 0.15 to 2.5 degrees. The specific alloy phase is, for example, a phase having a D0 3 structure in Strukturbericht notation (hereinafter referred to as D0 3 phase) and a δ phase having an F-Cell structure.

D03相は、リチウムイオンを放出するとき、又は、リチウムイオンを吸蔵するとき、結晶構造が変化して、D03相と異なる結晶構造の合金相(吸蔵相)となる。 The D0 3 phase changes its crystal structure when releasing lithium ions or occluding lithium ions, and becomes an alloy phase (occlusion phase) having a crystal structure different from that of the D0 3 phase.

特定合金粒子は、リチウムイオンを吸蔵前には特定合金相を含有し、リチウムイオンを吸蔵後には、特定合金相と異なる合金相(吸蔵相)を含有する。つまり、特定合金粒子は、充放電の際にリチウムイオンの吸蔵及び放出を繰り返す。そして、特定合金相のうちのD03相は、リチウムイオンの吸蔵及び放出に応じて、結晶構造を吸蔵相に変化させる。 The specific alloy particles contain a specific alloy phase before occlusion of lithium ions and an alloy phase (occlusion phase) different from the specific alloy phase after occlusion of lithium ions. That is, the specific alloy particles repeat storage and release of lithium ions during charge and discharge. Then, the D0 3 phase of the specific alloy phase changes its crystal structure to the occlusion phase according to occlusion and release of lithium ions.

このような結晶構造の変化は、リチウムイオンの吸蔵及び放出時に、特定合金粒子が膨張及び収縮して生じる歪みを緩和する。そのため、歪みの蓄積により負極活物質材料が負極の集電体から剥離するのを抑制でき、充放電サイクル特性が低下するのを抑制できる。 Such a change in crystal structure relieves the strain caused by the expansion and contraction of the specific alloy particles during the absorption and desorption of lithium ions. Therefore, it is possible to prevent the negative electrode active material material from peeling from the current collector of the negative electrode due to the accumulation of strain, and it is possible to suppress deterioration of the charge/discharge cycle characteristics.

特定合金相のうちのδ相では、リチウムイオンを吸蔵及び放出するときの結晶構造変化が小さい。この結晶構造の安定性により、充放電時の膨張及び収縮が抑えられる。そのため、従前の合金系負極活物質材料と比較して、優れた充放電サイクル特性が得られる。 In the δ phase of the specific alloy phase, the change in crystal structure when occluding and releasing lithium ions is small. Due to the stability of the crystal structure, expansion and contraction during charge/discharge can be suppressed. Therefore, superior charge-discharge cycle characteristics can be obtained as compared with the conventional alloy-based negative electrode active material.

吸蔵相の結晶構造の詳細は不明である。しかしながら、以下のとおり考えられる。特定合金粒子について、X線の線源にCu−Kα1線を使用してX線回折を実施した場合、リチウムイオンを吸蔵前の特定合金相においては、X線回折プロファイルにおいて、最強回折線のピーク(D03相の場合、hkl:220、δ相の場合、hkl:660)が42.0〜44.0度に現れる。一方、充電後のリチウムイオン吸蔵後には、最強回折線の回折プロファイルがブロードに(ピークの幅が広く)なる。放電後のリチウムイオン放出後には、最強回折線の回折プロファイルが再びシャープに(ピークの幅が狭く)なる。上記の可逆的挙動から、充放電にともなう結晶構造の変化は小さいと考えられる。 The details of the crystal structure of the occlusion phase are unknown. However, it can be considered as follows. When X-ray diffraction is performed on the specific alloy particles by using Cu-Kα1 ray as the X-ray source, the peak of the strongest diffraction line in the X-ray diffraction profile is obtained in the specific alloy phase before absorbing lithium ions. (Hkl:220 in the case of the D0 3 phase and hkl:660 in the case of the δ phase) appears at 42.0 to 44.0 degrees. On the other hand, after storage of lithium ions after charging, the diffraction profile of the strongest diffraction line becomes broad (wide peak width). After discharge of lithium ions after discharge, the diffraction profile of the strongest diffraction line becomes sharp again (narrow peak width). From the above reversible behavior, it is considered that the change in the crystal structure due to charge/discharge is small.

上述のとおり、特定合金相は、リチウムイオンの吸蔵、放出に伴う結晶構造の変化が少ない。その結果、負極活物質材料が集電体から剥離しにくく、充放電サイクル特性を維持できる。 As described above, the specific alloy phase has little change in crystal structure due to storage and release of lithium ions. As a result, the negative electrode active material is less likely to be peeled from the current collector, and the charge/discharge cycle characteristics can be maintained.

D03相は、非平衡相の1種である。D03構造は、図3に示す規則構造であり、立方晶である。図3中の白丸の原子サイトM0には、例えばSnまたはSiが配置される。黒丸の原子サイトM1には、例えばCuが配置される。黒丸の原子サイトM2には、例えばCu又はSiが配置される。このような結晶構造は、空間群の分類上、International Table(Volume−A)のNo.225(Fm−3m)となる。この空間群番号に属するD03構造の格子定数及び原子座標の一例を、表1に示す。ただし、表1に示されるサイトM0、M1及びM2に配置されるべき元素は、化学組成がCu−20at%Sn−8at%Siのときには、表1の「サイト内の原子比」欄に記載のように、M0には、Sn−20at%Si、M1にはCu、M2にはCu−12at%Siとなるよう、元素の配置は置換できる。また、表1に記される格子定数aの数値は化学組成によって変化しても良い。さらに、表1に記される各サイトの原子座標や占有率の数値も、合金の化学組成によって変化しても良い。 The D0 3 phase is one type of non-equilibrium phase. The D0 3 structure is the ordered structure shown in FIG. 3 and is cubic. Sn or Si, for example, is arranged at the atomic site M0 indicated by a white circle in FIG. For example, Cu is arranged at the atomic site M1 of the black circle. Cu or Si, for example, is arranged at the atomic site M2 of the black circle. Such a crystal structure is classified into No. of International Table (Volume-A) in terms of classification of space groups. It becomes 225 (Fm-3m). Table 1 shows an example of lattice constants and atomic coordinates of the D0 3 structure belonging to this space group number. However, when the chemical composition of the elements to be arranged at the sites M0, M1 and M2 shown in Table 1 is Cu-20at%Sn-8at%Si, it is described in the "atomic ratio in the site" column of Table 1. Thus, the element arrangement can be replaced so that M-20 is Sn-20 at% Si, M1 is Cu, and M2 is Cu-12 at% Si. The numerical value of the lattice constant a shown in Table 1 may change depending on the chemical composition. Further, the numerical values of atomic coordinates and occupancy of each site shown in Table 1 may also change depending on the chemical composition of the alloy.

Figure 0006747331
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δ相の結晶構造は、立方晶であり、Booth、Acta Crystallographica、B、3、1977、30(非特許文献1)に示されるγ−Brass相の結晶構造モデルに相当し、空間群の分類上、International Table(Volume−A)のNo.216(F−43m)となる。この空間群番号に属するδ相の結晶構造の格子定数と原子座標の一例を、表2に示す。原子座標及び結晶軸については、出典の情報に対して、原点シフト(1/2、1/2、1/2)して、標準化したものを採用した。Cu−Sn2元系のδ相の場合、DCO、CCO、ACO、BOH、COH、AOH、CIT、DOT、DIT、AIT、BOT、BIT及びCOTの各サイトにはCuが配置され、BCO、DOH及びAOTの各サイトにはSnが配置される。各サイトに配置される元素は、合金粒子の化学組成に応じて置換できる。具体的には、合金粒子の化学組成がCu−17at%Sn−5at%Siである場合、表2の「サイト内の原子比」欄に記載のように、DCO、CCO、ACO、BOH、COH、AOH、CIT、DOT、DIT、AIT、BOT、BITおよびCOTの各サイトではCu−9.5at%Snの比率、BCO、DOH及びAOTの各サイトではSn−31.2at%Siの比率となるよう、元素の配置は置換できる。表2に示される格子定数aの数値は、合金の化学組成によって変化してもよい。表2に示される各サイトの原子座標や占有率の数値も、空間群の分類を変化させない限りにおいて、合金の化学組成によって変化してもよい。 The crystal structure of the δ phase is cubic and corresponds to the crystal structure model of the γ-Brass phase shown in Booth, Acta Crystallographica, B, 3, 1977, 30 (Non-Patent Document 1), and in terms of space group classification. No. of International Table (Volume-A). It becomes 216 (F-43m). Table 2 shows an example of the lattice constants and atomic coordinates of the crystal structure of the δ phase belonging to this space group number. Regarding the atomic coordinates and crystal axes, standardized ones were adopted by shifting the origin (1/2, 1/2, 1/2) with respect to the source information. In the case of the Cu-Sn binary δ phase, Cu is arranged at each site of DCO, CCO, ACO, BOH, COH, AOH, CIT, DOT, DIT, AIT, BOT, BIT and COT, and BCO, DOH and Sn is placed at each AOT site. The elements arranged at each site can be replaced depending on the chemical composition of the alloy particles. Specifically, when the chemical composition of the alloy particles is Cu-17at%Sn-5at%Si, DCO, CCO, ACO, BOH, COH, as described in the "atomic ratio in site" column of Table 2. , AOH, CIT, DOT, DIT, AIT, BOT, BIT and COT sites have a Cu-9.5 at% Sn ratio, and BCO, DOH and AOT sites have a Sn-31.2 at% Si ratio. Thus, the arrangement of the elements can be replaced. The numerical value of the lattice constant a shown in Table 2 may change depending on the chemical composition of the alloy. Numerical values of atomic coordinates and occupancy of each site shown in Table 2 may also be changed depending on the chemical composition of the alloy as long as the classification of the space group is not changed.

Figure 0006747331
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[特定合金粒子の結晶構造の解析方法]
負極活物質材料が含有する相(特定合金粒子が含有される場合も含む)の結晶構造は、X線回折装置を用いて得られたX線回折プロファイルに基づいて、リートベルト法により解析できる。具体的には、次の方法により、結晶構造を解析する。
[Analysis method of crystal structure of specific alloy particles]
The crystal structure of the phase contained in the negative electrode active material (including the case where the specific alloy particles are contained) can be analyzed by the Rietveld method based on the X-ray diffraction profile obtained by using the X-ray diffractometer. Specifically, the crystal structure is analyzed by the following method.

(1)負極に使用される前の負極活物質材料に対しては、X線回折測定を実施して、X線回折プロファイルの実測データを得る。具体的には、MG処理前の粉砕処理による合金粒子(以下、粉砕まま合金粒子ともいう)に対して、X線回折測定を実施して得られたX線回折プロファイル(実測データ)に基づいて、リートベルト法により、負極活物質材料中の相の結晶構造を解析する。リートベルト法による解析には、汎用の解析ソフトである「RIETAN−2000」(プログラム名)及び「RIETAN−FP」(プログラム名)のいずれかを使用する。 (1) X-ray diffraction measurement is performed on the negative electrode active material before being used for the negative electrode to obtain actual measurement data of the X-ray diffraction profile. Specifically, based on an X-ray diffraction profile (actual measurement data) obtained by performing X-ray diffraction measurement on alloy particles (hereinafter, also referred to as alloy particles as they are pulverized) obtained by pulverization before MG treatment. , The Rietveld method is used to analyze the crystal structure of the phase in the negative electrode active material. For the analysis by the Rietveld method, one of general-purpose analysis software “RIETAN-2000” (program name) and “RIETAN-FP” (program name) is used.

(2)粉砕及びMG処理を実施した合金粒子(以下、MG後合金粒子ともいう)について、X線回折測定を実施して得られたX線回折プロファイル(実測データ)に基づいて、最強回折線の半値幅(以下、単に半値幅ともいう)を、後述の方法により算出する。 (2) Based on the X-ray diffraction profile (actual measurement data) obtained by performing X-ray diffraction measurement on the alloy particles subjected to pulverization and MG treatment (hereinafter, also referred to as post-MG alloy particles), the strongest diffraction line The full width at half maximum (hereinafter, also simply referred to as full width at half maximum) is calculated by the method described later.

(3)電池内の充電前の負極内の負極活物質材料の結晶構造についてX線回折測定を実施して、X線回折プロファイルの実測データを得る。具体的には、充電前の状態で、電池をアルゴン雰囲気中のグローブボックス内で分解し、電池から負極を取り出す。取り出された負極をマイラ箔に包む。その後、マイラ箔の周囲を熱圧着機で密封する。マイラ箔で密封された負極をグローブボックス外に取り出す。グローブボックス内のアルゴン雰囲気は、99.9999%以上の純度の超高純度アルゴンガスボンベより供給されたアルゴンガスを用いる。さらに触媒等による純化装置を通して、窒素など系外の不純物の混入を防止する。これにより、露点を−60℃以下になるように管理して、窒素や水分による負極活物質の変質を防止する。 (3) X-ray diffraction measurement is performed on the crystal structure of the negative electrode active material in the negative electrode before charging in the battery to obtain actual measurement data of the X-ray diffraction profile. Specifically, in a state before charging, the battery is disassembled in a glove box in an argon atmosphere, and the negative electrode is taken out from the battery. Wrap the extracted negative electrode in mylar foil. Then, the periphery of the mylar foil is sealed with a thermocompression bonding machine. The negative electrode sealed with Mylar foil is taken out of the glove box. As the argon atmosphere in the glove box, argon gas supplied from an ultra-high purity argon gas cylinder having a purity of 99.9999% or higher is used. Furthermore, the introduction of impurities such as nitrogen from outside the system is prevented through a purifying device such as a catalyst. Thereby, the dew point is controlled to be -60°C or lower, and the deterioration of the negative electrode active material due to nitrogen or water is prevented.

続いて、負極を無反射試料板(シリコン単結晶の特定結晶面が測定面に平行になるように切り出した板)にヘアスプレーで貼り付けて測定試料を作製する。測定試料をX線回折装置にセットして、測定試料のX線回折測定を行い、X線回折プロファイルを得る。得られたX線回折プロファイルに基づいて、リートベルト法により負極内の負極活物質材料の結晶構造を特定する。 Then, the negative electrode is attached to a non-reflective sample plate (a plate cut out so that a specific crystal plane of silicon single crystal is parallel to the measurement surface) with a hair spray to prepare a measurement sample. The measurement sample is set in the X-ray diffraction apparatus, and the X-ray diffraction measurement of the measurement sample is performed to obtain the X-ray diffraction profile. Based on the obtained X-ray diffraction profile, the crystal structure of the negative electrode active material in the negative electrode is specified by the Rietveld method.

(4)1〜複数回の充電後及び1〜複数回の放電後の負極内の負極活物質材料のX線回折プロファイルについても、(3)と同じ方法により測定し、充電時の負極活物質の最強回折線を特定する。充電前に最強回折線のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れ、かつ最強回折線のピークが充電前の最強回折線のピークよりもブロードになっていれば、特定合金相が、充電状態の相であることを判別できる。また、放電時の負極活物質の最強回折線のピーク位置を特定したとき、最強回折線のピークが充電前のシャープな状態に近づいていれば、特定合金相が放電状態の相に変化していることを判別できる。 (4) The X-ray diffraction profile of the negative electrode active material material in the negative electrode after charging 1 to multiple times and discharging 1 to multiple times was also measured by the same method as in (3), and the negative electrode active material during charging was measured. Specify the strongest diffraction line of. If the peak of the strongest diffraction line appears in the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ before charging and the peak of the strongest diffraction line is broader than the peak of the strongest diffraction line before charging, It can be determined that the specific alloy phase is in the charged state. Further, when the peak position of the strongest diffraction line of the negative electrode active material at the time of discharge is specified, if the peak of the strongest diffraction line is close to the sharp state before charging, the specific alloy phase changes to the discharged state phase. Can be identified.

具体的には、電池を充放電試験装置において満充電させる。満充電された電池をグローブボックス内で分解して、(3)と同様の方法で測定試料を作製する。X線回折装置に測定試料をセットして、X線回折測定を行う。 Specifically, the battery is fully charged in the charge/discharge test device. The fully charged battery is disassembled in the glove box, and a measurement sample is prepared by the same method as (3). The measurement sample is set in the X-ray diffractometer, and X-ray diffraction measurement is performed.

また、電池を完全放電させ、完全放電された電池をグローブボックス内で分解して(3)と同様の方法で測定試料を作製し、X線回折測定を行う。 Further, the battery is completely discharged, the completely discharged battery is disassembled in the glove box, a measurement sample is prepared by the same method as in (3), and X-ray diffraction measurement is performed.

充放電にともなう結晶構造変化を解析するためのX線回折測定については、次の方法によって行うこともできる。充電前又は充放電前後のコイン電池を、たとえばアルゴンなど窒素以外の不活性雰囲気中で分解し、負極の電極板に塗付されている活物質合剤(負極活物質材料)をスパチュラなどで集電体箔上から剥がす。剥がされた負極活物質材料をX線回折用サンプルホルダに充填する。不活性ガス雰囲気中で密閉することが可能な専用のアタッチメントを用いることにより、X線回折装置に装着した状態でも、不活性ガス雰囲気中でX線回折が測定可能となる。これにより、大気中の酸化作用の影響を排除しつつ、負極活物質材料の充放電前後の結晶構造の異なる状態からX線回折プロファイルを測定することができる。この方法によれば、集電体の銅箔などに由来する回折線が排除されるため、解析上、活物質由来の回折線の識別がしやすい利点がある。 The X-ray diffraction measurement for analyzing the crystal structure change associated with charge and discharge can also be performed by the following method. A coin battery before or after charging or discharging is decomposed in an inert atmosphere other than nitrogen, such as argon, and the active material mixture (negative electrode active material) applied to the negative electrode plate is collected with a spatula or the like. Peel off from the electrical foil. The peeled negative electrode active material is filled in an X-ray diffraction sample holder. By using a dedicated attachment that can be hermetically sealed in an inert gas atmosphere, X-ray diffraction can be measured in an inert gas atmosphere even when attached to an X-ray diffractometer. This makes it possible to measure the X-ray diffraction profile from a state in which the negative electrode active material material has a different crystal structure before and after charge and discharge, while eliminating the influence of the oxidizing action in the atmosphere. According to this method, since the diffraction line derived from the copper foil of the current collector is excluded, there is an advantage that the diffraction line derived from the active material can be easily identified in analysis.

[化学組成]
Sn:10〜25at%
スズ(Sn)含有量の好ましい下限は、12at%であり、さらに好ましくは、13at%である。Sn含有量の好ましい上限は23at%であり、さらに好ましくは、22at%である。
[Chemical composition]
Sn: 10 to 25 at%
A preferable lower limit of the tin (Sn) content is 12 at%, more preferably 13 at%. The preferable upper limit of the Sn content is 23 at%, more preferably 22 at%.

Si:3〜15at%
ケイ素(Si)含有量の好ましい下限は、5at%であり、さらに好ましくは、6at%である。Si含有量の好ましい上限は12at%であり、さらに好ましくは、10at%である。
Si: 3 to 15 at%
A preferred lower limit of the silicon (Si) content is 5 at%, more preferably 6 at%. The upper limit of the Si content is preferably 12 at %, and more preferably 10 at %.

希土類元素:0.2〜0.6at%
希土類元素(REM)は、初回充放電効率を高める。この理由は定かではないが、REMを含有させれば、不可逆反応量が低下し、その結果、初回充放電効率が高まると考えられる。REM含有量が0.2at%未満であれば、この効果が得られない。一方、REM含有量が0.6at%を超えれば、放電容量が低下する。したがって、REM含有量は、0.2〜0.6at%である。REM含有量の好ましい下限は0.25at%であり、さらに好ましくは、0.3at%である。REM含有量の好ましい上限は0.55at%であり、さらに好ましくは、0.5at%である。
Rare earth element: 0.2-0.6 at%
The rare earth element (REM) enhances the initial charge/discharge efficiency. The reason for this is not clear, but it is considered that if REM is contained, the amount of irreversible reaction decreases, and as a result, the initial charge/discharge efficiency increases. If the REM content is less than 0.2 at %, this effect cannot be obtained. On the other hand, if the REM content exceeds 0.6 at %, the discharge capacity will decrease. Therefore, the REM content is 0.2 to 0.6 at %. The preferable lower limit of the REM content is 0.25 at %, and more preferably 0.3 at %. The preferable upper limit of the REM content is 0.55 at %, and more preferably 0.5 at %.

本明細書において、REMとは、原子番号39番のイットリウム(Y)、ランタノイドである原子番号57番のランタン(La)〜原子番号71番のルテチウム(Lu)及び、アクチノイドである原子番号89番のアクチニウム(Ac)〜原子番号103番のローレンシウム(Lr)からなる群から選択される1種以上の元素である。REM含有量は、特定合金粒子に含有されるREMがこれらの元素のうち1種である場合、その元素の含有量を意味する。特定合金粒子に含有されるREMが2種以上である場合、REM含有量は、それらの元素の総含有量を意味する。REMについては、一般的にミッシュメタルとして含有される。このため、例えば、ミッシュメタルの形で添加して、REM含有量が上記の範囲となるように含有させてもよい。 In the present specification, REM means yttrium (Y) having an atomic number of 39, lanthanide (lanthanum having an atomic number of 57) (La) to lutetium (Lu) having an atomic number of 71, and atomic number 89 having an actinoid. Of at least one element selected from the group consisting of Actinium (Ac) to Lorencium (Lr) having an atomic number of 103. The REM content means the content of the element when the REM contained in the specific alloy particles is one of these elements. When the specific alloy particles contain two or more types of REM, the REM content means the total content of those elements. REM is generally contained as a misch metal. Therefore, for example, it may be added in the form of misch metal so that the REM content falls within the above range.

[X線回折プロファイルでの最大回折積分強度の回折線の半値幅について]
上述の負極活物質材料ではさらに、特定合金粒子のX線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度(最強回折線)を有する回折線の半値幅(以下、単に半値幅という)が、回折角2θで、0.15〜2.5度である。最強回折線を有する回折線は、主にD03相又はδ相に由来する。半値幅が0.15度よりも小さければ、放電容量と初回効率が低下する。一方、半値幅が2.5度よりも大きければ、充放電サイクル特性が低下する。半値幅が0.15〜2.5度であれば、放電容量と初回充放電効率を高めつつ、充放電サイクル特性も高めることができる。
[About full width at half maximum of diffraction line of maximum diffraction integrated intensity in X-ray diffraction profile]
Further, in the above-mentioned negative electrode active material, in the X-ray diffraction profile of the specific alloy particles, the half-value width (hereinafter, simply referred to as the half-value width) of the diffraction line having the maximum diffraction integrated intensity (strongest diffraction line) is at the diffraction angle 2θ. , 0.15 to 2.5 degrees. The diffraction line having the strongest diffraction line is mainly derived from the D0 3 phase or the δ phase. If the full width at half maximum is smaller than 0.15 degrees, the discharge capacity and the initial efficiency will decrease. On the other hand, if the full width at half maximum is greater than 2.5 degrees, the charge/discharge cycle characteristics deteriorate. When the full width at half maximum is 0.15 to 2.5 degrees, the charge and discharge cycle characteristics can be improved while increasing the discharge capacity and the initial charge and discharge efficiency.

上記理由として、次の事項が考えられる。半値幅は結晶子(単結晶とみなせる最小の領域)の平均的な大きさ(結晶子径)の指標となる。特に、粉末X線回折においては、粉末粒子を構成する個々の結晶子は、入射X線に対して回折に寄与する最小単位の領域とみなすことができる。結晶子の境界領域は、充放電の際にリチウムの拡散経路として機能する。結晶子の境界領域はさらに、リチウムの貯蔵サイトとして機能する。 The following are possible reasons for the above. The full width at half maximum is an index of the average size (crystallite diameter) of crystallites (the smallest region that can be regarded as a single crystal). In particular, in powder X-ray diffraction, the individual crystallites forming the powder particles can be regarded as the minimum unit region that contributes to the diffraction of incident X-rays. The crystallite boundary region functions as a lithium diffusion path during charge and discharge. The crystallite boundary region further functions as a storage site for lithium.

半値幅が狭すぎる場合、結晶子径が過剰に大きくなる。この場合、貯蔵サイトの数的密度が低下して、放電容量が低下する。さらに、初回効率は放電容量と正の相関を有する場合が多い。そのため、結晶子径が大きくなれば、放電容量の低下とともに、初回効率も低下する。放電容量が小さい場合には、初回の充電により一旦活物質中に取り込まれたリチウムが安定化する比率が高まり、その結果、放電時に活物質中のリチウムが取り出せなくなるためと考えられる。 If the full width at half maximum is too narrow, the crystallite size becomes excessively large. In this case, the numerical density of the storage site is reduced and the discharge capacity is reduced. In addition, the initial efficiency often has a positive correlation with the discharge capacity. Therefore, as the crystallite diameter increases, the discharge capacity decreases and the initial efficiency also decreases. It is considered that when the discharge capacity is small, the rate at which the lithium once taken in the active material is stabilized by the first charge is increased, and as a result, the lithium in the active material cannot be taken out at the time of discharging.

一方、半値幅が広すぎる場合、結晶子径が過剰に小さくなる。この場合、初期容量は大きくなるものの、充放電サイクルの進行とともに、結晶子の境界領域に安定化するリチウムの比率が高まりやすいと考えられる。これにより、充放電サイクル特性が低下すると考えられる。 On the other hand, when the half width is too wide, the crystallite size becomes excessively small. In this case, although the initial capacity is increased, it is considered that the proportion of lithium stabilized in the boundary region of the crystallite is likely to increase as the charge/discharge cycle progresses. It is considered that this reduces the charge/discharge cycle characteristics.

上述のとおり、結晶子径が小さくなるほど半値幅は広がる傾向を示す。この現象は、定量的にはシェラーの式によって評価できる。シェラーの式は次のとおりである。 As described above, as the crystallite size becomes smaller, the half width tends to widen. This phenomenon can be quantitatively evaluated by Scherrer's formula. Scherrer's formula is:

D=(K・λ)/{B・cosθ}
D:結晶子径(nm)
K:シェラー定数(無次元)
λ:X線の波長(nm)
B:材料由来の半値幅(radian)
B=Bobs-b
obs:実測された半値幅(radian)
b:X線回折装置に起因する機械的な半値幅(radian)
θ:θ−2θ法によるX線回折測定時の回折角(radian)
D=(K·λ)/{B·cos θ}
D: Crystallite diameter (nm)
K: Scherrer constant (dimensionless)
λ: wavelength of X-ray (nm)
B: Full width at half maximum (radian) derived from the material
B=B obs -b
B obs : measured half-width (radian)
b: Mechanical full width at half maximum (radian) due to the X-ray diffractometer
θ: Diffraction angle (radian) during X-ray diffraction measurement by the θ-2θ method

本明細書において、シェラー定数K=0.94を使用する。X線の波長(λ)は、Cu−Kα1にモノクロ化して測定する。その波長に相当する値として、λ=0.15401nmとする。X線回折装置に起因する機械的な半値幅bは、十分に結晶子径の大きいLaB6結晶の標準サンプルを用いて測定する。目的の2θ領域近傍の補正値としてb=8.73×10-4radian(0.05度)を用いる。したがって、本明細書において単に半値幅と記述する場合には、実測された半値幅(Bobs)ではなく、上述の補正後の半値幅、すなわち、材料由来の半値幅(B=Bobs-b)を指すものとする。さらに、その単位は便宜上、明細書本文内には「度」(degrees)で記すが、上述の計算上は、radianを用いる。 The Scherrer constant K=0.94 is used herein. The wavelength (λ) of the X-ray is measured by converting it into monochrome of Cu-Kα 1 . As a value corresponding to the wavelength, λ=0.15401 nm. The mechanical half width b resulting from the X-ray diffractometer is measured using a standard sample of LaB 6 crystal having a sufficiently large crystallite diameter. B=8.73×10 −4 radian (0.05 degrees) is used as a correction value near the target 2θ region. Therefore, in the present specification, when simply describing the half width, it is not the actually measured half width (B obs ), but the above-described corrected half width, that is, the half width derived from the material (B=B obs -b ). Furthermore, for convenience, the unit is described as "degrees" in the text of the specification, but radian is used in the above calculation.

半値幅の好ましい下限は0.3度であり、さらに好ましくは0.5度であり、さらに好ましくは0.7度である。半値幅の好ましい上限は2.2度であり、さらに好ましくは2.0度である。充放電を繰り返した後の放電状態の負極活物質材料においても同様である。 The preferable lower limit of the full width at half maximum is 0.3 degree, more preferably 0.5 degree, and further preferably 0.7 degree. The upper limit of the full width at half maximum is preferably 2.2 degrees, and more preferably 2.0 degrees. The same applies to the negative electrode active material material in a discharged state after repeated charging and discharging.

なお、結晶子径の好ましい範囲は5〜80nmである。結晶子径の好ましい下限は6nmであり、さらに好ましくは10nmである。結晶子径の好ましい上限は50nmであり、さらに好ましくは40nmである。 In addition, the preferable range of the crystallite diameter is 5 to 80 nm. The lower limit of the crystallite size is preferably 6 nm, more preferably 10 nm. The preferable upper limit of the crystallite size is 50 nm, more preferably 40 nm.

[特定合金粒子以外で負極活物質材料に含まれる材料]
上述の負極活物質材料には、特定合金粒子以外のものを含有してもよい。たとえば、負極活物質材料は、特定合金粒子とともに、活物質としての黒鉛を含有してもよい。
[Materials other than the specific alloy particles and included in the negative electrode active material]
The above-mentioned negative electrode active material may contain particles other than the specific alloy particles. For example, the negative electrode active material may contain graphite as an active material together with the specific alloy particles.

[負極活物質材料及び負極の製造方法]
上記特定合金粒子を含有する負極活物質材料、及び、その負極活物質材料を用いた負極及び電池の製造方法について説明する。負極活物質材料の製造方法は、溶湯を準備する工程(準備工程)と、溶湯を急冷して合金薄帯を製造する工程(合金薄帯製造工程)と、合金薄帯に対してメカニカルグラインディング(以下、MGという)処理を実施する工程(MG処理工程)とを備える。
[Negative electrode active material and method for manufacturing negative electrode]
A negative electrode active material containing the above-mentioned specific alloy particles, and a method for manufacturing a negative electrode and a battery using the negative electrode active material will be described. The method for manufacturing the negative electrode active material includes a step of preparing a molten metal (preparation step), a step of rapidly cooling the molten metal to produce an alloy ribbon (alloy ribbon manufacturing step), and a mechanical grinding of the alloy ribbon. (Hereinafter, referred to as MG) process (MG processing process).

[準備工程]
準備工程では、上記化学組成を有する溶湯を製造する。溶湯は、アーク溶解、抵抗加熱溶解等の周知の溶解方法で原料を溶解して製造される。
[Preparation process]
In the preparation step, a molten metal having the above chemical composition is manufactured. The molten metal is produced by melting the raw materials by a known melting method such as arc melting or resistance heating melting.

[合金薄帯製造工程]
続いて、図4に示す製造装置を用いて、合金薄帯を製造する。製造装置1は、冷却ロール2と、タンディッシュ4と、ブレード部材5とを備える。
[Alloy ribbon manufacturing process]
Then, an alloy ribbon is manufactured using the manufacturing apparatus shown in FIG. The manufacturing apparatus 1 includes a cooling roll 2, a tundish 4, and a blade member 5.

[冷却ロール]
冷却ロール2は、外周面を有し、回転しながら外周面上の溶湯3を冷却して凝固させる。冷却ロール2は円柱状の胴部と、図示しない軸部とを備える。胴部は上記外周面を有する。軸部は胴部の中心軸位置に配置され、図示しない駆動源に取り付けられている。冷却ロール2は、駆動源により冷却ロール2の中心軸9周りに回転する。
[Cooling roll]
The cooling roll 2 has an outer peripheral surface, and cools and solidifies the molten metal 3 on the outer peripheral surface while rotating. The cooling roll 2 includes a cylindrical body portion and a shaft portion (not shown). The body has the outer peripheral surface. The shaft portion is arranged at the central axis position of the body portion and is attached to a drive source (not shown). The cooling roll 2 rotates around the central axis 9 of the cooling roll 2 by the drive source.

冷却ロール2の素材は、硬度及び熱伝導率が高い材料であることが好ましい。冷却ロール2の素材はたとえば、銅又は銅合金である。好ましくは、冷却ロール2の素材は銅である。冷却ロール2は、表面にさらに被膜を有してもよい。これにより、冷却ロール2の硬度が高まる。被膜はたとえば、めっき被膜又はサーメット被膜である。めっき被膜はたとえば、クロムめっき又はニッケルめっきである。サーメット被膜はたとえば、タングステン(W)、コバルト(Co)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、シリコン(Si)、アルミニウム(Al)、ボロン(B)、及び、これらの元素の炭化物、窒化物及び炭窒化物からなる群から選択される1種又は2種以上を含有する。好ましくは、冷却ロール2の表層は銅であり、冷却ロール2は表面にさらにクロムめっき被膜を有する。 The material of the cooling roll 2 is preferably a material having high hardness and high thermal conductivity. The material of the cooling roll 2 is, for example, copper or a copper alloy. Preferably, the material of the chill roll 2 is copper. The cooling roll 2 may further have a coating on the surface. This increases the hardness of the cooling roll 2. The coating is, for example, a plating coating or a cermet coating. The plating film is, for example, chrome plating or nickel plating. The cermet coating includes, for example, tungsten (W), cobalt (Co), titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni), silicon (Si), aluminum (Al), boron (B), and these elements. 1 type, or 2 or more types selected from the group consisting of carbides, nitrides, and carbonitrides. Preferably, the surface layer of the cooling roll 2 is copper, and the cooling roll 2 further has a chromium plating film on the surface.

図4に示すXは、冷却ロール2の回転方向である。合金薄帯6を製造する際、冷却ロール2は一定方向Xに回転する。これにより、図4では、冷却ロール2と接触した溶湯3が冷却ロール2の外周面上で一部凝固し、冷却ロール2の回転に伴い移動する。冷却ロール2のロール周速は、溶湯3の冷却速度及び製造効率を考慮して適宜設定される。ロール周速が早ければ、冷却ロール2外周面から、合金薄帯6が剥離しやすい。したがって、ロール周速の下限は、好ましくは50m/分、より好ましくは80m/分、さらに好ましくは120m/分である。ロール周速の上限は特に限定されないが、設備能力を考慮してたとえば500m/分である。ロール周速は、ロールの直径と回転数とから求めることができる。 X shown in FIG. 4 is the rotation direction of the cooling roll 2. When manufacturing the alloy ribbon 6, the cooling roll 2 rotates in the constant direction X. As a result, in FIG. 4, the molten metal 3 in contact with the cooling roll 2 is partially solidified on the outer peripheral surface of the cooling roll 2 and moves as the cooling roll 2 rotates. The roll peripheral speed of the cooling roll 2 is appropriately set in consideration of the cooling speed of the molten metal 3 and the manufacturing efficiency. If the roll peripheral speed is high, the alloy ribbon 6 is easily separated from the outer peripheral surface of the cooling roll 2. Therefore, the lower limit of the roll peripheral speed is preferably 50 m/min, more preferably 80 m/min, and further preferably 120 m/min. The upper limit of the roll peripheral speed is not particularly limited, but is, for example, 500 m/min in consideration of the facility capacity. The roll peripheral speed can be obtained from the roll diameter and the rotation speed.

冷却ロール2の内部には、抜熱用の溶媒が充填されてもよい。これにより、効率的に溶湯3を冷却できる。溶媒はたとえば、水、有機溶媒及び油からなる群から選択される1種又は2種以上である。溶媒は、冷却ロール2内部に滞留してもよいし、外部と循環されてもよい。 The cooling roll 2 may be filled with a solvent for heat removal. Thereby, the molten metal 3 can be efficiently cooled. The solvent is, for example, one or more selected from the group consisting of water, organic solvents and oils. The solvent may stay inside the cooling roll 2 or may be circulated with the outside.

[タンディッシュ]
タンディッシュ4は、溶湯3を収納可能であり、冷却ロール2の外周面上に溶湯3を供給する。
[Tundish]
The tundish 4 can store the molten metal 3 and supplies the molten metal 3 onto the outer peripheral surface of the cooling roll 2.

タンディッシュ4の形状は、冷却ロール2の外周面上に溶湯3を供給可能であれば特に限定されない。タンディッシュ4の形状は、図4に図示するとおり上部が開口した箱状でもよいし、他の形状でもよい。 The shape of the tundish 4 is not particularly limited as long as the molten metal 3 can be supplied onto the outer peripheral surface of the cooling roll 2. The tundish 4 may have a box-like shape with an open top as shown in FIG. 4, or may have another shape.

タンディッシュ4は、冷却ロール2の外周面上に溶湯3を導く供給端7を含む。溶湯3は、図示しない坩堝からタンディッシュ4に供給された後、供給端7を通って冷却ロール2の外周面上に供給される。供給端7の形状は特に限定されない。供給端7の断面は、図4に示す様に矩形状であってもよいし、傾斜がついていてもよい。若しくは、供給端7はノズル状であってもよい。 The tundish 4 includes a supply end 7 that guides the molten metal 3 onto the outer peripheral surface of the cooling roll 2. The molten metal 3 is supplied to the tundish 4 from a crucible (not shown), and then is supplied to the outer peripheral surface of the cooling roll 2 through the supply end 7. The shape of the supply end 7 is not particularly limited. The cross section of the supply end 7 may be rectangular as shown in FIG. 4, or may be inclined. Alternatively, the supply end 7 may have a nozzle shape.

好ましくは、タンディッシュ4は、冷却ロール2の外周面近傍に配置される。これにより、溶湯3を安定して冷却ロール2の外周面上に供給できる。タンディッシュ4と冷却ロール2との間の隙間は、溶湯3が漏れない範囲で適宜設定される。 Preferably, the tundish 4 is arranged near the outer peripheral surface of the cooling roll 2. Thereby, the molten metal 3 can be stably supplied onto the outer peripheral surface of the cooling roll 2. The gap between the tundish 4 and the cooling roll 2 is appropriately set within a range in which the molten metal 3 does not leak.

タンディッシュ4の素材は、耐火物であることが好ましい。タンディッシュ4はたとえば、酸化アルミニウム(Al23)、一酸化ケイ素(SiO)、二酸化ケイ素(SiO2)、酸化クロム(Cr23)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化チタン(TiO2)、チタン酸アルミニウム(Al2TiO5)及び酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる群から選択される1種又は2種以上を含有する。 The material of the tundish 4 is preferably a refractory material. The tundish 4 is, for example, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon monoxide (SiO), silicon dioxide (SiO 2 ), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), titanium oxide (TiO 2 ). , Aluminum titanate (Al 2 TiO 5 ), and zirconium oxide (ZrO 2 ).

[ブレード部材]
ブレード部材5は、タンディッシュ4よりも冷却ロール2の回転方向下流に、冷却ロール2の外周面との間に隙間を設けて配置される。ブレード部材5はたとえば、冷却ロール2の軸方向と平行に配置される板状の部材である。
[Blade member]
The blade member 5 is disposed downstream of the tundish 4 in the rotation direction of the cooling roll 2 with a gap provided between the blade member 5 and the outer peripheral surface of the cooling roll 2. The blade member 5 is, for example, a plate-shaped member arranged parallel to the axial direction of the cooling roll 2.

図5は、製造装置1のブレード部材5の先端近傍(図4中、破線で囲った範囲)を拡大した断面図である。図5を参照して、ブレード部材5は、冷却ロール2の外周面との間に隙間Aを設けて配置される。ブレード部材5は、冷却ロール2の外周面上の溶湯3の厚さを、冷却ロール2の外周面とブレード部材5との間の隙間Aの幅に規制する。具体的には、ブレード部材5よりも冷却ロール2の回転方向上流での溶湯3が、隙間Aの幅と比較して厚い場合がある。この場合、隙間Aの幅を超える厚さに相当する分の溶湯3が、ブレード部材5によって塞き止められる。これにより、溶湯3の厚さは隙間Aの幅まで薄くなる。溶湯3の厚さが薄くなることによって、溶湯3の冷却速度が高まる。このため、合金薄帯6の結晶粒及び結晶子が微細化する。 FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the tip of the blade member 5 of the manufacturing apparatus 1 (range surrounded by a broken line in FIG. 4). Referring to FIG. 5, blade member 5 is arranged with a gap A provided between the outer peripheral surface of cooling roll 2. The blade member 5 regulates the thickness of the molten metal 3 on the outer peripheral surface of the cooling roll 2 to the width of the gap A between the outer peripheral surface of the cooling roll 2 and the blade member 5. Specifically, the molten metal 3 at the upstream of the blade member 5 in the rotation direction of the cooling roll 2 may be thicker than the width of the gap A. In this case, the molten metal 3 corresponding to the thickness exceeding the width of the gap A is blocked by the blade member 5. As a result, the thickness of the molten metal 3 is reduced to the width of the gap A. By reducing the thickness of the melt 3, the cooling rate of the melt 3 is increased. Therefore, the crystal grains and crystallites of the alloy ribbon 6 are miniaturized.

隙間Aの幅は、ブレード部材5よりも冷却ロール2の回転方向上流側での外周面上の溶湯3の厚さBよりも狭い方が好ましい。この場合、冷却ロール2の外周面上の溶湯3がより薄くなる。そのため、溶湯3の冷却速度がより高まる。その結果、合金薄帯6の結晶粒及び結晶子がより微細化する。 The width of the gap A is preferably narrower than the thickness B of the molten metal 3 on the outer peripheral surface on the upstream side of the blade member 5 in the rotation direction of the cooling roll 2. In this case, the melt 3 on the outer peripheral surface of the cooling roll 2 becomes thinner. Therefore, the cooling rate of the molten metal 3 is further increased. As a result, the crystal grains and crystallites of the alloy ribbon 6 become finer.

冷却ロール2の外周面とブレード部材5との間の隙間Aの幅は、ブレード部材5と冷却ロール2の外周面との最短の距離である。隙間Aの幅は、目的とする冷却速度及び製造効率に応じて適宜設定される。隙間Aの幅が狭い程、厚さ調整後の溶湯3が薄くなる。このため、溶湯3の冷却速度がより高まる。その結果、合金薄帯6の結晶粒をより微細化しやすい。したがって、隙間Aの上限は好ましくは100μm、より好ましくは50μmである。 The width of the gap A between the outer peripheral surface of the cooling roll 2 and the blade member 5 is the shortest distance between the blade member 5 and the outer peripheral surface of the cooling roll 2. The width of the gap A is appropriately set according to the target cooling rate and the manufacturing efficiency. The narrower the width of the gap A, the thinner the melt 3 after the thickness adjustment. Therefore, the cooling rate of the molten metal 3 is further increased. As a result, the crystal grains of the alloy ribbon 6 are likely to be made finer. Therefore, the upper limit of the gap A is preferably 100 μm, more preferably 50 μm.

冷却ロール2の外周面のうち、溶湯3がタンディッシュ4から供給される地点と、ブレード部材5が配置される地点との間の距離は適宜設定される。ブレード部材5は、溶湯3の自由表面(溶湯3が冷却ロール2と接触していない側の表面)が液状又は半凝固状態でブレード部材5と接触する範囲内で配置されればよい。 On the outer peripheral surface of the cooling roll 2, the distance between the point where the molten metal 3 is supplied from the tundish 4 and the point where the blade member 5 is arranged is appropriately set. The blade member 5 may be arranged within a range in which the free surface of the molten metal 3 (the surface on the side where the molten metal 3 is not in contact with the cooling roll 2) is in contact with the blade member 5 in a liquid or semi-solid state.

図6はブレード部材5の取付角度を示す図である。図6を参照して、たとえば、ブレード部材5は、冷却ロール2の中心軸9と供給端7とを含む面PL1と、冷却ロール2の中心軸9とブレード部材5の先端部とを含む面PL2とがなす角度θが一定となるように配置される。(以下、この角度θを取付角度θと称する。)取付角度θは適宜設定できる。取付角度θの上限はたとえば45°である。取付角度θの上限は好ましくは30°である。取付角度θの下限は特に限定されないが、ブレード部材5がタンディッシュ4上の溶湯3と直接接触しない範囲であることが好ましい。 FIG. 6 is a view showing the mounting angle of the blade member 5. Referring to FIG. 6, for example, blade member 5 has a surface PL1 including central axis 9 of cooling roll 2 and supply end 7, and a surface including central axis 9 of cooling roll 2 and the tip of blade member 5. It is arranged so that the angle θ formed by PL2 is constant. (Hereinafter, this angle θ is referred to as a mounting angle θ.) The mounting angle θ can be set as appropriate. The upper limit of the mounting angle θ is, for example, 45°. The upper limit of the mounting angle θ is preferably 30°. The lower limit of the mounting angle θ is not particularly limited, but it is preferably within a range in which the blade member 5 does not directly contact the molten metal 3 on the tundish 4.

図4〜図6を参照して、好ましくは、ブレード部材5は抜熱面8を有する。抜熱面8は、冷却ロール2の外周面と対向して配置される。抜熱面8は、冷却ロール2の外周面とブレード部材5との間の隙間を通過する溶湯3と接触する。 With reference to FIGS. 4 to 6, preferably, blade member 5 has heat removal surface 8. The heat removal surface 8 is arranged so as to face the outer peripheral surface of the cooling roll 2. The heat removal surface 8 comes into contact with the molten metal 3 passing through the gap between the outer peripheral surface of the cooling roll 2 and the blade member 5.

ブレード部材5の素材は耐火物であることが好ましい。ブレード部材5はたとえば、酸化アルミニウム(Al23)、一酸化ケイ素(SiO)、二酸化ケイ素(SiO2)、酸化クム(Cr23)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化チタン(TiO2)、チタン酸アルミニウム(Al2TiO5)及び酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる群から選択される1種又は2種以上を含有する。好ましくは、ブレード部材5は、酸化アルミニウム(Al23)、二酸化ケイ素(SiO2)、チタン酸アルミニウム(Al2TiO5)及び酸化マグネシウム(MgO)からなる群から選択される1種又は2種以上を含有する。 The material of the blade member 5 is preferably a refractory material. The blade member 5 is, for example, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon monoxide (SiO), silicon dioxide (SiO 2 ), cum oxide (Cr 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), titanium oxide (TiO 2 ). , Aluminum titanate (Al 2 TiO 5 ), and zirconium oxide (ZrO 2 ). Preferably, the blade member 5 is one or two selected from the group consisting of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon dioxide (SiO 2 ), aluminum titanate (Al 2 TiO 5 ), and magnesium oxide (MgO). Contains more than one seed.

ブレード部材5は、冷却ロール2の回転方向に対して連続的に複数配置されてもよい。この場合、1つのブレード部材5にかかる負担が小さくなる。さらに、溶湯3の厚さの精度を高めることができる。 A plurality of blade members 5 may be continuously arranged in the rotation direction of the cooling roll 2. In this case, the load on one blade member 5 is reduced. Further, the accuracy of the thickness of the molten metal 3 can be increased.

以上に説明した製造装置1では、ブレード部材5によって、冷却ロール2の外周面上の溶湯3の厚さを規制する。そのため、冷却ロール2の外周面上の溶湯3が薄くなる。溶湯3が薄くなることによって、溶湯3の冷却速度が高まる。そのため、製造装置1を用いて合金薄帯を製造すれば、より微細化した結晶子を有する合金薄帯6が製造できる。上記製造装置1を用いた場合、好ましい平均冷却速度は100℃/秒以上である。ここでいう平均冷却速度は、次の式で算出される。
平均冷却速度=(溶湯温度−急冷終了時の合金薄帯の温度)/急冷時間
In the manufacturing apparatus 1 described above, the blade member 5 regulates the thickness of the molten metal 3 on the outer peripheral surface of the cooling roll 2. Therefore, the molten metal 3 on the outer peripheral surface of the cooling roll 2 becomes thin. As the melt 3 becomes thinner, the cooling rate of the melt 3 increases. Therefore, if the alloy ribbon is manufactured using the manufacturing apparatus 1, the alloy ribbon 6 having a finer crystallite can be manufactured. When the manufacturing apparatus 1 is used, a preferable average cooling rate is 100° C./second or more. The average cooling rate here is calculated by the following formula.
Average cooling rate = (molten metal temperature-temperature of alloy ribbon at the end of quenching) / quenching time

[MG処理工程]
特定合金粒子は、製造装置1を用いて製造された特定の合金薄帯に対して、メカニカルグラインディング(MG)処理を実施することにより製造される。これにより、急冷凝固工程で製造された合金薄帯の結晶子をさらに小さくし、上述の半値幅に調整する。
[MG processing step]
The specific alloy particles are manufactured by performing a mechanical grinding (MG) process on the specific alloy ribbon manufactured by using the manufacturing apparatus 1. As a result, the crystallites of the alloy ribbon produced in the rapid solidification process are further reduced and adjusted to the above-described half-value width.

MG処理を実施する前に、合金薄帯を予備粉砕しても良い。予備粉砕工程には、通常のボールミルや振動ボールミル、アトライタ、ピンミル、ディスクミルを用いても良い。振動ボールミルの一例は、ヴァーダー・サイエンティフィック社製の商品名ミキサーミルMM400である。 The alloy ribbon may be preliminarily ground before the MG treatment. A normal ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a pin mill, or a disc mill may be used in the preliminary crushing step. An example of the vibrating ball mill is a mixer mill MM400 manufactured by Verder Scientific Co., Ltd.

メカニカルグラインディング(MG)処理は次の工程を含む。初めに、合金薄帯をアトライタ又は振動ボールミル等のMG機器に、ボールとともに投入する。ボールとともに、造粒防止のための添加剤もMG機器に投入してもよい。 The mechanical grinding (MG) process includes the following steps. First, the alloy ribbon is put into an MG device such as an attritor or a vibrating ball mill together with the balls. An additive for preventing granulation may be added to the MG device together with the balls.

続いて、MG機器内の合金薄帯に対して高エネルギーでの粉砕と、粉砕により形成された特定合金粒子同士の圧着とを繰り返す。これにより、上述の半値幅(結晶子径)を持つ特定合金粒子を製造する。 Then, the crushing of the alloy ribbon in the MG device with high energy and the pressure bonding of the specific alloy particles formed by the crushing are repeated. Thereby, the specific alloy particles having the above-described half width (crystallite diameter) are manufactured.

MG機器はたとえば、高速遊星ミルである。高速遊星ミルの一例は、栗本鐵工所製の商品明ハイジーBXである。MG機器での好ましい製造条件は次の通りである。 The MG device is, for example, a high speed planetary mill. An example of a high-speed planetary mill is the product Ming Hygie BX manufactured by Kurimoto. The preferred manufacturing conditions for the MG device are as follows.

ボール比:5〜80
ボール比とは、ボールの、原料となる合金薄帯に対する質量比であり、次の式で定義される。
ボール比=ボール質量/特定合金薄帯質量
Ball ratio: 5-80
The ball ratio is a mass ratio of the balls to the alloy ribbon as a raw material and is defined by the following formula.
Ball ratio = Ball mass / Specific alloy ribbon mass

ボール比が小さすぎれば半値幅が小さくなる。一方、ボール比が大きすぎれば、半値幅が大きくなる。したがって、好ましいボール比は5〜80である。ボール比のさらに好ましい下限は10であり、さらに好ましくは12である。ボール比のさらに好ましい上限は60であり、さらに好ましくは40である。 If the ball ratio is too small, the FWHM becomes smaller. On the other hand, if the ball ratio is too large, the half width becomes large. Therefore, the preferable ball ratio is 5 to 80. The more preferable lower limit of the ball ratio is 10, and more preferably 12. The more preferable upper limit of the ball ratio is 60, and more preferably 40.

なお、ボールの素材はたとえば、JIS規格で規定されたSUJ2を用いる。ボールの直径はたとえば、0.8mmから10mmである。 The ball material is, for example, SUJ2 defined by JIS standard. The diameter of the ball is, for example, 0.8 mm to 10 mm.

MG処理時間:1〜48時間
MG処理時間が短ければ半値幅が小さくなり、結晶子径が大きくなる。一方、MG処理時間が長ければ半値幅が大きくなり、結晶子径が小さくなる。したがって、好ましいMG処理時間は1〜48時間である。MG処理時間の好ましい下限は2時間であり、さらに好ましくは4時間である。MG処理時間の好ましい上限は36時間であり、さらに好ましくは24時間である。なお、MG処理時間に、後述の単位停止時間は含めない。
MG treatment time: 1 to 48 hours If the MG treatment time is short, the full width at half maximum becomes small and the crystallite diameter becomes large. On the other hand, if the MG treatment time is long, the half-width becomes large and the crystallite diameter becomes small. Therefore, the preferred MG treatment time is 1 to 48 hours. The lower limit of the MG treatment time is preferably 2 hours, more preferably 4 hours. The preferable upper limit of the MG treatment time is 36 hours, more preferably 24 hours. Note that the MG processing time does not include the unit stop time described below.

MG処理中の冷却条件:MG処理3時間当たり30分以上の停止(間欠操業)
MG処理中の合金粒子の温度が高くなりすぎれば、結晶子が大きくなる。MG処理中の機器のチラー冷却水の好ましい温度は1〜25℃である。
Cooling condition during MG treatment: 30 minutes or more stop every 3 hours MG treatment (intermittent operation)
If the temperature of the alloy particles during the MG treatment becomes too high, the crystallites will become large. The preferred temperature of the chiller cooling water of the device during MG treatment is 1 to 25°C.

さらに、MG処理3時間当たりの合計の停止時間(以下、単位停止時間という)を30分以上にする。MG処理を連続操業した場合、たとえチラー冷却水を上記範囲に調整しても、特定合金粒子の温度が高くなりすぎ、結晶子径が大きくなる。単位停止時間が30分以上であれば、合金粒子の温度が過剰に高くなるのを抑制でき、結晶子径が大きくなるのを抑制できる。 Further, the total stop time per 3 hours of MG processing (hereinafter referred to as unit stop time) is set to 30 minutes or longer. When the MG treatment is continuously operated, even if the chiller cooling water is adjusted to the above range, the temperature of the specific alloy particles becomes too high and the crystallite diameter becomes large. When the unit stop time is 30 minutes or more, it is possible to prevent the temperature of the alloy particles from becoming excessively high, and it is possible to prevent the crystallite diameter from increasing.

上記MG処理において、造粒防止のための添加剤として、ポリビニルピロリドン(PVP)を添加することができる。PVPの好ましい添加量は、合金薄帯(原料)の質量に対して、0.5〜8mass%であり、さらに好ましくは、2〜5mass%である。上記添加量の範囲内であれば、合金粒子の平均粒径を適切な範囲に調整しやすくなる。合金粒子の平均粒子径を、例えば、メジアン径(D50)で0.1〜25μmに調整しやすくなる。ただし、MG処理において、添加剤を添加しなくても、合金粒子の平均粒子径を上記範囲に調整できる。 In the MG treatment, polyvinylpyrrolidone (PVP) can be added as an additive for preventing granulation. The amount of PVP added is preferably 0.5 to 8 mass% and more preferably 2 to 5 mass% with respect to the mass of the alloy ribbon (raw material). When the amount is within the above range, it becomes easy to adjust the average particle size of the alloy particles to an appropriate range. It becomes easy to adjust the average particle diameter of the alloy particles to, for example, 0.1 to 25 μm in terms of median diameter (D50). However, in the MG treatment, the average particle size of the alloy particles can be adjusted to the above range without adding an additive.

以上の工程により、特定合金粒子が製造される。必要に応じて特定合金粒子に他の活物質(黒鉛)を含有する。以上の工程により、負極活物質材料が製造される。負極活物質材料は、特定合金粒子及び不純物からなるものであってもよいし、特定合金粒子と、他の活物質材料(たとえば黒鉛)とを含有してもよい。 The specific alloy particles are manufactured through the above steps. Other active material (graphite) is contained in the specific alloy particles as needed. Through the above steps, the negative electrode active material is manufactured. The negative electrode active material may be composed of the specific alloy particles and impurities, or may contain the specific alloy particles and another active material (for example, graphite).

[負極の製造方法]
本実施形態による負極活物質材料を用いた負極はたとえば、次の周知の方法で製造できる。
[Negative electrode manufacturing method]
The negative electrode using the negative electrode active material according to the present embodiment can be manufactured, for example, by the following well-known method.

上記負極活物質材料の粉末に対して、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、スチレンブタジエンラバー(SBR)等のバインダを混合した混合物を製造する。さらに負極に十分な導電性を付与するために、この混合物に天然黒鉛、人造黒鉛、アセチレンブラック等の炭素材料粉末を混合し、負極合剤を製造する。これにN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、水などの溶媒を加えてバインダを溶解した後、必要であればホモジナイザ、ガラスビーズを用いて十分に攪拌し、負極合剤をスラリ状にする。このスラリを圧延銅箔、電析銅箔などの支持体に塗布して乾燥する。その後、その乾燥物にプレスを施す。以上の工程により、負極を製造する。 A mixture of polyvinylidene fluoride (PVDF), polymethylmethacrylate (PMMA), polytetrafluoroethylene (PTFE), styrene-butadiene rubber (SBR), and the like is mixed with the powder of the negative electrode active material to produce a mixture. Further, in order to impart sufficient conductivity to the negative electrode, a carbon material powder such as natural graphite, artificial graphite or acetylene black is mixed with this mixture to produce a negative electrode mixture. After adding a solvent such as N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), and water to dissolve the binder, if necessary, use a homogenizer and glass beads to sufficiently stir, and mix the negative electrode mixture with the slurry. Make a state. This slurry is applied to a support such as rolled copper foil or electrodeposited copper foil and dried. Then, the dried product is pressed. The negative electrode is manufactured through the above steps.

バインダは、負極の機械的強度や電池特性の観点から、負極合剤の総量に対して1〜10質量%であることが好ましい。支持体は、銅箔に限定されない。支持体は例えば、ステンレス、ニッケル等の他の金属の薄箔や、ネット状のシートパンチングプレート、金属素線ワイヤーで編み込んだメッシュなどでもよい。 From the viewpoint of the mechanical strength of the negative electrode and the battery characteristics, the binder is preferably 1 to 10 mass% with respect to the total amount of the negative electrode mixture. The support is not limited to copper foil. The support may be, for example, a thin foil of another metal such as stainless steel or nickel, a net-shaped sheet punching plate, or a mesh woven with a metal element wire.

[電池の製造方法]
本実施形態による非水電解質二次電池は、上述の負極と、正極と、セパレータと、電解液又は電解質とを備える。電池の形状は、円筒型、角形であってもよいし、コイン型、シート型等でもよい。本実施形態の電池は、ポリマー電池等の固体電解質を利用した電池でもよい。
[Battery manufacturing method]
The non-aqueous electrolyte secondary battery according to the present embodiment includes the above-mentioned negative electrode, positive electrode, separator, and electrolytic solution or electrolyte. The shape of the battery may be cylindrical, prismatic, coin-shaped, sheet-shaped or the like. The battery of this embodiment may be a battery using a solid electrolyte such as a polymer battery.

本発明の電池においては、放電した状態における負極活物質材料が、本発明の負極活物質材料として特定される要件を満たしていればよい。 In the battery of the present invention, the negative electrode active material in the discharged state may satisfy the requirements specified as the negative electrode active material of the present invention.

本実施形態の電池の正極は、好ましくは、リチウム(Li)含有遷移金属化合物を活物質として含有する。Li含有遷移金属化合物は例えば、LiM1−xM’xO2、又は、LiM2yM’O4である。ここで、式中、0≦x、y≦1、M及びM’はそれぞれ、バリウム(Ba)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、鉄(Fe)、亜鉛(Zn)、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、スズ(Sn)、スカンジウム(Sc)及びイットリウム(Y)の少なくとも1種である。 The positive electrode of the battery of this embodiment preferably contains a lithium (Li)-containing transition metal compound as an active material. Li-containing transition metal compounds are, for example, LiM1-xM'xO 2, or a LiM 2 yM'O 4. Here, in the formula, 0≦x, y≦1, M and M′ are barium (Ba), cobalt (Co), nickel (Ni), manganese (Mn), chromium (Cr), titanium (Ti), respectively. , Vanadium (V), iron (Fe), zinc (Zn), aluminum (Al), indium (In), tin (Sn), scandium (Sc), and yttrium (Y).

本実施形態の電池は、遷移金属カルコゲン化物;バナジウム酸化物及びそのリチウム(Li)化合物;ニオブ酸化物及びそのリチウム化合物;有機導電性物質を用いた共役系ポリマー;シェプレル相化合物;活性炭、活性炭素繊維等、といった他の正極材料を用いてもよい。 The battery of the present embodiment includes a transition metal chalcogenide; a vanadium oxide and a lithium (Li) compound thereof; a niobium oxide and a lithium compound thereof; a conjugated polymer using an organic conductive substance; a Sheprel phase compound; activated carbon, activated carbon. Other positive electrode materials such as fibers may also be used.

本実施形態の電池の電解液は、一般に、支持電解質としてのリチウム塩を有機溶媒に溶解させた非水系電解液である。リチウム塩は例えば、LiClO4,LiBF4,LiPF6,LiAsF6,LiB(C65),LiCF3SO3,LiCH3SO3,Li(CF3SO22N,LiC49SO3,Li(CF2SO22,LiCl,LiBr,LiI等である。これらは、単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。 The electrolytic solution of the battery of the present embodiment is generally a non-aqueous electrolytic solution in which a lithium salt as a supporting electrolyte is dissolved in an organic solvent. The lithium salt is, for example, LiClO 4 , LiBF 4 , LiPF 6 , LiAsF 6 , LiB(C 6 H 5 ), LiCF 3 SO 3 , LiCH 3 SO 3 , Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, LiC 4 F 9 SO. 3 , Li(CF 2 SO 2 ) 2 , LiCl, LiBr, LiI and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

有機溶媒は、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステル類が好ましい。但し、カルボン酸エステル、エーテルをはじめとする他の各種の有機溶媒も使用可能である。これらの有機溶媒は、単独で用いられてもよいし、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。 As the organic solvent, carbonic acid esters such as propylene carbonate, ethylene carbonate, ethylmethyl carbonate, dimethyl carbonate and diethyl carbonate are preferable. However, various other organic solvents such as carboxylic acid ester and ether can also be used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

セパレータは、正極及び負極の間に設置される。セパレータは絶縁体としての役割を果たす。セパレータはさらに、電解質の保持にも大きく寄与する。本実施形態の電池は周知のセパレータを備えればよい。セパレータは例えば、ポリオレフィン系材質であるポリプロピレン、ポリエチレン、又はその両者の混合布、もしくは、ガラスフィルターなどの多孔体である。 The separator is installed between the positive electrode and the negative electrode. The separator acts as an insulator. The separator also contributes significantly to the retention of the electrolyte. The battery of this embodiment may include a known separator. The separator is, for example, a polyolefin material such as polypropylene, polyethylene, or a mixed cloth of both, or a porous body such as a glass filter.

電池の容器に、上述の負極と、正極と、セパレータと、電解液又は電解質とを封入して、電池を製造する。 The above-mentioned negative electrode, positive electrode, separator, and electrolytic solution or electrolyte are enclosed in a battery container to manufacture a battery.

以下、実施例を用いて上述の本実施形態の負極活物質材料、負極及び電池をより詳細に説明する。なお、本実施形態の負極活物質材料、負極及び電池は、以下に示す実施例に限定されない。 Hereinafter, the above-described negative electrode active material, negative electrode, and battery of the present embodiment will be described in more detail with reference to examples. In addition, the negative electrode active material, the negative electrode, and the battery of the present embodiment are not limited to the examples described below.

表3に示す試験番号1〜20の合金粒子、負極活物質材料、負極、及びコイン電池を製造した。各試験番号について、(I)粉砕まま合金粒子、(II)MG後合金粒子のX線回折測定を実施した。得られたX線プロファイルから、(I)については結晶構造を特定した。(II)については半値幅を解析した。さらに、電池の充放電容量(体積当たりの充放電容量)及び初回充放電効率及び30サイクル後容量維持率を調査した。 Alloy particles of test numbers 1 to 20, negative electrode active material, negative electrode, and coin battery shown in Table 3 were manufactured. For each test number, X-ray diffraction measurement was performed on (I) as-ground alloy particles and (II) MG-post-alloy particles. The crystal structure of (I) was specified from the obtained X-ray profile. For (II), the full width at half maximum was analyzed. Furthermore, the charge/discharge capacity (charge/discharge capacity per volume), the initial charge/discharge efficiency, and the capacity retention rate after 30 cycles of the battery were investigated.

Figure 0006747331
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各試験番号の合金粒子、負極活物質材料、負極、及びコイン電池の製造方法は、次のとおり実施した。 The alloy particles of each test number, the negative electrode active material, the negative electrode, and the coin battery were manufactured as follows.

[合金粒子の製造]
合金粒子(粒状の金属活物質)の化学組成が、表3中の化学組成となるように、溶湯を製造した。たとえば、試験番号1の場合、合金粒子の化学組成が、Cu−12.98at%Sn−7.98at%Siとなるように、つまり、12.98at%のSnと7.98at%のSiを含有し、残部がCu及び不純物からなるように、溶湯を製造した。溶湯は、表3中に示す金属を含有する原料を、高周波溶解して製造した。
[Production of alloy particles]
The molten metal was manufactured so that the chemical composition of the alloy particles (granular metal active material) was as shown in Table 3. For example, in the case of test number 1, the chemical composition of the alloy particles is Cu-12.98 at% Sn-7.98 at% Si, that is, it contains 12.98 at% Sn and 7.98 at% Si. Then, a molten metal was manufactured so that the balance was Cu and impurities. The molten metal was produced by high-frequency melting the raw materials containing the metals shown in Table 3.

表3中の「SC」欄の条件1では、図4に示す製造装置を用いて、上述の実施形態のストリップキャスティング(SC)法により、合金薄帯を製造した。具体的には、水冷式の銅製の冷却ロールを用いた。冷却ロールの回転速度をロール表面の周速度で300メートル毎分とした。アルゴン雰囲気中で前述の溶湯を水平型タンディシュ(アルミナ製)を介して、回転する水冷ロールに供給した。溶湯が回転する水冷ロールに引き上げられることにより溶湯を急冷凝固させた。ブレード部材と水冷ロールとの隙間の幅は80μmであった。ブレード部材はアルミナ製であった。 Under condition 1 in the “SC” column of Table 3, alloy ribbons were manufactured by the strip casting (SC) method of the above-described embodiment using the manufacturing apparatus shown in FIG. Specifically, a water-cooled copper cooling roll was used. The rotation speed of the cooling roll was 300 meters per minute at the peripheral speed of the roll surface. The above-mentioned molten metal was supplied to a rotating water-cooled roll through a horizontal tundish (made of alumina) in an argon atmosphere. The molten metal was rapidly solidified by being pulled up by a rotating water cooling roll. The width of the gap between the blade member and the water cooling roll was 80 μm. The blade member was made of alumina.

表3中の「SC条件」欄の条件2では、条件1と異なり、ブレード部材を使用しなかった。その他の条件は条件1と同じとした。つまり、条件2では、従前のストリップキャスティング法により合金薄帯を製造した。 Unlike Condition 1, Condition 2 in the “SC condition” column in Table 3 did not use a blade member. The other conditions were the same as Condition 1. That is, under the condition 2, the alloy ribbon was manufactured by the conventional strip casting method.

得られた合金薄帯に対して、粉砕処理とMG処理とを実施して、負極活物質材料である合金粒子を製造した。試験番号17及び20については、粉砕処理後にMG処理を実施しなかった。 The obtained alloy ribbon was subjected to a pulverization treatment and an MG treatment to produce alloy particles as a negative electrode active material. For test numbers 17 and 20, no MG treatment was performed after the pulverization treatment.

[粉砕処理による合金粒子(粉砕まま合金粒子)の製造]
製造された合金薄帯に対して、ミキサーミルを用いた粉砕処理を実施した。具体的には、合金薄帯を、ヴァーダー・サイエンティフィック社製のミキサーミル(装置型番:MM400)を用いて粉砕処理した。粉砕容器には内容積が25cm3のステンレス製を用いた。粉砕容器と同じ材質で直径が15mmのボール2個と合金薄帯3gを投入し、振動数の設定値を25rpsとして、240秒間運転して、合金粒子を製造した。表3中の「合金相」の同定には、この工程で得られた合金粒子(粉砕まま合金粒子)を使用した。
[Production of alloy particles by crushing (alloy particles as crushed)]
The produced alloy ribbon was pulverized using a mixer mill. Specifically, the alloy ribbon was pulverized using a mixer mill (apparatus model number: MM400) manufactured by Verder Scientific. A stainless steel container having an inner volume of 25 cm 3 was used as the crushing container. Two balls having the same material as that of the crushing container and having a diameter of 15 mm and 3 g of an alloy ribbon were put into the crushing container, and the system was operated for 240 seconds at a set frequency value of 25 rps to produce alloy particles. To identify the "alloy phase" in Table 3, the alloy particles obtained in this step (alloy particles as ground) were used.

[MG処理による合金粒子(MG後合金粒子)の製造]
試験番号17及び20以外の試験番号の合金薄帯に対して、MG処理を実施した。具体的には、合金薄帯と、黒鉛粉末(平均粒子径がメジアン径D50で5μm)、PVPとを90:6:4の比率で混合した。混合物を、アルゴンガス雰囲気中で、高速遊星ミル(栗本鐵工所の商品名ハイジーBX)を用いて、表3に示す「MG条件」欄に記載の条件で、MG処理を実施した。「MG条件」欄が「無」の試験番号(17及び20)では、MG処理を実施しなかった。「MG条件」欄が「条件1」「条件2」「条件3」の試験番号でのMG条件は、それぞれ次のとおりであった。
[Production of alloy particles (post-MG alloy particles) by MG treatment]
MG treatment was performed on alloy ribbons having test numbers other than test numbers 17 and 20. Specifically, the alloy ribbon, graphite powder (average particle diameter of median diameter D50: 5 μm), and PVP were mixed at a ratio of 90:6:4. The mixture was subjected to MG treatment in an argon gas atmosphere using a high-speed planetary mill (Kurimoto Steel Co., Ltd., trade name Heidi BX) under the conditions described in the "MG conditions" column in Table 3. In the test numbers (17 and 20) in which the “MG condition” column is “none”, MG treatment was not performed. The MG conditions under the test numbers in which the “MG conditions” column is “condition 1”, “condition 2”, and “condition 3” are as follows.

[条件1]
・回転数:200rpm(遠心加速度12Gに相当)
・ボール比:15(合金薄帯材料:ボール=40g:600g)
・PVP:4mass%
・MG処理時間:12時間
・MG処理3時間あたりの停止時間:30分
[Condition 1]
・Rotation speed: 200 rpm (corresponding to centrifugal acceleration 12G)
・Ball ratio: 15 (alloy ribbon material: ball = 40g: 600g)
・PVP: 4 mass%
・MG processing time: 12 hours ・Stop time per 3 hours of MG processing: 30 minutes

[条件2]
・回転数:200rpm(遠心加速度12Gに相当)
・ボール比:6(合金薄帯材料:ボール=100g:600g)
・PVP:1mass%
・MG処理時間:2時間
・MG処理3時間あたりの停止時間:−
[Condition 2]
・Rotation speed: 200 rpm (corresponding to centrifugal acceleration 12G)
・Ball ratio: 6 (alloy thin ribbon material: ball = 100g: 600g)
・PVP: 1 mass%
-MG processing time: 2 hours-Stop time per 3 hours MG processing:-

[条件3]
・回転数:200rpm(遠心加速度12Gに相当)
・ボール比:150(合金薄帯材料:ボール=4g:600g)
・PVP:4mass%
・MG処理時間:100時間
・MG処理3時間あたりの停止時間:30分
[Condition 3]
・Rotation speed: 200 rpm (corresponding to centrifugal acceleration 12G)
・Ball ratio: 150 (alloy ribbon material: ball = 4g: 600g)
・PVP: 4 mass%
-MG processing time: 100 hours-MG processing 3-hour stop time: 30 minutes

以上の工程により、負極活物質材料である合金粒子を製造した。 Through the above steps, alloy particles, which are the negative electrode active material, were manufactured.

[合金粒子の結晶構造の特定及び半値幅の測定]
製造された合金粒子に対して、結晶構造の特定、半値幅の測定、及び結晶子径の測定を実施した。
[Specification of crystal structure of alloy particles and measurement of full width at half maximum]
For the produced alloy particles, the crystal structure was specified, the half width was measured, and the crystallite diameter was measured.

[結晶構造の特定]
粉砕後であってMG処理前の合金粒子(粉砕まま合金粒子)に対してX線回折測定を実施して、X線回折プロファイルの実測データを得た。具体的には、リガク製SmartLab(ロータターゲット最大出力9KW;45kV−200mA)を用いて、負極活物質材料の粉末のX線回折プロファイルを取得した。得られたX線回折プロファイル(実測データ)に基づいて、リートベルト法により、合金粒子の結晶構造を解析した。X線回折装置及び測定条件は次のとおりであった。解析により明らかとなった構成相を、表3の「合金相」の欄に示した。
[Specification of crystal structure]
X-ray diffraction measurement was performed on the alloy particles after pulverization and before MG treatment (alloy particles as pulverized) to obtain actual measurement data of X-ray diffraction profile. Specifically, the X-ray diffraction profile of the powder of the negative electrode active material was acquired using Rigaku's SmartLab (rotor target maximum output 9 KW; 45 kV-200 mA). The crystal structure of the alloy particles was analyzed by the Rietveld method based on the obtained X-ray diffraction profile (measured data). The X-ray diffractometer and measurement conditions were as follows. The constituent phases revealed by the analysis are shown in the column of "alloy phase" in Table 3.

[X線回折装置名及び測定条件]
・装置:リガク製SmartLab
・X線管球:Cu−Kα線
・X線出力:45kV、200mA
・入射側モノクロメータ:ヨハンソン素子(Cu−Kα2線及びCu−Kβ線をカット)
・光学系:集中法
・入射平行スリット:5.0degree
・入射スリット:1/2degree
・長手制限スリット:10.0mm
・受光スリット1:8.0mm
・受光スリット2:13.0mm
・受光平行スリット:5.0degree
・ゴニオメータ:SmartLabゴニオメータ
・X線源−ミラー間距離:90.0mm
・X線源−選択スリット間距離:114.0mm
・X線源−試料間距離:300.0mm
・試料−受光スリット1間距離:187.0mm
・試料−受光スリット2間距離:300.0mm
・受光スリット1−受光スリット2間距離:113.0mm
・試料−検出器間距離:331.0mm
・検出器:D/Tex Ultra
・測定範囲:10−120degree
・データ採取角度間隔:0.02degree
・スキャン方法:連続
・スキャン速度:2.0degree/min.
[Name of X-ray diffractometer and measurement conditions]
・Device: SmartLab manufactured by Rigaku
・X-ray tube: Cu-Kα line ・X-ray output: 45 kV, 200 mA
・Inlet side monochromator: Johansson element (Cu-Kα2 and Cu-Kβ rays are cut)
・Optical system: Focusing method ・Injection parallel slit: 5.0 degree
・Inlet slit: 1/2 degree
・Longitudinal restriction slit: 10.0 mm
・Light receiving slit 1: 8.0 mm
・Light receiving slit 2: 13.0 mm
・Sensor parallel slit: 5.0 degree
-Goniometer: SmartLab goniometer-X-ray source-mirror distance: 90.0 mm
* Distance between X-ray source and selected slit: 114.0 mm
-X-ray source-sample distance: 300.0 mm
-Distance between sample and light-receiving slit 1: 187.0 mm
-Distance between sample and light receiving slit 2: 300.0 mm
・Distance between light receiving slit 1 and light receiving slit 2: 113.0 mm
・Sample-detector distance: 331.0 mm
・Detector: D/Tex Ultra
・Measurement range: 10-120 degrees
・Data collection angle interval: 0.02degree
-Scan method: continuous-Scan speed: 2.0 degrees/min.

試験番号8の粉砕まま合金粒子の解析を例として、結晶構造の解析方法を以下に説明する。 The method of analyzing the crystal structure will be described below by taking the analysis of the as-crushed alloy particles of test number 8 as an example.

図7は、熱力学的計算によって得られたCu−Sn−Siの3元系状態図である。図7から、725℃でのCu−19.91at%Sn−7.88at%Si合金はbcc構造のβ相である(希土類は便宜上、Cuに含める)。したがって、この組成の溶湯を急冷凝固させた場合には、必然的にβ相領域を通過することとなる。β相領域を通過中の冷却速度が十分に大きい場合にはD03相及び/又はδ相からなる構成相をほぼ全量、準安定相として生成させることができるはずである。Cu−Sn−Siの3元系合金では、at%でSn:10〜25%、Si:3〜15%及び希土類元素:0.2〜0.6%を含有し、残部はCu及び不純物からなる化学組成を有するとき、十分に速い冷却速度で急冷凝固させた場合に、D03相及び/又はδ相からなる構成相をほぼ全量、準安定状態として生成させることができることを実験的にも確認した。 FIG. 7 is a ternary phase diagram of Cu—Sn—Si obtained by thermodynamic calculation. From FIG. 7, the Cu-19.91 at% Sn-7.88 at% Si alloy at 725° C. is a β phase with a bcc structure (rare earths are included in Cu for convenience). Therefore, when the molten metal of this composition is rapidly solidified, it necessarily passes through the β phase region. If the cooling rate during passage through the β-phase region is sufficiently high, almost all of the constituent phases consisting of the D0 3 phase and/or the δ phase should be able to be generated as metastable phases. The Cu-Sn-Si ternary alloy contains at 10% Sn: 10 to 25%, Si: 3 to 15%, and a rare earth element: 0.2 to 0.6%, and the balance is Cu and impurities. It has also been experimentally shown that, when it has a chemical composition of, when it is rapidly solidified at a sufficiently high cooling rate, almost all of the constituent phases of the D0 3 phase and/or the δ phase can be generated in a metastable state. confirmed.

D03相の結晶構造は立方晶であり、上記のとおり、空間群の分類上、International Table(Volume−A)のNo.225(Fm−3m)となる。また、δ相の結晶構造も立方晶であり、空間群の分類上、International Table(Volume−A)のNo.216(F−43m)となる。 The crystal structure of the D0 3 phase is a cubic crystal, and as described above, in the classification of the space group, No. 3 of International Table (Volume-A). It becomes 225 (Fm-3m). Further, the crystal structure of the δ phase is also a cubic crystal, and in terms of the classification of the space group, No. 1 of International Table (Volume-A). It becomes 216 (F-43m).

そこで、この空間群番号の構造モデルをリートベルト解析の初期構造モデルとして、リートベルト解析により、対応する試験番号(ここでは試験番号8)の粉砕まま合金粒子の回折プロファイルの計算値(以下、計算プロファイルという)を求めた。リートベルト解析にはRietan−2000(プログラム名)を用いた。 Therefore, by using the structural model of this space group number as the initial structural model of Rietveld analysis, the calculated value of the diffraction profile of the as-crushed alloy particles of the corresponding test number (here, test number 8) by Rietveld analysis Called profile). Rietan-2000 (program name) was used for Rietveld analysis.

図8は、試験番号8の粉砕まま合金粒子のX線回折プロファイル(実測プロファイル)と、リートベルト法によるフィッティング結果(構造精密化解析後)(計算プロファイル)とを示す図である。図8中の(a)はD03構造の計算プロファイルである。図8を参照して、実測のX線回折プロファイル(図中の(b))の回折ピークは、主に(a)の計算プロファイルと一致した。したがって、試験番号8の粉砕まま合金粒子は、ほぼ全量、D03相からなると同定された。他の試験番号の粉砕まま合金粒子についても、同様の方法で、その結晶構造を特定した(表3の「合金相」欄に表示)。 FIG. 8 is a diagram showing an X-ray diffraction profile (actual measurement profile) of the as-crushed alloy particles of test number 8 and a fitting result (after structural refinement analysis) by the Rietveld method (calculation profile). (A) in FIG. 8 is a calculation profile of the D0 3 structure. Referring to FIG. 8, the diffraction peak of the actually measured X-ray diffraction profile ((b) in the figure) mainly coincided with the calculated profile of (a). Therefore, the as-crushed alloy particles of Test No. 8 were identified as being almost entirely composed of the D0 3 phase. The crystal structure of the as-crushed alloy particles of other test numbers was specified by the same method (shown in the "alloy phase" column of Table 3).

[半値幅及び結晶子径の測定]
半値幅及び結晶子径は次のとおり測定した。一例として、試験番号8を用いて測定方法を説明するが、他の試験番号についても同様である。
[Measurement of full width at half maximum and crystallite size]
The full width at half maximum and the crystallite diameter were measured as follows. As an example, the measurement method will be described using test number 8, but the same applies to other test numbers.

図9は、試験番号8の「MG後合金粒子」のX線回折プロファイルであり、半値幅の解析対象とする最強回折線を持つX線回折プロファイルを示す図である。図9において、試験番号8のMG処理後の粉末X線回折プロファイルの中で、D03相又はδ相に由来する、最大の回折積分強度を有する回折線は2θ=42.90度に存在した。そして、その回折線の半値幅Δ2θ=B(度)は、装置由来の分を補正後、1.68度であった。 FIG. 9 is a view showing an X-ray diffraction profile of “post-MG alloy particles” of test number 8, and an X-ray diffraction profile having the strongest diffraction line to be analyzed in the half-width. In FIG. 9, in the powder X-ray diffraction profile after the MG treatment of test number 8, the diffraction line having the maximum integrated diffraction intensity derived from the D0 3 phase or the δ phase was present at 2θ=42.90 degrees. .. Then, the full width at half maximum Δ2θ=B (degrees) of the diffraction line was 1.68 degrees after the correction due to the device.

さらに、結晶子径Dを上述のシェラーの式による解析で求めた結果、D=5.5nmであった。 Furthermore, as a result of obtaining the crystallite diameter D by analysis by the above Scherrer's formula, D=5.5 nm.

他の試験番号の合金粒子についても、同様の方法で、半値幅と結晶子径を求めた。求めた結果を表3に示す。 With respect to the alloy particles of other test numbers, the half width and the crystallite size were obtained by the same method. Table 3 shows the obtained results.

[コイン電池用の負極の製造]
各試験番号において、上記合金粒子を負極活物質材料とし、負極活物質材料を含有する負極合剤スラリを製造した。具体的には、粉末状の合金活物質と、導電助剤としてのアセチレンブラック(AB)と、バインダとしてのスチレンブタジエンゴム(SBR)(2倍希釈液)と、増粘剤としてのカルボキシメチルセルロース(CMC)とを、質量比75:15:10:5(配合量は1g:0.2g:0.134g:0.067g)で混合した混合物を製造した。そして、混練機を用いて、スラリ濃度が27.2%となるように混合物に蒸留水を加えて、負極合剤スラリを製造した。スチレンブタジエンゴムは水で2倍に希釈されたものを使用しているため、秤量上、0.134gのスチレンブタジエンゴムが配合された。
[Manufacture of negative electrode for coin battery]
In each test number, the alloy particles were used as the negative electrode active material, and a negative electrode mixture slurry containing the negative electrode active material was produced. Specifically, a powdered alloy active material, acetylene black (AB) as a conduction aid, styrene-butadiene rubber (SBR) (a two-fold diluted solution) as a binder, and carboxymethyl cellulose (as a thickener) ( CMC) in a mass ratio of 75:15:10:5 (the compounding amount is 1 g:0.2 g:0.134 g:0.067 g) to prepare a mixture. Then, using a kneading machine, distilled water was added to the mixture so that the slurry concentration became 27.2% to produce a negative electrode mixture slurry. Since the styrene-butadiene rubber used was diluted with water by a factor of 2, 0.134 g of styrene-butadiene rubber was blended in terms of weight.

製造された負極合剤スラリを、アプリケータ(150μm)を用いて銅箔上に塗布した。スラリが塗布された銅箔を、100℃で20分間乾燥させた。乾燥後の銅箔は、表面に負極活物質膜からなる塗膜を有した。負極活物質膜を有する銅箔に対して打ち抜き加工を実施して、直径13mmの円板状の銅箔を製造した。打ち抜き加工後の銅箔を、プレス圧500kgf/cm2で押圧して、板状の負極を製造した。 The manufactured negative electrode mixture slurry was applied onto a copper foil using an applicator (150 μm). The copper foil coated with the slurry was dried at 100° C. for 20 minutes. The dried copper foil had a coating film composed of a negative electrode active material film on the surface. The copper foil having the negative electrode active material film was punched to produce a disk-shaped copper foil having a diameter of 13 mm. The punched copper foil was pressed with a pressing pressure of 500 kgf/cm 2 to produce a plate-shaped negative electrode.

[コイン電池の製造]
製造された負極材と、電解液としてEC−DMC−EMC−VC−FECと、セパレータとしてポリオレフィン製セパレータ(φ17mm)と、正極材として板状の金属Li(φ19×1mmt)とを準備した。準備された負極材、電解液、セパレータ、正極材を用いて、2016型のコイン電池を製造した。コイン電池の組み立てをアルゴン雰囲気中のグローブボックス内で行った。
[Manufacture of coin battery]
A prepared negative electrode material, EC-DMC-EMC-VC-FEC as an electrolytic solution, a polyolefin separator (φ17 mm) as a separator, and a plate-shaped metal Li (φ19×1 mmt) as a positive electrode material were prepared. A 2016 type coin battery was manufactured using the prepared negative electrode material, electrolytic solution, separator, and positive electrode material. The coin battery was assembled in a glove box in an argon atmosphere.

[コイン電池の充放電特性評価]
各試験番号の電池の初回充放電効率を、次の方法で評価した。
[Evaluation of charge/discharge characteristics of coin battery]
The initial charging/discharging efficiency of the battery of each test number was evaluated by the following method.

対極に対して電位差0.005Vになるまで、0.1mAの電流値(0.075mA/cm2の電流値)又は、1.0mAの電流値(0.75mA/cm2の電流値)でコイン電池に対して定電流ドープ(電極へのリチウムイオンの挿入、リチウムイオン二次電池の充電に相当)を行った。その後、0.005Vを保持したまま、7.5μA/cm2になるまで定電圧で対極に対してドープを続け、ドープ容量を測定した。 Until the potential difference 0.005V against counter electrode, a coin at a current of 0.1 mA (current of 0.075mA / cm 2) or, a current value of 1.0 mA (current of 0.75 mA / cm 2) The battery was subjected to constant current dope (corresponding to insertion of lithium ion into the electrode and charging of a lithium ion secondary battery). After that, while maintaining 0.005 V, the counter electrode was continuously doped with a constant voltage until the voltage became 7.5 μA/cm 2 , and the doping capacity was measured.

次に、0.1mAの電流値(0.075mA/cm2の電流値)又は、1.0mAの電流値(0.75mA/cm2の電流値)で、電位差1.2Vになるまで脱ドープ(電極からのリチウムイオンの離脱、リチウムイオン二次電池の放電に相当)を行い、脱ドープ容量を測定した。 Then, a current value of 0.1 mA (current of 0.075mA / cm 2) or, at a current value of 1.0 mA (current of 0.75 mA / cm 2), undoping until the potential difference 1.2V (Corresponding to detachment of lithium ions from the electrode and discharging of the lithium ion secondary battery) was performed and the dedoping capacity was measured.

ドープ容量、脱ドープ容量は、この電極をリチウムイオン二次電池の負極として用いた時の充電容量、放電容量に相当する。したがって、測定されたドープ容量を「充電容量」と定義し、測定された脱ドープ容量を「放電容量」と定義した。コイン電池に対して充放電行い、初回の充電及び放電時のドープ容量及び脱ドープ容量を測定した。測定結果を用いて、初回充放電効率を得た。初回充放電効率は次の式により求めた。
初回充放電効率(%)=初回放電容量(mAh/g)/初回充電容量(mAh/g)×100
初回効率は、負極活物質材料である合金粒子に充電されるときに使用されたリチウムが可逆的に取り出せる比率とみなせる。
The doping capacity and the dedoping capacity correspond to the charge capacity and the discharge capacity when this electrode is used as a negative electrode of a lithium ion secondary battery. Therefore, the measured dope capacity was defined as the "charge capacity" and the measured dedoping capacity was defined as the "discharge capacity". The coin battery was charged and discharged, and the dope capacity and the dedope capacity at the time of initial charge and discharge were measured. The initial charge/discharge efficiency was obtained using the measurement results. The initial charge/discharge efficiency was calculated by the following formula.
Initial charge/discharge efficiency (%)=initial discharge capacity (mAh/g)/initial charge capacity (mAh/g)×100
The initial efficiency can be regarded as a ratio at which lithium used when the alloy particles that are the negative electrode active material are charged can be reversibly taken out.

[充放電サイクル特性評価]
さらに、30サイクル後の容量維持率を求めた。上述と同一条件でドープと脱ドープとからなるサイクルを30回繰り返し、「1サイクル目の脱ドープ時の放電容量」に対する「30サイクル目の脱ドープ時の放電容量」の比率を求めた。求めた比率を30サイクル後容量維持率とし、充放電サイクル特性の指標とした。結果を表3に示す。
[Charge/discharge cycle characteristic evaluation]
Further, the capacity retention rate after 30 cycles was obtained. A cycle consisting of doping and dedoping was repeated 30 times under the same conditions as described above, and the ratio of "the discharging capacity at the 30th cycle of dedoping" to the "discharging capacity at the first cycle of dedoping" was determined. The obtained ratio was used as a capacity retention ratio after 30 cycles and used as an index of charge/discharge cycle characteristics. The results are shown in Table 3.

[測定結果]
表3を参照して、試験番号2、3、5、7、8、10〜12、及び15のMG後合金粒子の化学組成は適切であり、特定合金相を含んだ。さらに、特定合金相に起因した最強回折線の半値幅が0.15〜2.5の範囲内であった。そのため、これらの試験番号のコイン電池特性での初回充放電効率は、REMを含有しない実施例よりも高かった。具体的には、試験番号2及び3の初回充放電効率は試験番号1よりも高かった。試験番号5の初回充放電効率は試験番号4よりも高かった。試験番号7〜14の初回充放電効率は試験番号6よりも高かった。試験番号15の初回充放電効率は試験番号16よりも高かった。また、試験番号11〜14に示されるとおり、REM含有量が大きくなるほど、初回充放電効率が高まった。
[Measurement result]
With reference to Table 3, the chemical composition of post-MG alloy particles of Test Nos. 2, 3, 5, 7, 8, 10-12, and 15 was appropriate and included a specific alloy phase. Furthermore, the full width at half maximum of the strongest diffraction line due to the specific alloy phase was within the range of 0.15 to 2.5. Therefore, the initial charge/discharge efficiencies of the coin battery characteristics of these test numbers were higher than those of the examples containing no REM. Specifically, the initial charge/discharge efficiencies of Test Nos. 2 and 3 were higher than those of Test No. 1. The initial charge/discharge efficiency of test number 5 was higher than that of test number 4. The initial charge/discharge efficiencies of Test Nos. 7 to 14 were higher than those of Test No. 6. The initial charge/discharge efficiency of test number 15 was higher than that of test number 16. Moreover, as shown in test numbers 11 to 14, the higher the REM content, the higher the initial charge/discharge efficiency.

一方、試験番号9、13及び14では、REM含有量が高すぎた。そのため、初回放電容量が、REM含有量が適切な実施例よりも低かった。具体的には、試験番号9の初回放電容量は、試験番号7及び8よりも低かった。試験番号13及び14の初回放電容量は、試験番号11及び12よりも低かった。 On the other hand, in the test numbers 9, 13 and 14, the REM content was too high. Therefore, the initial discharge capacity was lower than that of the example in which the REM content was appropriate. Specifically, the initial discharge capacity of test number 9 was lower than that of test numbers 7 and 8. The initial discharge capacities of test numbers 13 and 14 were lower than those of test numbers 11 and 12.

試験番号17では、ブレード部材を使用しないストリップキャスティング法により製造され、さらにメカニカルグラインディングを行わなかった。その結果、特定合金相を含まず、平衡相であるε相及びη’相を含んだ。そのため、初回充放電効率及び30サイクル後容量維持率が低かった。 Test No. 17 was manufactured by a strip casting method without using a blade member, and was not subjected to mechanical grinding. As a result, the specific alloy phase was not included, but the equilibrium phases ε phase and η′ phase were included. Therefore, the initial charge/discharge efficiency and the capacity retention rate after 30 cycles were low.

試験番号18では、結晶子径が小さすぎたため、半値幅が2.5を超えた。そのため、30サイクル後容量維持率が低かった。 In test number 18, the crystallite size was too small, and thus the half-width exceeded 2.5. Therefore, the capacity retention ratio after 30 cycles was low.

試験番号19では、Si含有量が高く、特定合金粒子の結晶構造は特定合金相を含有しなかった。その結果、初回充放電効率及び30サイクル後容量維持率が低かった。 In Test No. 19, the Si content was high, and the crystal structure of the specific alloy particles did not contain the specific alloy phase. As a result, the initial charge/discharge efficiency and the capacity retention rate after 30 cycles were low.

試験番号20では、メカニカルグラインディングを行わなかったため、結晶子径が大き過ぎ、半値幅が0.15未満であった。その結果、初回充電容量、初回放電容量及び初回充放電効率が低かった。 In Test No. 20, since the mechanical grinding was not performed, the crystallite diameter was too large and the half width was less than 0.15. As a result, the initial charge capacity, the initial discharge capacity and the initial charge/discharge efficiency were low.

以上、本発明の実施の形態を説明した。しかしながら、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。したがって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変更して実施することができる。 The embodiments of the present invention have been described above. However, the above-described embodiments are merely examples for implementing the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented by appropriately modifying the above-described embodiments without departing from the spirit thereof.

Claims (4)

at%で、
Sn:10〜25%、
Si:3〜15%、及び、
希土類元素:0.2〜0.6%を含有し、残部はCu及び不純物からなる化学組成を有する合金粒子を含み、
前記合金粒子は、X線回折プロファイルにおいて、最大の回折積分強度を有する回折線である最強回折線のピークが回折角2θの42.0〜44.0度の範囲に現れる相を含有し、
前記合金粒子の前記最強回折線の半値幅が、0.15〜2.5度である、負極活物質材料。
at%
Sn: 10 to 25%,
Si: 3 to 15%, and
Rare earth element: contains 0.2 to 0.6%, the balance contains alloy particles having a chemical composition of Cu and impurities,
In the X-ray diffraction profile, the alloy particles contain a phase in which the peak of the strongest diffraction line, which is the diffraction line having the maximum diffraction integrated intensity, appears in the range of 42.0 to 44.0 degrees of the diffraction angle 2θ,
The negative electrode active material, wherein the full width at half maximum of the strongest diffraction line of the alloy particles is 0.15 to 2.5 degrees.
請求項1に記載の負極活物質材料であって、
前記希土類元素は、La、Y、及びミッシュメタルからなる群から選択される1種又は2種以上である、負極活物質材料。
The negative electrode active material according to claim 1, wherein
The negative-electrode active material, wherein the rare earth element is one or more selected from the group consisting of La, Y, and misch metal.
請求項1又は請求項2に記載の負極活物質材料を含有する負極。 A negative electrode containing the negative electrode active material according to claim 1. 請求項3に記載の負極を備える電池。 A battery comprising the negative electrode according to claim 3.
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