JP6739762B2

JP6739762B2 - Method for producing silicon hydride compound

Info

Publication number: JP6739762B2
Application number: JP2016046220A
Authority: JP
Inventors: 阿部　剛; 剛阿部; 浩中沢
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd; University Public Corporation Osaka
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd; University Public Corporation Osaka
Priority date: 2016-03-09
Filing date: 2016-03-09
Publication date: 2020-08-12
Anticipated expiration: 2036-03-09
Also published as: JP2017160160A

Description

本発明は、水素化ケイ素化合物の製造方法に関し、具体的には、ケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換して水素化ケイ素化合物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a silicon hydride compound, and specifically to a method for producing a silicon hydride compound by converting a silicon-halogen bond into a silicon-hydrogen bond.

水素化ケイ素化合物は、様々な工業原料として用いられ、通常、対応するクロロシラン等のハロゲン化ケイ素化合物を水素化リチウムアルミニウムによって還元することにより合成される（例えば、非特許文献１）。しかし、水素化リチウムアルミニウムは反応性が高く、発火性物質であるため、大量に使用するには禁水および禁酸素の厳密な取り扱い設備が必要であり、また反応後も多量の活性な反応残渣（アルミニウム塩）を生じるため、別途不活性化するための後処理設備が必要となる。一方、水素化リチウムアルミニウム以外の還元剤を用いた例として、例えば特許文献１には水素化ナトリウムを用いてハロゲン化ケイ素化合物を水素化ケイ素化合物に還元する方法や、特許文献２には、水素化ホウ素ナトリウムを用いてハロゲン化ケイ素化合物を水素化ケイ素化合物に還元する方法が開示されている。しかしこれらの方法は、還元可能な基質（ハロゲン化ケイ素化合物）が限られていたり、反応速度が遅く反応時間が長くなるなどの課題がある。 A silicon hydride compound is used as various industrial raw materials, and is usually synthesized by reducing a corresponding silicon halide compound such as chlorosilane with lithium aluminum hydride (for example, Non-Patent Document 1). However, since lithium aluminum hydride is highly reactive and is an igniting substance, strict handling facilities for water and oxygen are required to use it in large amounts, and a large amount of active reaction residue remains after the reaction. Since (aluminum salt) is produced, a post-treatment facility for inactivating separately is required. On the other hand, as an example of using a reducing agent other than lithium aluminum hydride, for example, Patent Document 1 discloses a method of reducing a silicon halide compound to a silicon hydride compound, and Patent Document 2 discloses hydrogen. A method of reducing a silicon halide compound to a silicon hydride compound using sodium borohydride is disclosed. However, these methods have problems that the reducible substrate (silicon halide compound) is limited, the reaction rate is slow, and the reaction time is long.

仏国特許第１４２９９３０号明細書French Patent No. 1429930 特開２００３−１１９２００号公報JP, 2003-119200, A

Eaborn, C. et al., J. Organomet. Chem., vol.18, p.371-372 (1969)Eaborn, C. et al., J. Organomet. Chem., vol.18, p.371-372 (1969)

本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ホウ素水素化物を用いてケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換して水素化ケイ素化合物を製造する方法であって、速やかに反応を進行させることができ、様々な基質に対して適用することができる水素化ケイ素化合物の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is a method for producing a silicon hydride compound by converting a silicon-halogen bond into a silicon-hydrogen bond using a borohydride, Another object of the present invention is to provide a method for producing a silicon hydride compound, which allows the reaction to proceed and can be applied to various substrates.

前記課題を解決することができた本発明の水素化ケイ素化合物の製造方法とは、窒素を含有する有機溶媒の存在下、ホウ素水素化物を用いてケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換する工程を有するところに特徴を有する。本発明の製造方法によれば、還元力が比較的弱いホウ素水素化物を用いるにも関わらず、窒素を含有する有機溶媒中で還元反応を行うことにより、ケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に速やかに変換することができ、様々な種類の基質（ハロゲン化ケイ素化合物）に対して適用することができる。また、取り扱いが容易なホウ素水素化物を用いるため、水素化ケイ素化合物を製造する際の安全性が向上し、水素化ケイ素化合物の製造設備を簡略化することができ、大量生産が容易になる。 The method for producing a silicon hydride compound of the present invention, which was able to solve the above-mentioned problems, is to convert a silicon-halogen bond into a silicon-hydrogen bond using a borohydride in the presence of an organic solvent containing nitrogen. It is characterized by having steps. According to the production method of the present invention, a silicon-halogen bond is converted to a silicon-hydrogen bond by performing a reduction reaction in an organic solvent containing nitrogen, despite using a boron hydride having a relatively weak reducing power. It can be converted quickly and can be applied to various kinds of substrates (silicon halide compounds). Further, since the borohydride which is easy to handle is used, the safety at the time of producing the silicon hydride compound is improved, the production facility for the silicon hydride compound can be simplified, and the mass production becomes easy.

本発明の製造方法では、下記式（１）で表される化合物を反応基質として用いることができる。この場合、本発明の製造方法は、下記式（１）で表される化合物をホウ素水素化物と接触させて、前記化合物に含まれるケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換することとなる。 In the production method of the present invention, a compound represented by the following formula (1) can be used as a reaction substrate. In this case, in the production method of the present invention, the compound represented by the following formula (1) is brought into contact with a boron hydride to convert the silicon-halogen bond contained in the compound into a silicon-hydrogen bond.

Ｓｉ_aＸ_bＹ_c ・・・・・（１）
［式（１）中、Ｘは、水素原子、脂肪族炭化水素基、脂肪族炭化水素基で置換されていてもよいアリール基、または脂肪族炭化水素基で置換されていてもよいアラルキル基を表し、Ｙはハロゲン原子を表し、ａとｃは１以上の整数を表し、ｂは０以上の整数を表す。］ Si _a X _b Y _c (1)
[In the formula (1), X represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group which may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group, or an aralkyl group which may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group. , Y represents a halogen atom, a and c represent an integer of 1 or more, and b represents an integer of 0 or more. ]

前記有機溶媒としては、ニトリル類、アミン類、イミン類、アミド類またはイミド類を用いることが好ましい。また、前記ホウ素水素化物としては、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素リチウムを用いることが好ましい。 As the organic solvent, it is preferable to use nitriles, amines, imines, amides or imides. Further, it is preferable to use sodium borohydride or lithium borohydride as the borohydride.

本発明の製造方法によれば、還元力が比較的弱いホウ素水素化物を用いるにも関わらず、窒素を含有する有機溶媒中で還元反応を行うことにより、ケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に速やかに変換することができ、様々な種類の基質（ハロゲン化ケイ素化合物）に対して適用することができる。また、取り扱いが容易なホウ素水素化物を用いるため、水素化ケイ素化合物を製造する際の安全性が向上し、水素化ケイ素化合物の製造設備を簡略化することができ、大量生産が容易になる。 According to the production method of the present invention, a silicon-halogen bond is converted to a silicon-hydrogen bond by performing a reduction reaction in an organic solvent containing nitrogen, despite using a boron hydride having a relatively weak reducing power. It can be converted quickly and can be applied to various kinds of substrates (silicon halide compounds). Further, since the borohydride which is easy to handle is used, the safety at the time of producing the silicon hydride compound is improved, the production facility for the silicon hydride compound can be simplified, and the mass production becomes easy.

本発明の水素化ケイ素化合物の製造方法は、窒素を含有する有機溶媒の存在下、ホウ素水素化物を用いてケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換する工程を有するものである。本発明の水素化ケイ素化合物の製造方法によれば、大気（湿気）に対する反応性が比較的低く、取り扱いが容易なホウ素水素化物を用いて、窒素を含有する有機溶媒中でケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換するため、ハロゲン化ケイ素化合物から水素化ケイ素化合物を製造する際の安全性が向上し、しかも反応を速やかに進行させることができる。そのため、設備を簡略化することができ、水素化ケイ素化合物の大量生産が容易になる。さらに、様々なハロゲン化ケイ素化合物に対して適用することができるため、所望の水素化ケイ素化合物を簡便に製造することが可能となる。 The method for producing a silicon hydride compound of the present invention has a step of converting a silicon-halogen bond into a silicon-hydrogen bond using a borohydride in the presence of an organic solvent containing nitrogen. According to the method for producing a silicon hydride compound of the present invention, a boron-hydride having relatively low reactivity to the atmosphere (humidity) and easy to handle is used to form a silicon-halogen bond in an organic solvent containing nitrogen. Since it is converted into a silicon-hydrogen bond, the safety in producing a silicon hydride compound from a silicon halide compound is improved, and the reaction can be rapidly advanced. Therefore, the equipment can be simplified and mass production of the silicon hydride compound becomes easy. Furthermore, since it can be applied to various silicon halide compounds, a desired silicon hydride compound can be easily produced.

反応原料となるハロゲン化ケイ素化合物は、ケイ素−ハロゲン結合を有するものであれば特に限定されない。ケイ素原子には、ハロゲン原子以外の任意の置換基が結合していてもよく、ケイ素−ケイ素結合を有するものであってもよい。 The silicon halide compound used as the reaction raw material is not particularly limited as long as it has a silicon-halogen bond. Any substituent other than a halogen atom may be bonded to the silicon atom, or may have a silicon-silicon bond.

ハロゲン化ケイ素化合物としては、例えば下記式（１）で表される化合物を用いることができる。下記式（１）で表される化合物をホウ素水素化物と接触させることにより、当該化合物に含まれるケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換することができる。 As the silicon halide compound, for example, a compound represented by the following formula (1) can be used. The silicon-halogen bond contained in the compound can be converted into a silicon-hydrogen bond by bringing the compound represented by the following formula (1) into contact with a boron hydride.

Ｓｉ_aＸ_bＹ_c ・・・・・（１）
式（１）中、Ｘは、水素原子、脂肪族炭化水素基、脂肪族炭化水素基で置換されていてもよいアリール基、または脂肪族炭化水素基で置換されていてもよいアラルキル基を表し、Ｙはハロゲン原子を表す。なお、ａとｃは１以上の整数を表し、ｂは０以上の整数を表す。ｂが２以上の場合、複数のＸは同一であっても異なっていてもよく、ｃが２以上の場合、複数のＹは同一であっても、異なっていてもよい。 Si _a X _b Y _c (1)
In formula (1), X represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group optionally substituted with an aliphatic hydrocarbon group, or an aralkyl group optionally substituted with an aliphatic hydrocarbon group. , Y represents a halogen atom. In addition, a and c represent an integer of 1 or more, and b represents an integer of 0 or more. When b is 2 or more, a plurality of Xs may be the same or different, and when c is 2 or more, a plurality of Ys may be the same or different.

式（１）のＸの脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が具体的に挙げられる。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれであってもよい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基（例えば、ｎ−プロピル基やイソプロピル基）、ブチル基（例えば、ｎ−ブチル基やｔｅｒｔ−ブチル基）、ペンチル基（例えば、ｎ−ペンチル基やネオペンチル基）、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜６である。アルケニル基としては、例えば、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、シクロペンテニル基、シクロへキセニル基等が挙げられる。アルケニル基の炭素数は２〜２０が好ましく、より好ましくは２〜１０であり、さらに好ましくは２〜６である。アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、シクロペンチニル基、シクロへキシニル基等が挙げられる。アルキニル基の炭素数は２〜２０が好ましく、より好ましくは２〜１０であり、さらに好ましくは２〜６である。 Specific examples of the aliphatic hydrocarbon group represented by X in the formula (1) include an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group. The aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group (for example, an n-propyl group or an isopropyl group), a butyl group (for example, an n-butyl group or a tert-butyl group), and a pentyl group (for example, an n-group. Pentyl group and neopentyl group), hexyl group, heptyl group, octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. The alkyl group has preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and further preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the alkenyl group include an ethenyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a cyclopentenyl group and a cyclohexenyl group. The alkenyl group has preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and further preferably 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkynyl group include ethynyl group, propynyl group, butynyl group, pentynyl group, hexynyl group, heptynyl group, octynyl group, cyclopentynyl group, cyclohexynyl group and the like. The alkynyl group has preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and further preferably 2 to 6 carbon atoms.

式（１）のＸのアリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。アリール基の炭素数は、６〜１６が好ましく、より好ましくは６〜１０である。アリール基は、上記に説明したような脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。 Examples of the aryl group of X in the formula (1) include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group. The aryl group preferably has 6 to 16 carbon atoms, and more preferably has 6 to 10 carbon atoms. The aryl group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group as described above.

式（１）のＸのアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられる。アラルキル基の炭素数は、７〜２０が好ましく、より好ましくは７〜１４である。アラルキル基は、上記に説明したような脂肪族炭化水素基で置換されていてもよく、具体的には、アラルキル基に含まれるアリール基に脂肪族炭化水素基が結合していてもよい。 Examples of the aralkyl group of X in the formula (1) include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, a phenylpentyl group, and the like. The aralkyl group has preferably 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 14 carbon atoms. The aralkyl group may be substituted with the aliphatic hydrocarbon group as described above, and specifically, the aryl group contained in the aralkyl group may have an aliphatic hydrocarbon group bonded thereto.

式（１）中、ａはハロゲン化ケイ素化合物に含まれるケイ素原子の数を表し、１以上の整数を表す。ハロゲン化ケイ素化合物は、ケイ素原子を１つのみ有する化合物（モノシラン化合物）であってもよく、複数のケイ素原子が繋がった直鎖または分岐鎖状の化合物（鎖状ハロシラン化合物）であってもよい。この場合、ａは１〜８が好ましく、６以下がより好ましく、４以下がさらに好ましい。ハロゲン化ケイ素化合物は、ケイ素原子が環状に繋がった化合物（環状ハロシラン化合物）であってもよく、この場合、ａは４以上が好ましく、５以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。環状ハロシラン化合物は、環状に繋がったケイ素原子にシリル基が結合していてもよい。 In the formula (1), a represents the number of silicon atoms contained in the silicon halide compound and represents an integer of 1 or more. The silicon halide compound may be a compound having only one silicon atom (monosilane compound), or may be a linear or branched compound (chain halosilane compound) in which a plurality of silicon atoms are connected. .. In this case, a is preferably 1 to 8, more preferably 6 or less, and further preferably 4 or less. The silicon halide compound may be a compound in which silicon atoms are cyclically connected (cyclic halosilane compound), and in this case, a is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 10 or less, and 8 or less. More preferable. The cyclic halosilane compound may have a silyl group bonded to a silicon atom connected in a ring.

式（１）中、ｂはハロゲン化ケイ素化合物に含まれる置換基Ｘの数を表し、ｃはハロゲン化ケイ素化合物に含まれるハロゲン原子の数を表す。ｂとｃの上限とその合計数はハロゲン化ケイ素化合物の形態によって変わる。例えば、モノシラン化合物または鎖状ハロシラン化合物の場合は、ｂは０〜２ａ＋１の整数で、ｃは１〜２ａ＋２の整数（ただし、ｂ＋ｃ＝２ａ＋２）であることが好ましい。環状ハロシラン化合物の場合は、ｂは０〜２ａ−１の整数で、ｃは１〜２ａの整数（ただし、ｂ＋ｃ＝２ａ）であることが好ましい。 In the formula (1), b represents the number of substituents X contained in the halogenated silicon compound, and c represents the number of halogen atoms contained in the halogenated silicon compound. The upper limits of b and c and the total number thereof depend on the form of the silicon halide compound. For example, in the case of a monosilane compound or a chain halosilane compound, b is preferably an integer of 0 to 2a+1 and c is preferably an integer of 1 to 2a+2 (however, b+c=2a+2). In the case of a cyclic halosilane compound, b is preferably an integer of 0 to 2a-1, and c is preferably an integer of 1 to 2a (however, b+c=2a).

ホウ素水素化物としては、ホウ素原子に少なくとも１つの水素原子が結合した化合物であり、還元剤として機能するものであれば特に限定されず、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素カリウム、水素化アセトキシホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム等が挙げられる。これらは１種のみを用いても、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、入手が容易で十分な還元力を有する点で、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素リチウムを用いることが好ましい。 The borohydride is a compound in which at least one hydrogen atom is bonded to a boron atom, and is not particularly limited as long as it functions as a reducing agent. For example, sodium borohydride, lithium borohydride, borohydride Examples include potassium, zinc borohydride, lithium triethylborohydride, lithium tri(sec-butyl)borohydride, potassium tri(sec-butyl)borohydride, sodium acetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride, and the like. .. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, sodium borohydride or lithium borohydride is preferably used because it is easily available and has a sufficient reducing power.

本発明の製造方法では、ハロゲン化ケイ素化合物の有するケイ素−ハロゲン結合をホウ素水素化物を用いてケイ素−水素結合に変換する反応を、窒素を含有する有機溶媒（含窒素溶媒）の存在下で行う。ホウ素水素化物は還元剤としては還元力がそれほど強くなく、一般にハロゲン化ケイ素化合物のケイ素−ハロゲン結合の還元反応を速やかに進行させることは難しく、反応が全く進行しない場合もある。しかし、含窒素溶媒の存在下で反応を行えば、含窒素溶媒はホウ素水素化物に対する親和性が高いため、還元反応を速やかに進行させることができる。 In the production method of the present invention, the reaction of converting a silicon-halogen bond of a silicon halide compound into a silicon-hydrogen bond using a boron hydride is performed in the presence of an organic solvent containing nitrogen (nitrogen-containing solvent). .. Boron hydride does not have such a strong reducing power as a reducing agent, and it is generally difficult to promptly proceed the reduction reaction of the silicon-halogen bond of the silicon halide compound, and the reaction may not proceed at all. However, if the reaction is carried out in the presence of a nitrogen-containing solvent, the nitrogen-containing solvent has a high affinity for borohydride, so that the reduction reaction can be rapidly advanced.

含窒素溶媒としては、ニトリル類、アミン類、イミン類、アミド類、イミド類等が挙げられる。ニトリル類としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル、ブチロニトリル、３−ブテンニトリル、２−ペンテンニトリル、３−ペンテンニトリル、４−ペンテンニトリル、ベンゾニトリル、マロノニトリル、アジポニトリル、ノナンジニトリル、４，４’−ジベンゾニトリル等が挙げられる。アミン類としては、トリエチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、ジイソプロピルエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、スペルミジン、スペルミン、アマンタジン、アニリン、フェネチルアミン、トルイジン等の非環状アミン類；ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、キヌクリジン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン等の環状アミン類が挙げられる。イミン類としては、アミジン、グアニジン、ベンゾフェノンイミン等が挙げられる。アミド類としては、ホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンズアミド、アセトアニリド等の非環状アミド類；２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−メチル−ε−カプロラクタム等の環状アミド類が挙げられる。イミド類としては、フタルイミド、Ｎ−メチルフタルイミド、Ｎ−ベンジルフタルイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、１，４−ビス（マレイミド）ブタン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、含窒素溶媒としては、安定性に優れる点から、非プロトン性の含窒素溶媒を用いることが好ましい。さらに、ホウ素水素化物の溶解性に優れ、還元反応を速やかに進行させることが可能な点から、ニトリル類を用いることが好ましい。 Examples of the nitrogen-containing solvent include nitriles, amines, imines, amides, imides and the like. Examples of the nitriles include acetonitrile, propionitrile, acrylonitrile, butyronitrile, 3-butenenitrile, 2-pentenenitrile, 3-pentenenitrile, 4-pentenenitrile, benzonitrile, malononitrile, adiponitrile, nonanedinitrile, 4, 4'-dibenzonitrile etc. are mentioned. The amines include triethylamine, diethylamine, ethylenediamine, diisopropylethylamine, tetramethylethylenediamine, hexamethylenediamine, spermidine, spermine, amantadine, aniline, phenethylamine, toluidine, and other acyclic amines; pyrrolidine, piperidine, piperazine, quinuclidine, pyrrole, Examples include cyclic amines such as pyrazole, imidazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, and pyrazine. Examples of imines include amidine, guanidine, and benzophenone imine. The amides include non-cyclic amides such as formamide, acetamide, N,N-dimethylformamide, benzamide, acetanilide; 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methyl-ε. -Cyclic amides such as caprolactam. Examples of the imides include phthalimide, N-methylphthalimide, N-benzylphthalimide, N-ethylmaleimide, N-benzylmaleimide, and 1,4-bis(maleimide)butane. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, as the nitrogen-containing solvent, it is preferable to use an aprotic nitrogen-containing solvent from the viewpoint of excellent stability. Furthermore, it is preferable to use nitriles because they are excellent in the solubility of borohydride and can promote the reduction reaction quickly.

含窒素溶媒は、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、反応前に蒸留や脱水等の精製を施しておくことが好ましい。 The nitrogen-containing solvent is preferably purified by distillation or dehydration before the reaction in order to remove water and dissolved oxygen contained therein.

還元反応を行う際の溶媒は、含窒素溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、ハロゲン化ケイ素化合物が固体であり、それを反応系に加える場合、含窒素溶媒以外のハロゲン化ケイ素化合物の良溶媒を用いてハロゲン化ケイ素化合物の溶液または分散液を調製し、それを反応系に加えるようにしてもよい。含窒素溶媒以外の溶媒としては、例えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒も、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、反応前に蒸留や脱水等の精製を施しておくことが好ましい。なお、還元反応を行う溶媒中には含窒素溶媒ができるだけ多く含まれることが好ましく、具体的には、溶媒１００質量％中、含窒素溶媒の割合が５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が好ましく、実質的に含窒素溶媒のみを用いることが特に好ましい。 The solvent used for the reduction reaction may contain a solvent other than the nitrogen-containing solvent. For example, when the silicon halide compound is a solid and is added to the reaction system, a solution or dispersion liquid of the silicon halide compound is prepared using a good solvent for the silicon halide compound other than the nitrogen-containing solvent, and the solution is reacted. It may be added to the system. Examples of the solvent other than the nitrogen-containing solvent include hydrocarbon solvents such as hexane, benzene, and toluene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether, and methyl tertiary butyl ether. These solvents are also preferably purified by distillation or dehydration before the reaction in order to remove water and dissolved oxygen contained therein. The solvent for the reduction reaction preferably contains as much nitrogen-containing solvent as possible, and specifically, the ratio of the nitrogen-containing solvent in 100% by mass of the solvent is preferably 50% by mass or more, and 80% by mass is preferable. The content is more preferably at least mass%, more preferably at least 90 mass%, and it is particularly preferable to use substantially only the nitrogen-containing solvent.

溶媒の使用量は特に限定されないが、通常、ホウ素水素化物の濃度が０．１ｍｏｌ／Ｌ以上１５ｍｏｌ／Ｌ以下となるように調整することが好ましく、より好ましい濃度は０．３ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であり、さらに好ましい濃度は０．５ｍｏｌ／Ｌ以上８ｍｏｌ／Ｌ以下である。ホウ素水素化物の濃度が前記範囲より高い場合、すなわち溶媒の使用量が少なすぎると、還元反応により生じる熱が十分に除熱されず、またホウ素水素化物が溶解しにくいために反応速度が低下する等の問題が生じるおそれがある。一方、ホウ素水素化物の濃度が前記範囲より低い場合、すなわち溶媒の使用量が多すぎると、例えば、還元反応後に蒸留により反応生成物を精製する場合などに留去すべき溶媒量が多くなり、生産性が低下しやすくなる。 The amount of the solvent used is not particularly limited, but it is usually preferable to adjust the concentration of the boron hydride to be 0.1 mol/L or more and 15 mol/L or less, and more preferable concentration is 0.3 mol/L or more and 10 mol/L. L or less, and a more preferable concentration is 0.5 mol/L or more and 8 mol/L or less. When the concentration of the boron hydride is higher than the above range, that is, when the amount of the solvent used is too small, the heat generated by the reduction reaction is not sufficiently removed, and the reaction rate decreases because the boron hydride is difficult to dissolve. Such problems may occur. On the other hand, when the concentration of the boron hydride is lower than the above range, that is, when the amount of the solvent used is too large, for example, when the reaction product is purified by distillation after the reduction reaction, the amount of the solvent to be distilled off is large, Productivity tends to decrease.

ハロゲン化ケイ素化合物とホウ素水素化物の使用量は適宜設定すればよく、例えば、ハロゲン化ケイ素化合物の有するケイ素−ハロゲン結合１個に対するホウ素水素化物のヒドリドの当量が１．０当量以上となることが好ましく、１．２当量以上がより好ましく、１．５当量以上がさらに好ましく、また１５当量以下が好ましく、８当量以下がより好ましく、２当量以下がさらに好ましい。ホウ素水素化物の量が多すぎると、後処理に時間を要し、生産性が低下する傾向にある。一方、ホウ素水素化物の量が少なすぎると、収率が低下する傾向にあるため好ましくない。 The amounts of the silicon halide compound and the borohydride used may be set appropriately, and for example, the equivalent of the hydride of the boron hydride to one silicon-halogen bond of the silicon halide compound may be 1.0 equivalent or more. It is preferably 1.2 equivalents or more, more preferably 1.5 equivalents or more, further preferably 15 equivalents or less, more preferably 8 equivalents or less, still more preferably 2 equivalents or less. If the amount of the boron hydride is too large, the post-treatment will take time and the productivity tends to decrease. On the other hand, if the amount of borohydride is too small, the yield tends to decrease, which is not preferable.

ケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換する還元反応は、ハロゲン化ケイ素化合物をホウ素水素化物と接触させることにより行うことができる。ハロゲン化ケイ素化合物とホウ素水素化物とを接触させる方法としては、例えば、（１）ハロゲン化ケイ素化合物とホウ素水素化物の一方を溶媒中に溶解または分散させて溶液または分散液としておき、他方と混合（他方を溶液または分散液に加えるか、他方に溶液または分散液を加えるか）する方法、（２）両方をそれぞれ溶媒中に溶解または分散させて溶液または分散液としておいた後に、両者を混合する方法、（３）溶媒中にハロゲン化ケイ素化合物とホウ素水素化物を同時にもしくは順次加える方法等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは上記（１）または（２）の態様であり、特に、ホウ素水素化物を含窒素溶媒中に溶解または分散させて溶液または分散液としておき、そこにハロゲン化ケイ素化合物を加える方法が好ましい。このような方法を採用することにより、反応系においてホウ素水素化物を高濃度に存在させることができ、還元反応を速やかに進行させやすくなる。 The reduction reaction for converting a silicon-halogen bond into a silicon-hydrogen bond can be carried out by bringing a silicon halide compound into contact with a boron hydride. Examples of the method of contacting the silicon halide compound and the boron hydride include (1) dissolving or dispersing one of the silicon halide compound and the boron hydride in a solvent to form a solution or dispersion, and mixing with the other. (Adding the other to the solution or dispersion, or adding the solution or the dispersion to the other), (2) dissolving or dispersing both in a solvent to form a solution or dispersion, and then mixing the two Method, and (3) a method in which a silicon halide compound and a boron hydride are simultaneously or sequentially added to a solvent. Among these, particularly preferred is the above-mentioned embodiment (1) or (2), and in particular, a boron hydride is dissolved or dispersed in a nitrogen-containing solvent to prepare a solution or dispersion, and the silicon halide compound is added thereto. Is preferred. By adopting such a method, the boron hydride can be made to exist in a high concentration in the reaction system, and the reduction reaction can be facilitated to proceed rapidly.

ハロゲン化ケイ素化合物とホウ素水素化物との接触に際しては、還元を行う反応系内にハロゲン化ケイ素化合物およびホウ素水素化物の少なくとも一方（すなわち一方または両方）を逐次的に添加（逐次添加）することが好ましい。このようにハロゲン化ケイ素化合物およびホウ素水素化物の一方または両方を逐次添加することにより、還元反応で生じる発熱を添加速度等でコントロールすることができるので、例えばコンデンサー等の小型化が可能になるなど、生産性の向上に繋がる効果が得られる。また、副生物の生成を抑制し、反応収率を向上させる効果を得ることも可能となる。逐次添加する場合、連続的に添加しても分割的に添加してもよいが、連続的に添加することが好ましい。 At the time of contact between the silicon halide compound and the boron hydride, at least one (that is, one or both) of the silicon halide compound and the boron hydride may be sequentially added (sequential addition) to the reaction system for reduction. preferable. Thus, by sequentially adding one or both of the silicon halide compound and the borohydride, the heat generated by the reduction reaction can be controlled by the addition rate, etc., so that it is possible to reduce the size of the capacitor, for example. , The effect of improving productivity can be obtained. It also becomes possible to obtain the effect of suppressing the production of by-products and improving the reaction yield. When added sequentially, it may be added continuously or in portions, but it is preferable to add continuously.

還元反応を行う際の温度は特に限定されず、反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、−７０℃以上が好ましく、−４０℃以上がより好ましく、０℃以上がさらに好ましく、また１５０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましく、８０℃以下がさらに好ましく、５０℃以下が特に好ましい。 The temperature at which the reduction reaction is carried out is not particularly limited and may be appropriately adjusted depending on the reactivity. For example, −70° C. or higher is preferable, −40° C. or higher is more preferable, 0° C. or higher is further preferable, and It is preferably 150°C or lower, more preferably 100°C or lower, further preferably 80°C or lower, and particularly preferably 50°C or lower.

反応時間は、反応の進行の程度に応じて適宜調整すればよく、例えば、１分〜２４時間の間で適宜調整すればよい。なお、本発明の製造方法によれば、還元反応を速やかに進行させることができることから、反応時間は８時間以下とすることもでき、３時間以下でもよく、１時間以下でもよい。反応時間は、ハロゲン化ケイ素化合物およびホウ素水素化物の少なくとも一方を逐次添加する場合は、逐次添加に要する時間も含めた時間である。 The reaction time may be appropriately adjusted depending on the degree of progress of the reaction, for example, 1 minute to 24 hours. According to the production method of the present invention, the reduction reaction can be allowed to proceed promptly, and thus the reaction time may be 8 hours or less, 3 hours or less, or 1 hour or less. The reaction time is the time including the time required for the sequential addition when at least one of the silicon halide compound and the boron hydride is sequentially added.

ハロゲン化ケイ素化合物の還元生成物である水素化ケイ素化合物は、酸素の存在によって分解する場合がある。そのため還元反応は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。 A silicon hydride compound, which is a reduction product of a silicon halide compound, may decompose in the presence of oxygen. Therefore, the reduction reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas.

ハロゲン化ケイ素化合物をホウ素水素化物と接触させることにより、ハロゲン化ケイ素化合物の有するケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合にすることができる。本発明の製造方法によれば、ケイ素原子に結合する置換基の種類によらず、例えば、脂肪族炭化水素基やアリール基やアラルキル基が結合したハロゲン化ケイ素化合物のいずれであっても、ハロゲン化ケイ素化合物の有するケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に還元することができる。ハロゲン化ケイ素化合物は、ケイ素−ケイ素結合を有するもの（例えば、ポリハロシランや環状ハロシラン）であってもよい。ケイ素化合物に結合するハロゲン原子の数も特に限定されない。いずれのハロゲン化ケイ素化合物であっても、速やかに還元反応を進行させることができる。 By bringing the silicon halide compound into contact with the boron hydride, the silicon-halogen bond of the silicon halide compound can be converted to a silicon-hydrogen bond. According to the production method of the present invention, regardless of the kind of the substituent bonded to the silicon atom, for example, any of the halogenated silicon compounds having an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or an aralkyl group bonded thereto, halogen It is possible to reduce the silicon-halogen bond of the silicon compound to a silicon-hydrogen bond. The silicon halide compound may be one having a silicon-silicon bond (for example, polyhalosilane or cyclic halosilane). The number of halogen atoms bonded to the silicon compound is also not particularly limited. With any of the silicon halide compounds, the reduction reaction can be rapidly advanced.

上記式（１）で表されるハロゲン化ケイ素化合物を反応原料とした場合、本発明の製造方法により、下記式（２）で表される水素化ケイ素化合物を得ることができる。下記式（２）において、Ｘは水素原子を含まない以外は上記と同じ意味を表し、ａ〜ｃは上記と同じ意味を表す。
Ｓｉ_aＸ_bＨ_c ・・・・・（２） When the silicon halide compound represented by the above formula (1) is used as a reaction raw material, the silicon hydride compound represented by the following formula (2) can be obtained by the production method of the present invention. In the following formula (2), X has the same meaning as above except that it does not contain a hydrogen atom, and ac represents the same meaning as above.
Si _a X _b H _c (2)

還元反応で得られた水素化ケイ素化合物は、純度を高めるために精製を行ってもよい。水素化ケイ素化合物の精製方法としては、固液分離、蒸留、晶析、抽出等の公知の精製方法を採用することができる。例えば反応液中には、水素化ケイ素化合物以外に、含窒素溶媒や、水素化ケイ素化合物よりも低沸点の軽沸不純物、水素化ケイ素化合物よりも高沸点の高沸不純物が溶解している場合がある。従って、高純度の水素化ケイ素化合物を得るために、蒸留（分留）を行うことが好ましい。蒸留の際の温度は、反応液に含まれる水素化ケイ素化合物と不純物組成に応じて適宜設定すればよい。 The silicon hydride compound obtained by the reduction reaction may be purified in order to increase its purity. As a method for purifying the silicon hydride compound, known purification methods such as solid-liquid separation, distillation, crystallization and extraction can be adopted. For example, in the reaction solution, in addition to a silicon hydride compound, a nitrogen-containing solvent, a light-boiling impurity having a boiling point lower than that of the silicon hydride compound, or a high-boiling impurity having a boiling point higher than that of the silicon hydride compound is dissolved. There is. Therefore, it is preferable to carry out distillation (fractional distillation) in order to obtain a high-purity silicon hydride compound. The temperature at the time of distillation may be appropriately set according to the silicon hydride compound contained in the reaction solution and the impurity composition.

以上のように、本発明の水素化ケイ素化合物の製造方法によれば、ヒドリド還元剤として代表的な水素化リチウムアルミニウムと比べて還元力が弱いホウ素水素化物を用いるにも関わらず、窒素を含有する有機溶媒中で還元反応を行うことにより、ハロゲン化ケイ素化合物の有するケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換することができる。しかも、還元反応を速やかに進行させることができ、様々なハロゲン化ケイ素化合物に対して適用することができる。本発明の製造方法によれば、大気（湿気）に対する反応性が比較的低く、取り扱いが容易なホウ素水素化物を用いるため、水素化ケイ素化合物を製造する際の安全性が向上し、設備（保管設備、製造設備、後処理設備等）を簡略化することができ、水素化ケイ素化合物の大量生産が容易になる。また、水素化ケイ素化合物をより安価に製造することができる。 As described above, according to the method for producing a silicon hydride compound of the present invention, although a boron hydride having a weaker reducing power is used as a hydride reducing agent as compared with a typical lithium aluminum hydride, it contains nitrogen. The silicon-halogen bond of the silicon halide compound can be converted into a silicon-hydrogen bond by performing the reduction reaction in the organic solvent. Moreover, the reduction reaction can be rapidly advanced, and the present invention can be applied to various silicon halide compounds. According to the production method of the present invention, since the borohydride which has relatively low reactivity to the atmosphere (humidity) and is easy to handle is used, the safety in producing the silicon hydride compound is improved, and the facility (storage (Equipment, manufacturing equipment, post-treatment equipment, etc.) can be simplified, and mass production of silicon hydride compounds becomes easy. Further, the silicon hydride compound can be manufactured at a lower cost.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples, and may be appropriately modified within a range compatible with the gist of the preceding and the following. Of course, it is possible to carry out, and all of them are included in the technical scope of the present invention.

（１）分析方法
（１−１）ＮＭＲ測定
¹ＨＮＭＲ測定は、日本電子社製の「ＪＮＭＡＬ−４００」を用いて行った。測定は室温下で行い、溶媒としてＣＤＣｌ₃を用い、残留系溶媒のＣＨＣｌ₃を基準として測定を行った。 (1) Analytical method (1-1) NMR measurement
¹ H NMR measurement was performed using “JNM AL-400” manufactured by JEOL Ltd. The measurement was performed at room temperature, CDCl ₃ was used as a solvent, and CHCl ₃ as a residual solvent was used as a reference.

（１−２）ＧＣ−ＭＳ測定
ＧＣ−ＭＳ測定は、島津製作所社製の「ＳＩＭＡＤＺＵ−ＱＰ２０１０Ｐｌｕｓ」（ＧＣ：Ｒｔｘ−５ＭＳｃａｐｉｌｌａｒｙｃｏｌｕｍｎ、ＭＳ：ｉｏｎｔｒａｐｄｅｔｅｃｔｏｒ）を用いて行った。 (1-2) GC-MS measurement The GC-MS measurement was performed using "SIMADZU-QP2010 Plus" (GC:Rtx-5MS capillary column, MS:ion trap detector) manufactured by Shimadzu Corporation.

（２）水素化ケイ素化合物の合成例
（２−１）合成例１
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いてジフェニルメチルクロロシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＣｌ）１０４．９μＬ（０．５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら１５分間反応させた。反応後、アセトニトリルを減圧留去して、得られた生成物（混合物）に大気下にてｎ−ヘキサン５ｍＬを加えてシリカパッド（ナカライテスク社製のカラムクロマトグラフ用シリカゲル６０（２３０〜４００ｍｅｓｈ）を用いて作製、以下同）を用いて濾過し、ｎ−ヘキサンでシリカパッドを洗浄（５ｍＬ×２回）した後乾燥させることで、ジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）８０．４ｍｇ（０．４０５ｍｍｏｌ）を単離した。ジフェニルメチルシランの収率は８１％であった。ジフェニルメチルシランの同定は¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：４．９４ｐｐｍ（四重線、Ｊ＝３．７Ｈｚ）。 (2) Synthesis example of silicon hydride compound (2-1) Synthesis example 1
After replacing the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.5 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. 104.9 μL (0.5 mmol) of diphenylmethylchlorosilane (Ph ₂ MeSiCl) was added dropwise to this suspension using a microsyringe, and the mixture was reacted under stirring at room temperature for 15 minutes. After the reaction, acetonitrile was distilled off under reduced pressure, and 5 mL of n-hexane was added to the obtained product (mixture) in the atmosphere to give a silica pad (silica gel 60 (230-400 mesh) for column chromatograph manufactured by Nacalai Tesque, Inc.). By filtration, the silica pad was washed with n-hexane (5 mL×2 times), and then dried to obtain 80.4 mg (0.405 mmol) of diphenylmethylsilane (Ph ₂ MeSiH). ) Was isolated. The yield of diphenylmethylsilane was 81%. Identification of diphenylmethylsilane was performed using ¹ H NMR and GC-MS.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 4.94 ppm (quartet, J=3.7 Hz).

（２−２）合成例２
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、トリフェニルクロロシラン（Ｐｈ₃ＳｉＣｌ）１４７．４ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を加え、室温条件下で撹拌しながら１５分間反応させた。反応後、アセトニトリルを留去して、得られた生成物（混合物）に大気下にてｎ−ヘキサン５ｍＬを加えてシリカパッドを用いて濾過し、乾燥させることで、トリフェニルシラン（Ｐｈ₃ＳｉＨ）８５．０ｍｇ（０．３２６ｍｍｏｌ）を単離した。トリフェニルシランの収率は６５％であった。トリフェニルシランの同定は¹ＨＮＭＲを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：５．４７ｐｐｍ（一重線）。 (2-2) Synthesis Example 2
After replacing the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.5 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. To this suspension, 147.4 mg (0.5 mmol) of triphenylchlorosilane (Ph ₃ SiCl) was added, and the mixture was reacted for 15 minutes while stirring at room temperature. After the reaction, acetonitrile was distilled off, and 5 mL of n-hexane was added to the obtained product (mixture) in the air, and the mixture was filtered using a silica pad and dried to give triphenylsilane (Ph ₃ SiH ) 85.0 mg (0.326 mmol) was isolated. The yield of triphenylsilane was 65%. Identification of triphenylsilane was performed using ¹ H NMR.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 5.47 ppm (single line).

（２−３）合成例３
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いてトリエチルクロロシラン（Ｅｔ₃ＳｉＣｌ）８３．９μＬ（０．５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら１５分間反応させた。反応後、ＮＭＲ収率を算出するための基準物質としてフェロセンを１８．６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合液の一部を重クロロホルム（ＣＤＣｌ₃）に溶解し、¹ＨＮＭＲを測定したところ、トリエチルシラン（Ｅｔ₃ＳｉＨ）がＮＭＲ収率８８％（基準物質：フェロセン）で生成していることが分かった。トリエチルシランの同定は¹ＨＮＭＲを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：３．６０ｐｐｍ（七重線、Ｊ＝３．２Ｈｚ）。なお、七重線のうち、左右１つずつのピークはノイズと重なって分かりにくかった。 (2-3) Synthesis Example 3
After replacing the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.5 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. 83.9 μL (0.5 mmol) of triethylchlorosilane (Et ₃ SiCl) was added dropwise to this suspension using a microsyringe, and the mixture was reacted for 15 minutes while stirring at room temperature. After the reaction, 18.6 mg (0.1 mmol) of ferrocene was added as a reference substance for calculating the NMR yield. A part of the obtained mixed solution was dissolved in deuterated chloroform (CDCl ₃ ) and ¹ H NMR was measured. As a result, triethylsilane (Et ₃ SiH) was produced with an NMR yield of 88% (reference substance: ferrocene). I found out that Identification of triethylsilane was performed using ¹ H NMR.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 3.60 ppm (7-fold line, J=3.2 Hz). It should be noted that the left and right peaks of the seven-fold line overlapped with noise, making it difficult to understand.

（２−４）合成例４
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．２５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いてジクロロジフェニルシラン（Ｐｈ₂ＳｉＣｌ₂）５１．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら３０分間反応させた。反応後、アセトニトリルを留去して、得られた生成物（混合物）に大気下にてｎ−ヘキサン５ｍＬを加えて、アルゴン雰囲気のグローブボックス中でシリカパッドを用いて濾過し、乾燥させることで、ジフェニルシラン（Ｐｈ₂ＳｉＨ₂）２１．３ｍｇ（０．１１６ｍｍｏｌ）を単離した。ジフェニルシランの収率は４６％であった（ＮＭＲ収率は５６％）。ジフェニルシランの同定は¹ＨＮＭＲを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：４．９１ｐｐｍ（一重線）。 (2-4) Synthesis Example 4
After substituting the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.25 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. 51.8 mg (0.25 mmol) of dichlorodiphenylsilane (Ph ₂ SiCl ₂ ) was added dropwise to this suspension using a microsyringe, and the mixture was reacted under stirring at room temperature for 30 minutes. After the reaction, acetonitrile was distilled off, and 5 mL of n-hexane was added to the obtained product (mixture) in the air, and the mixture was filtered using a silica pad in a glove box in an argon atmosphere and dried. , 21.3 mg (0.116 mmol) of diphenylsilane (Ph ₂ SiH ₂ ) was isolated. The yield of diphenylsilane was 46% (NMR yield was 56%). Identification of diphenylsilane was performed using ¹ H NMR.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 4.91 ppm (single line).

（２−５）合成例５
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．２５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いてジクロロジヘキシルシラン（（ｎ−Ｃ₆Ｈ₁₃）₂ＳｉＣｌ₂）６９．７ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら３０分間反応させた。反応後、アセトニトリルを留去して、得られた生成物（混合物）に大気下にてｎ−ヘキサン５ｍＬを加えて、アルゴン雰囲気のグローブボックス中でシリカパッドを用いて濾過し、乾燥させることで、ジヘキシルシラン（（ｎ−Ｃ₆Ｈ₁₃）₂ＳｉＨ₂）２７．３ｍｇ（０．１３６ｍｍｏｌ）を単離した。ジヘキシルシランの収率は５４％であった（ＮＭＲ収率は９０％）。ジヘキシルシランの同定は¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：３．６３ｐｐｍ（五重線、Ｊ＝３．６Ｈｚ）。 (2-5) Synthesis Example 5
After substituting the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.25 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. To this suspension was added dropwise a dichlorosilane dihexyl silane _{_{((n-C 6 H 13}} ) 2 SiCl 2) 69.7mg (0.25mmol) using a microsyringe and allowed to react for 30 minutes at room temperature with stirring under It was After the reaction, acetonitrile was distilled off, and 5 mL of n-hexane was added to the obtained product (mixture) in the air, and the mixture was filtered using a silica pad in a glove box in an argon atmosphere and dried. the dihexyl silane _{_{((n-C 6 H 13}} ) 2 SiH 2) 27.3mg (0.136mmol) was isolated. The yield of dihexylsilane was 54% (NMR yield 90%). The identification of dihexylsilane was carried out using ¹ H NMR and GC-MS.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 3.63 ppm (quintet, J=3.6 Hz).

（２−６）合成例６
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．２５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いてβ−フェネチルトリクロロシラン（（ＰｈＣ₂Ｈ₄）ＳｉＣｌ₃）３３．０μＬ（０．１７ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら３０分間反応させた。反応後、ＮＭＲ収率を算出するための基準物質としてフェロセンを３．７２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合液の一部を重クロロホルム（ＣＤＣｌ₃）に溶解し、¹ＨＮＭＲを測定したところ、β−フェネチルシラン（（ＰｈＣ₂Ｈ₄）ＳｉＨ₃）がＮＭＲ収率８２％で生成していることが分かった。β−フェネチルシランの同定は¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：３．５０ｐｐｍ（三重線、Ｊ＝４．０Ｈｚ）。 (2-6) Synthesis Example 6
After substituting the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.25 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. To this suspension, 33.0 μL (0.17 mmol) of β-phenethyltrichlorosilane ((PhC ₂ H ₄ )SiCl ₃ ) was added dropwise using a microsyringe and reacted for 30 minutes while stirring at room temperature. .. After the reaction, 3.72 mg (0.02 mmol) of ferrocene was added as a reference substance for calculating the NMR yield. A part of the obtained mixed solution was dissolved in deuterated chloroform (CDCl ₃ ) and ¹ H NMR was measured. As a result, β-phenethylsilane ((PhC ₂ H ₄ )SiH ₃ ) was produced with an NMR yield of 82%. I found out. Identification of β-phenethylsilane was carried out using ¹ H NMR and GC-MS.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 3.50 ppm (triplet line, J=4.0 Hz).

（２−７）合成例７
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．２５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いて１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン（ＣｌＭｅ₂Ｓｉ−ＳｉＭｅ₂Ｃｌ）４６．１ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら１５分間反応させた。反応後、ＮＭＲ収率を算出するための基準物質としてフェロセン１８．６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合液の一部を重クロロホルム（ＣＤＣｌ₃）に溶解し、¹ＨＮＭＲを測定したところ、１，１，２，２−テトラメチルジシラン（ＨＭｅ₂Ｓｉ−ＳｉＭｅ₂Ｈ）がＮＭＲ収率７２％（基準物質：フェロセン）で生成していることが分かった。１，１，２，２−テトラメチルジシランの同定は¹ＨＮＭＲを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：３．６９ｐｐｍ（多重線）。 (2-7) Synthesis Example 7
After substituting the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.25 mL of acetonitrile as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. To this suspension was added dropwise using a microsyringe 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetramethyl-disilane _{_{(ClMe 2 Si-SiMe 2 Cl}} ) 46.1mg (0.25mmol), at room temperature The reaction was carried out for 15 minutes while stirring under the conditions. After the reaction, 18.6 mg (0.1 mmol) of ferrocene was added as a reference substance for calculating the NMR yield. A part of the obtained mixed liquid was dissolved in deuterated chloroform (CDCl ₃ ) and ¹ H NMR was measured. As a result, 1,1,2,2-tetramethyldisilane (HMe ₂ Si-SiMe ₂ H) was collected by NMR. It was found that the yield was 72% (reference substance: ferrocene). Identification of 1,1,2,2-tetramethyldisilane was performed using ¹ H NMR.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 3.69 ppm (multiple lines).

（２−８）合成例８
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてアセトニトリル０．２５ｍＬと還元剤として水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液に、マイクロシリンジを用いて１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン（ＣｌＭｅ₂Ｓｉ−ＳｉＭｅ₂Ｃｌ）４６．１ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０℃条件下で撹拌ながら１５分間反応させた。反応後、ＮＭＲ収率を算出するための基準物質としてフェロセンを１８．６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合液の一部を重クロロホルム（ＣＤＣｌ₃）に溶解し、¹ＨＮＭＲを測定したところ、１，１，２，２−テトラメチルジシラン（ＨＭｅ₂Ｓｉ−ＳｉＭｅ₂Ｈ）がＮＭＲ収率５２％（基準物質：フェロセン）で生成していることが分かった。１，１，２，２−テトラメチルジシランの同定は¹ＨＮＭＲを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：３．６９ｐｐｍ（多重線）。 (2-8) Synthesis Example 8
After the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar was replaced with nitrogen gas, 0.25 mL of acetonitrile as a reaction solvent and 37.8 mg of sodium borohydride (NaBH ₄ ) as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. 0 mmol) was added to prepare a suspension. To this suspension was added dropwise using a microsyringe 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetramethyl-disilane _{_{(ClMe 2 Si-SiMe 2 Cl}} ) 46.1mg (0.25mmol), 0 The reaction was allowed to proceed for 15 minutes with stirring under the condition of °C. After the reaction, 18.6 mg (0.1 mmol) of ferrocene was added as a reference substance for calculating the NMR yield. A part of the obtained mixed liquid was dissolved in deuterated chloroform (CDCl ₃ ) and ¹ H NMR was measured. As a result, 1,1,2,2-tetramethyldisilane (HMe ₂ Si-SiMe ₂ H) was collected by NMR. It was found that the rate of formation was 52% (reference substance: ferrocene). Identification of 1,1,2,2-tetramethyldisilane was performed using ¹ H NMR.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 3.69 ppm (multiple lines).

（２−９）合成例９
撹拌子を備えた７ｍＬ試験管内を窒素ガスで置換した後、窒素気流下、この試験管内に、反応溶媒としてテトラヒドロフラン０．５ｍＬと、還元剤としてシグマアルドリッチジャパン社製の水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ₄、ＲｅａｇｅｎｔＰｌｕｓ（登録商標）、純度９９％）３７．８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を入れ、懸濁液を調製した。この懸濁液にマイクロシリンジを用いてジフェニルメチルクロロシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＣｌ）１０４．９μＬ（０．５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温条件下で撹拌しながら１５分間反応させた。反応後、テトラヒドロフランを留去して、得られた生成物（混合物）に大気下にてｎ−ヘキサン５ｍＬを加えて、シリカパッドを用いて濾過し、乾燥させることで、ジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）８．１ｍｇ（０．０４０ｍｍｏｌ）を単離した。ジフェニルメチルシランの収率は８％であった。ジフェニルメチルシランの同定は¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳを用いて行った。
¹ＨＮＭＲスペクトルデータ（Ｓｉ−Ｈ）：４．９４ｐｐｍ（四重線、Ｊ＝３．７Ｈｚ）。 (2-9) Synthesis Example 9
After substituting the inside of a 7 mL test tube equipped with a stir bar with nitrogen gas, 0.5 mL of tetrahydrofuran as a reaction solvent and sodium borohydride (NaBH ₄ manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. as a reducing agent were placed in the test tube under a nitrogen stream. , ReagentPlus (registered trademark), purity 99%) (37.8 mg, 1.0 mmol) was added thereto to prepare a suspension. 104.9 μL (0.5 mmol) of diphenylmethylchlorosilane (Ph ₂ MeSiCl) was added dropwise to this suspension using a microsyringe, and the mixture was reacted under stirring at room temperature for 15 minutes. After the reaction, tetrahydrofuran was distilled off, and 5 mL of n-hexane was added to the obtained product (mixture) in the air, and the mixture was filtered using a silica pad and dried to obtain diphenylmethylsilane (Ph ₂ 8.1 mg (0.040 mmol) of MeSiH) was isolated. The yield of diphenylmethylsilane was 8%. Identification of diphenylmethylsilane was performed using ¹ H NMR and GC-MS.
¹ H NMR spectrum data (Si-H): 4.94 ppm (quartet, J=3.7 Hz).

（２−１０）合成例１０
反応溶媒としてアセトニトリルの代わりにジクロロメタン０．５ｍＬを用いた以外は合成例１に記載の方法に従って反応を行った。１日撹拌して反応させたが、¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳ測定において、目的の水素化物であるジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）に帰属されるシグナルは観測されず、目的物の生成は確認できなかった。 (2-10) Synthesis Example 10
The reaction was performed according to the method described in Synthesis Example 1 except that 0.5 mL of dichloromethane was used instead of acetonitrile as a reaction solvent. The reaction was carried out by stirring for 1 day, but in ¹ H NMR and GC-MS measurement, a signal attributed to diphenylmethylsilane (Ph ₂ MeSiH), which is the target hydride, was not observed, and formation of the target product was confirmed. could not.

（２−１１）合成例１１
反応溶媒としてアセトニトリルの代わりにトルエン０．５ｍＬを用いた以外は実施例１に記載の方法に従って反応を行った。１日撹拌して反応させたが、¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳ測定において、目的の水素化物であるジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）に帰属されるシグナルは観測されず、目的物の生成は確認できなかった。 (2-11) Synthesis Example 11
The reaction was performed according to the method described in Example 1 except that 0.5 mL of toluene was used instead of acetonitrile as the reaction solvent. The reaction was carried out by stirring for 1 day, but in ¹ H NMR and GC-MS measurement, a signal attributed to diphenylmethylsilane (Ph ₂ MeSiH), which is the target hydride, was not observed, and formation of the target product was confirmed. could not.

（２−１２）合成例１２
アセトニトリルは加えず、それ以外は実施例１に記載の方法に従って、無溶媒条件下で反応を行った。１日撹拌して反応させたが、¹ＨＮＭＲおよびＧＣ−ＭＳ測定において、目的の水素化物であるジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）に帰属されるシグナルは観測されず、目的物の生成は確認できなかった。 (2-12) Synthesis Example 12
Acetonitrile was not added, and otherwise the reaction was carried out according to the method described in Example 1 under solvent-free conditions. The reaction was carried out by stirring for 1 day, but in ¹ H NMR and GC-MS measurement, a signal attributed to diphenylmethylsilane (Ph ₂ MeSiH), which is the target hydride, was not observed, and formation of the target product was confirmed. could not.

（３）結果
合成例１，９〜１２では、反応溶媒の条件を変えて、ジフェニルメチルクロロシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＣｌ）を水素化ホウ素ナトリウムと接触させ、還元反応を行った。その結果、反応溶媒としてアセトニトリルを用いた合成例１では、１５分間反応させることで、ジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）が８１％の収率で得られた。一方、反応溶媒としてテトラヒドロフランを用いた合成例９では、同じく１５分間反応させたところ、収率は８％であった。反応溶媒としてジクロロメタンを用いた合成例１０、トルエンを用いた合成例１１、無溶媒条件で反応を行った合成例１２では、１日反応させてもジフェニルメチルシラン（Ｐｈ₂ＭｅＳｉＨ）の生成は確認できなかった。 (3) Results In Synthesis Examples 1 and 9 to 12, diphenylmethylchlorosilane (Ph ₂ MeSiCl) was brought into contact with sodium borohydride under different reaction solvent conditions to carry out a reduction reaction. As a result, in Synthesis Example 1 in which acetonitrile was used as the reaction solvent, diphenylmethylsilane (Ph ₂ MeSiH) was obtained in a yield of 81% by reacting for 15 minutes. On the other hand, in Synthesis Example 9 in which tetrahydrofuran was used as the reaction solvent, the yield was 8% when the same reaction was performed for 15 minutes. In Synthetic Example 10 using dichloromethane as a reaction solvent, Synthetic Example 11 using toluene, and Synthetic Example 12 in which the reaction was carried out under the solvent-free condition, the production of diphenylmethylsilane (Ph ₂ MeSiH) was confirmed even after the reaction for 1 day. could not.

合成例２〜８では、反応溶媒としてアセトニトリルを用い、様々な種類のハロゲン化ケイ素化合物を用いて還元反応を行った。その結果、トリフェニルクロロシラン（Ｐｈ₃ＳｉＣｌ）を用いた合成例２、トリエチルクロロシラン（Ｅｔ₃ＳｉＣｌ）を用いた合成例３、ジクロロジフェニルシラン（Ｐｈ₂ＳｉＣｌ₂）を用いた合成例４、ジクロロジヘキシルシラン（（ｎ−Ｃ₆Ｈ₁₃）₂ＳｉＣｌ₂）を用いた合成例５、β−フェネチルトリクロロシラン（（ＰｈＣ₂Ｈ₄）ＳｉＣｌ₃）を用いた合成例６、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン（ＣｌＭｅ₂Ｓｉ−ＳｉＭｅ₂Ｃｌ）を用いた合成例７，８のいずれにおいても、１５分間または３０分間の反応時間で対応する水素化ケイ素化合物が生成したことを確認した。 In Synthesis Examples 2 to 8, acetonitrile was used as a reaction solvent and various types of silicon halide compounds were used for the reduction reaction. As a result, Synthetic Example 2 using triphenylchlorosilane (Ph ₃ SiCl), Synthetic Example 3 using triethylchlorosilane (Et ₃ SiCl), Synthetic Example 4 using dichlorodiphenylsilane (Ph ₂ SiCl ₂ ), Dichlorodihexyl silane _{_{((n-C 6 H 13}} ) 2 SiCl 2) synthesis example 5 using, beta-phenethyl trichlorosilane _{_{((PhC 2 H 4) SiCl}} 3) was used in synthesis example 6,1,2- dichloro -1 , 1,2,2 in any of tetramethyl disilane _{_{(ClMe 2 Si-SiMe 2 Cl}} ) synthesis examples 7 and 8 using the corresponding silicon hydride compound was produced in a reaction time of 15 minutes or 30 minutes It was confirmed.

本発明によれば、水素化ケイ素化合物を効率的に製造することができる。水素化ケイ素化合物は様々な化合物の製造原料として用いられ、例えば、環状水素化ケイ素化合物は、太陽電池や半導体等に用いられるシリコン原料として有用である。 According to the present invention, a silicon hydride compound can be efficiently produced. A silicon hydride compound is used as a raw material for manufacturing various compounds, and for example, a cyclic silicon hydride compound is useful as a silicon raw material used for solar cells, semiconductors, and the like.

Claims

窒素を含有する有機溶媒の存在下、ホウ素水素化物を用いてケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換する工程を有し、
前記有機溶媒がニトリル類であることを特徴とする水素化ケイ素化合物の製造方法。 The presence of an organic solvent containing a nitrogen, using a boron hydride, silicon - halogen bond silicon - have a step of converting the hydrogen bond,
Method for producing a silicon hydride compound wherein the organic solvent is characterized nitriles der Rukoto.

下記式（１）で表される化合物を前記ホウ素水素化物と接触させて、前記化合物に含まれるケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合に変換する請求項１に記載の水素化ケイ素化合物の製造方法。
Ｓｉ_aＸ_bＹ_c ・・・・・（１）
［式（１）中、Ｘは、水素原子、脂肪族炭化水素基、脂肪族炭化水素基で置換されていてもよいアリール基、または脂肪族炭化水素基で置換されていてもよいアラルキル基を表し、Ｙはハロゲン原子を表し、ａとｃは１以上の整数を表し、ｂは０以上の整数を表す。］ The method for producing a silicon hydride compound according to claim 1, wherein a compound represented by the following formula (1) is brought into contact with the boron hydride to convert a silicon-halogen bond contained in the compound into a silicon-hydrogen bond. ..
Si _a X _b Y _c (1)
[In the formula (1), X represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group which may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group, or an aralkyl group which may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group. , Y represents a halogen atom, a and c represent an integer of 1 or more, and b represents an integer of 0 or more. ]

前記ホウ素水素化物が、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素リチウムである請求項１または２に記載の水素化ケイ素化合物の製造方法。 Method for producing a boron hydride, silicon hydride compound according to claim 1 or 2 is sodium borohydride or lithium borohydride.