JP6727724B2 - Wafer position measuring device and wafer position measuring method - Google Patents
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Description
本発明は、レーザ加工装置に適用可能なウエハ位置計測装置及びウエハ位置計測方法に関する。 The present invention relates to a wafer position measuring device and a wafer position measuring method applicable to a laser processing device.
下記の特許文献1に、加工対象物の位置を高精度に検出することができるレーザ加工装置が開示されている。このレーザ加工装置は、レーザビームを加工対象物に照射するレーザ照射手段と、加工対象物を保持した状態で移動可能なステージ手段と、画像解析を用いたエッジ検出により加工対象物の位置検出を行うエッジ検出手段とを備えている。エッジ検出手段は、撮像手段と画像処理手段とを含む。撮像手段により得られた加工対象物の画像から、画像処理手段が加工対象物のエッジ位置を検出する。 The following Patent Document 1 discloses a laser processing apparatus capable of detecting the position of a processing object with high accuracy. This laser processing apparatus detects a position of an object to be processed by laser irradiation means for irradiating the object to be processed with a laser beam, stage means movable while holding the object to be processed, and edge detection using image analysis. And an edge detecting means for performing. The edge detection means includes an image pickup means and an image processing means. The image processing means detects the edge position of the processing target object from the image of the processing target object obtained by the imaging means.
ウエハのエッジを撮像する撮像手段、例えばカメラは、加工用のレーザビームの経路から外れた位置(オフセットした位置)に配置される。ウエハのエッジを含む画像を取得するために、エッジを撮像手段の画角内に配置しなければならない。このために、レーザビームの経路から撮像装置までのオフセット量だけステージのストロークを余分に確保しなければならない。このため、ステージ、及びステージを収容するチャンバが大型になってしまう。 An image pickup unit for picking up an image of the edge of the wafer, for example, a camera is arranged at a position (offset position) deviated from the path of the laser beam for processing. In order to obtain an image containing the edge of the wafer, the edge must be placed within the angle of view of the imager. Therefore, it is necessary to secure an extra stage stroke by the offset amount from the laser beam path to the image pickup device. Therefore, the stage and the chamber that houses the stage become large.
本発明の目的は、装置の大型化を抑制しつつ、ウエハの位置を計測することが可能なウエハ位置計測装置及びウエハ位置計測方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a wafer position measuring device and a wafer position measuring method capable of measuring the position of a wafer while suppressing an increase in the size of the device.
本発明の一観点によると、
テーブルの保持面に保持されたウエハからの輻射光の強度を測定する光センサと、
前記テーブルを前記保持面に平行な方向に移動させながら前記ウエハにレーザビームを入射させ、前記テーブルの位置と前記光センサによる測定値とに基づいて、前記テーブルに対する前記ウエハの位置を特定する制御装置と
を有するウエハ位置計測装置が提供される。
According to one aspect of the invention,
An optical sensor for measuring the intensity of radiated light from the wafer held on the holding surface of the table,
Control for causing a laser beam to be incident on the wafer while moving the table in a direction parallel to the holding surface, and for specifying the position of the wafer with respect to the table based on the position of the table and the measurement value of the optical sensor. And a wafer position measuring apparatus having the apparatus.
本発明の他の観点によると、
テーブルの保持面にウエハを保持させ、前記テーブルを前記保持面に平行な方向に移動させながら、前記テーブル及び前記ウエハにレーザビームを入射させ、前記ウエハからの輻射光の強度を測定し、
前記テーブルの位置と、前記テーブル及び前記ウエハからの輻射光の強度の測定値とに基づいて、前記テーブルに対する前記ウエハの位置を特定するウエハ位置計測方法が提供される。
According to another aspect of the invention,
A wafer is held on a holding surface of a table, a laser beam is incident on the table and the wafer while moving the table in a direction parallel to the holding surface, and the intensity of radiated light from the wafer is measured,
There is provided a wafer position measuring method for specifying the position of the wafer with respect to the table based on the position of the table and the measured value of the intensity of radiated light from the table and the wafer.
ウエハの画像を取得するカメラ等の撮像装置を設置する必要がないため、装置の大型化を抑制することができる。 Since it is not necessary to install an imaging device such as a camera that acquires an image of the wafer, it is possible to suppress the size increase of the device.
図1〜図5Bを参照して、実施例によるウエハ位置計測装置を組み込んだレーザアニール装置について説明する。 A laser annealing apparatus incorporating the wafer position measuring apparatus according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 5B.
図1は、実施例によるウエハ位置計測装置を組み込んだレーザアニール装置の概略図である。レーザ光源10が制御装置20からの指令によりパルスレーザビームを出力する。レーザ光源10から出力されたパルスレーザビームが均一化光学系11を通過し、ダイクロイックミラー12に入射する。ダイクロイックミラー12は、レーザ光源10から出力されるパルスレーザビームの波長(例えば808nm)の光を反射し、1μm以上の波長域の光を透過させる。ダイクロイックミラー12で反射されたパルスレーザビームがレンズ13で集光されて、アニール対象であるウエハ50に入射する。ウエハ50はチャックテーブル32の保持面33の上に保持されている。ウエハ50は、例えばドーパントイオンが注入されたシリコンウエハ、評価用シリコンウエハ等である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a laser annealing device incorporating a wafer position measuring device according to an embodiment. The
均一化光学系11及びレンズ13が、ウエハ50の表面におけるビームスポットの形状を長尺形状にするとともに、プロファイル(光強度分布)を均一化する。ビームスポットの形状が目標とする形状になり、プロファイルが均一化される高さ方向の位置を、「フォーカス高さ」ということとする。レーザアニール時には、ウエハ50の表面をフォーカス高さに一致させる。
The homogenizing
チャックテーブル32は移動機構31に支持されている。移動機構31は、制御装置20から制御されて、チャックテーブル32を保持面33に平行な二方向に移動させる機能を持つ。さらに、移動機構31は、チャックテーブル32を昇降させる機能を持つ。移動機構31及びチャックテーブル32はチャンバ30内に収容されている。レンズ13を透過したレーザビームをチャンバ30内に導入するための透過窓がチャンバ30に設けられている。ウエハ50を移動させながらパルスレーザビームを入射させることにより、ウエハ50の表面の全域をアニールすることができる。
The chuck table 32 is supported by the
パルスレーザビームがウエハ50に入射すると、入射位置の表層部が加熱されることにより、ウエハ50に注入されているドーパントが活性化する。加熱された部分から輻射光40が放射される。輻射光40の一部は、レンズ13で収束された後、ダイクロイックミラー12を透過し、全反射ミラー14で反射され、光学フィルタ15及びレンズ16を透過して、光センサ17に入射する。光センサ17がウエハ50からの輻射光の強度を測定し、測定値が制御装置20に入力される。
When the pulsed laser beam is incident on the
光学フィルタ15としては、波長が1μmより短い波長域の光を透過させないロングパスフィルタまたはバンドパスフィルタが用いられる。ウエハ50から光センサ17までの経路に配置されているレンズ13、16等の光学素子を構成する光学ガラスは波長約3μm以上の光を吸収する性質を持つため、光センサ17で検出可能な輻射光の波長の上限は約3μmである。従って、光学フィルタ15としてバンドパスフィルタを用いる場合には、長波長側のカットオフ波長を3μm以上とすることが好ましい。光センサ17の前に光学フィルタ15を配置することにより、輻射光のうち波長が1μmより短い成分は光センサ17で検出されず、波長が1μmより長い成分の強度のみが、光センサ17により測定される。
As the
光学フィルタ15に代えて、1μmより短い波長の輻射光を光センサ17まで到達させない他の光学素子を配置してもよい。一例として、ダイクロイックミラー12が1μmより短い波長の光を反射する場合、ダイクロイックミラー12が、1μmより短い波長の輻射光を光センサ17まで到達させない光学素子として機能する。
Instead of the
制御装置20は、パルスレーザビームの各ショットに同期して、光センサ17から測定値を取得する。制御装置20は、チャックテーブル32を移動させながら光センサ17の測定値を取得し、チャックテーブル32の位置と光センサ17の測定値とに基づいて、チャックテーブル32に対するウエハ50の位置を特定する。さらに、制御装置20は、光センサ17の測定値に基づいて、ウエハ50の厚さ、及びウエハ50の表面のうねり(凹凸)の程度を特定する。
The
レーザアニール装置の動作を指令するための種々のコマンド及びデータが、入力装置26から制御装置20に入力される。制御装置20は、アニール処理に必要なデータの入力を促すメッセージ、アニール処理結果等をオペレータに通知するためのメッセージを出力装置25に出力する。
Various commands and data for instructing the operation of the laser annealing apparatus are input to the
次に、図2A〜図2C及び図3A〜図3Cを参照して、保持面33に対するウエハ50の位置を特定する処理について説明する。図2A、図2B、図3A、及び図3Bは、ウエハ50を保持したチャックテーブル32の平面図である。図2C及び図3Cは、チャックテーブル32を移動させたときに光センサ17(図1)で測定された輻射光の強度の変化の一例を示すグラフである。
Next, a process of identifying the position of the
図2Aに示すように、チャックテーブル32の保持面33の法線方向をz軸とし、チャックテーブル32の保持面33に固定されたxyz直交座標系(以下、ステージ座標系という。)を定義する。さらに、レーザビームの経路に対して固定されたuvw直交座標系(以下、グローバル座標系という。)を定義する。グローバル座標系のu軸、v軸、及びw軸は、それぞれステージ座標系のx軸、y軸、及びz軸と平行である。保持面33はステージ座標系のxy面、及びグローバル座標系のuv面に平行である。
As shown in FIG. 2A, an xyz orthogonal coordinate system (hereinafter referred to as a stage coordinate system) fixed to the holding
制御装置20(図1)がウエハ搬送装置(図示せず)を制御することにより、ウエハ50を保持面33の目標位置に粗い位置決め精度で位置決めして保持させる。ここで、「粗い位置決め精度」とは、例えばウエハ搬送装置がウエハ50をウエハストッカから取り出して保持面33の上に載せるときの位置決め精度を意味する。レーザアニールを行う前に、制御装置20は保持面33に対するウエハ50の位置(ステージ座標系におけるx座標及びy座標)を、より高精度に特定する処理を実行する。
The controller 20 (FIG. 1) controls the wafer transfer device (not shown) to position and hold the
制御装置20は、レーザビームのビームスポット43がウエハ50の外側の保持面33内の領域に位置するようにチャックテーブル32を移動させる。ビームスポット43は、v軸方向に長い長尺形状を有し、例えばv軸方向の寸法(長さ)が3mm以上4.5mm以下であり、u軸方向の寸法(幅)が0.2mm以上0.3mm以下である。図2Aでは、ウエハ50が目標位置に保持されていると仮定したときのウエハ50の中心点からu軸方向に伸ばした仮想直線55上にビームスポット43が位置する。
The
図2Bに示すように、制御装置20は、チャックテーブル32をu軸方向に移動させながら、チャックテーブル32及びウエハ50にパルスレーザビームを入射させるとともに、パルスレーザビームの入射に同期して光センサ17(図1)から輻射光の強度の測定値を取得する。このとき、ウエハ50の表面におけるパルスレーザビームのパルスエネルギ密度は、ウエハ50を溶融させず、かつドーパントを活性化させない程度に設定する。例えば、パルスエネルギ密度を0.05J/cm2以下とする。チャックテーブル32の移動中に、ウエハ50の仮想直線55と交差する縁がレーザビームの入射位置(ビームスポット43の位置)を通り過ぎる。パルスレーザビームのパルスの繰返し周波数及びチャックテーブル32の移動速度は、例えば、ビームスポット43のオーバラップ率が90%になるように設定する。例えば、パルスの繰返し周波数は、1kHz〜10kHzとする。
As shown in FIG. 2B, the
ビームスポット43がウエハ50の内部に位置するとき(図2B)の輻射光の強度は、ビームスポット43がウエハ50の外側のチャックテーブル32内に位置するとき(図2A)の輻射光の強度より小さい。
The intensity of the radiant light when the
チャックテーブル32を移動させてウエハ50の縁がビームスポット43に接触すると、図2Cに示すように輻射光の強度が立ち上がる。ビームスポット43がウエハ50の内部に位置するときは、輻射光の強度はほぼ一定である。
When the chuck table 32 is moved and the edge of the
制御装置20は、輻射光の強度の立ち上がり時点におけるチャックテーブル32のグローバル座標(u座標及びv座標)を求める。立ち上がり時点として、例えば、輻射光の強度の立ち上がりの高さの50%まで立ち上がった時点u0を採用するとよい。この時点u0は、ビームスポット43のほぼ半分の領域がウエハ50内に位置し、他の半分の領域がウエハ50の外側に位置する時点に相当する。
The
グローバル座標系におけるビームスポット43の位置は既知である。制御装置20は、輻射光の強度が立ち上がるときのグローバル座標系におけるチャックテーブル32の位置から、ビームスポット43を通過したウエハ50の縁のステージ座標系における位置(x座標及びy座標)を算出する。
The position of the
次に、図3Aに示すように、制御装置20は、チャックテーブル32を移動させて、ウエハ50が目標位置に保持されていると仮定したときのウエハ50の中心点からv軸方向に伸ばした仮想直線56上にビームスポット43を位置させる。また、ビームスポット43は、ウエハ50の外側の保持面33内の領域に位置させる。
Next, as shown in FIG. 3A, the
図3Bに示すように、制御装置20は、チャックテーブル32をv軸方向に移動させながら、チャックテーブル32及びウエハ50にパルスレーザビームを入射させるとともに、パルスレーザビームの入射に同期して光センサ17(図1)の測定値を取得する。このとき、ウエハ50の表面におけるパルスレーザビームのパルスエネルギ密度は、図2Bに示した工程と同様に、ウエハ50を溶融させず、かつドーパントを活性化させない程度に設定する。チャックテーブル32の移動中に、ウエハ50の仮想直線56と交差する縁がレーザビームの入射位置(ビームスポット43の位置)を通り過ぎる。
As shown in FIG. 3B, the
チャックテーブル32を移動させてウエハ50の縁がビームスポット43に接触すると、図3Cに示すように輻射光の強度が立ち上がる。ビームスポット43がv軸方向に長いため、図3Cに示した輻射光の強度の立ち上がりの傾きは、図2Cに示した輻射光の強度の立ち上がりの傾きより緩やかである。
When the chuck table 32 is moved and the edge of the
制御装置20は、輻射光の強度の立ち上がり時点v0におけるチャックテーブル32のグローバル座標(u座標及びv座標)から、ビームスポット43を通過したウエハ50の縁のステージ座標系における位置(x座標及びy座標)を算出する。
From the global coordinates (u coordinate and v coordinate) of the chuck table 32 at the rising time point v 0 of the intensity of the radiated light, the
図2Aから図3Cまでの図面を参照して説明した工程で、ウエハ50の縁の2点のステージ座標系における位置を算出することができる。ウエハ50の直径は既知である。このため、算出された2点のステージ座標系における位置からウエハ50の位置、たとえばウエハ50の中心位置を特定することができる。
By the process described with reference to the drawings from FIG. 2A to FIG. 3C, the positions of the two points on the edge of the
制御装置20は、特定されたウエハ50のテーブル座標系における位置に基づいて、レーザアニール時におけるチャックテーブル32の移動範囲を決定する。これにより、ウエハ50の表面のアニールすべき領域内にレーザビームを入射させることができる。
The
次に、図4を参照して、ウエハ50の表面の凹凸の有無(高さの変動)を特定する方法について説明する。特定される凹凸の面内方向の周期は、ビームスポットの寸法に比べて十分大きい。
Next, with reference to FIG. 4, a method for identifying the presence or absence (height variation) of the surface of the
図4は、ウエハ50の表面上の位置と、輻射光の強度との関係の一例を示すグラフである。横軸はウエハ50の表面上の位置を表し、縦軸は輻射光の強度の測定値を表す。チャックテーブル32を移動させながらウエハ50にパルスレーザビームを入射させることにより、図5に示したグラフを作成することができる。ウエハ50の表面に凹凸が存在するとウエハ50の表面の高さがフォーカス高さからずれるため、表面内の場所によってビームスポットの大きさが変動する。その結果、ウエハ50の表面上の場所によって輻射光の強度が変化する。測定された輻射光の強度の変化量からウエハ50の表面の凹凸の状態を特定することができる。例えば、輻射光の強度のばらつきは、ウエハ50の表面の高さのばらつきに依存する。輻射光の強度の変動の周期は、ウエハ50の表面の凹凸の面内方向の周期に依存する。
FIG. 4 is a graph showing an example of the relationship between the position on the surface of the
制御装置20(図1)は、ウエハ50の表面の凹凸の大きさ(高さのばらつき)が許容範囲を超えると、その旨をオペレータに通知するメッセージを出力装置25から出力する。
When the size of the unevenness (height variation) on the surface of the
次に、図5A及び図5Bを参照して、実施例によるウエハ50の厚さの特定方法について説明する。
Next, a method of identifying the thickness of the
図5Aは、チャックテーブル32、ウエハ50、及びレーザビーム18の位置関係を示す模式図である。まず、制御装置20が移動機構31を制御することにより、チャックテーブル32の保持面33の高さwをビームウエスト18Aの高さ(基準高さ)h0に一致させる。基準高さh0は、装置の組み立て後の調整時に制御装置20に予め設定されている。
FIG. 5A is a schematic diagram showing the positional relationship among the chuck table 32, the
チャックテーブル32の保持面33の高さwを基準高さh0に一致させた後、チャックテーブル32にウエハ50を搭載する。この状態で、ウエハ50の表面はビームウエスト18Aよりもウエハ50の厚さ分だけ上方に位置する。レーザビーム18をウエハ50に照射しながら、チャックテーブル32を徐々に下降させる。チャックテーブル32の下降中に、光センサ17(図1)によって輻射光の強度を計測する。
After matching the height w of the holding
図5Bは、チャックテーブル32を高さh0から下降させたときの輻射光強度の変化の一例を示すグラフである。ウエハ50の表面におけるパルスエネルギ密度が大きいほど、輻射光の強度は強くなる。チャックテーブル32が下がり、ウエハ50の表面がビームウエスト18Aに近づくに従って、ビームスポットが小さくなる。すなわち、パルスエネルギ密度が高くなる。このため、輻射光強度が上昇する。ウエハ50の表面の高さがビームウエスト18Aの高さに一致したときに、輻射光強度が最大値を示す。さらにチャックテーブル32を下降させると、輻射光強度は低下する。
FIG. 5B is a graph showing an example of changes in radiant light intensity when the chuck table 32 is lowered from the height h0. The higher the pulse energy density on the surface of the
輻射光強度が最大値を示した時点のチャックテーブル32の保持面33の高さwをhpで表す。基準高さh0と、輻射光強度が最大値を示した時点の保持面33の高さhpとの差がウエハ50の厚さに相当する。
The height w of the holding
次に、上記実施例の優れた効果について説明する。
上記実施例では、ウエハ50の位置を特定するために画像を取得するカメラを必要としない。カメラを用いてウエハの位置を特定するためには、カメラをレーザビームの経路からオフセットした位置に配置しなければならない。このカメラの画角内にウエハを移動させるために、レーザビームの経路からカメラまでのオフセットの距離だけ余分にテーブルを移動させなければならない。テーブルを余分に移動させるためのスペースをチャンバ内に確保しなければならないため、装置が大型化する。上記実施例では、ウエハの位置を特定するためにカメラを用いた場合に必要となる上記スペースを確保する必要がないため、装置の大型化を抑制することができる。
Next, the excellent effect of the above embodiment will be described.
In the above embodiments, no camera is required to capture an image to locate the
また、上記実施例では、レーザ変位計等の高さセンサを用いることなく、ウエハ50の厚さ及び表面の凹凸の程度を特定することができる。
Further, in the above-described embodiment, the thickness of the
図5Bに示したように、チャックテーブル32の保持面33の高さwを高さhpに一致させることにより、ウエハ50の表面にレーザビーム18をフォーカスさせることができる。実際のレーザアニールは、ウエハ50の表面の高さをビームウエスト18Aの高さに一致させた状態で行ってもよいし、ビームウエスト18Aの高さからややずらした状態で行ってもよい。
As shown in FIG. 5B, by matching the height w of the holding
ウエハ50の表面の高さをビームウエスト18Aの高からややずらした状態でレーザアニールを行う場合、図5Bに示した輻射光強度の最大値からの低下量によって、ウエハ50の表面の高さのずらし量を決めておくとよい。輻射光強度の最大値から、予め決められた低下量だけ低下した輻射光強度が得られる高さwにチャックテーブル32の保持面33の高さを調整し、この状態でレーザアニールを行うとよい。この条件を満たす保持面33の高さは、高さhpの上下に1つずつ存在するが、予め、高さhpの上または下のいずれでレーザアニールを行うかを決めておくとよい。
When laser annealing is performed with the height of the surface of the
上記実施例で用いられる光センサ17によって測定された輻射光の強度は、ウエハ50の表面温度に依存する。制御装置20は、レーザアニール中に、光センサ17によって測定された輻射光の強度に基づいて、アニール中におけるウエハ50の表面の最高到達温度を、レーザビームの入射位置ごとに算出することができる。このように、光センサ17は、アニール前のウエハ50の位置の特定、厚さの特定、凹凸の程度の特定に使用することができるとともに、アニール中には、ウエハ50の表面の最高到達温度の算出に使用することができる。
The intensity of the radiated light measured by the
次に、上記実施例の種々の変形例について説明する。
上記実施例では、図2B及び図3Bに示したように、ビームスポット43を通過するウエハ50の外周線上の点における接線方向と、ウエハ50の進行方向(u軸方向またはv軸方向)とが直交するが、必ずしも両者を直交させる必要はない。例えば、ウエハ50をu軸方向またはv軸方向に移動させながら、u軸及びv軸に対して斜めの縁がビームスポット43を通過するようにしてもよい。
Next, various modifications of the above embodiment will be described.
In the above-described embodiment, as shown in FIGS. 2B and 3B, the tangential direction at a point on the outer peripheral line of the
なお、上記実施例のように、ビームスポット43を通過するウエハ50の外周線上の点における接線方向と、ウエハ50の進行方向(u軸方向)とを直交させると、ウエハ50の移動距離に対して輻射光の強度がほぼ直線的に立ち上がる。これに対し、両者が直交しない場合には、輻射光の強度の立ち上がりが、ウエハ50の外周線の円周形状に対応して非線形に立ち上がる。輻射光の強度がほぼ直線的に立ち上がる場合には、非線形に立ち上がる場合と比べて、輻射光の強度の立ち上がり時点を精度よく特定することができる。従って、輻射光の強度の立ち上がり時点を精度よく特定するためには、ビームスポット43を通過するウエハ50の外周線上の点における接線方向と、ウエハ50の進行方向(u軸方向またはv軸方向)とを直交させることが好ましい。
When the tangential direction at a point on the outer peripheral line of the
上記実施例では、ウエハ50の外周線上の2つ点、及びウエハ50の直径とからウエハ50の位置を特定した。ウエハ50の直径が不明である場合には、ウエハ50の外周線上の3つ点の位置を特定すればよい。ウエハ50の外周線上の3つの点の位置から、ウエハ50の位置を特定することができる。
In the above-described embodiment, the position of the
ウエハ50には、通常、ウエハ50の方位を特定するためのオリエンテーションフラットまたはノッチが形成されている。ウエハ50の回転方向の姿勢は、ウエハ搬送装置でチャックテーブル32の上にウエハ50を搬送した時点で粗く決められている。レーザアニール前に、ウエハ50の回転方向の姿勢をより高精度に特定する必要がある場合には、オリエンテーションフラットまたはノッチの位置及びその近傍の数か所がレーザスポットを通過するように、チャックテーブル32を複数回移動させればよい。複数回の移動の各々において測定された輻射光の強度の変化に基づいて、オリエンテーションフラットまたはノッチの位置を特定することができる。
The
上記実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 Needless to say, the above-described embodiments are merely examples, and the partial replacement or combination of the configurations shown in the different embodiments is possible. The same effects of the same configurations of a plurality of embodiments will not be sequentially described for each embodiment. Furthermore, the invention is not limited to the embodiments described above. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
10 レーザ光源
11 均一化光学系
12 ダイクロイックミラー
13 レンズ
14 全反射ミラー
15 光学フィルタ
16 レンズ
17 光センサ
18 レーザビーム
20 制御装置
25 出力装置
26 入力装置
30 チャンバ
31 移動機構
32 チャックテーブル
33 保持面
40 輻射光
43 ビームスポット
50 ウエハ
55 ウエハ中心点をu軸方向に伸ばした仮想直線
56 ウエハ中心点をv軸方向に伸ばした仮想直線
10
Claims (8)
前記テーブルを前記保持面に平行な方向に移動させながら前記ウエハにレーザビームを入射させ、前記テーブルの位置と前記光センサによる測定値とに基づいて、前記テーブルに対する前記ウエハの位置を特定する制御装置と
を有するウエハ位置計測装置。 An optical sensor for measuring the intensity of radiated light from the wafer held on the holding surface of the table,
Control for causing a laser beam to be incident on the wafer while moving the table in a direction parallel to the holding surface, and for specifying the position of the wafer with respect to the table based on the position of the table and the measurement value of the optical sensor. And a wafer position measuring device having the device.
前記テーブルの位置と、前記テーブル及び前記ウエハからの輻射光の強度の測定値とに基づいて、前記テーブルに対する前記ウエハの位置を特定するウエハ位置計測方法。 A wafer is held on a holding surface of a table, a laser beam is incident on the table and the wafer while moving the table in a direction parallel to the holding surface, and the intensity of radiated light from the wafer is measured,
A wafer position measuring method for specifying the position of the wafer with respect to the table based on the position of the table and the measured value of the intensity of radiated light from the table and the wafer.
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