JP6715872B2 - 基板形状計測装置 - Google Patents
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Description
(1)点計測器をXYに走査する方法
(2)干渉計測法
(3)モアレ計測法
の3つである。
tanθ´= M・tanθ
101 基板
102 撮像レンズ
103 カメラ
104 画像解析装置
105 投影レンズ
106 格子
107 位相シフト機構
108 照明ユニット
200 加熱器
201 加熱炉
202 温度制御装置
203 断熱材
204 透明ガラス
205 コイルヒータ
206 排気口
207 排気ダクト
208 温度計
300 断熱機構
301 障壁
302、303 透明体
304 チラー
Claims (4)
- ウェーハをはじめとする大型の基板の形状を計測する装置であって、
直径150mmよりも大きい視野を有し少なくとも5倍の縮小倍率を有する両側テレセントリックレンズ2台を前記基板の法線に対して第1の角度で対称に配置した正反射受光配置光学系と、
前記両側テレセントリックレンズの一方を通して縞パターンを前記基板に投影するための格子および照明ユニットと、
前記両側テレセントリックレンズの他方により前記基板に投影された縞パターンの像が形成される面上に像面を配置したカメラと、
前記カメラで得られた画像を解析して画素単位で前記基板の形状情報を計算した結果から前記基板の変形を求める画像解析装置と、
を備え、
前記格子は、
前記基板平面に合わせたアオリ配置となるよう、前記第1の角度と前記一方の両側テレセントリックレンズの倍率とに応じた第2の角度で前記一方の両側テレセントリックレンズの光軸に対して傾けて配置され、
前記カメラの像面は、
前記基板平面に合わせたアオリ配置となるよう、前記第1の角度と前記他方の両側テレセントリックレンズの倍率とに応じた第3の角度で前記他方の両側テレセントリックレンズの光軸に対して傾けて配置され、
前記基板を任意の温度に加熱あるいは冷却可能に保持する加熱炉を有する加熱器、
をさらに備え、
前記加熱器の前記加熱炉は、
前記正反射受光配置光学系の光路を妨げないように、前記正反射受光配置光学系側に開口が設けられ、
前記開口と前記正反射受光配置光学系との間に、前記開口と前記正反射受光配置光学系のそれぞれに対して離間して配置され、前記正反射受光配置光学系に前記加熱器からの熱が届くことを妨げる断熱機構、
をさらに備え、
前記断熱機構は、
前記正反射受光配置光学系に前記加熱器からの熱が届くことを妨げつつ前記正反射受光配置光学系の光路を妨げないように、互いに離間するように前記光路上に設けられた複数の光透過部材を有する、
基板形状計測装置。 - 前記開口は、光を透過する部材が稠密に設けられる、または空間が空いたままとされる、
請求項1記載の基板形状計測装置。 - 前記断熱機構は、
前記複数の光透過部材と、
前記複数の光透過部材の間に気体を流す機構と、
を有する、
請求項1または2に記載の基板形状計測装置。 - 前記カメラの視野および前記基板に投影された縞パターンのエリアは、前記基板上の計測対象領域より大きい、
請求項1ないし3のいずれか1項に記載の基板形状計測装置。
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JP2018028899A JP6715872B2 (ja) | 2018-02-21 | 2018-02-21 | 基板形状計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2018028899A JP6715872B2 (ja) | 2018-02-21 | 2018-02-21 | 基板形状計測装置 |
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JP6715872B2 true JP6715872B2 (ja) | 2020-07-01 |
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Family Applications (1)
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