JP6713185B2 - テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 - Google Patents
テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6713185B2 JP6713185B2 JP2015203338A JP2015203338A JP6713185B2 JP 6713185 B2 JP6713185 B2 JP 6713185B2 JP 2015203338 A JP2015203338 A JP 2015203338A JP 2015203338 A JP2015203338 A JP 2015203338A JP 6713185 B2 JP6713185 B2 JP 6713185B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- matching
- template
- image
- candidate
- likelihood
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/70—Determining position or orientation of objects or cameras
- G06T7/73—Determining position or orientation of objects or cameras using feature-based methods
- G06T7/74—Determining position or orientation of objects or cameras using feature-based methods involving reference images or patches
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/70—Arrangements for image or video recognition or understanding using pattern recognition or machine learning
- G06V10/74—Image or video pattern matching; Proximity measures in feature spaces
- G06V10/75—Organisation of the matching processes, e.g. simultaneous or sequential comparisons of image or video features; Coarse-fine approaches, e.g. multi-scale approaches; using context analysis; Selection of dictionaries
- G06V10/751—Comparing pixel values or logical combinations thereof, or feature values having positional relevance, e.g. template matching
- G06V10/7515—Shifting the patterns to accommodate for positional errors
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/10—Image acquisition modality
- G06T2207/10056—Microscopic image
- G06T2207/10061—Microscopic image from scanning electron microscope
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Artificial Intelligence (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Software Systems (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
Description
以下、図面を用いて、本発明におけるテンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法について説明する。なお、図中で説明番号が同じものは、特に断わりがない限り同一部材を示していることとする。
(1)
(2)
(3)
図8は、検査或いは計測装置によって撮像された対象物の取得画像と、アライメント用パターンとして設計データより生成した画像から切り出したテンプレートとを対応付ける本発明のテンプレートマッチング処理の第2の実施例であり、演算処理装置の流れを示したブロック図である。図3で説明した第1の実施例との主な相違は、マッチング候補選出部D、E、Fに対して夫々異なる複数種類の被探索画像A、B、Cを入力可能な点、及びマッチング候補選出部D、E、Fでは夫々異なる種類のマッチング手法による探索処理を行うことが可能な点である。なお、これらの異なる機能は同時に備えることも可能であるが、いずれか一方の機能のみを備えることも可能である。その他については、図3での説明と同様である。
101 電子銃
102 ステージ
103 半導体ウェーハ
104 偏向器
105 対物レンズ
106 2次電子検出器
107、109、110、112 A/D変換器
108 反射電子検出器
111 光学式カメラ
114 演算処理装置
115 メモリ
116 演算処理部
141 電子線
142 コンデンサレンズ
201 テンプレート
210、220、230 被探索画像
305 マッチング処理選出部A
306 マッチング処理選出部B
307 マッチング処理選出部C
311、312、313 単一テンプレート尤度算出処理部
317 複数テンプレート統合尤度算出処理部
319 最大統合尤度マッチング候補処理選出部
400、430 被探索画像
504 単一テンプレート尤度算出処理部
505 統計量算出処理部
506 尤度算出処理部
600 半導体パターンの設計データ
610 被探索画像
704 基準候補の選出部
705 ポート候補となり得るマッチング候補の選出部
706 設計データでの基準候補に対する配置ベクトルとマッチング結果での基準候補に対する配置ベクトルとのずれ量算出処理部
707 基準候補における複数テンプレート統合尤度算出部
804 マッチング処理選出部D
814 マッチング処理選出部E
824 マッチング処理選出部F
901 SEM本体
902 制御装置
903 検出器
904 演算処理装置
905 設計データ記憶媒体
907 演算処理部
908 メモリ
911 レシピ作成部
921 マッチング処理部
931 パターン測定部
1001 テンプレート登録部
1050 マッチング結果表示部
Claims (10)
- 半導体デバイスの設計データを利用してウェーハ上に形成されたパターンの互いに異なる複数の画像を複数の被探索画像として取得し、当該複数の被探索画像に対してテンプレートマッチングを施す検査装置であって、
前記ウェーハを搭載するステージ移動機構と、
複数のテンプレートを入力するユーザーインターフェースと、
演算処理装置と、を備え、
前記複数の被探索画像は、前記ユーザーインターフェースからの設定情報に基づいて、前記検査装置の異なる光学条件または異なる検出器で取得した画像であって、
前記演算処理装置は、
前記複数の被探索画像と前記複数のテンプレートとのマッチング処理を行って、複数のマッチング候補群を選出し、
前記選出した複数のマッチング候補群に対する複数の単一テンプレート尤度を算出し、
前記算出した複数の単一テンプレート尤度を用いて、前記複数のマッチング候補群に対する複数テンプレート統合尤度を算出し、
前記算出した複数テンプレート統合尤度を用いて、前記複数のマッチング候補群の中から複数テンプレート統合尤度が最大又は閾値以上となるマッチング候補を選出し、
前記選出したマッチング候補に基づいて、前記ウェーハまたは前記ステージ移動機構の座標システムをアライメントすることを特徴とする検査装置。 - 請求項1記載の検査装置において、
前記演算処理装置は、マッチング位置または前記複数テンプレート統合尤度の最大値を出力することを特徴とする検査装置。 - 請求項1記載の検査装置において、
前記複数の単一テンプレート尤度は、前記複数のマッチング候補群内のマッチング候補の相関値の統計量を用いて算出することを特徴とする検査装置。 - 請求項1記載の検査装置において、
前記パターンは、前記座標システムをアライメントするためのアライメント用パターンであることを特徴とする検査装置。 - 請求項1記載の検査装置において、
前記演算処理装置は、前記設計データに基づく画像上に前記複数のテンプレートをオーバーレイ表示した画像を、前記ユーザーインターフェースに出力することを特徴とする検査装置。 - 検査装置において、半導体デバイスの設計データを利用してウェーハ上に形成されたパターンの互いに異なる複数の画像を複数の被探索画像として取得し、当該複数の被探索画像に対してテンプレートマッチングを施す検査方法であって、
前記検査装置は、前記ウェーハを搭載するステージ移動機構を備え、
ユーザーインターフェースからの設定情報に基づいて、前記検査装置の異なる光学条件または異なる検出器で前記複数の被探索画像を取得する工程と、
前記ユーザーインターフェースを介して、複数のテンプレートの入力を受領する工程と、
前記複数の被探索画像と前記複数のテンプレートとのマッチング処理を行って、複数のマッチング候補群を選出する工程と、
前記選出した複数のマッチング候補群に対する複数の単一テンプレート尤度を算出する工程と、
前記算出した複数の単一テンプレート尤度を用いて、前記複数のマッチング候補群に対する複数テンプレート統合尤度を算出する工程と、
前記算出した複数テンプレート統合尤度を用いて、前記複数のマッチング候補群の中から複数テンプレート統合尤度が最大又は閾値以上となるマッチング候補を選出する工程と、
前記選出したマッチング候補に基づいて、前記ウェーハまたは前記ステージ移動機構の座標システムをアライメントする工程と、
を備えることを特徴とする検査方法。 - 請求項6記載の検査方法において、
マッチング位置または前記複数テンプレート統合尤度の最大値を出力する工程を備えることを特徴とする検査方法。 - 請求項6記載の検査方法において、
前記複数のマッチング候補群内のマッチング候補の相関値の統計量を用いて、前記複数の単一テンプレート尤度を算出する工程を備えることを特徴とする検査方法。 - 請求項6記載の検査方法において、
前記パターンは、前記座標システムをアライメントするためのアライメント用パターンであることを特徴とする検査方法。 - 請求項6記載の検査方法において、
前記設計データに基づく画像上に前記複数のテンプレートをオーバーレイ表示した画像を、前記ユーザーインターフェースに出力する工程を備えることを特徴とする検査方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015203338A JP6713185B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 |
US15/292,218 US10255519B2 (en) | 2015-10-15 | 2016-10-13 | Inspection apparatus and method using pattern matching |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015203338A JP6713185B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020090450A Division JP7138137B2 (ja) | 2020-05-25 | 2020-05-25 | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017076248A JP2017076248A (ja) | 2017-04-20 |
JP6713185B2 true JP6713185B2 (ja) | 2020-06-24 |
Family
ID=58523129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015203338A Active JP6713185B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10255519B2 (ja) |
JP (1) | JP6713185B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108257166B (zh) * | 2018-01-11 | 2022-03-04 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 版图的仿真图像和硅片sem图像自动匹配的方法 |
JP7245733B2 (ja) | 2019-06-26 | 2023-03-24 | 株式会社日立ハイテク | ウェハ観察装置およびウェハ観察方法 |
CN110891129A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-03-17 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 扫描式电子显微镜晶圆照片拍摄方法及拍摄*** |
JP7138137B2 (ja) * | 2020-05-25 | 2022-09-15 | 株式会社日立ハイテク | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 |
CN115129921B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-05-26 | 重庆紫光华山智安科技有限公司 | 图片检索方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6160903A (en) * | 1998-04-24 | 2000-12-12 | Dew Engineering And Development Limited | Method of providing secure user access |
JP4218171B2 (ja) | 2000-02-29 | 2009-02-04 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡,マッチング方法、及びプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP4199939B2 (ja) | 2001-04-27 | 2008-12-24 | 株式会社日立製作所 | 半導体検査システム |
JP2004045272A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Asahi Breweries Ltd | 容器検査装置及び容器検査方法 |
US6737364B2 (en) * | 2002-10-07 | 2004-05-18 | International Business Machines Corporation | Method for fabricating crystalline-dielectric thin films and devices formed using same |
US20040174434A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-09-09 | Walker Jay S. | Systems and methods for suggesting meta-information to a camera user |
US7298873B2 (en) * | 2004-11-16 | 2007-11-20 | Imageware Systems, Inc. | Multimodal biometric platform |
JP4372051B2 (ja) * | 2005-06-13 | 2009-11-25 | 株式会社東芝 | 手形状認識装置及びその方法 |
JP2008152555A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Olympus Corp | 画像認識方法及び画像認識装置 |
JP4950716B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-06-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像処理システム、及び走査型電子顕微鏡装置 |
JP4687772B2 (ja) * | 2008-11-06 | 2011-05-25 | ソニー株式会社 | 画像処理装置、画像処理方法、プログラム |
WO2011033744A1 (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-24 | 日本電気株式会社 | 画像処理装置、画像処理方法および画像処理用プログラム |
JP5568277B2 (ja) * | 2009-10-22 | 2014-08-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターンマッチング方法、及びパターンマッチング装置 |
JP5771561B2 (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 |
KR101747216B1 (ko) * | 2012-05-30 | 2017-06-15 | 한화테크윈 주식회사 | 표적 추출 장치와 그 방법 및 상기 방법을 구현하는 프로그램이 기록된 기록 매체 |
US9269023B2 (en) * | 2012-05-31 | 2016-02-23 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Edge based location feature index matching |
US9256957B1 (en) * | 2012-09-13 | 2016-02-09 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Method for moving-object detection tracking identification cueing of videos |
JP6058978B2 (ja) * | 2012-11-19 | 2017-01-11 | サターン ライセンシング エルエルシーSaturn Licensing LLC | 画像処理装置及び画像処理方法、撮影装置、並びにコンピューター・プログラム |
JP2014219801A (ja) * | 2013-05-07 | 2014-11-20 | 株式会社東芝 | 車両判別装置 |
JPWO2014199824A1 (ja) * | 2013-06-13 | 2017-02-23 | コニカミノルタ株式会社 | 画像処理方法、画像処理装置および画像処理プログラム |
US10758198B2 (en) * | 2014-02-25 | 2020-09-01 | DePuy Synthes Products, Inc. | Systems and methods for intra-operative image analysis |
-
2015
- 2015-10-15 JP JP2015203338A patent/JP6713185B2/ja active Active
-
2016
- 2016-10-13 US US15/292,218 patent/US10255519B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170109607A1 (en) | 2017-04-20 |
JP2017076248A (ja) | 2017-04-20 |
US10255519B2 (en) | 2019-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10937146B2 (en) | Image evaluation method and image evaluation device | |
JP6713185B2 (ja) | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 | |
JP5639797B2 (ja) | パターンマッチング方法,画像処理装置、及びコンピュータプログラム | |
US10354376B2 (en) | Technique for measuring overlay between layers of a multilayer structure | |
TWI512684B (zh) | Defect observation method and defect observation device | |
TWI521475B (zh) | Pattern inspection and testing devices and programs | |
JP5568277B2 (ja) | パターンマッチング方法、及びパターンマッチング装置 | |
JP5525421B2 (ja) | 画像撮像装置および画像撮像方法 | |
US10229812B2 (en) | Sample observation method and sample observation device | |
US8611638B2 (en) | Pattern inspection method and pattern inspection apparatus | |
US10545017B2 (en) | Overlay error measuring device and computer program for causing computer to measure pattern | |
JP5164598B2 (ja) | レビュー方法、およびレビュー装置 | |
JP5313939B2 (ja) | パターン検査方法、パターン検査プログラム、電子デバイス検査システム | |
KR20140101420A (ko) | 패턴 평가 방법 및 패턴 평가 장치 | |
WO2017130365A1 (ja) | オーバーレイ誤差計測装置、及びコンピュータープログラム | |
JP7138137B2 (ja) | テンプレートマッチングを用いた検査装置および検査方法 | |
JP5094033B2 (ja) | パターンマッチング方法、及びパターンマッチングを行うためのコンピュータープログラム | |
JP2004184240A (ja) | 画像測定装置、画像測定方法、画像処理装置 | |
JP7273748B2 (ja) | 検査装置、検査方法、及びプログラム | |
JP4409850B2 (ja) | 三次元座標測定装置及び方法 | |
JP4409861B2 (ja) | 三次元座標測定装置及び方法 | |
US20230194253A1 (en) | Pattern Inspection/Measurement Device, and Pattern Inspection/Measurement Program | |
US20220398778A1 (en) | Lens calibration method for digital imaging apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151016 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170119 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170125 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20170803 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170804 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180927 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200318 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200428 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20200511 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200525 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6713185 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |