JP6666231B2 - 噴霧乾燥システム - Google Patents

Description

本開示は、ボイラなどの排ガス発生源から排出される排ガスを処理した際に生じる排水を乾燥させる乾燥装置に関する。

火力発電設備等に設置されるボイラ（排ガス発生源）から排出される排ガスは排ガス処理システムによる処理を経て浄化された後に、大気中（外部）に排出される。この種の排ガス処理システムは、排ガスから窒素酸化物を除去する脱硝装置と、脱硝装置を通過した排ガスの熱を回収するエアヒータと、熱回収後の排ガス中の煤塵を除去する集塵器と、除塵後の排ガス中の硫黄酸化物を除去するための脱硫装置といった複数種類の設備を備える。これらの各種設備はボイラに接続された煙道（ダクト）に直列的に設置されるところ、排ガス処理システムは、例えば特許文献１のように、各種設備が直列的に設置される煙道の部分（系統）を１系統のみ備えるものや、例えば特許文献２のように、脱硝装置、エアヒータ、ガスガスヒータ、電気集塵器、誘引通風機が直列的に設置された煙道を２系統備え、各煙道が互いに並列に配置されたものが知られている。

一方、上述した脱硫装置としては、吸収液と排ガスとを気液接触させて排ガス中の硫黄酸化物を除去する湿式の脱硫装置が一般的に用いられる。脱硫装置から排出される排水（以下、脱硫排水）には、塩素イオン、アンモニウムイオン等のイオンや水銀、ホウ素、セレンなどが含まれることがある。近年、米国ＥＬＧ（Ｅｆｆｌｕｅｎｔ Ｌｉｍｉｔａｔｉｏｎ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅ）規制等で排水基準が強化されるなど、環境負荷低減のため脱硫排水を含めたプラント排水の環境基準が厳格化されている。そこで、かかる環境基準に適合するように、脱硫排水をシステム外部（系外）に放流する前に、排水処理設備を用いて、脱硫排水から環境に負荷となる虞がある物質を除去することが行われている。しかし、排水処理設備を用いて排水を処理する場合、設備自体の費用に加え、設備の運転に関連する費用（電力、薬剤等の費用）が比較的大きくなる場合がある。このような中、脱硫排水を系外に放出することなく無排水化する排ガス処理設備の重要性が増している。

例えば特許文献１では、脱硫排水を噴霧してガス化する噴霧乾燥装置によって、脱硫排水の無排水化を行っている。具体的には、脱硫装置からの脱硫排水および煙道を流れる排ガスの一部が共に噴霧乾燥装置に供給されるようになっており、噴霧乾燥装置は、装置内部において高温の排ガスによって脱硫排水を乾燥（液体分の蒸発）させることにより、脱硫排水を系外へ排出せずに無排水化する。なお、脱硫排水を乾燥させることにより、脱硫排水に含まれる、例えば塩化カルシウムなどは装置内部に析出されることになる。また、噴霧乾燥装置での処理に用いられた排ガスは煙道に再度戻されることにより、排ガス処理システムによって浄化される。

特開２０１４−１６１７９９号公報 特開２０００−８４３５３号公報

例えば、火力発電設備の排ガス処理システムは、排ガスを処理するための装置を設けた複数（通常は２〜３）の煙道（排ガスダクト）を備えている。このような排ガス処理システムに対して、特許文献１に開示された噴霧乾燥システムをそのまま適用すると、複数の煙道の各々に対して噴霧乾燥装置を１台ずつ接続することになる（煙道の数＝噴霧乾燥装置の台数）。しかしながら、設備が過剰となるために各々の噴霧乾燥装置の稼働率が低下するなど無駄が多くなる場合があるだけではなく、過剰な設備のためにメンテナンスコストも増加する。

上述の事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態は、複数の煙道（排ガスダクト）を備えた排ガス処理システムに適用でき、安価かつ取扱い容易な、また設置性やメンテナンス性に優れた噴霧乾燥システムを提供することを目的とする。

（１）本発明の少なくとも一実施形態に係る噴霧乾燥システムは、
乾燥対象となる排水を乾燥させるための噴霧乾燥システムであって、
排ガス発生源から排出された排ガスを流すための複数の排ガスダクトに接続された、前記排ガスを導入するための排ガス導入ラインと、
前記排ガス導入ラインに接続され、前記排ガス導入ラインから導入される前記排ガスを前記排水に接触させるよう構成された１台または複数台の噴霧乾燥装置と、を備え、
前記噴霧乾燥装置の台数は、前記排ガスダクトの数よりも少ない。

上記（１）の構成によれば、噴霧乾燥システムは、例えば、排ガスダクトがＡ系、Ｂ系の２系統からなる場合は１台の噴霧乾燥装置を備えるといったように、排ガスダクトの数よりも少ない台数の噴霧乾燥装置を備える。このように、複数の排ガスダクトに噴霧乾燥装置を共有化させることにより、安価かつ取扱い容易な、また設置性やメンテナンス性に優れた噴霧乾燥システムを提供することができる。

（２）幾つかの実施形態では、上記（１）の構成において、
前記排ガス導入ラインは、前記複数の排ガスダクトにそれぞれ接続される。
上記（２）の構成によれば、複数の排ガスダクトの各々から偏りなく排ガスを抽出（分岐）することができる。

（３）幾つかの実施形態では、上記（２）の構成において、
前記排ガス導入ラインは、
前記複数の排ガスダクトにそれぞれ接続される、上流側排ガス導入ライン部と、
前記上流側排ガス導入ライン部のそれぞれが合流する導入側合流部と、
前記導入側合流部と前記噴霧乾燥装置とを接続する１つの下流側排ガス導入ライン部と、を有する。
上記（３）の構成によれば、複数の排ガスダクトの各々からの排ガスは、導入側合流部において合流した後に、１つの下流側排ガス導入ライン部を通じて噴霧乾燥装置に供給される。このため、排ガス導入ラインと噴霧乾燥装置とが１箇所で接続することから、噴霧乾燥装置の構造をシンプルに構成することができる。しかも、噴霧乾燥装置が、排ガスと排水との気液接触面積を増大させるために２流体ノズルやロータリーアトマイザー（回転噴霧器）などの噴霧装置を複数備える場合には、これらの複数の噴霧装置の各々に対する均等な排ガスの供給を図ることができる。

（４）幾つかの実施形態では、上記（２）〜（３）の構成において、
前記複数の排ガスダクトの各々には、前記排ガスと熱交換するよう構成された熱交換器がそれぞれ設置されており、
前記排ガス導入ラインの各々は、前記熱交換器の上流側において前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続されている。
上記（４）の構成によれば、熱交換器を通過する前のより高温状態にある排ガスを、排ガス導入ラインを介して噴霧乾燥装置に供給することができる。これによって、噴霧乾燥装置において、より高温の排ガスを排水に接触させることができ、噴霧乾燥装置による排水処理の高効率化を図ることができる。

（５）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（４）の構成において、
前記噴霧乾燥装置と前記複数の排ガスダクトとを接続する排ガス排出ラインを、さらに備え、
前記排ガス排出ラインは、
前記噴霧乾燥装置に接続される１つの上流側排ガス排出ライン部と、
前記複数の排ガスダクトにそれぞれ接続される、下流側排ガス排出ライン部と、
前記１つの上流側排ガス排出ライン部から前記下流側排ガス排出ライン部のそれぞれに分岐する排出側分岐部と、を有する。
上記（５）の構成によれば、複数の排ガスダクトの各々から抽出された排ガスが、噴霧乾燥装置を通過後に、排ガス排出ラインを介して複数の排ガスダクトの各々に偏りなく戻されるように構成される。これによって、複数の排ガスダクトの各々に流れる排ガスの流量の均等化を図ることができ、複数の排ガスダクトにそれぞれ設置される排ガスを処理するための各種装置（例えば、後述する第１集塵器や誘引ファンなど）の処理負荷の均等化を図ることができる。

（６）幾つかの実施形態では、上記（５）の構成において、
前記複数の排ガスダクトの各々には、前記排ガスに含まれる煤塵を除去するよう構成された第１集塵器がそれぞれ設置されており、
前記排ガス排出ラインの前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々は、それぞれの前記第１集塵器の上流側において、前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続される。
上記（６）の構成によれば、複数の排ガスダクトの各々に第１集塵器がそれぞれ設置されているような噴霧乾燥システムにおいて、複数の排ガスダクトの各々に設置された第１集塵器を、噴霧乾燥装置から還流される排ガスの処理に流用することができる。したがって、噴霧乾燥装置から排出される排ガスに含まれる乾燥固形物や煤塵を除去するための集塵器を追加で設置することを回避することができるので、設備コストを抑制することができる。

（７）幾つかの実施形態では、上記（５）又は（６）の構成において、
前記排ガス排出ラインの前記上流側排ガス排出ライン部に設置された、前記排ガスに含まれる煤塵を除去するよう構成された第２集塵器を、さらに備える。
上記（７）の構成によれば、第２集塵器は、噴霧乾燥装置から排出される排ガスに含まれる煤塵（ダスト）を除去するための専用の設備として設けられる。このため、複数の排ガスダクトの各々に第１集塵器がそれぞれ設置されている排ガス処理システムにおいて、複数の排ガスダクトの各々に設置された第１集塵器に、噴霧乾燥装置から還流される排ガスの除塵を行わせることはなく、第１集塵器の処理負荷を抑制することができる。さらに、複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ誘引ファン（誘引送風機）が設置されている場合において、誘引ファンの下流側の排ガスダクトに下流側排ガス排出ライン部を接続するときには、前記排ガスダクトの誘引ファンの上流を流れる排ガスの流量を減少させることができ、複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ設置された誘引ファンの負荷を軽減することができる。

（８）幾つかの実施形態では、上記（５）〜（７）の構成において、
前記噴霧乾燥装置と前記上流側排ガス排出ライン部との接続位置は、前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々と前記複数の排ガスダクトの各々との接続位置よりも上方に位置する。
上記（８）の構成によれば、排ガスに含まれる乾燥固形物や煤塵（ダスト）は、自由落下しながら、排ガス排出ラインを通過するよう構成することができる。これによって、排ガス排出ラインの乾燥固形物や煤塵による詰まりを防止できると共に、排ガス排出ライン４を介して乾燥固形物や煤塵を運ぶためのダクト長を短くしダクトルートをシンプルにできる。

（９）幾つかの実施形態では、上記（８）の構成において、
前記上流側排ガス排出ライン部は、前記噴霧乾燥装置の底部に接続されており、
前記排出側分岐部の位置は、前記噴霧乾燥装置と前記上流側排ガス排出ライン部との接続位置よりも下方で、かつ、前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々と前記複数の排ガスダクトの各々との接続位置よりも上方に位置すると共に、
前記排出側分岐部の位置は、前記複数の排ガスダクトのうちの各々が最も外側となる２つの排ガスダクトの中央の位置に位置する。
上記（９）の構成によれば、排ガス排出ライン内を自由落下する乾燥固形物や煤塵（ダスト）による排ガス排出ラインの詰まりを抑制しつつ、複数の下流側排ガス排出ライン部への均等な煤塵および排ガスの分配を図ることができる。

（１０）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（９）の構成において、
前記噴霧乾燥装置は、平面視において、前記複数の排ガスダクトの間の空間に位置している。
上記（１０）の構成によれば、噴霧乾燥装置と複数の排ガスダクトとの距離を短くすることができ、排ガス排出ラインの全長をより短くすることができ、その製造コストやメンテナンスコストを抑制することができる。

（１１）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（４）の構成において、
前記噴霧乾燥装置の底部は、前記複数の排ガスダクトの各々の上部に直接接続される。
上記（１１）の構成によれば、噴霧乾燥システムの省スペース化を図ることができると共に、排ガス排出ラインを不要とすることができる。

（１２）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（１１）の構成において、
前記噴霧乾燥装置は、前記排水の旋回流を形成するように前記排水を噴霧可能な回転噴霧器を有する。
上記（１２）の構成によれば、回転噴霧器によって排水を噴霧することにより、排ガスと排水との接触面積を増大することができ、噴霧乾燥装置の処理効率を向上させることができる。

（１３）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（１１）の構成において、
前記噴霧乾燥装置は、前記排水を噴霧可能な２流体ノズルを有する。
上記（１３）の構成によれば、２流体ノズルによって排水を噴霧することにより、排ガスと排水との接触面積を増大することができ、噴霧乾燥装置の処理効率を向上させることができる。

（１４）幾つかの実施形態では、上記（３）の構成において、
前記下流側排ガス導入ライン部に設けられた第１流量調整部と、
前記複数の上流側排ガス導入ライン部の各々にそれぞれ設けられた第２流量調整部と、をさらに備える。
上記（１４）の構成によれば、例えばダンパなどとなる第１流量調整部が下流側排ガス導入ライン部（すなわち、導入側合流部の下流側）に設けられることによって、排ガス導入ラインからの噴霧乾燥装置への排ガスの供給または供給停止を容易に行うことができ、噴霧乾燥装置のメンテナンスを容易に行うことができる。また、仮に、噴霧乾燥システムが、複数の上流側排ガス導入ライン部の各々に、上記の第２流量調整部を備えていない場合には、排ガス処理システムの運転中に下流側排ガス導入ライン部に設置された第１流量調整部を閉じると、排ガスＧは、第１流量調整部まで到達し、そのまま排ガス導入ライン内に滞留することになる。そして、この滞留状態のまま排ガスの温度が低下することによって排ガスに含まれるＳＯ_２が溶出し、排ガス導入ラインの腐食等の原因となる。ところが、第２流量調整部を閉じた後に第１流量調整部を閉じることによって、排ガス導入ラインに排ガスが滞留するのを回避でき、上記の排ガス導入ラインが、滞留する排ガスＧによって損傷するのを防止することができる。

（１５）幾つかの実施形態では、上記（１４）の構成において、
前記噴霧乾燥装置と前記複数の排ガスダクトとを接続する排ガス排出ラインと、
前記噴霧乾燥装置の底部又は前記排ガス排出ラインに設置された温度検出手段と、
前記温度検出手段で検出された温度が前記排水の蒸発温度以上となるように、前記第１流量調整部を制御する制御装置と、をさらに備える。
上記（１５）の構成によれば、温度検出手段は、噴霧乾燥装置から排ガスが排出される出口付近に設置されており、この温度検出部で検出される検出温度が排水の蒸発温度以上となるように、制御装置は、第１流量調整部（例えばダンパ）を制御することにより、噴霧乾燥装置に供給される高温の排ガスの流量を制御する。つまり、噴霧乾燥装置の出口付近に温度検出手段が設置されていることから、検出温度が排水の蒸発温度以上であれば、噴霧乾燥装置による排水の蒸発処理が適切に行われていることが推定される。また、噴霧乾燥装置に供給される排ガスの流量は、第１流量調整部の開度を大きくするにしたがって多くなり、その開度を小さくするにしたがって少なくなる。したがって、温度検出手段の検出温度が排水の蒸発温度以上となるように、噴霧乾燥装置への排ガスの供給量を制御することで、噴霧乾燥装置による排水の蒸発処理を適切に行うことができる。

（１６）幾つかの実施形態では、上記（５）〜（９）の構成において、
前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々にそれぞれ設けられる第３流量調整部を、さらに備える。
上記（１６）の構成によれば、複数の排ガスダクトの各々に戻される排ガスの流量のバランスを調整することができ、複数の排ガスダクトの各々に還流される排ガスの流量の均等化を図ることができる。

（１７）幾つかの実施形態では、上記（５）〜（９）の構成において、
前記複数の上流側排ガス導入ライン部の各々にそれぞれ設けられる第２流量調整部と、
前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々にそれぞれ設けられる第３流量調整部を、さらに備える。
上記（１７）の構成によれば、複数の排ガスダクトの各々を還流する排ガスの流量の均等化を図ることができる。

（１８）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（１７）の構成において、
前記排ガス排出ラインまたは前記噴霧乾燥装置の底部の少なくとも１方に設けられた加熱装置を、さらに備える。
上記（１８）の構成によれば、加熱装置（例えば、ヒートトレース）を備えることによって、排ガス排出ラインや噴霧乾燥装置の底部において、プラント停止時のダスト凝結や、排水成分である、例えば塩化カルシウム（ＣａＣｌ_２）の潮解を防止することができる。

（１９）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（１８）の構成において、
前記噴霧乾燥装置が噴霧する前記排水の液滴の径は、平均が２０μｍ以上かつ８０μｍ以下であり、最大は２５０μｍ以下である。
上記（１９）の構成によれば、噴霧乾燥装置による排水の蒸発処理を効率的に行うことができる。

（２０）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（１９）の構成において、
前記排水は、前記排ガスの脱硫を実行するように構成された脱硫装置から排出された排水である。
上記（２０）の構成によれば、脱硫装置から排出される排水の外部への排出量を減らし、又は、脱硫装置の排水を無排水処理することができる。

本発明の少なくとも一実施形態によれば、複数の排ガスダクトを備えた排ガス処理システムに適用でき、安価かつ取扱い容易な、また設置性やメンテナンス性に優れた噴霧乾燥システムが提供される。

本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、ボイラの煙道は脱硝装置の下流で２つに分岐し、形成された２つの排ガスダクトのそれぞれに熱交換器が設けられる。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、図１において脱硝装置が設置されていない場合に対応する。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、図１において２つの排ガスダクトのそれぞれに脱硝装置が設置されている場合に対応する。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、ボイラの煙道は脱硝装置の下流で３つに分岐し、形成された３つの排ガスダクトのそれぞれに熱交換器が設けられる。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、複数のボイラの各々の煙道を組み合わせて複数の排ガスダクトを形成する。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、ボイラの煙道は、熱交換器の下流で２つに分岐し、形成された２つの排ガスダクトのそれぞれに第１集塵器が設けられる。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムを備える排ガス処理システムの概略構成図であり、上流側排ガス排出ライン部に第２集塵器が設置される。 本発明の一実施形態に係る複数の排ガスダクトの上方に噴霧乾燥装置が設置された設置態様を示す図である。 図８Ａの平面視を示す図である。 本発明の他の一実施形態に係る複数の排ガスダクトの内の１つの排ガスダクトの上方に噴霧乾燥装置が設置された設置態様を示す図である。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥装置の底部が複数の排ガスダクトに直接接続された状態を示す図である。 図１０Ａの平面視を示す図である。 図１〜図３、図５〜図７の複数の排ガスダクトを詳細化して示す図である。 本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥装置と排ガス導入ラインとの接続部を拡大した図である。 本発明の一実施形態に係る第１流量調整部を制御する制御装置の機能ブロック図である。 本発明の一実施形態に係る排ガス流量制御方法を示す図である。

以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。

図１〜図７は、それぞれ、本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システム１を備える排ガス処理システム６の概略構成図である。排ガス処理システム６は、燃料を燃焼させて排ガスＧを発生させる排ガス発生源から排出される排ガスＧからＮＯ_Ｘ、ＳＯ_Ｘ、煤塵などを除去するシステムである。図１〜図７には、火力発電所に設けられた排ガス処理システム６が示されており、排ガス処理システム６は、例えば石炭や残渣固体物質等を燃料として使用する石炭焚きボイラや、重油や残渣油等を燃料として使用する油焚きボイラ等のボイラから排出される排ガスＧから、窒素酸化物（ＮＯｘ）、硫黄酸化物（ＳＯｘ）、煤塵（ＰＭ）等を除去した後、煙突８７から系外（システムの外部）に排ガスＧを排出するように構成されている。以下では、排ガス発生源をボイラ８１として説明する。

まず、図１〜図７に示された火力発電所の排ガス処理システム６について説明する。この排ガス処理システム６は、図１〜図７に示されるように、ボイラ８１（排ガス発生源）から排出された排ガスＧを外部へ導くための上流側煙道７１と、上流側煙道７１が２つに分岐して形成され、互いに並列に配置された２つの排ガスダクト７２（７２ａ、７２ｂ）と、上流側煙道７１、排ガスダクト７２、下流側煙道７３および、下流側煙道７４を流れる排ガスＧを処理するための各種設備を備えている。複数の排ガスダクト７２は、上流側煙道７１が複数に分岐して形成されており、例えば、図１〜図３、図５〜図７では、排ガスダクト７２は２つの系統（Ａ系７２ａ、Ｂ系７２ｂ）を有しており、図４では、排ガスダクト７２は３つの系統（Ａ系７２ａ、Ｂ系７２ｂ、Ｃ系７２ｃ）を有している。また、図１〜図７に示される実施形態では、各種設備は、排ガスＧと熱交換する１または複数の熱交換器（空気予熱器）８３（ＡＰＨ）と、熱回収後の排ガスＧに含まれる煤塵を除去する複数の第１集塵器８４（ＤＣ）と、排ガスＧを上流側から下流側に誘引する第１誘引ファン８５（誘引送風機）と、除塵後の排ガスＧ中の硫黄酸化物を除去するための脱硫装置８６（ＦＧＤ）と、排ガスＧを外部に排出する煙突８７である。また、幾つかの実施形態では、図１、図３〜図７に示されるように、排ガス処理システム６は、上記の各種設備に加えて、熱交換器８３の上流側に設置される、排ガスＧから窒素酸化物を除去する脱硝装置８２をさらに備えていても良い。なお、第１集塵器８４は、排ガスＧに含まれる煤塵（微粒子）に電荷を与え、集塵極に引き寄せることで煤塵を捕集する電気集塵器であっても良い。

そして、上述した各種設備は、排ガス発生源により近い側となる上流側から、排ガス発生源からより遠い側となる下流側に向けて、脱硝装置８２、熱交換器８３、第１集塵器８４、第１誘引ファン８５、脱硫装置８６、煙突８７の順に直列的に煙道７に設置されることで、排ガスＧを段階的に処理（浄化）していく。なお、上記の熱交換器８３は、火力発電において、ボイラ燃焼用空気を加熱することによりボイラ効率の向上を図るために設置されている。よって、他の幾つかの実施形態では、排ガス処理システム６は、熱交換器８３を設置する必要がない場合（例えば、火力発電所以外の発電所や、ゴミ焼却炉、化学プラントなど）には、熱交換器８３を備えていなくても良い。また、脱硝装置８２も必須の設備ではなく、ボイラ８１からの排ガスＧ中に窒素酸化物や水銀が含まれない場合には、脱硝装置８２を省略することも可能である。

また、複数の排ガスダクト７２は、幾つかの実施形態では、図１〜図４、図６〜図７に示されるように、ボイラ８１で発生した排ガスを外部に導く１本の煙道（上流側煙道７１）が、系統分岐部７ｍにおいて複数に分岐することにより形成される。この場合において、幾つかの実施形態では、図１〜図４、図７に示されるように、複数の排ガスダクト７２（７２ａ〜７２ｃ）の各々に、上述した熱交換器８３（８３ａ〜８３ｃ）、第１集塵器８４（８４ａ〜８４ｃ）、第１誘引ファン８５（８５ａ〜８５ｃ）がそれぞれ設置されても良い。この際、脱硝装置８２は、上記の系統分岐部７ｍの上流側の上流側煙道７１に設けられても良いし（図１、図４、図７参照）、複数の排ガスダクト７２（７２ａ、７２ｂ）の各々に設置されても良い（図３）。他の幾つかの実施形態では、図６に示されるように、熱交換器８３は上流側煙道７１に設置され、第１集塵器８４および第１誘引ファン８５が複数の排ガスダクト７２の各々に設置されても良い。
他の幾つかの実施形態では、図５に示されるように、２以上の複数のボイラ８１（図５の例示ではボイラ８１の数は８１ａと８１ｂの２つ）の各々の煙道７を並置し、組み合わせることによって複数の排ガスダクト７２を形成しても良い。この場合には、複数の煙道７（排ガスダクト７２）の各々に、脱硝装置８２、熱交換器８３、第１集塵器８４、第１誘引ファン８５がそれぞれ設置される。

また、図１〜図７に示される実施形態では、複数の排ガスダクト７２の各々は、下流に設けられた系統合流部７ｊにおいて合流しており、系統合流部７ｊからさらに下流に向けて１本の煙道（下流側煙道７３、７４）が設けられている。そして、この下流側煙道７３、７４には、上述した脱硫装置８６、煙突８７が設置されている。なお、他の幾つかの実施形態では、脱硫装置８６あるいは脱硫装置８６および煙突８７も、それぞれ、複数の排ガスダクト７２の各々に設置されていても良い。
また、他の幾つかの実施形態では、排ガスダクト７２は、３つを超える系統を有していても良い。
以上の通り、図１〜図７に示される実施形態では、複数の排ガスダクト７２は、ボイラ（排ガス発生源）８１で発生した排ガスを外部に導く煙道７の、上流側煙道７１（上流部）に夫々の一端が接続され、前記煙道の下流部あたる下流側煙道７３（下流部）に夫々の他端が接続され、複数の排ガスダクト７２は、煙道７の中間部を形成している。

次に、本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システム１について説明する。
図１〜図７に示されるように、噴霧乾燥システム１は、乾燥対象となる排水Ｗを乾燥させるためのシステムである。そして、噴霧乾燥システム１は、排ガスＧを排水Ｗに接触させるよう構成された１台または複数台の噴霧乾燥装置３と、複数の排ガスダクト７２から排ガスＧを噴霧乾燥装置３に導入するために複数の排ガスダクト７２と噴霧乾燥装置３とを接続する排ガス導入ライン２（ダクト）と、噴霧乾燥装置３に導入された排ガスＧを排出するために噴霧乾燥装置３と複数の排ガスダクト７２とを接続する排ガス排出ライン４（ダクト）と、噴霧乾燥装置３に排水Ｗを導入（供給）する排水導入装置５を備える（図１〜図７参照）。そして、噴霧乾燥システム１は、排ガス処理システム６から排出される排水Ｗを噴霧乾燥装置３に供給すると共に、噴霧乾燥装置３の内部において、排ガス導入ライン２を介して複数の排ガスダクト７２から抽出し導入した高温の排ガスＧの熱を用いて排水Ｗを乾燥（液体分の蒸発）させる。また、排水Ｗの乾燥に用いられた排ガスＧは、排ガス排出ライン４を介して複数の排ガスダクト７２に戻される（還流される）。

図１〜図７に示される実施形態では、噴霧乾燥システム１は、下流側煙道７３を流れる排ガスＧの脱硫を行うよう構成された上記の脱硫装置８６から排出される排水Ｗ（つまり、脱硫排水Ｗ_０）の乾燥を行うように構成されている。一般的には、脱硫装置８６は、アルカリ吸収液を排ガスＧと気液接触させて排ガスＧ中の硫黄酸化物を除去する湿式の脱硫装置が用いられる。詳述すると、一般的な湿式の脱硫装置８６では、アルカリ吸収液として、例えば石灰スラリー（水に石灰石粉末を溶解させた水溶液）が用いられ、装置内の温度は、例えば３０〜８０℃程度に調節されている。石灰スラリーは、不図示の石灰スラリー供給装置から脱硫装置８６の塔底部内の液溜に供給される。脱硫装置８６の塔底部に供給された石灰スラリーは、図示しない吸収液送給ラインを介して脱硫装置８６内の複数のノズルに送られ、ノズルから塔頂部側に向かって噴出される。脱硫装置８６の塔底部側から上昇してくる排ガスＧがノズルから噴出する石灰スラリーと気液接触することにより、排ガスＧ中の硫黄酸化物が石灰スラリーにより吸収され、排ガスＧから分離、除去される。石灰スラリーにより浄化された排ガスＧは、浄化ガスとして脱硫装置８６の塔頂部側より排出され、煙突８７から系外に排出される。

また、図１〜図７に示される実施形態では、排水導入装置５は、脱水機５１と、排水タンク５２と、ポンプ５３とを備えている。そして、脱水機５１は、脱硫排水配管５１ｆによって脱硫装置８６に接続されることにより、脱硫装置８６から排出される脱硫排水Ｗ_０が脱水機５１に導入される。脱水機５１としては、例えばベルトフィルタ、遠心分離機、ドラムフィルタ、サイクロン、デカンタ型遠心沈降機等が用いられても良い。脱水機５１は、脱硫排水Ｗ_０中の石膏を含む固体分Ｄｓと液体分の脱水濾液とを分離するものであり、脱硫装置８６から排出された脱硫排水Ｗ_０は脱水機５１により石膏などの固体分Ｄｓが分離される。分離した固体分Ｄｓは系外に排出される。一方、分離液である脱水濾液は、排水ライン５２ｆを介して噴霧乾燥装置３に送られる。なお、図１〜図７に示される実施形態では、脱水濾液は一時的に排水タンク５２に貯留されると共に、ポンプ５３により脱水濾液を噴霧乾燥装置３に送るように構成されている（脱水濾液＝噴霧乾燥装置３に導入される排水Ｗ）。

上述した構成を有する噴霧乾燥システム１において、噴霧乾燥装置３の台数は、排ガスダクト７２の数よりも少ない。すなわち、複数の排ガスダクト７２の各々に対して噴霧乾燥装置３をそれぞれ１台ずつ接続するのではなく、複数の排ガスダクト７２に噴霧乾燥装置３を共有化させるように両者を排ガス導入ライン２及び排ガス排出ライン４によって接続することにより、噴霧乾燥装置３の台数を排ガスダクト７２の本数より少なくしている。例えば、後述するように、噴霧乾燥装置３に接続された１本の排ガス導入ライン２を、その上流側（排ガスダクト７２側）において複数に分岐させて複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ接続させることによって、複数の排ガスダクト７２に噴霧乾燥装置３を共有化させても良い。あるいは、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ接続された排ガス導入ライン２と噴霧乾燥装置３とをそれぞれ接続することによって、複数の排ガスダクト７２に噴霧乾燥装置３を共有化させても良い。

図１〜図７に示される実施形態では、噴霧乾燥装置３の台数は１台となっている。これに対して、図１〜図３、図５〜図７に示される実施形態では、排ガスダクト７２は、Ａ系とＢ系の２つの系統（Ａ系７２ａ、Ｂ系７２ｂ）を有しており、排ガスダクトの数は２である。よって、噴霧乾燥装置３の台数（１台）は排ガスダクト７２の数（２）よりも少ない。また、図４に示される実施形態では、排ガスダクト７２は、Ａ系、Ｂ系とＣ系の３つの系統（Ａ系７２ａ、Ｂ系７２ｂ、Ｃ系７２ｃ）を有しており、排ガスダクト７２の数は３である。よって、噴霧乾燥装置３の台数（１台）は排ガスダクト７２の数（３）よりも少ない。よって、排ガスダクト７２の数と同数の噴霧乾燥装置３を備える場合よりも、噴霧乾燥装置３の台数が少ない分だけ設備コストやメンテナンスコストを低減することができる。

ただし、図１〜図７に示される実施形態に限定されず、２以上の排ガスダクト７２に２以上の噴霧乾燥装置３を共有化させても良い。具体的には、例えば、３つの排ガスダクト７２に対して噴霧乾燥装置３を２台設けても良い。この場合には、例えば、Ａ系およびＢ系の排ガスダクト７２ａ、７２ｂの各々と１台の噴霧乾燥装置３をそれぞれ接続すると共に、Ｃ系の排ガスダクト７２ｃともう１台の噴霧乾燥装置３を接続しても良い。あるいは、Ａ系、Ｂ系およびＣ系の排ガスダクトの各々と２台の噴霧乾燥装置３の各々とをそれぞれ接続しても良い。

上記の構成によれば、噴霧乾燥システム１は、排ガスダクト７２の数よりも少ない台数の噴霧乾燥装置３を備える。このように、複数の排ガスダクト７２に噴霧乾燥装置３を共有化させることにより、安価かつ取扱い容易な、また設置性やメンテナンス性に優れた噴霧乾燥システム１を提供することができる。

次に、排ガス導入ライン２に関する幾つかの実施形態について説明する。
幾つかの実施形態では、図６に示されるように、排ガス導入ライン２は、複数の排ガスダクト７２ではない部分（図６の例示では上流側煙道７１）に接続されていても良い。この場合には、排ガス導入ライン２は、後述する実施形態のように途中で分岐することはなく、その構造を簡易化することができると共に、設置スペース上の制約を受ける事態の低減を図ることができる。このため、噴霧乾燥システム１の低コスト化や、設置性やメンテナンス性の向上を図ることができる。

他の幾つかの実施形態では、図１〜図５、図７に示されるように、排ガス導入ライン２は、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ接続される。すなわち、ボイラ８１から排出された排ガスＧは、複数の排ガスダクト７２の各々を通って下流の系外に向かって流れるところ、排ガス導入ライン２が複数の排ガスダクト７２の各々に接続されることによって、複数の排ガスダクト７２の各々を流れる排ガスＧが、それぞれ、排ガス導入ライン２を介して噴霧乾燥装置３に導入される。これによって、複数の排ガスダクト７２の各々から偏りなく排ガスＧを抽出（分岐）することができる。また、複数の排ガスダクト７２の部分は、構造的に排ガス導入ライン２を接続し易く、噴霧乾燥装置３に排ガスＧを供給するための排ガス導入ライン２を既存の噴霧乾燥システムの複数の排ガスダクト７２に容易に追設することができる。

より具体的には、幾つかの実施形態では、図１〜図５、図７に示されるように、排ガス導入ライン２は、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ接続される複数の上流側排ガス導入ライン部２１と、複数の上流側排ガス導入ライン部２１が合流する導入側合流部２２と、導入側合流部２２と噴霧乾燥装置３とを接続する１本の下流側排ガス導入ライン部２３と、を有している。換言すれば、複数の上流側排ガス導入ライン部２１の各々は、複数の排ガスダクト７２の各々に１つずつ接続されると共に、複数の導入側合流部２２から分岐するように導入側合流部２２に接続されている。また、下流側排ガス導入ライン部２３は、導入側合流部２２から１つの流路となって噴霧乾燥装置３に排ガスＧが流れるように、導入側合流部２２に接続されている。このため、複数の排ガスダクト７２の各々を流れる排ガスＧは、複数の上流側排ガス導入ライン部２１の各々を通って導入側合流部２２まで流れた後、導入側合流部２２で合流して、１本の下流側排ガス導入ライン部２３を流れることになる。

上記の構成によれば、複数の排ガスダクト７２の各々からの排ガスＧは、導入側合流部２２において合流した後に、１つの下流側排ガス導入ライン部２３を通じて噴霧乾燥装置３に供給される。このため、排ガス導入ライン２と噴霧乾燥装置３とが１箇所で接続することから、噴霧乾燥装置３の構造をシンプルに構成することができる。しかも、噴霧乾燥装置３が、排ガスＧと排水Ｗとの気液接触面積を増大させるために２流体ノズルやロータリーアトマイザー（回転噴霧器）などの噴霧装置３４を複数備える場合には、これらの複数の噴霧装置３４の各々に対する均等な排ガスＧの供給を図ることができる。

また、図１〜図５、図７に示される実施形態では、上述したように、複数の排ガスダクト７２の各々には、排ガスＧと熱交換するよう構成された熱交換器８３がそれぞれ設置されている。つまり、複数の排ガスダクト７２の各々に１つの熱交換器８３が１対１の関係でそれぞれ設置されている。このような実施形態において、幾つかの実施形態では、図示されるように、複数の排ガス導入ライン２の各々は、熱交換器８３の上流側において複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ接続されていても良い。排ガスダクト７２を通過する排ガスＧの温度は、熱交換器８３における熱交換によって低温化されるため、熱交換器８３の上流側を流れる排ガスＧの温度は、その下流側を流れる排ガスＧの温度よりも高い。したがって、上記の構成によれば、熱交換器８３を通過する前のより高温状態にある排ガスＧを、排ガス導入ライン２を介して噴霧乾燥装置３に供給することができる。これによって、噴霧乾燥装置３において、より高温の排ガスＧを排水Ｗに接触させることができ、噴霧乾燥装置３による排水処理の高効率化を図ることができる。

なお、他の幾つかの実施形態では、排ガス導入ライン２は、複数の排ガスダクト７２の各々と噴霧乾燥装置３とをそれぞれ接続する複数のダクト（不図示）から構成されることによって、排ガス導入ライン２は、複数の排ガスダクト７２にそれぞれ接続されていても良い。

次に、排ガス排出ライン４に関する幾つかの実施形態について説明する。
幾つかの実施形態では、図１〜図７に示されるように、排ガス排出ライン４は、噴霧乾燥装置３に接続される１本の上流側排ガス排出ライン部４１と、前記複数の排ガスダクト７２にそれぞれ接続される複数の下流側排ガス排出ライン部４３と、１本の上流側排ガス排出ライン部４１から複数の下流側排ガス排出ライン部４３に分岐する排出側分岐部４２と、を有する。換言すれば、上流側排ガス排出ライン部４１は、噴霧乾燥装置３から排出される排ガスＧの流路が１つとなるように、噴霧乾燥装置３に接続されている。他方、複数の下流側排ガス排出ライン部４３の各々は、複数の排ガスダクト７２の各々に１本ずつ接続されると共に、排出側分岐部４２から各々が分岐するように排出側分岐部４２に接続されている。このため、噴霧乾燥装置３から排出された排ガスＧは、１本の上流側排ガス排出ライン部４１を通って排出側分岐部４２まで流れた後、排出側分岐部４２から複数の下流側排ガス排出ライン部４３に分岐して流れることで、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ戻されることになる。こうして還流された排ガスＧは、排ガスダクト７２において、排ガスダクト７２のより上流を流れてくる排ガスＧと合流しながら、排ガスダクト７２を下流に向けて流れることになる。

上記の構成によれば、排ガス排出ライン４は、複数の排ガスダクト７２の各々から抽出され、噴霧乾燥装置３に導入された排ガスＧが、噴霧乾燥装置３を通過後に、排ガス排出ライン４を介して複数の排ガスダクト７２の各々に偏りなく戻される（還流する）ように構成される。これによって、複数の排ガスダクト７２の各々に流れる排ガスＧの流量の均等化を図ることができ、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ設置される排ガスＧを処理するための各種装置（例えば、後述する第１集塵器８４や第１誘引ファン８５など）の処理負荷の均等化を図ることができる。

図１〜図７に示される実施形態では、上述したように、複数の排ガスダクト７２の各々には、排ガスＧに含まれる煤塵（ダスト）を除去するよう構成された第１集塵器８４がそれぞれ設置されている。つまり、複数の排ガスダクト７２の各々に対して１つの第１集塵器８４が１対１の関係でそれぞれ設置されている。より詳細には、第１集塵器８４は、熱交換器８３の下流側であって、第１誘引ファン８５の上流側に設置されている。
このような実施形態において、幾つかの実施形態では、図１〜図６に示されるように、排ガス排出ライン４の複数の下流側排ガス排出ライン部４３の各々は、第１集塵器８４の上流側において複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ接続される。図１〜図６に示される実施形態では、噴霧乾燥システム１を通って排ガスダクト７２に還流される排ガスＧは、第１集塵器８４などの集塵器をまだ経由していないため、排ガスＧは乾燥固形物や煤塵を含んでいる。そこで、上述したように、複数の排ガスダクト７２の各々において、第１集塵器８４の上流側に下流側排ガス排出ライン部４３を接続することにより、排ガス排出ライン４を流れてきた排ガスＧは、排ガスダクト７２に戻された後に第１集塵器８４を通過するので、除塵される。

上記の構成によれば、複数の排ガスダクト７２の各々に第１集塵器８４がそれぞれ設置されているような噴霧乾燥システム１において、複数の排ガスダクト７２の各々に設置された第１集塵器８４を、噴霧乾燥装置３から還流される排ガスＧの処理に流用することができる。したがって、噴霧乾燥装置３から排出される排ガスＧに含まれる乾燥固形物や煤塵を除去するための集塵器（図７参照）を追加で設置することを回避することができるので、設備コストを抑制することができる。

他の幾つかの実施形態では、図７に示されるように、噴霧乾燥システム１は、排ガス排出ライン４の上流側排ガス排出ライン部４１に設置された、排ガスＧに含まれる乾燥固形物や煤塵（ダスト）を除去するよう構成された第２集塵器４５を、さらに備える。つまり、第２集塵器４５は、噴霧乾燥装置３から排出される排ガスＧに含まれる乾燥固形物や煤塵を除去するための専用の設備として設けられる。これによって、複数の排ガスダクト７２の各々に第１集塵器８４がそれぞれ設置されている排ガス処理システム６において、複数の排ガスダクト７２の各々に設置された第１集塵器８４に、噴霧乾燥装置３から還流される排ガスＧの除塵を行わせることはなく、第１集塵器８４の処理負荷を抑制することができる。図７に示される実施形態では、上流側排ガス排出ライン部４１には第２集塵器４５の下流側に第２誘引ファン４６が設けられている。第２誘引ファン４６は、排ガスＧを上流側（噴霧乾燥装置３側）から下流側（複数の排ガスダクト７２側）に誘引するよう構成されている。

このように、排ガス排出ライン４（図７では上流側排ガス排出ライン部４１）に第２集塵器４５を設ける実施形態では、噴霧乾燥装置３を通って還流される排ガスＧの除塵が第２集塵器４５によって行われる。このため、図７のＬＩＮＥ１〜ＬＩＮＥ３で示されるように、排ガス排出ライン４（下流側排ガス排出ライン部４３）と排ガスダクト７２との接続箇所は複数の位置から選択可能となる。例えば、幾つかの実施形態では、この接続箇所は、第１集塵器８４の上流側であっても良く、図７では、第１集塵器８４の上流側であって、かつ、熱交換器８３の下流側となっている（図７のＬＩＮＥ１）。他の幾つかの実施形態では第１集塵器８４の下流側であって、かつ、第１誘引ファン８５の上流側であっても良い（図７のＬＩＮＥ２）。その他の幾つかの実施形態では、第１誘引ファン８５の下流側であって、かつ、系統合流部７ｊの上流側であっても良い（図７のＬＩＮＥ３）。

上記の構成によれば、第２集塵器４５は、噴霧乾燥装置３を介して還流される排ガスＧに対する専用の設備として設けられる。このため、複数の排ガスダクト７２の各々に第１集塵器８４がそれぞれ設置される噴霧乾燥システム１において、複数の排ガスダクト７２の各々に設置された第１集塵器８４は、噴霧乾燥装置３から排出される排ガスＧに対する除塵処理を実質的にする必要はなく、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ設置された第１集塵器８４の処理負荷を抑制することができる。さらに、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ第１誘引ファン８５（誘引送風機）が設置されている場合において、第１誘引ファン８５の下流側の排ガスダクト７２（図７のＬＩＮＥ３）に下流側排ガス排出ライン部４３を接続する場合には、排ガスダクト７２の第１誘引ファン８５の上流を流れる排ガスＧの流量を減少させることができ、複数の排ガスダクト７２の各々にそれぞれ設置された第１誘引ファン８５の負荷を軽減することができる。一実施形態では５％程度の処理負荷の軽減効果が確認されている。

なお、その他の幾つかの実施形態では、排ガス排出ライン４は、系統合流部７ｊの下流側の煙道７（下流側煙道７３）に接続されても良い。この場合には、排ガス排出ライン４は、排出側分岐部４２を備えていない１本のラインであっても良い。この実施形態によっても、上述した実施形態（図７のＬＩＮＥ１〜ＬＩＮＥ３）と同様の効果を奏することができる。

次に、噴霧乾燥システム１における噴霧乾燥装置３の設置態様に関する幾つかの実施形態を、図８Ａ〜図１０Ｂを用いて説明する。図８Ａは、本発明の一実施形態に係る複数の排ガスダクト７２の上方に噴霧乾燥装置３が設置された設置態様を示す図である。図８Ｂは、図８Ａの平面視を示す図である。図９は、本発明の他の一実施形態に係る複数の排ガスダクト７２の内の１つの排ガスダクトの上方に噴霧乾燥装置３が設置された設置態様を示す図である。図１０Ａは、本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥装置３の底部３１が複数の排ガスダクト７２に直接接続された状態を示す図である。また、図１０Ｂは、図１０Ａの平面視を示す図である。

幾つかの実施形態では、図８Ａ〜図９に示されるように、上述した噴霧乾燥装置３と上流側排ガス排出ライン部４１との接続位置Ｐｗ（高さ位置）は、複数の下流側排ガス排出ライン部４３の各々と複数の排ガスダクト７２の各々との接続位置Ｐｄ（高さ位置）よりも上方（高位置）に位置する。図８Ａ〜図８Ｂに示される実施形態では、Ａ系となる排ガスダクト７２ａとＢ系となる排ガスダクト７２ｂの２つの排ガスダクト７２の間に形成される空間Ｓの真上に位置するように、噴霧乾燥装置３は設置されている。図９に示される実施形態では、噴霧乾燥装置３は、Ａ系の排ガスダクト７２ａの上方に位置しており、図８Ａのように複数の排ガスダクト７２全体の中央（中央付近）の上方に位置せず、その中央（中央付近）から一方側にずらされて配置されている。よって、噴霧乾燥装置３から排出される排ガスＧに含まれる乾燥固形物や煤塵（ダスト）は、排ガス排出ライン４を排ガスＧの流れに乗って進む。

上記の構成によれば、排ガスＧに含まれる乾燥固形物や煤塵は、自由落下しながら、排ガス排出ライン４を通過するよう構成することができる。これによって、排ガス排出ライン４の乾燥固形物や煤塵による詰まりを防止できると共に、排ガス排出ライン４を介して乾燥固形物や煤塵を運ぶためのダクト長を短くしダクトルートをシンプルにできる。

また、幾つかの実施形態では、図８Ａ〜図９に示されるように、排ガス排出ライン４は、噴霧乾燥装置３の底部３１に接続されている。この接続態様において、排出側分岐部４２の位置（高さ位置）は、噴霧乾燥装置３と上流側排ガス排出ライン部４１との接続位置Ｐｗ（高さ位置）より下方（低位置）で、かつ、複数の下流側排ガス排出ライン部４３の各々と複数の排ガスダクト７２の各々との接続位置Ｐｄ（高さ位置）より上方（高位置）に位置する。噴霧乾燥装置３の底部３１は、図８Ａ〜図９に示される実施形態では、側面視において円錐状の形状をしている部分となる（図８Ａ、図９参照）。そして、上記の構成によれば、上流側排ガス排出ライン部４１を通って排出側分岐部４２まで流れてきた排ガスＧに含まれる乾燥固形物や煤塵（ダスト）は、排出側分岐部４２よりもさらに下方に位置する排ガスダクト７２まで重力に引かれつつ、下方に流れる。

上記の構成に加えて、さらに、水平方向の位置について、排出側分岐部４２は、複数の排ガスダクト７２のうちの各々が最も外側となる２つの排ガスダクトの中央（中央付近）に位置する。換言すれば、排出側分岐部４２から複数の排ガスダクト７２の各々までの距離がそれぞれ等しくなるように構成している。これによって、複数の下流側排ガス排出ライン部４３への均等な排ガスの分配を図っている。例えば、Ａ系、Ｂ系の２つの排ガスダクト７２を有する排ガス処理システム６（図１〜図３、図５〜図７参照）では、上述した最も外側となる２つの排ガスダクトはＡ系およびＢ系であり、この場合の中央（中央付近）は、Ａ系の排ガスダクト７２とＢ系の排ガスダクト７２の間に形成される空間Ｓの中央（中央付近）となる。また、例えば、Ａ系、Ｂ系、Ｃ系の３つの排ガスダクト７２を有する排ガス処理システム６（図４参照）では、上述した最も外側となる２つの排ガスダクトはＡ系およびＣ系であり、この場合の中央（中央付近）は、Ａ系の排ガスダクト７２とＣ系の排ガスダクト７２の間に形成される空間Ｓの中央（中央付近）となる。なお、Ａ系からＣ系の排ガスダクト７２が等間隔で配置されている場合には、Ｂ系の位置が中央（中央付近）となる。そして、図８Ａ〜図９に示される実施形態では、Ａ系の排ガスダクト７２ａに接続される下流側排ガス排出ライン部４３ａの全長を長さＬａとし、Ｂ系の排ガスダクト７２ｂに接続される下流側排ガス排出ライン部４３ｂの全長を長さＬｂとしたとき、Ｌａ＝Ｌｂ（Ｌａ≒Ｌｂ）となっている。また、図８Ａ〜図９に示される実施形態では、２本の下流側排ガス排出ライン部４３の各々が排出側分岐部４２で左右対称となるような形状を有していることによって、複数の下流側排ガス排出ライン部４３への均等な排ガスの分配をさらに図っている。

したがって、上記の構成によれば、排ガス排出ライン４内を自由落下する乾燥固形物や煤塵（ダスト）による排ガス排出ライン４の詰まりを抑制しつつ、複数の下流側排ガス排出ライン部４３への均等な排ガスの分配を図ることができる。

また、幾つかの実施形態では、図８Ｂに示されるように、噴霧乾燥装置３は、平面視において、複数の排ガスダクト７２の間の空間Ｓに位置している。なお、図８Ａ〜図８Ｂに示される実施形態では、噴霧乾燥装置３の平面視における外形は上記の空間Ｓに収まっているが、他の幾つかの実施形態では、上記の空間Ｓからはみ出す部分があっても良い。
上記の構成によれば、噴霧乾燥装置３と複数の排ガスダクト７２との距離を短くすることができ、排ガス排出ライン４の全長をより短くすることができ、その製造コストやメンテナンスコストを抑制することができる。
なお、幾つかの実施形態では、図９に示されるように、噴霧乾燥装置３は、複数の排ガスダクト７２（７２ａ、７２ｂ）の内の１つの排ガスダクト７２ａの上方に設置されている。

また、幾つかの実施形態では、図１０Ａ〜図１０Ｂに示されるように、噴霧乾燥装置３の底部３１は、複数の排ガスダクト７２の各々の上部に直接接続される。図１０Ａ〜図１０Ｂに示される実施形態では、噴霧乾燥装置３の真下にＡ系とＢ系の２つの排ガスダクト７２が位置している。また、図１０Ｂに示されるように、平面視において噴霧乾燥装置３は円形の外径を有しており、その底部３１は円盤状の形状を有している。そして、複数の排ガスダクト７２の各々の上面７２ｕと噴霧乾燥装置３の底部３１とは、両者が重なる重複領域ｒにおいて連通しており、排ガスＧの通過が可能となっている。これによって、噴霧乾燥システム１の省スペース化を図ることができると共に、排ガス排出ライン４を不要とすることができる。

次に、噴霧乾燥システム１の運用方法について、図８Ａ〜図９、図１１〜図１４を用いて説明する。図１１は、図１〜図３、図５〜図７の複数の排ガスダクト７２を詳細化して示す図である。図１２は、本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥装置３と排ガス導入ライン２との接続部２ｊｗを拡大した図である。図１３は、本発明の一実施形態に係る第１流量調整部２５を制御する制御装置１２の機能ブロック図である。また、図１４は、本発明の一実施形態に係る排ガス流量制御方法を示す図である。

幾つかの実施形態では、図１１〜図１２に示されるように、噴霧乾燥システム１は、排ガス導入ライン２（下流側排ガス導入ライン部２３）と噴霧乾燥装置３との接続部２ｊｗに設けられた第１流量調整部２５と（図１２参照）、複数の上流側排ガス導入ライン部２１の各々の、対応する複数の排ガスダクト７２の各々との接続部２ｊｄ（図１１参照）にそれぞれ設けられた複数の第２流量調整部２６と、をさらに備える。図１１〜図１２に示される実施形態では、第１流量調整部２５や第２流量調整部２６は、排ガスＧの流量を調整可能なダンパとなっている。ただし、本実施形態に限定されず、例えば、他の幾つかの実施形態では、第１流量調整部２５や第２流量調整部２６は、排ガスＧの流量を調整可能なオリフィスや流量制御弁など、他の流量調整手段であっても良い。また、第１流量調整部２５や第２流量調整部２６は、図示されるように、後述する制御装置１２からの命令に従って制御されるよう構成されていても良い。

図１１〜図１２に示される実施形態では、図１２に示されるように、噴霧乾燥装置３は複数の噴霧装置３４（図１２の例示では３４ａ〜３４ｃの３つ）を有しており、噴霧乾燥装置３に導入された排ガスＧは、複数の噴霧装置３４の各々にそれぞれ連通する内部通路３３（３３ａ〜３３ｃ）を通って、対応する噴霧装置３４から噴霧される排水Ｗと接触されるように構成されている。また、第１流量調整部２５は、上記の接続部２ｊｗにおける上流側に位置する流量制御用の第１流量調整部２５ａと、その下流側に位置すると共に、上述した各々の内部通路３３の各々に設置されて排ガスＧの通過の許可あるいは禁止が可能な第１流量調整部２５ｂとを含んでいる。上記の下流側の第１流量調整部２５ｂによって、複数の内部通路３３への排ガスの分配を均等化させることが可能となり、複数の内部通路３３の各々に導入する排ガスＧの流量を均一にし、噴霧される排水Ｗとの比率を揃えることで、排水Ｗの蒸発条件を揃えることが可能となる。このように、第１流量調整部２５が導入側合流部２２の下流側に設けられることによって、排ガス導入ライン２からの噴霧乾燥装置３への排ガスＧの供給または供給停止を容易に行うことができ、噴霧乾燥装置３のメンテナンスを容易に行うことができる。

また、仮に、噴霧乾燥システム１が上記の第２流量調整部２６を備えていない場合には、排ガス処理システム６の運転中に噴霧乾燥装置３側の上記の接続部２ｊｗに設置された第１流量調整部２５を閉じると、排ガスＧは、第１流量調整部２５まで到達し、排ガス導入ライン２内に滞留することになる。そして、この滞留状態のまま排ガスＧの温度が低下すると、排ガスＧに含まれるＳＯ_２が溶出し、排ガス導入ライン２の腐食等の原因となる。しかし、上流側排ガス導入ライン部２１の排ガスダクト７２との接続部に設けられた第２流量調整部２６を閉じた後に第１流量調整部２５を閉じることによって、排ガス導入ライン２に排ガスＧが滞留するのを回避でき、上記の排ガス導入ライン２が滞留する排ガスＧによって損傷するのを防止することができる。

また、幾つかの実施形態では、図８Ａ〜図９、図１１に示されるように、噴霧乾燥システム１は、複数の下流側排ガス排出ライン部４３の各々にそれぞれ設けられる複数の第３流量調整部４４を、さらに備える。図８Ａ〜図９、図１１に示される実施形態では、図１１に示されるように、第３流量調整部４４（４４ａ、４４ｂ）は、複数の下流側排ガス排出ライン部４３（４３ａ、４３ｂ）の各々の、排出側分岐部４２側に設けられており、第４流量調整部４９（４９ａ、４９ｂ）は、複数の下流側排ガス排出ライン部４３（４３ａ、４３ｂ）の各々の、複数の排ガスダクト７２（７２ａ、７２ｂ）の各々との接続部４ｊｄに設置されている。この複数の第３流量調整部４４（４４ａ、４４ｂ）、第４流量調整部４９（４９ａ、４９ｂ）は、排ガスＧの流量を調整可能なダンパとなっている。ただし、本実施形態に限定されず、例えば、他の幾つかの実施形態では、第３流量調整部４４、第４流量調整部４９は、排ガスＧの流量を調整可能なオリフィスや流量制御弁など、他の流量調整部であっても良く、また、ＯＮ−ＯＦＦダンパを用いることもできる。

また、第３流量調整部４４は、図８Ａ〜図９、図１１に示されるように、後述する制御装置１２からの命令に従って、その開度が制御されるよう構成されていても良い。この場合には、排ガスＧの流量を検出可能な不図示の流量検出手段（例えば、流量計）が複数の下流側排ガス排出ライン部４３の各々に設置されることによって、制御装置１２は、流量検出手段の検出値に基づいて複数の第３流量調整部４４の各々をそれぞれ制御するよう構成しても良い。

上記の構成によれば、複数の排ガスダクト７２の各々に戻される排ガスＧの流量のバランスを調整することができ、複数の排ガスダクト７２の各々に還流される排ガスＧの流量の均等化を図ることができる。また、第２流量調整部２６および第３流量調整部４４によって、複数の排ガスダクトの各々を還流する排ガスの流量の均等化を図ることができる。

また、幾つかの実施形態では、図１２〜図１４に示されるように、噴霧乾燥システム１は、噴霧乾燥装置３の底部３１又は排ガス排出ライン４に設置された温度検出手段４７と、温度検出手段４７で検出された温度（検出温度Ｔ）が排水Ｗの蒸発温度Ｔ_０以上となるように、第１流量調整部２５を制御する制御装置１２と、をさらに備える。温度検出手段４７は例えば温度計である。そして、図１２〜図１４に示される実施形態では、温度検出手段４７は、噴霧乾燥装置３と排ガス排出ライン４（上流側排ガス排出ライン部４１）との接続部４ｊｗに設けられており、噴霧乾燥装置３から排出される際の排ガスＧの温度を検出しようとしている。換言すれば、温度検出手段４７が取得する温度が、噴霧乾燥装置３の底部３１に設置された場合に取得される温度と同視可能な排ガス排出ライン４上の位置に、温度検出手段４７は設置されている。

他方、制御装置１２は、コンピュータで構成されており、図示しないＣＰＵ（プロセッサ）や、ＲＯＭやＲＡＭといったメモリＭ（記憶装置）を備えている。そして、主記憶装置にロードされたプログラムの命令に従ってＣＰＵが動作（データの演算など）することで、制御装置１２が備える後述する各機能部を実現する。より具体的には、制御装置１２は、図１３に示されるように、温度検出手段４７に接続された温度検出部１３と、第１流量調整部２５などの流量調整部（２５、２６、４４、４９）に接続され、流量調整部を制御する流量制御部１４と、を備える。また、制御装置１２の内部において流量制御部１４と温度検出部１３とが接続されており、温度検出部１３が温度検出手段４７で検出される検出値に基づいて取得した検出温度Ｔが、流量制御部１４に入力されるようになっている。

そして、流量制御部１４は、予めメモリＭに保持している蒸発温度Ｔ_０（例えば、１７０℃）と、温度検出部１３から入力された検出温度Ｔとを比較し、検出温度Ｔが蒸発温度Ｔ_０以上となるように、第１流量調整部２５の開度を調整するための命令を第１流量調整部２５に送信するなどして第１流量調整部２５を制御する。そして、第１流量調整部２５は、制御装置１２（流量制御部１４）からの命令に従って開度を変えるなどの動作を行う。より具体的には、排ガスＧの温度は排水Ｗの温度よりも高い。また、噴霧乾燥装置３に供給される排ガスＧの流量は、第１流量調整部２５の開度を大きくするにしたがって多くなり、その開度を小さくするにしたがって少なくなる。このため、流量制御部１４は、検出温度Ｔが蒸発温度Ｔ_０より小さい場合には、高温の排ガスＧがより多く噴霧乾燥装置３に導入されるように、第１流量調整部２５の開度をより開くための命令を送信する。逆に、検出温度Ｔが蒸発温度Ｔ_０以上であれば、第１流量調整部２５の開度を動かさないようにする。なお、排ガス処理システム６が熱交換器８３を備えている場合には（図１〜図７参照）、熱交換器８３による熱回収率の向上を図るために、噴霧乾燥装置３への高温の排ガスＧの導入量が減少されるように、流量制御部１４は、第１流量調整部２５の開度をより閉じるための命令を送信しても良い。

上記の制御装置１２が実行する制御フロー（排ガス流量制御方法）を、図１４を用いて説明する。図１４のステップＳ１において、制御装置１２は、温度検出手段４７を用いてその検出温度Ｔを取得する。ステップＳ２おいて、予めメモリＭに格納された蒸発温度Ｔ_０と検出温度Ｔとを比較し、検出温度Ｔ＜蒸発温度Ｔ_０であるか否かを判定する。その結果、検出温度Ｔ＜蒸発温度Ｔ_０の場合には、ステップＳ３において、噴霧乾燥装置３に導入される排ガスＧの導入量を増加させる。具体的には、第１流量調整部２５の開度をより大きくするための命令を生成し、第１流量調整部２５に送信する。逆に、ステップＳ３の判定の結果、検出温度Ｔ≧蒸発温度Ｔ_０の場合には、図３では制御フローを終了しているが、上述した通り、第１流量調整部２５の開度をより閉じるための命令を、第１流量調整部２５に送信した後に、制御フローを終了しても良い。

なお、図１２に示される実施形態では、上述したように、第１流量調整部２５は、排ガスＧの流量制御用の第１流量調整部２５ａと、その下流側に設置された、噴霧乾燥装置３の上部の内部通路３３の各々に設置された第１流量調整部２５ｂとを含んでいるが、制御装置１２は、これらの少なくとも一方の第１流量調整部２５を制御しても良い。例えば、後者の第１流量調整部２５ｂを噴霧乾燥システム１における縁切りのための役割のみもたせる場合には、制御装置１２は、温度検出手段４７の検出値に基づいて上流側の第１流量調整部２５ａを制御しても良い。

上記の構成によれば、温度検出手段４７は、噴霧乾燥装置３から排ガスＧが排出される出口付近に設置されており、この温度検出手段４７の検出値に基づいて取得される検出温度Ｔが排水Ｗの蒸発温度Ｔ_０以上となるように、制御装置１２は、第１流量調整部２５の開度を制御することにより、噴霧乾燥装置３に供給される高温の排ガスＧの流量を制御する。つまり、噴霧乾燥装置３の出口付近に温度検出手段４７が設置されていることから、検出温度Ｔが排水Ｗの蒸発温度Ｔ_０以上であれば、噴霧乾燥装置３による排水Ｗの蒸発処理が適切に行われていることが推定される。したがって、温度検出手段４７の検出温度Ｔが排水Ｗの蒸発温度Ｔ_０以上となるように、噴霧乾燥装置３への排ガスＧの供給量を制御することで、噴霧乾燥装置３による排水Ｗの蒸発処理を適切に行うことができる。

以下、噴霧乾燥装置３に関する幾つかの実施形態について、説明する。
幾つかの実施形態では、図１〜図７、図１２に示されるように、噴霧乾燥装置３は、装置内部に排水Ｗを噴霧可能な噴霧装置３４を備えており、排ガスＧと排水Ｗとの気液接触面積の増大を図っている。これは、噴霧乾燥装置３が噴霧する排水Ｗの液滴の径を、平均が２０μｍ以上かつ８０μｍ以下であり、最大は２５０μｍ以下となるようにするためである。排水Ｗの液滴の径が微細化されるほど、また、液滴の平均の径を一定の範囲で揃えることにより、上記の気液接触面積の増大を行うことが可能となる。

上記の噴霧装置３４としては、幾つかの実施形態では、排水Ｗの旋回流を形成するように排水Ｗを噴霧可能な回転噴霧器（ロータリーアトマイザー）であっても良い。他の幾つかの実施形態では、噴霧装置３４は、排水Ｗを噴霧可能な２流体ノズルであっても良い。これらの噴霧装置３４を用いて排水Ｗを噴霧することにより、排水Ｗの液滴の径がより微細化され、排水Ｗの表面積が増大される。このため排ガスＧと排水Ｗとの接触面積を増大することができ、噴霧乾燥装置３の処理効率を向上させることができる。なお、その他の幾つかの実施形態では、噴霧乾燥装置３は、噴霧装置３４を備えていなくても良い。また、図１２に示される実施形態では、噴霧乾燥装置３は、３つの噴霧装置３４（３４ａ〜３４ｃ）を備えているが、１つでも良く、或いは、４つ又はそれ以上でも良い。また、噴霧装置３４の数は、複数の排ガスダクト７２の数と同じであっても良いし、異なっていても良い。

また、幾つかの実施形態では、図１２に示されるように、噴霧乾燥システム１は、排ガス排出ライン４または噴霧乾燥装置３の底部３１の少なくとも１方に設けられた加熱装置４８を、さらに備える。例えば、プラント停止時といった噴霧乾燥システム１の運転停止時にはダストが凝結する。このため、加熱装置４８は、噴霧乾燥装置３や排ガス排出ライン４が例えば１００℃以下などの所定温度以下にならないように、保温を行うように構成されている。上記の所定温度は、排水成分である、例えばＣａＣｌ_２の潮解を防止可能な温度（１５０℃程度）であっても良い。加熱装置４８は、これらの所定温度以下（例えば、１００℃以下や１５０℃以下など）で起動するように構成されていても良い。

より具体的には、幾つかの実施形態では、加熱装置４８は温度計などの温度検出手段を備えており、温度の監視と加熱のオン、オフを自動で行っても良い。他の幾つかの実施形態では、上述した噴霧乾燥装置３の底部３１又は排ガス排出ライン４に設置された温度検出手段４７の検出値に基づいて、上述した制御装置１２が加熱装置４８のオン、オフ等の制御を行っても良い。また、加熱装置４８は、例えば、幾つかの実施形態では、電気式ヒートトレースであっても良いし、他の幾つかの実施形態では、蒸気式ヒートトレースであっても良い。

上記の構成によれば、噴霧乾燥システム１が加熱装置４８を備えることによって、排ガス排出ライン４や噴霧乾燥装置３の底部３１において、プラント停止時のダストの凝結や、排水成分である、例えば塩化カルシウム（ＣａＣｌ_２）の潮解を防止することができる。

本発明は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。
噴霧乾燥システムの設備側の仕様、例えば容量を満足する範囲であれば、上流側排ガス導入ライン部、下流側排ガス排出ライン部の各々に設けた流量調整部を操作して、例えば、複数の系統から排ガスを抽出し、噴霧乾燥装置内に導入して排水の乾燥に利用した後に、１系統にのみ戻したり、１系統のみから抽出し、噴霧乾燥装置内に導入して排水の乾燥に利用した後に、複数の系統に均等に戻したり、或いは、例えば、３つの系統の内の１つの系統を噴霧乾燥システムから切り離すといった運転を行うことができる。

１ 噴霧乾燥システム
１２ 制御装置
１３ 温度検出部
１４ 流量制御部
Ｍ メモリ
２ 排ガス導入ライン
２１ 上流側排ガス導入ライン部
２２ 導入側合流部
２３ 下流側排ガス導入ライン部
２５ 第１流量調整部
２５ａ 第１流量調整部（Ａ系）
２５ｂ 第１流量調整部（Ｂ系）
２５ｃ 第１流量調整部（Ｃ系）
２６ 第２流量調整部
２ｊｄ 上流側排ガス導入ライン部と排ガスダクトとの接続部
２ｊｗ 下流側排ガス導入ライン部と噴霧乾燥装置との接続部
３ 噴霧乾燥装置
３１ 底部
３３ 内部通路
３４ 噴霧装置
４ 排ガス排出ライン
４１ 上流側排ガス排出ライン部
４２ 排出側分岐部
４３ 下流側排ガス排出ライン部
４３ａ 下流側排ガス排出ライン部（Ａ系）
４３ｂ 下流側排ガス排出ライン部（Ｂ系）
４３ｃ 下流側排ガス排出ライン部（Ｃ系）
４４ 第３流量調整部
４５ 第２集塵器
４６ 第２誘引ファン
４７ 温度検出手段
４８ 加熱装置
４９ 第４流量調整部
４ｊｄ 下流側排ガス排出ライン部と排ガスダクトとの接続部
４ｊｗ 上流側排ガス排出ライン部と噴霧乾燥装置との接続部
５ 排水導入装置
５１ 脱水機
５１ｆ 脱硫排水配管
５２ 排水タンク
５２ｆ 排水ライン
５３ ポンプ
６ 排ガス処理システム
７ 煙道
７ｊ 系統合流部
７ｍ 系統分岐部
７１ 上流側煙道
７２ 排ガスダクト
７２ａ 排ガスダクト（Ａ系）
７２ｂ 排ガスダクト（Ｂ系）
７２ｃ 排ガスダクト（Ｃ系）
７２ｕ 排ガスダクトの上面
７３ 下流側煙道
８１ ボイラ
８２ 脱硝装置
８３ 熱交換器
８４ 第１集塵器
８５ 第１誘引ファン
８６ 脱硫装置
８７ 煙突
Ｇ 排ガス
Ｗ 排水
Ｗ_０ 脱硫排水
Ｄｓ 固体分
Ｐｄ 下流側排ガス排出ライン部と排ガスダクトとの接続位置
Ｐｗ 上流側排ガス排出ライン部と噴霧乾燥装置との接続位置
Ｓ 空間
ｒ 重複領域
Ｔ 検出温度
Ｔ_０ 蒸発温度

Claims (20)

1. 乾燥対象となる排水を乾燥させるための噴霧乾燥システムであって、
   排ガス発生源から排出された排ガスを流すための複数の排ガスダクトに接続され、前記排ガスダクトから抽出した前記排ガスを導入するための排ガス導入ラインと、
   前記排ガス導入ラインに接続され、前記排ガス導入ラインから導入される前記排ガスを前記排水に接触させるよう構成された１台または複数台の噴霧乾燥装置と、を備え、
   前記噴霧乾燥装置の台数は、前記排ガスダクトの数よりも少ないことを特徴とする噴霧乾燥システム。
2. 前記排ガス導入ラインは、前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続されることを特徴とする請求項１に記載の噴霧乾燥システム。
3. 前記排ガス導入ラインは、
   前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続される、上流側排ガス導入ライン部と、
   前記上流側排ガス導入ライン部のそれぞれが合流する導入側合流部と、
   前記導入側合流部と前記噴霧乾燥装置とを接続する１つの下流側排ガス導入ライン部と、を有することを特徴とする請求項２に記載の噴霧乾燥システム。
4. 前記複数の排ガスダクトの各々には、前記排ガスと熱交換するよう構成された熱交換器がそれぞれ設置されており、
   前記排ガス導入ラインの各々は、前記熱交換器の上流側において前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項２または３に記載の噴霧乾燥システム。
5. 前記噴霧乾燥装置と前記複数の排ガスダクトの各々とを接続する排ガス排出ラインを、さらに備え、
   前記排ガス排出ラインは、
   前記噴霧乾燥装置に接続される１つの上流側排ガス排出ライン部と、
   前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続される、下流側排ガス排出ライン部と、
   前記１つの上流側排ガス排出ライン部から前記それぞれの下流側排ガス排出ライン部に分岐する排出側分岐部と、を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
6. 前記複数の排ガスダクトの各々には、前記排ガスに含まれる煤塵を除去するよう構成された第１集塵器がそれぞれ設置されており、
   前記排ガス排出ラインの前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々は、それぞれの前記第１集塵器の上流側において前記複数の排ガスダクトの各々にそれぞれ接続されることを特徴とする請求項５に記載の噴霧乾燥システム。
7. 前記排ガス排出ラインの前記上流側排ガス排出ライン部に設置された、前記排ガスに含まれる煤塵を除去するよう構成された第２集塵器を、さらに備えることを特徴とする請求項５又は６に記載の噴霧乾燥システム。
8. 前記噴霧乾燥装置と前記上流側排ガス排出ライン部との接続位置は、前記それぞれの下流側排ガス排出ライン部の各々と前記複数の排ガスダクトの各々との接続位置よりも上方に位置することを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
9. 前記上流側排ガス排出ライン部は、前記噴霧乾燥装置の底部に接続されており、
   前記排出側分岐部の位置は、前記噴霧乾燥装置と前記上流側排ガス排出ライン部との接続位置よりも下方で、かつ、前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々と前記複数の排ガスダクトの各々との接続位置よりも上方に位置すると共に、
   前記排出側分岐部の位置は、前記複数の排ガスダクトのうちの各々が最も外側となる２つの排ガスダクトの中央の位置に位置する
   ことを特徴とする請求項８に記載の噴霧乾燥システム。
10. 前記噴霧乾燥装置は、平面視において、前記複数の排ガスダクトの間の空間に位置していることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
11. 前記噴霧乾燥装置の底部は、前記複数の排ガスダクトの各々の上部に直接接続されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
12. 前記噴霧乾燥装置は、前記排水の旋回流を形成するように前記排水を噴霧可能な回転噴霧器を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
13. 前記噴霧乾燥装置は、前記排水を噴霧可能な２流体ノズルを有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
14. 前記下流側排ガス導入ライン部に設けられた第１流量調整部と、
    前記複数の上流側排ガス導入ライン部の各々にそれぞれ設けられた第２流量調整部と、をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の噴霧乾燥システム。
15. 前記噴霧乾燥装置と前記複数の排ガスダクトとを接続する排ガス排出ラインと、
    前記噴霧乾燥装置の底部又は前記排ガス排出ラインに設置された温度検出手段と、
    前記温度検出手段で検出された温度が前記排水の蒸発温度以上となるように、前記第１流量調整部を制御する制御装置と、をさらに備えることを特徴とする請求項１４に記載の噴霧乾燥システム。
16. 前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々にそれぞれ設けられる複数の第３流量調整手段を、さらに備えることを特徴とする請求項５〜９のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
17. 前記複数の上流側排ガス導入ライン部の各々にそれぞれ設けられた第２流量調整部と、
    前記複数の下流側排ガス排出ライン部の各々にそれぞれ設けられた第３流量調整部を、さらに備えることを特徴とする請求項５〜９のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
18. 前記排ガス排出ラインまたは前記噴霧乾燥装置の底部の少なくとも１方に設けられた加熱装置を、さらに備えることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
19. 前記噴霧乾燥装置が噴霧する前記排水の液滴の径は、平均が２０μｍ以上かつ８０μｍ以下であり、最大は２５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。
20. 前記排水は、前記排ガスの脱硫を実行するように構成された脱硫装置から排出された排水であることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の噴霧乾燥システム。

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