JP6635926B2 - 不正確さを低減し且つコントラストを維持する充填要素を有する計測ターゲット - Google Patents
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Description
本出願は、2014年2月12日付けで出願された米国予備特許出願第61/939,129号の優先権を主張し、その出願は、その全体が参照によってここに援用される。
Claims (22)
- 計測ターゲットをデザインする方法であって、
ターゲットデザインにおける1以上の連続領域を1以上のプロセッサで識別するステップと、
前記1以上の識別された連続領域に光学測定で識別可能な1以上の特定の充填要素を前記プロセッサで導入して改良されたターゲットデザインを形成するステップであり、
前記導入された充填要素の1以上のパラメータが、前記改良されたターゲットデザインのコントラスト要件と不正確さ要件に基づいて決定され、所望のコントラストと所望の不正確さをともに得るために前記1以上の連続領域内の空白領域の特定の充填率を決定する、ステップと、
ウェハ上に前記改良されたターゲットデザインのターゲットを生成するステップと、
を備える方法。 - 前記識別ステップがターゲット要素の少なくとも一つの背景エリアで実行される、請求項1に記載の方法。
- 前記不正確さ要件が、研磨パッドの回転運動に関係する非対称研磨の累積効果を反映する回転項である、請求項1に記載の方法。
- 前記1以上の充填要素が少なくとも一つの周期的構造を備えている、請求項1に記載の方法。
- 前記1以上の充填要素は第1の特定のパラメータを有する少なくとも一つの第1の周期的構造を備えており、ターゲット要素は第2の特定のパラメータを有する少なくとも一つの第2の周期的構造を備えており、前記第1の特定のパラメータは、前記コントラスト要件を満たす程度まで前記第2の特定のパラメータと異なる、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2の特定のパラメータの少なくともいずれかは、ピッチ、方向、パターン、1以上のセグメントの寸法、アスペクト比、トポグラフィのうちの少なくとも一つを備える、請求項5に記載の方法。
- 前記1以上の充填要素を導入するステップが特定のデザインルールにしたがって実行される、請求項1に記載の方法。
- 前記1以上の充填要素を含む1以上の計測ターゲットを製造するステップをさらに包含する、請求項1に記載の方法。
- 前記1以上の充填要素は、カッティングマスクを使用して形成される、請求項8に記載の方法。
- 計測システムであって、
1以上の計測ターゲットからオーバーレイを計測するように構成された計測測定器具を含み、
前記1以上の計測ターゲットは、前記計測ターゲットの1以上の識別された連続領域内に配置された光学測定で識別可能な1以上の特定の充填要素を含み、前記1以上の充填要素の1以上のパラメータは、前記計測ターゲットのコントラスト要件と不正確さ要件に基づいており、所望のコントラストと所望の不正確さをともに得るために前記1以上の連続領域内の空白領域の特定の充填率が決定されている、
計測システム。 - 計測ターゲットであって、
前記計測ターゲットの1以上の識別された連続領域内に配置された光学測定で識別可能な1以上の充填要素を含み、前記1以上の充填要素の1以上のパラメータは、前記計測ターゲットのコントラスト要件と不正確さ要件に基づいており、所望のコントラストと所望の不正確さをともに得るために前記1以上の連続領域内の空白領域の特定の充填率が決定されている、
計測ターゲット。 - 少なくとも一つのセグメント化されたターゲット要素と、
を含み、
前記セグメント化されたターゲット要素は、少なくとも1つの背景エリアを備えており、
前記1以上の充填要素は、前記少なくとも1つの背景エリア内の前記1以上の連続領域に導入され、前記コントラスト要件は、前記少なくとも1つの背景エリアに関連したセグメント化されたターゲット要素のコントラスト要件を含む、
請求項11に記載の計測ターゲット。 - 前記1以上の充填要素は第1の特定のパラメータを有する少なくとも一つの第1の周期的構造を備えており、1以上のターゲット要素は第2の特定のパラメータを有する少なくとも一つの第2の周期的構造を備えており、前記第1の特定のパラメータは、前記コントラスト要件を満たす程度まで前記第2の特定のパラメータと異なる、
請求項11に記載の計測ターゲット。 - 前記1以上のターゲット要素がセグメント化されており、前記識別された連続領域における前記充填要素の密度が前記1以上のターゲット要素のセグメント化の半分と1/10との間である、請求項13に記載の計測ターゲット。
- 前記第1及び第2の特定のパラメータの少なくともいずれかは、ピッチ、方向、パターン、1以上のセグメントの寸法、アスペクト比、トポグラフィのうちの少なくとも一つを備える、請求項13に記載の計測ターゲット。
- 研磨パッドの回転運動に関係する非対称研磨の累積効果を反映する回転項が特定の閾値より低い、請求項11に記載の計測ターゲット。
- 前記1以上の充填要素が少なくとも一つの周期的構造を備えている、請求項11に記載の計測ターゲット。
- 前記計測ターゲットの1以上の構造が、特定のデザインルールに対応している、請求項11に記載の計測ターゲット。
- 前記1以上の識別された連続領域は、少なくとも300nm幅である、請求項11に記載の計測ターゲット。
- 計測システムであって、
1以上の計測ターゲットからオーバーレイを計測するように構成された計測測定器具を含み、
前記1以上の計測ターゲットは、1以上の背景領域を含む1以上のセグメント化されたターゲット要素と、前記1以上の背景領域内の1以上の識別された連続領域に配置された光学測定で識別可能な1以上の充填要素であり、前記1以上の充填要素の1以上のパラメータは、前記計測ターゲットのコントラスト要件と不正確さ要件に基づいており、所望のコントラストと所望の不正確さをともに得るために前記1以上の連続領域内の空白領域の特定の充填率が決定されている、充填要素とを含む、
計測システム。 - 装置であって、
コンピュータ読み取り可能な複数のインストラクションを記憶するメモリと、
前記複数のインストラクションを実行するプロセッサであり、
ターゲットデザインにおける1以上の連続領域を識別し、
前記1以上の識別された連続領域に光学測定で識別可能な特定の充填要素を導入して改良されたターゲットデザインを形成し、前記1以上の導入された充填要素の1以上のパラメータが、前記改良されたターゲットデザインのコントラスト要件と不正確さ要件に基づいて決定され、所望のコントラストと所望の不正確さをともに得るために前記1以上の連続領域内の空白領域の特定の充填率を決定し、
製造器具を管理してウェハ上に前記改良されたターゲットデザインのターゲットを製造する、
プロセッサと、
を備える装置。 - 前記プロセッサは、前記複数のインストラクションを実行し、カッティングマスクを使用して前記1以上の充填要素を製造する、
請求項21に記載の装置。
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