JP6629288B2 - Electrode material for aluminum electrolytic capacitor and method for producing the same - Google Patents
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- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 100
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims description 93
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 title claims description 46
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 55
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 27
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 25
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 18
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009689 gas atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002074 melt spinning Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000007712 rapid solidification Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000011269 tar Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
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- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
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- H01G9/055—Etched foil electrodes
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Description
本発明は、アルミニウム電解コンデンサに用いられる電極材、特にアルミニウム電解コンデンサに用いられる陽極用電極材及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electrode material used for an aluminum electrolytic capacitor, particularly to an electrode material for an anode used for an aluminum electrolytic capacitor and a method for producing the same.
一般に、アルミニウム電解コンデンサの電極材にはアルミニウム箔が使用されており、このアルミニウム箔に、エッチング処理を施すことによってエッチングピットが形成され、その表面積を増大することができる。また、アルミニウム箔の表面に陽極酸化処理を施すことにより、酸化皮膜が形成され、これが誘電体として機能する。このため、アルミニウム箔をエッチング処理し、その表面に使用電圧に応じた種々の電圧で酸化皮膜を形成することにより、用途に応じた各種の電解コンデンサ用アルミニウム陽極用電極材（箔）を製造することができる。 In general, an aluminum foil is used as an electrode material of an aluminum electrolytic capacitor, and etching pits are formed by performing an etching process on the aluminum foil, so that the surface area thereof can be increased. Also, by performing anodizing treatment on the surface of the aluminum foil, an oxide film is formed, which functions as a dielectric. For this reason, aluminum foil electrode materials (foil) for various types of electrolytic capacitors are manufactured by forming an oxide film on the surface of the aluminum foil at various voltages according to the working voltage by etching the aluminum foil. be able to.
しかしながら、エッチング処理では、塩酸中に硫酸、燐酸、硝酸等を含有する塩酸水溶液を使用しなければならず、塩酸は環境面での大きな負荷となり、その処理も工程上又は経済上の負担になる。また、エッチング処理では、エッチングピットの発生が均一にならないことがあり、ピットの合体が起こり易い領域やピットの発生が起こり難い領域が生じたりし、いわゆるピット規制に関して課題がある。また、微細ピットを多数発生させると電極材の強度が弱くなるという問題もある。 However, in the etching process, a hydrochloric acid aqueous solution containing sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, or the like in hydrochloric acid must be used, and hydrochloric acid imposes a heavy burden on the environment, and the treatment also imposes a process or economic burden. . Further, in the etching process, the generation of etching pits may not be uniform, and there may be a region where pits are likely to be united or a region where pits are unlikely to be generated. Further, there is also a problem that the strength of the electrode material is reduced when a large number of fine pits are generated.
そのため、近年、エッチング処理によらずにアルミニウム箔の表面積を増大する方法の開発が望まれている。例えば、特許文献１には、アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも１種の粉末を含む組成物からなる皮膜を基材に形成し、前記皮膜を焼結させることにより、従来の表面積の拡大したアルミニウム箔に代わる表面積の大きな焼結体を得るための方法が提案されている。この方法によれば、エッチング処理により得られるピット面積以上の表面積が得られることも確認されている。 Therefore, in recent years, development of a method for increasing the surface area of the aluminum foil without using an etching process has been desired. For example, in Patent Literature 1, a film made of a composition containing at least one powder of aluminum and an aluminum alloy is formed on a substrate, and the film is sintered to obtain a conventional aluminum foil having an increased surface area. An alternative method for obtaining a sintered body having a large surface area has been proposed. According to this method, it has been confirmed that a surface area larger than the pit area obtained by the etching process can be obtained.
ところが、本発明者らが特許文献１に記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔を製造ライン下において陽極酸化処理を試みたところ、このアルミニウム電解コンデンサ用電極箔が破断してしまうという問題があった。 However, when the present inventors attempted anodizing treatment of the electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor described in Patent Document 1 under a production line, there was a problem that the electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor was broken.
特に、アルミニウム箔基材（基材としてのアルミニウム箔）表面に形成される焼結体に含まれるアルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも１種の粉末の粒子径が細かいほど表面積は増大し、アルミニウム電解コンデンサとして用いた際の静電容量の向上に寄与することができるが、粒子径が細かいほど破断しやすいことが判明した。すなわち、アルミニウム箔表面にアルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも１種の粉末を積層して焼結させた焼結体において、高容量のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔を製造ライン下において陽極酸化処理することが困難であった。 In particular, the surface area increases as the particle diameter of at least one powder of aluminum and aluminum alloy contained in the sintered body formed on the surface of the aluminum foil substrate (aluminum foil as the substrate) increases, and as an aluminum electrolytic capacitor, Although it can contribute to the improvement of the capacitance when used, it has been found that the finer the particle size, the more easily it is broken. That is, in a sintered body obtained by laminating and sintering at least one powder of aluminum and an aluminum alloy on an aluminum foil surface, it is difficult to anodize a high-capacity electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor under a production line. Met.
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、エッチング処理が不要で、且つ、陽極酸化処理時の破断を低減することのできる、高容量のアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and does not require an etching treatment and can reduce breakage during anodization treatment. The purpose is to provide.
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を進めた結果、アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも１種の粉末の焼結体をアルミニウム箔基材上に形成し、さらにエンボス加工を施して焼結体の表面粗度を所定内に調整することにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下のアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法に関する。なお、本発明において、アルミニウム箔基材の両面に焼結体を有する場合、「焼結体の総厚み」とは両面に形成された焼結体の厚みの合計を意味する。
項１．アルミニウム電解コンデンサ用電極材であって、アルミニウム箔基材の片面又は両面にアルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも1種の粉末の焼結体を有し、前記焼結体のうち、少なくとも片面の焼結体の表面に算術平均粗さ（Ra）が0.7〜3.5μmである領域を含むことを特徴とするアルミニウム電解コンデンサ用電極材。
項２．前記焼結体の総厚みが15〜300μmである、項１に記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極材。
項３．前記粉末の平均粒径が1.5〜9.5μmである、項１又は２に記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極材。
項４．前記アルミニウム箔基材の厚さが5〜100μmである、項１〜３のいずれかに記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極材。
項５．前記焼結体の表面に、さらに陽極酸化皮膜を有する、項１〜４のいずれかに記載のアルミニウム電解コンデンサ用電極材。
項６．アルミニウム電解コンデンサ用電極材を製造する方法であって、
アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも1種の粉末を含む組成物からなる皮膜をアルミニウム箔基材の片面又は両面に積層する第1工程と、
前記皮膜を焼結することにより焼結体を得る第2工程と、
前記焼結体のうち、少なくとも片面の焼結体の表面に算術平均粗さ（Ra）が0.7〜3.5μmである領域を含むようにエンボス加工を施す第3工程とを含む製造方法。
項７．エッチング工程を含まない、項６に記載の製造方法。The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, formed a sintered body of at least one powder of aluminum and an aluminum alloy on an aluminum foil base material, and further embossed and fired. It has been found that the above object can be achieved by adjusting the surface roughness of the binder within a predetermined range, and the present invention has been completed.
That is, the present invention relates to the following electrode material for an aluminum electrolytic capacitor and a method for producing the same. In the present invention, when the sintered body is provided on both sides of the aluminum foil base material, the “total thickness of the sintered body” means the total thickness of the sintered bodies formed on both sides.
Item 1. An electrode material for an aluminum electrolytic capacitor, comprising a sintered body of at least one powder of aluminum and an aluminum alloy on one or both sides of an aluminum foil base material, and among the sintered bodies, a sintered body on at least one side. An electrode material for an aluminum electrolytic capacitor, characterized in that the surface of the electrode material includes a region having an arithmetic average roughness (Ra) of 0.7 to 3.5 μm.
Item 2. Item 2. The electrode material for an aluminum electrolytic capacitor according to Item 1, wherein the total thickness of the sintered body is 15 to 300 µm.
Item 3. Item 3. The electrode material for an aluminum electrolytic capacitor according to Item 1 or 2, wherein the average particle size of the powder is 1.5 to 9.5 µm.
Item 4. Item 4. The electrode material for an aluminum electrolytic capacitor according to any one of Items 1 to 3, wherein the aluminum foil substrate has a thickness of 5 to 100 µm.
Item 5. Item 5. The electrode material for an aluminum electrolytic capacitor according to any one of Items 1 to 4, further comprising an anodized film on a surface of the sintered body.
Item 6. A method for producing an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor,
A first step of laminating a film made of a composition containing at least one powder of aluminum and an aluminum alloy on one or both surfaces of an aluminum foil substrate,
A second step of obtaining a sintered body by sintering the film,
A step of embossing at least one surface of the sintered body so as to include a region having an arithmetic average roughness (Ra) of 0.7 to 3.5 μm.
Item 7. Item 7. The manufacturing method according to Item 6, which does not include an etching step.
本発明によれば、アルミニウム電解コンデンサ用電極材であって、エッチング処理が不要であり、且つ、陽極酸化処理時の破断を低減することのできる、高容量のアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is an electrode material for aluminum electrolytic capacitors, which does not require an etching process and can reduce breakage at the time of anodizing treatment, and has a high capacity. A method is provided.
（１）アルミニウム電解コンデンサ用電極材
本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極材（本願明細書において、単に「電極材」と表現することがある。）は、アルミニウム電解コンデンサ用電極材であって、アルミニウム箔基材の片面又は両面にアルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも1種の粉末の焼結体を有し、前記焼結体のうち、少なくとも片面の焼結体の表面にRaが0.7〜3.5μmである領域を含むことを特徴とする。なお、RaはJIS B0601-2001年に基づく。また、0.7〜3.5μmは、0.7μm以上3.5μm以下を意味し、「〜」で示す他の数値範囲も同様である。
以下、電極材の各構成について説明する。(1) Electrode Material for Aluminum Electrolytic Capacitor The electrode material for an aluminum electrolytic capacitor of the present invention (may be simply referred to as “electrode material” in the present specification) is an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor, One side or both sides of the foil substrate has a sintered body of at least one powder of aluminum and aluminum alloy, among the sintered bodies, at least one surface of the sintered body Ra is 0.7 to 3.5 μm It is characterized by including a region. Ra is based on JIS B0601-2001. Further, 0.7 to 3.5 μm means 0.7 μm or more and 3.5 μm or less, and the same applies to other numerical ranges indicated by “「 ”.
Hereinafter, each configuration of the electrode material will be described.
原料のアルミニウム粉末としては、例えば、アルミニウム純度99.8重量％以上のアルミニウム粉末が好ましい。また、原料のアルミニウム合金粉末としては、例えば、珪素（Si）、鉄（Fe）、銅（Cu）、マンガン（Mn）、マグネシウム（Mg）、クロム（Cr）、亜鉛（Zn）、チタン（Ti）、バナジウム（V）、ガリウム（Ga）、ニッケル（Ni）、ホウ素（B）、ジルコニウム（Zr）等の元素のうち、1種又は2種以上を含む合金が好ましい。アルミニウム合金中のこれらの元素の含有量は、100重量ppm以下、特に50重量ppm以下とすることが好ましい。 As the raw material aluminum powder, for example, an aluminum powder having an aluminum purity of 99.8% by weight or more is preferable. Examples of the raw material aluminum alloy powder include silicon (Si), iron (Fe), copper (Cu), manganese (Mn), magnesium (Mg), chromium (Cr), zinc (Zn), and titanium (Ti). ), Vanadium (V), gallium (Ga), nickel (Ni), boron (B), zirconium (Zr) and the like, and an alloy containing one or more of these elements is preferable. The content of these elements in the aluminum alloy is preferably 100 ppm by weight or less, particularly preferably 50 ppm by weight or less.
前記粉末としては、焼結前の平均粒径D50が1.5〜9.5μmのものを用いるのが好ましい。平均粒径D50をこの範囲とすることで特に中高容量のアルミニウム電解コンデンサの電極材として好適に利用することができる。平均粒径D50が1.5μm未満では焼結体の強度が低くなり、工程中やハンドリング時に破損するおそれがある。また、平均粒径D50が9.5μm超過では電解コンデンサの電極材として使用した場合に十分な容量が得られないおそれがある。As the powder, the average particle diameter D 50 before sintering is preferable to use one of 1.5～9.5Myuemu. It can be suitably used an average particle size D 50 as an electrode material for aluminum electrolytic capacitors, especially medium and high capacity by this range. The average particle strength of the sintered body is lowered in diameter D 50 of less than 1.5 [mu] m, may be damaged when or during handling steps. Further, the average particle diameter D 50 9.5μm excess may not sufficient capacity is obtained when used as an electrode material for electrolytic capacitor.
なお、本明細書における平均粒径は、レーザー回折法により粒度分布を体積基準で測定して求めたD50値である。但し、焼結後の前記粉末の平均粒径は、前記焼結体の断面を、走査型電子顕微鏡によって観察することによって測定する。例えば、焼結後の前記粉末は、一部が溶融又は粉末同士が繋がった状態となっているが、略円形状を有する部分は近似的に粒子とみなすことができる。そこで、上記断面観察において、略円形状を有する粒子のそれぞれの最大径（長径）をその粒子の粒径とし、任意の50個の粒子の粒径を測定し、これらの算術平均を焼結後の前記粉末の平均粒径とする。なお、上記で求められる焼結前の平均粒径と焼結後の平均粒径はほぼ同じである。また、焼結後に行う皮膜のエンボス加工の前後における平均粒径も実質的に同じである。The average particle diameter in the present specification is a D 50 value determined by measuring the particle size distribution by volume by laser diffraction method. However, the average particle size of the powder after sintering is measured by observing a cross section of the sintered body with a scanning electron microscope. For example, the powder after sintering is partially melted or in a state where the powders are connected to each other, but a portion having a substantially circular shape can be approximately regarded as particles. Therefore, in the above cross-sectional observation, the maximum diameter (major axis) of each particle having a substantially circular shape is defined as the particle diameter, and the particle diameters of arbitrary 50 particles are measured. Is the average particle size of the powder. The average particle size before sintering and the average particle size after sintering determined above are almost the same. The average particle size before and after embossing of the coating after sintering is also substantially the same.
前記粉末の形状は、特に限定されず、球状、不定形状、鱗片状、繊維状等のいずれも好適に使用できるが、球状粒子からなる粉末が特に好ましい。 The shape of the powder is not particularly limited, and any of a spherical shape, an irregular shape, a scale shape, a fibrous shape, and the like can be suitably used, but a powder composed of spherical particles is particularly preferable.
前記粉末は、公知の方法によって製造されるものを使用することができる。例えば、アトマイズ法、メルトスピニング法、回転円盤法、回転電極法、急冷凝固法等が挙げられるが、工業的生産にはアトマイズ法、特にガスアトマイズ法が好ましい。すなわち、溶湯をアトマイズすることにより得られる粉末を用いることが望ましい。 As the powder, those manufactured by a known method can be used. For example, an atomizing method, a melt spinning method, a rotating disk method, a rotating electrode method, a rapid solidification method and the like can be mentioned, but an atomizing method, particularly a gas atomizing method, is preferable for industrial production. That is, it is desirable to use a powder obtained by atomizing a molten metal.
焼結体は、前記粉末どうしが互いに空隙を維持しながら焼結したものであることが好ましい。具体的には、各粉末どうしが空隙を維持しながら焼結によって繋がり、三次元網目構造を有していることが好ましい。このように多孔質焼結体とすることにより、エッチング処理を施さなくても、所望の静電容量を得ることが可能となる。焼結体の空孔率は特に制限されるものではないが、40〜55体積％が好ましく、特に45〜50体積％であることが好ましい。本明細書における空孔率は、厚みと重量より算出した値である。 The sintered body is preferably formed by sintering the powders while maintaining a gap between each other. Specifically, it is preferable that the respective powders are connected by sintering while maintaining the voids, and have a three-dimensional network structure. By using a porous sintered body as described above, a desired capacitance can be obtained without performing an etching process. The porosity of the sintered body is not particularly limited, but is preferably 40 to 55% by volume, and particularly preferably 45 to 50% by volume. The porosity in the present specification is a value calculated from the thickness and the weight.
焼結体はアルミニウム箔基材の片面又は両面に形成する。焼結体を片面に形成する場合は、エンボス加工後の焼結体の総厚みは15〜300μmであることが好ましく、80〜150μmであることがさらに好ましい。焼結体を両面に形成する場合には、基材を挟んで焼結体を対称に配置することが好ましい。エンボス加工後の両面に形成された焼結体の総厚みは15〜300μmであることが好ましく、80〜150μmであることがさらに好ましい。また、焼結体を両面に形成する場合、片面の焼結体の厚さはアルミニウム箔基材の厚さも含めた全体の厚みの1/3以上であることが好ましい。 The sintered body is formed on one or both sides of the aluminum foil substrate. When the sintered body is formed on one side, the total thickness of the sintered body after embossing is preferably from 15 to 300 μm, more preferably from 80 to 150 μm. When the sintered bodies are formed on both surfaces, it is preferable to arrange the sintered bodies symmetrically with the base material interposed therebetween. The total thickness of the sintered bodies formed on both surfaces after the embossing is preferably 15 to 300 μm, more preferably 80 to 150 μm. When the sintered body is formed on both sides, the thickness of the sintered body on one side is preferably at least 1/3 of the total thickness including the thickness of the aluminum foil base material.
なお、上記焼結体の平均厚みは、エンボス加工後もアルミニウム箔基材厚みは変わらないため、マイクロメーターで7点測定し、最大値と最小値を除いた5点の平均値からアルミニウム箔基材厚みを引いた値として求められる。また、陽極酸化処理時における破断等を回避できる効果を向上させるために、エンボス加工はアルミニウム箔基材の一面に対し、面積割合で70％以上の領域に施されていることが好ましく、80％以上の領域に施されていることがより好ましい。面積割合の上限は限定的ではないが、100％以下、90％以下等に設定することができる。 The average thickness of the sintered body was measured at 7 points with a micrometer since the thickness of the aluminum foil substrate did not change after embossing. It is obtained as a value obtained by subtracting the material thickness. Further, in order to improve the effect of avoiding breakage during the anodizing treatment, embossing is preferably performed on a region having an area ratio of 70% or more with respect to one surface of the aluminum foil base material, and 80% More preferably, it is applied to the above region. Although the upper limit of the area ratio is not limited, it can be set to 100% or less, 90% or less, or the like.
本発明では、前記焼結体を形成する基材としてアルミニウム箔を用いる。そして、前記焼結体を形成するに先立って、予めアルミニウム箔基材の表面を粗面化しても良い。粗面化方法は、特に限定されず、洗浄、エッチング、ブラスト等の公知の技術を用いることができる。 In the present invention, an aluminum foil is used as a base material for forming the sintered body. Then, prior to forming the sintered body, the surface of the aluminum foil substrate may be roughened in advance. The surface roughening method is not particularly limited, and a known technique such as cleaning, etching, and blasting can be used.
基材としてのアルミニウム箔は、特に限定されず、純アルミニウム又はアルミニウム合金を用いることができる。本発明で用いられるアルミニウム箔は、その組成として、珪素（Si）、鉄（Fe）、銅（Cu）、マンガン（Mn）、マグネシウム（Mg）、クロム（Cr）、亜鉛（Zn）、チタン（Ti）、バナジウム（V）、ガリウム（Ga）、ニッケル（Ni）及びホウ素（B）の少なくとも１種の合金元素を必要範囲内において添加したアルミニウム合金でもよく、上記元素を不可避的不純物元素として含むアルミニウムでもよい。 The aluminum foil as the substrate is not particularly limited, and pure aluminum or an aluminum alloy can be used. The aluminum foil used in the present invention has a composition of silicon (Si), iron (Fe), copper (Cu), manganese (Mn), magnesium (Mg), chromium (Cr), zinc (Zn), titanium ( An aluminum alloy to which at least one alloy element of Ti), vanadium (V), gallium (Ga), nickel (Ni) and boron (B) is added within a required range may be included, and the above element is included as an unavoidable impurity element Aluminum may be used.
アルミニウム箔基材の厚みは、特に限定されないが、5μm以上100μm以下であることが好ましく、15μm以上50μm以下であることが特に好ましい。 The thickness of the aluminum foil substrate is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 100 μm or less, and particularly preferably 15 μm or more and 50 μm or less.
上記のアルミニウム箔は、公知の方法によって製造されるものを使用することができる。例えば、上記の所定の組成を有するアルミニウム又はアルミニウム合金の溶湯を調製し、これを鋳造して得られた鋳塊を適切に均質化処理する。その後、この鋳塊に熱間圧延と冷間圧延を施すことにより、アルミニウム箔を得ることができる。 As the above aluminum foil, those manufactured by a known method can be used. For example, a melt of aluminum or an aluminum alloy having the above-mentioned predetermined composition is prepared, and an ingot obtained by casting the same is appropriately homogenized. Thereafter, an aluminum foil can be obtained by subjecting the ingot to hot rolling and cold rolling.
なお、上記の冷間圧延工程の途中で、50〜500℃、特に150〜400℃の範囲内で中間焼鈍処理を施しても良い。また、上記の冷間圧延工程の後に、150〜650℃、特に350〜550℃の範囲内で焼鈍処理を施して軟質箔としても良い。 During the above-mentioned cold rolling step, an intermediate annealing treatment may be performed at a temperature in the range of 50 to 500 ° C, particularly 150 to 400 ° C. After the above-mentioned cold rolling step, an annealing treatment may be performed at 150 to 650 ° C, particularly 350 to 550 ° C, to obtain a soft foil.
本発明の電極材は、低圧用、中圧用又は高圧用のいずれのアルミニウム電解コンデンサにも使用することができる。特に中圧又は高圧用（中高圧用）アルミニウム電解コンデンサとして好適である。 The electrode material of the present invention can be used for any low-pressure, medium-pressure or high-pressure aluminum electrolytic capacitor. Particularly, it is suitable as an aluminum electrolytic capacitor for medium pressure or high pressure (for medium and high pressure).
本発明の電極材は、アルミニウム電解コンデンサ用電極として使用するに当たり、当該電極材をエッチング処理せずに使用することができる。すなわち、本発明の電極材は、エッチング処理することなく、そのまま又は陽極酸化処理することにより電極又は電極箔として使用することができる。 When the electrode material of the present invention is used as an electrode for an aluminum electrolytic capacitor, the electrode material can be used without being subjected to an etching treatment. That is, the electrode material of the present invention can be used as an electrode or an electrode foil as it is or by anodizing without etching.
電解コンデンサの製造方法の一例としては、本発明の電極材を用いた陽極箔と、陰極箔とをセパレータを介在させて積層し、巻回してコンデンサ素子を形成し、このコンデンサ素子を電解液に含浸させ、電解液を含んだコンデンサ素子を外装ケースに収納し、封口体でケースを封口することによって電解コンデンサが得られる。 As an example of a method for manufacturing an electrolytic capacitor, an anode foil using the electrode material of the present invention, and a cathode foil are laminated with a separator interposed therebetween, and wound to form a capacitor element. An electrolytic capacitor is obtained by storing a capacitor element impregnated and containing an electrolytic solution in an outer case and sealing the case with a sealing body.
（２）アルミニウム電解コンデンサ用電極材の製造方法
本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極材を製造する方法は限定的ではないが、アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも1種の粉末を含む組成物からなる皮膜をアルミニウム箔基材の片面又は両面に積層する第1工程と、前記皮膜を焼結することにより焼結体を得る第2工程と、前記焼結体のうち、少なくとも片面の焼結体の表面に算術平均粗さ（Ra）が0.7〜3.5μmである領域を含むようにエンボス加工を施す第3工程とを含む製造方法を採用することができる。(2) Method for Producing Electrode Material for Aluminum Electrolytic Capacitor The method for producing the electrode material for an aluminum electrolytic capacitor of the present invention is not limited, but a film comprising a composition containing at least one powder of aluminum and an aluminum alloy is prepared. A first step of laminating on one or both sides of the aluminum foil substrate, a second step of obtaining a sintered body by sintering the coating, and at least one surface of the sintered body of the sintered body A third step of embossing so as to include a region having an arithmetic average roughness (Ra) of 0.7 to 3.5 μm.
また、エッチング工程を含まない同様の製造方法を採用することができる。 Further, a similar manufacturing method which does not include an etching step can be adopted.
以下、上記製造方法を例に挙げて説明する。 Hereinafter, the above manufacturing method will be described as an example.
（第１工程）
第１工程では、アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも１種の粉末を含む組成物からなる皮膜をアルミニウム箔基材の片面又は両面に積層する。ここで、前記粉末は、焼結前の平均粒径D50が1.5〜9.5μmとすることが好ましい。また、前記皮膜は前記アルミニウム箔基材の片面又は両面に形成されている。(First step)
In the first step, a film made of a composition containing at least one powder of aluminum and an aluminum alloy is laminated on one or both surfaces of an aluminum foil substrate. Here, the powder preferably having an average particle diameter D 50 of the pre-sintering and 1.5～9.5Myuemu. The coating is formed on one or both surfaces of the aluminum foil substrate.
アルミニウム及びアルミニウム合金の組成（成分）としては、上記で挙げたものを用いることができる。前記粉末として、例えば、アルミニウム純度99.8重量％以上の純アルミニウム粉末を用いることが好ましい。また、アルミニウム箔基材としても、上記で挙げたものを用いることができる。 As the composition (component) of aluminum and the aluminum alloy, those described above can be used. As the powder, for example, it is preferable to use pure aluminum powder having an aluminum purity of 99.8% by weight or more. Further, as the aluminum foil base material, those mentioned above can be used.
前記組成物は、必要に応じてバインダ、溶剤、焼結助剤、界面活性剤等が含まれていても良い。これらはいずれも公知又は市販のものを使用することができる。特に、本発明では、バインダ及び溶剤の少なくとも１種を含有させてペースト状組成物として用いることが好ましい。これにより効率よく皮膜を形成することができる。 The composition may contain a binder, a solvent, a sintering aid, a surfactant, and the like, if necessary. Any of these can be known or commercially available. In particular, in the present invention, it is preferable to use at least one of a binder and a solvent as a paste composition. Thereby, a film can be formed efficiently.
バインダは限定的でなく、例えば、カルボキシ変性ポリオレフィン樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩酢ビ共重合樹脂、ビニルアルコール樹脂、ブチラール樹脂、フッ化ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス等の合成樹脂、並びに、ワックス、タール、にかわ、ウルシ、松脂、ミツロウ等の天然樹脂又はワックスが好適に使用できる。これらのバインダは、分子量、樹脂の種類等により、加熱時に揮発するものと、熱分解によりその残渣がアルミニウム粉末とともに残存するものとがあり、所望の静電容量等の電気特性に応じて使い分けすることができる。 The binder is not limited, for example, carboxy-modified polyolefin resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, vinyl alcohol resin, butyral resin, vinyl fluoride resin, acrylic resin, polyester resin, urethane resin, Synthetic resins such as epoxy resin, urea resin, phenol resin, acrylonitrile resin, cellulose resin, paraffin wax, and polyethylene wax, and natural resins or waxes such as wax, tar, glue, urushi, pine resin, and beeswax can be used preferably. Depending on the molecular weight, the type of the resin, and the like, these binders include those that volatilize during heating and those that remain due to thermal decomposition together with the aluminum powder, and are used according to the desired electrical characteristics such as capacitance. be able to.
また、溶媒も公知のものが使用できる。例えば、水のほか、エタノール、トルエン、ケトン類、エステル類等の有機溶剤を使用することができる。 Known solvents can also be used. For example, in addition to water, organic solvents such as ethanol, toluene, ketones, and esters can be used.
皮膜は、ペースト組成物を、例えばローラー、刷毛、スプレー、ディッピング等の塗布方法を用いて形成できるほか、シルクスクリーン印刷等の公知の印刷方法により形成することもできる。 The film can be formed by applying the paste composition using a coating method such as a roller, a brush, spraying, dipping, or the like, or can be formed by a known printing method such as silk screen printing.
皮膜はアルミニウム箔基材の片面又は両面に形成する。片面に形成する場合、前記皮膜の合計厚さは、焼結及びエンボス加工を経て最終的に得られる焼結体の総厚みが15〜300μmであれば好ましく、80〜150μmであればさらに好ましい。両面に形成する場合は、基材を挟んで皮膜を対称に配置することが好ましく、焼結及びエンボス加工を経て最終的に得られる、両面に形成された焼結体の総厚みが15〜300μmであれば好ましく、80〜150μmであればさらに好ましい。また、両面に形成する場合、片面の皮膜の厚さはアルミニウム箔基材の厚さも含めた全体の厚みの1/3以上であることが好ましい。 The coating is formed on one or both sides of the aluminum foil substrate. When formed on one side, the total thickness of the coating is preferably provided that the total thickness of the sintered body finally obtained through sintering and embossing is 15 to 300 μm, and more preferably 80 to 150 μm. When formed on both sides, it is preferable to arrange the coating symmetrically across the base material, and finally obtained through sintering and embossing, the total thickness of the sintered body formed on both sides is 15 to 300 μm Is preferred, and more preferably 80 to 150 μm. In the case of forming the film on both sides, the thickness of the film on one side is preferably at least 1/3 of the total thickness including the thickness of the aluminum foil substrate.
なお、前記皮膜の平均厚みは、マイクロメーターで7点測定し、最大値と最小値を除いた5点の平均値からアルミニウム箔の基材厚みを引いた値として求められる。 The average thickness of the film is determined by measuring seven points with a micrometer and subtracting the base material thickness of the aluminum foil from the average value of the five points excluding the maximum value and the minimum value.
前記皮膜は、必要に応じて、20〜300℃の範囲内の温度で乾燥させても良い。 The coating may be dried, if necessary, at a temperature in the range of 20-300C.
（第２工程）
第２工程では、前記皮膜を560〜660℃の温度で焼結することにより焼結体を得る。焼結温度は、560〜660℃とし、好ましくは570〜650℃、より好ましくは580〜620℃とする。焼結時間は、焼結温度等により異なるが、通常は5〜24時間程度の範囲内で適宜決定することができる。焼結雰囲気は、特に制限されず、例えば真空雰囲気、不活性ガス雰囲気、酸化性ガス雰囲気（大気）、還元性雰囲気等のいずれであっても良いが、特に真空雰囲気又は還元性雰囲気とすることが好ましい。また、圧力条件についても、常圧、減圧又は加圧のいずれでも良い。焼結温度が560℃未満では粉末の焼結が進まず焼結体の強度が弱くなり破断するおそれがある。660℃超過では粉末が溶融する可能性があり、電解コンデンサの電極材として使用した場合に十分な容量が得られないおそれがある。(2nd process)
In the second step, a sintered body is obtained by sintering the film at a temperature of 560 to 660 ° C. The sintering temperature is 560-660 ° C, preferably 570-650 ° C, more preferably 580-620 ° C. The sintering time varies depending on the sintering temperature and the like, but can usually be appropriately determined within a range of about 5 to 24 hours. The sintering atmosphere is not particularly limited, and may be, for example, any of a vacuum atmosphere, an inert gas atmosphere, an oxidizing gas atmosphere (atmosphere), and a reducing atmosphere. Is preferred. The pressure condition may be normal pressure, reduced pressure or increased pressure. If the sintering temperature is lower than 560 ° C., the sintering of the powder does not proceed, and the strength of the sintered body is weakened, which may cause breakage. If the temperature exceeds 660 ° C., the powder may melt, and when used as an electrode material of an electrolytic capacitor, a sufficient capacity may not be obtained.
なお、第1工程後、第2工程に先立って予め200〜450℃の温度範囲で保持時間が5時間以上の加熱処理（脱脂処理）を行なうことが好ましい。かかる脱脂処理により圧延時に付着した油分を充分に除去することができる。加熱処理雰囲気は特に限定されず、例えば真空雰囲気、不活性ガス雰囲気又は酸化性ガス雰囲気中のいずれでも良い。また、圧力条件も、常圧、減圧又は加圧のいずれでも良い。 Note that, after the first step, it is preferable to perform a heat treatment (degreasing treatment) for 5 hours or more in a temperature range of 200 to 450 ° C. in advance before the second step. By such a degreasing treatment, the oil attached during rolling can be sufficiently removed. The heat treatment atmosphere is not particularly limited, and may be, for example, any of a vacuum atmosphere, an inert gas atmosphere, and an oxidizing gas atmosphere. The pressure condition may be normal pressure, reduced pressure or increased pressure.
（第３工程）
第３工程では、前記焼結体のうち、前記アルミニウム箔基材に対して少なくとも片面の焼結体の表面にRaが0.7〜3.5μmである領域を含むようにエンボス加工を施す。通常、焼結直後の皮膜のRaは0.2〜0.5μm程度なので、エンボス加工によって皮膜表面を粗くすることができる。エンボス加工の方法は、特に制限されるものでないが、エンボスロール（輪転式型付けロール）を使用した方法が好ましい。エンボスロールのロール表面は、焼結した皮膜のRaが0.7〜3.5μmとなるようにその凹凸が所定範囲に調整することができる。焼結した皮膜のRaが0.7μm未満では本発明の効果に乏しく、3.5μmを超えると焼結体に亀裂が入るおそれがある。(3rd step)
In the third step, embossing is performed on at least one surface of the sintered body of the aluminum foil base so as to include a region having Ra of 0.7 to 3.5 μm. Usually, the Ra of the film immediately after sintering is about 0.2 to 0.5 μm, so that the surface of the film can be roughened by embossing. The method of embossing is not particularly limited, but a method using an embossing roll (rotary molding roll) is preferable. The unevenness of the roll surface of the embossing roll can be adjusted to a predetermined range so that the sintered film has a Ra of 0.7 to 3.5 μm. If the Ra of the sintered film is less than 0.7 μm, the effect of the present invention is poor, and if it exceeds 3.5 μm, the sintered body may be cracked.
また、陽極酸化処理時における破断等を回避できる効果を向上させるために、エンボス加工はアルミニウム箔基材の一面に対し、面積割合で70％以上の領域に施されていることが好ましく、80％以上の領域に施されていることがより好ましい。面積割合の上限は限定的ではないが、100％以下、90％以下等に設定することができる。 Further, in order to improve the effect of avoiding breakage during the anodizing treatment, embossing is preferably performed on a region having an area ratio of 70% or more with respect to one surface of the aluminum foil base material, and 80% More preferably, it is applied to the above region. Although the upper limit of the area ratio is not limited, it can be set to 100% or less, 90% or less, or the like.
（第４工程）
上記の第３工程において、エッチング処理を施すことなく、本発明の電極材が得られる。本発明の電極材は、第４工程として陽極酸化処理を施すことにより誘電体を形成し、陽極酸化皮膜を被覆させたものを電極とすることができる。陽極酸化処理条件は特に限定されないが、通常は濃度0.01モル以上5モル以下、温度30℃以上100℃以下のホウ酸溶液中で、10 mA/cm2以上400 mA/cm2以下の電流を5分以上印加すれば良い。(4th process)
In the above third step, the electrode material of the present invention can be obtained without performing an etching treatment. The electrode material of the present invention can be formed by applying an anodizing treatment as a fourth step to form a dielectric and coating the material with an anodized film to form an electrode. The conditions of the anodizing treatment are not particularly limited, but usually, a boric acid solution having a concentration of 0.01 mol or more and 5 mol or less and a temperature of 30 ° C. or more and 100 ° C. or less is supplied with a current of 10 mA / cm 2 or more and 400 mA / cm 2 or less. It may be applied for more than a minute.
以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
実施例
平均粒径D50が1.5〜9.5μmのアルミニウム粉末（JIS A1080、東洋アルミニウム（株）製、品番AHUZ58FN）100重量部をエチルセルロース系バインダ60重量部（内7重量％が樹脂分、93重量％が溶剤（酢酸ブチル））と混合し、塗工液を得た。 EXAMPLE average particle diameter D 50 of aluminum powder 1.5~9.5μm (JIS A1080, Toyo Aluminum Co., Ltd., No. AHUZ58FN) ethyl cellulose-based binder 60 parts by weight of 100 parts by weight (inner 7% by weight resin component, 93 weight % Was mixed with a solvent (butyl acetate)) to obtain a coating liquid.
上記塗工液を、厚みが15〜50μmのアルミニウム箔（幅500 mm×長さ1000 m）の両面にコンマコーターを用いて塗工し、乾燥した。 The above coating liquid was applied to both sides of an aluminum foil (width: 500 mm × length: 1000 m) having a thickness of 15 to 50 μm using a comma coater and dried.
次に、空気中350℃で脱脂し、アルゴンガス雰囲気中にて温度620℃で10時間焼結することにより焼結体を作製した。その後、輪転式型付け機を用いて焼結体にエンボス加工を施すことにより、本発明の電極材を作製した。エンボス加工時に用いるエンボスロールは、所定の表面粗さが得られるよう3水準用いた。 Next, the body was degreased at 350 ° C. in air, and sintered at 620 ° C. for 10 hours in an argon gas atmosphere to produce a sintered body. Thereafter, the electrode material of the present invention was produced by embossing the sintered body using a rotary press. Embossing rolls used at the time of embossing were used in three levels so as to obtain a predetermined surface roughness.
比較例
エンボス加工を施さなかったことを除いて、実施例と同様に作成した。 Comparative Example A comparative example was prepared in the same manner as in the example except that embossing was not performed.
各電極材の積層厚み、すなわち、エンボス加工後の焼結体の総厚みと、算術平均表面粗さ（Ra）を表１〜３に示す。比較例については、Raではなく、焼結体の厚みを示す。 Tables 1 to 3 show the laminated thickness of each electrode material, that is, the total thickness of the sintered body after embossing and the arithmetic average surface roughness (Ra). For the comparative example, the thickness of the sintered body is shown instead of Ra.
実施例については、平均粒径D50が1.5μmのアルミニウム粉末を用いたものを表１に1-1〜18として表１に示し、平均粒径D50が3.0μmのアルミニウム粉末を用いたものを2-1〜18として表２に示し、平均粒径D50が9.5μmのアルミニウム粉末を用いたものを3-1〜18として表３に示す。Those for Example, those having an average particle diameter D 50 of an aluminum powder 1.5μm shown in Table 1 as 1-1～18 in Table 1, the average particle diameter D 50 was used 3.0μm aluminum powder are shown in Table 2 as 2-1～18, shown in Table 3 having an average particle diameter D 50 was used aluminum powder 9.5μm as 3-1～18.
また、比較例についてはBL1〜18として示す。 Comparative examples are shown as BL1 to BL18.
試験例１
各電極材を陽極酸化処理ラインにて所定の電圧で陽極酸化処理した。同処理の陽極酸化電圧は、200V、400Ｖ及び600Vの3水準とし、ホウ酸水溶液（50 g/L）中で実施した。当該3水準とも破断無く通過したものを合格とし、1水準でも破断したものは不合格とした。得られた結果を表１〜３に示す。各表中、合格及び不合格をそれぞれ○及び×で示す。 Test example 1
Each electrode material was anodized at a predetermined voltage in an anodizing line. The anodizing voltage of this treatment was set at three levels of 200 V, 400 V and 600 V, and the treatment was carried out in a boric acid aqueous solution (50 g / L). Those that passed without breaking at all three levels were considered acceptable, and those that broke at one level were rejected. Tables 1 to 3 show the obtained results. In each table, pass and reject are indicated by ○ and ×, respectively.
上記結果より、この実験の範囲内では、焼結前の粉末平均粒径（D50）、エンボス加工後の焼結体の総厚み、基材厚みの差にかかわりなく、算術平均表面粗さ（Ra）を0.7μm以上に調整することで陽極酸化処理ラインを破断なく通過できるようになった。
またRaが3.5より大きなものについては、電極材にワレが発生するため検証することができなかった。From the above results, within the range of this experiment, the arithmetic average surface roughness (D 50 ) irrespective of the difference in the powder average particle diameter before sintering (D 50 ), the total thickness of the sintered body after embossing, and the substrate thickness ( By adjusting Ra) to 0.7 μm or more, it was possible to pass through the anodizing line without breaking.
Further, when Ra was larger than 3.5, cracking occurred in the electrode material, so that it could not be verified.
試験例２
平均粒径D50が3μmの粉末を用いた電極材であって、50μmのアルミニウム箔の両面に、焼結層（エンボス加工後の総厚み120μm）を積層し、エンボス加工により片面のRaを1.5μmとした積層箔の容量と、50μmのアルミニウム箔の両面をエッチング処理した、焼結層が積層されていないエッチド箔の容量とを比較評価した。結果を表４に示す。 Test example 2
An electrode material using the 3μm powder average particle diameter D 50, the both surfaces of an aluminum foil of 50 [mu] m, by laminating sintered layers (total thickness 120μm after embossing), one side of Ra by embossing 1.5 The capacity of the laminated foil having a thickness of μm and the capacity of an etched foil having a sintered layer on which both surfaces of an aluminum foil having a thickness of 50 μm were etched and not having a sintered layer were comparatively evaluated. Table 4 shows the results.
積層箔においては、エッチド箔と比べて、いずれの陽極酸化電圧領域でも優位な静電容量値（μF/cm2）を示している。The laminated foil shows a superior capacitance value (μF / cm 2 ) in any anodic oxidation voltage region as compared with the etched foil.
Claims (7)
アルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも1種の粉末を含む組成物からなる皮膜をアルミニウム箔基材の片面又は両面に積層する第1工程と、
前記皮膜を焼結することにより焼結体を得る第2工程と、
前記焼結体のうち、少なくとも片面の焼結体の表面に算術平均粗さ（Ra）が0.7〜3.5μmである領域を含むようにエンボス加工を施す第3工程とを含む製造方法。A method for producing an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor,
A first step of laminating a film made of a composition containing at least one powder of aluminum and an aluminum alloy on one or both surfaces of an aluminum foil substrate,
A second step of obtaining a sintered body by sintering the film,
A step of embossing at least one surface of the sintered body so as to include a region having an arithmetic average roughness (Ra) of 0.7 to 3.5 μm.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015037877 | 2015-02-27 | ||
| JP2015037877 | 2015-02-27 | ||
| PCT/JP2016/055418 WO2016136804A1 (en) | 2015-02-27 | 2016-02-24 | Electrode material for aluminum electrolytic capacitors and method for producing same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2016136804A1 JPWO2016136804A1 (en) | 2017-12-07 |
| JP6629288B2 true JP6629288B2 (en) | 2020-01-15 |
Family
ID=56788904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017502422A Active JP6629288B2 (en) | 2015-02-27 | 2016-02-24 | Electrode material for aluminum electrolytic capacitor and method for producing the same |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6629288B2 (en) |
| WO (1) | WO2016136804A1 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6953265B2 (en) | 2017-10-10 | 2021-10-27 | 東洋アルミニウム株式会社 | Electrode material for aluminum electrolytic capacitors and its manufacturing method |
| WO2020177626A1 (en) | 2019-03-01 | 2020-09-10 | 宜都东阳光化成箔有限公司 | Electrode structure body and fabrication method thereof |
| WO2021079813A1 (en) * | 2019-10-21 | 2021-04-29 | 日本軽金属株式会社 | Aluminum member, test strip for immunochromotagraphy, and aluminum member production method |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011029558A (en) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Hitachi Aic Inc | Anode foil for aluminum electrolytic capacitor |
| JP5769528B2 (en) * | 2011-07-15 | 2015-08-26 | 東洋アルミニウム株式会社 | Electrode material for aluminum electrolytic capacitor and method for producing the same |
-
2016
- 2016-02-24 JP JP2017502422A patent/JP6629288B2/en active Active
- 2016-02-24 WO PCT/JP2016/055418 patent/WO2016136804A1/en active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2016136804A1 (en) | 2017-12-07 |
| WO2016136804A1 (en) | 2016-09-01 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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