JP6627783B2 - 光学積層体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は以下の通りである。
前記粘着層が、アクリル系重合体を含むアクリル系粘着組成物、及び、光散乱粒子を含み、
前記アクリル系重合体が、芳香環含有モノマー(a1)40重量%〜93重量%、及び、水酸基含有モノマー(a2)7重量%〜60重量%を含む共重合成分[I]の共重合体であり、
前記アクリル系重合体の重量平均分子量が、20万以下であり、
前記光散乱粒子の前記粘着層に対する体積濃度Vが、3%〜35%であり、
前記アクリル系粘着組成物の屈折率が、1.52〜1.67であり、
前記光散乱粒子の屈折率が、1.4〜1.49である、光学積層体。
〔2〕 前記光散乱粒子が、シリコーン粒子又はアクリル粒子である、〔1〕記載の光学積層体。
〔3〕 前記粘着層に含まれる前記光散乱粒子のうち、少なくとも体積で1/4の粒子の粒子径が、0.1μm〜1μmである、〔1〕又は〔2〕記載の光学積層体。
〔4〕 前記光散乱粒子の平均粒子径が、0.1μm〜1μmであり、
前記粘着層の厚さをD1、光散乱の平均自由工程をL1とするとき、D1/L1が、1〜6である、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔5〕 前記粘着層とは反対側の前記基材の面が、凹凸構造を有する、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔6〕 前記基材が単層構造を有し、
前記凹凸構造の最大高さをRyとし、前記基材の厚さをD2とするとき、0.05<Ry/D2<0.25である、〔5〕記載の光学積層体。
〔7〕 有機エレクトロルミネッセンス素子の一方の側に配置される、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔8〕 基材及び粘着層を備える光学積層体の製造方法であって、
アクリル系重合体及び光散乱粒子を含む塗布液の膜を、前記基材上に形成する工程と、
前記塗布液の膜を硬化させて、前記粘着層を得る工程とを含み、
前記アクリル系重合体が、芳香環含有モノマー(a1)40重量%〜93重量%、及び、水酸基含有モノマー(a2)7重量%〜60重量%を含む共重合成分[I]の共重合体であり、
前記アクリル系重合体の重量平均分子量が、20万以下であり、
前記光散乱粒子の前記粘着層に対する体積濃度Vが、3%〜35%であり、
前記光散乱粒子の屈折率が、1.4〜1.49であり、
前記粘着層中の前記光散乱粒子以外の成分としてのアクリル系粘着組成物の屈折率が、1.52〜1.67である、光学積層体の製造方法。
〔9〕 基材及び粘着層を備える光学積層体の製造方法であって、
アクリル系重合体及び光散乱粒子を含む塗布液の膜を形成する工程と、
前記塗布液の膜を硬化させて、前記粘着層を得る工程と、
前記粘着層と前記基材とを貼り合わせる工程とを含み、
前記アクリル系重合体が、芳香環含有モノマー(a1)40重量%〜93重量%、及び、水酸基含有モノマー(a2)7重量%〜60重量%を含む共重合成分[I]の共重合体であり、
前記アクリル系重合体の重量平均分子量が、20万以下であり、
前記光散乱粒子の前記粘着層に対する体積濃度Vが、3%〜35%であり、
前記光散乱粒子の屈折率が、1.4〜1.49であり、
前記粘着層中の前記光散乱粒子以外の成分としてのアクリル系粘着組成物の屈折率が、1.52〜1.67である、光学積層体の製造方法。
図1は、本発明の一実施形態に係る光学積層体を厚み方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、本実施形態に係る光学積層体100は、基材110と、この基材110上に形成された粘着層120とを備える。粘着層120は、アクリル系粘着組成物121及び光散乱粒子122を含む。通常、このような光学積層体100は、基材110とは反対側の粘着層120の面120Dで、任意の部材に粘着しうる。また、粘着層120とは反対側の基材110の面110Uは、凹凸構造を有していてもよい。この実施形態では、エンボス加工処理によって形成された複数の窪み111を有することにより、基材110の面110Uが凹凸構造を有する例を示す。
基材を構成する材料としては、通常は透明の樹脂を用いる。樹脂が「透明」であるとは、光学部材として用いるのに適した程度の光線透過率を樹脂が有する意味である。通常、光学積層体が備える部材(即ち、基材、粘着層及び任意の層)は、光学積層体全体として80%以上の全光線透過率を有するように設けられる。
粘着層は、アクリル系粘着組成物及び光散乱粒子を含む層である。通常、粘着層は、アクリル系粘着組成物及び光散乱粒子のみからなる。したがって、通常は、粘着層に含まれる成分のうち、光散乱粒子以外の成分としての組成物が、アクリル系粘着組成物である。粘着層において、光散乱粒子はアクリル系粘着組成物中に分散しており、粘着層を透過する光はアクリル系粘着組成物と光散乱粒子との界面で反射される。この反射によって粘着層内で光が散乱されるので、本発明の光学積層体を有機EL素子に設けた場合に光取出効率を向上させることができる。また、粘着層は粘着性を有するので、基材とは反対側の粘着層の面を任意の部材に貼り合わせることにより、光学積層体を任意の部材と貼り合わせることができる。
アクリル系粘着組成物は、アクリル系重合体を含み、必要に応じて任意の成分を含みうる。アクリル系粘着組成物は、通常、粘着層においてバインダーとして機能できる。したがって、アクリル系粘着組成物の作用によって、粘着層は粘着性を発現しうる。また、アクリル系粘着組成物の作用によって、光散乱粒子は粘着層に保持されうる。
アクリル系重合体は、芳香環含有モノマー(a1)及び水酸基含有モノマー(a2)を含む共重合成分[I]の共重合体である。また、前記の共重合成分[I]は、必要に応じて、(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー(a3)、及び、任意の共重合性モノマー(a4)を含みうる。このアクリル系重合体は、高い屈折率を有しうる。したがって、アクリル系重合体を含むアクリル系粘着組成物の屈折率を容易に高くできる。
エチレン性不飽和基を含有する官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、クロトノイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられ、中でも反応性に優れる点で(メタ)アクリロイル基が好ましい。
このような芳香環含有モノマー(a1)は、(メタ)アクリル系モノマーであることが好ましい。
水酸基含有モノマー(a2)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート等のアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のカプロラクトン変性モノマー;ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のオキシアルキレン変性モノマー;2−アクリロイロキシエチル2−ヒドロキシエチルフタル酸、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド等の1級水酸基含有モノマー;2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−クロロ2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の2級水酸基含有モノマー;2,2−ジメチル2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の3級水酸基含有モノマーを挙げることができる。水酸基含有モノマー(a2)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
特に好ましい水酸基含有モノマー(a2)としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート及び2−ヒドロキシプロピルアクリレートが挙げられる。
任意の共重合性モノマー(a4)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
1/Tg=Wa/Tga+Wb/Tgb+・・・Wn/Tgn (1)
Tg:共重合体のガラス転移温度(K)
Tga:モノマーAのホモポリマーのガラス転移温度(K)
Wa:モノマーAの重量分率
Tgb:モノマーBのホモポリマーのガラス転移温度(K)
Wb:モノマーBの重量分率
Tgn:モノマーNのホモポリマーのガラス転移温度(K)
Wn:モノマーNの重量分率
(Wa+Wb+・・・+Wn=1)
アクリル系粘着組成物は、前述したアクリル系重合体に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。
例えば、アクリル系粘着組成物は、無機酸化物粒子を含みうる。無機酸化物粒子は、比較的屈折率が高い。そのため、無機酸化物粒子を用いることにより、アクリル系粘着組成物の屈折率を更に高めることができる。
例えば、アクリル系粘着組成物は、架橋剤を含みうる。架橋剤を用いることにより、アクリル系重合体間を架橋させて、粘着層にある程度の硬さとして耐久性を付与することができる。
例えば、アクリル系粘着組成物は、可塑剤を含みうる。可塑剤を用いることにより、アクリル系粘着組成物の粘度を低くできるので、粘着層の粘着性を良好に保持できる。通常、アクリル系粘着組成物は、前記の無機酸化物粒子を含むと粘度が高くなり、その結果、粘着性が低下する傾向がある。これに対し、アクリル系粘着組成物が無機酸化物粒子と組み合わせて可塑剤を含む場合には、粘着層の粘着性を良好に保持できるので、高い屈折率と高い粘着性とを両立させることが可能である。
例えば、アクリル系粘着組成物は、シランカップリング剤を含みうる。シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、及び3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。市販のシランカップリング剤の例としては、商品名「KBM−803」(信越化学工業株式会社製)を挙げることができる。
アクリル系粘着組成物は、上述した成分以外の添加剤を含みうる。このような添加剤としては、例えば、帯電防止剤;上述した以外の粘着剤;ウレタン樹脂、ロジン、ロジンエステル、水添ロジンエステル、フェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、スチレン系樹脂、キシレン系樹脂等の粘着付与剤;着色剤;充填剤;老化防止剤;紫外線吸収剤;機能性色素;紫外線あるいは放射線照射により呈色あるいは変色を起こしうる化合物;などが挙げられる。さらに、前記添加剤の他にも、アクリル系粘着組成物の構成成分の製造原料に含まれる不純物等の成分が、アクリル系粘着組成物に少量含まれていてもよい。これらの成分の量は、所望する物性が得られるように適切に設定しうる。
アクリル系粘着組成物の屈折率は、通常1.52以上、好ましくは1.53以上、より好ましくは1.54以上であり、通常1.67以下、好ましくは1.66以下、より好ましくは1.65以下、特に好ましくは1.64以下である。アクリル系粘着組成物の屈折率を前記範囲の下限値以上にすることにより、光学積層体を有機EL素子に設けた場合の光取出効率を効果的に向上させることができる。さらに、光散乱粒子の量を多くしなくても光取出効率を向上させられるので、粘着層の粘着性を高めることができる。また、アクリル系粘着組成物の屈折率を前記範囲の上限値以下にすることにより、無機酸化物粒子の量を少なくできるので、粘着層を柔軟にできる。
屈折率の測定は、エリプソメーター(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製「M−2000」)により行いうる。
光散乱粒子は、光を散乱させうる粒子である。この光散乱粒子により、粘着層を通る光を散乱させることができる。そのため、本発明の光学積層体を有機EL素子に設けた場合に光取出効率を向上させることができる。
光散乱粒子は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
粘着層の厚さを「D1」、粘着層の光散乱の平均自由工程を「L1」とするとき、比「D1/L1」は、好ましくは1以上、より好ましくは1.2以上、特に好ましくは1.4以上であり、好ましくは6以下、より好ましくは5.5以下、特に好ましくは5以下である。前記の比D1/L1は、粘着層を透過する光が光散乱粒子の表面で平均何回反射されるかを表す。比D1/L1を前記の範囲に収めることにより、本発明の光学積層体を有機EL素子に設けた場合に、光取出効率を効果的に高めることができる。
粘着層の製造方法としては、所望の粘着層が得られる任意の方法を採用しうる。通常は、アクリル系重合体及び光散乱粒子を含む塗布液の膜を形成する工程と、前記塗布液の膜を硬化させて粘着層を得る工程とを含む製造方法によって、粘着層を製造する。
例えば、架橋剤を用いる場合には、塗布液の膜を硬化させて粘着層を得た後で、エージング処理工程を行うことが好ましい。このエージング処理工程を行うことにより、粘着層の粘着物性のバランスをとることができる。エージング処理の温度条件は、通常、室温〜70℃である。また、エージング処理の処理時間は、通常、1日〜30日である。具体例としては、23℃で1日〜20日間、23℃で3〜10日間、40℃で1日〜7日間等の条件で行ないうる。本発明では、エージング処理を施す前の層及びエージング処理後の層を、区別せず「粘着層」という。
本発明の光学積層体は、基材及び粘着層に組み合わせて、更に任意の層を備えていてもよい。
例えば、粘着層の基材とは反対側に、剥離可能なセパレーターフィルム層が設けられていてもよい。このようなセパレーターフィルム層を設けることにより、粘着層を保護したり、光学積層体の巻き取りを容易にしたりできる。
本発明の光学積層体は、粘着層が高い粘着性を有する。そのため、粘着層の表面を任意の部材に貼り合わせることにより、光学積層体を前記部材に粘着させることができる。また、本発明の光学積層体において、粘着層は、当該粘着層を透過する光を散乱させることができる。そのため、本発明の光学積層体は、有機EL素子の一方の側に配置することにより、当該有機EL素子内の発光層で生じた光の光取出効率を高めることができる。したがって、本発明の光学積層体は、有機EL素子と組み合わせて光源装置を製造する用途に用いて好適である。
光学積層体の製造方法は、所望の光学積層体が得られる限り、任意である。
例えば、光学積層体は、基材の表面を支持面として用いて上述した方法で粘着層を製造することによって、製造しうる。この場合、粘着層形成用の塗布液の膜を基材上に形成する工程と、この塗布液の膜を硬化させて粘着層を得る工程とを含む第一の製造方法により、光学積層体を製造しうる。
本発明の光学積層体を有機EL素子の一方の側に配置することにより、光源装置が得られる。通常は、光学積層体の粘着層側の面を有機EL素子の出光面に貼り合わせて、光源装置を製造する。
図3に示すように、光源装置200は、有機EL素子300及び光学積層体100を備える。
以下の実施例及び比較例において、材料の量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、実施例及び比較例中の操作は、別に断らない限り常温常圧の環境下で行った。
さらに、以下の実施例及び比較例において、粘着層における光散乱の平均自由行程の計算は、真空中での波長550nmの光に対して、ミー散乱理論を用いた前述の方法によって行った。
(アクリル系重合体(A−1)の製造)
ベンジルアクリレート(a1)70部、2−ヒドロキシエチルアクリレート(a2)15部及びブチルアクリレート(a3)15部に、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.16部を溶解させた混合物(X)を用意した。
アクリル系重合体(A−1)の溶液を固形分で100部と、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物の55%酢酸エチル溶液(日本ポリウレタン社製「コロネートL−55E」)0.3部とを混合して、塗布液を製造した。この塗布液を、ポリエステル系の離型シートの片面に、乾燥後の厚みが30μmになるように塗布し、100℃で4分間乾燥して、分析用粘着層を形成した。前記離型シートとは反対側の分析用粘着層の面に、別のポリエステル系の離型シートを貼り合わせ、40℃の条件下で10日間エージングさせた。これにより、離型シート、粘着層及び離型シートをこの順に備える分析用積層体を得た。この分析用積層体を用いて分析用粘着層の屈折率を測定したところ、1.54であった。
前述したアクリル系重合体(A−1)の溶液を、固形分で100重量部に相当する量を採った。こうして採ったアクリル系重合体(A−1)の溶液に対し、光散乱粒子(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製「XC−99」、体積平均粒子径を0.7μmに調整されたシリコーン粒子、屈折率1.43)6重量部を加え、15分攪拌した。この溶液に、更にトリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物の55%酢酸エチル溶液(日本ポリウレタン社製「コロネートL−55E」)0.3部を配合し、15分間撹拌して、粘着層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、基材としてのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ社製「U34」、厚み100μm)の片面に、乾燥後の厚みが60μmとなるように塗布し、80℃で5分乾燥して、粘着層を形成した。その後、基材とは反対側の粘着層の面に、ポリエステル系の離型シートを貼り合わせ、80℃の条件下で14日間エージングさせた。これにより、離型シート、粘着層及び基材をこの順に備える光学積層体を得た。比重を考慮して計算したところ、粘着層での光散乱粒子の体積濃度Vは5%であった。
また、前記の光学積層体から離型シートを剥がし、基材とは反対側の粘着層の面を有機EL素子の出光面に貼り合わせて、光源装置を得た。そして、この光源装置の全光束を測定した。
光源装置の全光束を、光学積層体を備えない有機EL素子の全光束で割ることにより、光取出効率を計算した。こうして求められた光取出効率は、光学積層体を備えていない有機EL素子の全光束を「1.00」とした場合の光源装置の全光束の大きさを表す。
粘着層の厚み、及び、光散乱粒子の体積濃度Vを表1に示すように変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、光学積層体の製造及び評価を行った。
実施例1〜6、比較例1及び比較例2の結果を、下記の表1に示す。
アクリル系重合体(A−1)の溶液を、固形分で100重量部採った。こうして採ったアクリル系重合体(A−1)の溶液に対し、無機酸化物粒子(ソーラー社製「NANON5 ZR−010」、体積平均粒子径15nm)130重量部、可塑剤(イーストマン社製「BENZOFLEX 9−88SG」、融点−30℃)14重量部、及び、光散乱粒子(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製「XC−99」、体積平均粒子径を0.7μmに調整されたシリコーン粒子、屈折率1.43)26重量部を加え、15分攪拌して、分散した光散乱粒子を含む溶液を得た。ここで使用した光散乱粒子の量は、比重を考慮して計算したところ、後に形成される粘着層での光散乱粒子の体積濃度Vが15%となる量である。この溶液に、更にトリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物の55%酢酸エチル溶液(日本ポリウレタン社製、「コロネートL−55E」)0.3部を配合し、15分間撹拌して、塗布液を得た。
粘着層を形成するための塗布液として、このようにして製造された塗布液を用いた。また、粘着層の厚みを、20μmに変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、光学積層体の製造及び評価を行った。結果を表2に示す。また、表2には、対比のため、実施例2の結果も示す。
フェノキシエチルアクリレート(a1)70部、2−ヒドロキシエチルアクリレート(a2)15部及びブチルアクリレート(a3)15部に、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN))0.16部を溶解させた混合物(Y)を用意した。
温度計、攪拌機、滴下ロート及び還流冷却器を備えた反応器内に、メチルエチルケトン28部及びトルエン8部を仕込み、攪拌しながら昇温した。反応器内の温度が90℃になった後で、前記の混合物(Y)を反応器中に2時間にわたって滴下した。さらに、酢酸エチル2部にAIBN0.06部を溶解させた重合触媒液を、重合途中に反応器内に逐次追加しながら7時間重合させ、アクリル系重合体(A−2)の溶液(固形分濃度65.0%、粘度1100mPa・s(25℃))を得た。アクリル系重合体(A−2)の重量平均分子量は108,000、数平均分子量は41,700、分子量分布は2.59、ガラス転移温度は−26.6℃であった。
アクリル系重合体(A−1)の溶液の代わりに、前記のアクリル系重合体(A−2)の溶液を用いた。また、粘着層の厚みを、20μmに変更した。さらに、光散乱粒子の量を、体積濃度Vが15%になるように変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、光学積層体の製造及び評価を行った。結果を表3に示す。また、表3には、対比のため、実施例2の結果も示す。
光散乱粒子として、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製「XC−99」(体積平均粒子径を0.7μmに調整されたシリコーン粒子、屈折率1.43)を単独で用いる代わりに、前記モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製「XC−99」(体積平均粒子径を0.7μmに調整されたシリコーン粒子、屈折率1.43)とモメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製「トスパール120」(体積平均粒子径を2μmに調整されたシリコーン粒子、屈折率1.43)とを組み合わせて用いた。これらの光散乱粒子の量は、製造される粘着層における光散乱粒子の体積濃度V1及びV2が下記表4に示す値になるように調整した。ここで、V1は体積平均粒子径0.7μmの光散乱粒子の体積濃度を表し、V2は体積平均粒子径2μmの光散乱粒子の体積濃度を表す。
また、粘着層の厚みを、20μmに変更した。
以上の事項以外は実施例1と同様にして、光学積層体の製造及び評価を行った。結果を表4に示す。また、表4には、対比のため、実施例3及び4の結果も示す。表4において、「粒子(0.7μm)」とは、体積平均粒子径が0.7μmの光散乱粒子を示す。また、表4において、「粒子(2μm)」とは、体積平均粒子径が2μmの光散乱粒子を示す。表4から分かるように、少なくとも体積で1/4の粒子の粒子径を0.1μm〜1μmの範囲に収めることにより、少ない光散乱粒子の体積濃度Vで光取出効率の向上とヘイズの向上を両立できるので、有機EL素子の反射電極を隠ぺいする効果が得られる。
アクリル系重合体(A−1)の固形分100重量部に対する無機酸化物粒子(ソーラー社製「NANON5 ZR−010」、体積平均粒子径15nm)の量を、23重量部に変更した。
また、粘着層の厚み、及び、光散乱粒子の体積濃度Vを下記表5に示すように変更した。
以上の事項以外は実施例7と同様にして、光学積層体の製造及び評価を行った。結果を表5に示す。
実施例10と同様の、粘着層形成用の塗布液を用意した。この塗布液を、ポリエチレンテレフタレート製の離型シートの片面に、乾燥後の厚みが40μmとなるように塗布し、80℃で5分乾燥して、粘着層を形成した。
また、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み38μm)を用意し、このフィルムの片面に、熱エンボス加工処理によって、表6に示す最大高さ(深さ)Ryを有する点状の窪みを約1mmピッチで形成し、基材を得た。
離型シートとは反対側の粘着層の面と、基材の窪みが形成されたのとは反対側の面とを貼り合わせ、80℃の条件下で14日間エージングさせた。これにより、離型シート、粘着層及び基材をこの順に備える光学積層体を得た。
こうして得られた光学積層体の評価を、実施例1と同様に行った。また、光学積層体の基材側の面を観察して、マット感を評価した。光沢が抑えられているものを「良」と判定し、光沢が見えるものを「不良」と判定した。結果を表6に示す。また、表6には、対比のため、実施例10の結果も示す。
光散乱粒子及び粘着組成物を含む粘着層の厚みD1と光散乱の平均自由行程L1との比D1/L1を、屈折率nが1.48又は1.56の粘着組成物を用いた場合それぞれについて、図4に示す。この際、層の厚み20μm、光散乱粒子の平均粒子径0.7μm、光散乱粒子の屈折率1.43とした。
図4から、屈折率の高い粘着組成物を使う方が、少ない量の光散乱粒子によって大きなD1/L1の値を得ることができることが分かる。よって、屈折率の高い粘着組成物を用いると、所望のD1/L1を得ることが容易になり、結果として光取出効率を向上させることが容易になることが分かる。
110 基材
111 窪み
120 粘着層
121 アクリル系粘着組成物
122 光散乱粒子
200 光源装置
300 有機EL素子
310 基板層
320 透明電極層
330 発光層
340 電極層
350 封止層
Claims (9)
- 基材と、前記基材上に形成された粘着層とを備え、
前記粘着層が、アクリル系重合体を含むアクリル系粘着組成物、及び、光散乱粒子を含み、
前記アクリル系重合体が、芳香環含有モノマー(a1)40重量%〜93重量%、及び、水酸基含有モノマー(a2)7重量%〜60重量%を含む共重合成分[I]の共重合体であり、
前記アクリル系重合体の重量平均分子量が、20万以下であり、
前記光散乱粒子の前記粘着層に対する体積濃度Vが、3%〜35%であり、
前記アクリル系粘着組成物の屈折率が、1.52〜1.67であり、
前記光散乱粒子の屈折率が、1.4〜1.49である、光学積層体。 - 前記光散乱粒子が、シリコーン粒子又はアクリル粒子である、請求項1記載の光学積層体。
- 前記粘着層に含まれる前記光散乱粒子のうち、少なくとも体積で1/4の粒子の粒子径が、0.1μm〜1μmである、請求項1又は2記載の光学積層体。
- 前記光散乱粒子の平均粒子径が、0.1μm〜1μmであり、
前記粘着層の厚さをD1、光散乱の平均自由工程をL1とするとき、D1/L1が、1〜6である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学積層体。 - 前記粘着層とは反対側の前記基材の面が、凹凸構造を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 前記基材が単層構造を有し、
前記凹凸構造の最大高さをRyとし、前記基材の厚さをD2とするとき、0.05<Ry/D2<0.25である、請求項5記載の光学積層体。 - 有機エレクトロルミネッセンス素子の一方の側に配置される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 基材及び粘着層を備える光学積層体の製造方法であって、
アクリル系重合体及び光散乱粒子を含む塗布液の膜を、前記基材上に形成する工程と、
前記塗布液の膜を硬化させて、前記粘着層を得る工程とを含み、
前記アクリル系重合体が、芳香環含有モノマー(a1)40重量%〜93重量%、及び、水酸基含有モノマー(a2)7重量%〜60重量%を含む共重合成分[I]の共重合体であり、
前記アクリル系重合体の重量平均分子量が、20万以下であり、
前記光散乱粒子の前記粘着層に対する体積濃度Vが、3%〜35%であり、
前記光散乱粒子の屈折率が、1.4〜1.49であり、
前記粘着層中の前記光散乱粒子以外の成分としてのアクリル系粘着組成物の屈折率が、1.52〜1.67である、光学積層体の製造方法。 - 基材及び粘着層を備える光学積層体の製造方法であって、
アクリル系重合体及び光散乱粒子を含む塗布液の膜を形成する工程と、
前記塗布液の膜を硬化させて、前記粘着層を得る工程と、
前記粘着層と前記基材とを貼り合わせる工程とを含み、
前記アクリル系重合体が、芳香環含有モノマー(a1)40重量%〜93重量%、及び、水酸基含有モノマー(a2)7重量%〜60重量%を含む共重合成分[I]の共重合体であり、
前記アクリル系重合体の重量平均分子量が、20万以下であり、
前記光散乱粒子の前記粘着層に対する体積濃度Vが、3%〜35%であり、
前記光散乱粒子の屈折率が、1.4〜1.49であり、
前記粘着層中の前記光散乱粒子以外の成分としてのアクリル系粘着組成物の屈折率が、1.52〜1.67である、光学積層体の製造方法。
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