JP6622991B2 - 研磨用組成物 - Google Patents
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Description
ここに開示される研磨用組成物は、1500Hv以上のビッカース硬度を有する材料(高硬度材料)を研磨するために用いられる。高硬度材料のビッカース硬度は、好ましくは1800Hv以上(例えば2000Hv以上、典型的には2200Hv以上)である。ビッカース硬度の上限は特に限定されないが、凡そ7000Hv以下(例えば5000Hv以下、典型的には3000Hv以下)であってもよい。なお、本明細書において、ビッカース硬度は、JIS R 1610:2003に基づいて測定することができる。上記JIS規格に対応する国際規格はISO 14705:2000である。
(砥粒)
ここに開示される研磨用組成物は、平均二次粒子径D2fを有する第1アルミナ砥粒と、第1アルミナ砥粒よりも小さい平均二次粒子径D2sを有する第2アルミナ砥粒とを含有する。このように平均二次粒子径が異なるアルミナ砥粒を組み合わせて用いることにより、高硬度材料表面に対して、研磨レートと表面平坦性との両立が高いレベルで実現され得る。
ここに開示される技術は、研磨用組成物に含まれる砥粒の全重量のうちアルミナ砥粒の合計割合が90重量%よりも大きい態様で好ましく実施され得る。上記アルミナ砥粒の割合は、より好ましくは95重量%以上、さらに好ましくは98重量%以上、特に好ましくは99重量%以上である。なかでも、研磨用組成物に含まれる砥粒の100重量%がアルミナ砥粒である研磨用組成物が好ましい。
ここに開示される研磨用組成物は研磨助剤を含むことが好ましい。研磨助剤は、ポリシングによる効果を増進する成分であり、典型的には水溶性のものが用いられる。研磨助剤は、特に限定的に解釈されるものではないが、ポリシングにおいて研磨対象物表面を変質(典型的には酸化変質)する作用を示し、研磨対象物表面の脆弱化をもたらすことで、砥粒による研磨に寄与していると考えられる。
ここに開示される研磨用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、キレート剤、増粘剤、分散剤、pH調整剤、界面活性剤、有機酸、有機酸塩、無機酸、無機酸塩、防錆剤、防腐剤、防カビ剤等の、研磨用組成物(典型的には高硬度材料研磨用組成物、例えば炭化ケイ素基板ポリシング用組成物)に用いられ得る公知の添加剤を、必要に応じてさらに含有してもよい。上記添加剤の含有量は、その添加目的に応じて適宜設定すればよく、本発明を特徴づけるものではないため、詳しい説明は省略する。
研磨用組成物に用いられる溶媒は、砥粒を分散させることができるものであればよく、特に制限されない。溶媒としては、イオン交換水(脱イオン水)、純水、超純水、蒸留水等を好ましく用いることができる。ここに開示される研磨用組成物は、必要に応じて、水と均一に混合し得る有機溶剤(低級アルコール、低級ケトン等)をさらに含有してもよい。通常は、研磨用組成物に含まれる溶媒の90体積%以上が水であることが好ましく、95体積%以上(典型的には99〜100体積%)が水であることがより好ましい。
ここに開示される研磨用組成物は、典型的には該研磨用組成物を含む研磨液の形態で研磨対象物に供給されて、その研磨対象物の研磨に用いられる。上記研磨液は、例えば、ここに開示されるいずれかの研磨用組成物を希釈(典型的には、水により希釈)して調製されたものであり得る。あるいは、該研磨用組成物をそのまま研磨液として使用してもよい。すなわち、ここに開示される技術における研磨用組成物の概念には、研磨対象物に供給されて該研磨対象物の研磨に用いられる研磨液(ワーキングスラリー)と、希釈して研磨液として用いられる濃縮液(研磨液の原液)との双方が包含される。ここに開示される研磨用組成物を含む研磨液の他の例として、該組成物のpHを調整してなる研磨液が挙げられる。
ここに開示される研磨用組成物は、研磨対象物に供給される前には濃縮された形態(すなわち、研磨液の濃縮液の形態)であってもよい。このように濃縮された形態の研磨用組成物は、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から有利である。濃縮倍率は、例えば、体積換算で2倍〜5倍程度とすることができる。
ここに開示される研磨用組成物の製造方法は特に限定されない。例えば、翼式攪拌機、超音波分散機、ホモミキサー等の周知の混合装置を用いて、研磨用組成物に含まれる各成分を混合するとよい。これらの成分を混合する態様は特に限定されず、例えば全成分を一度に混合してもよく、適宜設定した順序で混合してもよい。
この明細書によると、1500Hv以上のビッカース硬度を有する研磨対象材料を研磨する研磨方法が提供される。上記研磨方法は、ここに開示される研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨する工程を含むことによって特徴づけられる。好ましい一態様に係る研磨方法は、予備ポリシングを行う工程(予備ポリシング工程)と、仕上げポリシングを行う工程(仕上げポリシング工程)と、を含んでいる。ここでいう予備ポリシング工程とは、少なくとも表面(研磨対象面)が1500Hv以上のビッカース硬度を有する材料から構成された研磨対象物に対して、予備ポリシングを行う工程である。典型的な一態様では、予備ポリシング工程は、仕上げポリシング工程の直前に配置されるポリシング工程である。予備ポリシング工程は、1段のポリシング工程であってもよく、2段以上の複数段のポリシング工程であってもよい。また、ここでいう仕上げポリシング工程は、予備ポリシングが行われた研磨対象物に対して仕上げポリシングを行う工程であって、砥粒を含むポリシング用スラリーを用いて行われるポリシング工程のうち最後に(すなわち、最も下流側に)配置される研磨工程のことをいう。このように予備ポリシング工程と仕上げポリシング工程とを含む研磨方法において、ここに開示される研磨用組成物は、予備ポリシング工程で用いられてもよく、仕上げポリシング工程で用いられてもよく、予備ポリシング工程および仕上げポリシング工程の両方で用いられてもよい。
(実施例1)
第1アルミナ砥粒としてのα−アルミナ(平均二次粒子径500nm)と、第2アルミナ砥粒としてのアルミナゾル(平均二次粒子径90nm)と、研磨助剤としての過マンガン酸カリウム(KMnO4)と脱イオン水とを混合して研磨用組成物を調製した。研磨用組成物中におけるα−アルミナの含有量は6%、アルミナゾルの含有量は2%、KMnO4の含有量は1.2%とした。研磨用組成物のpHは、水酸化カリウム(KOH)を用いて9.0に調整した。
KMnO4に代えて過酸化水素(H2O2)を使用し、かつ、研磨用組成物中におけるH2O2の含有量を1.2%としたこと以外は実施例1と同様にして研磨用組成物を調製した。
アルミナゾルに代えてヒュームドアルミナ(平均二次粒子径250nm)を使用し、かつ、研磨用組成物中におけるヒュームドアルミナの含有量を2%としたこと以外は実施例1と同様にして研磨用組成物を調製した。
第2アルミナ砥粒としてのアルミナゾルを用いなかったこと以外は実施例1と同様にして研磨用組成物を作製した。
第1アルミナ砥粒としてのα−アルミナを用いなかったこと、および、アルミナゾルの含有量を6%としたこと以外は実施例1と同様にして研磨用組成物を調製した。
第1アルミナ砥粒としてのα−アルミナを用いなかったこと、および、ヒュームドアルミナの含有量を6%としたこと以外は実施例3と同様にして研磨用組成物を調製した。
用意した研磨用組成物をそのまま研磨液として使用して、平均粒子径5μmのダイヤモンド砥粒を用いてラッピングを予め実施したSiCウェーハの表面に対し、下記の条件でポリシングを実施した。そして、以下の計算式(1)、(2)に従って研磨レートを算出した。結果を表1の該当欄に示す。
(1)研磨取り代[cm]=研磨前後のSiCウェーハの重量の差[g]/SiCの密度[g/cm3](=3.21g/cm3)/研磨対象面積[cm2](=19.62cm2)
(2)研磨レート[nm/時間]=研磨取り代[cm]×107/研磨時間(=1時間)
[ポリシング条件]
研磨装置:日本エンギス社製の片面研磨装置、型式「EJ−380IN」
研磨パッド:ニッタ・ハース社製「SUBA800」
研磨圧力:300g/cm2
定盤回転数:80回転/分
研磨時間:1時間
ヘッド回転数:40回転/分
研磨液の供給レート:20mL/分(掛け流し)
研磨液の温度:25℃
研磨対象物:SiCウェーハ(伝導型:n型、結晶型4H 4°off)2インチ
各例に係る研磨後の研磨物表面につき、非接触表面形状測定機(商品名「NewView 5032」、Zygo社製)を用いて、倍率10倍、測定領域700μm×500μmの条件で表面粗さRa(nm)を測定した。結果を表1に示す。
Claims (5)
- 1500Hv以上のビッカース硬度を有する材料を研磨するための研磨用組成物であって、ここで前記1500Hv以上のビッカース硬度を有する材料は炭化ケイ素であり、
平均二次粒子径D2fを有する第1アルミナ砥粒と、
前記第1アルミナ砥粒よりも小さい平均二次粒子径D2sを有する第2アルミナ砥粒と
を含み、
前記第1アルミナ砥粒の平均二次粒子径D2 f が350nm以上1000nm以下であり、
前記第2アルミナ砥粒の平均二次粒子径D2 s が20nm以上300nm以下である、研磨用組成物。 - 前記第1アルミナ砥粒としてα−アルミナを含み
前記第2アルミナ砥粒としてアルミナゾルおよび中間アルミナからなる群から選択される少なくとも一種を含む、請求項1に記載の研磨用組成物。 - 前記第1アルミナ砥粒の平均二次粒子径D2fと前記第2アルミナ砥粒の平均二次粒子径D2sとの関係が次式:1<(D2f/D2s)<20;を満たす、請求項1または2に記載の研磨用組成物。
- 前記第1アルミナ砥粒および前記第2アルミナ砥粒の含有量の比(第1アルミナ砥粒:第2アルミナ砥粒)が重量基準で95:5〜5:95の範囲である、請求項1から3のいずれか一項に記載の研磨用組成物。
- pHが8〜11の範囲内である、請求項1から4のいずれか一項に記載の研磨用組成物。
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